KR101742834B1 - 가스 스크러버 장치 및 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 배기장치에 관한 것으로, 구체적으로는 가스에서 오염물을 세정하는 장치에 관한 것으로, 천장, 바닥, 가스 입구, 가스 출구, 상단부의 세정액 입구 및 바닥의 세정액 출구를 갖는 탱크; 탱크의 4 벽면 사이에서 세정액 출구와 가스 출구 사이로 수평으로 배치된 잠수 헤드; 탱크의 4 벽면 사이에서 잠수 헤드와 가스 출구 사이로 수평으로 배치된 제1 배플; 및 탱크의 상단부로부터 세정액을 분무하기 위한 분무수단;을 포함하고, 잠수 헤드를 이루는 평판에 다수의 좁은 슬롯들이 관통 형성되어 있으며, 탱크의 가장자리로부터 4개의 서로 연결된 수직 벽들이 밑으로 뻗어 윗쪽이 트인 박스 형태를 이루고, 탱크의 벽면과 잠수 헤드의 수직벽 사이에서 평판의 각각의 가장자리를 따라 세정액이 흐르는 구멍들이 일렬로 형성된 스크러버 장치를 제공한다.

Description

가스 스크러버 장치 및 방법{IMPROVED GAS SCRUBBER APPARATUS AND METHOD}

본 발명은 배기장치에 관한 것으로, 구체적으로는 가스에서 오염물을 세정하는 장치에 관한 것이다.

환경보호를 위한 중간처리는 범세계적인 이슈이다. 공기나 물의 오염은 건강과 식품에 영향을 주고 세계기후변화의 중요한 요인이다. 내연기관 배가스, 제조공정, 동물 폐기물에서 유해 오염물을 제거하는 장치는 어느때보다도 그 필요성이 부각되고 있다.

모든 종류의 제조과정이나 상업적 처리과정에서 나오는 오염입자, 질소기체, 산성화합물, 악취 등(총칭하여 "오염물"이라 함)을 제거하는 장치는 최근 필수적이라 할 수 있다. 제조공장, 발전소, 자동차, 중장비에서 배출되는 배가스나 배출물을 세정하기 위한 장치에 대한 필요성은 점점 증대하고 있다. 이런 장치들은 폐기물이나 폐가스에서 오염물을 분리하거나 변화시켜 제거하는데 각각 다른 공정을 이용하고 있다. 이런 공정에서 오염물을 제거하는데 화학약품을 분무하거나, 촉매반응, 전기장, 필터, 사이클론, 화학용액을 이용한다.

석탄, 오일, 개솔린, 디젤 형태의 탄화수소의 연소는 현대생활에서 필수적으로 일어난다. 석탄은 전세계적으로 주거용이나 산업용으로 열과 전기를 생산하는데 사용된다. 디젤유는 운수산업, 광산이나 삼림이나 농장에서 사용되는 중장비는 물론, 자동차, 선박, 철도차량 등에 널리 이용되고 있다. 이런 연소과정이 증가할수록 환경오염도 증가한다.

연소과정 외에도, 독성이나 악취가 나는 화학물, 예컨대 페인트, 화학약품, 종이, 플라스틱 등의 제조과정에서 나오는 오염물도 환경에 심각한 영향을 미친다. 산성비 형태의 화학적 강우는 수로를 오염시키고 물고기와 전세계의 식생을 파괴한다. 제조과정에서 나오는 악취와 대량사육 동물농장에서 나오는 악취도 인간의 생활환경에 악영향을 미친다.

본 발명은 이상과 같은 문제점을 감안하여 안출한 것으로, 점점더 강화되는 대기오염규제를 경제적이고 효과적으로충족시키는 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 범위는 연소와 비연소원 DIDwhR에서 나오는 오염 기체를 해결하는데 있다. 여러 산업분야의 과제를 충족하기 위한 융통성을 갖고, 다양한 산업분야에서 생기는 처리기체량을 충족시키는 확장성을 가지며, 에너지소비와 오염제거에 있어서 효과적이면서도, 경제성을 갖춘 장치를 제공하고자 한다. 이런 조건들을 만족하는 장치라면 글로벌 환경에 도움이 될 것이다.

