KR101755672B1 - Gas supply apparatus - Google Patents

Gas supply apparatus Download PDF

Info

Publication number
KR101755672B1
KR101755672B1 KR1020100061605A KR20100061605A KR101755672B1 KR 101755672 B1 KR101755672 B1 KR 101755672B1 KR 1020100061605 A KR1020100061605 A KR 1020100061605A KR 20100061605 A KR20100061605 A KR 20100061605A KR 101755672 B1 KR101755672 B1 KR 101755672B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
flow path
heater
gas supply
blocks
block
Prior art date
Application number
KR1020100061605A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20110001937A (en
Inventor
게이스께 가또오
시게노부 니시다
도시까즈 미와
Original Assignee
시케이디 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 시케이디 가부시키가이샤 filed Critical 시케이디 가부시키가이샤
Publication of KR20110001937A publication Critical patent/KR20110001937A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101755672B1 publication Critical patent/KR101755672B1/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45563—Gas nozzles
    • C23C16/45565—Shower nozzles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45563—Gas nozzles
    • C23C16/4557—Heated nozzles

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Details Of Valves (AREA)
  • Valve Housings (AREA)
  • Magnetically Actuated Valves (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Abstract

본 발명의 과제는, 유로를 유통하는 가스를 가열하는 히터를 구비하는 가스 공급 장치에 있어서, 그 소형화나 고집적화를 가능하게 하는 것이다.
가스 공급 장치(10)에 있어서, 각 유로 블록(20)은, 장척 형상으로 연장되는 직육면체 형상으로 형성되고, 개폐 밸브(50)가 복수 탑재된 상면(20a)을 갖고 있다. 개폐 밸브(50)는, 상면(20a)의 길이 방향을 따라 직렬로 배치되어 있다. 복수의 유로 블록(20)은, 상면(20a)을 폭 방향으로부터 끼우는 양 측면(20c)끼리가 인접하도록 병렬로 배열되어 있다. 복수의 유로 블록(20)의 인접하는 측면(20c)에 히터(31)가 끼워 넣어진 상태에서, 복수의 유로 블록(20)이 일체화되어 있다. 히터(31)는 필름 형상으로 형성되고, 그 양면이 유로 블록(20)의 측면(20c)에 대향하여 유로 블록(20)의 길이 방향을 따라 연장되어 있다.A problem to be solved by the present invention is to provide a gas supply device having a heater for heating a gas flowing through a flow path, thereby enabling downsizing and higher integration.
In the gas supply device 10, each of the flow path blocks 20 is formed in a rectangular parallelepiped shape extending in an elongated shape and has an upper surface 20a on which a plurality of the opening / closing valves 50 are mounted. The opening and closing valves 50 are arranged in series along the longitudinal direction of the upper surface 20a. The plurality of flow path blocks 20 are arranged in parallel so that both side surfaces 20c sandwiching the upper surface 20a from the width direction are adjacent to each other. The plurality of flow path blocks 20 are integrated with the heater 31 sandwiched between the adjacent side surfaces 20c of the plurality of flow path blocks 20. The heater 31 is formed in a film shape and both sides of the heater 31 extend along the longitudinal direction of the flow path block 20 so as to face the side surface 20c of the flow path block 20.

Description

가스 공급 장치 {GAS SUPPLY APPARATUS}[0001] GAS SUPPLY APPARATUS [0002]

본 발명은, 유로를 유통하는 가스를 가열하는 히터를 구비하는 가스 공급 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas supply apparatus including a heater for heating a gas flowing through a flow path.

종래, 반도체 제조 공정에 있어서, 박막 생성 장치, 건식 에칭 장치 등의 프로세스 기기에 프로세스 가스를 공급하는 가스 공급 장치가 사용되고 있다(예를 들어, 특허 문헌 1 참조). 특허 문헌 1에 기재된 가스 공급 장치는, 서로 평행하게 배치된 복수열의 가스 공급부를 구비하고 있다. 각 가스 공급부는, 내부에 가스 유로가 형성된 복수의 유로 블록을 직선 상에 배치하고, 각 유로 블록의 가스 유로를 각각 개폐하는 개폐 밸브를 유로 블록 상에 설치하고 있다.Conventionally, in a semiconductor manufacturing process, a gas supply device for supplying a process gas to a process device such as a thin film production device or a dry etching device is used (see, for example, Patent Document 1). The gas supply device described in Patent Document 1 has a plurality of rows of gas supply portions arranged in parallel with each other. Each of the gas supply units is provided with a plurality of flow path blocks in which a gas flow path is formed in a straight line, and on-off valves for opening and closing the gas flow paths of the respective flow path blocks are provided on the flow path block.

[특허 문헌 1] 일본 특허 출원 공개 제2003-91322호 공보[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-91322 [특허 문헌 2] 일본 특허 출원 공개 평7-74113호 공보[Patent Document 2] Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-74113

그런데, 특허 문헌 1에 기재된 것에 있어서, 상온에서 액화되기 쉬운 프로세스 가스가 사용되는 경우가 있다. 이 경우에는, 프로세스 가스의 액화를 억제하기 위해, 특허 문헌 2에 기재되는 것과 같이 테이프 형상의 히터를 가스 배관에 권취하는 구성이나, 유로 블록의 길이 방향으로 보아 양 측면에 판 형상의 히터를 붙이는 구성, 막대 형상의 히터를 유로 블록에 매설하는 구성 등을 채용하는 것을 생각할 수 있다.Incidentally, in the process described in Patent Document 1, a process gas which is liable to be liquefied at room temperature may be used. In this case, in order to suppress the liquefaction of the process gas, a structure in which a tape-shaped heater is wound around a gas pipe as described in Patent Document 2, or a structure in which a plate- A configuration in which a rod-shaped heater is embedded in the flow path block, or the like may be adopted.

그러나 가스 공급 장치의 소형화나 고집적화에 수반하여, 상기 테이프 형상의 히터나 판 형상의 히터를 장착하기 위한 공간이나, 막대 형상의 히터를 유로 블록에 매설하기 위한 공간을 확보할 수 없게 될 우려가 있다.However, with the miniaturization and high integration of the gas supply device, there is a fear that a space for mounting the tape-shaped heater or the plate-shaped heater or a space for burying the rod-shaped heater in the flow path block can not be ensured .

본 발명은, 이러한 실정에 비추어 이루어진 것이며, 유로를 유통하는 가스를 가열하는 히터를 구비하는 가스 공급 장치에 있어서, 그 소형화나 고집적화를 가능하게 하는 것을 주된 목적으로 하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances and has as its main object to enable miniaturization and high integration of a gas supply device having a heater for heating a gas flowing through a flow path.

상기 과제를 해결하기 위해, 제1 발명은, 내부에 유로가 형성된 복수의 유로 블록과, 각 유로 블록의 상기 유로를 유통하는 가스의 유통 상태를 각각 변경하는 개폐 밸브와, 상기 유로를 유통하는 가스를 가열하는 히터를 구비하는 가스 공급 장치이며, 상기 각 유로 블록은 장척(長尺) 형상으로 연장되는 직육면체 형상으로 형성되고, 상기 개폐 밸브가 복수 탑재된 밸브 탑재면을 갖고, 상기 개폐 밸브는 상기 밸브 탑재면의 길이 방향을 따라 직렬로 배치되고, 상기 복수의 유로 블록은 상기 밸브 탑재면을 폭 방향으로부터 끼우는 양 측면끼리가 인접하도록 병렬로 배열되고, 상기 복수의 유로 블록의 상기 인접하는 측면에 상기 히터가 끼워 넣어진 상태에서, 상기 복수의 유로 블록이 일체화되어 있는 것을 특징으로 하는 가스 공급 장치이다.According to a first aspect of the present invention, there is provided a fuel cell system comprising: a plurality of flow path blocks each having a flow path formed therein; an on-off valve for respectively changing a flow state of a gas flowing through the flow path of each flow path block; Wherein each of the flow path blocks has a rectangular parallelepiped extending in a long shape and has a valve mounting surface on which a plurality of the opening and closing valves are mounted, Wherein the plurality of flow path blocks are arranged in parallel so that both side surfaces sandwiching the valve mounting surface from the width direction are adjacent to each other and the plurality of flow path blocks are arranged in parallel on the adjacent side surfaces of the plurality of flow path blocks And the plurality of flow path blocks are integrated with the heater interposed therebetween.

상기 구성에 따르면, 각 유로 블록의 내부에 형성된 유로를 가스가 유통하고, 그들 가스의 유통 상태가 개폐 밸브에 의해 각각 변경된다. 그리고 유로 블록의 유로를 유통하는 가스가 히터에 의해 가열된다.According to the above configuration, the gas flows through the flow path formed inside each flow path block, and the flow state of the gas is changed by the opening / closing valve. The gas flowing through the flow path of the flow path block is heated by the heater.

각 유로 블록은, 장척 형상으로 연장되는 직육면체 형상으로 형성되어 있고, 복수의 개폐 밸브가 밸브 탑재면에 있어서 길이 방향을 따라 직렬로 배치되어 있다. 그리고 상기 복수의 유로 블록은, 상기 밸브 탑재면을 폭 방향으로부터 끼우는 양 측면끼리가 인접하도록 병렬로 배열되어 있으므로, 유로 블록 전체가 직육면체 형상이 되도록 복수의 유로 블록을 집적할 수 있다.Each of the flow path blocks is formed in a rectangular parallelepiped shape extending in an elongated shape, and a plurality of on-off valves are arranged in series along the longitudinal direction on the valve mounting surface. Since the plurality of flow path blocks are arranged in parallel so that both side surfaces sandwiching the valve mounting surface from the width direction are adjacent to each other, a plurality of flow path blocks can be integrated so that the whole flow path block has a rectangular parallelepiped shape.

여기서, 상기 복수의 유로 블록의 상기 인접하는 측면에 상기 히터가 끼워 넣어진 상태에서, 상기 복수의 유로 블록이 일체화되어 있으므로, 1개의 히터의 양면에 의해 인접하는 2개의 유로 블록을 가열할 수 있다. 따라서, 인접하는 유로 블록의 사이에 각 유로 블록을 가열하는 히터를 각각 설치할 필요가 없어, 히터를 장착하기 위한 공간을 축소할 수 있다. 또한, 유로 블록 사이에 간극을 설정할 필요가 없으므로, 유로 블록끼리의 간격을 좁게 할 수 있다. 그 결과, 유로를 유통하는 가스를 가열하는 히터를 구비하는 가스 공급 장치에 있어서, 그 소형화나 고집적화를 실현할 수 있다.Since the plurality of flow path blocks are integrated in a state in which the heater is fitted to the adjacent side surfaces of the plurality of flow path blocks, adjacent two flow path blocks can be heated by both surfaces of one heater . Therefore, it is not necessary to provide heaters for heating the flow path blocks between the adjacent flow path blocks, and the space for mounting the heaters can be reduced. Further, since there is no need to set a gap between the flow path blocks, the interval between the flow path blocks can be narrowed. As a result, in the gas supply apparatus including the heater for heating the gas flowing through the flow path, the downsizing and high integration thereof can be realized.

또한, 히터의 양측에 유로 블록이 접촉하고 있으므로, 히터의 편측에 유로 블록이 접촉하고 있는 경우와 비교하여, 히터의 열을 유로 블록에 효율적으로 전달할 수 있다. 환언하면, 히터로부터 유로 블록 이외로 달아나는 열을 감소시킬 수 있다.In addition, since the flow path block is in contact with both sides of the heater, the heat of the heater can be efficiently transmitted to the flow path block, as compared with the case where the flow path block is in contact with one side of the heater. In other words, it is possible to reduce the heat escaping from the heater to other than the flow path block.

