KR101729354B1 - 터치 감지 시스템 및 터치 감지 시스템의 동작을 제어하는 방법 - Google Patents

터치 감지 시스템 및 터치 감지 시스템의 동작을 제어하는 방법 Download PDF

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플라트프로그 라보라토리즈 에이비
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Abstract

터치 감지 시스템은: 터치 표면(1a) 및 대향 표면(1b)을 갖는 광 전달 패널(1); 상기 광 전달 패널(1)에 광을 입사시켜 상기 광 전달 패널(1)에서 광이 방출 패턴으로 전파되도록 구성되고 이미터들(2)을 포함한 조명 장치(3); 및 상기 광 전달 패널(1)에서 전파되는 광을 수신하도록 구성되고 검출기들(4)을 포함한 광 검출 장치(5)를 포함한다. 제어 유닛(6)은 터치 감지 시스템의 동작을 제어하도록 배치된다. 제어 유닛(6)은 터치 표면 상의 터치 검출을 위해 광 검출 장치(5)에 수신된 광을 모니터링하는 제어 방법을 실행하고, 상기 터치는 패널(1)에서 전파되는 광을 감쇠시킨다. 제어 방법은 또한 터치 표면 상의 터치 발생에 따라서 방출 패턴에 대한 모드를 선택하고 선택된 모드에 따라서 방출 패턴을 제어한다.

Description

터치 감지 시스템 및 터치 감지 시스템의 동작을 제어하는 방법{TOUCH-SENSITIVE SYSTEM AND METHOD FOR CONTROLLING THE OPERATION THEREOF}
본 발명은 터치 감지 시스템, 및 상기 시스템의 동작을 제어하는 방법에 관한 것이다.
관련 출원에 대한 상호 참조
본 출원은 2009년 9월 2일에 출원된 스웨덴 특허 출원 제0901145-3호, 및 2009년 9월 2일에 출원된 미국 가출원 제61/272,215호를 기초로 하는 우선권 주장 출원이고, 이들 양 출원들은 참조로 본원에 포함된다.
터치 감지 패널(Touch-sensitive panels)은 컴퓨터, 전자 계측기 및 테스트 장비, 게임 장치 등에 입력부를 제공하기 위해 점차적으로 사용되는 추세이다. 패널에는 예를 들면, 포인터, 스타일러스 또는 하나 이상의 손가락을 사용하여 사용자와 상호 작용하는 그래픽 유저 인터페이스(graphical user interface, GUI)가 제공될 수 있다.
패널에 터치 감도를 제공할 수 있도록, 카메라는 패널 상의 터치의 지점(들)을에서 분산된 광을 포획하도록 사용되거나, 저항 배선 그리드(resistive wire grids), 전기 용량식 센서, 스트레인 게이지(strain gauges) 등을 패널에 포함시킴으로써 사용될 수 있다. 패널은 수많은 동시의 터치에 상호 작용 성능을 제공할 수 있다.
WO2006/095320은 패널 표면 상에 광을 발광 및 검출하는 시스템을 제공한다. 사용자가 표면을 터치하는 경우, 내부 방향 커플링 지점과 외부 방향 커플링 지점(in- and outgoing coupling points) 사이의 광 전달은 차단되고, 시스템은 이러한 지점들 사이의 광의 존재 또는 부재를 검출한다. 에너지 절약 기능은 시스템이 사용되지 않을 시에 진행되는 것에 대해 개시된다. 디스플레이 스크린이 예를 들면, 손가락에 의해 오염되는 경우, 광 전달 경로는 의도치 않게 차단될 수 있고, 시스템으로부터 검색된 정보는 오염된 표면이 터치에 대해 둔감해질 시에 오류가 발생되거나 불안전할 수 있다. 상기 표면의 패널 주위에 홈을 필요로 할 시에, 전체 표면이 광 전달에 의해 덮일 수 있는 보장도 없다. 오염물이 이미터들(emitters) 또는 검출기들 중 하나 앞에서 모이는 경우, 광 경로가 항상 차단될 수 있다. 패널 표면 주위에 홈을 가진 시스템은 홈 위치에서 먼지, 그리스(grease)가 매우 잘 모이는 경향이 있다. 그러므로, 그리스 위치에 이미터들 및 검출기들을 위치시키는 것은 바람직하지 않고, 이로 인해 전체 표면을 비추기도 어려워질 수 있다.
터치 조명 상의 조명과 함께 또 다른 터치 스크린은 US2008/0062150에서 개시된다. 터치 스크린이 기결정된 시간 동안 터치되지 않는 경우, 터치 스크린은 스캔 속도를, 즉 터치 표면에 대해 광을 발광시키기 위해 광원을 연속적으로 작동시키는 빈도수를 감소시키는 에너지 절약 기능을 실행한다.
WO2009/077962는 신호 흐름 포트를 포함한 단층 촬영기(tomograph)를 사용한 패널의 형태를 한 터치 스크린을 개시한다. 단층 촬영기는 패널에 들어온 신호를 처리하고, 터치에 의해 발생된 신호의 변화를 검출한다. 터치 감도 기술은 내부 전반사 장애(frustrated total internal refiection, FTIR)에 기반할 수 있고, 상기 FTIR은 광이 패널의 경계부로부터 패널 내로 입사되고 패널을 통하여 전파되는 것을 의미한다. 사용되는 알고리즘은 FTIR 시스템의 변화를 검출하도록 전문적으로 구성되지 않는다. 예를 들면, 개시된 단층 촬영기는 전달된 광의 검출을 사용하지만, 검출된 신호로부터 백그라운드 신호를 차감함으로써 얻어진 신호를 기반하여 터치의 위치를 판별한다. 그럼에도 불구하고, FTIR 시스템은, 오염물이 단지 패널을 통하여 경로를 따라 광의 일부를 흡수하는 경우, 패널 상의 지문 및 그리스 등과 같은 오염물에 대한 감도가 낮아질 가능성이 있다. 이로써, FTIR 시스템은 사용자와 함께 신뢰성이 높고 강건한 상호 작용을 할 수 있다. 발명자는 이제 전문적으로 FTIR 기술에 적합한 에너지 절약 기능에 대한 필요성을 실현시키고자 한다.
이로써, 본 발명의 목적은 FTIR 기술을 기반으로 터치 감지 시스템의 에너지 소비를 감소시키고, 특히 터치 감지 시스템이 사용될 시에 에너지 소비를 감소시키는 것에 있다.
이하의 설명으로부터 나타나는 상기 목적 및 다른 목적은 독립 청구항에 따른 터치 감지 시스템, 방법 및 컴퓨터 판독 가능한 저장매체에 의해 적어도 부분적으로 달성되고, 본 발명의 실시예는 종속 청구항에 의해 정의된다.
본 발명의 일 양태는 터치 감지 시스템이며, 상기 터치 감지 시스템은: 터치 표면 및 대향 표면을 갖는 광 전달 패널; 상기 광 전달 패널에 광을 입사시켜 상기 광 전달 패널에서 광이 방출 패턴으로 전파되도록 구성되고 이미터들을 포함한 조명장치; 상기 광 전달 패널에서 전파되는 광을 수신하도록 구성되고 검출기들을 포함한 광 검출 장치를 포함하고, 상기 터치 감지 시스템은 상기 조명 장치를 제어하는 제어 유닛을 더 포함하고, 상기 제어 유닛은 모드 선택기(mode selector)를 더 포함하고, 상기 모드 선택기는 상기 광 전달 패널에서 전파되는 광을 감쇠시키는 하나 이상의 터치를 상기 터치 표면 상에서 검출하기 위해, 상기 광 검출 장치에 수신되는 광을 모니터링하고; 상기 터치 표면 상의 터치 발생에 따라 방출 패턴용 모드를 선택하도록 구성되고; 상기 제어 유닛은 선택된 모드에 따라서 방출 패턴을 제어하도록 구성되고, 상기 제어 유닛은 상기 조명 장치에서 적어도 하나의 능동 이미터의 개수를 변화시키고, 이미터들에 의해 발광된 광의 세기를 변화시킴으로써, 방출 패턴을 제어하도록 구성된다.
이 양태에 따라서, 모드 선택기는 패널의 측면들을 따라 인-커플링 지점 및 아웃-커플링 지점을 이용하여 터치 감지 시스템의 에너지를 절약하도록 구성될 수 있다. 이 양태의 하나의 이점은 터치 감지 시스템의 에너지 소비를 감소시키거나, 그리고/또는 설정된 에너지 소비에 대해 터치 감지 시스템의 빈도수(프레임율)의 업데이트를 높게 할 수 있도록 방출 패턴을 변화시키는 능력을 가진다는 점이다. 방출 패턴의 변화는 또한 터치 표면의 서로 다른 부분들 상에서 서로 다른 해상도를 이루기 위해 사용될 수 있고, 예를 들면, 해상도는 많은 터치를 갖는 터치 표면의 일부 상에서 선택적으로 증가될 수 있다.
본 발명의 실시예들은 터치 감지 시스템의 사용의 작동이 없는 동안(터치 표면 상의 터치가 없음), 그리고 작동하는 동안 에너지 소비가 감소되도록 설계된다.
본 발명의 실시예들은 터치 표면 상에서 실제적인 작동에 대한 에너지 소비의 동적 사용을 제공하도록 설계된다.
본 발명의 실시예들은 터치 표면 상의 새로운 터치에 대한 고속 응답을 제공하도록 설계된다.
