KR101758859B1 - 인쇄회로기판 및 이의 제조방법 - Google Patents

인쇄회로기판 및 이의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101758859B1
KR101758859B1 KR1020120139729A KR20120139729A KR101758859B1 KR 101758859 B1 KR101758859 B1 KR 101758859B1 KR 1020120139729 A KR1020120139729 A KR 1020120139729A KR 20120139729 A KR20120139729 A KR 20120139729A KR 101758859 B1 KR101758859 B1 KR 101758859B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
circuit board
single metal
printed circuit
metal layer
Prior art date
Application number
KR1020120139729A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20140071771A (ko
Inventor
문경돈
Original Assignee
삼성전기주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전기주식회사 filed Critical 삼성전기주식회사
Priority to KR1020120139729A priority Critical patent/KR101758859B1/ko
Priority to US13/842,216 priority patent/US8927880B2/en
Publication of KR20140071771A publication Critical patent/KR20140071771A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101758859B1 publication Critical patent/KR101758859B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/42—Plated through-holes or plated via connections
    • H05K3/425—Plated through-holes or plated via connections characterised by the sequence of steps for plating the through-holes or via connections in relation to the conductive pattern
    • H05K3/427—Plated through-holes or plated via connections characterised by the sequence of steps for plating the through-holes or via connections in relation to the conductive pattern initial plating of through-holes in metal-clad substrates
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/03—Manufacturing methods
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0011—Working of insulating substrates or insulating layers
    • H05K3/0017—Etching of the substrate by chemical or physical means
    • H05K3/0026—Etching of the substrate by chemical or physical means by laser ablation
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0011—Working of insulating substrates or insulating layers
    • H05K3/0044—Mechanical working of the substrate, e.g. drilling or punching
    • H05K3/0047—Drilling of holes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11—Device type
    • H01L2924/12—Passive devices, e.g. 2 terminal devices
    • H01L2924/1204—Optical Diode
    • H01L2924/12042—LASER
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151—Die mounting substrate
    • H01L2924/156—Material
    • H01L2924/15786—Material with a principal constituent of the material being a non metallic, non metalloid inorganic material
    • H01L2924/15787—Ceramics, e.g. crystalline carbides, nitrides or oxides
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/09—Shape and layout
    • H05K2201/09209—Shape and layout details of conductors
    • H05K2201/095—Conductive through-holes or vias
    • H05K2201/09563—Metal filled via
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/02—Details related to mechanical or acoustic processing, e.g. drilling, punching, cutting, using ultrasound
    • H05K2203/025—Abrading, e.g. grinding or sand blasting
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/10—Using electric, magnetic and electromagnetic fields; Using laser light
    • H05K2203/107—Using laser light
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/14—Related to the order of processing steps
    • H05K2203/1407—Applying catalyst before applying plating resist

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Abstract

본 발명은, 미세회로 구현이 가능하면서도, 단가가 낮고 박판구동력이 우수한 동박적층판으로 인쇄회로기판을 제조하기 위하여, 절연층; 상기 절연층의 일면 또는 양면에 형성되고, 단일금속층으로 구성된 회로배선; 상기 회로배선의 층간 연결을 위해 상기 절연층에 형성된 비아; 및 상기 절연층의 일면 또는 양면에 형성되고, 상기 비아의 단부와 접합하는 패드층;을 포함하되, 상기 패드층의 중심부는 상기 비아와 동일한 금속으로 구성되고, 외곽부는 상기 회로배선과 동일한 금속으로 구성되는 인쇄회로기판 및 이의 제조방법을 제시한다.