제2 발명에서는, 제1 발명에 있어서, 상기 히터는 판 형상 또는 막 형상으로 형성되고, 그 양면이 상기 유로 블록의 상기 측면에 대향하여 상기 길이 방향을 따라 연장되어 있으므로, 히터 자체의 두께가 얇아지는 동시에 유로 블록의 측면에 히터를 따르게 할 수 있다. 따라서, 유로 블록끼리의 간격을 좁게 할 수 있는 동시에, 히터로부터 유로 블록 측면으로의 열전달 효율을 향상시킬 수 있다. 또한, 히터에 있어서, 유로 블록의 측면에 접촉하는 부분의 면적과 비교하여, 유로 블록의 측면에 접촉하지 않는 부분인 단부면의 면적이 작아지므로, 히터로부터 유로 블록 이외로 달아나는 열을 더욱 감소시킬 수 있다.In the second invention, in the first invention, the heater is formed in a plate shape or a film shape, and both sides of the heater extend along the longitudinal direction opposite to the side surface of the flow path block, so that the thickness of the heater itself is thin And the heater can be made to follow the side surface of the flow path block. Therefore, the distance between the flow path blocks can be narrowed, and the heat transfer efficiency from the heater to the side of the flow path block can be improved. Further, in the heater, since the area of the end surface which is a portion not contacting the side surface of the flow path block is smaller than the area of the portion contacting the side surface of the flow path block, the heat escaping from the heater to the outside of the flow path block is further reduced .

제3 발명에서는, 제2 발명에 있어서, 상기 복수의 유로 블록의 상기 인접하는 측면에 의해 상기 히터가 압박된 상태에서 상기 복수의 유로 블록을 고정하는 고정 기구를 구비하므로, 유로 블록의 측면과 히터 사이에 간극이 형성되는 것을 억제할 수 있다. 따라서, 히터로부터 유로 블록 측면으로의 열전달 효율을 더욱 향상시킬 수 있다.According to a third aspect of the present invention, in the second aspect of the present invention, since the fixing mechanism is provided for fixing the plurality of flow path blocks in a state in which the heater is pressed by the adjacent side surfaces of the plurality of flow path blocks, It is possible to suppress formation of a gap between the electrodes. Therefore, the heat transfer efficiency from the heater to the side of the flow path block can be further improved.

일반적으로, 가스 공급 장치에서는, 복수의 유로 블록의 각 유로에 공통의 퍼지 가스를 분배 공급하는 배관이 설치되어 있다.Generally, in a gas supply device, a pipe for distributing and supplying a common purge gas to each flow path of a plurality of flow path blocks is provided.

따라서, 제4 발명에서는, 제3 발명에 있어서, 상기 고정 기구는 상기 복수의 유로 블록의 각 유로에 공통의 가스를 분배 공급하는 공급 부재를 포함하므로, 가스를 분배 공급하기 위한 공급 부재를 이용하여 고정 기구를 구성할 수 있다. 따라서, 가스 공급 장치의 구성 부재가 증가하는 것을 억제하면서, 히터로부터 유로 블록 측면으로의 열전달 효율을 향상시킬 수 있다.Therefore, in the fourth invention, in the third invention, the stationary mechanism includes a supply member for distributing and supplying a common gas to each flow path of the plurality of flow path blocks, and therefore, by using a supply member for distributing and supplying the gas A fixed mechanism can be constituted. Therefore, the heat transfer efficiency from the heater to the side of the flow path block can be improved while suppressing the increase of the constituent members of the gas supply device.

제5 발명에서는, 제1 또는 제2 발명에 있어서, 상기 복수의 유로 블록의 상기 인접하는 측면에는 오목부가 형성되어 있고, 상기 오목부에 상기 히터가 수용되는 동시에, 상기 인접하는 측면은 상기 오목부 이외의 부분에서 접촉하고 있는 것을 특징으로 하는 청구항 1 또는 2에 기재된 가스 공급 장치이다.In the fifth invention, in the first or second invention, the adjacent side surfaces of the plurality of flow path blocks are provided with concave portions, the heater is accommodated in the concave portions, And the gas supply device is a gas supply device according to claim 1 or 2.

상기 구성에 따르면, 상기 복수의 유로 블록의 상기 인접하는 측면에는 오목부가 형성되어 있고, 상기 오목부에 상기 히터가 수용되어 있으므로, 히터의 두께를 오목부에서 흡수할 수 있다. 따라서, 유로 블록끼리의 간격을 한층 좁게 할 수 있다. 또한, 유로 블록의 인접하는 측면은 상기 오목부 이외의 부분에서 접촉하고 있으므로, 히터의 배치 상태에 관계없이, 유로 블록끼리의 상대 위치를 일정하게 할 수 있다.According to the above configuration, since the adjacent side surfaces of the plurality of flow path blocks are provided with the recesses, and the heater is accommodated in the recesses, the thickness of the heater can be absorbed by the recesses. Therefore, the distance between the flow path blocks can be further narrowed. Since the adjacent side surfaces of the flow path block are in contact with each other at the portion other than the recess, the relative positions of the flow path blocks can be made constant irrespective of the arrangement of the heaters.

병렬로 배열된 복수의 유로 블록의 인접하는 측면 중, 한쪽의 측면을 가열하지 않도록 하는 것이 요망되는 경우가 있다.It is sometimes desired to prevent heating of one side surface of adjacent side surfaces of a plurality of line blocks arranged in parallel.

따라서, 제6 발명에서는, 제1 내지 제5 중 어느 하나의 발명에 있어서, 상기 복수의 유로 블록의 상기 인접하는 측면 중, 한쪽 측면과 상기 히터 사이에 단열 부재가 설치되어 있으므로, 히터로부터 한쪽 측면으로 전달되는 열을 단열 부재에 의해 감소시킬 수 있다. 그 결과, 복수의 유로 블록의 인접하는 측면 중, 한쪽 측면에 대해 가열을 억제할 수 있다.Therefore, in the sixth invention, in any one of the first to fifth aspects, since the heat insulating member is provided between one side of the adjacent side surfaces of the plurality of flow path blocks and the heater, Can be reduced by the heat insulating member. As a result, it is possible to suppress heating of one side surface of the adjacent side surfaces of the plurality of flow path blocks.

제7 발명에서는, 제1 내지 제6 중 어느 하나의 발명에 있어서, 상기 개폐 밸브는 전자기 밸브이고, 상기 전자기 밸브는 그 코일의 외주에 케이스를 갖고 있고, 상기 전자기 밸브의 상기 케이스와 상기 밸브 탑재면을 연결하는 전열 부재를 구비하므로, 전자기 밸브의 코일에서 발생하는 열을, 전열 부재를 통해 유로 블록으로 전달할 수 있다. 그 결과, 전자기 밸브에서 발생하는 열을 가스의 가열에 이용할 수 있으므로, 발열량이 작은 히터를 사용하는 것이 가능해진다.According to a seventh aspect of the present invention, in any one of the first to sixth aspects, the opening / closing valve is an electromagnetic valve, the electromagnetic valve has a case on the outer periphery of the coil, The heat generated in the coil of the electromagnetic valve can be transmitted to the flow path block through the heat transfer member. As a result, since the heat generated in the electromagnetic valve can be used for heating the gas, it is possible to use a heater with a small heating value.

특히, 제3 발명과 제7 발명을 조합한 경우에는, 상기 복수의 유로 블록을 고정하는 고정 기구가, 상기 전자기 밸브의 상기 케이스와 상기 밸브 탑재면을 연결하는 전열 부재를 겸함으로써, 가스 공급 장치의 구성 부재가 증가하는 것을 억제하면서, 양 발명의 효과를 발휘할 수 있다.Particularly, when the third invention and the seventh invention are combined, the fixing mechanism for fixing the plurality of flow path blocks also serves as a heat transfer member connecting the case of the electromagnetic valve and the valve mounting surface, The effects of the two inventions can be exerted while suppressing an increase in the number of constituent members.

도 1은 가스 공급 장치의 사시도.
도 2는 가스 공급 유닛을 폭 방향에서 절단한 단면도.
도 3은 도 2의 3-3선 단면도.
도 4는 가스 공급 장치의 하면도.
도 5는 가스 공급 장치의 정면도.
도 6은 가스 공급 장치의 변형예를 도시하는 정면도.
도 7은 가스 공급 장치의 다른 변형예를 도시하는 사시도.1 is a perspective view of a gas supply device;
2 is a cross-sectional view of the gas supply unit cut along the width direction;
3 is a sectional view taken along line 3-3 of Fig.
4 is a bottom view of the gas supply device.
5 is a front view of the gas supply device.
6 is a front view showing a modified example of the gas supply device.
7 is a perspective view showing another modification of the gas supply device.

이하, 본 발명을 구현화한 일 실시 형태에 대해, 도면을 참조하면서 설명한다.BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 1에 도시하는 바와 같이, 가스 공급 장치(10)는 동일한 구성의 가스 공급 유닛(11)을 복수 구비하고 있다.As shown in Fig. 1, the gas supply device 10 includes a plurality of gas supply units 11 having the same configuration.

가스 공급 유닛(11)은, 장척 형상으로 연장되는 직육면체 형상으로 형성된 유로 블록(20)과, 복수의 개폐 밸브[50(50A)]를 구비하고 있다. 유로 블록(20)의 상면(20a)(밸브 탑재면)에는 복수의 개폐 밸브(50)가 탑재되어 있다. 개폐 밸브(50)는, 상면(20a)의 길이 방향을 따라 직렬로 배치되어 있다. 개폐 밸브(50)는, 기둥 형상으로 형성되어 있다. 유로 블록(20)의 상면(20a)의 폭은, 동일 방향에 있어서의 개폐 밸브(50)의 폭과 대략 동등하게 되어 있다.The gas supply unit 11 is provided with a flow path block 20 formed in a rectangular parallelepiped extending in an elongated shape and a plurality of open / close valves 50 (50A). On the top surface 20a (valve mounting surface) of the flow path block 20, a plurality of on / off valves 50 are mounted. The opening and closing valves 50 are arranged in series along the longitudinal direction of the upper surface 20a. The opening / closing valve 50 is formed in a columnar shape. The width of the upper surface 20a of the flow path block 20 is substantially equal to the width of the opening / closing valve 50 in the same direction.

복수의 가스 공급 유닛(11)은, 유로 블록(20)에 있어서 상면(20a)을 폭 방향으로부터 끼우는 양 측면(20c)끼리가 인접하도록 병렬로 배열되어 있다. 즉, 복수의 가스 공급 유닛(11)에서는, 유로 블록(20)의 상면(20a)의 폭 방향(길이 방향에 직교하는 방향)에 있어서, 유로 블록(20)의 서로의 측면(20c)이 대향하고 있다.The plurality of gas supply units 11 are arranged in parallel so that both side surfaces 20c of the flow path block 20 sandwiching the upper surface 20a from the width direction are adjacent to each other. That is, in the plurality of gas supply units 11, the side surfaces 20c of the flow path block 20 are opposed to each other in the width direction (direction perpendicular to the longitudinal direction) of the upper surface 20a of the flow path block 20 .

