KR101751783B1 - 입자성 물질과 난용성 성상물질 및 기체상 오염물질이 포함된 배기가스 처리장치 - Google Patents

입자성 물질과 난용성 성상물질 및 기체상 오염물질이 포함된 배기가스 처리장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 입자성 물질과 난용성 성상물질 및 기체상 오염물질이 포함된 배기가스 처리장치에 관한 것으로 더욱 상세하게는, 공장에서 발생하는 배기가스에 포함된 입자성 물질이 집진수와 접촉되어 제거되는 스크루버 및 난용성 가스 성상물질을 응축온도를 이용하여 제거하는 응축 열교환기 중 선택되는 적어도 어느 하나로 이루어지는 전처리장치와, 상기 전처리장치로부터 유입된 배기가스에 남아있는 기체상 오염물질을 기액접촉을 통하여 제거하는 멀티스크루버 및 가열 소각 방식으로 기체상 오염물질을 열분해하여 제거하는 소각장치 중 선택되는 적어도 어느 하나로 이루어지는 주처리장치를 포함함으로써, 배기가스에 포함된 입자성 물질과 난용성 성상물질 및 기체상 오염물질을 제거하기 위하여 배기가스에 포함된 물질의 농도와 성상에 따라 전처리장치와 주처리장치를 선택적으로 사용할 수 있으므로 오염물질의 제거효율이 향상되며, 장치의 운영을 최소화하여 생산비와 동력비를 절감하여 경제적인 문제를 해소함으로써 상용화 이후 운영상에 발생할 수 있는 문제점을 최소화할 수 있고, 작업시간을 단축하여 작업효율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

Description

입자성 물질과 난용성 성상물질 및 기체상 오염물질이 포함된 배기가스 처리장치{Apparatus for treatment exhaunst gas containing particle, insoluble substance and gas-phase pollutant}

본 발명은 입자성 물질과 난용성 성상물질 및 기체상 오염물질이 포함된 배기가스 처리장치에 관한 것으로 더욱 상세하게는, 공장에서 발생하는 배기가스에 포함된 입자성 물질이 집진수와 접촉되어 제거되는 스크루버 및 난용성 가스 성상물질을 응축온도를 이용하여 제거하는 응축 열교환기 중 선택되는 적어도 어느 하나로 이루어지는 전처리장치와, 상기 전처리장치로부터 유입된 배기가스에 남아있는 기체상 오염물질을 기액접촉을 통하여 제거하는 멀티스크루버 및 가열 소각 방식으로 기체상 오염물질을 열분해하여 제거하는 소각장치 중 선택되는 적어도 어느 하나로 이루어지는 주처리장치를 포함함으로써, 배기가스에 포함된 입자성 물질과 난용성 성상물질 및 기체상 오염물질을 제거하기 위하여 농도에 따라 전처리장치와 주처리장치를 선택적으로 사용할 수 있으므로 장치의 운영을 최소화하고 작업시간을 단축하여 효율을 향상시킬 수 있는 입자성 물질과 난용성 성상물질 및 기체상 오염물질이 포함된 배기가스 처리장치에 관한 것이다.

일반적으로 반도체나 전자제품 및 LCD 등을 생산하는 공정의 경우 유해한 많은 배기가스가 배출되고 있다. 이러한 유해한 배기가스의 경우, 종래에는 고열을 이용하여 연소시켜 정화시키고 배출시키는 것이 일반적인 처리 방법이었다.

한편, 배기가스에 포함된 입자성 물질의 제거기술로는 습식집진기술, 원심력집진기술, 배기가스에 함유된 입자성 물질을 충돌판 등에 충돌시켜 제거시키는 관성집진기술, 입자성 물질이 갖는 고유의 전하를 전기 힘으로 끌어들이는 전기집진기술 및 여과재를 이용하여 입자성 물질을 제거시키는 여과집진기술 등의 건식기술이 활용되고 있으며, 입자의 크기가 작은 미세먼지는 흡수ㆍ흡착 등 물리화학적인 방법이나 전기적 성질을 이용하는 전기집진기술 또는 고효율의 여과제를 이용하는 여과집진기술 등이 알려져 있다.

일반적으로 입자성 물질이 포함된 배기가스의 기존 처리 방식으로는 전처리부에서는 습식 필터를 이용하여 입자성 물질을 제거하고, 주처리부에서는 주처리부의 전단 또는 후단에 습식전기집진기를 두어 처리하는 방식이 이용되어 왔다.

그러나, 이러한 종래의 처리방식의 습식전기집진기는 효율이 높은 반면, 먼지의 부착성 때문에 잦은 청소 및 빈번한 고장이 발생하는 문제점이 있었고, 화재의 위험성이 높아 관리가 어려운 문제점이 있었다.

한편, SOxㆍHCl 등과 같은 산성가스의 제거기술로는 산성가스를 물에 용해되어 있는 Na 또는 Ca 화합물과 반응시켜 염 성분의 물질로 변환시켜 제거하는 습식(wet scrubbing)기술과, 산성가스에 CaㆍNa 계열 등의 반응제를 배출가스에 직접 분사하여 산성가스와 반응하게 하고, 반응제와 산성가스의 반응에 의하여 생성되는 염성분을 백 필터(bag filter)로 제거하는 건식 또는 반건식 기술 등이 있고, 또한, SOx, NOx 등의 산성가스를 동시에 처리하기 위하여 플라스마(plasma) 또는 전자빔 기술을 가스정화에 응용하는 기술이 개발되고 있으며, 특정유해물질(HAPs), 잔류성유해물질(POPs) 등과 같은 휘발성유기화합물(VOCs) 및 악취 등의 처리에 대한 관심이 높아지면서 흡수ㆍ흡착ㆍ열산화ㆍ촉매산화ㆍ농축/소각 등을 고도화하여 제거 효율을 향상시키기 위한 기술개발이 진행되고 있다.

그러나 산업의 급속한 발전으로 오염물질이 다양화되면서 배출되는 오염물질을 처리하기 위하여 여러 종류의 방지시설을 설치하여 다양한 오염물질을 제거하고 있으나, 오염물질을 제거하기 위한 방지시설의 증가는 이에 따른 오염물질을 제거하기 위한 방지시설의 설치비 및 운영비를 급격하게 증가시키면서 생산제품의 가격상승으로 이어지고 산업경쟁력을 크게 약화시키는 문제가 발생하고 있다.