Description

인쇄회로기판 및 이의 제조방법{PRINTED CIRCUIT BOARD AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}
본 발명은 인쇄회로기판 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 단일금속층으로 구성된 회로배선을 갖는 인쇄회로기판 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
인쇄회로기판 제조방법에 따라 형성된 회로배선은, 동박적층판의 동박층, 화학도금에 의해 형성된 시드층, 그리고, 상기 시드층을 인입선으로 전해도금하여 형성된 전해도금층 등 여러 금속층으로 구성되어 두께가 두껍고, 이로 인해 최근 요구되는 회로의 복잡화, 고밀도화, 그리고 기판의 박형화 등의 요구를 충족시키지 못한다.
이러한 회로배선의 두께를 낮추기 위하여 동박층이 얇은 동박적층판을 사용하는 경우, 일반적으로, 동박적층판의 동박층이 얇을수록 단가가 비싸므로 제조비용이 증가하게 되고, 또한, 동박층이 얇은 동박적층판은 박판구동력이 떨어져 생산성이 저하되는 문제가 있다.
이와 관련하여, 대한민국 공개특허공보 제 10-2012-0026849호(이하, 선행문헌)에 게재된 인쇄회로기판을 보면, 전자소자를 인쇄회로기판의 개구부에 삽입하고, 개구부의 측벽에 형성된 회로패턴을 통해 인쇄회로기판의 회로배선과 전자소자를 전기적으로 도통시켜, 전자소자의 두께만큼 인쇄회로기판의 두께의 낮추고 있다.
이를 통해 인쇄회로기판의 두께를 어느정도 낮출 수는 있으나, 회로배선의 두께에 대한 근본적인 해결이 되지 못하여, 결국, 회로배선의 적층수가 많은 다층 인쇄회로기판에서는 그 효과가 미비해질 수 밖에 없으며, 선행문헌의 청구항 제7항을 보더라도, 그 제조방법이 복잡하여 생산성이 저하될 우려가 있다.
특허문헌 : 대한민국 공개특허공보 제 10-2012-0026849호
본 발명은 상기와 같은 문제를 해결하기 위하여, 단일금속층으로 구성된 회로배선을 갖는 인쇄회로기판 및 이의 제조방법을 제시하여, 생산성을 높이면서 최근 요구되는 회로의 복잡화, 고밀도화, 그리고 기판의 박형화 등의 요구를 모두 충족시키고자 한다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 창안된 본 발명은, 절연층; 상기 절연층의 일면 또는 양면에 형성되고, 단일금속층으로 구성된 회로배선; 상기 회로배선의 층간 연결을 위해 상기 절연층에 형성된 비아; 및 상기 절연층의 일면 또는 양면에 형성되고, 상기 비아의 단부와 접합하는 패드층;을 포함하되, 상기 패드층의 중심부는 상기 비아와 동일한 금속으로 구성되고, 외곽부는 상기 회로배선과 동일한 금속으로 구성되는, 인쇄회로기판을 제공한다.
또한, 상기 비아의 측벽에 시드층이 더 형성된, 인쇄회로기판을 제공한다.
또한, 상기 회로배선의 두께는 2 내지 12㎛인, 인쇄회로기판을 제공한다.
또한, 상기 패드층의 중심부와 외곽부의 높이가 동일한, 인쇄회로기판을 제공한다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 창안된 본 발명은, (a)일면 또는 양면에 단일금속층이 접합된 절연층을 준비하는 단계; (b)상기 절연층에 비아홀을 가공하는 단계; (c)상기 비아홀 내부를 포함한 상기 단일금속층 표면에 전해도금층을 형성하는 단계; (d)상기 단일금속층의 표면이 노출되도록 상기 단일금속층 상부 표면의 전해도금층을 일정 두께 연마하는 단계; 및 (e)상기 단일금속층을 선택적으로 식각하여 회로배선 및 패드층을 형성하는 단계;를 포함하는, 인쇄회로기판 제조방법을 제공한다.
또한, 상기 (d)단계는 화학적 기계적 연마(Chemical Mechanical Polishing;CMP) 방법을 통해 이루어지는, 인쇄회로기판 제조방법을 제공한다.
또한, 상기 (c)단계는, 상기 비아홀 내부를 포함한 상기 단일금속층 표면에 시드층을 형성한 다음, 상기 시드층을 인입선으로 전해도금을 수행하여 이루어지는, 인쇄회로기판 제조방법을 제공한다.
또한, 상기 (d)단계 수행 시, 연마되는 상기 전해도금층 하지의 상기 시드층을 함께 제거하는, 인쇄회로기판 제조방법을 제공한다.
또한, 플래시 에칭(flash etching) 또는 소프트 에칭(soft etching)을 통해 상기 시드층을 제거하는, 인쇄회로기판 제조방법을 제공한다.