병렬로 배열된 유로 블록(20)의 인접하는 양 측면(20c) 사이에는, 히터(31)가 설치되어 있다. 또한, 이들 유로 블록(20) 중 폭 방향의 양단부에 배치된 유로 블록(20)에서는, 가스 공급 장치(10)의 외주면이 되는 측면(20c)에 히터(31)가 설치되어 있다. 히터(31)는 필름 형상(예를 들어 약 0.3㎜의 두께)으로 형성되어 있고, 가요성을 갖고 있다. 히터(31)는 힘이 가해지지 않는 상태에 있어서 형상이 유지되어 있어, 보형성(保形性)을 갖고 있다. 히터(31)는, 유로 블록(20)의 길이 방향을 따라 연장되어 있다. 히터(31)는 직사각 형상으로 형성되어 있다. 히터(31)의 긴 변의 길이(길이 방향의 길이)는, 유로 블록(20)의 길이 방향의 길이보다도 약간 길게 설정되어 있다. 히터(31)의 짧은 변의 길이(짧은 방향의 길이)는, 유로 블록(20)의 높이 방향의 길이[측면(20c)의 짧은 방향의 길이]와 동등하게 되어 있다.A heater 31 is provided between adjacent two side surfaces 20c of the flow path block 20 arranged in parallel. In the flow path block 20 disposed at both ends in the width direction of the flow path block 20, the heater 31 is provided on the side surface 20c serving as the outer peripheral surface of the gas supply device 10. [ The heater 31 is formed in a film shape (for example, a thickness of about 0.3 mm) and has flexibility. The heater 31 has a shape retained in a state in which no force is applied, and has a shape retaining property. The heater (31) extends along the longitudinal direction of the flow path block (20). The heater 31 is formed in a rectangular shape. The length (length in the longitudinal direction) of the long side of the heater 31 is set to be slightly longer than the length in the longitudinal direction of the flow path block 20. The length of the short side of the heater 31 (length in the short direction) is equal to the length in the height direction of the flow path block 20 (the length in the short side direction of the side surface 20c).

히터(31)는, 측면(20c)의 전체면을 덮도록 배치되어 있다. 상세하게는, 히터(31)의 짧은 방향의 양단부가 측면(20c)의 짧은 방향의 양단부와 일치하고 있다. 히터(31)의 길이 방향의 일단부는 측면(20c)의 길이 방향의 단부와 일치하고 있고, 히터(31)의 길이 방향의 타단부는 측면(20c)의 길이 방향의 단부보다도 약간 돌출되어 있다. 이로 인해, 히터(31)는 대략 전체면이 측면(20c)을 따르도록 배치되어 있다. 히터(31)에 있어서, 측면(20c)보다도 돌출된 부분에 히터(31)로 전력을 공급하는 배선이 접속된다. 히터(31)는, 공급되는 전력에 의해 양면이 발열하여 유로 블록(20)을 가열한다.The heater 31 is disposed so as to cover the entire surface of the side surface 20c. Specifically, both end portions in the short direction of the heater 31 coincide with both end portions in the short direction of the side surface 20c. One end in the longitudinal direction of the heater 31 coincides with the longitudinal end of the side face 20c and the other end in the longitudinal direction of the heater 31 slightly protrudes from the end in the longitudinal direction of the side face 20c. As a result, the heater 31 is arranged so that the substantially entire surface thereof is along the side surface 20c. In the heater 31, a wiring for supplying electric power to the heater 31 is connected to a portion protruding from the side surface 20c. The heater 31 generates heat on both sides by the supplied electric power to heat the flow path block 20.

복수의 가스 공급 유닛(11)은, 유로 블록(20)의 인접하는 양 측면(20c) 사이에 히터(31)를 끼워 넣은 상태에서, 유로 블록(20)의 폭 방향[상면(20a)의 폭 방향]으로 집적되어 있다. 그리고 복수의 유로 블록(20) 및 복수의 히터(31)는, 전체적으로 직육면체 형상을 이루고 있다. 상세하게는, 각 유로 블록(20)의 상면(20a)의 높이(위치)가 일치하고 있는 동시에, 각 유로 블록(20)의 길이 방향의 단부면의 위치가 일치하고 있다.The plurality of gas supply units 11 are arranged in the width direction of the flow path block 20 (the width of the upper surface 20a) of the flow path block 20 in a state in which the heater 31 is sandwiched between the adjacent two side surfaces 20c of the flow path block 20. [ Direction]. The plurality of flow path blocks 20 and the plurality of heaters 31 have a rectangular parallelepiped shape as a whole. Specifically, the height (position) of the upper surface 20a of each channel block 20 coincides with the position of the end surface in the longitudinal direction of each channel block 20.

다음에, 도 2, 도 3을 참조하여, 1개의 가스 공급 유닛(11)의 구성에 대해 대표하여 설명한다. 또한, 도 2는 가스 공급 유닛(11)을 폭 방향에서 절단한 단면도이다. 도 3은, 도 2의 3-3선 단면도에 대해 개폐 밸브(50)를 생략하고 도시하고 있다.Next, the configuration of one gas supply unit 11 will be described as an example with reference to Figs. 2 and 3. Fig. 2 is a cross-sectional view of the gas supply unit 11 cut in the width direction. Fig. 3 is a cross-sectional view taken along the line 3-3 of Fig. 2, in which the open / close valve 50 is omitted.

유로 블록(20)의 내부에는, 그 길이 방향[상면(20a)의 길이 방향]을 따라 직선 형상으로 연장되는 캐링 가스 유로(21)(주 유로)가 형성되어 있다. 캐링 가스 유로(21)는, 대략 원형의 유로 단면을 갖고 있고, 그 굵기(직경)가 일정해지도록 형성되어 있다. 상세하게는, 캐링 가스 유로(21)는, 유로 블록(20)의 길이 방향의 단부면(20d)으로부터 드릴 등으로 가공을 행함으로써 형성되어 있다. 그리고 그 가공 구멍이 마개(27)에 의해 폐쇄되어 있다. 캐링 가스 유로(21)에 있어서 마개(27)와 반대측의 단부에는, 캐링 가스의 출력 포트(29)가 접속되어 있다.A carrying gas passage 21 (main passage) extending linearly along its longitudinal direction (longitudinal direction of the upper surface 20a) is formed in the inside of the flow path block 20. The carrying gas channel 21 has a substantially circular channel cross-section and is formed so that its thickness (diameter) becomes constant. Specifically, the carrying gas passage 21 is formed by machining from the end surface 20d in the longitudinal direction of the flow path block 20 with a drill or the like. Then, the processing hole is closed by the stopper 27. An output port 29 of the carrying gas is connected to an end of the carrying gas passage 21 on the opposite side of the stopper 27.

유로 블록(20)의 내부에는, 캐링 가스 유로(21)에 각각 연통되는 복수의 프로세스 가스 유로(22)(부 유로)가 형성되어 있다. 프로세스 가스 유로[22(22A)]는, 유로 블록(20)의 하면(20b)(부 유로 개구면)에 개방되어 있다. 프로세스 가스 유로(22)는, 하면(20b)에 있어서 폭 방향(도 3의 좌우 방향)의 중앙에 개방되어 있다. 즉, 프로세스 가스 유로(22)의 개구부는, 유로 블록(20)을 폭 방향에서 이등분하는 가상 평면(F)을 중심으로 하여 균등하게 배치되어 있다.A plurality of process gas flow paths 22 (sub flow paths) communicating with the carrying gas flow paths 21 are formed in the flow path block 20, respectively. The process gas flow path 22 (22A) is opened on the lower surface 20b (minor flow path opening surface) of the flow path block 20. The process gas flow path 22 is open at the center in the width direction (left and right direction in Fig. 3) on the lower surface 20b. That is, the openings of the process gas flow path 22 are evenly arranged around the imaginary plane F dividing the flow path block 20 in the width direction.

유로 블록(20)의 상면(20a)에는, 유로 블록(20)의 길이 방향[상면(20a)의 길이 방향]을 따라 소정 간격으로 상기 개폐 밸브(50)의 밸브실(24)이 설치되어 있다. 그리고 상기 각 프로세스 가스 유로(22)는 각 밸브실(24)에 연통되어 있다. 즉, 개폐 밸브(50)는 프로세스 가스 유로(22)마다 설치되어 있다.The valve chamber 24 of the on-off valve 50 is provided on the upper surface 20a of the flow path block 20 at predetermined intervals along the longitudinal direction of the flow path block 20 (the longitudinal direction of the upper surface 20a) . Each of the process gas flow paths 22 communicates with the respective valve chambers 24. That is, the on-off valve 50 is provided for each of the process gas flow paths 22.

밸브실(24)은, 캐링 가스 유로(21)가 연장되는 방향을 따라 소정 간격으로 설치되어 있는 동시에, 유로 블록(20)의 폭 방향[유로 블록(20)의 상면(20a)의 폭 방향]에 있어서 중앙에 설치되어 있다. 밸브실(24)은, 대략 원형의 오목부로서 형성되어 있다. 그리고 밸브실(24)은, 유로 블록(20)의 폭을 축소하기 위해, 유로 블록(20)의 폭 방향의 대략 전체 길이에 걸쳐 설치되어 있다. 환언하면, 유로 블록(20)의 폭은, 밸브실(24)의 직경과 대략 동등하게 또는 그보다도 약간 넓게 설정되어 있다.The valve chamber 24 is provided at a predetermined interval along the direction in which the carrying gas passage 21 extends and at the same time the width direction of the flow path block 20 (the width direction of the upper surface 20a of the flow path block 20) As shown in Fig. The valve chamber 24 is formed as a substantially circular concave portion. In order to reduce the width of the flow path block 20, the valve chamber 24 is provided over substantially the whole length of the flow path block 20 in the width direction. In other words, the width of the flow path block 20 is set to be substantially equal to or slightly wider than the diameter of the valve chamber 24.

밸브실(24)의 중앙에는, 개폐 밸브(50)의 밸브체(51)가 접촉 및 이격되는 밸브 시트(24a)가 설치되어 있다. 밸브 시트(24a)는, 대략 원환상의 돌기부로서 형성되어 있다. 밸브실(24)의 중앙, 즉 밸브 시트(24a)로 둘러싸이는 부분에는, 접속 유로(26)가 연통되어 있다. 접속 유로(26)는, 유로 블록(20) 내에 있어서, 유로 블록(20)의 상면(20a)으로부터 이격되는 방향으로 연장되어 상기 캐링 가스 유로(21)에 접속되어 있다. 즉, 접속 유로(26)는 밸브실(24)과 캐링 가스 유로(21)를 접속하고 있다. 따라서, 상기 프로세스 가스 유로(22)는, 밸브실(24) 및 접속 유로(26)를 통해 캐링 가스 유로(21)에 접속되어 있다.At the center of the valve chamber 24, there is provided a valve seat 24a in which the valve body 51 of the open / close valve 50 contacts and separates. The valve seat 24a is formed as a substantially annular projection. The connection passage 26 communicates with a portion of the valve chamber 24 surrounded by the valve seat 24a. The connecting flow path 26 extends in a direction away from the upper surface 20a of the flow path block 20 in the flow path block 20 and is connected to the carrying gas flow path 21. [ That is, the connection passage 26 connects the valve chamber 24 and the carrying gas passage 21. Therefore, the process gas flow path 22 is connected to the carrying gas flow path 21 through the valve chamber 24 and the connection flow path 26.

프로세스 가스 차단 후의 데드 스페이스가 되는 접속 유로(26)를 가능한 한 짧게 하기 위해, 캐링 가스 유로(21)는 밸브실(24)의 근방에 배치되어 있다. 접속 유로(26)는 유로 블록(20)의 상면(20a)으로부터 수직으로 연장되어 캐링 가스 유로(21)에 접속되어 있다. 상세하게는, 상면(20a)의 폭 방향에 관하여, 접속 유로(26)는 캐링 가스 유로(21)의 단부 부근에 접속되어 있다. 또한, 접속 유로(26)는, 유로 블록(20)의 폭 방향의 중앙에 배치되어 있다. 이로 인해, 유로 블록(20)에 있어서 복수의 접속 유로(26)의 중심 축선은, 유로 블록(20)을 폭 방향에서 이등분하는 가상 평면(F) 상에 위치하고 있다.The carrying gas passage 21 is disposed in the vicinity of the valve chamber 24 in order to shorten the connection passage 26 that becomes the dead space after the process gas is shut off as short as possible. The connecting passage 26 extends vertically from the upper surface 20a of the passage block 20 and is connected to the carrying gas passage 21. [ More specifically, with respect to the width direction of the upper surface 20a, the connection passage 26 is connected to the vicinity of the end of the carrying gas passage 21. [ The connecting flow path 26 is disposed at the center in the width direction of the flow path block 20. The central axes of the plurality of connection flow paths 26 in the flow path block 20 are located on the imaginary plane F dividing the flow path block 20 in the width direction.