발명의 요약

본 발명은, 가스에서 오염물을 제거하는 스크러버 장치에 있어서: 천장, 바닥, 가스 입구, 가스 출구, 상단부의 세정액 입구 및 바닥의 세정액 출구를 갖는 탱크; 탱크의 4 벽면 사이에서 세정액 출구와 가스 출구 사이로 수평으로 배치된 잠수 헤드; 탱크의 4 벽면 사이에서 잠수 헤드와 가스 출구 사이로 수평으로 배치된 제1 배플; 및 탱크의 상단부로부터 세정액을 분무하기 위한 분무수단;을 포함하고, 잠수 헤드를 이루는 평판에 다수의 좁은 슬롯들이 관통 형성되어 있으며, 탱크의 가장자리로부터 4개의 서로 연결된 수직 벽들이 밑으로 뻗어 윗쪽이 트인 박스 형태를 이루고, 탱크의 벽면과 잠수 헤드의 수직벽 사이에서 평판의 각각의 가장자리를 따라 세정액이 흐르는 구멍들이 일렬로 형성된 스크러버 장치를 제공한다.

이 스크러버 장치는 탱크의 4개 벽면 사이에서 제1 배플과 가스 출구 사이로 수평으로 뻗고, 다수의 좁은 슬롯들이 관통 형성되어 있는 제1 침수 헤드; 및 탱크의 4개 벽면 사이에서 제1 침수 헤드와 가스 출구 사이로 수평으로 뻗는 제2 배플;을 더 포함하기도 한다. 이런 장치는 탱크의 4개 벽면 사이에서 제2 배플과 가스 출구 사이로 수평으로 뻗는 제2 침수 헤드; 및 탱크의 4개 벽면 사이에서 제2 침수 헤드와 가스 출구 사이로 수평으로 뻗는 제3 배플;을 더 포함할 수 있다. 또, 탱크의 상단부에 가스입구가 위치하고, 가스인입관이 가스를 잠수 헤드 밑의 위치까지 안내할 수 있다. 하는 것을 특징으로 하는 스크러버 장치. 또, 가스 입구가 탱크의 측면에 위치하고, 가스인입관이 가스를 잠수 헤드 밑의 위치까지 안내할 수 있다. 또, 가스 입구가 잠수 헤드 밑에 위치할 수 있다.

또, 탱크 벽면에 출입문이 배치될 수 있다. 또, 탱크에 인접한 중공 수직 기둥을 형성하는 4개의 수직벽들을 갖는 분무제거기를 더 포함하고, 상기 분무제거기의 4개 수직벽 사이에 흡수용 그물망이 뻗어있을 수 있다. 또, 상기 침수 헤드의 평판을 통과하는 오버플로 파이프가 더 설치될 수 있다. 또, 분무 수단이 탱크 천장 부근에 위치한 분무노즐들을 포함할 수 있다. 또, 잠수 헤드의 슬롯들이 수직면에 대해 20도 내지 40도의 각도로 형성될 수 있다. 또, 침수 헤드의 슬롯들이 수직면에 대해 20도 내지 40도의 각도로 형성될 수 있다. 또, 분무 수단이 탱크 천장 부근에 위치한 분무노즐들을 포함할 수 있다.

또, 잠수 헤드의 슬롯들의 크기가 세정액의 높이가 잠수 헤드 위로 일정 높이를 넘지 않으면 잠수 헤드 밑에 가스에 세정액을 보내지 못하도록 선택되거나, 침수 헤드의 슬롯들의 크기가 세정액의 높이가 침수 헤드 위로 일정 높이를 넘지 않으면 침수 헤드 밑에 가스에 세정액을 보내지 못하도록 선택될 수 있다.

본 발명은 또한, 기체에서 오염물을 제거하기 위한 이상 설명한 장치의 용도도 제공한다.

본 발명은 또한, 기체에서 오염물을 제거하는 방법도 제공한다. 이 방법은 전술한 장치에 원하는 높이로 세정액을 도입하는 단계; 기존의 가스조절기를 이용해 오염된 처리기체를 냉각하는 단계; 냉각된 오염가스를 잠수 헤드 밑의 위치에서 제1항 내지 제16항 중의 어느 하나에 따른 장치에 도입하는 단계; 잠수 헤드와 침수 헤드와 배플을 통해 가스를 상승시키면서 개스에서 세정액으로 오염물을 옮기는 단계; 추가 오염물을 제거하고 가스의 속도를 늦추기 위해 배출 가스를 분무하는 단계; 배출가스를 스크러버 장치에서 배출하는 단계; 세정액의 높이를 원하는대로 유지하도록 탱크 바닥에서 세정액을 배출하는 단계; 및 배출된 세정액을 재사용을 위해 세척하는 단계;를 포함한다.

