KR101795967B1 - 균일처리유닛 및 이를 포함하는 강판 표면 처리장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 균일처리유닛은 강판이 통과하게 구비되는 챔버부재, 상기 챔버부재에 구비되며, 상기 강판의 폭 방향 상면 중앙부에 표면처리액을 분사하여, 상기 중앙부에서 상기 강판의 폭 방향 상면 에지부로 표면처리액을 유동시키는 노즐부재 및 상기 강판의 상면에서 흘러내린 상기 표면처리액을 일시적으로 체류시키도록, 상기 챔버부재에 횡 방향으로 구비되는 분리판부재를 포함할 수 있다.

Description

균일처리유닛 및 이를 포함하는 강판 표면 처리장치{Uniform treating unit and pickling apparatus having thereof}
본 발명은 균일처리유닛 및 이를 포함하는 강판 표면 처리장치에 관한 것이다.
통상적으로 열연강판의 경우에, 열처리되어 압연되는 과정에서 강판의 표면에 스케일이 생성된다. 따라서, 이를 제거하지 않으면 후에 수행되는 냉간 압연 공정에서 압연 롤에 스케일이 말려 들어가 강판 표면을 손상시키는 문제를 발생시키므로, 강판 표면의 스케일을 제거하는 것은 필수 불가결한 공정에 해당한다.
이러한 스케일 제거 공정에 관하여 종래에는, 복수의 산성 용액 중에 강판을 침지하고 연속으로 통과시켜서, 스케일을 제거하는 산세 공정을 수행하였다.
그런데, 최근에는 실리콘 또는 망간 등의 함량이 증대된 고장력 강판 또는 전기강판의 생산량이 증가함에 따라 산세 공정의 생산능력 향상이 필요하게 되었다.
다시 말해, 상기 고급강판들은 표면과 스케일 사이에 실리콘이 포함되어 있어, 종래 스케일 제거방법으로 스케일을 제거할 때, 일반 강판에 비하여 제거하는 시간이 오래 걸리는 단점이 있어 이의 개선이 필요하게 된 것이다.
또한, 이로 인해 기존의 산세 공정은 고급강판의 스케일 제거를 위해 산세 속도를 낮추어 작업하여야 하기 때문에, 생산량을 저하시키는 문제를 야기하게 된다.
한편, 산세속도를 향상시키기 위하여 종래에는, 산탱크유닛의 측면에서 염산용액을 분사하여 열연강판 표면에 신선한 염산 용액을 연속적으로 공급하는 방법을 사용하였다.
그러나, 산탱크유닛의 측면에서 염산 용액을 분사할 때, 열연강판의 중심부까지 분사된 염산 용액이 충분히 공급되지 않으며, 염산 용액이 열연강판의 상면과 하면에 균일하게 공급되지 않기 때문에 균일 산세가 되지 않아, 산세 효율이 저하되고 산세 공정에 시간이 많이 소요되는 문제가 발생하였다.
따라서, 전술한 문제를 해결하기 위한 균일처리유닛 및 이를 포함하는 강판 표면 처리장치에 대한 연구가 필요하게 되었다.
본 발명의 목적은 강판에 대하여 표면처리액을 균일하게 공급할 수 있으며, 그에 따른 산세 효율을 높이는 균일처리유닛 및 이를 포함하는 강판 표면 처리장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 균일처리유닛은 강판이 통과하게 구비되는 챔버부재, 상기 챔버부재에 구비되며, 상기 강판의 폭 방향 상면 중앙부에 표면처리액을 분사하여, 상기 중앙부에서 상기 강판의 폭 방향 상면 에지부로 표면처리액을 유동시키는 노즐부재 및 상기 강판의 상면에서 흘러내린 상기 표면처리액을 일시적으로 체류시키도록, 상기 챔버부재에 횡 방향으로 구비되는 분리판부재를 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 균일처리유닛의 상기 분리판부재에는, 상기 강판의 폭 방향 중앙부에 대면하는 부분에 유도홀이 형성되어, 상기 강판의 폭 방향 하면 중앙부로 상기 표면처리액의 유동을 유도하는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 균일처리유닛의 상기 유도홀은, 상기 강판의 길이 방향으로 긴 슬롯 형상으로 상기 분리판부재에 구비되는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 균일처리유닛의 상기 분리판부재는, 상기 유도홀을 향하여 경사지게 구비된 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 균일처리유닛의 상기 노즐부재는, 상기 강판보다 상부에 위치하도록, 상기 챔버부재의 측벽 상단부에 구비되며, 상기 강판의 폭 방향 중앙부를 향하여 경사진 형태로 제공되는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 균일처리유닛의 상기 노즐부재는, 상기 강판의 상면에 대면하는 상기 챔버부재의 상측 중앙부에 구비되는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 균일처리유닛의 상기 노즐부재는, 상기 강판에 대한 표면 처리 속도를 조정하도록, 분사되는 상기 표면처리액의 유량을 조정하게 제공되는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 균일처리유닛의 상기 챔버부재의 하부에는 외부의 순환탱크유닛과 연통되는 순환배관이 구비되는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 강판 표면 처리장치는 상기 균일처리유닛 및 상기 강판의 이동 경로 상에서 상기 균일처리유닛의 전단 또는 후단에 구비되는 산탱크유닛을 포함할 수 있다.
본 발명의 균일처리유닛 및 이를 포함하는 강판 표면 처리장치는 강판에 대하여 표면처리액을 균일하게 공급할 수 있는 이점이 있다.
이에 의해서, 강판에 대한 산세 속도를 향상시킬 수 있어, 산세 제품에 대한 생산량을 증가시킬 수 있는 효과를 가질 수 있다.
또한, 균일한 산세 작업에 의해서 산세 제품의 품질을 향상시킬 수 있는 효과도 가질 수 있게 된다.
도 1은 본 발명의 균일처리유닛을 도시한 정면도이다.
도 2는 본 발명의 균일처리유닛을 도시한 측면도이다.
도 3은 본 발명의 균일처리유닛을 도시한 평면도이다.
도 4는 본 발명의 균일처리유닛에서 노즐부재가 챔버부재의 상부에 구비된 실시예를 도시한 정면도이다.
도 5는 본 발명의 균일처리유닛이 순환탱크유닛과 연결된 실시예를 도시한 정면도이다.
도 6은 본 발명의 균일처리유닛이 산탱크유닛과 연결된 실시예를 도시한 측면도이다.
이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시예를 상세하게 설명한다. 다만, 본 발명의 사상은 제시되는 실시예에 제한되지 아니하고, 본 발명의 사상을 이해하는 당업자는 동일한 사상의 범위 내에서 다른 구성요소를 추가, 변경, 삭제 등을 통하여, 퇴보적인 다른 발명이나 본 발명 사상의 범위 내에 포함되는 다른 실시예를 용이하게 제안할 수 있을 것이나, 이 또한 본원 발명 사상 범위 내에 포함된다고 할 것이다.
또한, 각 실시예의 도면에 나타나는 동일한 사상의 범위 내의 기능이 동일한 구성요소는 동일한 참조부호를 사용하여 설명한다.
본 발명은 균일처리유닛(100) 및 이를 포함하는 강판 표면 처리장치에 관한 것으로, 강판(S)에 대하여 표면처리액을 균일하게 공급할 수 있으며, 이에 의해서 강판(S)에 대한 산세 속도를 향상시킬 수 있어, 산세 제품에 대한 생산량을 증가시킬 수 있고, 균일한 산세 작업에 의해서 산세 제품의 품질을 향상시킬 수 있다.
구체적으로, 도 1은 본 발명의 균일처리유닛(100)을 도시한 정면도이며, 도 2는 본 발명의 균일처리유닛(100)을 도시한 측면도로써, 이를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 균일처리유닛(100)은 강판(S)이 통과하게 구비되는 챔버부재(110), 상기 챔버부재(110)에 구비되며, 상기 강판(S)의 폭 방향 상면 중앙부에 표면처리액을 분사하여, 상기 중앙부에서 상기 강판(S)의 폭 방향 상면 에지부로 표면처리액을 유동시키는 노즐부재(120) 및 상기 강판(S)의 상면에서 흘러내린 상기 표면처리액을 일시적으로 체류시키도록, 상기 챔버부재(110)에 횡 방향으로 구비되는 분리판부재(130)를 포함할 수 있다.
다시 말해, 강판(S)에 분사되는 표면처리액의 유동을 조정하게 구성함으로써, 상기 강판(S)에 상기 표면처리액을 균일하게 제공할 수 있게 되는 것이다.
특히 상기 노즐부재(120)가 상기 강판(S)의 폭 방향 상면 중앙부에 표면처리액을 분사하고, 이렇게 분사된 표면처리액이 강판(S)의 폭 방향 상면 에지부로 흘러내리며, 이렇게 흘러내린 표면처리액을 상기 분리판부재(130)가 일시적으로 체류시킴으로써, 상기 강판(S)의 하면까지 표면처리액을 접촉시키며 제공할 수 있게 된다.
여기서, 상기 표면처리액은 염산 용액으로 제공될 수 있다. 즉, 상기 균일처리유닛(100)은 상기 강판(S) 표면에 있는 스케일 등의 이물질을 제거하는 산세 공정에서 사용될 수 있다.
상기 챔버부재(110)는 상기 강판(S)이 통과하며, 상기 표면처리액에 의하여 상기 강판(S)에 산세 작업을 수행하기 위한 공간을 제공하게 된다.
이를 위해서, 상기 챔버부재(110)는 상기 강판(S)이 통과하기 위한 통과홀이 형성될 수 있으며, 상기 강판(S)의 이동을 지지하기 위한 지지롤이 구비될 수 있다.
그리고, 상기 챔버부재(110)의 통과홀 외측에는 상기 강판(S)의 이동을 가이드하기 위한 가이드롤(R)이 구비될 수 있다.
여기서, 상기 가이드롤(R)은 상기 통과홀에 밀착되어 상기 챔버부재(110)의 통과홀을 통하여 상기 표면처리액이 이탈하는 것을 방지하게 구성될 수 있으며, 상기 챔버부재(110)에서 배출되는 강판(S) 상의 표면처리액을 제거하는 역할도 할 수 있다.
상기 노즐부재(120)는 상기 강판(S)으로 상기 표면처리액을 분사하는 역할을 하게 된다. 특히, 상기 노즐부재(120)는 상기 강판(S)의 폭 방향 상면 중앙부로 상기 표면처리액을 분사함으로써, 상기 강판(S)의 상면 전체에 균일하게 상기 표면처리액을 제공하게 유도할 수 있다.
다시 말해, 상기 노즐부재(120)가 상기 강판(S)의 폭 방향 중앙부로 상기 표면처리액을 공급하게 되면, 상기 강판(S)의 폭 방향 중앙부에 과밀한 상기 표면처리액은 상기 강판(S)의 폭 방향 에지부를 항하여 이동하게 되면서, 상기 강판(S)의 상면 전체로 퍼지게 구성할 수 있는 것이다.
이를 위해서, 상기 노즐부재(120)가 상기 챔버부재(110)의 측벽에 결합된 경우에는, 상기 노즐부재(120)는 상기 강판(S)의 폭 방향 상면 중앙부를 향하여 경사지게 제공될 수 있다.
즉, 본 발명의 일 실시예에 따른 균일처리유닛(100)의 상기 노즐부재(120)는, 상기 강판(S)보다 상부에 위치하도록, 상기 챔버부재(110)의 측벽 상단부에 구비되며, 상기 강판(S)의 폭 방향 중앙부를 향하여 경사진 형태로 제공되는 것을 특징으로 할 수 있다.
여기서, 상기 노즐부재(120)는 상기 표면처리액을 분사하기 위해서, 직경이 약 50mm인 원형 노즐로 제공될 수 있고, 상기 강판(S)보다 약 100mm 높은 상기 챔버부재(110)의 측벽에 구비될 수 있다.
그리고, 상기 노즐부재(120)는 0 ~ 180㎥/hr의 유량으로 상기 표면처리액을 분사할 수 있으며, 약 4bar 이상의 압력으로 분사될 수 있다.
