JP5261297B2 - Gas supply unit and gas supply device - Google Patents

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Description

本発明は、ガス供給ユニット及びガス供給装置に関する。   The present invention relates to a gas supply unit and a gas supply device.

従来、半導体製造工程において、薄膜生成装置、乾式エッチング装置などのプロセス機器へプロセスガスを供給するガス供給装置が使用されている(例えば、特許文献1参照)。特許文献1に記載のガス供給装置は、互いに平行に配置された複数列のガス供給ユニットを備えている。各ガス供給ユニットは、内部にガス流路が形成された複数の流路ブロックを直線上に配置し、各流路ブロックのガス流路をそれぞれ開閉する開閉弁を流路ブロック上に設けている。   2. Description of the Related Art Conventionally, in a semiconductor manufacturing process, a gas supply device that supplies process gas to process equipment such as a thin film generation device and a dry etching device has been used (for example, see Patent Document 1). The gas supply device described in Patent Document 1 includes a plurality of rows of gas supply units arranged in parallel to each other. Each gas supply unit has a plurality of flow channel blocks each having a gas flow channel formed therein arranged on a straight line, and an open / close valve that opens and closes the gas flow channel of each flow channel block is provided on the flow channel block. .

特開2003−91322号公報JP 2003-91322 A

ところで、特許文献1に記載のものにおいて、開閉弁として電磁弁が採用される場合には、電磁弁における発熱が問題になると考えられる。すなわち、複数の電磁弁が流路ブロック上に配列されてガス供給ユニットが構成される場合や、更にガス供給ユニットが集積されてガス供給装置が構成される場合には、熱が蓄積され易くなるとともに熱を放出させる場所が制限されることとなる。特に、ガス供給装置の小型化や高集積化に伴って、定格電流の大きな電磁弁が採用される場合には、こうした傾向が顕著なものとなる。   By the way, in the thing of patent document 1, when a solenoid valve is employ | adopted as an on-off valve, it is thought that the heat_generation | fever in a solenoid valve becomes a problem. That is, when a plurality of solenoid valves are arranged on the flow path block to configure the gas supply unit, or when the gas supply unit is further configured by integrating the gas supply unit, heat is likely to be accumulated. At the same time, the place where heat is released is limited. In particular, when a solenoid valve having a large rated current is adopted as the gas supply device is miniaturized and highly integrated, such a tendency becomes remarkable.

本発明は、こうした実情に鑑みてなされたものであり、電磁弁からの放熱を適切に行うことのできるガス供給ユニット及びガス供給装置を提供することを主たる目的とするものである。   The present invention has been made in view of such circumstances, and a main object of the present invention is to provide a gas supply unit and a gas supply device that can appropriately perform heat dissipation from the electromagnetic valve.

上記課題を解決するために、第1の発明は、内部に流路の設けられた流路ブロックと、前記流路を流通するガスの流通状態を変更する複数の電磁弁とを備え、各電磁弁はコイルと前記コイルの外周に配置されたケースとを有しているガス供給ユニットであって、前記流路ブロックは、長尺状に延びる直方体状に形成され、前記複数の電磁弁が搭載された弁搭載面を有し、前記複数の電磁弁は、前記弁搭載面の長手方向に沿って直列に配置され、前記複数の電磁弁の各ケースに跨るようにして前記弁搭載面の長手方向に沿って延びて前記各ケースに当接されるケース当接部と、前記流路ブロックの前記弁搭載面に前記ケース当接部を繋ぐブロック繋ぎ部とを有する伝熱部材を備えることを特徴とする。   In order to solve the above problems, a first invention includes a flow path block provided with a flow path therein, and a plurality of electromagnetic valves that change a flow state of a gas flowing through the flow path. The valve is a gas supply unit having a coil and a case arranged on the outer periphery of the coil, wherein the flow path block is formed in a rectangular parallelepiped shape, and the plurality of electromagnetic valves are mounted. The plurality of solenoid valves are arranged in series along the longitudinal direction of the valve mounting surface, and the length of the valve mounting surface extends across each case of the plurality of solenoid valves. A heat transfer member having a case contact portion that extends along the direction and contacts the case; and a block connecting portion that connects the case contact portion to the valve mounting surface of the flow path block. Features.

上記構成によれば、流路ブロックの内部に設けられた流路をガスが流通し、そのガスの流通状態が複数の電磁弁によって変更される。各電磁弁は、コイルを有しており、駆動に伴ってコイルが発熱することとなる。そして、コイルで発生した熱は、コイルの外周に配置されたケースに伝達される。   According to the said structure, gas distribute | circulates the flow path provided in the inside of a flow path block, and the distribution | circulation state of the gas is changed by several solenoid valves. Each solenoid valve has a coil, and the coil generates heat as it is driven. Then, the heat generated in the coil is transmitted to the case disposed on the outer periphery of the coil.

流路ブロックは長尺状に延びる直方体状に形成されており、その弁搭載面の長手方向に沿って複数の電磁弁が直列に配置されている。伝熱部材の有するケース当接部は、複数の電磁弁の各ケースに跨るようにして弁搭載面の長手方向に沿って延びており、複数の電磁弁の各ケースに当接されている。ここで、ガス供給ユニットによりガスの供給状態を制御する際に、複数の電磁弁が同時に駆動されることは少ない。このため、駆動されている電磁弁で発生する熱が、他の駆動されていない電磁弁の方向へケース当接部によって伝達されることとなる。そして、伝熱部材の有するブロック繋ぎ部は、流路ブロックの弁搭載面にケース当接部を繋いでいる。このため、ケース当接部によって弁搭載面の長手方向へ伝達される熱を、ブロック繋ぎ部によって流路ブロックへ放出させることができる。その結果、流路ブロックに複数の電磁弁が搭載されたガス供給ユニットにおいて、電磁弁からの放熱を適切に行うことができる。さらに、ブロック繋ぎ部は、ケース当接部を流路ブロックの弁搭載面に繋いでいるため、流路ブロックの側面等を用いる必要がなく、ガス供給ユニットの集積化に適している。   The flow path block is formed in a rectangular parallelepiped shape extending in a long shape, and a plurality of electromagnetic valves are arranged in series along the longitudinal direction of the valve mounting surface. The case contact portion of the heat transfer member extends along the longitudinal direction of the valve mounting surface so as to straddle each case of the plurality of solenoid valves, and is in contact with each case of the plurality of solenoid valves. Here, when the gas supply state is controlled by the gas supply unit, a plurality of solenoid valves are rarely driven at the same time. For this reason, the heat which generate | occur | produces with the driven solenoid valve will be transmitted by the case contact part to the direction of the other solenoid valve which is not driven. And the block connection part which a heat-transfer member has has connected the case contact part to the valve mounting surface of a flow-path block. For this reason, the heat transmitted to the longitudinal direction of a valve mounting surface by a case contact part can be discharge | released to a flow path block by a block connection part. As a result, in the gas supply unit in which a plurality of solenoid valves are mounted on the flow path block, heat radiation from the solenoid valves can be appropriately performed. Furthermore, since the block connecting portion connects the case contact portion to the valve mounting surface of the flow channel block, it is not necessary to use the side surface of the flow channel block or the like, and is suitable for integration of the gas supply unit.

また、電磁弁から流路ブロックへ放出された熱を、流路ブロック内の流路を流通するガスの加熱に利用することができる。   Further, the heat released from the electromagnetic valve to the flow channel block can be used for heating the gas flowing through the flow channel in the flow channel block.

なお、部材や部分が互いに当接する態様として、部材や部分が互いに固定される構成等を含むものとする。要するに、部材や部分が互いに熱を直接的に伝達する構成であればよい。   In addition, the aspect in which a member or a part contacts each other includes a configuration in which the member or part is fixed to each other. In short, any structure may be used as long as the members and parts directly transfer heat to each other.

第2の発明では、第1の発明において、前記ケース当接部は、前記弁搭載面の長手方向に沿って前記複数の電磁弁の全てにわたるように延び、全ての電磁弁の前記ケースに当接されている。このため、電磁弁の各ケースからケース当接部に伝達された熱は、ケース当接部により複数の電磁弁の全てにわたる範囲まで伝達される。したがって、電磁弁で発生する熱をより広い範囲まで拡散させることができ、電磁弁同士の温度差を小さくすることができる。その結果、電磁弁からの放熱を安定して行うことができる。   According to a second invention, in the first invention, the case contact portion extends so as to cover all of the plurality of electromagnetic valves along the longitudinal direction of the valve mounting surface, and contacts the cases of all the electromagnetic valves. It is touched. For this reason, the heat transmitted from each case of the electromagnetic valve to the case contact portion is transmitted to the range over all of the plurality of electromagnetic valves by the case contact portion. Therefore, the heat generated in the electromagnetic valve can be diffused to a wider range, and the temperature difference between the electromagnetic valves can be reduced. As a result, heat radiation from the electromagnetic valve can be performed stably.

第3の発明は、第1又は第2の発明において、前記ケース当接部は平板状に形成され、前記電磁弁の前記ケースは、平面をなすように形成されたケース平面部を有し、前記ケース当接部と前記ケース平面部とが平面同士で当接していることを特徴とする。   According to a third invention, in the first or second invention, the case contact portion is formed in a flat plate shape, and the case of the electromagnetic valve has a case flat portion formed to form a plane, The case contact portion and the case flat portion are in contact with each other on a flat surface.

上記構成によれば、平板状に形成されたケース当接部と、平面をなすように形成されたケース平面部とが平面同士で当接しているため、ケース当接部とケースとの間で平面を通じて、より確実に熱を伝達させることができる。したがって、ケース当接部を平板状の簡素な形状にしつつ、ケース当接部と電磁弁のケースとの間の熱伝達効率を向上させることができる。   According to the above configuration, the case contact portion formed in a flat plate shape and the case flat portion formed so as to form a flat surface are in contact with each other between the case contact portion and the case. Heat can be more reliably transferred through the plane. Therefore, the heat transfer efficiency between the case contact portion and the case of the electromagnetic valve can be improved while the case contact portion has a simple flat plate shape.

第4の発明では、第3の発明において、前記ケース平面部は、前記流路ブロックにおいて前記弁搭載面を幅方向から挟む両側面に対して略平行に配置されている。このため、ケース平面部は、弁搭載面の幅方向へ延びることを抑制しつつ、弁搭載面の長手方向や弁搭載面に垂直な方向へ延びることが可能となる。したがって、ガス供給ユニットの幅によって制限されることなく、ケース平面部の広さを確保することができる。   In 4th invention, in 3rd invention, the said case plane part is arrange | positioned substantially parallel with respect to the both sides which pinch | interpose the said valve mounting surface from the width direction in the said flow-path block. For this reason, it becomes possible to extend in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the valve mounting surface or the valve mounting surface while suppressing the case flat portion from extending in the width direction of the valve mounting surface. Therefore, the width of the case flat portion can be ensured without being limited by the width of the gas supply unit.

流路ブロックの弁搭載面にケース当接部を繋ぐ前記ブロック繋ぎ部の数が少ない場合は、ケース当接部から流路ブロックへの熱伝達効率が低くなるおそれがある。一方、弁搭載面においてブロック繋ぎ部を配置するためのスペースを新たに設けると、弁搭載面の面積が拡大するおそれがある。   When the number of the block connecting portions that connect the case contact portion to the valve mounting surface of the flow path block is small, the heat transfer efficiency from the case contact portion to the flow path block may be lowered. On the other hand, if a space for arranging the block connecting portion on the valve mounting surface is newly provided, the area of the valve mounting surface may be increased.

この点、第5の発明では、第1〜第4のいずれかの発明において、前記ブロック繋ぎ部は、前記弁搭載面において前記複数の電磁弁の間の部分に繋がれている。このため、弁搭載面の空いた部分を利用して、弁搭載面にブロック繋ぎ部を配置することができる。したがって、弁搭載面の面積が拡大することを抑制しつつ、ケース当接部から流路ブロックへの熱伝達効率を向上させることができる。   In this regard, in the fifth invention, in any one of the first to fourth inventions, the block connecting portion is connected to a portion between the plurality of electromagnetic valves on the valve mounting surface. For this reason, a block joint part can be arrange | positioned to a valve mounting surface using the empty part of a valve mounting surface. Therefore, it is possible to improve the heat transfer efficiency from the case contact portion to the flow path block while suppressing an increase in the area of the valve mounting surface.

ガス供給ユニットにおいては、使用されるガスの種類や数に応じて電磁弁の数が変更される。そこで、電磁弁をそれぞれ駆動する駆動回路基板を電磁弁毎に設けることにより、電磁弁の数の変更に対して柔軟に対応することができる。しかし、電磁弁の近傍に対応する駆動回路基板を配置するためには、電磁弁で発生する熱から駆動回路基板を保護する必要がある。   In the gas supply unit, the number of solenoid valves is changed according to the type and number of gases used. Therefore, by providing a drive circuit board for driving each solenoid valve for each solenoid valve, it is possible to flexibly cope with a change in the number of solenoid valves. However, in order to arrange the drive circuit board corresponding to the vicinity of the electromagnetic valve, it is necessary to protect the drive circuit board from the heat generated by the electromagnetic valve.

この点、第6の発明では、第1〜第5のいずれかの発明を前提として、前記電磁弁をそれぞれ駆動する駆動回路基板が前記電磁弁毎に設けられ、前記駆動回路基板は、前記流路ブロックにおいて前記弁搭載面を幅方向から挟む両側面に対して略平行に配置されている。このため、前記伝熱部材によって電磁弁からの放熱が適切に行われ、電磁弁で発生する熱から駆動回路基板を保護することができる。したがって、電磁弁の近傍に対応する駆動回路基板を配置することができ、電磁弁の数の変更に対して柔軟に対応することができる。さらに、コイルと駆動回路とを接続する配線を短くすることができるため、配線における電力損失を抑制することができる。   In this regard, in the sixth invention, on the premise of any one of the first to fifth inventions, a drive circuit board for driving each of the solenoid valves is provided for each of the solenoid valves, In the road block, the valve mounting surface is disposed substantially parallel to both side surfaces sandwiching the valve mounting surface from the width direction. For this reason, heat dissipation from the electromagnetic valve is appropriately performed by the heat transfer member, and the drive circuit board can be protected from the heat generated by the electromagnetic valve. Therefore, the drive circuit board corresponding to the vicinity of the solenoid valve can be arranged, and the change in the number of solenoid valves can be flexibly dealt with. Furthermore, since the wiring connecting the coil and the drive circuit can be shortened, power loss in the wiring can be suppressed.

また、駆動回路基板は、流路ブロックの両側面に対して略平行に配置されている。このため、駆動回路基板は、弁搭載面の幅方向へ延びることを抑制しつつ、弁搭載面の長手方向や弁搭載面に垂直な方向へ延びることが可能となる。したがって、ガス供給ユニットの幅によって制限されることなく、電磁弁の近傍に駆動回路基板を配置することが容易となる。   The drive circuit board is disposed substantially parallel to both side surfaces of the flow path block. For this reason, the drive circuit board can be extended in the longitudinal direction of the valve mounting surface or in a direction perpendicular to the valve mounting surface while suppressing extending in the width direction of the valve mounting surface. Therefore, it becomes easy to arrange the drive circuit board in the vicinity of the electromagnetic valve without being limited by the width of the gas supply unit.

第7の発明では、第6の発明において、前記駆動回路基板は、前記弁搭載面に連結された支持部材によって支持されており、前記電磁弁の前記ケースと前記支持部材との間に隙間が形成されている。このため、電磁弁のケースから駆動回路基板への熱の伝達が抑制される。   According to a seventh aspect, in the sixth aspect, the drive circuit board is supported by a support member connected to the valve mounting surface, and a gap is provided between the case of the electromagnetic valve and the support member. Is formed. For this reason, heat transfer from the case of the electromagnetic valve to the drive circuit board is suppressed.

複数のガス供給ユニットを集積してガス供給装置を構成する場合には、熱が蓄積され易くなるとともに熱を放出させる場所が制限されるといった傾向が顕著となる。   When a gas supply apparatus is configured by integrating a plurality of gas supply units, the tendency that heat is easily accumulated and a place where heat is released is limited is remarkable.

この点、第8の発明は、第1〜第7のいずれかの発明を前提として、前記流路ブロックにおいて前記弁搭載面を幅方向から挟む両側面同士が隣り合うように前記ガス供給ユニットを並列に配列している。このため、ガス供給ユニットを集積してガス供給装置を構成しつつ、電磁弁からの放熱を適切に行うことができる。   In this regard, the eighth invention is based on any one of the first to seventh inventions, and the gas supply unit is arranged such that both side surfaces sandwiching the valve mounting surface from the width direction are adjacent to each other in the flow path block. Arranged in parallel. For this reason, it is possible to appropriately dissipate heat from the electromagnetic valve while integrating the gas supply units to configure the gas supply device.

さらに、第9の発明では、第8の発明において、前記流路ブロックの前記隣り合う側面が互いに当接しているため、ガス供給ユニット同士の隙間を省略してガス供給装置を高集積化しつつ、電磁弁からの放熱を適切に行うことができる。   Furthermore, in the ninth invention, in the eighth invention, since the adjacent side surfaces of the flow path block are in contact with each other, the gap between the gas supply units is omitted, and the gas supply device is highly integrated, Heat dissipation from the solenoid valve can be performed appropriately.

第10の発明では、第8の発明において、前記流路を流通するガスを加熱するヒータを備え、前記流路ブロックの前記隣り合う側面の間に前記ヒータが挟み込まれた状態で、前記複数のガス供給ユニットの前記流路ブロック同士が一体化されている。このため、1つのヒータの両面によって隣り合う2つの流路ブロックを加熱することができる。したがって、隣り合う流路ブロックの間に各流路ブロックを加熱するヒータをそれぞれ設ける必要がなく、ヒータを取り付けるためのスペースを縮小することができる。さらに、流路ブロック間に隙間を設定する必要がないため、流路ブロック同士の間隔を狭くすることができる。その結果、流路を流通するガスを加熱するヒータを備えるガス供給装置において、その小型化や高集積化を実現することができる。   According to a tenth aspect, in the eighth aspect, the apparatus includes a heater for heating the gas flowing through the flow path, and the plurality of the plurality of heaters are sandwiched between the adjacent side surfaces of the flow path block. The flow path blocks of the gas supply unit are integrated with each other. For this reason, two adjacent flow path blocks can be heated by both surfaces of one heater. Therefore, it is not necessary to provide a heater for heating each flow path block between adjacent flow path blocks, and the space for attaching the heater can be reduced. Furthermore, since it is not necessary to set a gap between the flow path blocks, the distance between the flow path blocks can be reduced. As a result, it is possible to achieve downsizing and high integration in a gas supply device including a heater that heats the gas flowing through the flow path.

第11の発明では、第8〜第10のいずれかの発明において、前記複数のガス供給ユニットの各伝熱部材同士を当接させるユニット間伝熱部材を備えている。このため、電磁弁で発生する熱をガス供給ユニット間で拡散させることができ、電磁弁同士の温度差を更に小さくすることができる。その結果、電磁弁からの放熱を更に安定して行うことができる。   According to an eleventh aspect, in any one of the eighth to tenth aspects, an inter-unit heat transfer member that abuts the heat transfer members of the plurality of gas supply units is provided. For this reason, the heat generated by the electromagnetic valves can be diffused between the gas supply units, and the temperature difference between the electromagnetic valves can be further reduced. As a result, heat radiation from the electromagnetic valve can be performed more stably.

ガス供給装置の斜視図。The perspective view of a gas supply apparatus. ガス供給ユニットを幅方向で切断した断面図。Sectional drawing which cut | disconnected the gas supply unit in the width direction. 図2の3−3線断面図。FIG. 3 is a sectional view taken along line 3-3 in FIG. 2. ガス供給装置の下面図。The bottom view of a gas supply device. ガス供給装置の正面図。The front view of a gas supply apparatus. ケースを示す図。The figure which shows a case. 伝熱プレート及びその周辺構成を示す図。The figure which shows a heat-transfer plate and its periphery structure. 伝熱プレート及びその周辺構成の変形例を示す図。The figure which shows the modification of a heat exchanger plate and its periphery structure. 伝熱プレート及びその周辺構成の他の変形例を示す図。The figure which shows the other modification of a heat-transfer plate and its periphery structure. 伝熱ブロック及びその周辺構成を示す図。The figure which shows a heat-transfer block and its periphery structure. ガス供給装置の変形例を示す斜視図。The perspective view which shows the modification of a gas supply apparatus. ガス供給装置の他の変形例を示す正面図。The front view which shows the other modification of a gas supply apparatus. 伝熱プレート及びその周辺構成の他の変形例を示す図。The figure which shows the other modification of a heat-transfer plate and its periphery structure.

以下、本発明を具現化した一実施形態について、図面を参照しつつ説明する。   Hereinafter, an embodiment embodying the present invention will be described with reference to the drawings.

図1に示すように、ガス供給装置10は、同じ構成のガス供給ユニット11を複数備えている。   As shown in FIG. 1, the gas supply apparatus 10 includes a plurality of gas supply units 11 having the same configuration.

ガス供給ユニット11は、長尺状に延びる直方体状に形成された流路ブロック20と、複数の電磁弁50(50A)とを備えている。流路ブロック20の上面20a(弁搭載面)には、複数の電磁弁50が搭載されている。電磁弁50は、上面20aの長手方向に沿って直列に配置されている。電磁弁50は、上面20aの短手方向(幅方向)において中央に配置されている。流路ブロック20の上面20aの幅は、同方向における電磁弁50の幅よりも若干広くされている。   The gas supply unit 11 includes a flow path block 20 formed in a rectangular parallelepiped shape extending in a long shape, and a plurality of electromagnetic valves 50 (50A). A plurality of electromagnetic valves 50 are mounted on the upper surface 20 a (valve mounting surface) of the flow path block 20. The solenoid valves 50 are arranged in series along the longitudinal direction of the upper surface 20a. The solenoid valve 50 is disposed at the center in the short side direction (width direction) of the upper surface 20a. The width of the upper surface 20a of the flow path block 20 is slightly wider than the width of the electromagnetic valve 50 in the same direction.

複数のガス供給ユニット11は、流路ブロック20において上面20aを幅方向から挟む両側面20c同士が互いに当接するように並列に配列されている。すなわち、複数のガス供給ユニット11では、流路ブロック20の上面20aの幅方向(長手方向に直交する方向)において、流路ブロック20の互いの側面20cが対向している。ガス供給ユニット11が集積される方向、すなわち流路ブロック20の上面20aの幅方向において、流路ブロック20同士の間には隙間が形成されていない。   The plurality of gas supply units 11 are arranged in parallel such that both side surfaces 20c sandwiching the upper surface 20a from the width direction in the flow path block 20 are in contact with each other. That is, in the plurality of gas supply units 11, the side surfaces 20 c of the flow path block 20 face each other in the width direction (direction orthogonal to the longitudinal direction) of the upper surface 20 a of the flow path block 20. No gap is formed between the flow path blocks 20 in the direction in which the gas supply units 11 are integrated, that is, in the width direction of the upper surface 20a of the flow path block 20.

複数のガス供給ユニット11は、流路ブロック20の幅方向(上面20aの幅方向)に集積されている。そして、複数の流路ブロック20は、全体として直方体状をなしている。詳しくは、各流路ブロック20の上面20aの高さ(位置)が一致しているとともに、各流路ブロック20の長手方向の端面の位置が一致している。   The plurality of gas supply units 11 are integrated in the width direction of the flow path block 20 (the width direction of the upper surface 20a). The plurality of flow path blocks 20 have a rectangular parallelepiped shape as a whole. Specifically, the height (position) of the upper surface 20a of each flow path block 20 matches, and the position of the end face in the longitudinal direction of each flow path block 20 matches.

次に、図2,3を参照して、1つのガス供給ユニット11の構成について代表して説明する。なお、図2は、ガス供給ユニット11を幅方向で切断した断面図である。図3は、図2の3−3線断面図について電磁弁50を省略して示している。   Next, the configuration of one gas supply unit 11 will be described as a representative with reference to FIGS. FIG. 2 is a cross-sectional view of the gas supply unit 11 cut in the width direction. 3 omits the electromagnetic valve 50 in the cross-sectional view taken along line 3-3 of FIG.

流路ブロック20の内部には、その長手方向(上面20aの長手方向)に沿って直線状に延びるキャリングガス流路21(主流路)が設けられている。キャリングガス流路21は、略円形の流路断面を有しており、その太さ(径)が一定となるように形成されている。詳しくは、キャリングガス流路21は、流路ブロック20の長手方向の端面20dからドリル等で加工を行うことにより形成されている。そして、その加工孔が栓27によって閉じられている。キャリングガス流路21において栓27と反対側の端部には、キャリングガス(パージガス)の出力ポート29が接続されている。   Inside the flow path block 20, a carrying gas flow path 21 (main flow path) extending linearly along the longitudinal direction (longitudinal direction of the upper surface 20a) is provided. The carrying gas channel 21 has a substantially circular channel cross section, and is formed such that its thickness (diameter) is constant. Specifically, the carrying gas flow path 21 is formed by processing the end face 20d in the longitudinal direction of the flow path block 20 with a drill or the like. The processing hole is closed by a stopper 27. A carrying gas (purge gas) output port 29 is connected to the end of the carrying gas flow path 21 opposite to the plug 27.

流路ブロック20の内部には、キャリングガス流路21にそれぞれ連通する複数のプロセスガス流路22(副流路)が設けられている。プロセスガス流路22(22A)は、流路ブロック20の下面20b(副流路開口面)に開口している。プロセスガス流路22は、下面20bにおいて幅方向(図3の左右方向)の中央に開口している。すなわち、プロセスガス流路22の開口部は、流路ブロック20を幅方向で二等分する仮想平面Fを中心として均等に配置されている。   Inside the flow path block 20, a plurality of process gas flow paths 22 (sub-flow paths) communicating with the carrying gas flow paths 21 are provided. The process gas flow path 22 (22A) opens to the lower surface 20b (sub-flow path opening surface) of the flow path block 20. The process gas flow path 22 opens at the center in the width direction (left-right direction in FIG. 3) on the lower surface 20b. That is, the openings of the process gas flow path 22 are evenly arranged around a virtual plane F that bisects the flow path block 20 in the width direction.

流路ブロック20の上面20aには、流路ブロック20の長手方向(上面20aの長手方向)に沿って所定間隔で上記電磁弁50の弁室24が設けられている。そして、上記各プロセスガス流路22は各弁室24に連通されている。すなわち、電磁弁50は、プロセスガス流路22毎に設けられている。   On the upper surface 20a of the flow path block 20, the valve chamber 24 of the electromagnetic valve 50 is provided at predetermined intervals along the longitudinal direction of the flow path block 20 (longitudinal direction of the upper surface 20a). Each process gas channel 22 communicates with each valve chamber 24. That is, the electromagnetic valve 50 is provided for each process gas flow path 22.

弁室24は、キャリングガス流路21の延びる方向に沿って所定間隔で設けられているとともに、流路ブロック20の幅方向(流路ブロック20の上面20aの幅方向)において中央に設けられている。弁室24は、略円形の凹部として形成されている。そして、弁室24は、流路ブロック20の幅を縮小するために、流路ブロック20の幅方向の略全長にわたって設けられている。換言すれば、流路ブロック20の幅は、弁室24の径と略等しく又はそれよりも若干広く設定されている。   The valve chamber 24 is provided at predetermined intervals along the direction in which the carrying gas flow path 21 extends, and is provided at the center in the width direction of the flow path block 20 (the width direction of the upper surface 20a of the flow path block 20). Yes. The valve chamber 24 is formed as a substantially circular recess. The valve chamber 24 is provided over substantially the entire length of the flow path block 20 in order to reduce the width of the flow path block 20. In other words, the width of the flow path block 20 is set to be approximately equal to or slightly wider than the diameter of the valve chamber 24.

弁室24の中央には、電磁弁50の弁体51が当接および離間する弁座24aが設けられている。弁座24aは、略円環状の突部として形成されている。弁室24の中央、すなわち弁座24aで囲まれる部分には、接続流路26が連通されている。接続流路26は、流路ブロック20内において、流路ブロック20の上面20aから離間する方向へ延びて上記キャリングガス流路21に接続されている。すなわち、接続流路26は、弁室24とキャリングガス流路21とを接続している。したがって、上記プロセスガス流路22は、弁室24及び接続流路26を介してキャリングガス流路21に接続されている。   In the center of the valve chamber 24, a valve seat 24a is provided on which the valve body 51 of the electromagnetic valve 50 comes into contact with and leaves. The valve seat 24a is formed as a substantially annular protrusion. A connection channel 26 is communicated with the center of the valve chamber 24, that is, the portion surrounded by the valve seat 24a. The connection flow path 26 extends in a direction away from the upper surface 20 a of the flow path block 20 in the flow path block 20 and is connected to the carrying gas flow path 21. That is, the connection flow path 26 connects the valve chamber 24 and the carrying gas flow path 21. Accordingly, the process gas flow path 22 is connected to the carrying gas flow path 21 via the valve chamber 24 and the connection flow path 26.

プロセスガス遮断後のデッドスペースとなる接続流路26をできるだけ短くするために、キャリングガス流路21は弁室24の近傍に配置されている。接続流路26は、流路ブロック20の上面20aから垂直に延びてキャリングガス流路21に接続されている。詳しくは、上面20aの幅方向に関して、接続流路26はキャリングガス流路21の端部付近に接続されている。また、接続流路26は、流路ブロック20の幅方向の中央に配置されている。このため、流路ブロック20において複数の接続流路26の中心軸線は、流路ブロック20を幅方向で二等分する仮想平面F上に位置している。   The carrying gas flow path 21 is disposed in the vicinity of the valve chamber 24 in order to shorten the connection flow path 26 that becomes a dead space after the process gas is shut off as much as possible. The connection channel 26 extends perpendicularly from the upper surface 20 a of the channel block 20 and is connected to the carrying gas channel 21. Specifically, the connection flow path 26 is connected to the vicinity of the end of the carrying gas flow path 21 in the width direction of the upper surface 20a. Further, the connection channel 26 is disposed at the center in the width direction of the channel block 20. For this reason, in the flow path block 20, the central axes of the plurality of connection flow paths 26 are located on a virtual plane F that bisects the flow path block 20 in the width direction.

キャリングガス流路21は、接続流路26やプロセスガス流路22よりも太く形成されている。このため、キャリングガス流路21が流路ブロック20の長手方向に直線状に延びる構成であったとしても、比較的容易に加工を行うことができる。   The carrying gas channel 21 is formed thicker than the connection channel 26 and the process gas channel 22. For this reason, even if the carrying gas channel 21 is configured to extend linearly in the longitudinal direction of the channel block 20, it can be processed relatively easily.

電磁弁50は、コイル52と、コア54と、弁体51と、コイル52の外周に配置されたケース53とを有している。コイル52は円筒状に形成されており、コア54はコイル52の内径と略等しい外径を有する円柱状に形成されている。コイル52の内部にコア54が挿入されている。ケース53は、コイル52を覆うように設けられ、コイル52で発生する磁界の磁路を構成している。電磁弁50(50A)は、ガス供給ユニット11(流路ブロック20)の幅を狭くするために、小型かつ弁体51の駆動力が大きいものが採用されている。詳しくは、コイル52は、断面が矩形の平角導線により構成されており、断面が円形の丸形導線により構成されたコイルよりも定格電流が大きい。このため、コイル52の体積をできるだけ小さくしつつ、弁体51の駆動力を大きくすることができる。こうした構成では、コイル52での発熱量が多くなるため、電磁弁50からの放熱を適切に行うことが重要となる。コイル52には駆動回路が接続されている。   The electromagnetic valve 50 includes a coil 52, a core 54, a valve body 51, and a case 53 disposed on the outer periphery of the coil 52. The coil 52 is formed in a cylindrical shape, and the core 54 is formed in a columnar shape having an outer diameter substantially equal to the inner diameter of the coil 52. A core 54 is inserted into the coil 52. The case 53 is provided so as to cover the coil 52 and constitutes a magnetic path of a magnetic field generated by the coil 52. The solenoid valve 50 (50A) is small and has a large driving force of the valve body 51 in order to narrow the width of the gas supply unit 11 (flow path block 20). Specifically, the coil 52 is configured by a rectangular conducting wire having a rectangular cross section, and the rated current is larger than that of a coil configured by a round conducting wire having a circular cross section. For this reason, the driving force of the valve body 51 can be increased while reducing the volume of the coil 52 as much as possible. In such a configuration, since the amount of heat generated in the coil 52 increases, it is important to appropriately dissipate heat from the electromagnetic valve 50. A drive circuit is connected to the coil 52.

そして、この駆動回路によってコイル52への通電が行われ、電磁弁50の有する弁体51が往復駆動される。弁室24に設けられた弁座24aに弁体51が当接および離間することにより、弁室24と接続流路26とが遮断および連通される。流路ブロック20の長手方向において、出力ポート29と反対側の端部に設けられた電磁弁50Aはキャリングガス(パージガス)の流通状態を変更する。すなわち、複数のプロセスガス流路22のうち、流路ブロック20の長手方向においてキャリングガスの出力ポート29と反対側の端部に設けられたプロセスガス流路22Aはキャリングガス(パージガス)の流路として用いられる。他の電磁弁50は各プロセスガスの流通状態を変更する。この際に、複数の電磁弁50が同時に駆動されることはなく、それぞれの電磁弁50は異なる時期に駆動される。すなわち、複数のプロセスガス流路22から、一度に1つずつプロセスガスが供給される。プロセスガス流路22Aからキャリングガスが供給される場合には、電磁弁50Aと1つの電磁弁50とが同時に駆動される。なお、キャリングガス流路21にキャリングガスを流通させず、プロセスガス及びパージガスの流路として用いてもよい。プロセスガス流路22Aからパージガスが供給される場合には、電磁弁50Aと電磁弁50とは同時に駆動されない。また、複数の電磁弁50の一部を同時に駆動するようにしてもよい。   The drive circuit energizes the coil 52 to reciprocate the valve body 51 of the electromagnetic valve 50. When the valve body 51 abuts on and separates from the valve seat 24a provided in the valve chamber 24, the valve chamber 24 and the connection flow path 26 are blocked and communicated. In the longitudinal direction of the flow path block 20, the electromagnetic valve 50A provided at the end opposite to the output port 29 changes the flow state of the carrying gas (purge gas). That is, among the plurality of process gas flow paths 22, the process gas flow path 22 A provided at the end opposite to the carrying gas output port 29 in the longitudinal direction of the flow path block 20 is a flow path for carrying gas (purge gas). Used as The other solenoid valve 50 changes the flow state of each process gas. At this time, the plurality of solenoid valves 50 are not driven at the same time, and the respective solenoid valves 50 are driven at different times. That is, one process gas is supplied from the plurality of process gas flow paths 22 one at a time. When the carrying gas is supplied from the process gas flow path 22A, the electromagnetic valve 50A and one electromagnetic valve 50 are driven simultaneously. Note that the carrying gas may be used as a flow path for the process gas and the purge gas without passing the carrying gas through the carrying gas flow path 21. When the purge gas is supplied from the process gas flow path 22A, the solenoid valve 50A and the solenoid valve 50 are not driven simultaneously. Moreover, you may make it drive a part of several solenoid valve 50 simultaneously.

ここで、キャリングガス流路21は、流路ブロック20の幅方向に関して弁室24の中央から一方側に偏った部分、すなわち仮想平面Fから偏った部分に配置されている。すなわち、キャリングガス流路21の中心軸線は仮想平面Fからずれており、キャリングガス流路21は流路ブロック20の幅方向の中央から偏っている。換言すれば、キャリングガス流路21は、流路ブロック20において上面20aを幅方向から挟む両側面20cの一方寄りに配置されている。このため、流路ブロック20において、キャリングガス流路21を配置した部分と反対側の部分に他の流路を配置するための体積(空間)を確保することができる。また、キャリングガス流路21は、弁室24の中央から上面20aに対して垂直に延びる接続流路26に接続することのできる範囲で、流路ブロック20の幅方向に関して弁室24の中央から一方側に偏っている。なお、キャリングガス流路21の流路断面積(径)は、ガス供給ユニット11において必要な量のキャリングガス(パージガス)を流通させることができるように設定されている。   Here, the carrying gas flow path 21 is disposed in a portion deviated from the center of the valve chamber 24 to one side with respect to the width direction of the flow path block 20, that is, a portion deviated from the virtual plane F. In other words, the central axis of the carrying gas channel 21 is deviated from the virtual plane F, and the carrying gas channel 21 is offset from the center in the width direction of the channel block 20. In other words, the carrying gas flow path 21 is disposed on one side of the both side surfaces 20c that sandwich the upper surface 20a from the width direction in the flow path block 20. For this reason, in the flow path block 20, the volume (space) for arrange | positioning another flow path to the part on the opposite side to the part which has arrange | positioned the carrying gas flow path 21 is securable. Further, the carrying gas flow path 21 can be connected to a connection flow path 26 extending perpendicularly to the upper surface 20a from the center of the valve chamber 24, and from the center of the valve chamber 24 in the width direction of the flow path block 20. It is biased to one side. The channel cross-sectional area (diameter) of the carrying gas channel 21 is set so that a necessary amount of carrying gas (purge gas) can be circulated in the gas supply unit 11.

そして、キャリングガス流路21を仮想平面Fから偏らせて配置したことにより反対側に確保された部分をプロセスガス流路22が通過している。プロセスガス流路22は、流路ブロック20において仮想平面Fからキャリングガス流路21とは反対側に偏った部分を通過して上記弁室24に接続されている。このため、電磁弁50(弁室24)が設けられる上面20aに対して垂直な側面20cにプロセスガスの入力ポートを設ける必要がない。   And the process gas flow path 22 has passed through the part ensured on the opposite side by arrange | positioning the carrying gas flow path 21 offset from the virtual plane F. As shown in FIG. The process gas flow path 22 is connected to the valve chamber 24 through a portion of the flow path block 20 that is offset from the virtual plane F to the side opposite to the carrying gas flow path 21. Therefore, it is not necessary to provide a process gas input port on the side surface 20c perpendicular to the upper surface 20a on which the electromagnetic valve 50 (valve chamber 24) is provided.

プロセスガス流路22は、流路ブロック20の上面20aに対して垂直に延びる垂直部分22bを有している。そして、この垂直部分22bがキャリングガス流路21の横を通過している。このため、流路ブロック20内において、キャリングガス流路21と側面20cとの間隔を一定に保つように垂直部分22bを配置することができる。プロセスガス流路22においてキャリングガス流路21の横を通過する垂直部分22bが、他の部分である傾斜部分22aよりも細く形成されている。これらの構成により、流路ブロック20の幅が制限される場合であっても、流路ブロック20内においてキャリングガス流路21に干渉しないようにプロセスガス流路22(垂直部分22b)を配置することが容易となる。また、プロセスガス流路22は、流路ブロック20の下面20bにおいて幅方向の中央に開口するとともに、キャリングガス流路21を避けるように折れ曲がって弁室24に接続されている。   The process gas flow path 22 has a vertical portion 22 b extending perpendicularly to the upper surface 20 a of the flow path block 20. The vertical portion 22 b passes by the side of the carrying gas channel 21. For this reason, in the flow path block 20, the vertical part 22b can be arrange | positioned so that the space | interval of the carrying gas flow path 21 and the side surface 20c may be kept constant. In the process gas flow path 22, a vertical portion 22 b that passes by the side of the carrying gas flow path 21 is formed narrower than the inclined portion 22 a that is the other portion. With these configurations, even when the width of the flow path block 20 is limited, the process gas flow path 22 (vertical portion 22b) is arranged in the flow path block 20 so as not to interfere with the carrying gas flow path 21. It becomes easy. The process gas flow path 22 opens to the center in the width direction on the lower surface 20 b of the flow path block 20 and is bent so as to avoid the carrying gas flow path 21 and connected to the valve chamber 24.

次に、図4,5を参照して、各ガス供給ユニット11のキャリングガス流路21(プロセスガス流路22A)にキャリングガスを分配供給する供給ブロック41の構成について説明する。なお、図4はガス供給装置10の下面図であり、図5はガス供給装置10の正面図である。   Next, the configuration of the supply block 41 that distributes and supplies the carrying gas to the carrying gas passage 21 (process gas passage 22A) of each gas supply unit 11 will be described with reference to FIGS. 4 is a bottom view of the gas supply device 10, and FIG. 5 is a front view of the gas supply device 10.

全ての流路ブロック20のプロセスガス流路22Aの開口部は、ガス供給装置10の幅方向(流路ブロック20の幅方向)にみて直線上に並んでいる。並列に配列された流路ブロック20の下面20bにおいて、直線上に並んだプロセスガス流路22Aの開口部には、供給ブロック41(供給部材)が設けられている。供給ブロック41は、内部にキャリングガスの導入流路42(図5において破線で模式的に表示)が設けられた流路部41aと、貫通孔が設けられた取付け部41bとを備えている。流路部41aは直方体状に形成されており、その両側面から張出すように直方体状の取付け部41bが設けられている。2つの取付け部41bは、流路部41aの側面に沿ってそれぞれ延びている。そして、流路ブロック20に対して供給ブロック41の取付け部41bがボルト43により固定されている。   The openings of the process gas flow paths 22A of all the flow path blocks 20 are aligned on a straight line when viewed in the width direction of the gas supply device 10 (width direction of the flow path block 20). A supply block 41 (supply member) is provided at the opening of the process gas flow path 22A arranged in a straight line on the lower surface 20b of the flow path block 20 arranged in parallel. The supply block 41 includes a flow channel portion 41a in which a carrying gas introduction flow channel 42 (schematically indicated by a broken line in FIG. 5) is provided, and an attachment portion 41b in which a through hole is provided. The channel portion 41a is formed in a rectangular parallelepiped shape, and a rectangular parallelepiped mounting portion 41b is provided so as to project from both side surfaces thereof. The two attachment portions 41b extend along the side surface of the flow path portion 41a. The attachment portion 41 b of the supply block 41 is fixed to the flow path block 20 by a bolt 43.

流路部41aには、キャリングガスの入力ポート28が取り付けられている。入力ポート28は、流路部41aにおいて長手方向の端面に取り付けられている。流路部41aの内部の導入流路42は、上流側の端部が入力ポート28に連通している。導入流路42は、入力ポート28との連通部から下流側へ延びて複数に分岐している。導入流路42の下流側の各端部は、流路部41aにおいて流路ブロック20の下面20b側の面で開口している。この各開口部において、導入流路42の下流側の各端部は各流路ブロック20の下面20bに開口したプロセスガス流路22Aに接続されている。導入流路42の下流側の各端部と各プロセスガス流路22Aとの接続部は、シール部材によってシールされている。そして、入力ポート28から全ての流路ブロック20の各プロセスガス流路22Aに共通のキャリングガス(パージガス)が分配供給される。   A carrying gas input port 28 is attached to the flow path portion 41a. The input port 28 is attached to the end surface in the longitudinal direction in the flow path portion 41a. The upstream end of the introduction flow channel 42 inside the flow channel 41 a communicates with the input port 28. The introduction flow path 42 extends downstream from the communication portion with the input port 28 and is branched into a plurality of branches. Each end portion on the downstream side of the introduction flow path 42 is open at the surface on the lower surface 20b side of the flow path block 20 in the flow path portion 41a. In each opening, each downstream end of the introduction flow path 42 is connected to a process gas flow path 22 </ b> A opened in the lower surface 20 b of each flow path block 20. The connection portion between each end portion on the downstream side of the introduction flow channel 42 and each process gas flow channel 22A is sealed by a seal member. Then, a common carrying gas (purge gas) is distributed and supplied from the input port 28 to each process gas flow path 22A of all flow path blocks 20.

並列に配列されたガス供給ユニット11は互いに固定されており、全体として一体化されている。具体的には、並列に配列された流路ブロック20が、ブラケット46及び上記供給ブロック41を用いて固定されている。   The gas supply units 11 arranged in parallel are fixed to each other and integrated as a whole. Specifically, the flow path blocks 20 arranged in parallel are fixed using the bracket 46 and the supply block 41.

各流路ブロック20の下面20bには、長手方向に沿って所定間隔でボルト孔47が設けられている。ボルト孔47は、各流路ブロック20の下面20bにおいて幅方向の中央に設けられている。   Bolt holes 47 are provided in the lower surface 20b of each flow path block 20 at predetermined intervals along the longitudinal direction. The bolt hole 47 is provided at the center in the width direction on the lower surface 20 b of each flow path block 20.

ブラケット46は、略矩形の板状に形成されている。ブラケット46の長手方向の長さは、ガス供給装置10が備える複数の流路ブロック20幅を合計した長さに略等しく設定されている。ガス供給装置10の幅方向(流路ブロック20の幅方向)にブラケット46の長手方向を一致させて、複数の流路ブロック20の下面20bに渡ってブラケット46が配置されている。ブラケット46は、流路ブロック20の長手方向の端部において上記ボルト孔47が設けられた位置に配置されている。ブラケット46には、ボルト孔47に対応する位置に貫通孔が設けられている。これらの貫通孔にボルト43が挿入され、ボルト43がボルト孔47に締め付けられている。流路ブロック20の下面20bには、接続部材がプロセスガス流路22毎に設けられる。接続部材は、上記の端部以外のボルト孔47において流路ブロック20にボルトによって固定される。この接続部材には、その下面から上面まで貫通する直線状の導入流路が設けられている。これらの導入流路及びプロセスガス流路22の接続部はガスケットによってシールされる。   The bracket 46 is formed in a substantially rectangular plate shape. The length of the bracket 46 in the longitudinal direction is set to be approximately equal to the total length of the plurality of flow path blocks 20 provided in the gas supply device 10. The bracket 46 is disposed across the lower surfaces 20b of the plurality of flow path blocks 20 so that the longitudinal direction of the bracket 46 is aligned with the width direction of the gas supply device 10 (the width direction of the flow path block 20). The bracket 46 is disposed at a position where the bolt hole 47 is provided at the end of the flow path block 20 in the longitudinal direction. The bracket 46 is provided with a through hole at a position corresponding to the bolt hole 47. Bolts 43 are inserted into these through holes, and the bolts 43 are fastened to the bolt holes 47. A connecting member is provided for each process gas flow path 22 on the lower surface 20 b of the flow path block 20. The connecting member is fixed to the flow path block 20 with bolts in the bolt holes 47 other than the end portions. The connecting member is provided with a linear introduction flow channel penetrating from the lower surface to the upper surface. The connection portion between the introduction flow path and the process gas flow path 22 is sealed with a gasket.

供給ブロック41の長手方向の長さ(流路部41a及び取付け部41bの長手方向の長さ)は、ブラケット46と同等の長さに設定されている。ガス供給装置10の幅方向に供給ブロック41の長手方向を一致させて、複数の流路ブロック20の下面20bに渡って供給ブロック41が配置されている。供給ブロック41は、流路ブロック20の長手方向において取付け部41bの位置がボルト孔47の位置に一致するように配置されている。取付け部41bには、ボルト孔47に対応する位置に貫通孔が設けられている。これらの貫通孔にボルト43が挿入され、ボルト43がボルト孔47に締め付けられている。   The length in the longitudinal direction of the supply block 41 (the length in the longitudinal direction of the flow path portion 41 a and the attachment portion 41 b) is set to the same length as the bracket 46. The supply block 41 is arranged across the lower surfaces 20 b of the plurality of flow path blocks 20 so that the longitudinal direction of the supply block 41 coincides with the width direction of the gas supply device 10. The supply block 41 is arranged so that the position of the attachment portion 41 b matches the position of the bolt hole 47 in the longitudinal direction of the flow path block 20. The attachment portion 41 b is provided with a through hole at a position corresponding to the bolt hole 47. Bolts 43 are inserted into these through holes, and the bolts 43 are fastened to the bolt holes 47.

次に、図6を参照して、電磁弁50のケース53について説明する。なお、図6(a)はケース53の斜視図であり、図6(b)はケース53の正面図であり、図6(c)はケース53の側面図である。図6では、コイル52や流路ブロック20等を省略して示している。   Next, the case 53 of the electromagnetic valve 50 will be described with reference to FIG. 6A is a perspective view of the case 53, FIG. 6B is a front view of the case 53, and FIG. 6C is a side view of the case 53. In FIG. 6, the coil 52 and the flow path block 20 are omitted.

上記コイル52及びコア54は、互いに組付けられた状態で円柱状の外形を有している。ケース53は、コイル52及びコア54の外周に設けられている。ケース53は、コイル52及びコア54を概ね覆うとともに、一部が開口している。すなわち、ケース53は、側面部の一部が開口した有底筒状に形成されている。ケース53は、コイル52等に組付けられ、底面部53bが上側となるように配置されている。底面部53bは、コイル52の軸線方向の端面に隣接するように配置されている。   The coil 52 and the core 54 have a cylindrical outer shape when assembled with each other. The case 53 is provided on the outer periphery of the coil 52 and the core 54. The case 53 substantially covers the coil 52 and the core 54 and is partially open. That is, the case 53 is formed in a bottomed cylindrical shape in which a part of the side surface portion is opened. The case 53 is assembled to the coil 52 and the like, and is arranged so that the bottom surface portion 53b is on the upper side. The bottom surface portion 53 b is disposed so as to be adjacent to the end surface of the coil 52 in the axial direction.

ケース53は、コイル52で発生する磁界の磁路を構成している。このため、ケース53は磁路の断面積を確保する必要がある。一方、ケース53は流路ブロック20の幅内に収まる必要がある。そこで、ケース53は、円筒状の形状から、流路ブロック20の幅方向において両端に配置される部分を切除した形状とされている。すなわち、コイル52の軸線方向からみて、ケース53の底面部53b(上面部)は、平面をなすように形成されるとともに円形の両端部を切除した形状とされている。   The case 53 constitutes a magnetic path of a magnetic field generated by the coil 52. For this reason, the case 53 needs to ensure the cross-sectional area of a magnetic path. On the other hand, the case 53 needs to fit within the width of the flow path block 20. Therefore, the case 53 has a shape obtained by cutting out portions disposed at both ends in the width direction of the flow path block 20 from the cylindrical shape. That is, when viewed from the axial direction of the coil 52, the bottom surface portion 53b (upper surface portion) of the case 53 is formed to have a flat surface and has a shape in which both circular end portions are cut away.

換言すれば、コイル52の軸線方向からみて、底面部53bの外周の直線部分が流路ブロック20の幅方向の両端に配置されるように、電磁弁50が流路ブロック20に配置されている。ケース53の側面部には、底面部53bの外周の直線部分に相当する部分として、平面をなすように形成された平面部53a(ケース平面部)が設けられている。平面部53aは、流路ブロック20において上面20aを幅方向から挟む両側面20c(流路ブロック20の側面20c)に対して平行に配置されている。   In other words, the electromagnetic valve 50 is disposed in the flow path block 20 so that the linear portions of the outer periphery of the bottom surface portion 53 b are disposed at both ends in the width direction of the flow path block 20 when viewed from the axial direction of the coil 52. . The side surface portion of the case 53 is provided with a flat surface portion 53a (case flat surface portion) formed so as to form a flat surface as a portion corresponding to the linear portion of the outer periphery of the bottom surface portion 53b. The flat surface portion 53a is disposed in parallel to both side surfaces 20c (side surfaces 20c of the flow path block 20) sandwiching the upper surface 20a from the width direction in the flow path block 20.

ケース53の側面部には、平面部53aに対向する位置に開口部53cが設けられている。流路ブロック20の長手方向にみて、開口部53cの一端付近は流路ブロック20の幅方向へ延びている。この開口部53cの一端付近は、流路ブロック20の幅方向において略中央まで延びている。開口部53cは、コイル52と駆動回路とを接続する配線を通すために用いられている。   An opening 53c is provided on the side surface of the case 53 at a position facing the flat portion 53a. When viewed in the longitudinal direction of the flow path block 20, the vicinity of one end of the opening 53 c extends in the width direction of the flow path block 20. The vicinity of one end of the opening 53c extends to substantially the center in the width direction of the flow path block 20. The opening 53c is used for passing a wiring connecting the coil 52 and the drive circuit.

ケース53の内周面は、コイル52の外周面に当接又は近接している。換言すれば、コイル52の外周面は、開口部53cの設けられた部分を除いてケース53によって覆われている。このため、コイル52で発生した熱の大部分はケース53に伝達される。   The inner peripheral surface of the case 53 is in contact with or close to the outer peripheral surface of the coil 52. In other words, the outer peripheral surface of the coil 52 is covered with the case 53 except for the portion where the opening 53c is provided. For this reason, most of the heat generated in the coil 52 is transmitted to the case 53.

次に、図7を参照して、電磁弁50で発生する熱を流路ブロック20へ伝達する伝熱プレート30(伝熱部材)について説明する。伝熱プレート30は、ガス供給ユニット11毎に独立して設けられている。なお、図7は、伝熱プレート及びその周辺構成を示す図であり、図7(a)は平面図であり、図7(b)は流路ブロック20の長手方向からみた図であり、図7(c)は流路ブロック20の幅方向からみた図である。   Next, a heat transfer plate 30 (heat transfer member) that transfers heat generated by the electromagnetic valve 50 to the flow path block 20 will be described with reference to FIG. The heat transfer plate 30 is provided independently for each gas supply unit 11. 7 is a view showing the heat transfer plate and its peripheral configuration, FIG. 7 (a) is a plan view, and FIG. 7 (b) is a view seen from the longitudinal direction of the flow path block 20. 7 (c) is a view as seen from the width direction of the flow path block 20.

伝熱プレート30は、平板状に形成された平板部31(ケース当接部)と、流路ブロック20に固定された固定部32(ブロック繋ぎ部)とを有している。平板部31と固定部32とは一体に成形されている。伝熱プレート30は、ステンレスやアルミ合金等の金属によって形成されている。なお、伝熱プレートは、熱伝導率の高い材料であれば、その他の金属や非金属により形成してもよい。   The heat transfer plate 30 has a flat plate portion 31 (case contact portion) formed in a flat plate shape and a fixing portion 32 (block connecting portion) fixed to the flow path block 20. The flat plate portion 31 and the fixed portion 32 are integrally formed. The heat transfer plate 30 is made of metal such as stainless steel or aluminum alloy. The heat transfer plate may be formed of other metals or non-metals as long as the material has high thermal conductivity.

平板部31は矩形状に形成されている。平板部31の長手方向の長さは、流路ブロック20の上面20aにおいて長手方向の両端に配置された電磁弁50(50A)同士の間隔よりも長く設定されている。平板部31の短手方向の長さは、電磁弁50のコイル52の軸線方向におけるケース53の長さと略等しく設定されている。上述したように、電磁弁50は、流路ブロック20の上面20aの短手方向(幅方向)において中央に配置されている。そして、平板部31の厚みは、流路ブロック20の幅方向に関して、流路ブロック20の側面20cとケース53の平面部53aとの距離に略等しく設定されている。換言すれば、平板部31の厚みは、流路ブロック20の幅(上面20aの幅)から、流路ブロック20の幅方向におけるケース53の幅を引いた長さの略半分に設定されている。   The flat plate portion 31 is formed in a rectangular shape. The length in the longitudinal direction of the flat plate portion 31 is set to be longer than the interval between the electromagnetic valves 50 (50A) arranged at both ends in the longitudinal direction on the upper surface 20a of the flow path block 20. The length in the short direction of the flat plate portion 31 is set to be approximately equal to the length of the case 53 in the axial direction of the coil 52 of the electromagnetic valve 50. As described above, the electromagnetic valve 50 is disposed at the center in the short side direction (width direction) of the upper surface 20a of the flow path block 20. The thickness of the flat plate portion 31 is set substantially equal to the distance between the side surface 20 c of the flow path block 20 and the flat portion 53 a of the case 53 in the width direction of the flow path block 20. In other words, the thickness of the flat plate portion 31 is set to approximately half the length obtained by subtracting the width of the case 53 in the width direction of the flow path block 20 from the width of the flow path block 20 (width of the upper surface 20a). .

平板部31の短手方向の一端部には、平板部31の長手方向に沿って所定間隔で固定部32が設けられている。固定部32が配置される間隔(固定部32のピッチ)は、電磁弁50が配置される間隔(電磁弁50のピッチ)と略等しく設定されている。固定部32は、平板部31の一方の面から平板部31の厚み方向へ張出している。固定部32は、矩形の平板状に形成されており、平板部31の面に対して垂直に設けられている。平板部31と固定部32とは、平板状の部材を折り曲げることによって、互いに垂直となるように成形されている。平板部31の一方の面から張出した固定部32の長さは、流路ブロック20の幅よりも短く設定されている。固定部32の幅(平板部31の長手方向に関する長さ)は、電磁弁50同士の隙間よりも狭く設定されている。固定部32には、ねじ61を挿通する貫通孔が設けられている。   Fixing portions 32 are provided at one end in the short direction of the flat plate portion 31 at predetermined intervals along the longitudinal direction of the flat plate portion 31. The interval at which the fixed portion 32 is arranged (pitch of the fixed portion 32) is set to be approximately equal to the interval at which the electromagnetic valve 50 is arranged (pitch of the electromagnetic valve 50). The fixing portion 32 extends from the one surface of the flat plate portion 31 in the thickness direction of the flat plate portion 31. The fixing portion 32 is formed in a rectangular flat plate shape, and is provided perpendicular to the surface of the flat plate portion 31. The flat plate portion 31 and the fixed portion 32 are formed to be perpendicular to each other by bending a flat plate member. The length of the fixed portion 32 protruding from one surface of the flat plate portion 31 is set to be shorter than the width of the flow path block 20. The width of the fixed portion 32 (length in the longitudinal direction of the flat plate portion 31) is set to be narrower than the gap between the electromagnetic valves 50. The fixing part 32 is provided with a through hole through which the screw 61 is inserted.

このような形状を有する伝熱プレート30が流路ブロック20の上面20aに固定されている。流路ブロック20の上面20aにおいて、電磁弁50同士の間の部分および長手方向の両端部付近にはねじ孔が設けられている。これらのねじ孔は、流路ブロック20内に設けられたキャリングガス流路21に到達しない深さで形成されている。これらのねじ孔が配置される間隔(ねじ孔のピッチ)と伝熱プレート30において固定部32が配置される間隔(固定部32のピッチ)は等しく設定されている。そして、固定部32の貫通孔にねじ61がそれぞれ挿通され、流路ブロック20のねじ孔にねじ61がそれぞれ締め付けられている。すなわち、複数の固定部32の一部は、流路ブロック20の上面20aにおいて複数の電磁弁50の間の部分に固定されている。各固定部32はねじ61の締め付けにより上面20aに押圧された状態となっているため、各固定部32から上面20aへの熱伝達効率を向上させることができる。   The heat transfer plate 30 having such a shape is fixed to the upper surface 20 a of the flow path block 20. On the upper surface 20a of the flow path block 20, screw holes are provided in portions between the electromagnetic valves 50 and in the vicinity of both ends in the longitudinal direction. These screw holes are formed at a depth that does not reach the carrying gas flow path 21 provided in the flow path block 20. The interval at which these screw holes are arranged (the pitch of the screw holes) and the interval at which the fixing portions 32 are arranged in the heat transfer plate 30 (the pitch of the fixing portions 32) are set equal. Then, screws 61 are respectively inserted into the through holes of the fixing portion 32, and the screws 61 are respectively tightened into the screw holes of the flow path block 20. That is, a part of the plurality of fixing portions 32 is fixed to a portion between the plurality of electromagnetic valves 50 on the upper surface 20 a of the flow path block 20. Since each fixing portion 32 is pressed against the upper surface 20a by tightening the screw 61, the heat transfer efficiency from each fixing portion 32 to the upper surface 20a can be improved.

このように固定された状態において、伝熱プレート30の平板部31は、電磁弁 50におけるケース53の平面部53aに対向するように配置されている。伝熱プレート30の平板部31は、流路ブロック20の長手方向(上面20aの長手方向)に沿って延びている。詳しくは、平板部31は、流路ブロック20の長手方向に沿って複数の電磁弁50(50A)の全てにわたって延びている。平板部31は、流路ブロック20の側面20cに平行に配置されており、電磁弁50(50A)の各ケース53の平面部53aに当接している。したがって、平板部31は複数の電磁弁50の各ケース53に当接されている。詳しくは、共通の平板部31に対して複数の電磁弁50の全てのケース53が当接している。ケース53の平面部53aは、全面にわたって平板部31に当接している。固定部32は、流路ブロック20の上面20aに平板部31を繋いでいる。さらに、平板部31とケース53の平面部53aとは平面同士で当接しているため、これらの間に隙間が形成されることが抑制され、当接した状態を安定させることができる。なお、平板部31とケース53の平面部53aとが接着材等により接着(固定)されていてもよい。要するに、平板部31とケース53との間で熱を直接的に伝達する構成であればよい。   In this fixed state, the flat plate portion 31 of the heat transfer plate 30 is disposed so as to face the flat portion 53 a of the case 53 in the electromagnetic valve 50. The flat plate portion 31 of the heat transfer plate 30 extends along the longitudinal direction of the flow path block 20 (longitudinal direction of the upper surface 20a). Specifically, the flat plate portion 31 extends over all of the plurality of electromagnetic valves 50 (50 </ b> A) along the longitudinal direction of the flow path block 20. The flat plate portion 31 is disposed in parallel to the side surface 20c of the flow path block 20, and is in contact with the flat portion 53a of each case 53 of the electromagnetic valve 50 (50A). Therefore, the flat plate portion 31 is in contact with each case 53 of the plurality of electromagnetic valves 50. Specifically, all cases 53 of the plurality of solenoid valves 50 are in contact with the common flat plate portion 31. The flat surface portion 53a of the case 53 is in contact with the flat plate portion 31 over the entire surface. The fixed portion 32 connects the flat plate portion 31 to the upper surface 20 a of the flow path block 20. Furthermore, since the flat plate portion 31 and the flat surface portion 53a of the case 53 are in contact with each other on a flat surface, formation of a gap between them is suppressed, and the contacted state can be stabilized. The flat plate portion 31 and the flat portion 53a of the case 53 may be bonded (fixed) with an adhesive or the like. In short, any configuration that directly transfers heat between the flat plate portion 31 and the case 53 may be used.

平板部31の一方の面をケース53の平面部53aに当接させた状態において、流路ブロック20の幅方向に関して、平板部31の他方の面の位置は流路ブロック20の側面20cの位置と一致している。すなわち、伝熱プレート30は、流路ブロック20の幅の範囲内に収まっている。このため、ガス供給ユニット11を流路ブロック20の幅方向に集積する際に、ガス供給ユニット11同士の間隔が伝熱プレート30により広くなることを避けることができる。   In the state where one surface of the flat plate portion 31 is in contact with the flat portion 53 a of the case 53, the position of the other surface of the flat plate portion 31 is the position of the side surface 20 c of the flow channel block 20 in the width direction of the flow channel block 20. Is consistent with That is, the heat transfer plate 30 is within the width range of the flow path block 20. For this reason, when the gas supply units 11 are integrated in the width direction of the flow path block 20, it is possible to avoid the gap between the gas supply units 11 from being increased by the heat transfer plate 30.

上述したように、キャリングガス流路21の中心軸線は仮想平面Fからずれている。そして、伝熱プレート30の平板部31は、仮想平面Fに対してキャリングガス流路21と同じ側に配置されている。このため、平板部31とキャリングガス流路21との距離が近くなる。そして、伝熱プレート30の固定部32は、仮想平面Fに対してキャリングガス流路21の設けられた側から反対側へと延びている。したがって、固定部32の温度は、仮想平面Fに対してキャリングガス流路21の設けられた側の部分が反対側の部分よりも高温となる。これにより、伝熱プレート30に伝達された熱をキャリングガス流路21へ効率的に伝達することができる。   As described above, the central axis of the carrying gas channel 21 is deviated from the virtual plane F. The flat plate portion 31 of the heat transfer plate 30 is disposed on the same side as the carrying gas flow path 21 with respect to the virtual plane F. For this reason, the distance between the flat plate portion 31 and the carrying gas channel 21 is reduced. And the fixing | fixed part 32 of the heat-transfer plate 30 is extended with respect to the virtual plane F from the side in which the carrying gas flow path 21 was provided to the opposite side. Accordingly, the temperature of the fixed portion 32 is higher in the portion where the carrying gas flow path 21 is provided with respect to the virtual plane F than in the portion on the opposite side. Thereby, the heat transmitted to the heat transfer plate 30 can be efficiently transmitted to the carrying gas channel 21.

このように構成されたガス供給ユニット11を備えるガス供給装置10において、入力ポート28からキャリングガス(パージガス)が供給される。キャリングガスは、供給ブロック41によって各ガス供給ユニット11のキャリングガス流路21(プロセスガス流路22A)に分配供給される。そして、このプロセスガス流路22Aに対応する電磁弁50Aによって、キャリングガス(パージガス)が遮断および流通される。各ガス供給ユニット11において、各プロセスガス流路22には各プロセスガスが供給され、それぞれに対応する電磁弁50によって各プロセスガスが遮断および流通される。なお、キャリングガス流路21にキャリングガスを流通させず、プロセスガス及びパージガスの流路として用いてもよい。   In the gas supply apparatus 10 including the gas supply unit 11 configured as described above, a carrying gas (purge gas) is supplied from the input port 28. The carrying gas is distributed and supplied to the carrying gas channel 21 (process gas channel 22A) of each gas supply unit 11 by the supply block 41. The carrying gas (purge gas) is shut off and distributed by the electromagnetic valve 50A corresponding to the process gas flow path 22A. In each gas supply unit 11, each process gas is supplied to each process gas flow path 22, and each process gas is blocked and circulated by a corresponding electromagnetic valve 50. Note that the carrying gas may be used as a flow path for the process gas and the purge gas without passing the carrying gas through the carrying gas flow path 21.

ここで、複数の電磁弁50が同時に駆動されることはなく、それぞれの電磁弁50は異なる時期に駆動される。電磁弁50は、駆動に伴って発熱し、例えばガスの目標温度である50〜60℃よりも高い60〜70℃まで温度上昇する。駆動されている電磁弁50のコイル52で発生した熱の大部分はケース53に伝達され、ケース53に当接する伝熱プレート30の平板部31を介して駆動されていない電磁弁50の方向へ伝達される。平板部31に伝達された熱は、固定部32を介して流路ブロック20へ伝達される。流路ブロック20へ伝達された熱は、流路ブロック20内に設けられたガス流路21,22を流通するガスを加熱するとともに、両側面20c同士が互いに当接するように並列に配列された流路ブロック20へと更に伝達される。   Here, the plurality of solenoid valves 50 are not driven simultaneously, and each solenoid valve 50 is driven at a different time. The solenoid valve 50 generates heat as it is driven, and rises in temperature to, for example, 60 to 70 ° C., which is higher than the gas target temperature of 50 to 60 ° C. Most of the heat generated in the coil 52 of the electromagnetic valve 50 being driven is transmitted to the case 53, and toward the electromagnetic valve 50 that is not driven via the flat plate portion 31 of the heat transfer plate 30 in contact with the case 53. Communicated. The heat transferred to the flat plate portion 31 is transferred to the flow path block 20 via the fixed portion 32. The heat transmitted to the flow path block 20 heats the gas flowing through the gas flow paths 21 and 22 provided in the flow path block 20 and is arranged in parallel so that both side surfaces 20c come into contact with each other. It is further transmitted to the flow path block 20.

以上詳述した本実施形態は以下の利点を有する。   The embodiment described above has the following advantages.

流路ブロック20は長尺状に延びる直方体状に形成されており、その上面20aの長手方向に沿って複数の電磁弁50が直列に配置されている。伝熱プレート30の有する平板部31は、複数の電磁弁の各ケース53に跨るようにして上面20aの長手方向に沿って延びており、複数の電磁弁50の各ケース53に当接されている。ここで、ガス供給ユニット11によりガスの供給状態を制御する際に、複数の電磁弁50は同時に駆動されない。このため、駆動されている電磁弁50で発生する熱が、他の駆動されていない電磁弁50の方向へ平板部31によって伝達されることとなる。そして、伝熱プレート30の有する固定部32は、流路ブロック20の上面20aに平板部31を繋いでいる。このため、平板部31によって上面20aの長手方向へ伝達される熱を、固定部32によって流路ブロック20へ放出させることができる。その結果、流路ブロック20に複数の電磁弁50が搭載されたガス供給ユニット11において、電磁弁50からの放熱を適切に行うことができる。さらに、固定部32は、平板部31を流路ブロック20の上面20aに繋いでいるため、流路ブロック20の側面20c等を用いる必要がなく、ガス供給ユニット11の集積化に適している。   The flow path block 20 is formed in a rectangular parallelepiped shape extending in a long shape, and a plurality of electromagnetic valves 50 are arranged in series along the longitudinal direction of the upper surface 20a. The flat plate portion 31 of the heat transfer plate 30 extends along the longitudinal direction of the upper surface 20a so as to straddle the cases 53 of the plurality of solenoid valves, and is in contact with the cases 53 of the plurality of solenoid valves 50. Yes. Here, when the gas supply state is controlled by the gas supply unit 11, the plurality of solenoid valves 50 are not driven simultaneously. For this reason, the heat generated by the driven solenoid valve 50 is transmitted by the flat plate portion 31 toward the other solenoid valves 50 that are not driven. The fixing portion 32 of the heat transfer plate 30 connects the flat plate portion 31 to the upper surface 20a of the flow path block 20. For this reason, the heat transmitted to the longitudinal direction of the upper surface 20 a by the flat plate portion 31 can be released to the flow path block 20 by the fixing portion 32. As a result, in the gas supply unit 11 in which the plurality of electromagnetic valves 50 are mounted on the flow path block 20, heat radiation from the electromagnetic valves 50 can be appropriately performed. Furthermore, since the fixing portion 32 connects the flat plate portion 31 to the upper surface 20a of the flow path block 20, it is not necessary to use the side surface 20c of the flow path block 20 or the like, and is suitable for integration of the gas supply unit 11.

また、電磁弁50から流路ブロック20へ放出された熱を、流路ブロック20内のキャリングガス流路21及びプロセスガス流路22を流通するガスの加熱に利用することができる。   Further, the heat released from the electromagnetic valve 50 to the flow path block 20 can be used for heating the gas flowing through the carrying gas flow path 21 and the process gas flow path 22 in the flow path block 20.

伝熱プレート30の平板部31は、流路ブロック20の上面20aの長手方向に沿って複数の電磁弁50の全てにわたるように延び、全ての電磁弁50のケース53に当接されている。このため、電磁弁50の各ケース53から平板部31に伝達された熱は、平板部31により複数の電磁弁50の全てにわたる範囲まで伝達される。したがって、電磁弁50で発生する熱をより広い範囲まで拡散させることができ、電磁弁50同士の温度差を小さくすることができる。その結果、電磁弁50からの放熱を安定して行うことができる。   The flat plate portion 31 of the heat transfer plate 30 extends across the plurality of electromagnetic valves 50 along the longitudinal direction of the upper surface 20 a of the flow path block 20, and is in contact with the cases 53 of all the electromagnetic valves 50. For this reason, the heat transmitted from each case 53 of the electromagnetic valve 50 to the flat plate portion 31 is transmitted by the flat plate portion 31 to a range over all of the plurality of electromagnetic valves 50. Therefore, the heat generated in the electromagnetic valve 50 can be diffused to a wider range, and the temperature difference between the electromagnetic valves 50 can be reduced. As a result, heat radiation from the electromagnetic valve 50 can be stably performed.

平板状に形成された平板部31と、平面をなすように形成された平面部53aとが平面同士で当接しているため、平板部31とケース53との間で平面を通じて、より確実に熱を伝達させることができる。したがって、平板部31を平板状の簡素な形状にしつつ、平板部31と電磁弁50のケース53との間の熱伝達効率を向上させることができる。   Since the flat plate portion 31 formed in a flat plate shape and the flat portion 53a formed so as to form a flat surface are in contact with each other, the heat is more reliably transmitted between the flat plate portion 31 and the case 53 through the flat surface. Can be transmitted. Therefore, the heat transfer efficiency between the flat plate portion 31 and the case 53 of the electromagnetic valve 50 can be improved while making the flat plate portion 31 a simple flat plate shape.

ケース53の平面部53aは、流路ブロック20において上面20aを幅方向から挟む両側面20cに対して平行に配置されている。このため、平面部53aは、上面20aの幅方向へ延びることを抑制しつつ、上面20aの長手方向や上面20aに垂直な方向へ延びることが可能となる。したがって、ガス供給ユニット11の幅によって制限されることなく、平面部53aの広さを確保することができる。   The flat portion 53a of the case 53 is arranged in parallel to both side surfaces 20c that sandwich the upper surface 20a from the width direction in the flow path block 20. Therefore, the flat portion 53a can extend in the longitudinal direction of the upper surface 20a or in a direction perpendicular to the upper surface 20a while suppressing extending in the width direction of the upper surface 20a. Therefore, the width of the flat portion 53a can be ensured without being limited by the width of the gas supply unit 11.

流路ブロック20の上面20aに平板部31を繋ぐ固定部32の数が少ない場合は、平板部31から流路ブロック20への熱伝達効率が低くなるおそれがある。一方、上面20aにおいて固定部32を配置するためのスペースを新たに設けると、上面20aの面積が拡大するおそれがある。   When the number of the fixing portions 32 that connect the flat plate portion 31 to the upper surface 20a of the flow channel block 20 is small, the heat transfer efficiency from the flat plate portion 31 to the flow channel block 20 may be lowered. On the other hand, if a space for arranging the fixing portion 32 is newly provided on the upper surface 20a, the area of the upper surface 20a may be increased.

この点、固定部32は、流路ブロック20の上面20aにおいて複数の電磁弁50の間の部分に繋がれている。このため、上面20aの空いた部分を利用して、上面20aに固定部32を配置することができる。したがって、上面20aの面積が拡大することを抑制しつつ、平板部31から流路ブロック20への熱伝達効率を向上させることができる。さらに、電磁弁50の間の部分にそれぞれ繋がれた固定部32から上面20aへ放熱されるため、上面20aの長手方向に沿って延びるキャリングガス流路を、この長手方向において均等に加熱し易くなる。   In this regard, the fixed portion 32 is connected to a portion between the plurality of electromagnetic valves 50 on the upper surface 20 a of the flow path block 20. For this reason, the fixing | fixed part 32 can be arrange | positioned on the upper surface 20a using the empty part of the upper surface 20a. Therefore, it is possible to improve the heat transfer efficiency from the flat plate portion 31 to the flow path block 20 while suppressing an increase in the area of the upper surface 20a. Furthermore, since heat is radiated from the fixed portions 32 respectively connected to the portions between the solenoid valves 50 to the upper surface 20a, the carrying gas passage extending along the longitudinal direction of the upper surface 20a can be easily heated evenly in the longitudinal direction. Become.

複数のガス供給ユニット11を集積してガス供給装置10が構成されているため、熱が蓄積され易くなるとともに熱を放出させる場所が制限されるといった傾向が顕著となる。   Since the gas supply apparatus 10 is configured by accumulating a plurality of gas supply units 11, the tendency that heat is easily accumulated and a place where the heat is released is restricted becomes remarkable.

この点、上記の各構成を備えた上で、流路ブロック20の上面20aを幅方向から挟む両側面20c同士が隣り合うようにガス供給ユニット11を並列に配列している。このため、ガス供給ユニット11を集積してガス供給装置10を構成しつつ、電磁弁50からの放熱を適切に行うことができる。   In this respect, the gas supply units 11 are arranged in parallel so that both side surfaces 20c sandwiching the upper surface 20a of the flow path block 20 from the width direction are adjacent to each other with the above-described configurations. For this reason, it is possible to appropriately dissipate heat from the electromagnetic valve 50 while integrating the gas supply unit 11 to configure the gas supply device 10.

さらに、流路ブロック20の隣り合う側面20cが互いに当接しているため、ガス供給ユニット11同士の隙間を省略してガス供給装置10を高集積化しつつ、電磁弁50からの放熱を適切に行うことができる。   Further, since the adjacent side surfaces 20c of the flow path block 20 are in contact with each other, the gap between the gas supply units 11 is omitted and the gas supply device 10 is highly integrated, and heat is radiated from the electromagnetic valve 50 appropriately. be able to.

上記実施形態に限定されず、例えば次のように実施することもできる。   It is not limited to the said embodiment, For example, it can also implement as follows.

流路ブロック20は、分割された流路ブロックが一体化されて、長尺状に延びる直方体状をなすものであってもよい。こうした構成によれば、使用するプロセスガスの数(電磁弁50の数)の変更等に柔軟に対応することができる。   The flow path block 20 may be a rectangular parallelepiped shape in which the divided flow path blocks are integrated to extend in a long shape. According to such a configuration, it is possible to flexibly cope with a change in the number of process gases to be used (number of solenoid valves 50).

ガス供給ユニット11同士(流路ブロック20同士)を当接させずに、複数のガス供給ユニット11を並列に配列させてもよい。この場合であっても、各ガス供給ユニット11において、伝熱プレート30により電磁弁50からの放熱を適切に行うことができる。また、ガス供給ユニット11が単独で用いられる構成に対して伝熱プレート30を設けるようにしてもよい。   A plurality of gas supply units 11 may be arranged in parallel without bringing the gas supply units 11 (flow channel blocks 20) into contact with each other. Even in this case, in each gas supply unit 11, heat can be appropriately radiated from the electromagnetic valve 50 by the heat transfer plate 30. Moreover, you may make it provide the heat-transfer plate 30 with respect to the structure where the gas supply unit 11 is used independently.

流路ブロック20の上面20aの長手方向において、両端付近に設けられた伝熱プレート30の固定部32を省略して、電磁弁50の間の部分に設けられた固定部32のみを有するようにしてもよい。この場合には、上面20aの空いた部分のみを利用して、上面20aに固定部32を配置することができるため、上面20aの面積が拡大することをより確実に抑制することができる。すなわち、上面20aの長手方向の両端付近にはガスのポートや他の部品が設けられることが多いため、この両端部付近を使用せずに伝熱プレート30を上面20aに固定することが望ましい。   In the longitudinal direction of the upper surface 20a of the flow path block 20, the fixing part 32 of the heat transfer plate 30 provided near both ends is omitted, and only the fixing part 32 provided in the portion between the electromagnetic valves 50 is provided. May be. In this case, since the fixing portion 32 can be disposed on the upper surface 20a using only the empty portion of the upper surface 20a, it is possible to more reliably suppress the area of the upper surface 20a from being increased. That is, since gas ports and other parts are often provided near both ends in the longitudinal direction of the upper surface 20a, it is desirable to fix the heat transfer plate 30 to the upper surface 20a without using the vicinity of both ends.

図8に示すように、複数の電磁弁50の各ケース53に対して、流路ブロック20の幅方向(上面20aの幅方向)の両側に平板部31(ケース当接部)が設けられた伝熱プレート130(伝熱部材)を採用してもよい。伝熱プレート130のその他の構成は上記実施形態の伝熱プレート30と同一である。この場合には、2つの平板部31に対応させて2つの平面部53aを有するケース153を採用することが望ましい。すなわち、ケース153では、コイル52と駆動回路とを接続する配線を通す開口部153cは、ケース153の側面部において流路ブロック20の長手方向に開口しており、流路ブロック20の幅方向に開口していない。そして、ケース153の2つの平面部53aは、流路ブロック20の両側面20cに対してそれぞれ平行に配置されている。ケース153のその他の構成は上記実施形態のケース53と同一である。こうした構成によれば、伝熱プレート130とケース153とが当接する面積を拡大することができるため、伝熱プレート130とケース153との間の熱伝達効率を更に向上させることができる。この場合であっても、伝熱プレート130は流路ブロック20の幅の範囲内に収められている。   As shown in FIG. 8, flat plate portions 31 (case contact portions) are provided on both sides in the width direction of the flow path block 20 (width direction of the upper surface 20a) for each case 53 of the plurality of solenoid valves 50. A heat transfer plate 130 (heat transfer member) may be employed. Other configurations of the heat transfer plate 130 are the same as those of the heat transfer plate 30 of the above embodiment. In this case, it is desirable to employ a case 153 having two flat portions 53a corresponding to the two flat plate portions 31. That is, in the case 153, the opening 153 c through which the wiring connecting the coil 52 and the drive circuit passes is open in the longitudinal direction of the flow path block 20 in the side surface portion of the case 153, and in the width direction of the flow path block 20. There is no opening. The two flat portions 53 a of the case 153 are arranged in parallel to the both side surfaces 20 c of the flow path block 20. The other configuration of the case 153 is the same as the case 53 of the above embodiment. According to such a configuration, since the area where the heat transfer plate 130 and the case 153 abut can be increased, the heat transfer efficiency between the heat transfer plate 130 and the case 153 can be further improved. Even in this case, the heat transfer plate 130 is accommodated within the width of the flow path block 20.

図9に示すように、複数の電磁弁50における各ケース53の底面部53b(上面部)に対して平面同士で当接する当接片33を有する伝熱プレート230(伝熱部材)を採用してもよい。伝熱プレート230のその他の構成は上記実施形態の伝熱プレート30と同一である。当接片33は、平板部31の短手方向の一端部において、平板部31の長手方向に沿って、電磁弁50の設けられた間隔(電磁弁50のピッチ)と等しい間隔(ピッチ)で設けられている。当接片33は、平板部31の一方の面から平板部31の厚み方向へ張出している。当接片33は、矩形の平板状に形成されており、平板部31の面に対して垂直に設けられている。当接片33は、ケース53の底面部53bと略等しい大きさに形成されている。このため、当接片33は、略全面にわたってケース53の底面部53bに当接している。平板部31と当接片33とは、平板状の部材を折り曲げることによって、互いに垂直となるように成形されている。そして、伝熱プレート230の固定部32が流路ブロック20の上面20aに固定されており、当接片33がケース53の底面部53bに押圧されている。   As shown in FIG. 9, a heat transfer plate 230 (heat transfer member) having a contact piece 33 that is in contact with the bottom surface portion 53 b (upper surface portion) of each case 53 in a plurality of electromagnetic valves 50 is adopted. May be. Other configurations of the heat transfer plate 230 are the same as those of the heat transfer plate 30 of the above embodiment. The contact piece 33 has an interval (pitch) equal to the interval (the pitch of the electromagnetic valve 50) provided with the electromagnetic valve 50 along the longitudinal direction of the flat plate portion 31 at one end in the short direction of the flat plate portion 31. Is provided. The contact piece 33 protrudes from one surface of the flat plate portion 31 in the thickness direction of the flat plate portion 31. The contact piece 33 is formed in a rectangular flat plate shape, and is provided perpendicular to the surface of the flat plate portion 31. The contact piece 33 is formed in a size substantially equal to the bottom surface portion 53 b of the case 53. For this reason, the contact piece 33 is in contact with the bottom surface portion 53b of the case 53 over substantially the entire surface. The flat plate portion 31 and the contact piece 33 are formed to be perpendicular to each other by bending a flat plate member. The fixing portion 32 of the heat transfer plate 230 is fixed to the upper surface 20 a of the flow path block 20, and the contact piece 33 is pressed against the bottom surface portion 53 b of the case 53.

こうした構成によれば、伝熱プレート230とケース53とが当接する面積を拡大することができる。さらに、当接片33がケース53の底面部53bに押圧されているため、伝熱プレート230とケース53との間の熱伝達効率を更に向上させることができる。   According to such a configuration, the area where the heat transfer plate 230 and the case 53 abut can be increased. Furthermore, since the contact piece 33 is pressed against the bottom surface portion 53 b of the case 53, the heat transfer efficiency between the heat transfer plate 230 and the case 53 can be further improved.

また、電磁弁50のケースとして、平面部53a(ケース平面部)の設けられたケース53,153を採用したが、平面部53aの設けられていないケースを採用することもできる。この場合であっても、電磁弁50のケースと伝熱プレート30,130,230とが当接していればよい。すなわち、電磁弁50のケースの形状は適宜変更可能であり、このケースの形状に対応させて伝熱プレートを形成すればよい。   Further, as the case of the electromagnetic valve 50, the cases 53 and 153 provided with the flat surface portion 53a (case flat surface portion) are adopted, but a case where the flat surface portion 53a is not provided can also be adopted. Even in this case, the case of the electromagnetic valve 50 and the heat transfer plates 30, 130, 230 may be in contact with each other. That is, the shape of the case of the electromagnetic valve 50 can be changed as appropriate, and the heat transfer plate may be formed corresponding to the shape of the case.

流路ブロック20の長手方向に沿って複数の電磁弁50(50A)の全てにわたるように延びる伝熱プレート30を採用したが、流路ブロック20の長手方向において分割された伝熱プレートを採用することもできる。すなわち、少なくとも2つの電磁弁50の各ケース53に当接される平板部(ケース当接部)を有する伝熱プレートであれば、駆動されている電磁弁50で発生する熱を、他の駆動されていない電磁弁50の方向へ伝達することができる。   Although the heat transfer plate 30 extending so as to extend over all of the plurality of solenoid valves 50 (50A) along the longitudinal direction of the flow path block 20 is employed, a heat transfer plate divided in the longitudinal direction of the flow path block 20 is employed. You can also That is, if the heat transfer plate has a flat plate portion (case contact portion) that is in contact with each case 53 of at least two electromagnetic valves 50, the heat generated by the driven electromagnetic valve 50 is transferred to another drive. It can be transmitted in the direction of the solenoid valve 50 that is not performed.

図10に示すように、ブロック状に形成された伝熱ブロック330を採用することもできる。伝熱ブロック330は、ステンレスやアルミ合金等の金属によって形成されている。伝熱ブロック330は、直方体状に形成されており、流路ブロック20の長手方向において略全長にわたって延びている。伝熱ブロック330の幅は、流路ブロック20の幅と等しく設定されている。伝熱ブロック330の高さ(側面の短手方向の長さ)は、電磁弁50のケース53,153の高さと略等しく設定されている。伝熱ブロック330には、長手方向に沿って電磁弁50の配置された間隔(電磁弁50のピッチ)と等しい間隔(ピッチ)で貫通孔330aが設けられている。貫通孔330aは、伝熱ブロック330の高さ方向(側面の短手方向)に沿って延びるように設けられている。貫通孔330aの断面形状は、ケース53,153の底面部53bの形状と等しくされている。そして、各貫通孔330aにケース53,153が挿入され、貫通孔330aの内周面にケース53の外周面が当接している。伝熱ブロック330の下面は、流路ブロック20の上面20aに接着されている。なお、コイル52と駆動回路とを接続する配線を通す開口部は、ケース53,153の底面部53bに設けることが望ましい。   As shown in FIG. 10, a heat transfer block 330 formed in a block shape may be employed. The heat transfer block 330 is made of metal such as stainless steel or aluminum alloy. The heat transfer block 330 is formed in a rectangular parallelepiped shape and extends over substantially the entire length in the longitudinal direction of the flow path block 20. The width of the heat transfer block 330 is set equal to the width of the flow path block 20. The height of the heat transfer block 330 (the length in the lateral direction of the side surface) is set to be approximately equal to the height of the cases 53 and 153 of the electromagnetic valve 50. The heat transfer block 330 is provided with through holes 330a at intervals (pitch) equal to the intervals (pitch of the electromagnetic valves 50) at which the electromagnetic valves 50 are arranged along the longitudinal direction. The through hole 330a is provided so as to extend along the height direction of the heat transfer block 330 (the lateral direction of the side surface). The cross-sectional shape of the through hole 330 a is equal to the shape of the bottom surface portion 53 b of the cases 53 and 153. And case 53,153 is inserted in each through-hole 330a, and the outer peripheral surface of case 53 is in contact with the inner peripheral surface of through-hole 330a. The lower surface of the heat transfer block 330 is bonded to the upper surface 20 a of the flow path block 20. Note that an opening through which the wiring connecting the coil 52 and the drive circuit passes is desirably provided in the bottom surface portion 53b of the cases 53 and 153.

こうした構成によれば、電磁弁50のケース53,153の側面部全体が伝熱ブロック330に当接するため、伝熱ブロック330とケース53,153との間の熱伝達効率を向上させることができる。さらに、伝熱ブロック330は、流路ブロック20の長手方向において略全長にわたって設けられているため、伝熱ブロック330と流路ブロック20の上面20aとの接着面積を最大限確保することができる。このため、伝熱ブロック330と流路ブロック20の上面20aとの間の熱伝達効率を向上させることができる。伝熱ブロック330は流路ブロック20の幅の範囲内に収められているため、ガス供給ユニット11の幅が拡大することを抑制することができる。なお、伝熱ブロック330の下面を流路ブロック20の上面20aに接着せず、伝熱ブロック330を流路ブロック20の上面20aに載置するようにしてもよい。   According to such a configuration, since the entire side surfaces of the cases 53 and 153 of the electromagnetic valve 50 abut on the heat transfer block 330, the heat transfer efficiency between the heat transfer block 330 and the cases 53 and 153 can be improved. . Furthermore, since the heat transfer block 330 is provided over substantially the entire length in the longitudinal direction of the flow path block 20, it is possible to secure the maximum bonding area between the heat transfer block 330 and the upper surface 20 a of the flow path block 20. For this reason, the heat transfer efficiency between the heat transfer block 330 and the upper surface 20a of the flow path block 20 can be improved. Since the heat transfer block 330 is accommodated within the range of the width of the flow path block 20, it is possible to suppress an increase in the width of the gas supply unit 11. Note that the heat transfer block 330 may be placed on the upper surface 20 a of the flow path block 20 without bonding the lower surface of the heat transfer block 330 to the upper surface 20 a of the flow path block 20.

複数のガス供給ユニット11の各伝熱部材同士を当接させるユニット間伝熱部材を備えるようにしてもよい。具体的には、上記伝熱プレート130及び伝熱ブロック330の幅は、流路ブロック20の幅と等しく設定されている。このため、流路ブロック20の側面20c同士が当接するようにガス供給ユニット11を並列に配列した場合に、伝熱プレート130の平板部31同士や伝熱ブロック330の側面同士が当接することとなる。このため、電磁弁50で発生する熱をガス供給ユニット11間で拡散させることができ、電磁弁50同士の温度差を更に小さくすることができる。その結果、電磁弁50からの放熱を更に安定して行うことができる。また、ユニット間伝熱部材として、ガス供給装置10の幅方向に沿って延びて全てのガス供給ユニット11の伝熱プレート30を繋ぐ平板状の伝熱プレートを設けるようにしてもよい。こうした構成によれば、電磁弁50で発生する熱を全てのガス供給ユニット11間で拡散させることができる。   You may make it provide the inter-unit heat-transfer member which contact | abuts each heat-transfer member of the some gas supply unit 11. FIG. Specifically, the widths of the heat transfer plate 130 and the heat transfer block 330 are set equal to the width of the flow path block 20. For this reason, when the gas supply units 11 are arranged in parallel so that the side surfaces 20c of the flow path block 20 are in contact with each other, the flat plate portions 31 of the heat transfer plate 130 and the side surfaces of the heat transfer block 330 are in contact with each other. Become. For this reason, the heat generated in the electromagnetic valve 50 can be diffused between the gas supply units 11, and the temperature difference between the electromagnetic valves 50 can be further reduced. As a result, heat dissipation from the electromagnetic valve 50 can be performed more stably. Further, as the inter-unit heat transfer member, a flat plate heat transfer plate extending along the width direction of the gas supply device 10 and connecting the heat transfer plates 30 of all the gas supply units 11 may be provided. According to such a configuration, the heat generated by the electromagnetic valve 50 can be diffused among all the gas supply units 11.

図11に示すように、複数の流路ブロック20の隣り合う側面20cにヒータ71が挟み込まれた状態で、複数の流路ブロック20同士が一体化されているガス供給装置110を採用することもできる。ガス供給装置110のその他の構成は上記実施形態のガス供給装置10と同一である。ここで、電磁弁50は、駆動に伴って発熱し、例えばガスの目標温度である50〜60℃よりも高い60〜70℃まで温度上昇する。このため、電磁弁50からの放熱をガスの加熱に利用して、ヒータ71の容量を小さくすることが可能となる。   As shown in FIG. 11, it is also possible to employ a gas supply device 110 in which a plurality of flow path blocks 20 are integrated with a heater 71 sandwiched between adjacent side surfaces 20c of the plurality of flow path blocks 20. it can. The other configuration of the gas supply device 110 is the same as that of the gas supply device 10 of the above embodiment. Here, the solenoid valve 50 generates heat as it is driven, and the temperature rises to 60 to 70 ° C., which is higher than the gas target temperature of 50 to 60 ° C., for example. For this reason, it is possible to reduce the capacity of the heater 71 by using heat radiation from the electromagnetic valve 50 for heating the gas.

ヒータ71は、フィルム状(例えば約0.3mmの厚さ)に形成されており、可撓性を有している。ヒータ71は、力が加えられない状態において形状が保たれており、保形性を有している。ヒータ71は、流路ブロック20の長手方向に沿って延びている。ヒータ71は矩形状に形成されている。ヒータ71の長辺の長さ(長手方向の長さ)は、流路ブロック20の長手方向の長さよりも若干長く設定されている。ヒータ71の短辺の長さ(短手方向の長さ)は、流路ブロック20の高さ方向の長さ(側面20cの短手方向の長さ)と等しくされている。   The heater 71 is formed in a film shape (for example, a thickness of about 0.3 mm) and has flexibility. The shape of the heater 71 is maintained in a state where no force is applied, and the shape of the heater 71 is maintained. The heater 71 extends along the longitudinal direction of the flow path block 20. The heater 71 is formed in a rectangular shape. The length of the long side of the heater 71 (length in the longitudinal direction) is set slightly longer than the length of the flow path block 20 in the longitudinal direction. The length of the short side of the heater 71 (length in the short direction) is equal to the length of the flow path block 20 in the height direction (length in the short direction of the side surface 20c).

ヒータ71は、側面20cの全面を覆うように配置されている。詳しくは、ヒータ71の短手方向の両端が側面20cの短手方向の両端と一致している。ヒータ71の長手方向の一端は側面20cの長手方向の端と一致しており、ヒータ71の長手方向の他端は側面20cの長手方向の端よりも若干張出している。このため、ヒータ71は略全面が側面20cに沿うように配置されている。ヒータ71において、側面20cよりも張出した部分にヒータ71へ電力を供給する配線が接続される。ヒータ71は、供給される電力により両面が発熱して流路ブロック20を加熱する。   The heater 71 is disposed so as to cover the entire side surface 20c. Specifically, both ends of the heater 71 in the short direction coincide with both ends of the side surface 20c in the short direction. One end in the longitudinal direction of the heater 71 coincides with the end in the longitudinal direction of the side surface 20c, and the other end in the longitudinal direction of the heater 71 projects slightly from the end in the longitudinal direction of the side surface 20c. For this reason, the heater 71 is disposed so that the substantially entire surface is along the side surface 20c. In the heater 71, a wiring for supplying electric power to the heater 71 is connected to a portion protruding from the side surface 20c. The heater 71 generates heat on both sides by the supplied electric power and heats the flow path block 20.

こうした構成によれば、流路ブロック20の側面20cには、キャリングガス流路21(パージガスの流路)及びプロセスガス流路22が開口しておらず、各流路ブロック20のガス流路21,22はガス供給ユニット11毎に独立している。そして、複数の流路ブロック20の隣り合う側面20cにヒータ71が挟み込まれた状態で、複数の流路ブロック20が一体化されているため、1つのヒータ71の両面によって隣り合う2つの流路ブロック20を加熱することができる。したがって、隣り合う流路ブロック20の間に各流路ブロック20を加熱するヒータをそれぞれ設ける必要がなく、ヒータ71を取り付けるためのスペースを縮小することができる。   According to such a configuration, the carrying gas channel 21 (purge gas channel) and the process gas channel 22 are not opened on the side surface 20 c of the channel block 20, and the gas channel 21 of each channel block 20. , 22 are independent for each gas supply unit 11. And since the several flow path block 20 is integrated in the state by which the heater 71 was inserted | pinched between the adjacent side surfaces 20c of the several flow path block 20, two flow paths adjacent by both surfaces of one heater 71 are used. Block 20 can be heated. Therefore, it is not necessary to provide a heater for heating each flow path block 20 between the adjacent flow path blocks 20, and the space for attaching the heater 71 can be reduced.

ヒータ71は、フィルム状に形成されるとともに、その両面が流路ブロック20の側面20cに対向して流路ブロック20の長手方向に沿って延びている。このため、ヒータ71自体の厚みが薄くなるとともに、流路ブロック20の側面20cにヒータを沿わせることができる。したがって、ガス供給ユニット11にヒータ71が設けられる場合であっても、流路ブロック20同士の間隔が広くなることを抑制することができるとともに、ヒータ71から流路ブロック20の側面20cへの熱伝達効率を向上させることができる。なお、仮想平面Fから偏った部分に配置されたキャリングガス流路21からヒータ71までの距離が短くなるとともに、仮想平面Fからキャリングガス流路21とは反対側に偏った部分を通過するプロセスガス流路22からヒータ71までの距離が短くなる。したがって、キャリングガス流路21およびプロセスガス流路22を流通するガスをヒータ71によって効率的に加熱することができる。   The heater 71 is formed in a film shape, and both surfaces thereof extend along the longitudinal direction of the flow path block 20 so as to face the side surface 20 c of the flow path block 20. For this reason, the thickness of the heater 71 itself is reduced, and the heater can be placed along the side surface 20c of the flow path block 20. Therefore, even when the heater 71 is provided in the gas supply unit 11, it is possible to suppress the interval between the flow path blocks 20 from being widened, and heat from the heater 71 to the side surface 20 c of the flow path block 20. Transmission efficiency can be improved. In addition, while the distance from the carrying gas flow path 21 arrange | positioned in the part biased from the virtual plane F to the heater 71 becomes short, it passes the part biased from the virtual plane F to the opposite side to the carrying gas flow path 21. The distance from the gas flow path 22 to the heater 71 is shortened. Therefore, the gas flowing through the carrying gas channel 21 and the process gas channel 22 can be efficiently heated by the heater 71.

また、ヒータを備える構成の変形例として、流路ブロック20の側面20cに、長手方向に延びる凹部を設けて、この凹部にヒータを収納するようにしてもよい。図12は、このように流路ブロック20を変形した流路ブロック120を備えるガス供給装置210の正面図である。なお、図12では供給ブロック41等を省略して示している。ガス供給装置210では、複数の流路ブロック120の隣り合う側面120cには、それぞれ長手方向の全長にわたって溝121(凹部)が設けられている。それぞれの溝121には、矩形板状のヒータ171がその厚み方向において略半分ずつ収容されている。ヒータ171は、その両面が発熱するものであり、両面が溝121にそれぞれ当接している。隣り合う側面120cは溝121以外の部分で当接している。   As a modification of the configuration including the heater, a recess extending in the longitudinal direction may be provided on the side surface 20c of the flow path block 20, and the heater may be accommodated in the recess. FIG. 12 is a front view of the gas supply device 210 including the flow path block 120 obtained by modifying the flow path block 20 in this manner. In FIG. 12, the supply block 41 and the like are omitted. In the gas supply device 210, grooves 121 (concave portions) are provided on the side surfaces 120 c adjacent to each other of the plurality of flow path blocks 120 over the entire length in the longitudinal direction. Each of the grooves 121 accommodates approximately half of a rectangular plate heater 171 in the thickness direction. Both sides of the heater 171 generate heat, and both sides are in contact with the grooves 121. Adjacent side surfaces 120 c are in contact with portions other than the groove 121.

こうした構成によれば、ヒータ171の厚みを溝121で吸収することができるため、流路ブロック120同士の間隔を狭くすることができる。さらに、それぞれの溝121にヒータ171が厚み方向において略半分ずつ収容されることによって、溝121の深さを浅くすることができる。その結果、流路ブロック120内にキャリングガス流路21(パージガスの流路)やプロセスガス流路22を配置することが容易となる。また、隣り合う側面120cは溝121以外の部分で当接しているため、ヒータ171の溝121内での配置状態にかかわらず、流路ブロック120同士の相対位置を一定にすることができる。したがって、伝熱プレート30及びヒータ171の双方をガス供給装置210に設けた場合であっても、ガス供給装置210の幅が拡大することを抑制することができる。   According to such a configuration, since the thickness of the heater 171 can be absorbed by the groove 121, the interval between the flow path blocks 120 can be reduced. Further, the heaters 171 are accommodated approximately half in the thickness direction in the respective grooves 121, whereby the depth of the grooves 121 can be reduced. As a result, it becomes easy to arrange the carrying gas passage 21 (purge gas passage) and the process gas passage 22 in the passage block 120. Further, since the adjacent side surfaces 120c are in contact with each other except the groove 121, the relative positions of the flow path blocks 120 can be made constant regardless of the arrangement state of the heater 171 in the groove 121. Therefore, even when both the heat transfer plate 30 and the heater 171 are provided in the gas supply device 210, it is possible to suppress an increase in the width of the gas supply device 210.

ガス供給ユニット11においては、使用されるガスの種類や数に応じて電磁弁50の数が変更される。そこで、電磁弁50をそれぞれ駆動する駆動回路基板を電磁弁毎に設けることにより、電磁弁50の数の変更に対して柔軟に対応することができる。しかし、電磁弁50の近傍に対応する駆動回路基板を配置するためには、電磁弁50で発生する熱から駆動回路基板を保護する必要がある。   In the gas supply unit 11, the number of solenoid valves 50 is changed according to the type and number of gases used. Therefore, by providing a drive circuit board for driving each solenoid valve 50 for each solenoid valve, it is possible to flexibly cope with a change in the number of solenoid valves 50. However, in order to arrange the drive circuit board corresponding to the vicinity of the electromagnetic valve 50, it is necessary to protect the drive circuit board from the heat generated in the electromagnetic valve 50.

これに対して、図13に示すように、伝熱プレート30を備えるガス供給ユニット11において、電磁弁50(50A)をそれぞれ駆動する駆動回路基板81が電磁弁50(50A)毎に設けられた構成を採用することが有効である。駆動回路基板81は、矩形の板状に形成されており、その表面に電磁弁50の駆動回路や電子素子が設けられている。駆動回路基板81は、対応する電磁弁50(50A)を駆動するものであり、電磁弁50のコイル52が駆動回路基板81上の電子回路パターンに直接接続されている。このため、コイル52と電子回路パターンとを接続する配線を省略することができ、定格電流の大きいコイル52において電力損失を低減することができる。   On the other hand, as shown in FIG. 13, in the gas supply unit 11 including the heat transfer plate 30, a drive circuit board 81 that drives each electromagnetic valve 50 (50 </ b> A) is provided for each electromagnetic valve 50 (50 </ b> A). It is effective to adopt the configuration. The drive circuit board 81 is formed in a rectangular plate shape, and the drive circuit and electronic elements of the electromagnetic valve 50 are provided on the surface thereof. The drive circuit board 81 drives the corresponding solenoid valve 50 (50A), and the coil 52 of the solenoid valve 50 is directly connected to the electronic circuit pattern on the drive circuit board 81. For this reason, the wiring which connects the coil 52 and an electronic circuit pattern can be abbreviate | omitted, and power loss can be reduced in the coil 52 with a large rated current.

流路ブロック20の上面20aにおいて長手方向の両端部には、駆動回路基板81を支持する支持部材82がそれぞれ固定(連結)されている。この場合には、キャリングガス流路21(パージガスの流路)の下流側の端部は、流路ブロック20の長手方向に貫通しており、流路ブロック20の端面20dに出力ポート129が設けられている。支持部材82は、矩形状の板材を折り曲げて形成されており、断面が「L」字状をなしている。「L」字状の短辺をなす部分は、流路ブロック20の上面20aに固定されて固定部82bを構成している。固定部82bは、流路ブロック20の上面20aの幅方向に延びるように配置されており、流路ブロック20の幅の範囲内に収められている。「L」字状の長辺をなす部分は、流路ブロック20の上面20aに対して垂直に延びて垂直部82aを構成している。垂直部82aは、流路ブロック20の側面20cに平行に配置されており、流路ブロック20の幅方向に関して、伝熱プレート30の平板部31と略同じ位置に配置されている。   Support members 82 for supporting the drive circuit board 81 are fixed (connected) to both ends in the longitudinal direction on the upper surface 20a of the flow path block 20. In this case, the downstream end of the carrying gas channel 21 (purge gas channel) penetrates in the longitudinal direction of the channel block 20, and an output port 129 is provided on the end surface 20 d of the channel block 20. It has been. The support member 82 is formed by bending a rectangular plate material, and has a “L” cross section. The portion that forms the short side of the “L” shape is fixed to the upper surface 20a of the flow path block 20 to form a fixed portion 82b. The fixing portion 82 b is disposed so as to extend in the width direction of the upper surface 20 a of the flow path block 20 and is accommodated within the range of the width of the flow path block 20. The portion having the long side of the “L” shape extends perpendicularly to the upper surface 20a of the flow path block 20 and constitutes a vertical portion 82a. The vertical portion 82 a is disposed in parallel to the side surface 20 c of the flow path block 20, and is disposed at substantially the same position as the flat plate portion 31 of the heat transfer plate 30 in the width direction of the flow path block 20.

2つの支持部材82の間には、矩形の板状の連結板83が掛け渡されている。連結板83は、長手方向の両端部が支持部材82に固定されている。連結板83は、流路ブロック20の側面20cに対して平行に配置されている。連結板83は、流路ブロック20の幅内に収められている。連結板83は、電磁弁50のケース53の底面部53bよりも流路ブロック20の上面20aから離間している。すなわち、電磁弁50のケース53及び伝熱プレート30と、連結板83との間には隙間が形成されている。このため、電磁弁50のケース53及び伝熱プレート30から連結板83への熱の伝達が抑制される。   A rectangular plate-shaped connecting plate 83 is stretched between the two support members 82. The connecting plate 83 is fixed to the support member 82 at both ends in the longitudinal direction. The connecting plate 83 is disposed in parallel to the side surface 20 c of the flow path block 20. The connecting plate 83 is accommodated within the width of the flow path block 20. The connecting plate 83 is farther from the upper surface 20 a of the flow path block 20 than the bottom surface portion 53 b of the case 53 of the electromagnetic valve 50. That is, a gap is formed between the case 53 and the heat transfer plate 30 of the electromagnetic valve 50 and the connecting plate 83. For this reason, the transfer of heat from the case 53 of the electromagnetic valve 50 and the heat transfer plate 30 to the connecting plate 83 is suppressed.

連結板83において流路ブロック20の幅方向の中央側の面には、電磁弁50(50A)の各駆動回路基板81が取り付けられている。流路ブロック20の長手方向における駆動回路基板81の幅は、同方向における電磁弁50が配置される間隔(電磁弁50のピッチ)と等しくされている。このため、流路ブロック20の長手方向に沿って電磁弁50を直列に配列した場合に、駆動回路基板81同士を隙間なく並べることにより、電磁弁50が配置される間隔(電磁弁50のピッチ)と、駆動回路基板81が配置される間隔(駆動回路基板81のピッチ)とが等しくなる。したがって、任意の数の電磁弁50に対応させて駆動回路基板81を配置することができる。   Each drive circuit board 81 of the electromagnetic valve 50 (50A) is attached to the surface on the center side in the width direction of the flow path block 20 in the connecting plate 83. The width of the drive circuit board 81 in the longitudinal direction of the flow path block 20 is made equal to the interval (the pitch of the electromagnetic valves 50) in which the electromagnetic valves 50 are arranged in the same direction. For this reason, when the solenoid valves 50 are arranged in series along the longitudinal direction of the flow path block 20, the drive circuit boards 81 are arranged without gaps, thereby arranging the intervals between the solenoid valves 50 (the pitch of the solenoid valves 50). ) And the interval at which the drive circuit board 81 is disposed (pitch of the drive circuit board 81) is equal. Therefore, the drive circuit board 81 can be arranged corresponding to any number of electromagnetic valves 50.

駆動回路基板81は、電磁弁50のケース53の底面部53bよりも流路ブロック20の上面20aから離間している。すなわち、電磁弁50のケース53及び伝熱プレート30と、駆動回路基板81との間には隙間が形成されている。このため、電磁弁50のケース53及び伝熱プレート30から駆動回路基板81への熱の伝達が抑制される。また、駆動回路基板81上に配置された電子素子を含めて、駆動回路基板81は流路ブロック20の幅内に収められている。   The drive circuit board 81 is farther from the upper surface 20 a of the flow path block 20 than the bottom surface portion 53 b of the case 53 of the electromagnetic valve 50. That is, a gap is formed between the case 53 and the heat transfer plate 30 of the electromagnetic valve 50 and the drive circuit board 81. For this reason, heat transfer from the case 53 and the heat transfer plate 30 of the electromagnetic valve 50 to the drive circuit board 81 is suppressed. In addition, the drive circuit board 81 including the electronic elements arranged on the drive circuit board 81 is housed within the width of the flow path block 20.

こうした構成によれば、伝熱プレート30によって電磁弁50からの放熱が適切に行われ、電磁弁50で発生する熱から駆動回路基板81を保護することができる。したがって、電磁弁50の近傍に対応する駆動回路基板81を配置することができ、電磁弁50の数の変更に対して柔軟に対応することができる。さらに、コイル52と電子回路パターンとを接続する配線を省略することができるため、配線における電力損失を抑制することができる。また、駆動回路基板81は、流路ブロック20の両側面20cに対して略平行に配置されている。このため、駆動回路基板81は、流路ブロック20の幅方向へ延びることを抑制しつつ、流路ブロック20の長手方向や上面20aに垂直な方向へ延びることが可能となる。したがって、ガス供給ユニット11の幅によって制限されることなく、電磁弁50の近傍に駆動回路基板81を配置することができる。   According to such a configuration, heat radiation from the electromagnetic valve 50 is appropriately performed by the heat transfer plate 30, and the drive circuit board 81 can be protected from the heat generated by the electromagnetic valve 50. Therefore, the drive circuit board 81 corresponding to the vicinity of the electromagnetic valve 50 can be disposed, and the change in the number of the electromagnetic valves 50 can be flexibly dealt with. Furthermore, since the wiring for connecting the coil 52 and the electronic circuit pattern can be omitted, power loss in the wiring can be suppressed. In addition, the drive circuit board 81 is disposed substantially parallel to the both side surfaces 20 c of the flow path block 20. For this reason, the drive circuit board 81 can extend in the longitudinal direction of the flow path block 20 and the direction perpendicular to the upper surface 20a while suppressing the width of the flow path block 20 from extending. Therefore, the drive circuit board 81 can be disposed in the vicinity of the electromagnetic valve 50 without being limited by the width of the gas supply unit 11.

図13において、連結板83及び駆動回路基板81と、電磁弁50のケース53及び伝熱プレート30との間に断熱部材を設けるようにしてもよい。そして、この断熱部材によって連結板83及び駆動回路基板81を支持するようにすることもできる。こうした構成によれば、電磁弁50のケース53及び伝熱プレート30から連結板83及び駆動回路基板81への熱の伝達を抑制しつつ、駆動回路基板81の支持を安定させることができる。また、図9に示すように、ケース53に当接する当接片33を有する伝熱プレート230において、連結板83及び駆動回路基板81と、当接片33との間に断熱部材を設けるようにしてもよい。なお、こうした断熱部材によって、駆動回路基板81を安定して支持することができるのであれば、連結板83を介して駆動回路基板81を支持する支持部材82を省略することもできる。   In FIG. 13, a heat insulating member may be provided between the connecting plate 83 and the drive circuit board 81 and the case 53 and the heat transfer plate 30 of the electromagnetic valve 50. The connecting plate 83 and the drive circuit board 81 can be supported by the heat insulating member. According to such a configuration, it is possible to stabilize the support of the drive circuit board 81 while suppressing the transfer of heat from the case 53 and the heat transfer plate 30 of the electromagnetic valve 50 to the connecting plate 83 and the drive circuit board 81. Further, as shown in FIG. 9, in the heat transfer plate 230 having the contact piece 33 that comes into contact with the case 53, a heat insulating member is provided between the connection plate 83 and the drive circuit board 81 and the contact piece 33. May be. Note that if the heat insulating member can stably support the drive circuit board 81, the support member 82 that supports the drive circuit board 81 via the connecting plate 83 can be omitted.

図1,11において、複数のガス供給ユニット11の出力ポート29を接続して、複数のガス供給ユニット11の組み合わせによりガスの種類や流量を制御することもできる。   1 and 11, the output ports 29 of the plurality of gas supply units 11 can be connected, and the type and flow rate of the gas can be controlled by the combination of the plurality of gas supply units 11.

11…ガス供給ユニット、20…流路ブロック、20a…弁搭載面としての上面、30…伝熱部材としての伝熱プレート、31…ケース当接部としての平板部、32…ブロック繋ぎ部としての固定部、50,50A…電磁弁、52…コイル、53ケース。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Gas supply unit, 20 ... Flow path block, 20a ... Upper surface as a valve mounting surface, 30 ... Heat transfer plate as a heat transfer member, 31 ... Flat plate part as a case contact part, 32 ... As a block connection part Fixed part, 50, 50A ... Solenoid valve, 52 ... Coil, 53 cases.

Claims (11)

内部に流路の設けられた流路ブロックと、前記流路を流通するガスの流通状態を変更する複数の電磁弁とを備え、各電磁弁はコイルと前記コイルの外周に配置されたケースとを有しているガス供給ユニットであって、
前記流路ブロックは、長尺状に延びる直方体状に形成され、前記複数の電磁弁が搭載された弁搭載面を有し、
前記複数の電磁弁は、前記弁搭載面の長手方向に沿って直列に配置され、
前記複数の電磁弁の各ケースに跨るようにして前記弁搭載面の長手方向に沿って延びて前記各ケースに当接されるケース当接部と、前記流路ブロックの前記弁搭載面に前記ケース当接部を繋ぐブロック繋ぎ部とを有する伝熱部材を備えることを特徴とするガス供給ユニット。
A flow path block provided with a flow path therein, and a plurality of electromagnetic valves that change the flow state of the gas flowing through the flow path, each electromagnetic valve being disposed on a coil and an outer periphery of the coil; A gas supply unit comprising:
The flow path block is formed in a rectangular parallelepiped shape extending in a long shape, and has a valve mounting surface on which the plurality of electromagnetic valves are mounted,
The plurality of solenoid valves are arranged in series along the longitudinal direction of the valve mounting surface,
A case abutting portion extending along the longitudinal direction of the valve mounting surface so as to straddle each case of the plurality of solenoid valves, and the valve mounting surface of the flow path block on the valve mounting surface A gas supply unit comprising a heat transfer member having a block connecting portion that connects the case contact portions.
前記ケース当接部は、前記弁搭載面の長手方向に沿って前記複数の電磁弁の全てにわたるように延び、全ての電磁弁の前記ケースに当接されていることを特徴とする請求項1に記載のガス供給ユニット。   2. The case contact portion extends along the longitudinal direction of the valve mounting surface so as to cover all of the plurality of electromagnetic valves, and is in contact with the cases of all the electromagnetic valves. The gas supply unit described in 1. 前記ケース当接部は平板状に形成され、
前記電磁弁の前記ケースは、平面をなすように形成されたケース平面部を有し、
前記ケース当接部と前記ケース平面部とが平面同士で当接していることを特徴とする請求項1又は2に記載のガス供給ユニット。
The case contact portion is formed in a flat plate shape,
The case of the electromagnetic valve has a case plane portion formed so as to form a plane,
The gas supply unit according to claim 1, wherein the case contact portion and the case flat portion are in contact with each other on a flat surface.
前記ケース平面部は、前記流路ブロックにおいて前記弁搭載面を幅方向から挟む両側面に対して略平行に配置されていることを特徴とする請求項3に記載のガス供給ユニット。   4. The gas supply unit according to claim 3, wherein the case flat surface portion is disposed substantially parallel to both side surfaces sandwiching the valve mounting surface in the width direction in the flow path block. 前記ブロック繋ぎ部は、前記弁搭載面において前記複数の電磁弁の間の部分に繋がれていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のガス供給ユニット。   The gas supply unit according to any one of claims 1 to 4, wherein the block connection portion is connected to a portion between the plurality of electromagnetic valves on the valve mounting surface. 前記電磁弁をそれぞれ駆動する駆動回路基板が前記電磁弁毎に設けられ、
前記駆動回路基板は、前記流路ブロックにおいて前記弁搭載面を幅方向から挟む両側面に対して略平行に配置されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のガス供給ユニット。
A drive circuit board that drives each of the solenoid valves is provided for each solenoid valve,
The said drive circuit board is arrange | positioned substantially parallel with respect to the both sides which pinch | interpose the said valve mounting surface from the width direction in the said flow-path block, The any one of Claims 1-5 characterized by the above-mentioned. Gas supply unit.
前記駆動回路基板は、前記弁搭載面に連結された支持部材によって支持されており、
前記電磁弁の前記ケースと前記支持部材との間に隙間が形成されていることを特徴とする請求項6に記載のガス供給ユニット。
The drive circuit board is supported by a support member connected to the valve mounting surface,
The gas supply unit according to claim 6, wherein a gap is formed between the case of the electromagnetic valve and the support member.
請求項1〜7のいずれか1項に記載のガス供給ユニットを複数備え、
前記流路ブロックにおいて前記弁搭載面を幅方向から挟む両側面同士が隣り合うように前記ガス供給ユニットを並列に配列したことを特徴とするガス供給装置。
A plurality of the gas supply units according to any one of claims 1 to 7,
The gas supply device, wherein the gas supply units are arranged in parallel so that both side surfaces sandwiching the valve mounting surface from the width direction are adjacent to each other in the flow path block.
前記流路ブロックの前記隣り合う側面が互いに当接していることを特徴とする請求項8に記載のガス供給装置。   The gas supply device according to claim 8, wherein the adjacent side surfaces of the flow path block are in contact with each other. 前記流路を流通するガスを加熱するヒータを備え、
前記流路ブロックの前記隣り合う側面の間に前記ヒータが挟み込まれた状態で、前記複数のガス供給ユニットの前記流路ブロック同士が一体化されていることを特徴とする請求項8に記載のガス供給装置。
A heater for heating the gas flowing through the flow path;
9. The flow path blocks of the plurality of gas supply units are integrated with each other in a state where the heater is sandwiched between the adjacent side surfaces of the flow path block. Gas supply device.
前記複数のガス供給ユニットの各伝熱部材同士を当接させるユニット間伝熱部材を備えていることを特徴とする請求項7〜10のいずれか1項に記載のガス供給装置。   The gas supply device according to any one of claims 7 to 10, further comprising an inter-unit heat transfer member that causes the heat transfer members of the plurality of gas supply units to contact each other.
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