캐링 가스 유로(21)는, 접속 유로(26)나 프로세스 가스 유로(22)보다도 굵게 형성되어 있다. 이로 인해, 캐링 가스 유로(21)가 유로 블록(20)의 길이 방향으로 직선 형상으로 연장되는 구성이었다고 해도 비교적 용이하게 가공을 행할 수 있다.The carrying gas passage 21 is formed to be thicker than the connecting passage 26 and the process gas passage 22. Thus, even if the carrying gas passage 21 extends linearly in the longitudinal direction of the flow path block 20, the machining can be performed relatively easily.

개폐 밸브(50)는 전자기 구동식 밸브이며, 코일(52)에의 통전 제어를 통해 밸브체(51)를 왕복 구동한다. 그리고 밸브실(24)에 설치된 밸브 시트(24a)에 밸브체(51)가 접촉 및 이격됨으로써, 밸브실(24)과 접속 유로(26)가 차단 및 연통된다. 유로 블록(20)의 길이 방향에 있어서, 출력 포트(29)와 반대측의 단부에 설치된 개폐 밸브(50A)는 캐링 가스의 유통 상태를 변경한다. 즉, 복수의 프로세스 가스 유로(22) 중, 유로 블록(20)의 길이 방향에 있어서 캐링 가스(퍼지 가스)의 출력 포트(29)와 반대측의 단부에 설치된 프로세스 가스 유로(22A)는 캐링 가스의 유로로서 사용된다. 다른 개폐 밸브(50)는 각 프로세스 가스의 유통 상태를 변경한다.The on-off valve 50 is an electromagnetic-driven valve, and reciprocally drives the valve body 51 through energization control to the coil 52. [ The valve body (51) is brought into contact with and separated from the valve seat (24a) provided in the valve chamber (24), so that the valve chamber (24) and the connection passage (26) are intercepted and communicated. The opening / closing valve 50A provided at the end opposite to the output port 29 in the longitudinal direction of the flow path block 20 changes the circulating state of the carrying gas. That is, the process gas flow path 22A provided at the end opposite to the output port 29 of the carrying gas (purge gas) in the longitudinal direction of the flow path block 20, among the plurality of process gas flow paths 22, It is used as a channel. The other on-off valve 50 changes the flow state of each process gas.

여기서, 캐링 가스 유로(21)는 유로 블록(20)의 폭 방향에 관하여 밸브실(24)의 중앙으로부터 일측으로 치우친 부분, 즉 가상 평면(F)으로부터 치우친 부분에 배치되어 있다. 즉, 캐링 가스 유로(21)의 중심 축선은 가상 평면(F)으로부터 어긋나 있고, 캐링 가스 유로(21)는 유로 블록(20)의 폭 방향의 중앙으로부터 치우쳐 있다. 환언하면, 캐링 가스 유로(21)는 유로 블록(20)에 있어서 상면(20a)을 폭 방향으로부터 끼우는 양 측면(20c)의 한쪽 부근에 배치되어 있다. 이로 인해, 유로 블록(20)에 있어서, 캐링 가스 유로(21)를 배치한 부분과 반대측의 부분에 다른 유로를 배치하기 위한 체적(공간)을 확보할 수 있다. 또한, 캐링 가스 유로(21)는, 밸브실(24)의 중앙으로부터 상면(20a)에 대해 수직으로 연장되는 접속 유로(26)에 접속할 수 있는 범위에서, 유로 블록(20)의 폭 방향에 관하여 밸브실(24)의 중앙으로부터 일측으로 치우쳐 있다. 또한, 캐링 가스 유로(21)의 유로 단면적(직경)은, 가스 공급 유닛(11)에 있어서 필요한 양의 캐링 가스를 유통시킬 수 있도록 설정되어 있다.Here, the carrying gas passage 21 is disposed at a portion offset from the center of the valve chamber 24 in the width direction of the flow passage block 20, that is, at a position offset from the virtual plane F. That is, the center axis of the carrying gas passage 21 is shifted from the imaginary plane F, and the carrying gas passage 21 is offset from the center of the flow passage block 20 in the width direction. In other words, the carrying gas passage 21 is disposed near one side of both side surfaces 20c of the flow path block 20, which sandwich the upper surface 20a from the width direction. This makes it possible to secure a volume (space) for disposing other flow paths in a portion of the flow path block 20 opposite to the portion where the carrying gas flow path 21 is disposed. The carrying gas passage 21 is formed in the width direction of the flow passage block 20 within a range capable of being connected to the connection passage 26 extending perpendicularly from the center of the valve chamber 24 to the upper surface 20a Is biased to one side from the center of the valve chamber (24). The cross-sectional area (diameter) of the flow path of the carrying gas passage 21 is set so that a necessary amount of carrying gas can be circulated in the gas supply unit 11.

그리고 캐링 가스 유로(21)를 가상 평면(F)으로부터 치우치게 하여 배치함으로써 반대측에 확보된 부분을 프로세스 가스 유로(22)가 통과하고 있다. 프로세스 가스 유로(22)는, 유로 블록(20)에 있어서 가상 평면(F)으로부터 캐링 가스 유로(21)와는 반대측으로 치우친 부분을 통과하여 상기 밸브실(24)에 접속되어 있다. 이로 인해, 개폐 밸브(50)[밸브실(24)]가 설치되는 상면(20a)에 대해 수직인 측면(20c)에 프로세스 가스의 입력 포트를 설치할 필요가 없다.The processing gas flow path 22 passes through the portion secured on the opposite side by arranging the carrying gas flow path 21 offset from the virtual plane F. [ The process gas flow path 22 is connected to the valve chamber 24 through a portion deviated from the virtual plane F toward the opposite side of the carrying gas flow path 21 in the flow path block 20. It is not necessary to provide an input port of the process gas on the side surface 20c perpendicular to the upper surface 20a on which the valve 50 (valve chamber 24) is provided.

프로세스 가스 유로(22)는, 유로 블록(20)의 상면(20a)에 대해 수직으로 연장되는 수직 부분(22b)을 갖고 있다. 그리고 이 수직 부분(22b)이 캐링 가스 유로(21)의 옆을 통과하고 있다. 이로 인해, 유로 블록(20) 내에 있어서, 캐링 가스 유로(21)와 측면(20c)의 간격을 일정하게 유지하도록 수직 부분(22b)을 배치할 수 있다. 프로세스 가스 유로(22)에 있어서 캐링 가스 유로(21)의 옆을 통과하는 수직 부분(22b)이, 다른 부분인 경사 부분(22a)보다도 가늘게 형성되어 있다. 이들의 구성에 의해, 유로 블록(20)의 폭이 제한되는 경우라도, 유로 블록(20) 내에 있어서 캐링 가스 유로(21)에 간섭하지 않도록 프로세스 가스 유로(22)[수직 부분(22b)]를 배치하는 것이 용이해진다. 또한, 프로세스 가스 유로(22)는, 유로 블록(20)의 하면(20b)에 있어서 폭 방향의 중앙에 개방되는 동시에, 캐링 가스 유로(21)를 피하도록 절곡되어 밸브실(24)에 접속되어 있다.The process gas flow path 22 has a vertical portion 22b extending perpendicularly to the upper surface 20a of the flow path block 20. The vertical portion 22b passes through the side of the carrying gas passage 21. The vertical portion 22b can be disposed in the flow path block 20 so as to keep the distance between the carrying gas passage 21 and the side surface 20c constant. The vertical portion 22b passing through the side of the carrying gas passage 21 in the process gas passage 22 is formed thinner than the inclined portion 22a which is the other portion. Even when the width of the flow path block 20 is limited by these configurations, the process gas flow path 22 (the vertical portion 22b) can be formed in the flow path block 20 so as not to interfere with the carrying gas flow path 21 It becomes easy to arrange them. The process gas flow path 22 is opened at the center in the width direction on the lower surface 20b of the flow path block 20 and bent to avoid the carrying gas flow path 21 and connected to the valve chamber 24 have.

다음에, 도 4, 도 5를 참조하여, 각 가스 공급 유닛(11)의 캐링 가스 유로(21)[프로세스 가스 유로(22A)]에 캐링 가스를 분배 공급하는 공급 블록(41)의 구성에 대해 설명한다. 또한, 도 4는 가스 공급 장치(10)의 하면도이고, 도 5는 가스 공급 장치(10)의 정면도이다.Next, with reference to Figs. 4 and 5, a configuration of the supply block 41 for distributing and supplying the carrying gas to the carrying gas passage 21 (the process gas passage 22A) of each gas supply unit 11 Explain. 4 is a bottom view of the gas supply device 10, and Fig. 5 is a front view of the gas supply device 10. Fig.

모든 유로 블록(20)의 프로세스 가스 유로(22A)의 개구부는, 가스 공급 장치(10)의 폭 방향[유로 블록(20)의 폭 방향]으로 보아 직선 상에 배열되어 있다. 병렬로 배열된 유로 블록(20)의 하면(20b)에 있어서, 직선 상에 배열된 프로세스 가스 유로(22A)의 개구부에는, 공급 블록(41)(공급 부재)이 설치되어 있다. 공급 블록(41)은 내부에 캐링 가스의 도입 유로(42)(도 5에 있어서 파선으로 모식적으로 표시)가 형성된 유로부(41a)와, 관통 구멍이 형성된 장착부(41b)를 구비하고 있다. 유로부(41a)는 직육면체 형상으로 형성되어 있고, 그 양 측면으로부터 돌출되도록 직육면체 형상의 장착부(41b)가 설치되어 있다. 2개의 장착부(41b)는 유로부(41a)의 측면을 따라 각각 연장되어 있다. 그리고 유로 블록(20)에 대해 공급 블록(41)의 장착부(41b)가 볼트(43)에 의해 고정되어 있다.The openings of the process gas flow paths 22A of all the flow path blocks 20 are arranged in a straight line in the width direction of the gas supply device 10 (width direction of the flow path block 20). In the lower surface 20b of the flow path block 20 arranged in parallel, a supply block 41 (supply member) is provided in the opening of the process gas flow path 22A arranged in a straight line. The supply block 41 is provided with a flow passage portion 41a in which a carry gas introduction passage 42 (schematically indicated by a broken line in Fig. 5) is formed therein and a mount portion 41b in which a through hole is formed. The flow path portion 41a is formed in a rectangular parallelepiped shape, and a rectangular parallelepiped-shaped mounting portion 41b is provided so as to protrude from both sides thereof. The two mounting portions 41b extend along the side surface of the flow path portion 41a. The mounting portion 41b of the supply block 41 is fixed to the flow block 20 by bolts 43. [

유로부(41a)에는 캐링 가스의 입력 포트(28)가 장착되어 있다. 입력 포트(28)는 유로부(41a)에 있어서 길이 방향의 단부면에 장착되어 있다. 유로부(41a)의 내부의 도입 유로(42)는, 상류측의 단부가 입력 포트(28)에 연통되어 있다. 도입 유로(42)는 입력 포트(28)와의 연통부로부터 하류측으로 연장되어 복수로 분기되어 있다. 도입 유로(42)의 하류측의 각 단부는, 유로부(41a)에 있어서 유로 블록(20)의 하면(20b)측의 면에서 개방되어 있다. 이 각 개구부에 있어서, 도입 유로(42)의 하류측의 각 단부는 각 유로 블록(20)의 하면(20b)에 개방된 프로세스 가스 유로(22A)에 접속되어 있다. 도입 유로(42)의 하류측의 각 단부와 각 프로세스 가스 유로(22A)의 접속부는, 밀봉 부재에 의해 밀봉되어 있다. 그리고 입력 포트(28)로부터 모든 유로 블록(20)의 각 프로세스 가스 유로(22A)에 공통의 퍼지 가스가 분배 공급된다.An input port 28 of a carrying gas is mounted on the flow path portion 41a. The input port 28 is mounted on the end surface in the longitudinal direction of the flow path portion 41a. The upstream end of the introduction flow path 42 inside the flow path portion 41a communicates with the input port 28. [ The introduction flow path 42 extends from the communication portion with the input port 28 to the downstream side and is divided into a plurality of portions. Each end on the downstream side of the introduction flow path 42 is opened on the surface of the flow path portion 41a on the side of the bottom surface 20b of the flow path block 20. In each of the openings, each end on the downstream side of the introduction flow path 42 is connected to the process gas flow path 22A opened to the lower surface 20b of each flow path block 20. The downstream end of the introduction flow path 42 and the connection portion of each process gas flow path 22A are sealed by a sealing member. A common purge gas is distributed and supplied from the input port 28 to each of the process gas flow paths 22A of all the flow path blocks 20.