본 발명의 또 다른 양태는 터치 표면 및 대향 표면을 갖는 광 전달 패널을 포함하는 터치 감지 시스템을 동작시키는 방법이며, 상기 방법은:
- 이미터들을 포함한 조명 장치를 이용하여, 상기 광 전달 패널에 광을 입사시켜 상기 광 전달 패널에서 광을 방출 패턴으로 전파하는 단계;
- 검출기들을 포함한 광 검출 장치를 이용하여, 상기 광 전달 패널에서 전파되는 광을 수신하는 단계;
- 상기 광 전달 패널에서 전파되는 광을 감쇠시키는 하나 이상의 터치를 상기 터치 표면 상에서 검출하기 위해, 상기 광 검출 장치에 의해 수신되는 광을 모니터링하는 단계;
- 상기 터치 표면 상의 터치 발생에 따라 방출 패턴용 모드를 선택하는 단계; 및
- 선택된 모드에 따라서 방출 패턴을 제어하는 단계로서, 상기 방출 패턴이 상기 조명 장치에서 적어도 하나의 능동 이미터의 개수를 변화시키고, 이미터들에 의해 발광된 광의 세기를 변화시킴으로써 제어되는, 제어 단계를 포함한다.
본 발명의 또 다른 양태는 처리 명령을 저장하는 컴퓨터 판독 가능한 저장매체이고, 상기 처리 명령은 데이터 처리기에 의해 실행될 시에 상술된 방법을 실행한다.
본 발명의 추가적인 실시예들은 종속 청구항들, 발명의 상세한 설명 및 도면에서 제시된다.
이하에서, 본 발명의 실시예는 첨부된 도면을 참조하여 기술될 것이고, 도면에서:
도 1은 일 실시예에 따른 터치 감지 시스템의 상부 평면도이다.
도 2는 물체가 접촉될 시에 전파되는 광이 어떻게 감쇠되는지를 도시하는 광 전달 패널의 측면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따라서, 터치 감지 시스템에서 발광되는 대향 측들의 6 개의 선택된 이미터들을 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따라서, 터치 감지 시스템에서 발광되는 인접 측들의 6 개의 선택된 이미터들을 도시한 도면이다.
도 5-8은 본 발명의 실시예의 순서도이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따라서, 터치 감지 시스템에서 발광되는 모든 측들의 12 개의 선택된 이미터들을 도시한 도면이다.
도 10은 본 발명의 실시예의 순서도이다.
본 설명을 통하여, 동일한 참조 번호는 해당 부재/단계를 식별하는데 사용된다.
터치 감지 시스템의 예는 도 1에서 도시되고, 상기 터치 감지 시스템은 패널(1), 이미터들(2) 및 조명 제어 유닛(3A)을 포함한 조명 장치(3), 및 검출기들(4) 및 검출 제어 유닛(5A)을 포함한 광 검출 장치(5)를 포함한다. 터치 감지 시스템은 일 실시예에 따른 멀티-터치 시스템이고, 상기 멀티-터치 시스템은 다수의 터치의 검출을 가능케 한다. 이미터들(2)은 인-커플링 지점들(in-coupling points)에서 패널로 광(L)을 입사시키고, 인-커플링 지점은 패널(1) 상의 지점을 정의하고, 이미터(2)로부터 나온 광(L)은 패널(1)로 들어간다. 검출기들(4)은 아웃-커플링 지점들에서 광의 에너지를 검출하고, 아웃-커플링 지점은 패널 상의 지점을 정의하고, 패널(1)에서 전파된 광은 검출기(4)에 의한 다음 검출을 위해 패널(1)에서 나가게된다. 검출기들(4) 및 이미터들(2) 각각의 인-커플링 지점 및 아웃-커플링 지점은 단지 패널의 주변부를 따라 배치될 뿐이다; 검출기들(4) 및 이미터들(2)은 패널(1)로부터 이격되어 배치될 수 있다. 광은 예를 들면, 적합한 광 커플링 소자의 사용에 의해 패널(1)의 에지들(edges)을 통하여, 또는 패널의 상부 또는 하부 표면을 통하여 패널(1)로 들어가서 나가게 될 수 있다. 도면에서 이미터들(2) 및 검출기들(4)(또한 인- 및 아웃-커플링 지점들)의 수나 위치는 단지 예시적인 목적을 위한 것이며, 이해하는 바와 같이, 이미터들(2) 및 검출기들(4)(또한 인- 및 아웃-커플링 지점들)의 수 및 위치는 도면에 도시된 것과는 다를 수 있다. 예를 들면, 이미터들(2) 및 검출기들(4)은 도 1에 도시된 바와 같이 그룹화될 필요가 없지만, 대신에 혼합된 순서로 배치될 수 있다. 이미터들(2)은 다수의 분산 빔(diverging beams)을 패널(1)로 입사시키도록 어레이들(arrays)에 배치될 수 있고, 검출기들(4)은 전달된 광 에너지를 검출하도록 어레이들에 배치될 수 있다. 스캔라인(scanline)(도 1에서 점선으로 도시됨)은 하나의 인-커플링 지점과 하나의 아웃-커플링 지점 간의 광 경로이고, 스캔라인의 말단들에서 이미터(2) 및 검출기(4)는 이미터-검출기 쌍을 의미한다. 특히, 단일 이미터(2)는, 이미터부터 나온 광이 분산 빔, 즉 패널(1)의 평면에서 확산된 빔으로 입사되는 경우, 하나 이상의 스캔라인을 정의할 수 있다. 이와 마찬가지로, 단일 검출기(4)는, 검출기가 넓은 영역의 각도로 광을 검출하도록 구성되는 경우, 하나 이상의 스캔라인을 정의할 수 있다. 상기와 같은 실시예는 도 1에서 제시된다. 대안적인 실시예들에서, 도시되지는 않았지만, 적어도 일부의 광은 하나 이상의 비-확산 빔으로 입사될 수 있거나, 그리고/또는 하나 이상의 검출기들은 좁은 시야(narrow field of view)를 가지도록 구성될 수 있다.
터치 감지 시스템의 서로 다른 실시예들에서, 검출기들은 0, 1 또는 2 차원 광검출기들, 예를 들면, 포토다이오드, CCD 또는 CMOS 어레이 등일 수 있고, 이미터들은 LED, 레이저 다이오드, 램프, 레이저 등일 수 있다.
패널(1)은 서로 다른 종류의 기하학적인 형상을 가질 수 있고, 편향될 수 있고 즉, 평평하지 않을 수 있다. 터치 표면은 도면에서 도시된 사각형에 한정되지는 않는다.
도면에서는 도시되지 않았지만, 시스템은 패널 표면의 적어도 일부 내에서 그래픽 유저 인터페이스(GUI)를 제공하는 인터페이스 장치를 포함할 수 있다. 인터페이스 장치는 패널(1) 위, 아래 또는 패널 내에서 배치된 고정 이미지를 가진 기판일 수 있다. 대안으로, 인터페이스 장치는 컴퓨터 스크린 상에서 GUI와 유사한 동적 GUI를 형성하기 위해, 패널(1) 아래에 위치된 스크린(LCD, OLED, 플라즈마 디스플레이 등), 또는 패널(1) 상의 이미지를 투영하도록 배치된 프로젝터일 수 있다.
이미터(2)로부터 나온 광(L)은 광 전달 패널(1)로 입사되고, 패널(1) 내부로 전파되면서, 도 2에 도시된 바와 같이, 상부 표면 및 하부 표면(1a, 1b)에서 반사된다. 광은 터치 표면을 형성하는 상부 표면(1a)에서 적어도 내부 전반사(TIR)에 의해 반사될 수 있다. 하부 표면(1b)은 TIR를 이용하거나, 하부 표면(1b)에 적용된 반사 코팅(미도시)에 의해 광을 반사시킬 수 있다. 패널(1)의 일부 다른 말단에서, 전달된 광 에너지는 검출기(4)에 의해 검출된다. 패널(1)의 터치 표면을 터치하는 물체의 경우, 물체는 패널(1) 내부의 광 빔과 상호 작용하고, TIR을 방해한다. 에너지가 전파 광에 의해 형성된 소멸파(evanescent wave)으로부터 물체로 소멸되는 내부 전반사 장애(FTIR)는, 물체가 패널 표면 물질을 둘러싸는 물질보다 높은 굴절률을 가지고 표면에서 떨어지는 여러 파장보다 낮은 범위 내에 있는 경우에 본 발명에서 사용될 수 있다. TIR의 방해 동안, 광 빔의 일부는 물체에 의해 흡수될 것이고, 광 빔의 또 다른 일부는 물체에 의해 반사되거나, 그리고/또는 분산될 것이다. 남아있는 광 빔은 이전과 같이 내부 전반사를 연속적으로 할 수 있지만, 도 2에 도시된 바와 같이, 흡수, 반사 및 분산으로 인해 다소 보다 얇아진 라인으로 감쇠될 것이다.
시스템은 서로 다르게 검출된 스캔라인에 대해 판별된 에너지 값의 앙상블(ensemble)을 분석함으로써 터치 표면 상에서 터치를 검출한다. 이하에서 더 설명되는 바와 같이, 하나 이상의 터치의 발생은 에너지 값의 앙상불의 변화를 식별함으로써 판별될 수 있다. 터치 표면의 복수의 터치의 위치를 판별하기 위해서, 스캔라인에 대한 에너지 값을 전달 값으로 전환하는 것이 바람직할 수 있다.