또한, 상기 (e)단계는, 외부로 노출된 상기 단일금속층 표면에 드라이 필름(Dry Film)을 부착하는 단계; 상기 드라이 필름의 소정 위치에 개구부를 형성하는 단계; 상기 단일금속층 중 상기 개구부를 통해 노츨된 부분을 에칭하는 단계; 및 상기 드라이 필름을 박리하는 단계;로 이루어지는, 인쇄회로기판 제조방법을 제공한다.
본 발명에 따르면, 인쇄회로기판 제조시 제공되는 동박적층판의 동박층만을 가지고 회로배선을 형성하므로, 동박층의 두께를 조절하여 미세회로 구현이 가능하면서도, 단가가 낮고 박판구동력이 우수한 동박적층판으로 인쇄회로기판을 제조할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 인쇄회로기판의 단면도이다.
도 2는 본 발명에 포함된 패드층의 평면도이다.
도 3 내지 도 9는 본 발명에 따른 인쇄회로기판의 제조방법을 순차적으로 도시한 공정도이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 기술 등은 첨부되는 도면들과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예를 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있다. 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 함과 더불어, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공될 수 있다. 명세서 전문에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
본 명세서에서 사용된 용어들은 실시예를 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 다수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 '포함한다(comprise)' 및/또는 '포함하는(comprising)'은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.
도 1은 본 발명에 따른 인쇄회로기판의 단면도이다. 부가적으로, 도면의 구성요소는 반드시 축척에 따라 그려진 것은 아니고, 예컨대, 본 발명의 이해를 돕기 위해 도면의 일부 구성요소의 크기는 다른 구성요소에 비해 과장될 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 인쇄회로기판의 단면도이다. 부가적으로, 도면의 구성요소는 반드시 축척에 따라 그려진 것은 아니고, 예컨대, 본 발명의 이해를 돕기 위해 도면의 일부 구성요소의 크기는 다른 구성요소에 비해 과장될 수 있다.
도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 인쇄회로기판(100)은, 절연층(110)과, 상기 절연층(110)의 일면 또는 양면에 형성된 회로배선(120)과, 상기 절연층(110)에 형성된 비아(130) 및 상기 절연층(110)의 일면 또는 양면에 형성되고, 상기 비아(130)의 단부와 접합하는 패드층(140)을 포함할 수 있다.
도 1에서는 하나의 절연층(110) 양면에 회로배선(120)이 형성된, 즉 2층의 회로배선으로 구성된 인쇄회로기판을 도시하였으나, 본 발명의 인쇄회로기판은 빌드업 공정을 통해 상기 회로배선(120)을 덮는 절연층과 그 위에 형성된 회로배선이 반복적으로 형성된 3층, 또는 그 이상의 다층 인쇄회로기판이 될 수 있음은 물론이다.
상기 절연층(110)은 구체적으로, 열광화성 또는 열가소성 고분자 기판, 세라믹 기판, 유-무기 복합 소재 기판, 또는 글라스 섬유 함칭 기판일 수 있고, 고분자 수지를 포함하는 경우 에폭시계 절연 수지를 포함할 수 있으며, 이와 달리, 폴리이미드계 수지를 포함할 수 있다.
본 발명은, 이러한 상기 절연층(110)의 일면 또는 양면에 형성된 상기 회로배선(120)이 단일금속층으로 구성된 것을 특징으로 한다. 즉, 본 발명의 인쇄회로기판(100)에서 상기 회로배선(120)은 기존과 달리 하나의 금속층으로 구성되어 있다.
여기서, 상기 회로배선(120)을 구성하는 단일금속층의 구성재질로는, 전도성이 우수한 재질이면 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 팔라듐(Pd), 니켈(Ni), 크로뮴(Cr), 몰리브데넘(Mo), 텅스텐(W), 주석(Sn) 및 그 물질들의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다.