여기서, 병렬로 배열된 가스 공급 유닛(11)은 서로 고정되어 있고, 전체적으로 일체화되어 있다. 구체적으로는, 병렬로 배열된 유로 블록(20)이, 브래킷(46) 및 상기 공급 블록(41)을 사용하여 고정되어 있다.Here, the gas supply units 11 arranged in parallel are fixed to each other, and are integrated as a whole. Specifically, the flow path block 20 arranged in parallel is fixed using the bracket 46 and the supply block 41. [

각 유로 블록(20)의 하면(20b)에는, 길이 방향을 따라 소정 간격으로 볼트 구멍(47)이 형성되어 있다. 볼트 구멍(47)은, 각 유로 블록(20)의 하면(20b)에 있어서 폭 방향의 중앙에 형성되어 있다.Bolt holes 47 are formed in the lower surface 20b of each channel block 20 at predetermined intervals along the longitudinal direction. The bolt holes 47 are formed at the center in the width direction on the lower surface 20b of each flow path block 20. [

브래킷(46)은, 장척 형상으로 형성되어 있고, 상세하게는 대략 직사각형의 판 형상으로 형성되어 있다. 브래킷(46)의 길이 방향의 길이는, 가스 공급 장치(10)가 구비하는 복수의 유로 블록(20) 및 유로 블록(20) 사이에 개재되는 히터(31)의 폭(두께)을 합한 길이와 대략 동등하게 설정되어 있다. 여기서는, 브래킷(46)의 길이 방향의 길이는, 4개의 유로 블록(20)의 폭과 3개의 히터(31)의 두께를 합한 길이와 대략 동등하게 설정되어 있다. 또한, 유로 블록(20)의 폭에 비해 히터(31)의 두께를 무시할 수 있는 경우에는, 유로 블록(20)의 폭만을 고려해도 좋다.The bracket 46 is formed in an elongated shape, and more specifically, in a substantially rectangular plate shape. The length in the longitudinal direction of the bracket 46 is equal to the sum of the widths (thicknesses) of the plurality of flow path blocks 20 provided in the gas supply device 10 and the width of the heaters 31 interposed between the flow path blocks 20 They are set approximately equal. Here, the length in the longitudinal direction of the bracket 46 is set to be substantially equal to the sum of the widths of the four flow path blocks 20 and the thicknesses of the three heaters 31. When the thickness of the heater 31 is negligible compared with the width of the flow path block 20, only the width of the flow path block 20 may be considered.

가스 공급 장치(10)의 폭 방향[유로 블록(20)의 폭 방향]에 브래킷(46)의 길이 방향을 일치시켜, 복수의 유로 블록(20)의 하면(20b)에 걸쳐 브래킷(46)이 배치되어 있다. 브래킷(46)은, 유로 블록(20)의 길이 방향의 단부에 있어서 상기 볼트 구멍(47)이 형성된 위치에 배치되어 있다. 유로 블록(20)의 하면(20b)에는, 접속 부재가 프로세스 가스 유로(22)마다 설치된다. 접속 부재는, 상기한 단부 이외의 볼트 구멍(47)에 있어서 유로 블록(20)에 볼트에 의해 고정된다. 이 접속 부재에는, 그 하면으로부터 상면까지 관통하는 직선 형상의 도입 유로가 형성되어 있다. 이들 도입 유로 및 프로세스 가스 유로(22)의 접속부는 가스킷에 의해 밀봉된다. 브래킷(46)에는, 볼트 구멍(47)에 대응하는 위치에 관통 구멍이 형성되어 있다. 브래킷(46)의 길이 방향의 양단부에서는, 관통 구멍 대신에 절결부(46a)가 형성되어 있다. 이들 관통 구멍 및 절결부(46a)는 볼트 구멍(47)보다도 크게 형성되어 있다. 이로 인해, 이들 관통 구멍 및 절결부(46a)에 볼트(43)를 삽입하여, 볼트(43)를 볼트 구멍(47)에 임시 체결한 상태에 있어서, 유로 블록(20)과 브래킷(46)을 상대 이동시킬 수 있다.The lengthwise direction of the bracket 46 is aligned with the width direction of the gas supply device 10 (the width direction of the flow path block 20) so that the brackets 46 extend across the lower surface 20b of the plurality of flow path blocks 20 Respectively. The bracket 46 is disposed at a position where the bolt hole 47 is formed at an end portion in the longitudinal direction of the flow path block 20. In the lower surface 20b of the flow path block 20, a connecting member is provided for each of the process gas flow paths 22. The connecting member is bolted to the flow path block 20 at the bolt hole 47 other than the end. The connection member is formed with a linear introduction flow passage extending from the lower surface to the upper surface. These connection paths of the introduction flow path and the process gas flow path 22 are sealed by the gasket. A through hole is formed in the bracket 46 at a position corresponding to the bolt hole 47. At both ends in the longitudinal direction of the bracket 46, notches 46a are formed instead of the through holes. These through holes and cutouts 46a are formed larger than the bolt holes 47. [ The bolt 43 is inserted into the through hole and the notch 46a and the bolt 43 is temporarily fastened to the bolt hole 47 so that the flow path block 20 and the bracket 46 Relative movement.

상기 공급 블록(41)의 길이 방향의 길이[유로부(41a) 및 장착부(41b)의 길이 방향의 길이]는, 브래킷(46)과 동등한 길이로 설정되어 있다. 가스 공급 장치(10)의 폭 방향에 공급 블록(41)의 길이 방향을 일치시켜, 복수의 유로 블록(20)의 하면(20b)에 걸쳐 공급 블록(41)이 배치되어 있다. 공급 블록(41)은, 유로 블록(20)의 길이 방향에 있어서 장착부(41b)의 위치가 볼트 구멍(47)의 위치에 일치하도록 배치되어 있다. 장착부(41b)에는, 볼트 구멍(47)에 대응하는 위치에 관통 구멍이 형성되어 있다. 이들 관통 구멍은 볼트 구멍(47)보다도 크게 형성되어 있다. 상세하게는, 이들 관통 구멍은, 볼트 구멍(47)의 직경보다도 직경이 큰 둥근 구멍이나, 짧은 방향의 길이가 볼트 구멍(47)의 직경과 동등하고 또한 길이 방향의 길이가 볼트 구멍(47)의 직경보다도 긴 긴 구멍으로 형성되어 있다. 이로 인해, 이들 관통 구멍에 볼트(43)를 삽입하여, 볼트(43)를 볼트 구멍(47)에 임시 체결한 상태에 있어서, 유로 블록(20)과 공급 블록(41)을 상대 이동시킬 수 있다.The length in the longitudinal direction of the supply block 41 (the length in the longitudinal direction of the flow path portion 41a and the mounting portion 41b) is set to a length equivalent to that of the bracket 46. [ The supply block 41 is disposed over the lower surface 20b of the plurality of flow path blocks 20 with the longitudinal direction of the supply block 41 aligned with the width direction of the gas supply device 10. [ The supply block 41 is arranged so that the position of the mounting portion 41b in the longitudinal direction of the flow path block 20 coincides with the position of the bolt hole 47. [ A through hole is formed in the mounting portion 41b at a position corresponding to the bolt hole 47. [ These through holes are formed larger than the bolt holes 47. Specifically, these through holes are round holes having a diameter larger than the diameter of the bolt holes 47, but the length in the short direction is equal to the diameter of the bolt holes 47, As shown in Fig. The flow path block 20 and the supply block 41 can be moved relative to each other by inserting the bolts 43 into the through holes and temporarily fastening the bolts 43 to the bolt holes 47 .

그리고 볼트(43)를 임시 체결한 상태에서, 가스 공급 장치(10)가 폭 방향으로부터 압박되고, 즉 복수의 유로 블록(20)끼리의 간격이 좁아지도록 압박되고, 그 후에 볼트(43)가 체결 장착되어 있다. 상세하게는, 유로 블록(20)에 대해 브래킷(46) 및 공급 블록(41)의 장착부(41b)가 볼트(43)에 의해 체결되어 있다. 유로 블록(20)과 브래킷(46)과 볼트(43) 사이의 마찰력 및 유로 블록(20)과 공급 블록(41)과 볼트(43) 사이의 마찰력에 의해, 이들의 상대 위치가 변화되지 않도록 유지된다. 이로 인해, 유로 블록(20)의 인접하는 측면(20c)에 의해 히터(31)가 압박된 상태에서, 복수의 유로 블록(20)이 고정되어 있다. 유로 블록(20)의 인접하는 측면(20c)에 의해 끼워 넣어진 히터(31)는, 측면(20c)을 따른 상태로 되어, 측면(20c)과 히터(31) 사이에 간극이 형성되는 것이 억제된다. 또한, 유로 블록(20)에 형성된 볼트 구멍(47), 브래킷(46) 및 볼트(43)에 의해 고정 기구가 구성되어 있다. 또한, 유로 블록(20)에 형성된 볼트 구멍(47), 공급 블록(41) 및 볼트(43)에 의해 고정 기구가 구성되어 있다.The gas supply device 10 is pressed from the width direction, that is, the gap between the plurality of flow path blocks 20 is narrowed, and then the bolt 43 is tightened Respectively. More specifically, the bracket 46 and the mounting portion 41b of the supply block 41 are fastened to each other by the bolts 43 with respect to the flow path block 20. The frictional force between the flow path block 20 and the bracket 46 and the bolt 43 and the frictional force between the flow path block 20 and the supply block 41 and the bolt 43 maintain their relative positions unchanged do. The plurality of flow path blocks 20 are fixed in a state in which the heater 31 is pressed by the adjacent side surface 20c of the flow path block 20. [ The heater 31 sandwiched by the adjacent side surface 20c of the flow path block 20 is in a state along the side surface 20c to suppress the formation of a gap between the side surface 20c and the heater 31 do. A bolt hole 47 formed in the flow path block 20, a bracket 46, and a bolt 43 constitute a fixing mechanism. A bolt hole 47 formed in the flow path block 20, a supply block 41, and a bolt 43 constitute a fixing mechanism.

히터(31)는 유로 블록(20)의 길이 방향에 관하여 유로 블록(20)보다도 돌출된 부분을 제외하고, 양면이 유로 블록(20)의 측면(20c)에 접촉한 상태로 되어 있다. 즉, 이 돌출된 부분을 제외하면, 히터(31)에 있어서 유로 블록(20)의 측면(20c)에 접촉하지 않는 부분은 단부면(외주면)만으로 되어 있다. 그리고 히터(31)는 필름 형상으로 형성되어 있으므로, 유로 블록(20)의 측면(20c)에 접촉하고 있는 부분의 면적과 비교하여, 이 단부면의 면적이 매우 작게 되어 있다.The heater 31 is in contact with the side surface 20c of the flow path block 20 except for the portion protruding from the flow path block 20 in the longitudinal direction of the flow path block 20. [ That is, except for the protruding portion, the portion of the heater 31 which does not contact the side surface 20c of the flow path block 20 is only the end surface (outer circumferential surface). Since the heater 31 is formed in a film shape, the area of this end face is very small as compared with the area of the portion contacting the side face 20c of the flow path block 20.