각각의 검출기(4)는 특정 스캔라인(Si)에 대한 전달된 광의 에너지(여기에서는 dti로 명시함)를 측정하고, 에너지 값(dti)는 스캔라인에 대한 백그라운드 값(background value)(dbi)과 비교된다. 스캔라인(Si)에 대한 전달은 Ti = dti/dbi로 계산될 수 있다. 변형에 있어, 전달은 차이 값, Ti = dti- dbi로 계산될 수 있다. 상기와 같은 차이 값은 측정된 에너지 값으로부터 대략적인 터치 데이터를 빠르게 도출하는데 사용될 수 있다(예를 들면, 이하에서 더 기술된 바와 같이, 터치 식별 단계(502) 또는 터치 분석 단계(506)).
백그라운드 값은 서로 다른 방식으로 얻어질 수 있다; 가장 간단한 예는 가동할 시에(또는 생산하는 동안 공장에서) 시스템을 조정하는 것에 있고, 즉, 어떠한 물체도 터치 표면을 터치하지 않는 경우에 스캔라인(Si)에 대해서 측정된 에너지와 같은 백그라운드 값(dbi)을 설정함으로써, 조정하는 것에 있다.
도 2에 도시된 바와 같이, 전달된 광은 복수의 터치에 대한 정보를 운반한다. FTIR 시스템에서, 각각의 터치 지점(pn)(터치 물체에 대응됨)은 전달치(τn)를 가지고, 전달치(τn)는 일반적으로 0 내지 1의 범위에 속하지만, 통상적으로는, 0.7 내지 0.99의 범위에 속한다. 스캔라인(Si)을 따른 전체 전달(Ti)은 그 스캔라인에 대한 터치 지점(pn)의 개별적인 전달치(τn)의 곱으로 적어도 대략적으로 주어지며 다음 식 1과 같다:
Figure 112012026011108-pct00001
예를 들면, 2 개의 터치 지점(p1 및 p2)은 전달치(0.9 및 0.8)를 스캔라인(Si)에 대해 각각 가지고, 총 전달치 Ti=0.72를 만들어 낸다. 제 2 터치 지점(p2)은 제 2 터치 지점에 이르는 광(L)의 일부를 감쇠함에 따라서 증가된다. 백그라운드 섹션(Background section)에 기술된 바와 같이 상술된 표면 셋업과 FTIR 셋업 사이의 차는 상술된 표면 셋업에서 모든 터치 지점의 전달치가 0이 되는데, 이는 터치 지점이 모든 광을 차단하고 있기 때문이다. 이로써, 이러한 셋업에서 곱셈 기능은 존재하지 않는다. FTIR 셋업을 이용하여, 패널(1) 상의 터치를 "통하여 인식하는 것(see through)"이 가능하다.
패널(1)은 전달된 에너지의 합리적인 계측을 가능하도록 관련 파장 범위에 충분한 광량을 전달하는 물질로 구성될 수 있다. 상기와 같은 물질은 글라스(glass), 폴리(poly)(메틸 메세크럴레이트, methyl methacrylate)(PMMA) 및 폴리카보네이트(polycarbonates)(PC)를 포함한다.
도 1을 참조하면, 터치 감지 시스템은 패널(1)에 전파되는 광(L)의 발광을 제어하도록 구성된 제어 유닛(6)을 더 포함한다. 일 실시예에 따라서, 제어 유닛(6)은 이미터들을 선택적으로 작동시킴으로써, 능동 이미터들(2)의 수를 변화시킴으로써, 방출 패턴을 제어하도록 구성된다. 능동 이미터들(2)의 수를 변화시킴으로써, 터치 표면에 관한 작동에 따라서 이미터들(2)의 수를 맞추는 것이 가능하다. 터치가 존재하지 않는 경우, 여러 개의 이미터들은 시스템의 에너지 소비를 감소시키기 위해 off로 전환될 수 있다. 제어 유닛(6)은 또한 개별적인 이미터들(2)로부터 나온 발광의 에너지/세기를 변화시킴으로써 광의 방출 패턴을 제어하도록 구성될 수 있다. 완전한 세기가 필요하지 않을 시에, 예를 들면, 터치가 터치 표면 상에 존재하지 않을 시에, 광 세기를 줄이는 것은 시스템의 에너지 소비를 감소시키는 또 다른 방식이다. 시스템이 새로운 터치를 검출하는 신호대잡음비를 충분히 양호하게 달성시키는 것을 확보하여야 한다. 감소된 광 세기와 조합하여, 능동 이미터들(2)의 감소 수는 에너지 소비를 감소시키기 위해 이점이 되는 본 발명에 따른 또 다른 실시예이다.
도 1의 예에서, 제어 유닛(6)은 이미터들(2)의 전원 공급을 선택적으로 제어하도록 동작 가능한 조명 제어 유닛(3A)을 통하여 방출 패턴을 제어하도록 동작 가능하다. 도 1에서, 제어 유닛(6)은 또한 검출기들(4)로부터 나온 데이터를 판독하도록 동작 가능한 검출 제어 유닛(5A)을 통하여 검출기들(4)로부터 나온 데이터를 수집하도록 동작 가능하다. 대안적인 실시예에서, 제어 유닛(6)은 이미터들(2) 및/또는 검출기들(4)에 직접 연결될 수 있다.
일 실시예에 따라서, 제어 유닛(6)은 프레임율(frame rate)을 제어하도록 구성된다. 프레임율은 빈도수로 정의되고, 상기 빈도수에 의하여 관련된 모든 검출기들(4) 및 이미터들(2)로부터 나온 데이터는 수집되고 터치 좌표는 계산된다. 이로써, 각각의 프레임은 모든 이미터들, 또는 그의 서브세트(subset)의 작동으로 시작되고, 관련된 스캔라인 각각에 대해 기록된 에너지의 평가에 의해 종료된다. 이로써, 각각의 프레임은 터치 데이터를 발생시키고, 예를 들면, 터치 표면 상의 각 터치의 지점을 나타내는 터치 좌표를 발생시킨다. 터치가 터치 표면 상에 존재하지 않는 경우, 터치 데이터는 비워진 데이터 세트로 나타난다. 프레임율을 변화시킴으로써, 데이터를 처리하는 제어 유닛(6)의 처리기(8)의 에너지 소비는 감소될 수 있고, 이로써 에너지 소비도 감소될 수 있다.
일 실시예에서, 서로 다른 이미터들(2)은 프레임 내에서 순서대로 작동되고, 그 결과, 각각의 개별적인 이미터는 개별적으로 작동되고, 전달되는 광 에너지는 작동 이미터로부터 광을 수신하는 검출기 각각에서 측정될 수 있다. 이로 인해, 에너지 값은 프레임 동안 각각의 스캔라인에 대해 측정된다.
대안적인 실시예에서, 이미터들(2)의 그룹은 동시에 작동되고, 각각의 이미터는 발광 방식으로 코드(code)를 전달하도록 제어되고, 그 결과, 코드는 각각의 이미터를 식별한다. 전달된 코드를 기반하여, 광 검출 장치(5)에서 각각의 검출기(4)에 의해 측정된 에너지는 각각의 스캔라인에 대한 에너지 값으로 분리될 수 있다. 상기와 같은 이미터 작동 설계는 "멀티플렉싱(multiplexing)"을 의미하고, 본 출원인에게 양도되고 참조로서 본원에 포함되는 PCT 공개 WO2010/064983에 더 기술된다.
시스템은, 패널(1)에 전파되는 광을 감쇠시키는 터치 표면 상의 터치를 검출하기 위해, 광 검출 장치(5)에 수신된 광을 모니터링하도록 구성된 모드 선택기(7)를 더 포함한다. 모드 선택기(7)는 터치 표면 상의 터치의 발생에 따라서 방출 패턴용 모드를 선택하고, 제어 유닛(6)은 선택된 모드에 따라서 방출 패턴을 제어하도록 구성된다. 그 후, 선택된 모드는 작동되어야 하는 이미터들이 무엇인지, 작동되어야 한 이미터들이 얼마나 되는지를 정의하고, 광의 세기 및/또는 프레임율도 정의한다.
일 실시예에 따라서, 제어 유닛(6)은 각각의 프레임의 시작에서 이용 가능한 서브세트의 이미터들(2)만을 작동시킨다. 다음 개시에서, 이러한 서브세트는 "제 1 서브세트"를 의미한다. 그 후, 선택된 모드에 따라서, 추가적인 이미터들은 작동될 수 있다. 제 1 서브세트의 능동 이미터들의 예는 도 3 및 4의 평면도에서 도시되고, 서로 대향하고 인접한 측에 위치한 6 개의 선택된 이미터들 각각은 광의 분산 빔(파선으로 도시)을 패널(1) 내로 입사시키도록 작동된다. 특히, 작동되는 이미터들만 도 3 및 4에서 도시되었지만, 작동되지 않은 이미터들은 생략되었다. 예는 단지 예시적이며, 능동 이미터들의 제한된 세트를 가진 다른 제 1 서브세트가 패널(1)의 표면을 덮는 것(즉, 비추는 것)도 물론 가능하다. 유리하게, 제 1 서브세트는 적어도 하나의 스캔라인을 가진 완성형 터치 표면을 덮도록 선택된다. 그 후, 모드 선택기(7)는 제 1 서브세트의 이미터들과 관련된 스캔라인의 세트 상에서 검출된 에너지를 모니터링한다. 모드 선택기(7)는 전달 값(Ti)에서 또는 직접적인 미가공 데이터 값(raw data value)(dti)에서 변화를 찾을 수 있다.