따라서, 최근에는 여러 종류의 방지시설을 하나 또는 두 개의 방지설비를 연계시켜 운영하기 위하여 다양한 동시처리기술이 개발되고 있지만, 개발방향이 설비의 안정적인 운영보다 효율성이 강조되면서 습식전기집진, 고효율의 여과재를 이용하는 여과집진기 등 고가의 설비를 이용하는 기술개발이 이루어지고 있다.

그러나 이러한 고가의 원자재를 사용하는 기술은 생산비를 증가시키면서 동력비를 동시에 증가시켜 경제적인 문제가 발생되면서 경제적인 문제로 인하여 상용화에 많은 어려움을 겪고 있다. 따라서 최근에는 효율성 향상에 따른 경제적 문제점을 해결하기 위하여 세정집진기술을 기초기술로 사용하면서 다양한 기술을 접목시키는 세정집진기술이 개발되고 있다.

대한민국 등록특허공보 제10-0681938호

본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로 , 공장으로부터 배출되는 입자성 물질을 포함한 배기가스뿐 아니라 난용성 가스 성상물질 및 기체상 오염물질도 동시에 포함하고 있는 배기가스를 처리하는 입자성 물질과 난용성 성상물질 및 기체상 오염물질이 포함된 배기가스 처리장치를 제공하고자 한다.

본 발명의 다른 목적은 벤튜리 윈리를 이용하여 집진수와 배기가스와의 접촉확률을 증가시키므로 배기가스의 처리효율을 향상시킴과 동시에, 이러한 과정에서 발생할 수 있는 스크루버의 오염을 최소화하여 관리의 어려움이 감소하는 입자성 물질과 난용성 성상물질 및 기체상 오염물질이 포함된 배기가스 처리장치를 제공하고자 한다.

본 발명의 다른 목적은 설치비가 저렴하고 운영이 단순한 스크러버 및 응축 열교환기 중 선택되는 어느 하나를 전처리장치로 구성하고, 기액접촉을 통하여 효율적으로 기체상 오염물질을 제거하는 멀티스크러버를 주처리장치로 구성함으로써, 오염물질의 제거효율을 향상시키고, 생산비와 동력비를 절감하여 경제적인 문제를 해소하고, 상용화 이후 운영상에 발생할 수 있는 문제점을 최소화할 수 있는 입자성 물질과 난용성 성상물질 및 기체상 오염물질이 포함된 배기가스 처리장치를 제공하고자 한다.

본 발명의 다른 목적은 멀티스크루버 본체 내부에 충진재와 멀티필터를 설치하여 배기가스가 충진재와 멀티필터를 통과함으로써, 분사액과 충분한 반응이 이루어질 수 있도록 접촉하는 시간을 증가시킬 수 있는 입자성 물질과 난용성 성상물질 및 기체상 오염물질이 포함된 배기가스 처리장치를 제공하고자 한다.

본 발명에 의한 입자성 물질과 난용성 성상물질 및 기체상 오염물질이 포함된 배기가스 처리장치는, 배기가스에 포함된 입자성 물질 및 난용성 성상물질을 제거하는 전처리장치(1) 및 상기 전처리장치(1)에서 처리된 배기가스에 남아있는 기체상 오염물질을 제거하는 주처리장치(2)를 포함하여 이루어지되, 상기 전처리장치(1)는 상기 전처리장치(1)에 유입된 배기가스에 포함된 입자성 물질이 분사된 집진수와 접촉되어 배기가스의 유속이 상승함에 따라 관성력이 상승되어 제거되는 스크루버(10) 및 난용성 가스 성상물질을 응축온도를 이용하여 제거하는 응축 열교환기(300) 중 선택되는 적어도 어느 하나로 이루어지며, 상기 주처리장치(2)는 상기 전처리장치(1)로부터 유입된 배기가스에 남아있는 기체상 오염물질을 기액접촉을 통하여 제거하는 멀티스크루버(400) 및 가열 소각 방식으로 기체상 오염물질을 열분해하여 제거하는 소각장치(500) 중 선택되는 적어도 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 한다.

이상과 같이 본 발명에 따르면 공장으로부터 배출되는 입자성 물질을 포함한 배기가스뿐 아니라 난용성 가스 성상물질 및 기체상 오염물질도 동시에 포함하고 있는 배기가스를 처리하는 입자성 물질과 난용성 성상물질 및 기체상 오염물질이 포함된 배기가스 처리장치를 제공하는 효과가 있다.

또한, 벤튜리 윈리를 이용하여 집진수와 배기가스와의 접촉확률을 증가시키므로 부착성 때문에 처리하기 어려운 입자성 물질을 포함하는 배기가스의 처리효율을 향상시킴과 동시에, 이러한 과정에서 발생할 수 있는 스크루버의 오염을 최소화하여 관리 및 설치의 어려움이 감소하고, 는 입자성 물질과 난용성 성상물질 및 기체상 오염물질이 포함된 배기가스 처리장치를 제공하는 효과가 있다.

또한, 설치비가 저렴하고 운영이 단순한 스크루버 및 응축 열교환기 중 선택되는 어느 하나를 전처리장치로 구성하고, 기액접촉을 통하여 효율적으로 기체상 오염물질을 제거하는 멀티스크루버를 주처리장치로 구성함으로써, 오염물질의 제거효율을 향상시키고, 생산비와 동력비를 절감하여 경제적인 문제를 해소하고, 상용화 이후 운영상에 발생할 수 있는 문제점을 최소화할 수 있는 입자성 물질과 난용성 성상물질 및 기체상 오염물질이 포함된 배기가스 처리장치를 제공하는 효과가 있다.

또한, 멀티스크루버 본체 내부에 충진재와 멀티필터를 설치하여 배기가스가 충진재와 멀티필터를 통과함으로써, 분사액과 충분한 반응이 이루어질 수 있도록 접촉하는 시간을 증가시킬 수 있는 입자성 물질과 난용성 성상물질 및 기체상 오염물질이 포함된 배기가스 처리장치를 제공하는 효과가 있다.

도 1은 본 발명을 개략적으로 나타낸 단면도.
도 2는 본 발명에 따른 스크루버의 평면도.
도 3은 본 발명에 따른 멀티필터의 예시도.
도 4는 본 발명에 따른 실시예 2를 개략적으로 나타낸 단면도.
도 5는 본 발명에 따른 실시예 7을 개략적으로 나타낸 단면도.
도 6은 본 발명에 따른 스크루버의 단면도.

본 발명의 실시예들에 대한 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.

본 발명의 실시예들을 설명함에 있어서 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략할 것이다. 그리고 후술되는 용어들은 본 발명의 실시예에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 그 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다.

도 1은 본 발명을 개략적으로 나타낸 단면도이고, 도 2는 본 발명에 따른 스크루버의 평면도이고, 도 3은 본 발명에 따른 멀티필터의 예시도이고, 도 4는 본 발명에 따른 실시예 2를 개략적으로 나타낸 단면도이고, 도 5는 본 발명에 따른 실시예 7을 개략적으로 나타낸 단면도이며, 도 6은 본 발명에 따른 스크루버의 단면도이다.

본 발명에 따른 입자성 물질과 난용성 성상물질 및 기체상 오염물질이 포함된 배기가스 처리장치는, 배기가스에 포함된 입자성 물질 및 난용성 성상물질을 제거하는 전처리장치(1) 및 상기 전처리장치(1)에서 처리된 배기가스에 남아있는 기체상 오염물질을 제거하는 주처리장치(2)를 포함하여 이루어지되, 상기 전처리장치(1)는 상기 전처리장치(1)에 유입된 배기가스에 포함된 입자성 물질이 분사된 집진수와 접촉되어 배기가스의 유속이 상승함에 따라 관성력이 상승되어 제거되는 스크루버(10) 및 난용성 가스 성상물질을 응축온도를 이용하여 제거하는 응축 열교환기(300) 중 선택되는 적어도 어느 하나로 이루어지며, 상기 주처리장치(2)는 상기 전처리장치(1)로부터 유입된 배기가스에 남아있는 기체상 오염물질을 기액접촉을 통하여 제거하는 멀티스크루버(400) 및 가열 소각 방식으로 기체상 오염물질을 열분해하여 제거하는 소각장치(500) 중 선택되는 적어도 어느 하나로 이루어질 수 있다.

상기 스크루버(10)는 배기가스에 포함된 입자성 물질을 기액접촉을 통하여 제거하는 벤튜리스크루버(100, Ventury scrubber) 및 상기 벤튜리스크루버(100)로부터 공급된 배기가스가 하강 선회기류를 형성하고, 하강 선회기류를 형성하는 배기가스에 집진수를 분사하여 배기가스 속의 부유 고.액 미립자를 포집 및 제거하는 사이클론스크루버(200, Cyclone scrubber) 중 선택되는 적어도 어느 하나와, 상기 벤츄리스크루버(100) 및 사이클론스크루버(200)의 하부측에 연통되게 구비되어 벤츄리스크루버(100) 및 사이클론스크루버(200) 내부의 집진수가 모여 저장되는 저장탱크(130)를 포함하여 이루어질 수 있다.

이때, 상기 스크루버(10)가 상기 벤튜리스크루버(100) 및 사이클론스크루버(200)를 포함하여 이루어질 경우, 상기 벤튜리 배기구(114)와 사이클론 유입구(211)는 연결부(120)로 연결되어 서로 연통될 수 있다.

또한, 상기 벤튜리스크루버(100)와 사이클론스크루버(200)는 배기가스에 포함된 입자성 물질 또는 부유 고.액 미립자의 농도에 따라 선택적으로 이용될 수 있다.

상기 벤튜리스크루버(100)는 수직의 관 형태로 벤튜리 본체(110)를 구성하고, 상기 벤츄리 본체(110)에는 공장에서 배출되는 배기가스가 유입되는 벤튜리 유입구(111)와, 상기 벤튜리 유입구(111)를 통하여 상기 벤츄리 본체(110)의 내부로 유입된 후 기액접촉에 의하여 입자성 물질이 포집 및 제거된 배기가스가 배출되는 벤튜리 배기구(114)가 형성되고, 상기 벤튜리 본체(110)의 상부에는 그 단면이 점차 축소되다가 목 부분을 지나면서 다시 확장되어 원래의 단면 크기를 유지하는 벤츄리부(113)가 형성되며, 상기 벤튜리부(113)의 상측에는 상기 벤튜리 본체(110)의 내부에 집진수를 분사하는 벤튜리 분사장치(112)가 설치된다.

상기 벤튜리 본체(110)는 사각형, 오각형 등의 다각형 또는 원형의 단면을 갖는 수직의 관 형태일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며 다양한 형태로 구현될 수 있다.

상기 벤튜리 유입구(111)와 벤튜리 배기구(114)는 상기 벤튜리 본체(110)에 대향되게 위치할 수 있으며, 바람직하게는 상기 벤튜리 유입구(111)가 상기 벤튜리 본체(110)의 상부 또는 측면 상부에, 상기 벤튜리 배기구(114)가 상기 벤튜리 본체(110)의 하부 또는 하부측면에 형성될 수 있다. 이때, 상기 벤튜리 배기구(114)에는 차단부(미도시)가 형성되어, 상기 사이클론스크루버(200)로 배기가스가 이동하는 것을 선택적으로 차단할 수 있다.

상기 벤튜리 분사장치(112)는 상기 벤츄리 본체(110)의 내부에 집진수를 분사하여 상기 벤튜리스크루버(100)의 내부에 유입되는 배기가스의 입자성 물질과 분무화된 집진수가 관성 충돌하도록 한다.

상기 벤튜리 분사장치(112)는 벤튜리 분사배관(112a)과 벤튜리 분사노즐(112b)로 이루어질 수 있다.

상기 벤튜리 분사장치(112)는 유입되는 배기가스와 다른 속도로 집진수를 분사하는데, 이는 분사되는 집진수와 입자성 물질을 접촉시켜 입자성 물질의 관성력을 상승시킴으로써 제거 효율을 높이기 위함이다.

상기 벤튜리부(113)는 상기 벤튜리부(113)의 상, 하부에 압력차를 형성하여 상기 벤튜리부(113)를 통과하는 배기가스의 속도를 증가시키기 위한 것으로서, 집진수가 배기가스에 포함된 입자성 물질을 포집하도록 한다.

상기 벤튜리부(113)는 상기 벤튜리 분사장치(112)와 상기 벤튜리 배기구(114)의 사이에 위치할 수 있으며, 이러한 경우 특히 집진수와 배기가스의 접촉 확률을 높일 수 있으므로 입자성 물질의 제거효율을 더욱 증가시킬 수 있다.

상기 벤튜리부(113)의 중심 단면적은 상기 벤튜리 본체(110)의 단면적보다 작기때문에 상기 벤튜리부(113)의 상부와 하부에 압력차가 발생하는 것이며, 상기 벤튜리부(113)가 좁을수록 압력손실이 증가하고, 배기가스의 속도도 빨라진다. 따라서, 분사된 집진수와 압력이 높아진 배기가스의 접촉확률이 증대된다. 즉, 벤튜리부(113)의 중심 단면적이 작을수록 상기 벤튜리부(113)의 상부 압력이 높아지며, 이에 따라 배기가스와 집진수의 접촉확률이 높아지므로 배기가스에 포함된 입자성 물질의 포집, 제거 효율이 향상되는 효과가 있다.

상기 벤튜리부(113)에 의하여 충분히 집진수와 접촉한 배기가스는 배기가스에 포함되어 있던 입자성 물질이 집진수에 흡수되어 액적 상태를 형성하고, 입자성 물질이 포함된 액적은 상기 저장탱크(130)로 낙하함으로써 배기가스에서 입자성 물질이 제거된다.

이때, 상기 저장탱크(130)는 밑면이 기울어진 형태로 형성될 수 있고, 이러한 경우에 밀도가 큰 침전 물질 등은 기울어진 부분으로 모일 수 있으며, 집진수와 침전물질 등의 분리가 용이할 수 있다.

상기 벤튜리부(113)에는 그 단면적의 크기가 조절될 수 있도록 단면적조절수단(미도시)이 더 설치될 수 있다. 상기 단면적조절수단은 상기 벤튜리부(113)의 단면적의 크기를 적절하게 조절할 수 있는 것이라면 어느 것이든지 적용될 수 있고, 바람직하게는 상기 단면적조절수단의 일 말단이 상기 벤튜리부(113)에 의하여 형성되는 단면적에 대향하여 위치하는 것일 수 있다.

이에 따라, 상기 단면적조절수단의 일 말단의 위치를 조절하여서, 상기 벤튜리부(113)와 상기 단면적조절수단의 일 말단과의 사이의 거리를 조절할 수 있고, 이에 의하여 상기 벤튜리부(113)의 단면적의 크기를 조절할 수 있다.

이와 같은 상기 벤튜리스크루버(100)는 벤튜리의 원리와 동시에 집진수를 이용한 세정원리를 이용하여 다양한 크기의 입자상 물질을 포함하는 배기가스에서 유독물질 및 입자상 물질을 효과적으로 제거할 수 있다.

또한, 상기 벤튜리스크루버(100)는 집진수와 상기 벤튜리스크루버(100)에 유입되는 가스의 비율인 액기비(분사되는 집진수의 양/가스의 양)는 가스의 온도, 습도, 유량, 제거하고자 하는 입자성 물질의 종류 및 목적하는 제거 정도에 따라서 달라질 수 있으나, 효과적인 처리를 위하여 가스 1 m3당 집진수 1 내지 20 L, 바람직하게는 가스 1 m3당 집진수 5 내지 15 L의 비율로 조절될 수 있다. 이러한 경우에 효율적인 유해물질 및 입자성 물질의 제거가 가능하다.

또한, 벤튜리 윈리를 이용하여 집진수와 배기가스와의 접촉확률을 증가시키므로 배기가스의 처리효율을 향상시킴과 동시에, 이러한 과정에서 스케일(점도가 있는 오염물질을 포함한 반응액적)의 발생을 줄임으로써 상기 벤튜리스크루버(100)의 오염을 최소화할 수 있는 효과가 있다.

상기 사이클론스크루버(200)는 수직의 원통형으로 형성되는 사이클론 본체(210)를 구성하고, 상기 사이클론 본체(210) 일측 하부에는 상기 벤튜리스크루버(100)에서 처리된 배기가스가 유입되는 사이클론 유입구(211)가 형성되고, 상기 사이클론 본체(210) 상부에는 상기 사이클론 본체(210)의 내부에서 부유 고.액 미립자가 포집 및 제거된 배기가스가 배출되는 사이클론 배기구(214)가 형성되며, 상기 사이클론 본체(210) 내부에는 상단 중심부에서부터 하단 방향으로 원통형의 중심축(213)이 설치되며, 상기 사이클론 본체(210)의 내면에 도 1과 같이 상기 사이클론 본체(210)의 내부에 집진수를 분사하는 사이클론 분사장치(212)가 설치된다. 상기 사이클론 분사장치(212)는 사이클론 분사배관(212a)과 사이클론 분사노즐(212b)로 이루어질 수 있다.

이때, 상기 연결부(120)는 집진효율을 높이기 위하여 상기 사이클론 유입구(211)로 유입되는 가스가 상기 사이클론 본체(210)의 단면의 접선방향으로 유입되도록 형성된 것일 수 있다.

또한, 상기 중심축(213)은 상기 사이클론스크루버(200) 내부에 발생하는 하강 선회기류의 중심이 되도록 구성될 수 있다.

상기 응축 열교환기(300)는 배기가스에 포함된 난용성 가스성상물질을 응축온도를 이용하여 제거하기 위한 것으로서, 상기 응축 열교환기(300)는 상부에 응축 열교환기 인입구(311)와 응축열교환기 배기구(314)가 형성되고, 하부에 드레인관(315)이 형성된 응축 열교환기 본체(310)와, 상기 응축 열교환기 본체(310)의 내부에는 냉각코일(312)이 설치된다.

상기 응축 열교환기(300)에서는 배기가스에 포함되어 있는 난용성 가스성상물질이 냉각코일을 지나며 제거되며, 상기 드레인관(315)을 통해 외부로 배출된다. 따라서 상기 주처리장치(2)에 공급되는 배기가스 중의 오염물질의 양이 현저하게 줄어들게 된다.

또한, 상기 응축 열교환기 본체(310)의 내부에는 기수분리필터(313)가 더 설치될 수 있으며, 난용성 가스성상물질이 제거된 배기가스가 응축열교환기 배기구(314)를 통하여 배출되기 전에 상기 기수분리필터(313)를 통과함으로써 배기가스에 남아있는 수분이 제거될 수 있다.

상기 주처리장치(2)는 상기 전처리장치(1)로부터 유입되는 배기가스에 남아있는 산성기체상오염물질을 기액접촉을 통하여 제거하는 멀티스크루버(400) 및 가열 소각 방식으로 열분해하여 제거하는 소각장치(500)중 선택되는 적어도 어느 하나로 이루어질 수 있다.

상기 멀티스크루버(400)는 하부에 기체상 오염물질과 반응한 반응액 저장탱크(417)가 형성되는 멀티스크루버 본체(410)를 구성하며, 상기 멀티스크루버 본체(410)에는 상기 전처리장치에서 처리된 배기가스가 유입되는 멀티스크루버 유입구(411)와, 상기 멀티스크루버(400)에서 처리된 가스가 외부로 배출되는 멀티스크루버 배기구(146)가 형성되고, 상기 멀티스크루버 본체(410) 내부에는 기액접촉이 일어나며 배기가스에 포함된 기체상 오염물질을 제거하는 충진재(413)와, 상기 충진재(413)를 통과한 배기가스에 남아있는 기체상 오염물질을 기액접촉을 통해 제거하는 멀티필터(414)와 상기 멀티필터(414)를 통과한 배기가스에 포함되어 있는 수분을 분리하는 기수분리기(415) 및 상기 충진재(413)와 멀티필터(414)에 반응액을 분사하는 멀티스크루버 분사장치(412)가 설치될 수 있다.

상기 멀티스크루버 분사장치(412)는 멀티스크루버 분사배관(412a)과 멀티스크루버 분사노즐(412b)로 이루어질 수 있다. 상기 멀티스크루버 분사노즐(412b)은 상기 충진재(413)와 멀티필터(414)를 향해 반응액을 분사한다. 이때, 상기 멀티스크루버 분사배관(412a)과 멀티스크루버 분사노즐(412b)은 도 1을 참조하면, 상기 충진재(413)의 상부측과 좌측, 상기 멀티필터(414)의 상기 멀티스크루버 배기구(416)와 인접한 면을 제외한 좌, 우측면에 분사액이 분사된다. 이때, 상기 멀티필터(414)는 적어도 하나 이상 설치될 수 있다.

상기 충진재(413)는 폴리프로피렌이나 폴리에치렌 또는 금속 재질의 테라라이트(tellerette), 무기성 광물로 제작한 구슬, 래싱링(rashing ring), 벌 새들(berl saddle) 및 인타록스 새들(intalox saddle) 등으로 이루어질 수 있으며, 상기 멀티필터(414)는 도 3과 같은 구조로 형성된 필터로 구비될 수 있다.

상기 멀티필터(414)는 도 3을 참조하면, 다수의 격벽(414a)과 상기 격벽(414a)의 사이에 절곡부를 이루며 접혀서 배치되는 다공성 시트(414b)가 복수의 층을 형성하여 이루어질 수 있으며, 상기 다공성 시트(414b)에 형성된 구멍 사이로 배기가스와 반응액이 통과하면서 거품이 발생되어 반응액에 배기가스에 포함된 기체상 오염물질이 잘 흡수되도록 하는 기액접촉작용에 의해 배기가스의 중화작용 및 배기가스에 함유된 기체상 오염물질의 제거(흡수)를 효과적으로 수행할 수 있다. 이때, 상기 격벽(414a)에는 다수의 통공이 형성될 수 있다.

상기 다공성 시트(414b)는 합성수지 재질로 형성된 부직포일 수 있으며, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀(polyolefin)이나, 염화비닐리덴, 폴리에스테르, 나일론, 아라미드, 탄소섬유 등의 유기섬유나, 무기섬유, 금속섬유로 구성될 수 있다. 상기 다공성 시트에 형성된 구멍은 가로 2∼10㎜, 세로 2∼10㎜로 형성될 수 있으나 이에 한정되지 않는다.

이러한 기액접촉에 의한 산화 및 중화반응은 반응제와 기체상 오염물질과의 접촉시간 및 접촉기회가 매우 중요한 인자로 작용하므로 접촉기회를 향상시키기 위하여 상기 멀티스크루버 본체(410) 내부에 상기 충진재(413)와 멀티필터(414)를 설치하여 배기가스가 상기 충진재(413)와 멀티필터(414)를 통과하는 동안 분사액과 접촉하도록 한다. 이때, 분사액과 기체상 오염물질 사이에 충분한 반응이 이루어지도록 하거나 처리하고자 하는 성상에 따라 상기 충진재(413)와 멀티필터(414)의 길이, 밀도, 두께, 수량을 결정할 수 있다.

또한, 상기 멀티스크루버 본체(410)의 내부에 설치된 기수분리기(415)는 기체와 수분을 분리하는 것으로서, 기체상 오염물질이 제거된 배기가스가 상기 멀티스크루버 배기구(416)를 통하여 외부로 배출되기 전에 상기 기수분리기(415)를 통과함으로써 배기가스에 남아있는 수분이 제거될 수 있다.

상기 기수분리기(415)는 상기 멀티스크루버 배기구(416)를 통하여 수분이 외부로 배출되지 않도록 하기 위하여 설치하며, 특히 겨울에는 수분이 외부로 배출될 경우 상기 멀티스크루버 배기구(416) 주변에서 바로 응결되어 상기 멀티스크러버(400)를 부식시키는 원인이 된다. 따라서, 수분을 분리하여 정화된 가스를 배출하므로 멀티스크루버(400)의 수명도 연장시킬 수 있다.

한편, 상기 반응액은 배기가스에 포함된 산성기체상 오염물질을 중화하기 위한 염기성 액일 수 있으며, 암모니아, 가성소다 등일 수 있다. 상기 분사액은 상기 충진제(413)와 멀티필터(414)에 수직 혹은 경사각을 이루며 분사된다.

또한, 상기 반응액은 경우에 따라 다양한 기체상 오염물질(산성가스, 알칼리성 가스, 악취, 휘발성유기화합물 등)을 제거하기 위하여 다양하게 구성될 수 있다. 예를 들어, NaOH, HCl, H2SO4, NaClO, NaClO2 등일 수 있다. 따라서, 산화반응, 중화반응 등을 유도하여 다양한 기체상 오염물질을 제거할 수 있다.

또한, 상기 주처리장치(2)는 배기가스의 제거하고자 하는 가스의 성상(acid, alkali, PFC, VOC 등)에 따라 기체상 오염물질을 가열 소각 방식으로 열분해하여 제거하는 소각장치(500)로 이루어질 수 있다. 이러한 가열 소각 방식의 소각장치(500)는 공지된 기술로서, 상세한 설명은 생략한다.

상기와 같은 전처리장치(1)와 주처리장치(2)는 도 1과 같이 배관(600)으로 연결되어 있으며, 상기 배관(600)에 설치된 밸브(미도시)의 작동에 따라 아래와 같은 실시예들과 같이 배기가스가 이동되며 오염물질들이 제거될 수 있다. 이때, 상기 밸브는 배기가스가 이동되는 배관들을 연결하고, 동시에 개폐를 제어하는 밸브로서, 배기가스에 포함된 오염물질들의 농도에 따라 개폐여부가 결정될 수 있으며, 오염물질들의 농도를 감지하는 센서부(미도시)가 더 설치될 수 있다. 즉, 상기 센서부의 신호에 따라 상기 밸브가 개폐되는 것이다.

아래에서는 본 발명의 배기가스 처리장치의 실시예들을 설명한다.

본 명세서에서, 배기가스가 이동되는 배관들을 연결하고, 동시에 개폐를 제어하는 밸브의 구성은 공지된 기술로서, 상세한 설명은 생략한다.

그러므로, 이하에서 설명하는 실시예들은 배기가스의 이동경로에 대해서만 서술할 뿐, 밸브에 의해 배관의 개폐가 제어되는 설명은 생략한다.

< 실시예 1>

배관(600)으로 유입된 공장에서 배출된 배기가스는 벤튜리 유입구(111)를 통과하여 벤튜리스크루버(100)로 유입되어 오염물질이 제거된 후, 벤튜리 배기구(114)를 통과하여 연결부(120)로 이동하고, 연결부(120)에 연결된 배관을 따라 이동하여 멀티스크루버(400)로 유입된다. 멀티스크루버(400)로 유입된 배기가스는 남아있는 기체상 오염물질이 제거된 후 외부로 배출된다.

< 실시예 2>

배관(600)으로 유입된 공장에서 배출된 배기가스는 벤튜리 유입구(111)를 통과하여 벤튜리스크루버(100)로 유입되어 오염물질이 제거된 후, 벤튜리 배기구(114)를 통과하여 연결부(120)로 이동하고, 연결부(120)와 연통되어 있는 사이클론 유입구(211)를 통과하여 사이클론스크루버(200)로 유입된다. 사이클론스크루버(200)에서 오염물질이 제거된 배기가스는 사이클론 배기구(214)에 연결된 배관(600)을 따라 이동하여 멀티스크루버(400)로 유입된다. 멀티스크루버(400)로 유입된 배기가스는 남아있는 기체상 오염물질이 제거된 후 외부로 배출된다. 본 실시예는 배기가스에 난용성 가스성상물질이 포함되어 있지 않고 입자성 물질만 포함된 경우에 적용될 수 있다.

< 실시예 3>

배관(600)으로 유입된 공장에서 배출된 배기가스는 벤튜리 유입구(111)를 통과하여 벤튜리스크루버(100)로 유입되어 오염물질이 제거된 후, 벤튜리 배기구(114)를 통과하여 연결부(120)로 이동하고, 연결부(120)에 연결된 배관(600)을 따라 이동하여 응축열교환기 인입구(311)를 통과하여 응축 열교환기(300) 내부로 유입되어 오염물질이 제거되고, 응축 열교환기 배기구(314)에 연결된 배관을 따라 이동하여 멀티스크루버(400)로 유입된다. 멀티스크루버(400)로 유입된 배기가스는 남아있는 기체상 오염물질이 제거된 후 외부로 배출된다.

< 실시예 4>

배관(600)으로 유입된 공장에서 배출된 배기가스는 벤튜리 유입구(111)를 통과하여 벤튜리스크루버(100)로 유입되어 오염물질이 제거된 후, 벤튜리 배기구(114)를 통과하여 연결부(120)로 이동하고, 연결부(120)와 연통되어 있는 사이클론 유입구(211)를 통과하여 사이클론스크루버(200)로 유입된다. 사이클론스크루버(200)에서 오염물질이 제거된 배기가스는 사이클론 배기구(214)에 연결된 배관(600)을 따라 이동하여 응축열교환기 인입구(311)를 통과하여 응축 열교환기(300) 내부로 유입되어 오염물질이 제거되고, 응축 열교환기 배기구(314)에 연결된 배관을 따라 이동하여 멀티스크루버(400)로 유입된다. 멀티스크루버(400)로 유입된 배기가스는 남아있는 기체상 오염물질이 제거된 후 외부로 배출된다.

< 실시예 5>

배관(600)으로 유입된 공장에서 배출된 배기가스는 사이클론 유입구(211)를 통과하여 사이클론스크루버(200)로 유입되어 오염물질이 제거된 후, 사이클론 배기구(214)에 연결된 배관(600)을 따라 이동하여 멀티스크루버(400)로 유입된다. 멀티스크루버(400)로 유입된 배기가스는 남아있는 기체상 오염물질이 제거된 후 외부로 배출된다.

< 실시예 6>

배관(600)으로 유입된 공장에서 배출된 배기가스는 사이클론 유입구(211)를 통과하여 사이클론스크루버(200)로 유입되어 오염물질이 제거된 후, 사이클론 배기구(214)에 연결된 배관(600)을 따라 이동하여 응축열교환기 인입구(311)를 통과하여 응축 열교환기(300) 내부로 유입되어 오염물질이 제거되고, 응축 열교환기 배기구(314)에 연결된 배관을 따라 이동하여 멀티스크루버(400)로 유입된다. 멀티스크루버(400)로 유입된 배기가스는 남아있는 기체상 오염물질이 제거된 후 외부로 배출된다.

< 실시예 7>

배관(600)으로 유입된 공장에서 배출된 배기가스는 응축 열교환기 인입구(311)를 통과하여 응축열교환기(300) 내부로 유입되어 오염물질이 제거되고, 응축 열교환기 배기구(314)에 연결된 배관을 따라 이동하여 멀티스크루버(400)로 유입된다. 멀티스크루버(400)로 유입된 배기가스는 남아있는 기체상 오염물질이 제거된 후 외부로 배출된다. 본 실시예는 배기가스에 입자성 물질이 포함되어 있지 않고 난용성 가스성상물질만 포함된 경우에 적용될 수 있다.

< 실시예 8>

배관(600)으로 유입된 공장에서 배출된 배기가스는 벤튜리 유입구(111)를 통과하여 벤튜리스크루버(100)로 유입되어 오염물질이 제거된 후, 벤튜리 배기구(114)를 통과하여 연결부(120)로 이동하고, 연결부(120)에 연결된 배관을 따라 이동하여 소각장치(500)로 유입된다. 소각장치(500)로 유입된 배기가스는 남아있는 기체상 오염물질이 제거된 후 외부로 배출된다.

< 실시예 9>

배관(600)으로 유입된 공장에서 배출된 배기가스는 벤튜리 유입구(111)를 통과하여 벤튜리스크루버(100)로 유입되어 오염물질이 제거된 후, 벤튜리 배기구(114)를 통과하여 연결부(120)로 이동하고, 연결부(120)와 연통되어 있는 사이클론 유입구(211)를 통과하여 사이클론스크루버(200)로 유입된다. 사이클론스크루버(200)에서 오염물질이 제거된 배기가스는 사이클론 배기구(214)에 연결된 배관(600)을 따라 이동하여 소각장치(500)로 유입된다. 소각장치(500)로 유입된 배기가스는 남아있는 기체상 오염물질이 제거된 후 외부로 배출된다. 본 실시예는 배기가스에 난용성 가스성상물질이 포함되어 있지 않고 입자성 물질만 포함된 경우에 적용될 수 있다.

< 실시예 10>

배관(600)으로 유입된 공장에서 배출된 배기가스는 벤튜리 유입구(111)를 통과하여 벤튜리스크루버(100)로 유입되어 오염물질이 제거된 후, 벤튜리 배기구(114)를 통과하여 연결부(120)로 이동하고, 연결부(120)에 연결된 배관(600)을 따라 이동하여 응축열교환기 인입구(311)를 통과하여 응축 열교환기(300) 내부로 유입되어 오염물질이 제거되고, 응축 열교환기 배기구(314)에 연결된 배관을 따라 이동하여 소각장치(500)로 유입된다. 소각장치(500)로 유입된 배기가스는 남아있는 기체상 오염물질이 제거된 후 외부로 배출된다.

< 실시예 11>

배관(600)으로 유입된 공장에서 배출된 배기가스는 벤튜리 유입구(111)를 통과하여 벤튜리스크루버(100)로 유입되어 오염물질이 제거된 후, 벤튜리 배기구(114)를 통과하여 연결부(120)로 이동하고, 연결부(120)와 연통되어 있는 사이클론 유입구(211)를 통과하여 사이클론스크루버(200)로 유입된다. 사이클론스크루버(200)에서 오염물질이 제거된 배기가스는 사이클론 배기구(214)에 연결된 배관(600)을 따라 이동하여 응축열교환기 인입구(311)를 통과하여 응축 열교환기(300) 내부로 유입되어 오염물질이 제거되고, 응축 열교환기 배기구(314)에 연결된 배관을 따라 이동하여 소각장치(500)로 유입된다. 소각장치(500)로 유입된 배기가스는 남아있는 기체상 오염물질이 제거된 후 외부로 배출된다.

< 실시예 12>

배관(600)으로 유입된 공장에서 배출된 배기가스는 사이클론 유입구(211)를 통과하여 사이클론스크루버(200)로 유입되어 오염물질이 제거된 후, 사이클론 배기구(214)에 연결된 배관(600)을 따라 이동하여 소각장치(500)로 유입된다. 소각장치(500)로 유입된 배기가스는 남아있는 기체상 오염물질이 제거된 후 외부로 배출된다.

< 실시예 13>

배관(600)으로 유입된 공장에서 배출된 배기가스는 사이클론 유입구(211)를 통과하여 사이클론스크루버(200)로 유입되어 오염물질이 제거된 후, 사이클론 배기구(214)에 연결된 배관(600)을 따라 이동하여 응축 열교환기 인입구(311)를 통과하여 응축열교환기(300) 내부로 유입되어 오염물질이 제거되고, 응축 열교환기 배기구(314)에 연결된 배관을 따라 이동하여 소각장치(500)로 유입된다. 소각장치(500)로 유입된 배기가스는 남아있는 기체상 오염물질이 제거된 후 외부로 배출된다.

< 실시예 14>

배관(600)으로 유입된 공장에서 배출된 배기가스는 응축 열교환기 인입구(311)를 통과하여 응축 열교환기(300) 내부로 유입되어 오염물질이 제거되고, 응축열교환기 배기구(314)에 연결된 배관을 따라 이동하여 소각장치(500)로 유입된다. 소각장치(500)로 유입된 배기가스는 남아있는 기체상 오염물질이 제거된 후 외부로 배출된다. 본 실시예는 배기가스에 입자성 물질이 포함되어 있지 않고 난용성 가스성상물질만 포함된 경우에 적용될 수 있다.

상기와 같이 이루어지는 본 발명은 배기가스에 포함된 입자성 물질과 난용성 성상물질 및 기체상 오염물질을 제거하기 위하여 배기가스에 포함된 물질의 농도와 성상에 따라 벤튜리스크루버(100), 사이클론스크루버(200), 응축 열교환기(300), 멀티스크루버(400) 및 소각장치(500)를 선택적으로 사용할 수 있으므로 오염물질의 제거효율이 향상되며, 장치의 운영을 최소화하여 생산비와 동력비를 절감하여 경제적인 문제를 해소함으로써 상용화 이후 운영상에 발생할 수 있는 문제점을 최소화할 수 있고, 작업시간을 단축하여 작업효율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

또한, 본 발명은 벤튜리 윈리를 이용하여 집진수와 배기가스와의 접촉확률을 증가시키므로 배기가스의 처리효율을 향상시킴과 동시에, 이러한 과정에서 발생할 수 있는 스케일 (점도가 있는 오염물질을 포함한 반응액적)을 최소화하여 관리의 어려움이 감소하므로 관리 효율이 향상되고, 관리 인력이 감소하여 인건비를 절감하는 효과가 있다.

또한, 멀티스크루버 본체(110) 내부에 충진재(413)와 멀티필터(414)를 설치하여 배기가스가 충진재(413)와 멀티필터(414)를 통과함으로써, 분사액과 충분한 반응이 이루어질 수 있도록 접촉하는 시간을 증가시킬 수 있는 효과가 있다.

이상의 설명에서는 본 발명의 다양한 실시예들을 제시하여 설명하였으나 본 발명이 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능함을 쉽게 알 수 있을 것이다.

1 : 전처리장치 2 : 주처리장치
10 : 스크루버 120 : 연결부
130 : 저장탱크
100 : 벤튜리스크루버
110 : 벤튜리 본체 111 : 벤튜리 유입구
112 : 벤튜리 분사장치 113 : 벤튜리부
114 : 벤튜리 배기구
200 : 사이클론스크루버
210 : 사이클론 본체 211 : 사이클론 유입구
212 : 사이클론 분사장치 213 : 중심축
214 : 사이클론 배기구
300 : 응축 열교환기
310 : 응축 열교환기 본체 311 : 응축 열교환기 인입구
312 : 냉각코일 313 : 기수분리필터
314 : 응축 열교환기 배기구 315 : 드레인관
400 : 멀티스크루버
410 : 멀티스크루버 본체 411 : 멀티스크루버 유입구
412 : 멀티스크루버 분사장치 413 : 충진재
414 : 멀티필터 415 : 기수분리기
416 : 멀티스크루버 배기구 417 : 반응액 저장탱크
500 : 소각장치
600 : 배관

Claims (4)

  1. 배기가스에 포함된 입자성 물질 및 난용성 성상물질을 제거하는 전처리장치(1);및
    상기 전처리장치(1)에서 처리된 배기가스에 남아있는 기체상 오염물질을 제거하는 주처리장치(2);
    를 포함하여 이루어지되,
    상기 전처리장치(1)는,
    상기 전처리장치(1)에 유입된 배기가스에 포함된 입자성 물질이 분사된 집진수와 접촉되어 배기가스의 유속이 상승함에 따라 관성력이 상승되어 제거되는 스크루버(10) 및 난용성 가스 성상물질을 응축온도를 이용하여 제거하는 응축 열교환기(300) 중 선택되는 적어도 어느 하나로 이루어지며,
    상기 주처리장치(2)는,
    상기 전처리장치(1)로부터 유입된 배기가스에 남아있는 기체상 오염물질을 기액접촉을 통하여 제거하는 멀티스크루버(400) 및 가열 소각 방식으로 기체상 오염물질을 열분해하여 제거하는 소각장치(500) 중 선택되는 적어도 어느 하나로 이루어지고,
    상기 스크루버(10)는,
    벤튜리스크루버(100) 및 사이클론스크루버(200) 중 선택되는 적어도 어느 하나와 저장탱크(130)를 포함하여 이루어지되,
    상기 벤튜리스크루버(100)는,
    수직의 관 형태로 형성되는 벤튜리 본체(110)를 구성하고,
    상기 벤튜리 본체(110)에는,
    배기가스가 유입되는 벤튜리 유입구(111);
    상기 벤튜리스크루버(100)에서 처리된 배기가스가 배출되는 벤튜리 배기구(114);및
    상기 벤튜리 본체(110)의 상부에 형성되는 벤튜리부(113);
    가 형성되며,
    상기 벤튜리부(113)의 상부에는 상기 벤튜리 본체(110)의 내부로 집진수를 분사하는 벤튜리 분사장치(112)가 설치되고,
    상기 사이클론스크루버(200)는,
    수직의 원통형으로 형성되는 사이클론 본체(210)를 구성하고,
    상기 사이클론 본체(210)에는,
    배기가스가 유입되는 사이클론 유입구(211);및
    상기 사이클론스크루버(200)에서 처리된 처리가스가 배출되는 사이클론 배기구(214);
    가 형성되며,
    상기 사이클론 본체(210) 내부에는 상단 중심에서부터 하단 방향으로 원통형의 중심축(213)이 형성되고, 상기 사이클론 본체(210)의 내면에 상기 사이클론 본체(210)의 내부로 집진수를 분사하는 사이클론 분사장치(212)가 설치되며,
    상기 스크루버(10)가 상기 벤튜리스크루버(100) 및 사이클론스크루버(200)를 포함하여 이루어질 경우,
    상기 벤튜리 배기구(114)와 사이클론 유입구(211)는 연결부(120)로 연결되어 서로 연통되고,
    상기 멀티스크루버(400)는,
    하부에 기체상 오염물질과 반응한 반응액 저장탱크(417)가 형성되는 멀티스크루버 본체(410)를 구성하며,
    상기 멀티스크루버 본체(410)에는,
    상기 전처리장치(1)에서 처리된 배기가스가 유입되는 멀티스크루버 유입구(411);및
    상기 멀티스크루버(400)에서 처리된 가스가 외부로 배출되는 멀티스크루버 배기구(416);
    가 형성되고,
    상기 멀티스크루버 본체(410) 내부에는,
    기액접촉이 일어나며, 배기가스에 포함된 기체상 오염물질을 제거하는 충진재(413);
    상기 충진재(413)를 통과한 배기가스에 남아있는 기체상 오염물질을 기액접촉을 통해 제거하는 멀티필터(414);
    상기 멀티필터(414)를 통과한 배기가스에 포함되어 있는 수분을 분리하는 기수분리기(415);및
    상기 충진재(413)와 멀티필터(414)에 반응액을 분사하는 멀티스크루버 분사장치(412);
    가 설치되고,
    상기 멀티필터(414)는,
    다수의 격벽(414a);및
    상기 격벽(414a)의 사이에 절곡부를 이루며 접혀서 배치되는 다공성 시트(414b);
    를 포함하여 형성되며,
    상기 격벽(414a)에는,
    통공이 형성되는 것을 특징으로 하는 입자성 물질과 난용성 성상물질 및 기체상 오염물질이 포함된 배기가스 처리장치.
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