또한, 가스 공급 장치(10)의 외주면이 되는 유로 블록(20)의 측면(20c)에 배치된 히터(31), 즉 가스 공급 장치(10)의 폭 방향에 있어서 양단부에 배치된 히터(31)는, 유로 블록(20)의 측면(20c)에 대해 접착제에 의해 접착되어 있다.The heater 31 disposed at the side surface 20c of the flow path block 20 serving as the outer circumferential surface of the gas supply device 10, that is, the heater 31 disposed at both ends in the width direction of the gas supply device 10, Is adhered to the side surface 20c of the flow path block 20 by an adhesive.

이와 같이 구성된 가스 공급 장치(10)에 있어서, 입력 포트(28)로부터 캐링 가스(퍼지 가스)가 공급된다. 캐링 가스는, 공급 블록(41)에 의해 각 가스 공급 유닛(11)의 캐링 가스 유로(21)[프로세스 가스 유로(22A)]에 분배 공급된다. 그리고 이 프로세스 가스 유로(22A)에 대응하는 개폐 밸브(50A)에 의해, 캐링 가스가 차단 및 유통된다. 각 가스 공급 유닛(11)에 있어서, 각 프로세스 가스 유로(22)에는 각 프로세스 가스가 공급되고, 각각에 대응하는 개폐 밸브(50)에 의해 각 프로세스 가스가 차단 및 유통된다. 여기서, 각 가스 공급 유닛(11)의 캐링 가스 유로(21) 및 프로세스 가스 유로(22)를 유통하는 가스는, 히터(31)에 의해 가열된다. 따라서, 프로세스 가스가 액화되는 것이 억제된다.In the gas supply apparatus 10 configured as described above, a carrying gas (purge gas) is supplied from the input port 28. The carrying gas is distributed and supplied to the carrying gas passage 21 (the process gas passage 22A) of each gas supply unit 11 by the supply block 41. [ The opening / closing valve 50A corresponding to the process gas flow path 22A blocks and distributes the carrying gas. In each gas supply unit 11, each process gas flow path 22 is supplied with each process gas, and each process gas is intercepted and circulated by the corresponding on-off valve 50. Here, the gas flowing through the carrying gas passage 21 and the process gas passage 22 of each gas supply unit 11 is heated by the heater 31. Therefore, the process gas is prevented from being liquefied.

이상 상세하게 서술한 본 실시 형태는 이하의 이점을 갖는다.The embodiment described in detail above has the following advantages.

각 유로 블록(20)의 내부에 형성된 캐링 가스 유로(21) 및 프로세스 가스 유로(22)를 가스가 유통하고, 그들 가스의 유통 상태가 개폐 밸브(50)에 의해 각각 변경된다. 그리고 유로 블록(20)의 캐링 가스 유로(21) 및 프로세스 가스 유로(22)를 유통하는 가스가 히터(31)에 의해 가열된다.The gas flows through the carrying gas passage 21 and the process gas passage 22 formed in each of the flow path blocks 20 and the flow state of the gas is changed by the open / close valve 50, respectively. The gas flowing through the carrying gas flow path 21 and the process gas flow path 22 of the flow path block 20 is heated by the heater 31.

각 유로 블록(20)은, 장척 형상으로 연장되는 직육면체 형상으로 형성되어 있고, 복수의 개폐 밸브(50)가 상면(20a)에 있어서 길이 방향을 따라 직렬로 배치되어 있다. 그리고 복수의 유로 블록(20)은, 상면(20a)을 폭 방향으로부터 끼우는 양 측면(20c)끼리가 인접하도록 병렬로 배열되어 있고, 유로 블록 전체가 직육면체 형상으로 되도록 복수의 유로 블록(20)이 집적되어 있다.Each of the flow path blocks 20 is formed into a rectangular parallelepiped extending in an elongated shape and a plurality of on-off valves 50 are arranged in series along the longitudinal direction on the upper surface 20a. The plurality of flow path blocks 20 are arranged in parallel so that both side surfaces 20c sandwiching the upper surface 20a from the width direction are adjacent to each other and a plurality of flow path blocks 20 are formed in a rectangular parallelepiped shape It is integrated.

여기서, 유로 블록(20)의 측면(20c)에는, 캐링 가스 유로(21) 및 프로세스 가스 유로(22)가 개방되어 있지 않고, 각 유로 블록(20)의 가스 유로(21, 22)는 가스 공급 유닛(11)마다 독립되어 있다. 그리고 복수의 유로 블록(20)의 인접하는 측면(20c)에 히터(31)가 끼워 넣어진 상태에서, 복수의 유로 블록(20)이 일체화되어 있으므로, 1개의 히터(31)의 양면에 의해 인접하는 2개의 유로 블록(20)을 가열할 수 있다. 따라서, 인접하는 유로 블록(20) 사이에 각 유로 블록(20)을 가열하는 히터를 각각 설치할 필요가 없어, 히터(31)를 설치하기 위한 공간을 축소할 수 있다. 또한, 유로 블록(20) 사이에 간극을 설정할 필요가 없으므로, 유로 블록(20)끼리의 간격을 좁게 할 수 있다. 그 결과, 가스 공급 장치(10)에 있어서, 그 소형화나 고집적화를 실현할 수 있다.Here, the carrying gas passage 21 and the process gas passage 22 are not opened on the side face 20c of the flow passage block 20, and the gas passages 21 and 22 of the respective flow passage blocks 20 are connected to the gas supply And is independent for each unit 11. Since the plurality of flow path blocks 20 are integrated in a state in which the heater 31 is sandwiched between the adjacent side surfaces 20c of the plurality of flow path blocks 20, The two flow path blocks 20 can be heated. Therefore, it is not necessary to provide heaters for heating the flow path blocks 20 between the adjacent flow path blocks 20, and the space for installing the heaters 31 can be reduced. Further, since there is no need to set a gap between the flow path blocks 20, the interval between the flow path blocks 20 can be narrowed. As a result, the gas supply device 10 can be downsized and highly integrated.

또한, 히터(31)는, 공급되는 전력에 의해 양면이 발열하여 유로 블록(20)을 가열한다. 그리고 히터(31)의 양면에 유로 블록(20)의 측면(20c)이 접촉하고 있으므로, 히터(31)의 한쪽면에 유로 블록(20)의 측면(20c)이 접촉하고 있는 경우와 비교하여, 히터(31)의 열을 유로 블록(20)에 효율적으로 전달할 수 있다. 환언하면, 히터(31)로부터 유로 블록(20) 이외로 달아나는 열을 감소시킬 수 있다.In addition, the heater 31 generates heat on both sides by the supplied electric power to heat the flow path block 20. As compared with the case where the side surface 20c of the flow path block 20 is in contact with one surface of the heater 31 because the side surface 20c of the flow path block 20 is in contact with both surfaces of the heater 31, The heat of the heater 31 can be efficiently transmitted to the flow path block 20. In other words, the heat escaping from the heater 31 to other than the flow path block 20 can be reduced.

히터(31)는 필름 형상으로 형성되는 동시에, 그 양면이 유로 블록(20)의 측면(20c)에 대향하여 유로 블록(20)의 길이 방향을 따라 연장되어 있다. 이로 인해, 히터(31) 자체의 두께가 얇아지는 동시에, 유로 블록(20)의 측면(20c)에 히터를 따르게 할 수 있다. 따라서, 유로 블록(20)끼리의 간격을 좁게 할 수 있는 동시에, 히터(31)로부터 유로 블록(20)의 측면(20c)으로의 열전달 효율을 향상시킬 수 있다. 또한, 히터(31)에 있어서, 유로 블록(20)의 측면(20c)에 접촉하는 부분의 면적과 비교하여, 유로 블록(20)의 측면(20c)에 접촉하지 않는 부분인 단부면(외주면)의 면적이 작아진다. 이로 인해, 히터(31)로부터 유로 블록(20) 이외로 달아나는 열을 더욱 감소시킬 수 있다.The heater 31 is formed in a film shape and both sides of the heater 31 extend along the longitudinal direction of the flow path block 20 so as to face the side surface 20c of the flow path block 20. As a result, the thickness of the heater 31 itself is reduced, and the heater 20 can be made to follow the side surface 20c of the flow path block 20. Therefore, the interval between the flow path blocks 20 can be narrowed, and the heat transfer efficiency from the heater 31 to the side surface 20c of the flow path block 20 can be improved. An end face (outer peripheral face) which is a portion which does not contact the side face 20c of the flow path block 20 is larger than an area of a portion of the heater 31 which contacts the side face 20c of the flow path block 20, . As a result, the heat escaping from the heater 31 to other than the flow path block 20 can be further reduced.

복수의 유로 블록(20)의 인접하는 측면(20c)에 의해 히터(31)가 압박된 상태에서 복수의 유로 블록(20)이 고정되어 있으므로, 유로 블록(20)의 측면(20c)과 히터(31) 사이에 간극이 형성되는 것을 억제할 수 있다. 따라서, 히터(31)로부터 유로 블록(20)의 측면(20c)으로의 열전달 효율을 더욱 향상시킬 수 있다.Since the plurality of flow path blocks 20 are fixed in a state in which the heater 31 is pressed by the adjacent side surface 20c of the plurality of flow path blocks 20, the side surface 20c of the flow path block 20 and the heaters 31 can be restrained from being formed. Therefore, the heat transfer efficiency from the heater 31 to the side surface 20c of the flow path block 20 can be further improved.

복수의 유로 블록(20)을 고정하는 고정 기구는, 복수의 유로 블록(20)의 각 캐링 가스 유로(21)에 공통의 캐링 가스를 분배 공급하는 공급 블록(41)을 포함하므로, 캐링 가스를 공급하기 위한 공급 블록(41)을 이용하여 고정 기구를 구성할 수 있다. 따라서, 가스 공급 장치(10)의 구성 부재가 증가하는 것을 억제하면서, 히터(31)로부터 유로 블록(20)의 측면(20c)으로의 열전달 효율을 향상시킬 수 있다.Since the stationary mechanism for fixing the plurality of flow path blocks 20 includes the supply block 41 for distributing and supplying a common carrying gas to the respective carrying gas flow paths 21 of the plurality of flow path blocks 20, The fixing mechanism can be constructed by using the supply block 41 for supplying. The heat transfer efficiency from the heater 31 to the side surface 20c of the flow path block 20 can be improved while suppressing the increase of the constituent members of the gas supply device 10. [

가상 평면(F)으로부터 치우친 부분에 배치된 캐링 가스 유로(21)로부터 히터(31)까지의 거리가 짧아지는 동시에, 가상 평면(F)으로부터 캐링 가스 유로(21)와는 반대측으로 치우친 부분을 통과하는 프로세스 가스 유로(22)로부터 히터(31)까지의 거리가 짧아진다. 따라서, 캐링 가스 유로(21) 및 프로세스 가스 유로(22)를 유통하는 가스를 효율적으로 가열할 수 있다.The distance from the carrying gas passage 21 disposed at the position deviated from the imaginary plane F to the heater 31 is shortened and the distance from the virtual plane F to the portion opposite to the carrying gas passage 21 The distance from the process gas flow path 22 to the heater 31 is shortened. Therefore, it is possible to efficiently heat the gas flowing through the carrying gas passage 21 and the process gas passage 22.

상기 실시 형태에 한정되지 않고, 예를 들어 다음과 같이 실시할 수도 있다.The present invention is not limited to the above-described embodiment, but may be carried out as follows, for example.