다음으로, 방출 패턴을 제어하는 방법의 서로 다른 실시예는 도 5-8의 순서도에 관련되어 기술되고, 도 5-8에서 서로 다른 단계는 제어 유닛(6)(도 1)의 제어로 실행된다. 각각의 순서도는 프레임의 시퀀스에서 단일 프레임 동안 실행되는 단계를 나타낸다. 이로써, 도 5-8에 도시된 각각의 단계는 점선 화살표에 나타난 바와 같이, 터치 감지 시스템의 동작 동안 연속적으로 반복된다.
도 5는 본 발명의 일 실시예의 순서도이며, 도 5에서, 모드 선택기(7)(도 1)는 아이들 모드(idle mode)와 평상 모드(normal mode) 사이에서 시스템을 전환하도록 동작 가능하다. 여기에서, 본 발명의 다른 실시예뿐만 아니라, 제 1 서브세트의 이미터들은 우선 패널의 내부를 비추기 위해 작동된다(단계(501)). 상술된 바와 같이, 제 1 서브세트는 서로 다르고 검출되는 스캔라인(Si)에 대한 에너지 값(dti)의 제 1 앙상블을 발생시킨다. 그 다음의 터치 식별에서(단계(502)), 에너지 값(dti) 또는 전달 값(Ti)의 제 1 앙상블이 계산되면 터치되는 물체의 존재를 식별하도록 분석된다. 터치되는 물체가 나타나고 시스템이 아이들 모드에 있게 되는 경우, 시스템은 지연 기간 후(이하 참조)에 선택적으로 평상 모드로 들어간다; 이미 평상 모드인 경우, 시스템은 평상 모드에 있게 된다. 터치되는 물체가 나타나지 않고 시스템이 평상 모드에 있게 되는 경우, 시스템은 아이들 모드로 들어가게 된다; 이미 아이들 모드인 경우, 시스템은 아이들 모드에 있게 된다. 아이들 모드에서, 이미터들은 더 이상 작동되지 않고, 시스템은 다음 프레임을 시작하기 전에, 설정된 거주 기간(dwelling period)을 대기한다(단계(503)). 거주 기간의 길이는 시스템의 원하는 프레임율에 의해 설정되고, 그 후에, 시스템이 아이들 모드에 있게 되면서, 터치의 발생을 검출하는 소기의 응답 시간을 판별한다. 시스템이 아이들 모드에 있게 되면서, 거주 기간이 연속적으로 증가되거나 기결정된 단계에서 시간이 경과함에 따라 증가되는 것을 생각해 볼 수 있다. 평상 모드에서, 시스템은 모든 이미터들을 작동시키도록 제어된다(단계(504)). 이는, 제 1 서브세트에 포함되지 않은 이러한 이미터들(즉, 이미터들의 "휴지(rest)")을 작동시키고, 검출기들로부터 최종적인 스캔라인에 대한 에너지 값의 제 2 앙상블을 수집하고, 그리고 모든 스캔라인에 대한 에너지 값의 완전한 앙상블을 형성하도록 제 1 및 제 2 앙상블을 조합시킴으로써 행해질 수 있다. 대안으로, 모든 이미터들은 재작동되고, 에너지 값의 완성된 앙상블은 검출기들로부터 수집된다. 다음의 작동 단계(504)에서, 터치되는 물체의 위치는 계산될 시에, 에너지 값 또는 전달 값의 완성된 앙상블을 기반하여 판별된다(단계(505)).
도 5의 변형 실시예에서, 시스템은, 터치 판별 단계(505)가 터치 좌표를 만드는 한, 프레임 바이 프레임(frame by frame)을, 평상 모드 내부에서 연속적으로 "루프화(loop)"되도록 구성된다. 도 6은 상기와 같은 실시예에서 평상 모드에 대한 순서도이다. 도시된 바와 같이, 시스템은 제 1 서브세트만을 작동시키는 대신에, 각각의 프레임의 시작에서 모든 이미터들을 작동시킨다(단계(501')). 이로써, 단계(501')에서, 에너지 값의 완성된 앙상블은 검출기들로부터 수집된다. 그 후, 단계(505)에서, 터치되는 물체의 위치는 계산될 시에, 에너지 값 또는 전달 값의 완성된 앙상블을 기반하여 판별된다. 시스템이 단계(505)에서 위치를 판별하지 못할 때마다, 이는 어떠한 물체도 터치 표면을 터치하지 않는다는 것을 나타내고(단계(502')), 시스템은 즉, 다음 프레임의 시작에서 제 1 서브세트를 작동시킴으로써, 도 5에 도시된 시퀀스 단계로 되돌아 간다. 하나 이상의 터치 위치가 단계(505')에서 판별되는 경우, 다음 프레임은 단계(501')의 실행에 의해 평상 모드에서 시작된다.
도 7은 또 다른 실시예의 순서도이다. 도 5의 실시예와 비교하면, 시스템은 아이들 모드 및 평상 모드뿐만 아니라, 서명 모드(signature mode)로 들어갈 수 있다. 이 실시예에서, 서명 모드는 터치되는 단일 물체가 터치 표면 상에서 식별될 시마다 들어가게 된다. 하나 이상의 터치되는 물체가 식별되는 경우, 시스템은 도 5 또는 6에 관련되어 상술된 바와 같이, 평상 모드로 들어가서 동작하게 된다. 이를 위해, 제어 방법은 터치 분석 단계(506)를 포함하고, 상기 단계에서, 시스템은 터치 표면 상에서 터치되는 단일 물체의 제공과 터치되는 복수의 물체의 제공 사이를 식별한다. 통상적으로, 단계(506)는 가장 기본적인(낮은 해상도 및 낮은 정확도) 터치 판별 단계를 포함한다. 이해되어야 하는 바와 같이, 도 7에 제시된 실시예는 에너지 값의 제 1 앙상블(단계(501)에서 제 1 서브세트의 이미터들로부터 얻어짐)이, 단계(506)가 터치의 수를 식별하거나 단일 터치와 복수의 터치 사이를 적어도 식별하도록 충분한 정보를 포함하는 것으로 간주된다. 변형에서, 단계(506)은 추가적인 작동 단계(미도시)에 의해 진행되고, 상기 단계에서, 제 2 서브세트의 이미터들은 제 1 서브세트의 이미터들로부터 나온 정보를 보충하여, 단계(506)의 식별을 용이하게 하도록/가능하게 하도록 작동된다.
서명 모드에서, 시스템은 터치되는 단일 물체에 관한 정보를 충분하고 정확하게 얻도록, 필요에 따라 많은 에너지 값을 단지 수집하도록 적합하게 제어된다. 실행에 따라서, 제 1 서브세트의 이미터들 및 선택적인 제 2 서브세트의 이미터들로부터 생긴 에너지 값의 앙상블은 이 목적에 대해 충분해질 수 있다. 도 7에 도시된 바와 같이, 서명 모드는 또한 터치 판별 단계(505)를 포함할 수 있고, 상기 단계에서, 에너지 값의 앙상블은 터치 위치의 판별을 위해 처리된다. 변형에서, 도시되지는 않았지만, 터치 판별 단계(505)는 생략되고, 그 대신에, 단계(506)에서 기본적인 터치 판별에 의해 판별된 터치 위치(들)가 출력된다. 도 7에 추가로 도시된 바와 같이, 서명 모드는 충분한 정보의 수집이 가능하도록, 이미터들의 추가적인 서브세트를 작동시키는 단계를 선택적으로 포함할 수 있다(단계(507)). 보충 작동 단계(507)는 기하학적으로 맞춰진 서브세트(이하에서 기술됨)를 작동시키는 단계를 포함할 수 있다.
일반적으로, 서명 모드는 제한된 세트가 이미터들을 작동시키는 방법을 포함한다. 이는 검출기들로부터 관련된 스캔라인에 대한 에너지 값을 수집하기 위해, 계산 시간 및 필요한 시간 모두를 절약할 수 있다. 시스템은 평상 모드와 서명 모드에서 동일한 프레임율을 유지하도록 제어될 수 있다. 일 변형에서, 프레임율은 예를 들면, 시스템의 일시적인 높은 해상도를 가능케 하도록 평상 모드에 비해 서명 모드에서 증가되고, 시스템의 일시적인 높은 해상도는 터치되는 물체가 터치 표면에 대해 빠르게 스칠 시에, 예를 들면, 사용자가 터치 표면 상에서 스크롤링 몸짓(scrolling gesture) 또는 육필 몸짓(handwriting gesture)을 할 시에 바람직할 수 있다.
도 8은 또 다른 실시예의 순서도이다. 도 7의 실시예와 비교하여, 시스템은 아이들 모드, 평상 모드 및 서명 모드뿐만 아니라 혼합 모드로 들어갈 수 있다. 이 실시예에서, 혼합 모드는 터치되는 물체의 수가 설정 범위(2-M) 내에 있는 경우마다 들어가게 되고, 이때 M은 통상적으로 4-8이다. M 개 이상의 터치되는 물체가 식별되는 경우, 시스템은 평상 모드로 들어가게 되고, 터치되는 단일 물체가 식별되는 경우, 시스템은 도 7과 관련하여 상술된 바와 같이, 서명 모드로 들어가게 된다. 도 8의 실시예에서, 터치 분석 단계(506)는 터치의 수를 식별하고, 이에 따라서 모드를 선택하도록 구성된다. 통상적으로 단계(506)는 가장 기본적인(낮은 해상도 및 낮은 정확도) 터치 판별 단계를 포함한다. 이해되어야 하는 바와 같이, 도 8에 제시된 실시예는 제 1 서브세트의 이미터들로부터 생긴 에너지 값의 앙상블이, 단계(506)가 터치의 수를 식별하도록 충분한 정보를 포함하는 것으로 간주된다. 변형에서, 터치 분석 단계(506)는 추가적인 작동 단계(미도시)에 의해 진행되고, 상기 단계에서, 제 2 서브세트의 이미터들은 제 1 서브세트의 이미터들로부터 나온 정보를 보충하여, 단계(506)의 식별을 용이하게 하도록/가능하게 하도록 작동된다.
통상적으로, 혼합 모드는 다음의 터치 판별(단계(505))을 위한 충분한 데이터의 수집을 가능케 하도록 추가적인 서브세트의 이미터들을 작동시키는 단계(단계(507))를 포함한다. 도 8에 도시된 바와 같이, 보충 작동 단계(507)는 기하학적으로 맞춰진 서브세트를 작동시키는 단계를 포함할 수 있으며, 이는 이미터들이 터치되는 물체의 위치에서 높은 정확도, 및 어떠한 터치도 존재하지 않는 영역에서 감소되는 정확도/정의되지 않은 정확도를 달성시키도록 선택적으로 작동된다는 것을 의미한다. 상기 정확도는 통상적으로 교차된 스캔라인의 수에 의해 설정된다. 이로써, 이미터들은 터치 표면 상의 특정 위치에서 스캔라인의 원하는 밀도를 얻도록 작동된다. 이러한 특정 위치는 현재 프레임에서 단계(506)의 판별된 터치 위치 및/또는 하나 이상의 선행 프레임에서 터치 판별 단계(505)에 의해 계산된 터치 위치를 기반하여 판별될 수 있다.
통상적으로, 혼합 모드에서 작동되는 이미터들의 수는 평상 모드에서 작동되는 풀 세트(full set)의 이미터들보다 작다. 아이들 모드 및 서명 모드와 같이, 프레임율은 평상 모드에 비해 변화될 수 있다. 예를 들면, 프레임율은 혼합 모드에서 증가될 수 있는 반면, 평상 모드에서는 신호대잡음비가 거의 동일하게 유지된다. 일 실시예에서, 프레임율은 혼합 모드에서 데이터 수집 및 터치 판별에 대해 필요한 시간에 따라서 연속적으로 조정된다.
상기의 실시예 및 예 모두에서, 시간 지연은, 터치 식별 단계(502) 또는 터치 분석 단계(506)가 모드 간에서 전환되는 상황의 이행을 우선적으로 식별하기 때문에, 여러 개의 프레임 또는 시간 초(seconds)가 경과될 때까지 모드 변화를 지연시키도록 도입될 수 있다. 예를 들면, 2 중 탭들(double taps)은 높은 정확도를 가지고 검출될 필요성이 있다. 그러므로, 터치 식별 단계(502)(도 5-8)는, 터치 표면 상의 터치 물체의 부재가 식별될 시마다 아이들 모드로 전환시키도록 시간 지연을 이용하여 구성될 수 있다. 시간 지연은 2 중 탭의 터치 간에서 예측된 시간을 초과하도록 설정될 수 있다. 시간 지연은 시스템의 구성으로 설정될 수 있거나, 사용자 선호도에 의해 설정될 수 있거나 또는 모드 선택기에 의해 판별될 수 있다. 또 다른 예에서, 터치 식별 단계(502)(도 5-8)는, 터치되는 물체의 존재가 식별될 시마다 아이들 모드로부터 전환시키도록 시간 지연을 이용하여 구성될 수 있다. 상기와 같은 시간 지연은 시스템이 신호 잡음으로 인해 우연하게 아이들 모드에서 나가지 않도록 하는 것이 바람직할 수 있다.
상기의 예에서 나타난 바와 같이, 조명 장치의 능동 이미터들의 감소된 수는 아이들 모드에서 사용될 수 있고, 제어 유닛(6)은 능동 이미터들(2)의 수가 감소되도록 할 수 있다. 터치 표면 상에서 어떤 일이 발생되었다라는 것을 제어 유닛(6)이 검출하는 경우, 상기 제어 유닛은 표면 상의 터치 또는 터치들에 따른 방출 패턴을 맞추는 또 다른 모드를 선택할 수 있다.
상술된 예에서 나타난 바와 같이, 모드 선택기(7)는 존재한다면 터치 표면 상의 기하학적인 터치 위치를 판별하고, 기하학적인 터치 위치에 따른 방출 패턴의 모드를 선택하도록 구성될 수 있다. 본원에서 사용되는 바와 같이, "기하학적인 위치"는 터치 표면에 관련된 좌표계의 좌표에 의해 설정된 위치를 의미한다. 이로써, 기하학적인 터치 위치를 인지함으로써, 바람직하게 동일한 프레임 내에서, 기하학적인 위치를 정확하게 덮고/비추도록, 이미터들(2)로부터 광의 방출 패턴을 맞추는 것이 가능하다. 이는 터치가 존재하는 정확한 검출을 여전하게 이용하여, 시스템의 에너지 소비가 감소되게 한다.
상술된 예에서 나타난 바와 같이, 기하학적인 단일 위치가 터치 표면 상에서 검출되는 경우, 모드 선택기(7)는 서명 모드를 선택하도록 구성될 수 있고, 제어 유닛(6)은 조명 장치(3)의 이미터들(2)을 제어하여, 맞춰진 서브세트의 이미터들(2)을 이용함으로써 기하학적인 단일 위치를 정확하게 덮도록 구성될 수 있다. 기하학적인 위치를 정확하게 덮는다는 것은 스캔라인의 수가 그 위치에서 터치의 검출을 확보하는데 충분히 높다는 것을 의미한다.
상술된 예에서 나타난 바와 같이, 기하학적인 복수의 터치 위치가 검출되는 경우, 모드 선택기(7)는 평상 모드를 선택하도록 구성될 수 있고, 제어 유닛(6)은 이용 가능한 모든 이미터들(2)을 사용함으로써, 전체 터치 표면을 정확하게 덮기 위해, 이미터들(2)을 제어하도록 구성된다.
상술된 예에서 나타난 바와 같이, 모드 선택기(7)는 기하학적인 터치 위치의 제한된 수가 터치 표면 상에서 검출될 시에, 혼합 모드를 선택하도록 구성될 수 있고, 제어 유닛(6)은 기하학적인 터치 위치의 제한된 수를 정확하게 덮기 위해, 맞춰진 서브세트의 이미터들(2)을 사용함으로써, 조명 장치의 이미터들(2)을 제어하도록 구성된다. 혼합 모드는 터치가 터치 표면 상에서 어디에 검출되는지, 그리고 얼마나 많은 터치가 터치 표면 상에서 검출되는지에 따라서, 평상 모드와 서명 모드 사이의 "연속적인" 스케일을 따라 선택된 모드로서 정의될 수 있다. 맞춰진 서브세트의 이미터들은 프레임의 시작에서 작동되는 제 1 서브세트의 이미터들을 대체하거나 보충하도록 작동될 수 있다. 서명 모드 또는 혼합 모드에서 방출 패턴의 예는 도 9에 도시되고, 도 9에서 패널(1)의 모든 측면을 따라 배치된 12 개의 선택된 이미터들을 발광시키도록 작동된다. 예를 들면, 광은 터치 표면 상의 모든 위치가 평행하게 위치하는데 너무 가깝지 않은 적어도 2 개의 스캔라인에 의해 덮이도록 발광될 수 있다. 이로써, 바람직하게 동일한 프레임 내에서, 원하는 방출 패턴으로 발광하도록 이미터들(2)을 맞추는 것이 가능하다. 그 후, 여러 개의 기하학적인 위치는 덮일 수 있으면서; 시스템은 에너지를 적게 소비한다.
본 발명의 내용 내에서, 맞춰진 서브세트의 이미터들을 설계하는 서로 다른 방식이 많이 있다. 일 실시예에서, 제어 유닛(6)은 스캔라인의 현재 세트(즉, 현재 작동되는 이미터들의 스캔라인)에 관련되는 기하학적인 터치 위치를 분석하고, 알려진 기하학적인 위치에서 추가적인 스캔라인을 정의하는 하나 이상의 이미터들을 선택적으로 작동시켜서, 원하는 성능을 만들어 내는 스캔라인의 현재 세트를 얻도록 구성된다. 또 다른 실시예에서, 터치 표면은 기정의된 서브영역으로 세분화되고, 각각의 서브영역은 이미터들의 특정 그룹에 관련되고, 그룹의 작동은 서브영역의 충분한 조명을 제공하기 위해 알려져 있다. 이로써, 제어 유닛(6)은 하나 이상의 서브영역을 식별하는데 기하학적인 터치 위치를 분석하고, 식별된 서브영역을 기반하여 하나 이상의 그룹의 이미터들을 선택적으로 작동시키도록 구성될 수 있다. 상기의 예 모두에서, 이미터들은, 예를 들면, 각각의 기하학적인 위치에서 교차된 스캔라인의 특정 수, 및/또는 교차되는 스캔라인 간의 특정 각을 달성하도록 작동될 수 있다. 또 다른 실시예에서, 맞춰진 세트의 이미터들은 예를 들면 터치 수의 기능으로서 설정된 수의 이미터들을 작동시키도록 구성된 제어 유닛(6)에 의해서만, 터치의 수를 기반하여 설계된다. 예를 들면, 2 개의 터치는 작동되는 제 4 이용 가능한 이미터들을 만들어 낼 수 있고, 예를 들면, 3 개의 터치는 작동되는 제 3 이용 가능한 이미터들을 만들어 낼 수 있다. 적합하게, 상기와 같은 각각의 세트의 이미터들은 터치 표면에 대해 스캔라인의 균일한 그리드를 발생시키도록 설계되고, 그 결과, 스캔라인의 밀도는 증가되고, 터치의 수도 증가된다.
상술된 예에 나타난 바와 같이, 제어 유닛(6)은 터치가 검출될 시에 동일한 프레임 내에서 방출 패턴을 변화시키고, 동일한 프레임 내에서 정확도가 높은 터치 검출을 가능케 하도록 구성될 수 있다. 이로써, 모드를 선택하기 위해, 터치 분석은 우선적으로 제 1 서브세트의 이미터들을 작동시킨 후에 이루어진다. 모드가 선택되고, 적합한 세트의 이미터들이 작동된 후에, 터치 판별은 이미터들 세트로부터 스캔라인을 따라 전달되는 광을 사용하여 이루어질 수 있다. 이로 인해, 터치 판별은 정확성이 높을 수 있다.
상술된 예에서 나타난 바와 같이, 모드 선택기(7)는 물체가 패널 상의 터치 표면을 터치하는지를 식별하도록, 특히 제 1 서브세트의 이미터들로부터 얻어진 에너지 값의 제 1 앙상블을 기반하여 아이들 모드로, 그리고 아이들 모드로부터 전환될 시를 판별하도록 구성될 수 있다. 모드 선택기(7)는 계산될 시에 에너지 값 또는 전달 값의 일시적인 작동을 모니터링함으로써, 물체를 식별하도록 구성된 일 실시예에 따른다. 특히, 모드 선택기(7)는 각각의 스캔라인(Si)에 대한 참조 신호(dri)를 얻고 현재 에너지 또는 전달 값(dti, Ti)을 이 참조 신호와 비교하도록 구성된다. 참조 신호(dri)는 스캔라인에 대한 각각의 현재 에너지/전달 값의 "히스토리"를 나타내도록, 즉, 스캔라인에 대한 선행 에너지/전달 값의 세트의 여러 종류의 평균 표시를 나타내도록 판별될 수 있다. 예를 들면, 참조 신호(dri)는 선행 프레임 동안 특정 스캔라인에 대해 검출된 에너지/전달 값의 시퀀스를 필터링함으로써 판별될 수 있다. 사용되는 필터는, 예를 들면, 로우-패스(low-pass) 또는 밴드-패스(band-pass) 유형일 수 있다. 대안으로, 하이-패스 필터는 사용될 수 있고, 참조 신호는 필터의 입력과 출력 사이의 차이에 의해 나타날 수 있다. 다른 대안으로, 시간 창 평균 함수(ime-windowed average function), 지수 망각 함수(exponential forget function) 또는 적분 함수는 참조 신호를 판별하기 위해 사용될 수 있다. 이하에서, 2 개의 예의 알고리즘이 더 상세하게 제시된다. 다른 방법도 생각해 볼 수 있고, 상기 방법은 서로 다른 스캔라인에 대해 얻어진 에너지/전달 값에서 빠른 일시적인 변화를 검출하는 능력을 가진다.
시간 창 평균 함수를 사용하여 참조 신호(dri)를 계산하기 위해서, 다음 식 2가 사용될 수 있다:
Figure 112012026011108-pct00002
k는 평균 창에서 프레임의 수이고, dni는 프레임(n)용 스캔라인(i)에 대해 검출된 에너지 값이고, N은 평균 창의 마지막 부분이다. 현재 프레임과 평균 창의 마지막 부분 사이의 일시적인 갭을 사용하는 것도 가능하며, 이러한 사용은 참조 신호가 에너지 값의 가장 최근의 일시적인 작동에 따라 적어지도록 한다. 창 평균에 대해 사용되는 프레임의 수(k)는 일반적으로 5-1000 범위에 속한다. 가능한 갭(N)은 일반적으로 100 개의 프레임보다 작다.
지수 망각 방법에서 참조 신호(dri) 다음 식 3과 같이 계산될 수 있다:
Figure 112012026011108-pct00003
파라미터(ε)는 시스템의 일시적인 작동에 따라 선택되고, 0에 상대적으로 가깝고, 예를 들면, 0.01보다 작고, 0.000001보다 크다. 파라미터(dti)는 현재 프레임에서 스캔라인(Si)에 대해 검출된 에너지 값을 나타낸다. 식 3은, 가장 새로운 에너지 값이 오래된 에너지 값보다 높은 임팩트(impact)를 가진다는 점을 제외하고는 시간 창 평균과 유사하다. 또한, 많은 값을 추적할 필요도 없다. 상기의 2 개의 예에서, 미가공 신호 값(dti)은 처리되지만, 기본적으로 전달 값(Ti)을 처리하는 것과는 기본적으로 동일하다.
일 실시예에 따라서, 모드 선택기(7)는, 광 검출 장치에 관련된 모든 스캔라인에 대한 전달 또는 미가공의 참조 신호 및 현재 신호 값을 사용한 놈(norm)(|| ||)을 계산함으로써 에너지/전달 값의 변화를 검출하고, 물체가 터치 표면을 터치하는 경우를 판별하도록 놈의 값을 사용하도록 구성된다. 놈은 예를 들면, 1, 2 정도(order) 또는 무한치일 수 있고, 놈은 현재 신호 값 및 참조 신호의 차이 또는 비율을 획득함으로써 계산될 수 있다. 이에 따라서, 서로 다른 모드 간을 구별하는 방식이 달성되어, 방출 패턴을 맞출 수 있다. 놈이 임계값 미만인 경우, 아이들 모드가 선택되고, 놈이 임계값 이상인 경우에는 다른 모드들 중 하나가 선택된다.
이하에서 상술된 평가 기준치는 다음 식 5와 같이 주어진다:
Figure 112012026011108-pct00004
임계값(q)은 특정 시스템에서 얼마나 많은 터치가 상호 작용하는지에 따라서 설정되어야 한다. 임계값은 일반적으로 약한 터치에도 반응하도록 충분히 낮게 설정되어야 하고, 예를 들면, 사용자가 터치 표면에 대해 약하게 손가락을 드래그 할시에 발생될 수 있고 약 0.1% 또는 약 0.1% 미만의 전달값 변화에 대응하는 터치에도 반응하도록 충분히 낮게 설정되어야 한다. 일반적으로, 임계값은 0.01% 내지 5%의 범위에 속한 전달 변화에 대응하여야 한다.
또 다른 실시예에서, 모드 선택기(7)는 참조 신호 값과 현재 신호 값 간의 상관 관계 값(correlation values)을 사용하고, 터치가 터치 표면 상에 존재하는 경우를 판별하기 위해 상관 관계 값을 사용하도록 구성된다. 상관 관계 값이 특정 임계 값 미만으로 떨어지는 경우, 아이들 모드가 선택된다.
상술된 예에 나타난 바와 같이, 평상 모드와 서명 모드 간의 선택(또는 맞춰진 세트의 이미터들을 혼합 모드로 설계하는 것)은, 제 1 서브세트의 이미터들을 작동시킬 시에, 그리고 선택적으로 소량 추가 세트의 이미터들을 작동시킬 시에 검출기들로부터 얻어진 에너지 값의 앙상블을 기반하여 판별된 터치 위치를 분석함으로써, 행해질 수 있다. 터치의 수를 셈으로써, 그리고 가능하다면 기하학적인 터치 위치를 분석함으로써, 모드의 전환은 결정될 수 있고, 예를 들면, 단지 하나의 터치만이 존재하는 경우 서명 모드로 전환되고, 여러 개의 터치가 존재하는 경우에는 평상 모드로, 또는 터치의 수가 제한된 경우라면 혼합 모드로 전환될 수 있다.
변형에서, 모든 간의 전환은 단지 기하학적인 위치만을 기반하여 결정될 수 있다. 예를 들면, 모드 선택기는, 터치의 특정 수가 터치 표면 상에서 하나 이상의 특정 터치 영역 내에서 식별될 시마다 서명/혼합 모드로 전환되도록 구성될 수 있다. 상기와 같은 터치 영역은 정적일 수 있거나, 즉 시스템에 대해 기정의될 수 있거나, 동적일 수 있는데, 즉 동적 GUI 상에 일시적으로 발생된 영역과 관련될 수 있다.
일 실시예에 따라서, 터치 표면 상의 기하학적인 터치 위치는 터치 표면의 감쇠 맵(attenuation map)을 재구성시킴으로써 판별될 수 있고, 즉, 터치 위치는 전달 값(Ti)의 세트를 기반하여 판별될 수 있다. 상기와 같은 감쇠 맵은 시스템의 실제적인 옵션 설계에 따라서 평행 스캔닝 기하학적인 형태 또는 팬 빔 기하학적인 형태(fan beam geometry)와 함께, 전달 단층 촬영(transmission tomography)에 대해 개선되고 공지된 알고리즘을 사용하여 재구성될 수 있다. 기본적으로, 터치 위치는 이용 가능한 이미지 재구성 알고리즘을 사용하여 재구성될 수 있다. 제한된 세트의 스캔라인이 있는 경우, 특별하게 설계된 퓨-뷰 알고리즘(few-view algorithms)을 사용하는 것이 바람직할 수 있다.
도 5-8에 관해 논의된 예시적인 실시예는 도 10의 순서도와 관련하여 이제 기술되는 제어 방법에 대하여 개략적으로 제시한다. 단계(1001)에서, 광은 이미터들(2)을 포함한 조명 장치(3)가 구비된 패널로 입사한다. 단계(1002)에서, 패널(1)에서의 광 전파는 검출기들(4)을 포함한 광 검출 장치(5)에 의해 수신된다. 단계(1003)에서, 수신된 광은 패널(1)의 광 전파가 감쇠되는 터치 표면 상의 터치를 검출하도록 모니터링된다. 그 다음, 단계(1004)에서, 모드는 터치 표면 상의 터치의 발생에 따른 방출 패턴에 대해 선택된다. 최종적으로, 단계(1005)에서, 방출 패턴은 선택된 모드에 따라서 제어된다. 이로써, 방출 패턴은 터치 표면 상의 터치의 검출된 발생에 대해 적합하여 에너지 소비를 감소시킬 수 있지만, 높은 정확도 및/또는 프레임 간의 낮은 잠복기를 가지고 터치 위치를 여전하게 판별할 수 있다.
일 실시예에 따라서, 모드가 선택될 시에 이용 가능한 서브세트의 이미터들(2)만 작동되어 모니터링된다. 이로써, 모드 선택은 개수가 감소된 능동 이미터들로부터 나온 신호에 기반될 수 있다. 이에 따라서, 모드 선택 단계(1004)가 터치 판별의 충분한 정확성을 가하도록 선택되는 모드를 판별하기 전에, 즉, 터치가 존재하는 터치 표면 상의 위치를 판별하기 전에, 광이 서브세트("제 1 서브세트")의 이미터들만으로부터 발광되기 때문에, 에너지가 적게 사용되면서, 가능하다면 에너지 소비가 더 감소될 수 있다. 일 실시예에 따라서, 방법은 능동 이미터들(2)의 수를 변화시킴으로써 방출 패턴을 제어하는 단계, 및/또는 능동 이미터들(2)로부터 나온 발광의 세기/에너지를 변화시키는 단계, 및/또는 프레임율을 제어하는 단계를 포함하고, 프레임율은 모든 관련된 검출기들(4) 및 이미터들(2)로부터 나온 데이터가 얼마나 자주 수집되고, 터치 좌표가 얼마나 자주 계산되는지를 나타낸다. 이로써, 터치 표면 상의 터치 발생에 따라서 서브세트의 이미터들을 맞추는 것이 가능해진다.
이로써, 서로 다른 모드는 터치 표면 상의 작동에 따른 모드 선택 단계(1004)에 의해 선택된다. 예를 들면, 터치 표면 상의 터치 수를 셈으로써, 방출 패턴용 모드는 터치 수에 따라서 선택될 수 있다. 게다가, 방법은 스크린 표면 상의 기하학적인 터치 위치를 판별하는 단계, 및 기하학적인 터치 위치에 따라서 방출 패턴용 모드를 선택하는 단계를 포함할 수 있다. 이로써, 모드는 터치 수 및 기하학적인 터치 위치에 따라서 선택될 수 있다.
본 발명의 추가적인 양태에 따라서, 컴퓨터로 판독 가능한 저장매체는 처리 명령을 저장하기 위해 구비되고, 처리 명령은 데이터 처리기(도 1의 8)에 의해 실행될 시에, 상술된 바와 같이 상기 방법을 실행시킨다.
본 발명은 상술된 바람직한 실시예에 제한되지 않는다. 다양한 대안물, 변형물 및 균등물이 사용될 수 있다. 그러므로, 상기의 실시예들은 본 발명의 권리 범위를 제한하는 것으로 취급되지 않아야 하고, 첨부된 청구항에 의해 정의되어야 할 것이다.

Claims (35)

  1. 터치 감지 시스템에 있어서,
    터치 표면(1a) 및 대향 표면(1b)을 갖는 광 전달 패널(1);
    상기 광 전달 패널(1)에 광을 입사시켜 상기 광 전달 패널(1)에서 광이 방출 패턴으로 전파되도록 구성되고 이미터들(2)을 포함한 조명 장치(3); 및
    상기 광 전달 패널(1)에서 전파되는 광을 수신하도록 구성되고 검출기들(4)을 포함한 광 검출 장치(5)를 포함하고,
    상기 터치 감지 시스템은 상기 조명 장치(3)를 제어하는 제어 유닛(6)을 더 포함하고,
    상기 제어 유닛은 모드 선택기(7)를 더 포함하고,
    상기 모드 선택기는, 상기 광 전달 패널(1)에서 전파되는 광을 감쇠시키는 하나 이상의 터치를 상기 터치 표면(1a) 상에서 검출하기 위해, 상기 광 검출 장치(5)에 수신되는 광을 모니터링하고; 상기 터치 표면(1a) 상의 터치 발생에 따라 방출 패턴용 모드를 선택하도록 구성되고,
    상기 제어 유닛(6)은 선택된 모드에 따라서 방출 패턴을 제어하도록 구성되고,
    상기 제어 유닛(6)은, 상기 조명 장치(3)에서 적어도 하나의 능동 이미터(2)의 개수를 변화시키고, 이미터들(2)에 의해 발광된 광의 세기를 변화시킴으로써, 방출 패턴을 제어하도록 구성되고,
    상기 모드 선택기(7)는 상기 터치 표면(1a) 상의 터치 수를 세고, 상기 터치 수에 따라서 방출 패턴용 모드를 선택하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제어 유닛(6)은 프레임율을 제어하도록 더 구성되고,
    상기 프레임율은, 관련된 모든 검출기들(4) 및 이미터들(2)로부터 나온 데이터가 수집되고, 터치 좌표가 계산되는 빈도수인 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템.
  3. 삭제
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 모드 선택기(7)는 상기 터치 표면(1a) 상의 기하학적인 터치 위치를 판별하고, 상기 기하학적인 터치 위치에 따라서 방출 패턴용 모드를 선택하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 모드 선택기(7)는, 기하학적인 단일 터치 위치가 상기 터치 표면(1a) 상에서 검출되는 경우, 서명 모드를 선택하도록 구성되고,
    상기 제어 유닛(6)은, 맞춰진 서브세트의 이미터들(2)을 작동시켜서 상기 기하학적인 단일 터치 위치를 정확하게 덮기 위해, 상기 조명 장치(3)의 이미터들(2)을 제어하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템.
  6. 제 4 항에 있어서,
    상기 모드 선택기(7)는, 판별된 기하학적인 터치 위치 수가 제한 수를 초과하는 경우, 평상 모드를 선택하도록 구성되고,
    상기 제어 유닛(6)은 모든 이용 가능한 이미터들(2)을 작동시켜서, 전체 터치 표면(1a)을 정확하게 덮기 위해, 상기 이미터들(2)을 제어하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 모드 선택기(7)는, 판별된 기하학적인 터치 위치 수가 1보다 크지만 상기 제한 수보다 작은 경우, 혼합 모드를 선택하도록 구성되고,
    상기 제어 유닛(6)은 맞춰진 서브세트의 이미터들(2)을 작동시켜서, 판별된 기하학적인 터치 위치 수를 정확하게 덮기 위해, 상기 조명 장치(3)의 이미터들(2)을 제어하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템.
  8. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 제어 유닛(6)은, 하나의 프레임에서 하나 이상의 터치가 검출된 후에, 동일한 프레임 내에서 터치 좌표의 계산이 가능하기 위해, 상기 동일한 프레임 내에서 방출 패턴을 변화시키도록 구성되고,
    상기 프레임은 관련된 모든 쌍의 이미터들(2) 및 검출기들(4)로부터 나온 데이터가 수집되고, 터치 좌표가 계산되는 기간(period of time)인 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템.
  9. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 제어 유닛(6)은 프레임의 시퀀스에서 동작되도록 구성되고,
    상기 제어 유닛(6)은, 각각의 프레임 내에서, 서브세트의 이미터들(2)을 작동시키도록 구성되고,
    상기 모드 선택기(7)는, 각각의 프레임 내에서, 상기 서브세트로부터 나와 상기 광 검출 장치(5)에 의해 수신되고 모니터링된 광을 기반하여 모드를 선택하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 모드 선택기(7)는, 상기 서브세트로부터 나와 상기 광 검출 장치(5)에 의해 수신되고 모니터링된 광을 기반하여 상기 터치 표면(1a) 상에 터치가 없다는 것을 검출하는 경우, 아이들 모드를 선택하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 제어 유닛(6)은 각각의 프레임에 대해 상기 아이들 모드 동안 상기 서브세트만을 작동시키도록 구성되는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템.
  12. 제 9 항에 있어서,
    상기 모드 선택기(7)는, 상기 서브세트로부터 나와 상기 광 검출 장치(5)에 의해 수신되고 모니터링된 광을 기반하여 상기 터치 표면(1a) 상에 터치가 있다는 것을 검출하는 경우, 평상 모드를 선택하도록 구성되고,
    상기 제어 유닛(6)은 상기 평상 모드 동안 모든 이미터들을 작동시키도록 구성되는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템.
  13. 제 9 항에 있어서,
    상기 제어 유닛(6)은 상기 서브세트로부터 나와 상기 광 검출 장치(5)에 의해 수신되고 모니터링된 광을 기반하여 상기 터치 표면(1a) 상의 터치 수를 판별하도록 구성되고,
    상기 모드 선택기(7)는 상기 터치 수에 기반하여 모드를 선택하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 제어 유닛(6)은 상기 서브세트로부터 상기 광 검출 장치(5)에 의해 수신되고 모니터링된 광을 기반하여 상기 터치 표면(1a) 상의 기하학적인 터치 위치를 판별하고, 상기 기하학적인 터치 위치를 기반하여 방출 패턴을 판별하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템.
  15. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 모드 선택기(7)는 작동되는 이미터들(2)과 검출기들(4) 간의 복수의 광 경로 상에서 수신된 에너지를 나타내는 신호의 일시적인 작동을 분석함으로써, 상기 터치 표면(1a) 상의 터치를 검출하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 모드 선택기(7)는 상기 복수의 광 경로 상에서 수신된 에너지를 나타내는 신호를 참조 신호와 비교함으로써, 일시적인 작동을 분석하도록 구성되고,
    상기 참조 신호 각각은 각각의 광 경로 상에서 이전에 수신된 에너지를 나타내는 평균치로 얻어지는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템.
  17. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 제어 유닛(6)은 작동되는 이미터들과 검출기들(4) 간의 복수의 광 경로 상에서 광 전달을 나타내는 신호를 기반하여, 상기 터치 표면의 감쇠 맵을 재구성함으로써, 상기 터치 표면(1a) 상의 기하학적인 터치 위치를 나타내는 터치 좌표를 계산하도록 구성되고,
    상기 제어 유닛(6)은 각각의 광 경로에 대해 측정된 에너지 값을, 상기 터치 표면(1a) 상의 터치 없는 광 경로에 대해 측정된 에너지를 나타내는 백그라운드 값으로 나눔으로써 신호를 형성하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템.
  18. 터치 표면(1a) 및 대향 표면(1b)을 갖는 광 전달 패널(1)을 포함하는 터치 감지 시스템을 제어하는 방법에 있어서,
    - 이미터들(2)을 포함한 조명 장치(3)를 이용하여, 상기 광 전달 패널(1)에 광을 입사시켜 상기 광 전달 패널(1)에서 광을 방출 패턴으로 전파하는 단계;
    - 검출기들(4)을 포함한 광 검출 장치(5)를 이용하여, 상기 광 전달 패널(1)에서 전파되는 광을 수신하는 단계;
    - 상기 광 전달 패널(1)에서 전파되는 광을 감쇠시키는 하나 이상의 터치를 상기 터치 표면(1a) 상에서 검출하기 위해, 상기 광 검출 장치(5)에 의해 수신되는 광을 모니터링하는 단계;
    - 상기 터치 표면(1a) 상의 터치 발생에 따라 방출 패턴용 모드를 선택하는 단계;
    - 선택된 모드에 따라서 방출 패턴을 제어하는 단계로서, 상기 방출 패턴이 상기 조명 장치(3)에서 적어도 하나의 능동 이미터(2)의 개수를 변화시키고, 이미터들(2)에 의해 발광된 광의 세기를 변화시킴으로써 제어되는, 제어 단계;
    상기 터치 표면(1a) 상의 터치 수를 세는 단계, 및
    상기 터치 수에 따라서 방출 패턴용 모드를 선택하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템 제어 방법.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 터치 감지 시스템 제어 방법은 프레임율을 제어하는 단계를 더 포함하고,
    상기 프레임율은, 관련된 모든 검출기들(4) 및 이미터들(2)로부터 나온 데이터가 수집되고, 터치 좌표가 계산되는 빈도수인 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템 제어 방법.
  20. 삭제
  21. 제 18 항 또는 제 19 항에 있어서,
    상기 터치 감지 시스템 제어 방법은,
    상기 터치 표면(1a) 상의 기하학적인 터치 위치를 판별하는 단계, 및
    상기 기하학적인 터치 위치에 따라서 방출 패턴용 모드를 선택하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템 제어 방법.
  22. 제 21 항에 있어서,
    상기 터치 감지 시스템 제어 방법은,
    기하학적인 단일 터치 위치가 상기 터치 표면(1a) 상에서 검출되는 경우, 서명 모드를 선택하는 단계, 및
    맞춰진 서브세트의 이미터들(2)을 작동시켜서 상기 기하학적인 단일 터치 위치를 정확하게 덮기 위해, 상기 조명 장치(3)의 이미터들(2)을 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템 제어 방법.
  23. 제 21 항에 있어서,
    상기 터치 감지 시스템 제어 방법은,
    판별된 기하학적인 터치 위치 수가 제한 수를 초과하는 경우, 평상 모드를 선택하는 단계, 및
    모든 이용 가능한 이미터들(2)을 사용함으로써 전체 터치 표면(1a)을 정확하게 덮기 위해, 상기 이미터들(2)을 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템 제어 방법.
  24. 제 23 항에 있어서,
    상기 터치 감지 시스템 제어 방법은,
    판별된 기하학적인 터치 위치 수가 1보다 크지만 상기 제한 수보다 작은 경우, 혼합 모드를 선택하는 단계, 및
    서브세트의 이미터들(2)을 작동시켜서, 판별된 기하학적인 터치 위치 수를 정확하게 덮기 위해, 상기 조명 장치(3)의 이미터들(2)을 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템 제어 방법.
  25. 제 18 항 또는 제 19 항에 있어서,
    상기 터치 감지 시스템 제어 방법은,
    하나의 프레임에서 하나 이상의 터치가 검출된 후에, 동일한 프레임 내에서 터치 좌표의 계산이 가능하도록, 상기 동일한 프레임 내에서 방출 패턴을 변화시키는 단계를 포함하고,
    상기 프레임은 관련된 모든 쌍의 이미터들(2) 및 검출기들(4)로부터 나온 데이터가 수집되고, 터치 좌표가 계산되는 기간인 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템 제어 방법.
  26. 제 18 항 또는 제 19 항에 있어서,
    상기 터치 감지 시스템 제어 방법은 각 프레임의 시퀀스에서 동작하고, 서브세트의 이미터들(2)을 작동시키는 단계, 및 상기 서브세트로부터 나와 상기 광 검출 장치(5)에 의해 수신되고 모니터링된 광을 기반하여 모드를 선택하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템 제어 방법.
  27. 제 26 항에 있어서,
    상기 터치 감지 시스템 제어 방법은, 상기 서브세트로부터 나와 상기 광 검출 장치(5)에 의해 수신되고 모니터링된 광을 기반하여 상기 터치 표면(1a) 상에 터치가 없다는 것을 검출하는 경우, 아이들 모드를 선택하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템 제어 방법.
  28. 제 27 항에 있어서,
    상기 터치 감지 시스템 제어 방법은, 각각의 프레임에 대해 상기 아이들 모드 동안 상기 서브세트만을 작동시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템 제어 방법.
  29. 제 26 항에 있어서,
    상기 터치 감지 시스템 제어 방법은,
    상기 서브세트로부터 나와 상기 광 검출 장치(5)에 의해 수신되고 모니터링된 광을 기반하여 상기 터치 표면(1a) 상에 터치가 있다는 것을 검출하는 경우, 평상 모드를 선택하는 단계, 및
    상기 평상 모드 동안 모든 이미터들을 작동시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템 제어 방법.
  30. 제 26 항에 있어서,
    상기 터치 감지 시스템 제어 방법은,
    상기 서브세트로부터 나와 상기 광 검출 장치(5)에 의해 수신되고 모니터링된 광을 기반하여 상기 터치 표면(1a) 상의 터치 수를 판별하는 단계, 및
    상기 터치 수에 기반하여 모드를 선택하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템 제어 방법.
  31. 제 30 항에 있어서,
    상기 터치 감지 시스템 제어 방법은,
    상기 서브세트로부터 상기 광 검출 장치(5)에 의해 수신되고 모니터링된 광을 기반하여 상기 터치 표면(1a) 상의 기하학적인 터치 위치를 판별하는 단계, 및
    상기 기하학적인 터치 위치를 기반하여 방출 패턴을 판별하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템 제어 방법.
  32. 제 18 항 또는 제 19 항에 있어서,
    상기 터치 표면(1a) 상의 터치를 검출하는 단계는 작동되는 이미터들(2)과 검출기들(4) 간의 복수의 광 경로 상에서 수신된 에너지를 나타내는 신호의 일시적인 작동을 분석하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템 제어 방법.
  33. 제 32 항에 있어서,
    상기 일시적인 작동을 분석하는 단계는 상기 복수의 광 경로 상에서 수신된 에너지를 나타내는 신호를 참조 신호와 비교하는 단계를 포함하고,
    상기 참조 신호 각각은 각각의 광 경로 상에서 이전에 수신된 에너지를 나타내는 평균치로 얻어지는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템 제어 방법.
  34. 제 18 항 또는 제 19 항에 있어서,
    상기 터치 감지 시스템 제어 방법은, 작동되는 이미터들과 검출기들(4) 간의 복수의 광 경로 상에서 광 전달을 나타내는 신호를 기반하여, 상기 터치 표면의 감쇠 맵을 재구성함으로써, 상기 터치 표면(1a) 상의 기하학적인 터치 위치를 나타내는 터치 좌표를 계산하는 단계를 더 포함하고,
    상기 신호는 각각의 광 경로에 대해 측정된 에너지 값을, 상기 터치 표면 상의 터치 없는 광 경로에 대해 측정된 에너지를 나타내는 백그라운드 값으로 나눔으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 터치 감지 시스템 제어 방법.
  35. 처리 명령을 저장하는 컴퓨터 판독 가능한 저장매체에 있어서,
    상기 처리 명령은 데이터 처리기(8)에 의해 실행될 시에, 제 18 항 또는 제 19 항에 따른 방법을 실행하는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 판독 가능한 저장매체.
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