한편, 상기 표면처리액을 상기 강판(S)의 폭 방향 상면 중앙부에 공급하기 위해서, 상기 노즐부재(120)는 상기 챔버부재(110)의 상측 중앙부에 구비될 수 있는데, 이에 대한 자세한 설명은 도 4를 참조하여 후술한다.
그리고, 상기 노즐부재(120)는 상기 강판(S)에 대한 산세 속도를 조절하기 위해서, 공급하는 공급 유량을 조정할 수 있는데, 이에 대한 자세한 설명은 도 5를 참조하여 후술한다.
상기 분리판부재(130)는 상기 노즐부재(120)에서 분사한 표면처리액이 상기 강판(S)의 상면에서 이탈하면, 상기 강판(S)의 하면에서 일시적으로 체류하게 구성됨으로써, 상기 강판(S)의 하면에 대하여 표면처리액이 접촉 공급될 수 있는 역할을 하게 된다.
이를 위해서, 상기 분리판부재(130)는 상기 챔버부재(110)의 횡 방향으로 구비될 수 있으며, 상기 강판(S)의 하면에 대면하게 구비된다.
한편, 상기 분리판부재(130)는 상기 강판(S)의 폭 방향 하면 에지부에서 흘러 내리는 상기 표면처리액을 상기 강판(S)의 폭 방향 하면 중앙부로 유도할 수 있도록 유도홀(131)이 형성되어 제공될 수 있다.
다시 말해, 본 발명의 일 실시예에 따른 균일처리유닛(100)의 상기 분리판부재(130)에는, 상기 강판(S)의 폭 방향 중앙부에 대면하는 부분에 유도홀(131)이 형성되어, 상기 강판(S)의 폭 방향 하면 중앙부로 상기 표면처리액의 유동을 유도하는 것을 특징으로 할 수 있다.
이와 같이 상기 분리판부재(130)의 중앙부에 상기 유도홀(131)이 형성되게 되면, 상기 강판(S)의 상면에서 이탈한 표면처리액은 상기 유도홀(131)을 통하여 상기 챔버부재(110)의 하부로 빠져나가려는 유동을 형성하게 된다.
이때, 상기 유도홀(131)이 상기 분리판부재(130)의 중앙부에 위치하게 되면, 상기 표면처리액은 상기 분리판부재(130)의 중앙부로 유동을 형성하게 된다.
이에 따라, 상기 강판(S)의 폭 방향 하면 중앙부로 상기 표면처리액이 유도되면서, 상기 표면처리액이 상기 강판(S)의 하면에 균일하게 접촉할 수 있게 된다.
이와 같은 상기 강판(S)과 상기 표면처리액의 균일 접촉에 의한 표면 처리 효과 상승은 상기 표면처리액이 염산 용액이고 상기 강판(S)에 대한 산세 공정인 일례에서 확인할 수 있다.
저탄소강 극저탄소강 전기강판
종래기술에 의한 제거량(g/㎡) 30 40 25
본 발명에 의한 제거량(g/㎡) 45 55 37
실험에서의 산세 속도는 약 250m/s이고, 스케일의 제거량은 산세 전의 무게와 산세 후의 무게의 차이를 시편의 면적으로 나눈 값으로 비교한 것이다.
이와 같은 결과로 비교하면, 종래기술에 비하여 본 발명에 의한 경우에 스케일의 제거량이 약 30% 증가함을 확인할 수 있다.
여기서, 상기 표면처리액이 상기 유도홀(131)로 이동하는 유동을 더욱 용이하게 형성하기 위해서, 상기 분리판부재(130)는 상기 유도홀(131)을 향하여 경사지게 구성될 수 있다.
다시 말해, 본 발명의 일 실시예에 따른 균일처리유닛(100)의 상기 분리판부재(130)는, 상기 유도홀(131)을 향하여 경사지게 구비된 것을 특징으로 할 수 있다. 이에 대하여는 도 1의 (b)에 도시되어 있다.
그에 반하여, 상기 분리판부재(130)가 수평하게 구비된 것은 도 1의 (a)에 도시된 실시예를 참조할 수 있다. 이렇게 상기 분리판부재(130)가 수평하게 구비되면 상기 표면처리액의 체류시간을 증가시킬 수 있게 된다.
그리고, 상기 유도홀(131)은 상기 챔버부재(110)를 통과하는 상기 강판(S)의 하면에 대하여 균일한 유동을 형성하기 위해서, 상기 강판(S)의 길이 방향으로 긴 슬롯 형태로 형성될 수 있는데, 이에 대한 자세한 설명은 도 3을 참조하여 후술한다.
도 3은 본 발명의 균일처리유닛(100)을 도시한 평면도로써, 이를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 균일처리유닛(100)의 상기 유도홀(131)은, 상기 강판(S)의 길이 방향으로 긴 슬롯 형상으로 상기 분리판부재(130)에 구비되는 것을 특징으로 할 수 있다.
이에 의해서, 상기 챔버부재(110)를 통과하는 상기 강판(S)의 하면에 대하여 균일한 유동을 형성할 수 있게 된다.
다시 말해서, 상기 강판(S)의 상면에서 이탈한 표면처리액은 상기 강판(S)의 상면 에지부로 이탈되며, 상기 강판(S)의 하면 에지부를 시작으로 상기 강판(S)의 하면으로 유동하게 된다.
이때, 상기 유도홀(131)이 상기 강판(S)의 길이 방향의 일측에만 구비되면, 상기 표면처리액의 유동의 속도의 차이가 발생하며, 상기 강판(S)의 길이 방향 하면에 대한 표면 처리 작용의 시간차를 발생하게 된다.
따라서, 상기 유도홀(131)을 강판(S)의 길이 방향으로 긴 슬롯 형상으로 구비함으로서, 상기 표면처리액을 상기 강판(S)의 길이 방향에 대하여 균일하게 유동할 수 있게 유도할 수 있다.
도 4는 본 발명의 균일처리유닛(100)에서 노즐부재(120)가 챔버부재(110)의 상부에 구비된 실시예를 도시한 정면도로써, 이를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 균일처리유닛(100)의 상기 노즐부재(120)는, 상기 강판(S)의 상면에 대면하는 상기 챔버부재(110)의 상측 중앙부에 구비되는 것을 특징으로 할 수 있다.
다시 말해, 상기 표면처리액을 상기 강판(S)의 폭 방향 상면 중앙부에 공급하기 위해서, 상기 노즐부재(120)는 상기 챔버부재(110)의 상측 중앙부에 구비될 수도 있는 것이다.
구체적으로, 상기 노즐부재(120)는 상기 챔버부재(110)의 상벽에 구비되거나, 상기 챔버부재(110)의 측벽 상부에 구비되는 연결관을 매개로 연결되어 상기 강판(S)의 폭 방향 중앙부에 대면하는 부분에 구비될 수 있다. 도 4의 (a)가 연결관을 매개로 상기 강판(S)의 폭 방향 중앙부에 대면하는 부분에 상기 노즐부재(120)가 구비된 실시예이다.
그리고, 상기 노즐부재(120)는 도 4의 (b)에 도시된 바와 같이, 복수 개의 노즐부재(120)가 상기 챔버부재(110)의 상측 중앙부에 구비되게 구성될 수도 있다. 이러한 경우에는 상기 강판(S)의 폭 방향 중앙부를 향하여 경사지게 구비시켜, 상기 노즐부재(120)에서 분사된 표면처리액이 상기 강판(S)의 폭 방향 상면에 우선 접촉하게 유동시킬 수 있게 된다.
도 5는 본 발명의 균일처리유닛(100)이 순환탱크유닛(200)과 연결된 실시예를 도시한 정면도로써, 이를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 균일처리유닛(100)의 상기 노즐부재(120)는, 상기 강판(S)에 대한 표면 처리 속도를 조정하도록, 분사되는 상기 표면처리액의 유량을 조정하게 제공되는 것을 특징으로 할 수 있다.
이는 상기 표면처리액의 유량이 많아지면 반응성이 좋은 새로운 표면처리액과 상기 강판(S) 표면의 접촉 면적 또는 접촉 시간을 증가시킴으로써, 표면 처리 속도를 촉진하여 강판(S)의 표면 처리 속도를 증가시킬 수 있는 점을 이용한 것이다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 균일처리유닛(100)의 상기 챔버부재(110)의 하부에는 외부의 순환탱크유닛(200)과 연통되는 순환배관(111)이 구비되는 것을 특징으로 할 수 있다.
즉, 상기 노즐부재(120)에서 분사한 표면처리액을 순환 구성에 의해서 다시 분사하게 구성함으로써, 균일처리유닛(100)에 대한 연속적 사용이 가능하게 구성된 것이다.
이를 위해서, 상기 챔버부재(110)는 상기 순환배관(111)에 의해서 상기 순환탱크유닛(200)과 연결되게 구성된다.
그리고, 순환배관(111)을 통하여 상기 순환탱크유닛(200)으로 유입된 표면처리액은 열 교환기를 거쳐 약 85℃ 이상으로 가열되어 순환 이동되게 된다.
도 6은 본 발명의 균일처리유닛(100)이 산탱크유닛(300)과 연결된 실시예를 도시한 측면도로써, 이를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 강판 표면 처리장치는 상기 균일처리유닛(100) 및 상기 강판(S)의 이동 경로 상에서 상기 균일처리유닛(100)의 전단 또는 후단에 구비되는 산탱크유닛(300)을 포함할 수 있다.
다시 말해, 본 발명의 강판 표면 처리장치는 전술한 균일처리유닛(100)을 이용하여 상기 강판(S)에 대한 균일한 표면 처리를 할 수 있으며, 더하여 상기 산탱크유닛(300)을 포함하여 일반적인 산세 작업도 수행할 수 있게 구성될 수 있는 것이다.
100: 균일처리유닛 110: 챔버부재
111: 순환배관 120: 노즐부재
130: 분리판부재 131: 유도홀
200: 순환탱크유닛 300: 산탱크유닛

Claims (9)

  1. 강판이 통과하게 구비되는 챔버부재;
    상기 챔버부재에 구비되며, 상기 강판의 폭 방향 상면 중앙부에 표면처리액을 분사하여, 상기 중앙부에서 상기 강판의 폭 방향 상면 에지부로 표면처리액을 유동시키는 노즐부재; 및
    상기 강판의 상면에서 흘러내린 상기 표면처리액을 일시적으로 체류시키도록, 상기 챔버부재에 횡 방향으로 구비되는 분리판부재;
    를 포함하는 균일처리유닛.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 분리판부재에는, 상기 강판의 폭 방향 중앙부에 대면하는 부분에 유도홀이 형성되어, 상기 강판의 폭 방향 하면 중앙부로 상기 표면처리액의 유동을 유도하는 것을 특징으로 하는 균일처리유닛.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 유도홀은, 상기 강판의 길이 방향으로 긴 슬롯 형상으로 상기 분리판부재에 구비되는 것을 특징으로 하는 균일처리유닛.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 분리판부재는, 상기 유도홀을 향하여 경사지게 구비된 것을 특징으로 하는 균일처리유닛.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 노즐부재는, 상기 강판보다 상부에 위치하도록, 상기 챔버부재의 측벽 상단부에 구비되며, 상기 강판의 폭 방향 중앙부를 향하여 경사진 형태로 제공되는 것을 특징으로 하는 균일처리유닛.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 노즐부재는, 상기 강판의 상면에 대면하는 상기 챔버부재의 상측 중앙부에 구비되는 것을 특징으로 하는 균일처리유닛.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 노즐부재는, 상기 강판에 대한 표면 처리 속도를 조정하도록, 분사되는 상기 표면처리액의 유량을 조정하게 제공되는 것을 특징으로 하는 균일처리유닛.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 챔버부재의 하부에는 외부의 순환탱크유닛과 연통되는 순환배관이 구비되는 것을 특징으로 하는 균일처리유닛.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항의 균일처리유닛; 및
    상기 강판의 이동 경로 상에서 상기 균일처리유닛의 전단 또는 후단에 구비되는 산탱크유닛;
    을 포함하는 강판 표면 처리장치.
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