개폐 밸브(50)는 전자기 구동식 밸브에 한정되지 않고, 에어 오퍼레이트식이나 압전식 밸브를 채용할 수도 있다.The opening / closing valve 50 is not limited to an electromagnetic valve, but may be an air operated valve or a piezoelectric valve.

가스 공급 장치(10)는, 가스 공급 유닛(11)을 2개 구비하는 것이나, 5개 이상 구비하는 것이라도 좋다. 요컨대, 가스 공급 장치(10)는 히터(31)를 사이에 끼워 넣는 적어도 2개의 유로 블록(20)을 구비하는 것이면 좋다.The gas supply device 10 may be provided with two gas supply units 11 or five or more gas supply units 11. In short, the gas supply device 10 may be provided with at least two flow path blocks 20 for sandwiching the heater 31 therebetween.

유로 블록(20)의 상면(20a)(밸브 탑재면)에, 내부에 유로가 형성된 접속 부재를 통해 개폐 밸브(50)가 탑재되어 있어도 좋다.Off valve 50 may be mounted on the upper surface 20a (valve mounting surface) of the flow path block 20 through a connecting member having a flow path formed therein.

유로 블록(20)은, 분할된 유로 블록이 일체화되어, 장척 형상으로 연장되는 직육면체 형상을 이루는 것이라도 좋다. 이러한 구성에 따르면, 사용하는 프로세스 가스의 수[개폐 밸브(50)의 수]의 변경 등에 유연하게 대응할 수 있다.The flow path block 20 may have a rectangular parallelepiped shape in which the divided flow path blocks are integrated to extend in a long shape. According to this configuration, it is possible to flexibly cope with the change in the number of process gases to be used (the number of the open / close valves 50).

유로 블록(20)의 측면(20c)에, 길이 방향으로 연장되는 오목부를 형성하여, 이 오목부에 히터를 수납하도록 해도 좋다. 도 6은 이와 같이 유로 블록(20)을 변형한 유로 블록(120)을 구비하는 가스 공급 장치(110)의 정면도이다. 또한, 도 6에서는 공급 블록(41) 등을 생략하고 도시하고 있다. 가스 공급 장치(110)에서는, 복수의 유로 블록(120)의 인접하는 측면(120c)에는, 각각 길이 방향의 전체 길이에 걸쳐 홈(121)(오목부)이 형성되어 있다. 각각의 홈(121)에는, 직사각형 판 형상의 히터(131)가 그 두께 방향에 있어서 대략 절반씩 수용되어 있다. 이로 인해, 히터(131)의 두께를 홈(121)에서 흡수할 수 있어, 유로 블록(120)끼리의 간격을 좁게 할 수 있다. 히터(131)는 그 양면이 발열하는 것이고, 양면이 홈(121)에 각각 접촉하고 있다. 또한, 각각의 홈(121)에 히터(131)가 두께 방향에 있어서 대략 절반씩 수용됨으로써, 홈(121)의 깊이를 얕게 할 수 있다. 그 결과, 유로 블록(20) 내에 캐링 가스 유로(21)나 프로세스 가스 유로(22)를 배치하는 것이 용이해진다. 또한, 인접하는 측면(120c)은 홈(121) 이외의 부분에서 접촉하고 있다. 이로 인해, 히터(131)의 홈(121) 내에서의 배치 상태에 관계없이, 유로 블록(120)끼리의 상대 위치를 일정하게 할 수 있다. 이 경우, 히터(131)는 상기 실시 형태의 히터(31)보다도 두꺼운 후판 형상으로 형성되어 있다.A recessed portion extending in the longitudinal direction may be formed on the side surface 20c of the flow path block 20 so that the recessed portion may receive the heater. 6 is a front view of the gas supply device 110 including the flow path block 120 in which the flow path block 20 is deformed. In Fig. 6, the supply block 41 and the like are omitted. In the gas supply device 110, the adjacent side surfaces 120c of the plurality of flow path blocks 120 are provided with grooves 121 (concave portions) over their entire length in the longitudinal direction. In each of the grooves 121, a rectangular plate-shaped heater 131 is accommodated in approximately half in the thickness direction thereof. As a result, the thickness of the heater 131 can be absorbed by the grooves 121, and the distance between the flow path blocks 120 can be narrowed. Both surfaces of the heater 131 generate heat, and both surfaces thereof contact the grooves 121, respectively. In addition, the depth of the grooves 121 can be made shallow by accommodating the heaters 131 in the respective grooves 121 by about half in the thickness direction. As a result, it is easy to arrange the carrying gas flow path 21 and the process gas flow path 22 in the flow path block 20. The adjacent side surfaces 120c are in contact with each other at portions other than the grooves 121. [ Therefore, the relative positions of the flow path blocks 120 can be made constant regardless of the arrangement of the heaters 131 in the grooves 121. In this case, the heater 131 is formed in a thick plate shape thicker than the heater 31 of the above embodiment.

또한, 도 6에 있어서, 가스 공급 장치(110)의 폭 방향의 단부(도 3에 있어서 좌측 단부)에 배치된 유로 블록(120)과 그 옆의 유로 블록(120)에서는, 인접하는 측면(120c) 중, 한쪽 측면(120c)과 히터(131) 사이에 박판 형상의 단열 부재(32)가 설치되어 있다. 단열 부재(32)가 히터(131)의 두께에 비해 충분히 얇게 형성되는 동시에, 단열 부재(32) 및 히터(131) 중 적어도 한쪽이 두께 방향에서 탄력성을 갖는 것이 바람직하다. 단열 부재(32)는 히터(131)를 덮도록 히터(131)가 연장되는 방향을 따라 연장되어 있다. 이로 인해, 히터(131)로부터 측면(120c)으로 전달되는 열을 단열 부재(32)에 의해 감소시킬 수 있다. 그 결과, 복수의 유로 블록(120)의 인접하는 측면(120c) 중, 한쪽 측면(120c)에 대해 가열을 억제할 수 있다. 단열 부재(32)는 유로 블록(120)의 홈(121)에 수용되어 있다. 또한, 단열 부재(32)는 상기 실시 형태의 유로 블록(20)에 있어서, 홈이 형성되어 있지 않은 측면(20c)에 설치되도록 해도 좋다.6, in the flow path block 120 and the flow path block 120 beside the flow path block 120 disposed at the widthwise end (the left end in FIG. 3) of the gas supply device 110, the adjacent side surfaces 120c A heat insulating member 32 of a thin plate shape is provided between one side surface 120c and the heater 131. [ It is preferable that the heat insulating member 32 is formed thin enough compared to the thickness of the heater 131 and at least one of the heat insulating member 32 and the heater 131 has elasticity in the thickness direction. The heat insulating member 32 extends along the direction in which the heater 131 extends so as to cover the heater 131. As a result, the heat transmitted from the heater 131 to the side surface 120c can be reduced by the heat insulating member 32. [ As a result, heating can be suppressed against one side surface 120c of the adjacent side surface 120c of the plurality of flow path blocks 120. [ The heat insulating member 32 is accommodated in the groove 121 of the flow path block 120. The heat insulating member 32 may be provided on the side surface 20c on which the grooves are not formed in the flow path block 20 of the embodiment.

도 7에 도시하는 바와 같이, 개폐 밸브(50)(전자기 밸브)의 케이스(50c)와 유로 블록(20)의 상면(20a)을 연결하는 금속 부재(60)(전열 부재)를 구비하도록 해도 좋다. 케이스(50c)는 개폐 밸브(50)에 있어서 코일(52)의 외주에 설치되어 있다. 금속 부재(60)는 가스 공급 장치(210)의 폭 방향으로 배열된 복수의 개폐 밸브(50)의 케이스(50c)에 각각 접촉하는 케이스 접촉부(60b)와, 가스 공급 장치(210)의 폭 방향으로 배열된 유로 블록(20)의 상면(20a)에 각각 접촉하는 유로 블록 접촉부(60a)를 갖고 있다. 케이스 접촉부(60b)와 유로 블록 접촉부(60a)는, 각각 판 형상으로 형성되어 있다. 케이스 접촉부(60b)와 유로 블록 접촉부(60a)는, 판 형상의 부재가 절곡됨으로써 성형되어 있다. 개폐 밸브(50)는 구동에 수반하여 발열하여, 예를 들어 가스의 목표 온도인 50 내지 60℃보다도 높은 60 내지 70℃까지 온도 상승한다. 그리고 개폐 밸브(50)의 코일(52)에서 발생하는 열을, 금속 부재(60)를 통해 유로 블록(20)에 전달할 수 있다. 그 결과, 개폐 밸브(50)에서 발생하는 열을 가스의 가열에 이용할 수 있으므로, 발열량이 작은 히터를 사용하는 것이 가능해진다.A metal member 60 (heat transfer member) for connecting the case 50c of the opening / closing valve 50 (electromagnetic valve) and the upper surface 20a of the flow path block 20 may be provided as shown in Fig. 7 . The case 50c is provided on the outer periphery of the coil 52 in the opening / closing valve 50. [ The metal member 60 includes a case contact portion 60b which contacts the case 50c of a plurality of open / close valves 50 arranged in the width direction of the gas supply device 210, And a flow path block contact portion 60a which is in contact with the upper surface 20a of the flow path block 20 arranged in the flow path block 20a. The case contact portion 60b and the flow path block contact portion 60a are each formed in a plate shape. The case contact portion 60b and the flow path block contact portion 60a are formed by bending a plate-like member. The on-off valve 50 generates heat in association with driving, and raises the temperature to, for example, 60 to 70 ° C, which is higher than the target temperature of the gas, 50 to 60 ° C. The heat generated in the coil 52 of the opening / closing valve 50 can be transmitted to the flow path block 20 through the metal member 60. As a result, since the heat generated by the opening / closing valve 50 can be used for heating the gas, it is possible to use a heater having a small heat generation amount.

또한, 금속 부재(60)는 가스 공급 장치(210)의 복수의 유로 블록(20)을 폭 방향으로부터 끼움 지지하는 끼움 지지부(60c)를 갖고 있다. 끼움 지지부(60c)는 유로 블록 접촉부(60a)의 양단부에 설치되어 있다. 그리고 끼움 지지부(60c)는, 복수의 유로 블록(20)의 인접하는 측면(20c)에 의해 히터(31)가 압박된 상태에서, 복수의 유로 블록(20)을 고정하고 있다. 즉, 금속 부재(60)는 개폐 밸브(50)의 케이스(50c)와 유로 블록(20)의 상면(20a)을 연결하는 전열 부재와, 복수의 유로 블록(20)을 고정하는 고정 기구를 겸하고 있다. 따라서, 가스 공급 장치(210)의 구성 부재가 증가하는 것을 억제하면서, 전열 부재 및 고정 기구의 효과를 발휘할 수 있다. 또한, 금속 부재(60)에 있어서, 케이스 접촉부(60b)를 생략하고 고정 기구만의 구성으로 해도 좋고, 끼움 지지부(60c)를 생략하고 전열 부재만의 구성으로 해도 좋다.The metal member 60 has a fitting portion 60c for fitting the plurality of flow path blocks 20 of the gas supply device 210 in the width direction. The fitting support portion 60c is provided at both end portions of the flow path block contact portion 60a. The fitting support portion 60c fixes the plurality of flow path blocks 20 in a state in which the heater 31 is pressed by the adjacent side surface 20c of the plurality of flow path blocks 20. [ That is, the metal member 60 also serves as a heat transfer member for connecting the case 50c of the on-off valve 50 to the upper surface 20a of the flow path block 20 and a fixing mechanism for fixing the plurality of flow path blocks 20 have. Therefore, the effects of the heat transfer member and the fixing mechanism can be exerted while suppressing the increase of the constituent members of the gas supply device 210. [ In the metal member 60, the case contact portion 60b may be omitted, and only the fixing mechanism may be used. Alternatively, the fitting support portion 60c may be omitted and only the heat transfer member may be used.

복수의 유로 블록(20)을 고정하기 위한 브래킷(46)이나 금속 부재(60)를 생략하고, 복수의 유로 블록(20) 및 히터(31)를 접착제 등에 의해 접착하도록 해도 좋다. 또한, 복수의 유로 블록(20)의 각 캐링 가스 유로(21)에 공통의 캐링 가스를 분배 공급하는 공급 블록(41)에 있어서, 복수의 유로 블록(20)을 고정하는 고정 기구로서의 기능을 생략해도 좋다.The brackets 46 and the metal members 60 for fixing the plurality of flow path blocks 20 may be omitted and the plurality of flow path blocks 20 and the heaters 31 may be bonded with an adhesive or the like. In the supply block 41 for distributing and supplying the common carrying gas to the respective carrying gas flow paths 21 of the plurality of flow path blocks 20, the function as a fixing mechanism for fixing the plurality of flow path blocks 20 is omitted Maybe.

도 1 내지 도 4에 있어서, 복수의 가스 공급 유닛(11)의 출력 포트(29)를 접속하여, 복수의 가스 공급 유닛(11)의 조합에 의해 가스의 종류나 유량을 제어할 수도 있다.1 to 4, it is also possible to connect the output ports 29 of the plurality of gas supply units 11 to control the type and the flow rate of the gas by the combination of the plurality of gas supply units 11. Fig.

10 : 가스 공급 장치
20 : 유로 블록
20a : 밸브 탑재면으로서의 상면
20c : 측면
31 : 히터
50 : 개폐 밸브10: Gas supply device
20: Euro block
20a: upper surface as a valve mounting surface
20c: Side
31: Heater
50: opening / closing valve

Claims (14)

내부에 유로가 형성된 복수의 유로 블록과, 각 유로 블록의 상기 유로를 유통하는 가스의 유통 상태를 각각 변경하는 개폐 밸브와, 상기 유로를 유통하는 가스를 가열하는 히터를 구비하는 가스 공급 장치이며,
상기 각 유로 블록은, 장척 형상으로 연장되는 직육면체 형상으로 형성되고, 상기 개폐 밸브가 복수 탑재된 밸브 탑재면을 갖고,
상기 개폐 밸브는, 상기 밸브 탑재면의 길이 방향을 따라 직렬로 배치되고,
상기 복수의 유로 블록은, 상기 밸브 탑재면을 폭 방향으로부터 끼우는 양 측면끼리가 인접하도록 병렬로 배열되고,
상기 복수의 유로 블록의 상기 인접하는 측면에 상기 히터가 끼워 넣어진 상태에서, 상기 복수의 유로 블록이 일체화되어 있고,
상기 개폐 밸브는 전자기 밸브이고, 상기 전자기 밸브는 그 코일의 외주에 케이스를 갖고 있고,
상기 전자기 밸브의 상기 케이스와 상기 밸브 탑재면을 연결하는 전열 부재를 구비하는 것을 특징으로 하는, 가스 공급 장치.A gas supply apparatus comprising: a plurality of flow path blocks each having a flow path formed therein; an open / close valve for respectively changing a flow state of a gas flowing through the flow path of each flow path block; and a heater for heating a gas flowing through the flow path,
Wherein each of the flow path blocks is formed into a rectangular parallelepiped extending in an elongated shape and has a valve mounting surface on which a plurality of the opening and closing valves are mounted,
Wherein the on-off valve is disposed in series along the longitudinal direction of the valve mounting surface,
Wherein the plurality of flow path blocks are arranged in parallel so that both side surfaces sandwiching the valve mounting surface from the width direction are adjacent to each other,
Wherein the plurality of flow path blocks are integrated with the heater interposed in the adjacent side surfaces of the plurality of flow path blocks,
Wherein the electromagnetic valve includes a casing on an outer periphery of the coil,
And a heat transfer member that connects the case of the electromagnetic valve and the valve mounting surface. 제1항에 있어서, 상기 히터는 판 형상 또는 막 형상으로 형성되고, 그 양면이 상기 유로 블록의 상기 측면에 대향하여 상기 길이 방향을 따라 연장되어 있는 것을 특징으로 하는, 가스 공급 장치.The gas supply apparatus according to claim 1, wherein the heater is formed in a plate shape or a film shape, and both sides thereof extend along the longitudinal direction opposite to the side surface of the flow path block. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 복수의 유로 블록의 상기 인접하는 측면에 의해 상기 히터가 압박된 상태에서 상기 복수의 유로 블록을 고정하는 고정 기구를 구비하는 것을 특징으로 하는, 가스 공급 장치.The gas supply device according to claim 1 or 2, further comprising a fixing mechanism for fixing the plurality of flow path blocks in a state in which the heater is pushed by the adjacent side surfaces of the plurality of flow path blocks . 제3항에 있어서, 상기 고정 기구는, 상기 복수의 유로 블록의 각 유로에 공통의 가스를 분배 공급하는 공급 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는, 가스 공급 장치.4. The gas supply apparatus according to claim 3, wherein the fixing mechanism includes a supply member for distributing and supplying a common gas to each flow path of the plurality of flow path blocks. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 복수의 유로 블록의 상기 인접하는 측면에는 오목부가 형성되어 있고, 상기 오목부에 상기 히터가 수용되는 동시에, 상기 인접하는 측면은 상기 오목부 이외의 부분에서 접촉하고 있는 것을 특징으로 하는, 가스 공급 장치.The flow path block according to claim 1 or 2, wherein the adjacent side surfaces of the plurality of flow path blocks are formed with concave portions, the heater is accommodated in the concave portions, and the adjacent side surfaces are located at portions other than the concave portions And the gas supply device is in contact with the gas supply device. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 복수의 유로 블록의 상기 인접하는 측면 중, 한쪽 측면과 상기 히터 사이에 단열 부재가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는, 가스 공급 장치.The gas supply device according to claim 1 or 2, wherein a heat insulating member is provided between one side of the adjacent side surfaces of the plurality of flow path blocks and the heater. 제3항에 있어서, 상기 복수의 유로 블록의 상기 인접하는 측면 중, 한쪽 측면과 상기 히터 사이에 단열 부재가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는, 가스 공급 장치.The gas supply apparatus according to claim 3, wherein a heat insulating member is provided between one side of the adjacent side surfaces of the plurality of flow path blocks and the heater. 제4항에 있어서, 상기 복수의 유로 블록의 상기 인접하는 측면 중, 한쪽 측면과 상기 히터 사이에 단열 부재가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는, 가스 공급 장치.5. The gas supply apparatus according to claim 4, wherein a heat insulating member is provided between one side of the adjacent side surfaces of the plurality of flow path blocks and the heater. 제5항에 있어서, 상기 복수의 유로 블록의 상기 인접하는 측면 중, 한쪽 측면과 상기 히터 사이에 단열 부재가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는, 가스 공급 장치.The gas supply apparatus according to claim 5, wherein a heat insulating member is provided between one side of the adjacent side surfaces of the plurality of flow path blocks and the heater. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
KR1020100061605A 2009-06-30 2010-06-29 Gas supply apparatus KR101755672B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2009-155902 2009-06-30
JP2009155902A JP5410173B2 (en) 2009-06-30 2009-06-30 Gas supply device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20110001937A KR20110001937A (en) 2011-01-06
KR101755672B1 true KR101755672B1 (en) 2017-07-07

Family

ID=43391086

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100061605A KR101755672B1 (en) 2009-06-30 2010-06-29 Gas supply apparatus

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5410173B2 (en)
KR (1) KR101755672B1 (en)
CN (1) CN101937833B (en)
TW (1) TW201101407A (en)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103453215B (en) * 2012-05-31 2016-04-27 英属开曼群岛商精曜有限公司 Valve assembly and valve
JP5427932B1 (en) * 2012-08-31 2014-02-26 株式会社コガネイ Manifold solenoid valve
KR101566678B1 (en) 2014-07-16 2015-11-09 (주)씨엔에스 Combined valve block for controling fluid
JP6475950B2 (en) * 2014-10-29 2019-02-27 株式会社フジキン Heating device for fluid controller and fluid control device
JP6484497B2 (en) * 2015-04-24 2019-03-13 株式会社フジキン Thermal insulation cover and fluid control device
KR102148090B1 (en) * 2016-01-28 2020-08-25 가부시키가이샤 후지킨 Fluid control device and method of attaching and detaching gas line part
JP7134020B2 (en) * 2018-08-17 2022-09-09 東京エレクトロン株式会社 Valve device, processing device and control method
JP6966499B2 (en) * 2019-03-06 2021-11-17 Ckd株式会社 Gas supply unit and gas supply method
JP7204203B2 (en) * 2019-03-28 2023-01-16 株式会社フジキン Heaters and fluid controllers

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002267100A (en) * 2001-03-05 2002-09-18 Tokyo Electron Ltd Fluid control device
JP2003065462A (en) * 2001-08-28 2003-03-05 Ckd Corp Integrated valve
JP2008014390A (en) * 2006-07-05 2008-01-24 Hitachi Metals Ltd Integrated fluid control device

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0332858Y2 (en) * 1987-01-12 1991-07-11
JP2731080B2 (en) * 1991-05-31 1998-03-25 株式会社本山製作所 Gas control device
JP2695745B2 (en) * 1993-09-02 1998-01-14 シーケーディ株式会社 Gas supply device
JP4276750B2 (en) * 1999-09-24 2009-06-10 株式会社コガネイ Manifold solenoid valve
JP4554853B2 (en) * 2001-09-17 2010-09-29 シーケーディ株式会社 Gas supply integrated valve
JP4567370B2 (en) * 2004-05-10 2010-10-20 シーケーディ株式会社 Gas supply integrated unit
CN2818942Y (en) * 2005-03-09 2006-09-20 邵一刚 Electromagnetic valve

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002267100A (en) * 2001-03-05 2002-09-18 Tokyo Electron Ltd Fluid control device
JP2003065462A (en) * 2001-08-28 2003-03-05 Ckd Corp Integrated valve
JP2008014390A (en) * 2006-07-05 2008-01-24 Hitachi Metals Ltd Integrated fluid control device

Also Published As

Publication number Publication date
CN101937833A (en) 2011-01-05
JP2011012723A (en) 2011-01-20
CN101937833B (en) 2014-10-08
KR20110001937A (en) 2011-01-06
JP5410173B2 (en) 2014-02-05
TW201101407A (en) 2011-01-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101755672B1 (en) Gas supply apparatus
US9161391B2 (en) Electrical heating device
US9119232B2 (en) Electrical heating device
JP4221425B2 (en) Purge gas unit and purge gas supply integrated unit
US11005138B2 (en) Battery module and battery pack
US7857283B2 (en) Solenoid valve assembly for a combustible gas supply device to an endothermic engine
US20140182725A1 (en) Valve Device
KR20140053397A (en) Gas supply device
KR20200048648A (en) Structure for cooling battery cell and battery system comprising the same
KR101799821B1 (en) High-frequency on-off valve
JP2013048083A (en) Temperature control mechanism for battery
KR101737117B1 (en) Gas supply unit and gas supply apparatus
JP6680181B2 (en) Battery pack
JP5261297B2 (en) Gas supply unit and gas supply device
KR101075078B1 (en) LPG heating device
JP7147253B2 (en) power storage device
JP3745547B2 (en) Integrated valve
WO2019245028A1 (en) Power storage device
JP2011012724A (en) Gas supply unit and gas supply device
JP2023003927A (en) solenoid valve manifold
JP2023065188A (en) Fluid supply device and gas supply method
JP2656190B2 (en) Solenoid valve manifold
WO2019138686A1 (en) Fluid heating module
KR20220054081A (en) Moisture condensation preventing apparatus of temperature control module
JP2024054100A (en) Systems and methods for piezoelectric valves - Patents.com

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant