KR101800012B1 - Apparatus and method for locally polishing glass substrate, and apparatus and method for producing glass product - Google Patents

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나오히꼬 이시마루
유따까 마노
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아사히 가라스 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 연마 품질을 안정시키고, 생산 효율을 향상시키는 유리판 국소 연마 장치, 유리판 국소 연마 방법, 유리 제품의 제조 장치 및 유리 제품의 제조 방법을 제공하는 것이다.
검출 수단(4)에 의해 유리판(G) 표면의 결함을 검출한 후에 유리판(G)을 테이블(2)에 흡착 고정하고, 유리판(G)의 외형 크기보다 작은 외형 크기의 연마 패드(34)에 의해 검출 수단(4)에 의해 검출된 결함(D)의 위치와 그의 주위를 연마함으로써, 전체면 연마하지 않고도 결함(D)을 제거한다.The present invention provides a glass plate local polishing apparatus, a glass plate local polishing method, a glass article manufacturing apparatus, and a glass article manufacturing method which stabilize polishing quality and improve production efficiency.
The glass plate G is attracted and fixed to the table 2 after the defect of the surface of the glass plate G is detected by the detecting means 4 and the glass plate G is attached to the polishing pad 34 having an outer size smaller than the outer size of the glass plate G The defect D is removed without polishing the entire surface by polishing the position and the periphery of the defect D detected by the detecting means 4.

Description

유리판 국소 연마 장치, 유리판 국소 연마 방법, 유리 제품의 제조 장치 및 유리 제품의 제조 방법{APPARATUS AND METHOD FOR LOCALLY POLISHING GLASS SUBSTRATE, AND APPARATUS AND METHOD FOR PRODUCING GLASS PRODUCT}FIELD OF THE INVENTION [0001] The present invention relates to a glass substrate local grinding apparatus, a glass substrate local grinding apparatus, a glass product manufacturing apparatus,

본 발명은 테이블에 흡착 고정한 유리판의 표면을 연마 패드에 의해 연마하는 유리판 국소 연마 장치, 유리판 국소 연마 방법, 유리 제품의 제조 장치 및 유리 제품의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a glass plate local polishing apparatus for polishing a surface of a glass plate adsorbed and fixed on a table by a polishing pad, a glass plate local polishing method, a glass article manufacturing apparatus, and a manufacturing method of a glass article.

플랫 패널 디스플레이 등에 사용되는 판 형상의 유리 제품의 제조에서는, 용융 유리 제조 장치에서 용융된 용융 유리를 성형 수단에 의해 유리 리본으로 성형하고, 성형 후의 유리 리본을 서냉 수단에 의해 서냉함으로써 판유리로 한다. 서냉 후의 유리 리본은 절단 수단에 의해 소정의 형상의 유리판으로 절단되고, 연마 장치에 의해 표면의 미소한 손상이나 굴곡이 제거되어 판 형상의 유리 제품으로 된다. 유리판의 연마를 행하는 연마 장치에서는, 유리판이 흡착 고정되는 테이블과, 테이블에 고정된 유리판 표면을 연마하는 연마 패드를 구비하고, 유리판과 연마 패드 사이에 슬러리를 공급함과 함께 연마 패드를 회전시킴으로써 연마를 행한다.In the production of a plate-shaped glass product used for a flat panel display or the like, a molten glass melted in a molten glass production apparatus is formed into a glass ribbon by a molding means, and the glass ribbon after the molding is slowly cooled by a slow cooling means. The glass ribbon after the gradual cooling is cut into a glass plate having a predetermined shape by a cutting means, and a minute damage or bending of the surface is removed by a grinding apparatus, and a glass product of a plate shape is obtained. A polishing apparatus for polishing a glass plate includes a table on which a glass plate is attracted and fixed and a polishing pad for polishing the surface of the glass plate fixed on the table. The slurry is supplied between the glass plate and the polishing pad, I do.

도 8에 종래의 연속식 연마 장치의 예를 도시한다. 도 8은 유리판(G)을 연마하는 연마 장치(100)의 일부가 도시되어 있다. 이 연마 장치(100)는, 유리판(G)을 보유 지지하는 테이블 패드를 상면에 설치한 테이블(101), 및 테이블(101)의 상방에 배치된 복수대(도 8에서는 1대만 도시)의 연마기(102, 102) 등으로 구성되어 있다.Fig. 8 shows an example of a conventional continuous polishing apparatus. 8 shows a part of the polishing apparatus 100 for polishing the glass plate G. As shown in Fig. The polishing apparatus 100 includes a table 101 on which a table pad for holding a glass plate G is provided on an upper surface and a plurality of tables 101 (only one table shown in Fig. 8) (102, 102), and the like.

도 9에 도시한 바와 같이, 테이블(101)의 하부에는 한 쌍의 가이드 블록과 가이드 레일, 랙(rack)과 피니언(pinion)에 의한 구동 기구가 설치되어 있다. 이에 의해, 테이블(101)이 도 8 상의 화살표로 나타내는 반송 방향으로 소정의 속도로 반송된다.As shown in Fig. 9, a pair of guide blocks, a guide rail, a rack, and a pinion driving mechanism are provided below the table 101. As shown in Fig. Thus, the table 101 is transported at a predetermined speed in the transport direction indicated by an arrow in Fig.

테이블(101)의 반송에 의해, 테이블(101) 상의 테이블 패드에 보유 지지된 유리판(G)이, 연마기(102, 102…)의 하방을 차례로 통과한다. 그리고, 이 통과 중에 연마기(102, 102…)의 연마 패드(103, 103…)와 공급되는 슬러리에 의해 상기 유리판(G)이 연마된다.The glass plate G held on the table pads on the table 101 is sequentially passed below the polishing machines 102, 102 ... by the transportation of the table 101. [ During this passage, the glass plate G is polished by the polishing pads 103, 103 ... of the polishing machines 102, 102, ... and the supplied slurry.

도 9에 도시한 연마기(102)는 테이블(101)의 상방에 설치되고, 테이블(101)과 직교하는 주축(104)을 갖고 있다. 이 주축(104)은 베어링(105, 105)을 개재하여 본체 케이싱(106)에 회전 가능하게 지지되어 있고, 본체 케이싱(106)은 그의 양측에 배치된 한 쌍의 포스트(107, 107)에 고정되어 있다.The polishing machine 102 shown in Fig. 9 is provided above the table 101 and has a main shaft 104 orthogonal to the table 101. Fig. The main shaft 104 is rotatably supported on the main body casing 106 via bearings 105 and 105. The main casing 106 is fixed to a pair of posts 107 and 107 disposed on both sides thereof .

한편, 주축(104)에는, 주축(104)의 축심(O1)에 대해 편심한 축심(O2)을 중심축으로 하는 삽입 관통 구멍(104A)이 형성되어 있다. 삽입 관통 구멍(104A)에는 출력축(108)이 삽입 관통되고, 출력축(108)은 그의 중심축이 상기 축심(O2)과 합치하도록 베어링(109, 109)을 개재하여 주축(104)에 회전 가능하게 지지되어 있다.On the other hand, the main shaft 104 is provided with an insertion through hole 104A having a central axis O 2 which is eccentric to the central axis O 1 of the main shaft 104 as a central axis. The output shaft 108 is inserted into the insertion through hole 104A and the output shaft 108 is rotatable on the main shaft 104 via the bearings 109 and 109 so that the center axis thereof coincides with the axis O 2 .

주축(104) 상측 주위부에는 기어(110)가 설치되어 있다. 이 기어(110)에는 기어(111)가 맞물려져 있고, 기어(111)에는 감속용의 복수의 기어를 개재하여 공전용 모터(112)에 고정되어 있다. 이에 의해, 주축(104)이 소정의 회전수로 회전된다.A gear 110 is provided on an upper peripheral portion of the main shaft 104. A gear 111 is engaged with the gear 110 and is fixed to the gear 112 via a plurality of gears for deceleration. Thereby, the main shaft 104 is rotated at a predetermined number of revolutions.

이와 같이 주축(104)이 회전되면, 출력축(108)은 주축(104)의 축심(O1)을 중심으로 한 원주를 따라 공전한다. 즉, 연마 헤드(113)에 고정된 연마 패드(103)가 축심(O1)을 중심으로 공전 운동한다.When the main shaft 104 rotates in this manner, the output shaft 108 revolves around the circumference centered on the central axis O 1 of the main shaft 104. That is, the polishing pad 103 fixed to the polishing head 113 revolves about the axis O 1 .

출력축(108)의 상단부는 유니버설 조인트(114)를 통해 자전용 모터(115)에 연결되어 있다. 따라서, 모터(115)의 구동력에 의해 출력축(108)이 축심(O2)을 중심으로 회전한다. 즉, 연마 헤드(113)에 고정된 연마 패드(103)가 축심(O2)을 중심으로 자전 운동한다(예를 들어, 하기 특허문헌 1 참조).The upper end of the output shaft 108 is connected to the self-propelled motor 115 through the universal joint 114. Therefore, the output shaft 108 rotates about the axis O 2 by the driving force of the motor 115. That is, the polishing pad 103 fixed to the polishing head 113 rotates about the axis O 2 (see, for example, Patent Document 1).

일본 특허 공개 제2001-293656호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-293656

그러나, 특허문헌 1에 기재된 바와 같은 연마 장치(100)에서는, 유리판(G)의 외형 크기보다 큰 연마 패드(103)에 의해 유리판(G) 표면 전체면을 연마하고 있다. 이때 유리 전체면을 미리 정한 일정량만큼 연마한다. 그러나, 상기 일정량보다 깊은 손상이나 굴곡이 국소적으로 발생하고 있었던 경우에는 연마에 의해 상기의 손상이나 굴곡이 제거되지 않고 남는다는 문제(이하「연마 잔류」라 함)가 있었다. 또한, 연마 중 및 핸들링 중에 국소적으로 손상이 생기는 일이 있다. 연마 잔류나 손상이 발생하고 있었을 때에는 다시 유리판(G)을 연마 장치(100)에 의해 전체면 연마하기 때문에 비효율적이다.However, in the polishing apparatus 100 as described in Patent Document 1, the entire surface of the glass plate G is polished by the polishing pad 103, which is larger than the outer size of the glass plate G. [ At this time, the entire glass surface is polished by a predetermined amount. However, in the case where damage or bending deeper than the predetermined amount occurs locally, there has been a problem that the above damage or bending is left without being removed by polishing (hereinafter referred to as "polishing residue"). In addition, damage may occur locally during polishing and handling. When polishing residue or damage has occurred, the entire surface of the glass plate G is polished again by the polishing apparatus 100, which is inefficient.

본 발명은 이러한 상황을 감안하여 이루어진 것이며, 손상이나 굴곡 등의 결함을 미리 검출하여, 결함과 그의 주위만을 국소적으로 연마함으로써 연마 품질을 안정시키고, 생산 효율을 향상시키는 유리판 국소 연마 장치, 유리판 국소 연마 방법, 유리 제품의 제조 장치 및 유리 제품의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances and has an object to provide a glass plate local polishing apparatus capable of detecting defects such as damage or bending in advance and locally polishing only defects and their surroundings to stabilize polishing quality and improve production efficiency, A method of manufacturing a glass product, and a method of manufacturing a glass product.

상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 유리판이 흡착 고정되는 테이블과, 상기 테이블에 고정된 상기 유리판 표면을 연마하는 상기 유리판의 외형 크기보다 작은 외형 크기의 연마 패드와, 상기 연마 패드를 자전 운동시킴과 함께 공전 운동시키고, 또한 상기 유리판의 면 방향으로 요동 운동시키는 구동 수단과, 상기 유리판과 상기 연마 패드 사이에 연마 슬러리를 공급하는 슬러리 공급 수단과, 상기 유리판 표면의 결함을 검출하는 검출 수단과, 검출된 상기 결함의 위치로 상기 구동 수단에 의해 상기 연마 패드를 이동시켜 상기 결함과 그의 주위를 연마시키는 제어 수단을 구비한 것을 특징으로 하고 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a polishing apparatus including a table on which a glass plate is attracted and fixed, a polishing pad having an outer size smaller than an outer size of the glass plate for polishing the surface of the glass plate fixed on the table, A slurry supply means for supplying a polishing slurry between the glass plate and the polishing pad, a detection means for detecting a defect on the surface of the glass plate, And control means for moving the polishing pad by the driving means to the detected position of the defect to polish the defect and its periphery.

본 발명에 따르면, 검출 수단에 의해 표면의 결함이 검출된 유리판은 테이블 상에 흡착 고정된다. 흡착 고정된 유리판은 유리판의 외형 크기보다 작은 외형 크기의 연마 패드에 의해 연마된다. 이때, 검출 수단에 의해 검출된 결함의 위치로 구동 수단에 의해 연마 패드가 이동됨과 함께, 슬러리 공급 수단으로부터 연마 슬러리가 공급되어 연마가 행해진다. 연마 패드는 연마를 행할 때에 구동 수단에 의해 자전 운동함과 함께 공전 운동하고, 또한 유리판의 면 방향으로 요동 운동한다.According to the present invention, the glass plate on which surface defects are detected by the detecting means is adsorbed and fixed on the table. The adsorption fixed glass plate is polished by a polishing pad having an outer size smaller than the outer size of the glass plate. At this time, the polishing pad is moved by the driving means to the position of the defect detected by the detection means, and the polishing slurry is supplied from the slurry supply means to perform polishing. When the polishing pad is polished, the polishing pad is rotated by the driving means and revolves and moves in the direction of the surface of the glass plate.

이에 의해, 유리판은 결함과 그의 주위만이 국소적으로 연마되고, 전체면 연마하지 않고도 결함이 제거되어, 효율적으로 원하는 연마 품질을 얻을 수 있다. 따라서 생산 효율을 향상시키는 것이 가능해진다.As a result, the defects and only the periphery thereof are locally polished, and the defects are removed without polishing the entire surface, whereby the desired polishing quality can be efficiently obtained. Therefore, it becomes possible to improve the production efficiency.

또한, 본 발명에 따르면, 연마 패드가 자전 운동함과 함께 공전 운동하고, 또한 유리판의 면 방향으로 요동 운동함으로써, 연마면을 완만하게 할 수 있다. 이하, 그 이유를 설명한다.In addition, according to the present invention, the polishing pad can be made to revolve while revolving, and also rocking in the plane direction of the glass plate, thereby making the polishing surface gentle. Hereinafter, the reason will be explained.

본 발명에 있어서는, 연마 패드가 자전 운동함과 함께 공전 운동한다. 도 10의 (a)에 도시한 바와 같은 국소적인 결함을 갖는 유리판을 연마 패드의 자전 운동만에 의해 연마한 결과를 도 10의 (b)에 도시하고, 자전 운동에 공전 운동(도 10의 (c): 공전 반경(r1))을 부가하여 연마한 경우의 결과를 도 10의 (d)에 도시한다. 이에 의해, 연마 패드의 자전 운동만으로 연마된 유리판의 표면에 비해, 공전 반경(r1)에 의한 연마 범위의 증가분이 가해져, 도 10의 (d)에 도시한 바와 같이 연마면이 완만해진다.In the present invention, the polishing pad rotates and revolves. Fig. 10 (b) shows the result of polishing a glass plate having local defects as shown in Fig. 10 (a) only by the rotation of the polishing pad, and Fig. 10 Fig. 10 (d) shows the results when c): the radius of revolution (r1)) was added and polished. As a result, an increase in the polishing range due to the radius of revolution r1 is applied to the surface of the polished glass plate by only rotating the polishing pad, and the polished surface becomes gentle as shown in Fig. 10D.

또한, 본 발명에 있어서는, 연마 패드가 유리판의 면 방향으로 요동 운동한다. 자전 운동과 공전 운동(공전 반경(r1))에 요동 운동(도 10의 (e): 요동 스트로크(L))을 부가하여 연마한 경우의 결과를 도 10의 (f)에 도시한다. 이에 의해, 도 10의 (e)에 도시한 요동 스트로크(L)에 의한 연마 범위의 증가분이 가해져, 도 10의 (f)에 도시한 바와 같이 연마면을 더 완만하게 하는 것이 가능해진다.Further, in the present invention, the polishing pad oscillates in the plane direction of the glass plate. Fig. 10 (f) shows the results obtained when the pivot motion (Fig. 10 (e): swing stroke L) was added to the revolving motion and revolving motion (revolving radius r1). As a result, an increase in the polishing range by the swing stroke L shown in Fig. 10 (e) is applied, and it becomes possible to make the polishing surface more gentle as shown in Fig. 10 (f).

이상과 같이, 본 발명에 따르면, 유리판 표면의 결함과 그의 주위만을 국소적으로 연마하여도, 연마면이 완만하여, 원하는 연마 품질을 얻을 수 있다.As described above, according to the present invention, even if only the defects on the surface of the glass plate and the periphery thereof are locally polished, the polished surface is gentle, and desired polishing quality can be obtained.

또한, 본 발명은 상기 테이블의 표면에 형성된 상기 유리판을 흡착하는 복수의 오목부와, 상기 결함이 상기 오목부 상에 배치되어 흡착 고정되지 않도록 상기 제어 수단에 의해 제어되어 상기 유리판을 반송하는 반송 수단을 구비하는 것이 바람직하다.The present invention is also directed to a liquid crystal display comprising a plurality of concave portions for attracting the glass plate formed on the surface of the table and conveying means for conveying the glass plate under the control of the control means so that the defects are arranged on the concave portions, .

본 발명에 따르면, 유리판을 흡착 고정하는 테이블에는 흡착용의 복수의 오목부가 형성되어 있다. 유리판은 반송 수단에 의해 테이블 상에 반송되고, 오목부에 의해 흡착 고정되어 연마 패드에 의해 연마가 행해진다. 이때, 반송 수단은 제어 수단에 의해 제어되고, 검출 수단에 의해 검출된 결함이 오목부에 배치되지 않도록 유리판이 테이블 상에 반송된다. 이에 의해, 결함을 연마할 때에 오목부에 있어서 유리판의 결함이 위치하는 부분이 오목 형상으로 변형되는 일이 없어지므로, 연마 불균일이 발생하지 않아 높은 연마 품질을 유지하는 것이 가능해진다.According to the present invention, a table for adsorbing and fixing a glass plate is provided with a plurality of concave portions for adsorption. The glass plate is conveyed on the table by the conveying means, is sucked and fixed by the concave portion, and polished by the polishing pad. At this time, the conveying means is controlled by the control means, and the glass plate is conveyed on the table so that the defect detected by the detecting means is not placed in the concave portion. As a result, when the defect is polished, the portion where the defect of the glass plate is located in the concave portion is not deformed into the concave shape, so that the polishing unevenness does not occur and high polishing quality can be maintained.

또한 본 발명은, 상기 테이블을 수평으로 배치하고, 상기 테이블의 상방에 상기 연마 패드를 배치할 수 있다.Further, the present invention can arrange the table horizontally and arrange the polishing pad above the table.

본 발명에 따르면, 테이블 상에 연마면(표면)을 상방을 향해 흡착 고정된 유리판은 테이블의 상방에 배치된 연마 패드에 의해 상방으로부터 연마된다. 이에 의해, 안정된 연마 품질이 유지된다.According to the present invention, the glass plate, which is attracted and fixed to the polishing surface (surface) on the table, is polished from above by the polishing pad disposed above the table. Thereby, stable polishing quality is maintained.

또한, 본 발명은 상기 테이블을 수평으로 배치하고, 상기 테이블의 하방에 상기 연마 패드를 배치할 수 있다. 또한, 본 발명은 상기 연마 패드의 주위에는 상기 연마 슬러리를 받는 슬러리 받음부가 설치되어 있는 것이 바람직하다.Further, the present invention can arrange the table horizontally and arrange the polishing pad below the table. Further, in the present invention, it is preferable that a slurry receiving section for receiving the polishing slurry is provided around the polishing pad.

본 발명에 따르면, 상하가 역전된 테이블에 연마면(표면)을 하방을 향해 흡착 고정된 유리판은 테이블의 하방에 배치된 연마 패드에 의해 하방으로부터 연마된다. 연마시에 사용된 연마 슬러리는 유리판 표면 전체면에 확산 퇴적되지 않고 흘러내려, 연마 패드 주위의 슬러리 받음부에서 회수된다. 이에 의해, 유리판의 연마 불필요한 부분을 오염시키지 않고 유리판을 국소적으로 연마하는 것이 가능해져, 높은 연마 품질을 유지하는 것이 가능해진다.According to the present invention, the glass plate, which is fixed by suction on the polished surface (surface) downwardly on the table whose top and bottom are reversed, is polished from below by the polishing pad arranged on the lower side of the table. The polishing slurry used at the time of polishing flows without being diffused and accumulated on the entire surface of the glass plate, and is recovered at the slurry receiving portion around the polishing pad. Thereby, it becomes possible to locally polish the glass plate without causing contamination of the unnecessary portion of the glass plate, and it becomes possible to maintain a high polishing quality.

또한, 본 발명은 상기 유리판의 전체면을 연마하는 유리판 전체면 연마 장치를 구비하고 있는 것이 바람직하다.It is preferable that the present invention further comprises a glass plate whole surface polishing apparatus for polishing the entire surface of the glass plate.

본 발명에 따르면, 국소적으로 연마를 행하는 연마 장치의 전공정, 또는 후공정에 유리판 전체면을 연마하는 연마 장치가 구비되고 있다. 국소적으로 연마를 행하는 연마 장치가 전체면을 연마하는 연마 장치의 전공정에 있음으로써, 검출 수단에서 검출된 결함과 그의 주위가 미리 국소적으로 연마된 후 유리판 전체면이 연마된다. 또한, 국소적으로 연마를 행하는 연마 장치가 전체면을 연마하는 연마 장치의 후공정에 있음으로써, 전체면을 연마한 후에 연마 잔류가 있어도 검출 수단에서 결점이 검출되어 결함과 그의 주위가 국소적으로 연마된다. 이에 의해, 연마 잔류를 발생시키지 않고, 또는 전체면을 재연마할 필요가 없어져, 연마 품질을 안정시키고, 생산 효율을 향상시키는 것이 가능해진다.According to the present invention, there is provided a polishing apparatus which polishes the entire surface of the glass plate in the front or back of the polishing apparatus for performing local polishing. Since the polishing apparatus for performing local polishing is in the previous step of the polishing apparatus for polishing the entire surface, the entire surface of the glass plate is polished after the defects detected by the detecting means and its surroundings are locally polished in advance. Further, since the polishing apparatus for performing local polishing is in a post-process of the polishing apparatus for polishing the entire surface, defects are detected by the detecting means even if polishing remains after the entire surface is polished, Is polished. As a result, it becomes possible to stabilize the polishing quality and to improve the production efficiency without causing the occurrence of polishing residuals or eliminating the necessity of reprocessing the entire surface.

또한, 본 발명은 상기 테이블을 수평 방향에 대해 경사지게 하여 배치하고, 상기 테이블에 대향하여 상기 연마 패드를 배치할 수도 있다. 테이블 및 연마 패드를 경사지게 하여 배치함으로써, 유리판 국소 연마 장치의 설치 공간을 공간 절약화할 수 있다. 테이블의 경사 각도 θ는, 수평선을 0°로 한 경우, 0°<θ≤90°이다.Further, in the present invention, the table may be arranged so as to be inclined with respect to the horizontal direction, and the polishing pad may be arranged to face the table. By disposing the table and the polishing pad at an inclined position, space for installing the glass plate local polishing apparatus can be saved. The inclination angle &amp;thetas; of the table is 0 DEG &amp;thetas; 90 DEG when the horizontal line is 0 DEG.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 유리판 국소 연마 장치, 유리판 국소 연마 방법, 유리 제품의 제조 장치 및 유리 제품의 제조 방법에 따르면, 손상이나 굴곡 등의 결함을 미리 검출하여 결함과 그의 주위를 국소적으로 연마함으로써 연마 품질을 안정시키고, 생산 효율을 향상시키는 것이 가능해진다.INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, according to the glass plate local polishing apparatus, the glass plate local polishing method, the glass article manufacturing apparatus, and the glass article manufacturing method of the present invention, defects such as damage and bending are detected in advance, The polishing quality can be stabilized and the production efficiency can be improved.

도 1은 본 발명에 관한 국소 연마 장치의 구조를 도시하는 사시도.
도 2는 국소 연마 장치의 구성을 도시하는 측면도.
도 3은 국소 연마 장치의 연마 헤드부를 도시한 측면도.
도 4는 다른 실시 형태에 의한 국소 연마 장치의 구조를 도시하는 사시도.
도 5는 다른 실시 형태에 의한 국소 연마 장치의 연마 헤드부를 도시한 측면도.
도 6은 유리판을 흡착한 상태를 도시한 측면 확대도.
도 7은 유리 제품의 제조 공정을 나타낸 흐름도.
도 8은 종래의 연속식 연마 장치의 구조를 도시하는 사시도.
도 9는 종래의 연속식 연마 장치의 연마 헤드부를 도시한 측면도.
도 10은 공전 운동, 요동 운동에 의한 연마면의 차이를 도시한 단면도.
도 11은 테이블과 연마 패드가 경사져 배치된 국소 연마 장치의 주요부 측면도.
도 12는 연마 헤드의 다른 실시 형태를 도시한 측면도.
도 13은 아래로 볼록한 곡면 형상으로 변형된 연마 패드를 사용하여 얻은 유리판의 연마 상태를 도시한 설명도.1 is a perspective view showing a structure of a local polishing apparatus according to the present invention.
2 is a side view showing a configuration of a local polishing apparatus;
3 is a side view showing the polishing head of the local polishing apparatus;
4 is a perspective view showing a structure of a local polishing apparatus according to another embodiment;
5 is a side view showing a polishing head of a local polishing apparatus according to another embodiment;
6 is a side enlarged view showing a state in which a glass plate is adsorbed.
7 is a flow chart showing a manufacturing process of a glass product;
8 is a perspective view showing the structure of a conventional continuous polishing apparatus.
9 is a side view showing a polishing head of a conventional continuous polishing apparatus.
10 is a sectional view showing the difference in polishing surface due to idle motion and swing motion;
11 is a side view of a main portion of a local polishing apparatus in which a table and a polishing pad are disposed at an inclination.
12 is a side view showing another embodiment of the polishing head;
13 is an explanatory view showing a polishing state of a glass plate obtained by using a polishing pad deformed downward into a convex curved shape;

이하 첨부 도면에 따라서 본 발명에 관한 유리판 국소 연마 장치, 유리판 국소 연마 방법, 유리 제품의 제조 장치 및 유리 제품의 제조 방법의 바람직한 실시 형태에 대해 상세하게 설명한다.BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, preferred embodiments of a glass plate local polishing apparatus, a glass plate local polishing method, a glass article manufacturing apparatus, and a glass article manufacturing method according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

국소 연마 장치(1)는 유리판(G)을 보유 지지하는 테이블(2), 및 테이블(2)의 상방에 배치된 복수대(도 1에서는 1대만 도시)의 연마기(3, 3)를 구비하고 있다. 또한, 국소 연마 장치(1)에는 도 2의 (a) 또는 도 2의 (b)에 도시한 바와 같이 레이저광 등에 의한 광학식의 검출 수단(4)과, X, Y, Z의 각 이동축과 흡착 아암 등에 의해 구성되는 반송 수단(5)을 구비하고, 각 부는 제어 수단(6)에 의해 제어된다. 국소 연마 장치(1)의 전공정, 또는 후공정을 받는 위치에는 전체면 연마 장치(7)가 배치되어 있다.The local polishing apparatus 1 is provided with a table 2 for holding a glass plate G and a plurality of polishing machines 3 and 3 arranged above the table 2 have. 2 (a) or 2 (b), the local polishing apparatus 1 is provided with an optical detection means 4 of laser light or the like, (5) composed of an adsorption arm or the like, and each part is controlled by a control means (6). The entire surface polishing apparatus 7 is disposed at a position where the polishing apparatus 1 is subjected to a pre-process or a post-process.

전체면 연마 장치(7)로서는, 유리판의 외형 크기보다 큰 외형 크기의 연마 패드에 의해 유리판 전체면의 연마를 행하는 전체면 연마 장치를 배치할 수 있다. 또한, 유리판(G)보다 작은 외형을 갖는 복수의 연마 패드를, 유리판(G)의 반송 방향을 따라 지그재그 형상으로 배치(zigzag alignment)하고, 복수의 연마 패드에 의해 유리판(G)의 전체면을 연마하는 연마 장치를 배치할 수 있다.As the whole surface grinding apparatus 7, it is possible to arrange an entire surface grinding apparatus for grinding the entire surface of the glass plate by a polishing pad having an outer size larger than the outer size of the glass plate. A plurality of polishing pads having an outer shape smaller than the glass plate G are zigzag aligned along the carrying direction of the glass plate G so that the entire surface of the glass plate G is polished by a plurality of polishing pads A polishing apparatus for polishing can be disposed.

테이블(2)의 하부에는 도 3에 도시한 바와 같이, 한 쌍의 가이드 블록부(8, 8)가 설치되고, 이 가이드 블록부(8, 8)가, 베이스(9)에 배치된 한 쌍의 가이드 레일(10, 10)에 요동 가능하게 결합되어 있다. 또한, 테이블(2)의 하부 중앙부에는, 랙(11)이 테이블(2)의 길이 방향을 따라 고정되어 있고, 랙(11)은 피니언(12)에 맞물려져 있다. 피니언(12)은 베이스(9)에 회전 가능하게 지지됨과 함께, 도시하지 않은 모터의 출력축에 연결되어 모터의 구동력에 의해 회전한다.As shown in Fig. 3, a pair of guide block portions 8 and 8 are provided in a lower portion of the table 2, and the guide block portions 8 and 8 are fixed to a pair The guide rails 10, The rack 11 is fixed along the longitudinal direction of the table 2 and the rack 11 is engaged with the pinion 12 at the center of the lower portion of the table 2. [ The pinion 12 is rotatably supported on the base 9 and connected to an output shaft of a motor (not shown) and rotated by the driving force of the motor.

테이블(2)의 상부에는 흡착 패드(13)가 설치되고, 흡착 패드(13)의 이면은 도시하지 않은 흡인 수단과 접속되어 있다. 흡착 패드(13)는 수지 등으로 형성되고, 표면에 유리판(G)을 흡착하기 위한 홈이나 구멍 등의 오목부가 형성되어 있다. 이에 의해, 유리판(G)은 테이블(2)에 흡착 고정되고, 랙(11)이 피니언(12)에 보내져, 도 1에 도시한 화살표 A 방향으로 소정의 속도로 반송된다.A suction pad 13 is provided on an upper portion of the table 2 and a back surface of the suction pad 13 is connected to a suction means not shown. The adsorption pad 13 is formed of resin or the like, and has a recessed portion such as a groove or a hole for adsorbing the glass plate G on its surface. The glass plate G is attracted and fixed to the table 2 and the rack 11 is sent to the pinion 12 and transported at a predetermined speed in the direction of the arrow A shown in Fig.

연마기(3)는 테이블(2)의 상방에 설치되고, 테이블(2)과 직교하는 주축(외 축에 상당)(14)을 갖고 있다. 주축(14)은 베어링(15, 15)을 개재하여 케이싱(16)에 회전 가능하게 지지되어 있다. 케이싱(16)은 자전 공전부 본체(17)에 고정된다.The polishing machine 3 is provided above the table 2 and has a main shaft (corresponding to an outer shaft) 14 orthogonal to the table 2. The main shaft 14 is rotatably supported on the casing 16 via bearings 15, The casing (16) is fixed to the rotary body (17).

주축(14)에는, 주축(14)의 축심(O1)에 대해 편심한 축심(O2)을 중심축으로 하는 삽입 관통 구멍(14A)이 형성되어 있다. 삽입 관통 구멍(14A)에는 출력축(내축에 상당)(18)이 삽입 관통되고, 출력축(18)은 그의 중심축이 축심(O2)과 합치하도록 베어링(19, 19)을 개재하여 주축(14)에 회전 가능하게 지지되어 있다.The main shaft 14 is provided with an insertion through hole 14A having a central axis O 2 which is eccentric to the central axis O 1 of the main shaft 14 as a central axis. The through hole (14A) has an output shaft (corresponding to the internal shaft) 18 is inserted, to the output shaft 18 via the bearings 19, 19 whose central axes to agree with the axis (O 2) the main shaft (14 As shown in Fig.

주축(14) 상측 주위부에는 기어(20)가 설치되어 있다. 기어(20)에는 기어(21)이 맞물려져 있고, 기어(21)에는 축(22)을 통해 기어(23)가 연결되어 있다. 또한, 기어(23)에는 아이들 기어(24)를 개재하여 출력 기어(25)가 맞물려지고, 출력 기어(25)는 공전용 모터(26)의 출력축(27)에 고정되어 있다. 이에 의해, 공전용 모터(26)의 구동력이 기어(25→24→23→21→20)를 통해 감속되어 주축(14)에 전달되므로, 주축(14)이 소정의 회전수로 회전한다. 이와 같이 주축(14)이 회전하면, 출력축(18)은 주축(14)의 축심(O1)을 중심으로 한 원주를 따라 공전한다.A gear 20 is provided on an upper peripheral portion of the main shaft 14. A gear 21 is engaged with the gear 20 and a gear 23 is connected to the gear 21 via the shaft 22. The output gear 25 is engaged with the gear 23 via the idle gear 24 and the output gear 25 is fixed to the output shaft 27 of the spare motor 26. Thus, the driving force of the ball-dedicated motor 26 is decelerated through the gears 25 → 24 → 23 → 21 → 20 and transmitted to the main shaft 14, so that the main shaft 14 rotates at a predetermined number of revolutions. According to this main shaft 14 is rotated, the output shaft 18 revolves along a circumference around the central axis (O 1) of the main shaft (14).

출력축(18)의 하단부에는, 원형으로 형성된 연마 헤드(28)가 로터리 조인트(29)를 통해 연결되어 있다. 연마 헤드(28)는 지지 플레이트(30), 공기 스프링(31), 적층 고무(32), 연마 플레이트 고정부(33) 등으로 구성되고, 연마 플레이트 고정부(33)에는 연마 패드(34)가 장착된 연마 플레이트(35)가 흡착 고정된다.At the lower end of the output shaft 18, a circular-shaped polishing head 28 is connected via a rotary joint 29. The polishing head 28 is constituted by a supporting plate 30, an air spring 31, a laminated rubber 32 and a polishing plate fixing portion 33. The polishing plate fixing portion 33 is provided with a polishing pad 34 And the mounted abrasive plate 35 is adsorbed and fixed.

연마 패드(34)는 발포 폴리우레탄 패드 등의 소재에 의해 형성되고, 연마 대상인 유리판(G)의 외형 크기보다 작은 외형 크기로 형성된다. 연마 패드(34)는 원형 형상으로 형성되고, 그의 직경은 φ35 내지 φ600mm인 것이 바람직하고, φ250 내지 φ350mm인 것이 보다 바람직하다. 연마 패드(34)의 직경이 φ600mm를 초과하면, 장치가 대형화되어 설비비, 부재비가 높아진다.The polishing pad 34 is formed of a material such as a foamed polyurethane pad and is formed to have an outer size smaller than the outer size of the glass plate G to be polished. The polishing pad 34 is formed in a circular shape, and its diameter is preferably from 35 to 600 mm, and more preferably from 250 to 350 mm. If the diameter of the polishing pad 34 exceeds 600 mm, the size of the apparatus becomes large, and the equipment ratio and the material ratio become high.

연마 플레이트 고정부(33)는 적층 고무(32)에 의해 지지 플레이트(30) 수평 방향으로 구동 가능하게 장착되어 있다. 연마 플레이트 고정부(33)에는, 슬러리 공급 수단으로서의 슬러리 통로(36)와, 연마 플레이트(35)를 진공 흡착 고정하기 위한 에어 통로(37)가 내부에 설치되어 있다. 슬러리 통로(36)에는 로터리 조인트(29)를 통해 도시하지 않은 슬러리 탱크와 접속되고, 연마시에 연마 패드(34)와 유리판(G) 사이로 산화세륨 또는 산화지르코늄 등의 유리(遊離)된 지립이 함유되어 있는 연마 슬러리가 공급된다. 에어 통로(37)는 로터리 조인트(29)를 통해 도시하지 않은 진공 발생원에 접속되고, 연마 플레이트(35)가 진공 흡착된다.The abrasive plate fixing portion 33 is mounted movably in the horizontal direction of the support plate 30 by the laminated rubber 32. The polishing plate fixing portion 33 is provided therein with a slurry passage 36 serving as a slurry supply means and an air passage 37 for fixing the abrasive plate 35 by vacuum suction. The slurry passage 36 is connected to a slurry tank (not shown) through a rotary joint 29, and free abrasive grains such as cerium oxide or zirconium oxide are sandwiched between the polishing pad 34 and the glass sheet G The polishing slurry contained therein is supplied. The air passage 37 is connected to a vacuum generating source (not shown) through a rotary joint 29, and the polishing plate 35 is vacuum-adsorbed.

공기 스프링(31)은 원형으로 형성된 연마 헤드(28)의 중심부에 설치되고, 로터리 조인트(29)를 통해 도시하지 않은 에어 펌프에 접속되어 있다. 공기 스프링(31)은 에어 펌프로부터의 압축 에어가 공급됨으로써 팽창되고, 연마 플레이트 고정부(33)가 가압된다. 연마 플레이트 고정부(33)가 가압됨으로써, 연마 패드(34)에 연마 압력이 부여된다. 연마 패드(34)에 부여되는 연마 압력은 공기 스프링(31)에 공급되는 에어 압력을 제어함으로써 조절된다.The air spring 31 is installed at the center of the circularly formed polishing head 28 and connected to an air pump (not shown) through a rotary joint 29. The air spring 31 is inflated by supplying compressed air from the air pump, and the polishing plate fixing portion 33 is pressed. The abrasive plate fixing portion 33 is pressed, so that a polishing pressure is applied to the polishing pad 34. [ The polishing pressure applied to the polishing pad 34 is adjusted by controlling the air pressure supplied to the air spring 31.

상기 연마 압력은 0.1 내지 30KPa인 것이 바람직하고, 5 내지 20KPa인 것이 보다 바람직하고, 10 내지 15KPa인 것이 특히 바람직하다.The polishing pressure is preferably 0.1 to 30 KPa, more preferably 5 to 20 KPa, and particularly preferably 10 to 15 KPa.

상기 연마 압력이 0.1KPa보다 작으면 연마율이 낮아진다. 30KPa를 초과하면, 패드나 연마 조건에 따라서는 패드가 열화되기 쉬워진다.If the polishing pressure is less than 0.1 KPa, the polishing rate is lowered. If it exceeds 30 kPa, the pad tends to deteriorate depending on the pad or polishing conditions.

연마 헤드(28)가 하단부에 연결된 출력축(18)의 상단부는, 유니버설 조인트(38)를 통해 자전 공전부 본체(17)에 고정된 자전용 모터(39)의 출력축(40)에 연결되어 있다. 자전용 모터(39)의 구동력에 의해 출력축(18)이 축심(O2)을 중심으로 회전하고, 연마 헤드(28)가 축심(O2)을 중심으로 자전 운동한다. 출력축(18)은 주축(14)의 축심(O1)을 중심으로 한 원주를 따라 공전하므로, 연마 헤드(28)는 공전 운동함과 함께 자전 운동한다.The upper end of the output shaft 18 connected to the lower end of the polishing head 28 is connected to the output shaft 40 of the motor 39 for the self-propelled motor fixed to the rotary body 17 via the universal joint 38. Here is the output shaft 18 by the driving force rotates about the axial center (O 2), and the polishing head 28 of the dedicated motor 39 is a rotation movement around the central axis (O 2). An output shaft (18) is so revolving along a circumference around the central axis (O 1) of the main shaft 14, the polishing head 28 to rotate along with the orbital motion also.

연마 헤드(28)를 자전 운동, 공전 운동시키는 주축(14)과 출력축(18)이 설치된 자전 공전부 본체(17)는 X 이동축(41)에 설치된 X 테이블(42)에 장착되어 있다. X 이동축(41)은 볼 나사나 구동용 모터 등에 의해 구성되는 직동 이동축이며, 자전 공전부 본체(17)가 도 3에 도시한 화살표 X 방향으로 요동 운동한다.A main spindle 14 for rotating and revolving the polishing head 28 and a rotating body main body 17 provided with an output shaft 18 are mounted on an X table 42 provided on the X moving shaft 41. The X moving shaft 41 is a linearly moving shaft constituted by a ball screw, a driving motor, and the like, and the rotating shaft preform body 17 rocks in the direction of arrow X shown in Fig.

공전 반경은 5 내지 300mm인 것이 바람직하고, 30 내지 60mm인 것이 보다 바람직하다. 300mm를 초과하면, 필요한 연마 패드의 크기는 적어도 반경 600mm로 되어 장치가 대형화된다. 5mm 미만이면, 연마 패드와 유리의 상대 속도가 저하되어 연마 효율이 낮아지기 때문이다.The orbital radius is preferably 5 to 300 mm, and more preferably 30 to 60 mm. If it exceeds 300 mm, the required size of the polishing pad is at least 600 mm in radius, and the device becomes large. If it is less than 5 mm, the relative speed between the polishing pad and the glass is lowered and the polishing efficiency is lowered.

XY 방향의 요동 스트로크는 5 내지 50mm인 것이 바람직하고, 20 내지 40mm인 것이 보다 바람직하고, 30mm인 것이 특히 바람직하다. 50mm를 초과하면, 보다 대형인 연마 패드가 필요해지기 때문이다. 5mm 미만이면, 연마 후의 유리판 표면이 완만해지지 않기 때문이다.The swing stroke in the X and Y directions is preferably 5 to 50 mm, more preferably 20 to 40 mm, and particularly preferably 30 mm. If it exceeds 50 mm, a larger polishing pad is required. If it is less than 5 mm, the surface of the glass sheet after polishing will not become gentle.

본 발명에 있어서 결함과 그의 주변을 국소적으로 연마할 경우, 연마하는 영역은 결함을 중심으로 하여 반경 50 내지 315mm의 영역인 것이 바람직하고, 150 내지 250mm의 영역인 것이 보다 바람직하고, 200 내지 250mm의 영역인 것이 특히 바람직하다. 50mm 미만의 영역을 연마하는 경우는 연마 영역의 깊이 방향의 변화가 커져, 유리판의 평활도가 문제되기 때문이다.In the present invention, when the defect and the periphery thereof are locally polished, the area to be polished is preferably in the range of 50 to 315 mm in radius, more preferably in the range of 150 to 250 mm, more preferably in the range of 200 to 250 mm Is particularly preferable. When the area less than 50 mm is polished, the change in the depth direction of the polishing area becomes large, and the smoothness of the glass plate becomes problematic.

이상과 같이 구성되는 연마기(3)는, 도 1에 도시한 바와 같이, 양측에 설치된 한 쌍의 포스트(43, 43)에 고정되고, 잭(44, 44)의 도시하지 않은 피스톤에 의해 승강 이동한다. 이에 의해, 연마 헤드(28)를 구비한 연마기(3)가 테이블(2)에 대해 상하 방향으로 진퇴 이동한다. 잭(44, 44)의 하부에는 Y 이동축(54)이 장착되고, 잭(44, 44)이 도 1에 도시한 Y 방향으로 요동 운동함으로써, 연마기(3)가 Y 방향으로 요동 운동한다.1, the polisher 3 is fixed to a pair of posts 43, 43 provided on both sides, and is lifted and lowered by a piston (not shown) of the jacks 44, 44 do. Thereby, the polishing machine 3 provided with the polishing head 28 moves forward and backward with respect to the table 2. A Y moving shaft 54 is mounted on the lower part of the jacks 44 and 44 and the jacks 44 and 44 swing in the Y direction shown in Fig. 1 so that the polishing machine 3 swings in the Y direction.

이들에 의해, 유리판(G)보다 작은 크기로 형성된 연마 헤드(28)는 자전 운동, 공전 운동함과 함께 X 방향 및 Y 방향으로 요동 운동하므로, 유리판(G)이 국소적으로 연마됨과 함께, 국소 연마 부분 주변이 완만하게 형성된다.As a result, the polishing head 28 formed to have a size smaller than that of the glass plate G moves in the X and Y directions together with the rotation and revolving movements, so that the glass plate G is locally polished, The periphery of the polishing portion is gently formed.

또한, Y 방향으로의 요동 운동은 테이블(2)을 랙(11)과 피니언(12)에 의해 요동시킴으로써 유리판(G)을 요동시켜도 된다.The table 2 may be rocked by the rack 11 and the pinion 12 to rock the glass plate G in the Y direction.

다음에, 본원 발명의 다른 실시 형태에 의한 국소 연마 장치의 구조를 설명한다.Next, the structure of the local polishing apparatus according to another embodiment of the present invention will be described.

도 4에 도시한 국소 연마 장치(45)는, 유리판(G)을 보유 지지하는 테이블(46), 및 테이블(46)의 하방에 배치된 복수대(도 4에서는 1대만 도시)의 연마기(47, 47)를 구비하고 있다.4 includes a table 46 for holding a glass plate G and a plurality of polishing machines 47 (only one polishing machine shown in Fig. 4) disposed below the table 46 , 47).

국소 연마 장치(45)는 국소 연마 장치(1)와 마찬가지로 검출 수단(4)과 반송 수단(5)을 구비하고, 각 부가 제어 수단(6)에 의해 제어되고, 국소 연마 장치(45)의 전공정, 또는 후공정을 받는 위치에는, 유리판의 외형 크기보다 큰 외형 크기의 연마 패드에 의해 유리판 전체면의 연마를 행하는 전체면 연마 장치(7)가 배치되어 있다.The local polishing apparatus 45 includes a detecting means 4 and a carrying means 5 as in the case of the local polishing apparatus 1 and is controlled by each of the additional controlling means 6, An entire surface polishing apparatus 7 for polishing the entire surface of the glass plate by a polishing pad having an outer size larger than the outer size of the glass plate is disposed at a position where the process or the post process is performed.

테이블(46)의 상부에는 도 5에 도시한 바와 같이, 하방을 향해 한 쌍의 가이드 블록(48, 48)이 설치되고, 이 가이드 블록(48, 48)이 베이스(49)에 배치된 한 쌍의 가이드 레일(50, 50)로 미끄럼 이동 가능하게 결합되어 있다. 또한, 테이블(46)의 상부 중앙부에는, 랙(51)이 테이블(46)의 길이 방향을 따라 고정되어 있고, 랙(51)은 피니언(52)에 맞물려져 있다. 피니언(52)은 베이스(49)에 회전 가능하게 지지됨과 함께, 도시하지 않은 모터의 출력축에 연결되어 모터의 구동력에 의해 회전한다.5, a pair of guide blocks 48, 48 are provided downward on the table 46. The pair of guide blocks 48, 48 are arranged on the base 49 And is slidably engaged with the guide rails 50, A rack 51 is fixed along the longitudinal direction of the table 46 and the rack 51 is engaged with the pinion 52 at an upper central portion of the table 46. [ The pinion 52 is rotatably supported on the base 49 and connected to an output shaft of a motor (not shown) and rotated by the driving force of the motor.

테이블(46)의 하부에는 흡착 패드(53)가 설치되고, 흡착 패드(53)의 이면은 도시하지 않은 흡인 수단과 접속되어 있다. 흡착 패드(53)는 수지 등으로 형성되고, 표면에 유리판(G)을 흡착하기 위한 홈이나 구멍 등의 오목부가 형성되어 있다. 이에 의해, 유리판(G)은 테이블(46)에 연마면을 하방을 향해 흡착 고정되고, 랙(51)이 피니언(52)으로 보내져, 도 4에 도시한 화살표 B 방향으로 소정의 속도로 반송된다.A suction pad 53 is provided under the table 46, and the back surface of the suction pad 53 is connected to a suction means (not shown). The adsorption pad 53 is formed of resin or the like, and has a concave portion such as a groove or a hole for adsorbing the glass plate G on its surface. The glass plate G is attracted and fixed to the table 46 downwardly on the polishing surface and the rack 51 is sent to the pinion 52 and conveyed at a predetermined speed in the direction of the arrow B shown in Fig. .

연마기(47)는 테이블(46)의 하방에 설치되고, 도 3에 도시한 연마기(3)와 동등한 내부 구성을 갖고, 연마 헤드(28)가 상방을 향해 장착되고, 연마 헤드(28)가 자전 공전 운동함과 함께 X 방향으로 요동한다.The polishing machine 47 is provided below the table 46 and has an internal configuration equivalent to that of the polishing machine 3 shown in Fig. 3, in which the polishing head 28 is mounted upward and the polishing head 28 is rotated It oscillates in the X direction together with the idle motion.

또한, 연마기(47)는 양측에 설치된 한 쌍의 포스트(43, 43)에 고정되고, 포스트(43, 43)는 잭(55, 55)의 도시하지 않은 피스톤에 의해 승강 이동한다. 잭(55, 55)은 각각 Y 이동축(54, 54)에 고정되고, Y 이동축(54, 54)에 의해 Y 방향으로 요동 운동한다.The polishers 47 are fixed to a pair of posts 43 and 43 provided on both sides and the posts 43 and 43 are moved up and down by pistons (not shown) of the jacks 55 and 55. The jacks 55 and 55 are fixed to the Y moving shafts 54 and 54 and swing in the Y direction by the Y moving shafts 54 and 54, respectively.

이에 의해, 연마 헤드(28)를 구비한 연마기(47)가 Y 방향으로 요동 운동함과 함께, 테이블(46)에 대해 상하 방향으로 진퇴 이동한다. 또한, Y 방향으로의 요동 운동은 테이블(46)을 랙(51)과 피니언(52)에 의해 요동시킴으로써 유리판(G)을 요동시켜도 된다.Thereby, the polishing machine 47 provided with the polishing head 28 swings in the Y direction and moves back and forth with respect to the table 46 in the vertical direction. The table 46 may be rocked by the rack 51 and the pinion 52 to rock the glass plate G in the Y direction.

또한, 국소 연마 장치(45)의 연마 패드(34)의 주위에는 연마 후의 연마 슬러리를 받는 슬러리 받음부(56)가 설치되어 있다. 연마에서 사용된 연마 슬러리는 유리판(G) 표면 전체에 확산 퇴적되지 않고 흘러내려, 슬러리 받음부(56)에서 회수되어 재이용된다.Around the polishing pad 34 of the local polishing apparatus 45, a slurry receiving section 56 for receiving the polishing slurry after polishing is provided. The polishing slurry used in polishing flows down without being deposited on the entire surface of the glass plate (G), and is recovered and reused in the slurry receiving portion (56).

즉, 국소 연마 장치(45)에서는, 유리판(G)에 부착된 연마 슬러리도, 연마 슬러리의 자중에 의해 슬러리 받음부(56)에 적하한다. 이로 인해, 유리판(G)으로부터 슬러리가 적하하지 않는 도 1에 도시한 국소 연마 장치(1)와 비교하여, 국소 연마 장치(45)에 의한 연마 슬러리의 회수량은 많아진다. 따라서, 회수한 연마 슬러리는 재사용되므로, 국소 연마 장치(1)보다 국소 연마 장치(45)의 쪽이 연마 슬러리의 사용량을 저감시킬 수 있다.That is, in the local polishing apparatus 45, the polishing slurry attached to the glass plate G is also dropped onto the slurry receiving portion 56 by the own weight of the polishing slurry. As a result, the recovery amount of the polishing slurry by the local polishing apparatus 45 is increased as compared with the local polishing apparatus 1 shown in Fig. 1 in which no slurry is dropped from the glass plate G. Therefore, since the recovered polishing slurry is reused, the use amount of the polishing slurry can be reduced by the local polishing apparatus 45 rather than by the local polishing apparatus 1.

이들에 의해, 국소 연마 장치(45)는 도 1에 도시한 국소 연마 장치(1)와 마찬가지로 유리판(G)보다 작은 크기로 형성된 연마 헤드(28)가 자전 운동, 공전 운동함과 함께 X 방향으로 요동 운동하고, 또한 Y 방향으로 요동 운동하므로, 유리판(G)이 국소적으로 연마됨과 함께 국소 연마 부분 주변이 완만하게 형성된다. 또한, 연마 헤드(28)가 상방을 향하고, 유리판(G)이 하방을 향하고 있다. 이로 인해, 유리판(G) 상의 연마 슬러리는 유리판(G) 표면 전체에 확산 퇴적되지 않고 연마 패드(34)의 주위로부터 흘러내려, 유리판(G)의 연마 불필요한 부분을 오염시키지 않고 유리판(G)을 국소적으로 연마하는 것이 가능해진다.1, the polishing head 28, which is formed to have a smaller size than the glass plate G, rotates and revolves and moves in the X-direction The glass plate G is locally polished and the periphery of the local polishing portion is gently formed. Further, the polishing head 28 is directed upward and the glass plate G is directed downward. The polishing slurry on the glass plate G does not diffuse and accumulate on the entire surface of the glass plate G but flows down from the periphery of the polishing pad 34 and does not contaminate the polishing unnecessary portion of the glass plate G, It becomes possible to perform local polishing.

또한, 연마기(3), 연마기(47)의 근방에는 도시하지 않은 트루잉 플레이트나 고압 드레스 장치가 구비되고, 소정의 연마 횟수마다 또는 소정 시간마다 연마 패드(34)의 트루잉, 드레스 작업이 행해진다.A truing plate or a high pressure dressing device (not shown) is provided in the vicinity of the polishing machine 3 and the polishing machine 47, and a truing and dressing operation of the polishing pad 34 is performed every predetermined number of polishing times or at predetermined time intervals All.

다음에, 유리판 국소 연마 방법에 대해 설명한다.Next, the glass plate local polishing method will be described.

우선, 각 장치를 거쳐 제조된 유리판(G)은 도 2의 (a)에 도시한 반송 수단(5)에 의해 전체면 연마 장치(7)로 반송되어, 유리판(G)의 외형 크기보다 큰 외형 크기를 갖는 연마 패드에 의해 전체면이 연마된다.First, the glass plate G produced through each device is transported to the entire surface polishing apparatus 7 by the transporting means 5 shown in Fig. 2 (a) The entire surface is polished by a polishing pad having a size.

또한, 연속식 연마 장치에 의한 전체면 연마인 경우는 유리판(G)보다 작은 외형을 갖는 복수의 연마 패드를, 유리판(G)의 반송 방향을 따라 지그재그 형상으로 배치하여, 복수의 연마 패드에 의해 유리판(G)의 전체면을 연마한다.In the case of the whole surface polishing by the continuous polishing apparatus, a plurality of polishing pads having an outer shape smaller than the glass plate G are arranged in a zigzag shape along the carrying direction of the glass plate G, The whole surface of the glass plate (G) is polished.

계속해서, 전체면 연마된 유리판(G)은 도시하지 않은 세정 장치에 의해 세정되고, 반송 수단에 의해 반송되어 검출 수단(4)의 하방을 통과한다. 이때, 광학식의 검출 장치인 검출 수단(4)에서는 레이저광 등에 의해 유리판(G)의 표면의 손상이나 굴곡 등의 결함의 위치, 크기 등을 검출하고, 검출된 손상이나 굴곡에 관한 데이터가 제어 수단(6)에 기억된다.Subsequently, the glass plate G polished on the entire surface is cleaned by a cleaning device (not shown), conveyed by the conveying means, and passes under the detection means 4. At this time, the detecting means 4, which is an optical detecting device, detects the position and size of defects such as damage or bending of the surface of the glass plate G by laser light or the like, (6).

검출 수단(4)에 의해 결함이 확인된 유리판(G)은, 국소 연마 장치(1)의 흡착 패드(13) 상 또는 국소 연마 장치(45)의 흡착 패드(53) 상으로 반송되어 흡착 고정된다.The glass plate G whose defect has been confirmed by the detecting means 4 is conveyed onto the adsorption pad 13 of the local polishing apparatus 1 or onto the adsorption pad 53 of the local polishing apparatus 45 and adsorbed and fixed .

이때, 유리판(G)은 도 6의 (a), (b)에 도시한 바와 같이, 결함(D)이 흡착 패드(13) 또는 흡착 패드(53)에 형성된 흡착용의 오목부(57) 상에 배치되어 흡착 고정되지 않도록, 제어 수단(6)이 결함(D)의 위치 데이터에 기초하여 반송 수단(5)을 제어하여 유리판(G)이 반송된다. 이에 의해, 오목부(57)에서의 흡인에 의해 약간 유리판(G)이 만곡되어도 오목부(57) 상에 결함(D)이 배치되어 있지 않으므로 확실하게 연마 패드(34)와 접촉하여 연마되어, 연마 잔류의 발생을 피할 수 있으므로 고정밀도의 연마가 가능해진다.6 (a) and 6 (b), the glass plate G is formed on the concave portion 57 for adsorption formed on the adsorption pad 13 or the adsorption pad 53 The control means 6 controls the conveying means 5 on the basis of the position data of the defect D so that the glass plate G is conveyed. Thus, even if the glass plate G is slightly curved due to the suction of the concave portion 57, the defect D is not disposed on the concave portion 57, so that it is reliably brought into contact with the polishing pad 34 and polished, The occurrence of polishing residue can be avoided, and high-precision polishing becomes possible.

계속해서, 유리판(G)이 흡착 고정된 국소 연마 장치(1) 또는 국소 연마 장치(45)에서는, 복수대의 연마기(3) 또는 연마기(47)에 의해 연속적으로 연마가 행해진다. 우선, X 이동축(41)과, 테이블(2) 또는 테이블(46), 또는 Y 이동축(54, 54)에 의해 자전 운동, 공전 운동함과 함께 요동 운동하는 연마 헤드(28)의 요동 스트로크의 중심 또한 공전 궤도의 중심 위치에 결함(D)이 맞추어지도록, 결함(D)의 위치 데이터에 기초하여 XY 방향으로 위치 맞춤이 행해진다. XY 방향으로 위치 맞춤된 후, 잭(44) 또는 잭(55)을 신축시킴으로써 연마기(3) 또는 연마기(47)를 상하 이동시켜, 유리판(G)에 대한 연마 헤드(28)의 위치를 조정한다.Subsequently, in the local polishing apparatus 1 or the local polishing apparatus 45 to which the glass plate G is adhered and fixed, polishing is continuously performed by a plurality of polishing machines 3 or a polishing machine 47. [ First, the swinging stroke of the polishing head 28, which swings together with the X moving shaft 41 and the table 2 or the table 46 or the Y moving shafts 54, Alignment is performed in the X and Y directions based on the position data of the defect D so that the center D of the defect D is aligned with the center position of the orbit. The position of the polishing head 28 with respect to the glass plate G is adjusted by vertically moving the polishing machine 3 or the polishing machine 47 by extending or retracting the jack 44 or the jack 55 .

위치가 조정된 연마 헤드(28)에서는, 소정의 연마 압력으로 되도록 공기 스프링(31)으로 보내지는 에어량이 조정되고, 연마 패드(34)와 유리판(G) 사이에 연마 슬러리가 슬러리 통로(36)로부터 공급된다.The amount of air fed to the air spring 31 is adjusted so that the polishing pressure is adjusted to a predetermined polishing pressure and the polishing slurry is supplied to the slurry passage 36 between the polishing pad 34 and the glass plate G, .

소정의 연마 압력으로 유리판(G)으로 연마 패드(34)를 가압한 연마 헤드(28)는, 주축(14)과 출력축(18)의 구동에 의해 자전 공전 운동을 행하여, X 이동축(41)에 의해 X 방향으로 요동 운동한다. 또한, 유리판(G)이 테이블(2) 또는 테이블(46)에 의해 Y 방향으로 요동 운동하는 Y 이동축(54, 54)에 의해 연마 헤드(28)가 Y 방향으로 요동 운동함으로써, 유리판(G)은 연마 패드(34)의 자전 궤적, 공전 궤적, XY 궤적의 복합 궤적에 의해 연마된다.The polishing head 28 pressing the polishing pad 34 with the glass plate G at a predetermined polishing pressure performs rotational orbital motion by driving the main shaft 14 and the output shaft 18 to rotate the X- Thereby oscillating in the X-direction. The polishing head 28 oscillates in the Y direction by the Y moving shafts 54 and 54 in which the glass plate G oscillates in the Y direction by the table 2 or the table 46, Is polished by the composite locus of the rotation locus, the revolving locus, and the XY locus of the polishing pad 34.

연마 조건으로서는, 연마 헤드(28)의 자전 회전수를 1 내지 10rpm, 공전 회전수를 100 내지 400rpm, 공전 반경을 30 내지 60mm, XY 방향의 요동 스트로크를 20 내지 40mm, 연마 패드(34)에 부여되는 연마 압력을 10 내지 15KPa로 하는 것이 바람직하다.As the polishing conditions, the number of rotations of the polishing head 28 is set to 1 to 10 rpm, the revolving speed to 100 to 400 rpm, the radius of revolution to 30 to 60 mm, the oscillation stroke in the XY direction to 20 to 40 mm, The polishing pressure is preferably 10 to 15 KPa.

유리판(G)은, 복합 궤적에 의해 연마됨으로써 단일의 운동 궤적에서의 궤적의 불균일에 의한 연마 불균일이 해소된다. 또한, 연마 패드(34)는 유리판(G)의 외형 크기보다 작은 외형 크기로 형성되어 있으므로, 유리판(G)이 국소적으로 연마됨과 함께, XY 방향의 요동 운동에 의해 국소 연마 부분 주변이 완만하게 형성된다.The glass plate (G) is polished by the composite locus, thereby eliminating the polishing unevenness due to the unevenness of the locus in a single motion locus. Since the polishing pad 34 is formed to have an outer size smaller than the outer size of the glass plate G, the glass plate G is locally polished and the periphery of the local polishing area is gently moved .

국소 연마 후의 유리판(G)은 도시하지 않은 세정 장치에 의해 세정되어 유리 제품으로 된다.The glass plate G after the local polishing is cleaned by a cleaning device (not shown) to be a glass product.

이와 같이, 검출 수단(4)에 의해 손상이나 굴곡 등의 결함을 미리 검출하여 검출된 결함과 그의 주위를 국소적으로 연마함으로써 전체면을 재연마하지 않고 결함을 제거하는 것이 가능해져, 연마 품질을 안정시키고, 생산 효율을 향상시키는 것이 가능해진다.As described above, the defects such as damage and bending are detected in advance by the detecting means 4 and the defects detected locally and the periphery thereof are locally polished, thereby making it possible to remove defects without refurbishing the entire surface. And the production efficiency can be improved.

또한, 도 2의 (b)에 도시한 바와 같이 전체면 연마 장치(7)의 전공정에 있어서 국소 연마 장치(1) 또는 국소 연마 장치(45)를 구비하고, 특히 깊은 손상 등 전체면 연마에서 연마 잔류가 발생하기 쉬운 위치를 미리 검출 수단(4)에 의해 검출하고, 해당하는 결함과 그의 주위를 미리 국소 연마함으로써 전체면 연마에서의 연마 잔류를 없애, 연마 품질을 안정시키고, 생산 효율을 향상시키는 것이 가능해진다.As shown in Fig. 2 (b), the local polishing apparatus 1 or the local polishing apparatus 45 is provided in the previous step of the whole surface polishing apparatus 7, and in particular, The position at which the polishing residue is likely to occur is detected by the detecting means 4 in advance and the defect and the periphery thereof are locally polished in advance to eliminate the polishing residue in the whole surface polishing to stabilize the polishing quality and to improve the production efficiency .

다음에 유리 제품의 제조 장치 및 유리 제품의 제조 방법에 대해 설명한다. 유리 제품 제조 장치에서는, 용융 유리 제조 장치, 성형 수단, 제냉 수단, 절단 수단 및 전술한 국소 연마 장치(1) 또는 국소 연마 장치(45)를 구비하고 있다.Next, a manufacturing apparatus for a glass product and a manufacturing method for a glass product will be described. The glass product manufacturing apparatus includes a molten glass production apparatus, a molding means, a cooling means, a cutting means, and the above-described local polishing apparatus 1 or local polishing apparatus 45.

용융 유리 제조 장치, 성형 수단, 제냉 수단으로서는, 용융로에서 용융된 용융 유리를 용융 주석이 가득 채워진 플로트 배스에 유입하고, 용융 유리가 용융 주석액 상에서 유연되어 평형 두께로 됨과 함께 평탄화되어 유리 리본으로 되고, 서냉로 내의 레어 롤러(lehr roller)에 의해 반송되면서 실온까지 서냉되는 플로트 유리 제조 방법을 이용한 장치가 이용 가능하다.As the molten glass producing apparatus, the forming means, and the quenching means, the molten glass melted in the melting furnace is introduced into a float bath filled with molten tin, and the molten glass is smoothed on the molten tin solution to become a flat thickness, An apparatus using a float glass manufacturing method in which the substrate is slowly cooled to room temperature while being conveyed by a lehr roller in a slow cooling furnace is usable.

이러한 유리 제품 제조 장치에 의한 유리 제품의 제조 방법으로서는, 우선 용융로에서 각종 원료가 용융되어 용융 유리가 제조된다(도 7에 나타낸 스텝 S1).As a method of manufacturing a glass product by such a glass product manufacturing apparatus, various raw materials are first melted in a melting furnace to produce a molten glass (step S1 shown in Fig. 7).

용융된 용융 유리는 플로트 배스에 유입된다. 플로트 배스에는 용융 주석이 가득 채워져 있고, 플로트 배스에 유입된 용융 유리는, 용융 주석액 상에서 잡아 늘여져 소정의 두께가 됨과 함께 평탄화되어 유리 리본으로 성형된다(스텝 S2).The melted molten glass flows into the float bath. The molten tin is filled in the float bath, and the molten glass introduced into the float bath is stretched on the molten tin solution to have a predetermined thickness, and is flattened and formed into a glass ribbon (step S2).

플로트 배스의 후단에는, 유리 리본을 플로트 배스로부터 인출하여 서냉로에 반입하는 리프트 아웃 롤러가 설치되어 있다. 이 리프트 아웃 롤러를 구동함으로써, 플로트 배스의 주석액 상에서 잡아 늘여진 용융 유리는, 서냉로의 방향으로 인장되면서 플로트 배스의 하류측으로 일정 폭의 리본 형상으로 되어 진행한다. 리본 형상으로 형성된 유리(유리 리본)는, 플로트 배스로부터 서냉로에 반입되어, 서냉로 내의 레어 롤러에 의해 반송되면서 실온까지 서냉된다. 이에 의해, 플로트 배스에서 리본 형상으로 형성될 때에 발생한 잔류 응력이 균일화된다(스텝 S3).At the rear end of the float bath, there is provided a lift-out roller that draws the glass ribbon from the float bath to carry it into the annealing furnace. By driving the lift-out roller, the molten glass stretched on the tin solution of the float bath is stretched in the direction of the slow cooling furnace and progresses to a ribbon shape having a constant width on the downstream side of the float bath. The glass (glass ribbon) formed in a ribbon shape is transferred from the float bath to the gradual cooling furnace, and is slowly cooled to room temperature while being conveyed by the rare roller in the gradual cooling furnace. Thereby, the residual stress generated when the float bath is formed into a ribbon shape is made uniform (step S3).

서냉로를 통과한 유리 리본은 절단 장치에 의해 소정 크기의 유리판으로 절단된다(스텝 S4).The glass ribbon having passed through the annealing furnace is cut into a glass plate of a predetermined size by a cutting device (step S4).

절단 후의 판유리는 반송 수단(5)에 의해 국소 연마 장치(1) 또는 국소 연마 장치(45)로 반송되어 연마가 행해짐으로써 소정의 조건을 만족시키는 유리 제품으로 된다(스텝 S5).The glass plate after the cutting is conveyed to the local polishing apparatus 1 or the local polishing apparatus 45 by the conveying means 5 and is polished to become a glass product satisfying a predetermined condition (step S5).

이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 관한 유리판 국소 연마 장치, 유리판 국소 연마 방법, 유리 제품의 제조 장치 및 유리 제품의 제조 방법에 따르면, 손상이나 굴곡 등의 결함을 미리 검출하여 검출된 결함과 그의 주위를 국소적으로 연마함으로써, 전체면 연마하지 않고도 결함이 제거되어, 적은 시간에 안정된 높은 연마 품질을 얻을 수 있다. 따라서 생산 효율을 향상시키는 것이 가능해진다.INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, according to the glass plate local polishing apparatus, the glass plate local polishing method, the glass article manufacturing apparatus, and the glass article manufacturing method according to the present invention, defects such as damage and bending are detected in advance, By locally polishing, the defects are removed without polishing the entire surface, and stable high polishing quality can be obtained in a short time. Therefore, it becomes possible to improve the production efficiency.

도 11은, 다른 실시 형태의 국소 연마 장치(60)의 구성을 도시한 주요부 측면도이다. 이 국소 연마 장치(60)의 구성을 설명하는 데 있어서, 도 3에 도시한 국소 연마 장치(1)와 동일 또는 유사한 부재에 대해서는 동일한 부호를 부여하여 설명한다.11 is a side view of a main part showing a structure of a local polishing apparatus 60 according to another embodiment. In describing the structure of the local polishing apparatus 60, the same or similar members as those of the local polishing apparatus 1 shown in Fig. 3 are denoted by the same reference numerals.

도 11에 도시한 국소 연마 장치(60)에 따르면, 테이블(2)이 수평 방향에 대해 경사져 배치되고, 이 테이블(2)에 보유 지지된 흡착 패드(13)에 연마 패드(34)가 대향하여 배치되어 있다.According to the local polishing apparatus 60 shown in Fig. 11, the table 2 is inclined with respect to the horizontal direction, and the polishing pad 34 is opposed to the adsorption pad 13 held on the table 2 Respectively.

이 국소 연마 장치(60)와 같이, 테이블(2) 및 연마 패드(34)를 경사지게 하여 배치하면, 평면에서 보아 국소 연마 장치(60)의 설치 공간을 공간 절약화할 수 있다. 또한, 테이블(2)의 경사 각도 θ는, 수평선을 0°로 한 경우, 0°<θ≤90°이다.When the table 2 and the polishing pad 34 are disposed so as to be inclined as in the local polishing apparatus 60, the space for installing the local polishing apparatus 60 can be saved in a plan view. The inclination angle [theta] of the table 2 is 0 DEG &amp;thetas; 90 DEG when the horizontal line is 0 DEG.

도 12에는 연마 헤드의 다른 실시 형태를 도시한 연마 헤드(70)의 측면도가 도시되어 있다. 이 연마 헤드(70)는 지지 플레이트(72), 중앙 공기 스프링(74), 외주 공기 스프링(76) 및 연마 플레이트 고정부(78) 등으로 구성된다. 연마 플레이트 고정부(78)에는, 연마 패드(80)가 장착된 연마 플레이트(82)가 흡착 고정된다.12 is a side view of the polishing head 70 showing another embodiment of the polishing head. The polishing head 70 includes a support plate 72, a central air spring 74, an outer peripheral air spring 76, and a polishing plate fixing portion 78. An abrasive plate 82 to which a polishing pad 80 is attached is fixed to the abrasive plate fixing portion 78 by suction.

또한, 도 12에는 도시하고 있지 않지만, 중앙 공기 스프링(74) 및 외주 공기 스프링(76)은 개별로 에어 펌프에 접속되어 있다. 에어 펌프로부터 중앙 공기 스프링(74)에 압축 에어가 공급되면, 중앙 공기 스프링(74)이 팽창되므로, 연마 플레이트 고정부(78)로부터 연마 플레이트(82)를 통해 연마 패드(80)의 중앙부에 연마 압력이 부여된다. 또한, 에어 펌프로부터 외주 공기 스프링(76)에 압축 에어가 공급되면, 외주 공기 스프링(76)이 팽창되므로, 연마 플레이트 고정부(78)로부터 연마 플레이트(82)를 통해 연마 패드(80)의 외주부에 연마 압력이 부여된다.Although not shown in Fig. 12, the central air spring 74 and the outer peripheral air spring 76 are individually connected to the air pump. The central air spring 74 is expanded from the air pump to the central air spring 74 so that the central air spring 74 is abraded from the abrasive plate fixing portion 78 through the abrasive plate 82, Pressure is applied. When the compressed air is supplied from the air pump to the outer circumferential air spring 76, the outer circumferential air spring 76 is inflated, so that the outer circumferential surface of the polishing pad 80 from the polishing plate fixing portion 78 through the polishing plate 82, A polishing pressure is applied.

중앙 공기 스프링(74)의 팽창량을 외주 공기 스프링(76)의 팽창량보다 크게 설정하면, 연마 패드(80)의 표면은, 아래로 볼록한 곡면 형상으로 변형된다. 이 상태의 연마 패드(80)를 사용하여 얻은 유리판(G)의 연마 상태를 도 13에 의해 설명한다. 우선, 도 13의 (a)에 도시한 바와 같은 국소적인 결함을 갖는 유리판을 곡면 상의 연마면을 갖는 연마 패드의 자전 운동만에 의해 연마한 결과를 도 13의 (b)에 도시하고, 자전 운동에 공전 운동(도 13의 (c): 공전 반경(r1))을 부가하여 연마한 경우의 결과를 도 13의 (d)에 도시한다. 이 경우, 연마 패드의 자전 운동만으로 연마된 유리판의 표면에 비해, 공전 반경(r1)에 의한 연마 범위의 증가분이 가해져, 연마면이 도 13의 (d)에 도시한 바와 같이 완만해진다. 또한, 연마 패드(80)의 표면을 아래로 볼록한 곡면 형상으로 변형한 채, 자전 운동과 공전 운동(공전 반경(r1))에 요동 운동(도 13의 (e): 요동 스트로크(L))을 부가하여 연마한 경우의 결과를 도 13의 (f)에 도시한다. 이에 의해, 도 13의 (e)에 도시한 요동 스트로크(L)에 의한 연마 범위의 증가분이 가해져, 도 13의 (f)에 도시한 바와 같이 연마면을 더 완만하게 하는 것이 가능해진다.When the amount of expansion of the central air spring 74 is set to be larger than the amount of expansion of the outer peripheral air spring 76, the surface of the polishing pad 80 is deformed into a downward convex curved surface. The polishing state of the glass plate G obtained by using the polishing pad 80 in this state will be described with reference to FIG. 13 (b) shows a result obtained by polishing a glass plate having local defects as shown in Fig. 13 (a) only by rotating the polishing pad having a curved polishing surface, and Fig. 13 Fig. 13 (d) shows the results obtained when the idle motion (Fig. 13 (c): revolving radius r1) was added and polished. In this case, an increase in the polishing range due to the radius of revolution r1 is applied to the surface of the polished glass plate by only rotating the polishing pad, and the polished surface becomes gentle as shown in Fig. 13 (d). 13 (e): swinging stroke L) is imparted to the swinging motion and the orbital motion (revolving radius r1) while deforming the surface of the polishing pad 80 into a convex curved surface Fig. 13 (f) shows the results of polishing in addition. As a result, an increase in the polishing range by the swing stroke L shown in Fig. 13 (e) is applied, and it becomes possible to make the polishing surface more gentle as shown in Fig. 13 (f).

또한, 연마 패드(80)의 표면을, 전술한 바와 같이 아래로 볼록한 곡면 형상으로 변형시키는 방법은, 상기 방법에 한정되는 것은 아니다.The method of deforming the surface of the polishing pad 80 into a convex curved surface shape as described above is not limited to the above method.

예를 들어, 연마 패드(80)의 트루잉시에 있어서, 중앙 공기 스프링(74)보다 외주 공기 스프링(76)을 팽창시키면, 연마 패드(80)는, 그의 표면 형상으로서 위로 볼록한 곡면 형상으로 된 형태에서 트루잉된다. 그리고, 트루잉 후에, 중앙 공기 스프링(74) 및 외주 공기 스프링(76)의 연마 압력을 대략 동등하게 설정하면, 연마 패드(80)의 표면 형상은, 연마 패드(80)의 외주부가 중앙부보다 많이 트루잉되고 있기 때문에, 아래로 볼록한 곡면 형상으로 된다. 이러한 연마 패드(80)를 사용하여 자전 운동만에 의해 연마하면, 도 13의 (b)에 도시한 바와 같이 유리판(G)의 연마면이 완만해진다. 또한 연마 헤드(70)의 자전 운동에 부가하여 공전 운동과 요동 운동을 부가함으로써, 도 13의 (f)에 도시한 연마면보다 더 완만하게 할 수 있다.For example, when tilting the polishing pad 80, when the peripheral air spring 76 is inflated with respect to the central air spring 74, the polishing pad 80 has a convex curved surface shape as its surface shape Trues in form. When the polishing pressure of the central air spring 74 and the outer peripheral air spring 76 is set to be substantially equal after the truing, the surface shape of the polishing pad 80 is set so that the outer peripheral portion of the polishing pad 80 is larger Since it is truing, it becomes a convex curved surface shape downward. When the polishing pad 80 is polished by only rotating motion, the polished surface of the glass plate G becomes gentle as shown in Fig. 13 (b). Further, in addition to the rotating motion of the polishing head 70, by adding the idle motion and the swinging motion, it is possible to make it more gentle than the polishing surface shown in FIG. 13 (f).

또한, 연마 패드(80)의 트루잉시에, 연마 패드(80)의 자전 회전수를 연마시보다 높게(예를 들어 30배) 설정하여, 연마 패드(80)의 중앙부와 외주부에 주속도의 차를 크게 한 상태에서 트루잉하는 것에 의해서도, 연마 패드(80)는 아래로 볼록한 곡면 형상으로 된다.When the polishing pad 80 is trued, the number of revolutions of the polishing pad 80 is set to be higher (for example, 30 times) than that during polishing, so that the peripheral portion of the polishing pad 80 The polishing pad 80 also has a curved convex shape that is convex downward by truing the car in a large size.

이상과 같이, 연마 패드(80)의 표면을 아래로 볼록한 곡면 형상으로 변형시켜, 유리판을 연마함으로써, 도 10에서 도시한 연마면보다 완만한 연마면으로 할 수 있다.As described above, the surface of the polishing pad 80 is deformed into a curved convex shape downward, and the glass plate is polished to obtain a gentle polishing surface than the polishing surface shown in Fig.

이들의 연마 패드(80)의 표면을 아래로 볼록한 곡면 형상으로 변형시키는 방법은 단독으로 또는 조합해도 된다. 조합으로서는 특별히 한정되지 않는다.The method of deforming the surface of the polishing pad 80 into a downward convex curved surface shape may be used alone or in combination. The combination is not particularly limited.

한편, 연마 헤드(70)를 출력축에 대해, 구면 베어링을 통해 요동 가능하게 연결하고, 상기 출력축에 대해 요동하면서 유리판(G)을 연마하는 것에 의해서도 유리판(G)의 연마면을 완만하게 할 수 있다.On the other hand, the polishing surface of the glass plate G can be made gentle by connecting the polishing head 70 to the output shaft in such a manner that the polishing head 70 can swing through the spherical bearing and swinging the glass plate G with respect to the output shaft .

1, 45, 60: 국소 연마 장치
2, 46: 테이블
3, 47: 연마기
4: 검출 수단
5: 반송 수단
6: 제어 장치
7: 전체면 연마 장치
8, 48: 가이드 블록
9, 49: 베이스
10, 50: 가이드 레일
11, 51: 랙
12, 52: 피니언
13, 53: 흡착 패드
14: 주축
14A: 삽입 관통 구멍
15, 19: 베어링
16: 케이싱
17: 자전 공전부 본체
18, 27, 40: 출력축
20, 21, 23: 기어
22: 축
24: 아이들 기어
25: 출력 기어
26: 공전용 모터
28, 70: 연마 헤드
29: 로터리 조인트
30, 72: 지지 플레이트
31: 공기 스프링
32: 적층 고무
33, 78: 연마 플레이트 고정부
34, 80: 연마 패드
35, 82: 연마 플레이트
36: 슬러리 통로
37: 에어 통로
38: 유니버설 조인트
39: 자전용 모터
41: X 이동축
42: X 테이블
43: 포스트
44, 55: 잭
54: Y 이동축
56: 슬러리 받음부
57: 오목부
G: 유리판
O1, O2: 축심
74: 중앙 공기 스프링
76: 외주 공기 스프링1, 45, 60: local polishing machine
2, 46: table
3, 47: Polishing machine
4: Detection means
5:
6: Control device
7: Whole surface grinding device
8, 48: guide block
9, 49: Base
10, 50: Guide rail
11, 51: rack
12, 52: pinion
13, 53: Adsorption pad
14:
14A: Insertion hole
15, 19: Bearings
16: casing
17:
18, 27, 40: Output shaft
20, 21, 23: gear
22: Axis
24: idle gear
25: Output gear
26: Ball motor
28, 70: Polishing head
29: Rotary joint
30, 72: Support plate
31: air spring
32: laminated rubber
33, 78: abrasive plate fixing portion
34, 80: Polishing pad
35, 82: abrasive plate
36: Slurry passage
37: Air passage
38: Universal joint
39: self-propelled motor
41: X movement axis
42: X table
43: Post
44, 55: Jack
54: Y movement axis
56: Slurry receiving part
57:
G: Glass plate
O 1 , O 2 : axial center
74: Central air spring
76: Outside air spring

Claims (10)

유리판이 흡착 고정되는 테이블과,
상기 테이블에 고정된 상기 유리판 표면을 연마하는 상기 유리판의 외형 크기보다 작은 외형 크기의 연마 패드와,
상기 연마 패드를 자전 운동시킴과 함께 공전 운동시키고, 또한 상기 유리판의 면 방향으로 요동 운동시키는 구동 수단과,
상기 유리판과 상기 연마 패드 사이에 연마 슬러리를 공급하는 슬러리 공급 수단과,
상기 유리판 표면의 결함을 검출하는 검출 수단과,
검출된 상기 결함의 위치로 상기 구동 수단에 의해 상기 연마 패드를 이동시켜 상기 결함과 그의 주위를 연마시키는 제어 수단과,
상기 테이블의 표면에 형성된 상기 유리판을 흡착하는 복수의 오목부와,
상기 결함이 상기 오목부 상에 배치되어 흡착 고정되지 않도록 상기 제어 수단에 의해 제어되어 상기 유리판을 반송하는 반송 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 유리판 국소 연마 장치.A table on which a glass plate is adhered and fixed,
A polishing pad having an outer size smaller than an outer size of the glass plate that polishes the glass plate surface fixed to the table;
A driving means for causing the polishing pad to revolve while performing idle motion and causing the polishing pad to swing in the surface direction of the glass plate,
A slurry supply means for supplying a polishing slurry between the glass plate and the polishing pad,
Detecting means for detecting defects on the surface of the glass plate,
Control means for moving the polishing pad by the driving means to the detected position of the defect to polish the defect and its periphery,
A plurality of concave portions for absorbing the glass plate formed on the surface of the table,
And a conveying means for conveying the glass plate under the control of the control means so that the defect is disposed on the concave portion and not sucked and fixed. 제1항에 있어서, 상기 테이블은 수평으로 배치되고, 상기 테이블의 상방에 상기 연마 패드가 배치되어 있는 유리판 국소 연마 장치.The glass plate local polishing apparatus according to claim 1, wherein the table is horizontally disposed, and the polishing pad is disposed above the table. 제1항에 있어서, 상기 테이블은 수평으로 배치되고, 상기 테이블의 하방에 상기 연마 패드가 배치되어 있는 유리판 국소 연마 장치.The glass plate local polishing apparatus according to claim 1, wherein the table is horizontally arranged, and the polishing pad is disposed below the table. 제3항에 있어서, 상기 연마 패드의 주위에는 상기 연마 슬러리를 받는 슬러리 받음부가 설치되어 있는 유리판 국소 연마 장치.The glass plate local polishing apparatus according to claim 3, wherein a slurry receiving section for receiving the polishing slurry is provided around the polishing pad. 제1항에 있어서, 상기 테이블은 수평 방향에 대해 경사져 배치되고, 상기 테이블에 대향하여 상기 연마 패드가 배치되어 있는 유리판 국소 연마 장치.The glass plate local polishing apparatus according to claim 1, wherein the table is inclined with respect to a horizontal direction, and the polishing pad is disposed opposite to the table. 제2항에 있어서, 상기 연마 패드의 표면이 아래로 볼록한 곡면 형상으로 변형되어 있는 유리판 국소 연마 장치.The glass plate local polishing apparatus according to claim 2, wherein the surface of the polishing pad is deformed into a curved surface shape convex downward. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유리판의 전체면을 연마하는 유리판 전체면 연마 장치를 구비하고 있는 유리판 국소 연마 장치.The glass plate local polishing apparatus according to any one of claims 1 to 6, further comprising a glass plate overall surface polishing apparatus for polishing the entire surface of the glass plate. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 유리판 국소 연마 장치에 의해 유리판을 연마하는 유리판 국소 연마 방법.A glass plate local polishing method for polishing a glass plate by the glass plate local polishing apparatus according to any one of claims 1 to 6. 용융 유리 제조 장치와, 용융된 유리를 유리 리본으로 성형하는 성형 수단과, 성형 후의 유리 리본을 서냉하는 서냉 수단과, 서냉 후의 유리 리본을 소정의 형상의 판 유리로 절단하는 절단 수단과, 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 유리판 국소 연마 장치를 구비하는 유리 제품의 제조 장치.A cooling means for slowly cooling the glass ribbon after molding, a cutting means for cutting the glass ribbon after gradual cooling into a plate glass having a predetermined shape, And the glass plate local grinding apparatus according to any one of claims 1 to 6. 제9항에 기재된 유리 제품의 제조 장치에 의해 유리 제품을 제조하는 유리 제품의 제조 방법.A process for producing a glass product by the production apparatus for a glass product according to claim 9.
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