이와 같이, 본 발명의 인쇄회로기판(100)에서 상기 회로배선(120)은 단일금속층으로 구성되므로, 상기 회로배선(120)은, 인쇄회로기판 제조시 제공되는 동박적층판(Copper Clad Laminate;CCL)의 동박층만으로 형성될 수 있다. 따라서, 동박층의 두께를 임의로 설정하여, 미세회로 구현이 가능하면서도 원가가 저렴하고 박판구동력이 우수한 동박적층판으로 인쇄회로기판을 제조할 수 있다.
구체적으로, 상기 회로배선(120)의 두께는 2 내지 12㎛의 범위내에서 설정될 수 있다. 회로배선(120)의 두께가 낮을수록 미세회로 구현이 가능하나, 반대로, 동박층이 얇은 동박적층판을 사용해야 하므로 제조원가가 증가하게 되고 박판구동력이 저하될 수 있다. 이와 달리, 회로배선(120)의 두께가 두꺼울수록 제조원가가 낮아지고 박판구동력이 높아질 수 있으나, 반대로 미세회로구현이 어려워진다.
즉, 상기 수치범위내에서 제조원가 및 박판구동력과, 미세회로의 상충관계를 고려하여 상기 회로배선(120)의 두께를 설정하는 것이 바람직하다. 다만, 상기 수치범위는 본 발명의 효과가 구현될 수 있는 최적의 값을 한정하기 위한 범위이므로, 본 발명이 추구하는 목적에 부합되는 경우라면 상기 수치범위를 약간 벗어나더라도 허용될 수 있음은 당업자의 입장에서 당연하다.
상기 비아(130)는 층간 회로배선(120)을 전기적으로 도통하는 기능을 하는 것으로, 전해도금에 의해 형성될 수 있고, 이에 따라. 상기 비아(130)의 측벽에는 시드층(131)이 형성되어 있을 수 있다.
상기 패드층(140)은 층간 회로배선(120)의 안정적인 전기도통을 위하여, 상기 절연층(110) 표면에 형성되고 상기 비아(130) 단부와 연결된 랜드로서, 회로 형성시 사용하는 노광 설비의 오차 및 사용하는 원자재의 공정 중의 변형 등을 감안하여 일정 이상의 면적을 가지게 된다.
도 2는 본 발명에 포함된 패드층(140)의 평면도로서, 본 발명에서 상기 패드층(140)은, 상기 비아(130)로부터 연장 형성된 중앙부(140a)와, 이에 인접하는 외곽부(140b)으로 구성되고, 여기서 상기 외곽부(140b)는 상기 회로배선(120)과 동일한 단일금속층으로 형성된다. 그리고, 상기 패드층(140)의 중심부와 외곽부(140b)는 동일한 높이를 가지도록 형성될 수 있다.
이와 같은 상기 패드층(140)의 형태는 이하 설명하는 본 발명의 인쇄회로기판 제조방법에 따라 형성되는 것으로, 이제, 도 3 내지 도 9를 참조하여 본 발명에 따른 인쇄회로기판(100)의 제조방법에 대해 살펴보기로 한다.
도 3 내지 도 9는 본 발명에 따른 인쇄회로기판(100)의 제조방법을 순차적으로 도시한 공정도로서, 본 발명에 따른 인쇄회로기판(100)의 제조방법은 먼저, 도 3과 같이, 일면 또는 양면에 단일금속층(120a)이 접합된 절연층(110)을 준비한다.
상기 단일금속층(120a)이 구리(Cu)로 구성되는 경우, 상기 단일금속층(120a)이 접합된 절연층(110)은 일반적인 동박적층판(CCL)이 된다. 구리(Cu) 외에도 상기 단일금속층(120a)은 전도성이 우수한 알루미늄(Al), 은(Ag), 팔라듐(Pd), 니켈(Ni), 크로뮴(Cr), 몰리브데넘(Mo), 텅스텐(W), 주석(Sn) 및 그 물질들의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택된 물질로 구성될 수 있다.
상기 단일금속층(120a)은 후속공정 이후 회로배선(120)이 되는 층으로, 그 두께는 제조원가, 박판구동력, 그리고 미세회로의 구현 용이성 등을 고려하여 2 내지 12㎛의 범위내에서 적절하게 설정하도록 한다.
그 다음, 도 4와 같이, 상기 절연층(110)에 비아홀(130a)을 가공한다. 상기 비아홀(130a)은 드릴 비트를 이용한 기계적 드릴(mechanical drilling)을 이용하여 형성될 수 있다. 또는, 상기 단일금속층(120a) 중 비아홀(130a)이 형성될 부분을 제거하여 개구를 형성한 다음, 개구를 통해 노출된 상기 절연층(110)을 에칭 또는 CO2레이저 드릴로 제거하여 형성될 수도 있다.
그 다음, 도 5와 같이, 상기 비아홀(130a) 내부를 포함한 상기 단일금속층(120a) 표면에 도금층(130b)을 형성한다.