본 발명은 또한, 이상 설명한 장치를 포함하는, 오염기체 처리를 위한 플랜트 어셈블리는 물론, 질소산화물, 산화질소, 이산화탄소 및 이산화황을 포함하는 오염물 군에서 선택된 오염물을 가스에서 제거하기 위한, 전술한 장치의 용도에 관한 것이기도 하다.

이하, 첨부 도면들을 참조하여 본 발명에 대해 자세히 설명한다.

도 1은 본 발명의 일례에 따른 침수 헤드의 사시도;
도 2는 본 발명에 따른 침수 헤드의 분리사시도;
도 3은 본 발명에 따른 잠수 헤드의 사시도;
도 4는 본 발명에 따른 잠수 헤드의 분리사시도;
도 5는 본 발명에 따른 침수 헤드와 잠수 헤드의 어셈블리의 사시도;
도 6은 본 발명에 따른 침수 헤드와 잠수 헤드의 어셈블리의 분리사시도;
도 7은 본 발명의 스크러버의 사시도;
도 8은 본 발명에 따른 스크러버의 파단사시도;
도 9는 본 발명에 따른 스크러버의 단면도;
도 10은 본 발명에 따른 스크러버를 설치한 가스세정 플랜트의 평면도.

본 발명의 스크러버는 효율적이고 유연하며 확장성있게 설계된다. 세정할 가스의 제공방법과 독특한 스크러버 헤드에 있어서 다른 습식 스크러버와는 다르다. 세정할 가스는 디젤엔진과 화력발전소의 배가스, 화학제품, 펄프, 종이와 같은 제품제조공장의 처리가스, 코팅, 바이오매스 그린하우스 등을 포함한 다양한 배출원에서 나올 수 있다.

본 발명은 탱크에 들어있는 세정액을 이용하는 습식 스크러버에 관한 것이다. 세정액의 조성은 세정할 가스의 화학성분과 이 가승에서 제거할 오염물과 악취를 기초로 선택한다. 탱크의 크기와 형상은 세정할 가스의 양과 스크러버의 설치 공간의 구조를 기초로 최적의 세정을 하도록 선택된다. 탱크 내부의 세정액 안에 하나 이상의 세정 헤드를 배치할 수 있다. 세정할 가스는 최저위치 헤드의 최하단부 밑에 오도록 양을 정한다.

본 발명에서는 설치할 공간에 맞게 헤드 둘레의 탱크의 형상을 원형, 정사각형, 직사각형 등 다양한 형상으로 만들 수 있다. 탱크 바닥면적에 대해 가스처리용량의 비율을 최적화하려면 정사각형이나 직사각형이 바람직하다.

각각의 스크러버 헤드의 수평 면적은 탱크가 몇개이든 탱크의 크기에 좌우된다. 스크러버 헤드의 확장성 때문에본 발명을 다양한 크기로 적용할 수 있다.

스크러버에 공급할 가스는 600℃에 이르는 온도의 연소처리과정에서 생긴다. 세정할 가스는 최고 80℃, 바람직하게는 최고 50℃의 온도로 냉각되는데, 이때 종래의 여러 열교환기를 사용할 수 있다. 이 가스는 건조한 상태로 유입되거나 냉각액체와 섞일 수 있다.

본 발명의 스크러버의 수평 세정 헤드들은 선형으로 확장될 수 있는데, 가장 일반적으로는 직사각형으로 확장된다. 세정할 가스는 스크러버의 윗쪽에서나, 측면 입구에서나, 바닥면에서 탱크에 들어갈 수 있다.

본 발명의 스크러버(2)는 2개의 헤드를 갖는 것이 바람직하다. 도 1~2에 도시된 한쪽 헤드(4)에는 직사각형 평판(6)이 있고, 이 평판에는 가스가 흐르는 좁은 슬롯(8)이 여러개 배치되어 있다. 직사각형 평판의 가장자리를 따라 세정액이 흐르는 큰 구멍들(12)이 일렬로 형성되어 있다. 평판 가장자리를 따라 구멍(12) 안쪽으로 수직 벽(14)이 아랫쪽으로 배치된다. 수직벽의 단부는 인접한 수직벽과 결합하여 윗쪽이 트인 박스를 이루고, 박스의 상단에는 슬롯이 형성된다. 스크러버 내부의 최저위치 헤드는 액체 안에 잠겨있고, 평판은 스크러버 탱크의 벽면까지 이어진다. 스크러버 헤드의 평면 형상은 바뀔 수 있지만, 직사각형이 바람직하다. 다른 스타일의 스크러버 헤드로는 도 3~4와 같은 침수 헤드(16)가 있다. 침수 헤드에는 가스가 흐르는 슬롯(18)이 있지만, 평판의 가장자리를 따라 형성되는 구멍은 없다. 평판 밑으로 이어진 수직벽도 없다. 하나 이상의 침수헤드들을 스크러버 어셈블리의 잠수 헤드 위에 배치할 수도 있다.

도7~8에 도시된 바와 같이, 본 발명의 스크러버 어셈블리의 일례는 탱크(20) 안에 잠수 헤드(4)가 넓게 퍼져있다. 탱크는 세정액을 누수 없이 보관하는 구조를 갖는다. 잠수 헤드 위에 제1 배플(22)이 탱크를 수평으로 가로질러 수평으로 배치된다. 제1 배플 위에는 침수 헤드(16)가 탱크를 수평으로 가로질러 배치된다. 침수 헤드 위에는 제2 배플(24)이 수평으로 배치된다. 제2 배플 위로 탱크 천정 가까이에 분무노즐(26)을 하나 이상 배치한다. 탱크의 하단부는 세정액을 배출하기 위해 테이퍼 형태이고, 그 끝에 출구(28)가 있다. 탱크의 상단부 부근에 액체 입구(30)가 배치된다. 도 7~8의 실시예에서, 탱크의 상단에 가스 입구(32)가 배치되고, 가스 인입관(34)이 가스입구부터 수직으로 뻗어 잠수 헤드의 중간에 있는 가스분배실(36)까지 이어진다. 침수헤드(16)에 오버플로 파이프(38)가 연결되고, 이곳을 통해 침수헤드 위의 세정액이 탱크 아랫쪽으로 배수된다.

탱크 한쪽에는 내부의 헤드에 접근하기 위한 출입문(40)을 설치한다. 탱크의 위에는 스크러버를 나가는 습도가 높은 가스가 들어가는 분무제거기(42)를 배치한다. 배출가스에서 수분을 흡수할 그물망(44)을 분무제거기를 가로질러 설치한다. 분무제거기 상단의 가스출구(48) 부근에 보조 분무노즐(46)을 설치할 수 있다.

도 9에 도시된 바와 같이, 본 발명의 스크러버 헤드를 수평으로 설치하기 때문에 잠수 헤드(4) 위의 세정액(52)의 깊이(50)를 고정할 수 있다. 이렇게 되면, 처리하는 기체량에 상관없이 배압을 일정하게 유지할 수 있다. 또, 헤드를 수평으로 하면 헤드의 슬롯을 항상 100% 이용할 수 있다. 잠수 헤드 때문에, 헤드 위의 세정액의 깊이를 일정하게 유지할 수 있다. 헤드의 슬롯이 좁아 세정중인 가스의 압력이 높아져 잠수 헤드의 중앙부로 세정액이 배수되지 않는 동안, 도면에 54번으로 표시한 것처럼 과잉 세정액이 헤드 가장자리의 구멍을 통과하므로, 세정액 높이를 원하는대로 유지할 수 있다. 침수헤드(16)의 경우 이곳의 슬롯으로 세정액이 통과할 수 없어, 오버플로 파이프(58)의 상단부가 결정한 높이(56)까지 세정액이 모인다. 오버플로 파이프의 상단부 위의 액체는 60으로 표시한 것처럼 탱크의 하부로 배수된다. 이런 식으로, 침수헤드 위의 세정액의 높이가 일정하게 유지된다.

스크러버 측면으로 가스가 들어갈 때, 인입관, 하드웨어, 설치영역이 없으면 헤드 윗쪽의 전체 면적에 아무런 장애물이 없으므로, 스크러버 헤드의 노출된 슬롯 면적을 최대화할 수 있다. 슬롯 면적을 최대화하면, 스크러버의 크기를 최소화할 수 있다. 이렇게 되면 본 발명의 전체 크기가 축소되고, 좁은 면적에 설치할 가능성도 증가한다.

스크러버 헤드의 슬롯의 방향 때문에, 슬롯에 의해 형성된 기포에 장매물이 없는 수직통로가 제공된다. 스크러버 헤드의 슬롯의 폭과 갯수와 방향을 통해 작은 기포를 최대한 많이 일으킬 수 있다. 기체와 액체의 2개매체의 기계화학적 작용으로 난류가 생긴다. 본 발명에서는 스크러버 헤드의 슬롯에서 나오는 기포들로 탱크 전체 면적을 채울 수 있다. 이 경우, 배출기체의 속도가 줄어들고, 세정된 가스가 세정액을 나가 탱크의 프리보드 영역에 들어갈 때 전체적으로 난류가 생성된다. 속도가 낮을수록 가스와 세정액 사이의 접촉시간은 길어진다. 또, 배출기체의 낮은 속도로 세정액 표면의 난류가 적을수록 다른 방식에 의한 높은 난류 스파이크에는 바람직하다.

탱크 바닥에 하나 이상의 배수구(62)가 고정된다. 탱크의 상단, 바닥 또는 측벽에 하나 이상의 입구가 위치한다. 이런 입구를 통해 세정할 기체가 탱크에 들어간다. 입구마다 기체를 헤드까지 인도할 관을 설치한다.

탱크 상단에는 탱크를 나가기 전의 기체를 모아둘 출구를 하나 이상 배치한다. 헤드의 최소 간격은 125mm이다. 평평한 윗면을 최저 세정 높이에 두는 것이 바람직하다. 상부 헤드는 어떤 구성에서도 수직 릴리프를 가질 수 있다. 헤드의 상단에 있는 슬롯들의 폭은 1인치의 육만분의 1 정도가 바람직하다. 이들 슬롯은 어떤 패턴도 가능하지만, 직선형이 바람직하다. 슬롯의 상단부는 상판의 평면에 직각이거나 비스듬하다. 슬롯의 갯수와 이로 인한 슬롯의 면적과 헤드의 크기는 세정할 기체량과 설치 공간의 형태에 의해 정해진다. 많은 기체량을 전달하려면, 헤드의 깊이를 따라 일정 간격으로 입구를 많이 마련한다.

탱크안의 배플은 난류 확산기 역할을 한다. 이런 배플을 이루는 판에 뚫린 여러 구멍을 통해 세정액이 수직으로 움직이고, 세정액의 수평방향 영향은 줄어든다.

탱크 상단부에 분무노즐을 여러개 설치한다. 이런 노즐들은 최고높이의 헤드 위의 난류 영역을 향해 세정액을 아랫쪽으로 분무한다. 날개나 스크린(도시 안됨) 형태의 분무제거기를 탱크 최상층 노즐 위에 배치할 수 있다.

본 발명의 스크러버가 세정할 가스는 대개 고온의 내연기관이나 노에서 배출된다. 따라서, 스크러버에 들어가기 전의 기체를 일반 열교환기를 이용해 표적온도인 50℃까지 냉각한다. 열교환기에 따라 냉각된 가스가 냉각액을 함유하거나 아닐 수 있다.

탱크의 세정액 충전 높이는 잠수 헤드 위로 150mm가 바람직하다. 세정액 높이 감시장치를 통해 원하는 높이를 유지한다. 세정할 가스는 탱크의 윗면이나 바닥면이나 측면에 있는 입구를 통해 스크러버에 들어간다. 입구 상태를 감시할 지점에 온도압력 센서를 설치할 수 있다. 일례로, 잠수헤드의 밑면의 중간위치를 따라서도 가스를 분배하기 위해, 잠수헤드에 배치된 입구까지 이어진 인입관을 통해 가스가 흐르게 한다. 이 가스는 잠수헤드의 측벽을 따라 슬롯으로 들어간다. 가스는 잠수헤드의 슬롯을 통해 방출되면서, 헤드 위에 높은 기포교란부를 일으킨다. 하부 헤드의 슬롯은 반시계 방향의 난류를 일으키도록 수직면에 대해 30도의 각도를 이루는 것이 좋다. 이어서, 가스가 잠수헤드를 나가자마자 배플에 접촉한다. 배플은 확산기로 기능하여 헤드 위에 균일하고 안정된 가스-액체 혼합물을 형성하는 방향으로 가스를 흐르게 하는 형상을 갖는다.

가스-액체 혼합물은 첫번째 헤드 위로 상승하여 침수헤드 밑에 갇힌다. 두번째 헤드의 표면적이 커서 슬롯 면적도 커지고, 이때문에 침수헤드의 슬롯을 통과하는 가스의 속도가 줄어든다. 침수헤드의 슬롯은 윗쪽에 시계방향의 난류구역을 일으키도록 수직면에 대해 30도 정도의 각도로 형성된다. 침수헤드 윗쪽의 난류구역에는 세정액의 난류 백래시를 제한하는 두번째 배플이 배치된다. 세정된 가스는 이제 탱크 안에서 천천히 상승한다. 상승하는 가스는 다수의 분무노즐에서 나오는 세정액의 분무를 윗쪽에서 받게된다.

분무헤드를 지나 상승한 가스는 온도는 50℃의 입구온도로 유지되고 상대습도는 100%이다. 또, 스크러버 헤드의 난류 혼합물에 잔류하는 수분이 상승 가스에 포함된다. 이런 수분은 스크러버 상부의 흡수 그물이 들어있는 분무제거기를 통과할 때 가스에서 제거된다. 가스는 입구속도보다 50% 늦은 속도를 유지하는 크기의 배기 스택에 들어갈 수 있다. 냉각된 배기 가스는 열교환기로 들어가고, 이곳에서 기체발생원에서 나오는 고온 인입 공기와 작용한다. 재가열된 가스는 열교환기를 나가 대기중으로 들어간다.

세정액은 폐시스템 내부를 순환한다. 세정액은 탱크 바닥의 배수구를 나가 순환펌프로 들어간다. 펌프를 나가는 세정액의 온도와 pH는 황, 탄소, 기타 원소의 염과 입자들을 제거하기 위해 필터장치를 통과한다. 여과처리를 거친 세정액은 열교환기로 들어가 냉각된 다음, 열교환기의 출구에서 분리되어, 대부분의 기체는 인입기체 열교환기로 보내지지만, 나머지 기체는 탱크 내부의 분무헤드를 향한다. 세정액은 분당 1회 처리되는 유량을 유지하는 것이 바람직하다. 도 10은 본 발명의 스크러버를 설치한 플랜트 어셈블리를 보여주는 도면이다.

이산화황을 세정하기 위한 세정액은 석회용액으로 이루어지고, 석회용액은 별도의 탱크에 저장된다. 이 저장탱크의 순환펌프에 의해 석회용액에 석회가 일정하게 혼합된다. 별도의 펌프를 통해 세정액을 스크러버에 필요한만큼 공급하여 세정액을 보충하거나 pH를 작동범위로 유지한다. 작동조건에 따라, 건조한 분말 형태의 석회를 수동으로 첨가하거나 호퍼를 통해 추가할 수 있다. 질소산화물을 세정할 세정액으로는 암모니아를 사용할 수 있다. 이산화탄소나 다른 오염물을 세정하는데는 다른 재료를 사용할 수 있다.

Claims (20)

1. 가스에서 오염물을 제거하는 스크러버 장치에 있어서:
   a) 천장, 바닥, 가스 입구, 가스 출구, 상단부의 세정액 입구 및 바닥의 세정액 출구를 갖는 탱크;
   b) 탱크의 4 벽면 사이에서 세정액 출구와 가스 출구 사이로 수평으로 배치된 잠수 헤드;
   c) 탱크의 4 벽면 사이에서 잠수 헤드와 가스 출구 사이로 수평으로 배치된 제1 배플; 및
   d) 탱크의 상단부로부터 세정액을 분무하기 위한 분무수단;을 포함하고,
   잠수 헤드를 이루는 평판에 다수의 좁은 슬롯들이 관통 형성되어 있으며, 탱크의 가장자리로부터 4개의 서로 연결된 수직 벽들이 밑으로 뻗어 윗쪽이 트인 박스 형태를 이루고, 탱크의 벽면과 잠수 헤드의 수직벽 사이에서 평판의 각각의 가장자리를 따라 세정액이 흐르는 구멍들이 일렬로 형성된 것을 특징으로 하는 스크러버 장치.
2. 제1항에 있어서,
   a) 탱크의 4개 벽면 사이에서 제1 배플과 가스 출구 사이로 수평으로 뻗고, 다수의 좁은 슬롯들이 관통 형성되어 있는 제1 침수 헤드; 및
   b) 탱크의 4개 벽면 사이에서 제1 침수 헤드와 가스 출구 사이로 수평으로 뻗는 제2 배플;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 스크러버 장치.
3. 제2항에 있어서,
   a) 탱크의 4개 벽면 사이에서 제2 배플과 가스 출구 사이로 수평으로 뻗는 제2 침수 헤드; 및
   b) 탱크의 4개 벽면 사이에서 제2 침수 헤드와 가스 출구 사이로 수평으로 뻗는 제3 배플;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 스크러버 장치.
4. 제1항 내지 제3항 중의 어느 하나에 있어서, 탱크의 상단부에 가스입구가 위치하고, 가스인입관이 가스를 잠수 헤드 밑의 위치까지 안내하는 것을 특징으로 하는 스크러버 장치.
5. 제1항 내지 제3항 중의 어느 하나에 있어서, 가스 입구가 탱크의 측면에 위치하고, 가스인입관이 가스를 잠수 헤드 밑의 위치까지 안내하는 것을 특징으로 하는 스크러버 장치.
6. 제1항 내지 제3항 중의 어느 하나에 있어서, 가스 입구가 잠수 헤드 밑에 위치하는 것을 특징으로 하는 스크러버 장치.
7. 제1항 내지 제3항 중의 어느 하나에 있어서, 탱크 벽면에 출입문이 배치되는 것을 특징으로 하는 스크러버 장치.
8. 제1항 내지 제3항 중의 어느 하나에 있어서, 탱크에 인접한 중공 수직 기둥을 형성하는 4개의 수직벽들을 갖는 분무제거기를 더 포함하고, 상기 분무제거기의 4개 수직벽 사이에 흡수용 그물망이 뻗어있는 것을 특징으로 하는 스크러버 장치.
9. 삭제
10. 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 침수 헤드의 평판을 통과하는 오버플로 파이프가 더 설치된 것을 특징으로 하는 스크러버 장치.
11. 제1항 내지 제3항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 분무 수단이 탱크 천장 부근에 위치한 분무노즐들을 포함하는 것을 특징으로 하는 스크러버 장치.
12. 제1항 내지 제3항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 잠수 헤드의 슬롯들이 수직면에 대해 20도 내지 40도의 각도로 형성된 것을 특징으로 하는 스크러버 장치.
13. 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 침수 헤드의 슬롯들이 수직면에 대해 20도 내지 40도의 각도로 형성된 것을 특징으로 하는 스크러버 장치.
14. 삭제
15. 제1항 내지 제3항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 잠수 헤드의 슬롯들의 크기가 세정액의 높이가 잠수 헤드 위로 일정 높이를 넘지 않으면 잠수 헤드 밑에 가스에 세정액을 보내지 못하도록 선택되는 것을 특징으로 하는 스크러버 장치.
16. 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 침수 헤드의 슬롯들의 크기가 세정액의 높이가 침수 헤드 위로 일정 높이를 넘지 않으면 침수 헤드 밑에 가스에 세정액을 보내지 못하도록 선택되는 것을 특징으로 하는 스크러버 장치.
17. 삭제
18. 기체에서 오염물을 제거하는 방법에 있어서:
    a) 제1항에 따른 장치에 원하는 높이로 세정액을 도입하는 단계;
    b) 기존의 가스조절기를 이용해 오염된 처리기체를 냉각하는 단계;
    c) 냉각된 오염가스를 잠수 헤드 밑의 위치에서 제1항에 따른 장치에 도입하는 단계;
    d) 잠수 헤드와 침수 헤드와 배플을 통해 가스를 상승시키면서 가스에서 세정액으로 오염물을 옮기는 단계;
    e) 추가 오염물을 제거하고 가스의 속도를 늦추기 위해 배출 가스를 분무하는 단계;
    f) 배출가스를 스크러버 장치에서 배출하는 단계;
    g) 세정액의 높이를 원하는대로 유지하도록 탱크 바닥에서 세정액을 배출하는 단계; 및
    h) 배출된 세정액을 재사용을 위해 세척하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
19. 제1항에 따른 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는, 오염기체 처리를 위한 플랜트 어셈블리.
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