이를 위해, 먼저 상기 비아홀(130a) 내부를 포함한 상기 단일금속층(120a) 표면에 시드층(131)을 형성하고, 상기 시드층(131)을 인입선으로 전해도금을 수행한다. 그리하면, 상기 비아홀(130a) 내부는 충진도금되고, 상기 단일금속층(120a) 위로 일정 두께의 도금층이 형성된 도금층(130b)이 형성될 수 있다.
그 다음, 도 6과 같이, 상기 단일금속층(120a)의 표면이 노출되게 상기 도금층(130b) 표면을 연마한다. 즉, 상기 단일금속층(120a)만을 이용하여 회로배선(120)을 형성하기 위하여, 상기 단일금속층(120a) 위에 형성된 일정 두께의 도금층을 연마하는 것이다. 상기 공정은, 일례로, 화학적 기계적 연마(Chemical Mechanical Polishing;CMP) 방법을 이용할 수 있다.
이때, 전해도금의 전처리를 위한 상기 시드층(131) 역시 화학적 기계적 연마(CMP)로 제거되게 한다. 또는, 다른 방법으로, 화학적 기계적 연마(CMP)로 상기 도금층(130b)의 표면이 연마되어 상기 시드층(131)이 외부로 노출되면, 플래시 에칭(flash etching) 또는 소프트 에칭(soft etching)을 수행하여 상기 시드층(131)을 제거할 수도 있다.
상기와 같은 공정을 통해, 도 6과 같이, 상기 절연층(110)의 상하부면에는 단일금속층(120a)만이 남게 되고, 비아홀(130a) 내부에 비아(130) 및 상기 비아(130)에서 연장된 패드층의 중앙부(140a)가 형성된다.
이와 같이, 단일금속층(120a)이 외부로 노출되면, 마지막으로, 상기 단일금속층(120a)을 선택적으로 식각하여, 도 1과 같은 회로배선(120) 및 패드층(140)이 형성된 인쇄회로기판(100)을 최종 완성한다.
상기 회로배선(120) 및 패드층(140) 형성과정을 보다 구체적으로 살펴보면,먼저, 도 7과 같이, 외부로 노출된 상기 단일금속층(120a) 표면에 드라이 필름(Dry Film;DF, 150)을 부착한다. 그 다음, 상기 드라이 필름(150) 위에 소정 패턴의 아트워크 필름(Artwork Film, 미도시)을 올려 놓고 자외선(UV)을 조사한 후, 현상액을 이용하여 미경화된 부분(빛을 받지 않는 부분)을 제거하는 현상 단계를 수행한다. 그리하면, 도 8과 같이, 상기 드라이 필름(150)에 회로배선(120)의 패턴에 대응하는 개구부(150a)가 형성된다. 그 다음, 상기 단일금속층(120a) 중 상기 개구부(150a)를 통해 외부로 노출된 부분을 에칭(etching)하여 도 9와 같이, 회로배선(120) 및 패드층(140)을 형성한 후, 마지막으로, NaOH 또는 KOH 등의 박리액을 이용하여 상기 드라이 필름(150)을 박리한다.
이와 같이, 본 발명에 따른 인쇄회로기판 제조방법은, 상기 비아(130) 형성을 위한 전해도금에 의해 형성된 단일금속층(120a) 상부 표면의 도금층을 제거한 다음, 상기 단일금속층(120a)만으로 회로배선(120) 및 패드층(140)을 형성하므로, 상기 단일금속층(120a)의 두께를 적절히 설정하여 미세회로 구현이 가능하면서도, 단가가 낮고 박판구동력이 우수한 동박적층판으로 인쇄회로기판을 제조할 수 있다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내고 설명하는 것에 불과하며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉, 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위 내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 전술한 실시예들은 본 발명을 실시하는데 있어 최선의 상태를 설명하기 위한 것이며, 본 발명과 같은 다른 발명을 이용하는데 당업계에 알려진 다른 상태로의 실시, 그리고 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서, 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
100 : 본 발명의 인쇄회로기판
110 : 절연층
120 : 회로배선
120a : 단일금속층
130 : 비아
130a : 비아홀
130b : 전해도금층
131 : 시드층
140 : 패드층
140a : 중앙부
140b : 외곽부
150 : 드라이 필름
150a : 개구부

Claims (10)

  1. 절연층;
    상기 절연층의 일면 및 타면에 각각 형성되고, 각각 단일금속층으로 구성된 제1 회로배선 및 제2 회로배선;
    상기 제1 회로배선 및 상기 제2 회로배선을 서로 연결하도록 상기 절연층에 형성된 비아; 및
    상기 절연층의 일면 및 타면에 각각 형성되고, 각각 상기 비아의 양단부와 접합하는 제1 패드층 및 제2 패드층;
    을 포함하되,
    상기 제1 패드층 및 상기 제2 패드층 각각은 상기 비아로부터 연장 형성된 중심부와, 상기 제1 회로배선 및 상기 제2 회로배선과 동일한 단일금속층으로 형성된 외곽부로 구성되고,
    상기 비아의 측벽에 시드층이 더 형성된,
    인쇄회로기판.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 회로배선의 두께는 2 내지 12㎛인,
    인쇄회로기판.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 중심부의 높이는 상기 외곽부의 높이와 동일한,
    인쇄회로기판.
  5. (a)일면 또는 양면에 단일금속층이 접합된 절연층을 준비하는 단계;
    (b)상기 절연층에 비아홀을 가공하는 단계;
    (c)상기 비아홀 내부를 포함한 상기 단일금속층 표면에 시드층을 형성하고, 상기 시드층을 인입선으로 전해도금을 수행하여 도금층을 형성하는 단계;
    (d)상기 단일금속층의 표면이 노출되도록 상기 단일금속층 상부 표면의 도금층 및 시드층을 일정 두께 제거하는 단계; 및
    (e)상기 단일금속층을 선택적으로 식각하여 회로배선 및 패드층을 형성하는 단계;를 포함하는,
    인쇄회로기판 제조방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 (d)단계는 화학적 기계적 연마(Chemical Mechanical Polishing;CMP) 방법을 통해 이루어지는,
    인쇄회로기판 제조방법.
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 제 5 항에 있어서,
    플래시 에칭(flash etching) 또는 소프트 에칭(soft etching)을 통해 상기 시드층을 제거하는,
    인쇄회로기판 제조방법.
  10. 제 5 항에 있어서,
    상기 (e)단계는,
    외부로 노출된 상기 단일금속층 표면에 드라이 필름(Dry Film)을 부착하는 단계;
    상기 드라이 필름의 소정 위치에 개구부를 형성하는 단계;
    상기 단일금속층 중 상기 개구부를 통해 노츨된 부분을 에칭하는 단계; 및
    상기 드라이 필름을 박리하는 단계;로 이루어지는,
    인쇄회로기판 제조방법.

KR1020120139729A 2012-12-04 2012-12-04 인쇄회로기판 및 이의 제조방법 KR101758859B1 (ko)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120139729A KR101758859B1 (ko) 2012-12-04 2012-12-04 인쇄회로기판 및 이의 제조방법
US13/842,216 US8927880B2 (en) 2012-12-04 2013-03-15 Printed circuit board and method for manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120139729A KR101758859B1 (ko) 2012-12-04 2012-12-04 인쇄회로기판 및 이의 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140071771A KR20140071771A (ko) 2014-06-12
KR101758859B1 true KR101758859B1 (ko) 2017-07-17

Family

ID=50824671

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120139729A KR101758859B1 (ko) 2012-12-04 2012-12-04 인쇄회로기판 및 이의 제조방법

Country Status (2)

Country Link
US (1) US8927880B2 (ko)
KR (1) KR101758859B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023027376A1 (ko) * 2021-08-26 2023-03-02 삼성전자 주식회사 인터포저 및 이를 포함하는 전자 장치

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20090008145A1 (en) * 2007-07-06 2009-01-08 Unimicron Technology Corp. Embedded circuit structure and fabricating process of the same

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5473120A (en) * 1992-04-27 1995-12-05 Tokuyama Corporation Multilayer board and fabrication method thereof
WO2004103039A1 (ja) * 2003-05-19 2004-11-25 Dai Nippon Printing Co., Ltd. 両面配線基板および両面配線基板の製造方法並びに多層配線基板
KR101154739B1 (ko) 2010-09-10 2012-06-08 엘지이노텍 주식회사 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법
KR101171100B1 (ko) 2010-10-11 2012-08-03 삼성전기주식회사 회로기판 제조방법

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20090008145A1 (en) * 2007-07-06 2009-01-08 Unimicron Technology Corp. Embedded circuit structure and fabricating process of the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023027376A1 (ko) * 2021-08-26 2023-03-02 삼성전자 주식회사 인터포저 및 이를 포함하는 전자 장치

Also Published As

Publication number Publication date
US8927880B2 (en) 2015-01-06
KR20140071771A (ko) 2014-06-12
US20140151897A1 (en) 2014-06-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7681310B2 (en) Method for fabricating double-sided wiring board
KR101077380B1 (ko) 인쇄회로기판 및 그 제조방법
CN101272661B (zh) 多层印刷布线板及其制造方法
US9572250B2 (en) Printed circuit board and method for manufacturing the same
CN103796451B (zh) 印刷布线板及印刷布线板的制造方法
US8677618B2 (en) Method of manufacturing substrate using a carrier
KR20110012774A (ko) 인쇄회로기판 및 그 제조방법
US10292279B2 (en) Disconnect cavity by plating resist process and structure
JP2023022267A (ja) プリント回路基板
KR101089986B1 (ko) 캐리어기판, 그의 제조방법, 이를 이용한 인쇄회로기판 및 그의 제조방법
TW201637522A (zh) 具有輪廓化導電層的印刷電路板及其製造方法
US20110089138A1 (en) Method of manufacturing printed circuit board
TWI459879B (zh) Method for manufacturing multilayer flexible printed wiring board
KR101758859B1 (ko) 인쇄회로기판 및 이의 제조방법
KR101039774B1 (ko) 인쇄회로기판 제조를 위한 범프 형성 방법
KR100934107B1 (ko) 미세 피치의 금속 범프를 제공하는 인쇄회로기판 제조 방법
CN102686052A (zh) 软性印刷电路板及其制造方法
JP2006253347A (ja) 多層フレキシブル回路配線基板及びその製造方法
JP2005203457A (ja) 部品内蔵配線板の製造方法
JP4347143B2 (ja) 回路基板およびその製造方法
KR100477258B1 (ko) 범프의 형성방법 및 이로부터 형성된 범프를 이용한인쇄회로기판의 제조방법
US20100193232A1 (en) Printed circuit board and method of manufacturing the same
KR20150083401A (ko) 반도체 패키지 기판 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 반도체 패키지 기판
KR100827310B1 (ko) 인쇄회로기판 및 그 제조방법
JP2006049587A (ja) プリント配線板及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant