KR101708497B1 - 이미지화 시스템을 위한 이미지화 표면의 제조 방법 및 용융 표면 구조 - Google Patents

Abstract

본 발명은, 이미지화 시스템을 위한 이미지화 표면의 제조 방법으로서, 금속 기재를 제공하는 단계; 상기 금속 기재를, 화학적으로 반응성인 충전재 또는 그와 혼합된 염기를 갖는 엘라스토머 층으로 코팅하여, 상기 금속 기재상에 코팅을 형성하는 단계; 상기 코팅을, 코팅의 표면에서 노출된 충전재 또는 염기에 반응하는 유효 농도의 산으로 에칭하여, 코팅의 표면에서 수용성 염을 포함하는 반응 생성물을 형성하는 단계; 및 코팅 표면을 수용액으로 세척함으로써 상기 반응 생성물을 제거하여, 코팅의 표면에 복수의 피트 (pit) 를 형성하는 단계를 포함하는 이미지화 표면의 제조 방법을 제공한다.

Description

이미지화 시스템을 위한 이미지화 표면의 제조 방법 및 용융 표면 구조{METHOD OF PRODUCING AN IMAGING SURFACE FOR AN IMAGING SYSTEM AND A FUSING SURFACE STRUCTURE}

본 발명은 마킹 (marking) 또는 이미지화 (imaging) 시스템, 더 구체적으로는 잉크 제트 인쇄 시스템을 위한 이미지-수용 표면을 제조하기 위한 시스템, 구조 또는 프로세스에 관한 것이다.

명확화를 위해, 본 프로세스는 잉크 제트 기술에 유용한 드럼 또는 기재 (substrate) 와 관련하여 설명되지만, 본 프로세스는 드럼 유지 유체의 공급 및 그와 접촉하는 액체의 응집 (coalescing) 이 걱정되는 임의의 기재를 제조하는데 이용될 수 있다는 것을 이해해야 한다. 본 프로세스 및 방법은, 릴리스 유체 (release fluid) 의 얇은 필름의 적용 (application) 을 요구하는 용융 (fusing) 표면 또는 임의의 표면과 관련하여 기술될 수 있다.

잉크원 (ink source), 인쇄될 정보를 나타내는 전기적 입력 신호의 제어 하에서 잉크 액적을 내뿜기 위해 잉크원에 연결된 인쇄 헤드, 내뿜어지는 잉크 액적의 경로에 위치되는 인쇄 매체, 예컨대 종이의 시트나 스트립, 및 인쇄 헤드와 인쇄 매체 사이에 상대 운동을 제공하기 위한 장치를 포함하는 잉크 제트 프린터가 공지되어 있다. 그러한 프린터는 실질적인 상업적 성공을 거두었지만, 몇몇의 고유의 단점을 갖고 있다. 예컨대, 공지된 잉크 제트 프린터는 일관성이 없는 인쇄본을 생성하는 경향이 있다. 잉크 제트 인쇄 시스템은 미국특허에서 개시된 것과 같이 종래 기술로서 채용되었다. 일반적으로, 잉크 제트 인쇄에서, 액체는 용매 공급원으로부터, 잉크 액적을 드럼 또는 기록 표면에 가하기 위해 제어 회로로부터의 변조 신호에 응답하는 기록 헤드로 공급된다. 일반적으로, 드럼에 가해지는 액체 층인 중간 전달 표면 (웹 (web), 압반 (platen) 또는 임의의 다른 적절한 수용 표면일 수 있음) 이 이용된다. 드럼은 Viton 또는 Teflon (duPont 사의 상표), Tecnoflon P59 (Dow 사의 상표) 와 같은 엘라스토머로 코팅된 알루미늄, 니켈 또는 인산철 (iron phosphate) 또는 이들의 혼합물과 같은 금속을 포함할 수 있다. 노출 표면이 최종 수용 매체가 노출 표면과 전달 및 고정 롤러 사이를 지날 때에 전달된 이미지형성 잉크를 변형시킬 정도로 충분히 단단하고 또한 이미지형성 잉크를 지지하는 중간 전달 표면 또는 액체 층의 능력을 방해하지 않을 정도로 충분히 매끄러운 한, 플루오로엘라스토머, 퍼플루오로엘라스토머, 실리콘 고무 및 폴리부타디엔, 폴리페닐렌 설파이드가 로딩 (loading) 된 폴리테트라플루오르에틸렌 (이에 한정되지 않음) 을 포함하는 플라스틱, 폴리에틸렌, 나일론 및 FEP 와 같은 열가소성 물질, 아세탈과 같은 열경화성 물질 또는 세라믹이 채용될 수 있다. 바람직한 드럼 재료는 양극처리된 알루미늄이고, 바람직한 엘리스토머는 Viton® 이다.

퓨처 (future) 고속 압전 (piezo) 잉크 제트 프린터용 이미지화 드럼은 알루미늄 코어 위에 상기 호환성 (compliant) 플루오로엘라스토머 코팅을 포함한다. 그러한 코팅의 표면 텍스처 (surface texture) 는 고품질 이미지화를 위한 개별 잉크 액적의 피닝 (pinning) 을 가능하게 하기 위한 중요한 고려 사항이다. 매끄럽고 낮은 표면 에너지 및 낮은 열전도도의 표면은, 잉크 액적이 드럼 표면에서 이동하고 응집하는 에너지와 시간을 가질 수 있는 조건을 형성한다. 이러한 현상은 잉크 드로우백 (ink drawback) 이라고 불리며, 고온에서 더욱 두드러진다. 이는 이미지 품질을 저하시키고, 최종 이미지에서 잉크가 없는 영역 또는 얼룩덜룩한 영역으로서 나타난다. 예컨대, 폭이 주어진 연속적인 선이 폭이 변하는 무작위로 끊어진 선으로서 인쇄되거나 또는 솔리드 (solid) 영역이 잉크가 없는 무작위 영역의 불만스러운 레벨로 인쇄될 수 있다.

본 발명은, 잉크 드로우백을 방지하고 이미지 품질을 유지하기 위해, 알루미늄 피에조 잉크 제트 프린트 드럼상의 Viton GF 및 Tecnoflon P959 의 플루오로엘라스토머와 같은 호환성 코팅의 표면을 특별한 소정의 텍스처로 텍스처링 (texturing) 하는 혁신적인 방법이다. 매끄러운 저에너지 균질 표면에 의해, 액적 피닝이 억제되고, 호환성 표면에서 드로우백 또는 개별 잉크 액적의 응집이 발생한다. 이러한 현상은 이미지 품질을 저하시키고, 최종 이미지에서 잉크가 없는 영역 또는 얼룩덜룩한 영역으로서 나타난다. 예컨대, 폭이 주어진 연속적인 선이 폭이 변하는 무작위로 끊어진 선으로서 인쇄되거나 또는 소울 (sole) 영역이 잉크가 없는 무작위 영역의 불만스러운 레벨로 인쇄될 수 있다.

염기 (base) 의 예에는, 산화마그네슘 (MgO), 탄산칼슘 (CaCO₃), 수산화칼슘 (Ca(OH)₂), 탄산칼륨 (K₂CO₃) 등이 포함된다. 아세트산과 같은 산을 이용하여 드럼 표면을 에칭하면, 특정 염기의 수용성 염 (salt) 및 물을 형성하는 반응이 일어나며, 여기서의 수용성 염은 드럼을 물로 세척함으로써 제거될 수 있다.

MgO + 2 CH₃COOH → (CH₃COO)₂Mg + H₂0

본 발명에서, 더 높은 드럼 표면 텍스처가 잉크 드로우백을 제어하는 것으로 드러났다. 이는 드럼 표면의 거칠기와 비균질성으로 인해 야기되는 접촉각 이력현상 (contact angle hystresis) 때문이며, 드럼에서의 액적의 피닝을 돕는 것으로 생각된다. 본 발명은, 잉크 드로우백을 방지하고 이미지 품질을 유지할 특별한 소정의 텍스처로, 피에조 잉크 제트 프린트 드럼상의 Viton GF 및 Tecnoflon P959 의 플루오로엘라스토머와 같은 호환성 드럼 코팅의 표면에 거칠기와 비균질성을 도입하기 위한 화학 에칭 방법을 제공한다. 일 실시형태에서, 본 방법은 일반적으로, 이 재료로 수용 표면을 덮고 있는 엘라스토머 매트릭스 내에 반응성 충전재를 분산시키고, 다음으로 화학 반응을 통해 코팅 표면의 영역으로부터 충전재 재료를 제거한다. 다른 실시형태는, 수용 표면을 포토레지스트 층으로 코팅하는 것, 이 포토레지스트 위에 소정의 개구를 갖는 마스크를 위치시키는 것, 이 개구에 자외선을 통과시켜서 포토레지스트 층 및 수용 표면에 대응 개구를 형성하는 것, 그리고 다음으로 자외선에 노출되지 않은 나머지 포토레지스트 층을 제거하여 텍스처링된 수용 표면 또는 드럼을 형성하는 것을 포함한다. 화학적 수단에 의해 충전재를 제거하면, 충전재 입자의 크기에 의해 결정되는 텍스처가 남게 된다. 여기서 설명하는 것처럼 고도로 텍스처링된 표면을 부여하기 위해 드럼을 에칭하는데 플라스마 및 다른 에칭 방법이 또한 이용될 수 있다.

위에서 언급한 것처럼, 잉크 제트 이미지화 드럼상의 엘라스토머 코팅은 낮은 표면 에너지를 갖고, 이로 인해 잉크 액적이 수축하고 표면에서 응집하게 된다. 이는 파선 및 불완전한 충전 영역과 같이 전달되는 프린트에 이미지 결함을 발생시킨다. 표면을 거칠게 하는 것이 수축을 최소화하는데 도움이 되는 것으로 알려져 있는데, 이는 아마도 표면 미소결함부에서 잉크 메니스커스를 피닝시키기 때문이다. 본 발명은 다음의 두 단계로 이러한 마이크로-거칠기를 형성하는 방식을 제안한다: (a) 플루오로엘라스토머에 화학적으로 반응성인 충전재를 혼합하고 드럼을 코팅하는 단계, 및 (b) 충전재 입자와 화학적으로 반응시켜서, 수용성 침전물 (행궈내어져서 있던 자리에 미세공동 (microvoid) 을 남김) 을 형성하는 단계. 개시된 발명은, 특히 희망하는 텍스처가 드문 피트 (occasional pits) 를 갖는 비교적 매끄러운 표면인 경우, 이미지화 드럼 이외의 적용, 예컨대 퓨저 (fuser) 및 압력 롤에 대해 매력적일 수 있다.

본 발명은, 잉크 드로우백을 방지하고 이미지 품질을 유지하기 위해, 알루미늄 피에조 잉크 제트 프린트 드럼상의 Viton GF 및 Tecnoflon P959 의 플루오로엘라스토머와 같은 호환성 코팅의 표면을 특별한 소정의 텍스처로 텍스처링하는 혁신적인 방법을 제공한다. 매끄러운 저에너지 균질 표면에 의해, 액적 피닝이 억제되고, 호환성 표면에서 드로우백 또는 개별 잉크 액적의 응집이 발생한다. 이러한 현상은 이미지 품질을 저하시키고, 최종 이미지에서 잉크가 없는 영역 또는 얼룩덜룩한 영역으로서 나타난다. 예컨대, 폭이 주어진 연속적인 선이 폭이 변하는 무작위로 끊어진 선으로서 인쇄되거나 또는 솔리드 영역이 잉크가 없는 무작위 영역의 불만스러운 레벨로 인쇄될 수 있다.

염기의 예에는, 산화마그네슘 (MgO), 탄산칼슘 (CaCO₃), 수산화칼슘 (Ca(OH)₂), 탄산칼륨 (K₂CO₃) 및 이들의 혼합물이 포함된다. 아세트산과 같은 산을 이용하여 드럼 표면을 에칭하면, 특정 염기의 수용성 염 및 물을 형성하는 반응이 일어나며, 여기서의 수용성 염은 드럼을 물로 세척함으로써 제거될 수 있다. MgO + 2 CH₃COOH → (CH₃COO)₂Mg + H₂0.

본 발명에 유용한 임의의 적절한 염기에는, ⅡA - ⅤA 족 금속 및 전이금속 및 이들의 혼합물이 포함된다.

산화마그네슘 (MgO), 수산화칼슘 (Ca(OH)₂), 및 탄산칼슘 (CaCO₃) 은, 본 프로세스에서 이러한 2 가지의 염기를 이용하여 고도로 텍스처링된 드럼 표면이 얻어지므로, 바람직한 염기이다. 본 발명의 프로세스에 의해 형성되는 표면은 하기 특성을 갖는다:

약 10⁴ ∼ 약 10⁷ 피트/㎠ 의 텍스처 밀도,

약 0.5 ∼ 약 5 미크론의 텍스처 크기,

약 1 ∼ 약 10 미크론의 텍스처 깊이.

도 1 은, 화학 에칭 전, 기재 (도시 안 됨) 상의 코팅의 표면을 보여준다.
도 2 는, 아세트산 에칭 후, 기재 (도시 안 됨) 상의 코팅의 표면 텍스처를 보여준다.
도 3a 내지 도 3d 는, 포토레지스트 방법을 이용하여 생성되는 금속 드럼의 표면 텍스처를 보여준다.
도 4a 및 도 4b 는, 본 발명의 에칭된 표면과 종래 기술의 에칭되지 않은 본래 (original) 드럼 표면 사이의 잉크 드로우백의 병렬 (side-by-side) 비교를 보여준다.

도 1 및 도 2 에서, 메틸 이소부틸 케톤 (MIBK) 의 16 % (w/v) Viton GF 의 Viton 150 g 용액에, 3.6 g (15 pph) MgO 및 0.24 g (1 pph) Ca(OH)₂ 를 첨가하고, 밤새도록 강철 쇼트 (steel shot) 의 첨가 및 롤 밀링에 의해, MgO, Ca(OH)₂, CaCO₃ 또는 K₂CO₃ 와 같은 염기를 분산시켰다. 5 pph VC-50 큐러티브 (curative) 의 첨가 후에, 분산물 (dispersion) 의 코팅을 스테인리스 강판에 형성하고, 경화시켰다. MgO 입자 (3) 가 드러나도록, 스테인리스 강 표면에서 경화된 필름 (2) 의 표면 (1) 을 400 그릿 (grit) 사포로 문지른 후, 필름 (2) 을 50 % 빙초산 내에 1 시간 동안 두었다. 그리고 나서, 필름 (2) 을 증류수로 씻고, 건조시켰다. 도 1 은 화학 에칭 전 필름 (2) 의 표면을 보여주고, 도 2 는 에칭 후 표면 (1) 텍스처를 보여준다. 도 2 에 도시된 바와 같이, 피트 (pit) 위치 (4) 에서, 에칭 과정의 결과로서 MgO 입자 (3) 의 제거로 인한 더 높은 텍스처의 증거가 존재한다. 그러한 피트는 MgO 입자 또는 씻어낸 (washed away) 충전재 입자의 크기 및 깊이 특성을 갖도록 생성된다. 표면 피트의 밀도는 코팅 내 반응성 염기 또는 충전재 농도의 특징이다.

본 발명의 일 실시형태에서, 도 3a 는 포토레지스트 층 (6) 으로 코팅된 이미지화 드럼 (5) 의 금속 또는 엘라스토머 표면을 보여준다. 도 3a 에는, UV (9) 마스크 (7) 도 또한 도시되어 있다. 마스크 (7) 를 통한 노출 후에는, 포토레지스트 (6) 의 노출된 부분의 제거에 의해, 도 3b 에 도시된 바와 같이 벗겨진 구멍 영역 (8) 이 형성된다. 도 3c 는, 반응성 산 에칭에 의해 형성된 피트 (10) 를 보여준다. 예컨대, 일부 비금속 (base metal) 이 산과 반응할 수 있고, 그로 인해 형성되는 염이 산성 욕 (acid bath) 에 용해된다. 이미지화 드럼 (5) 이 이미 엘라스토머로 코팅되어 있다면, 예컨대 반응성 이온 에칭법을 이용함으로써, 코팅 (6) 에서 피트 (10) 가 형성될 수 있다. 피트 (10) 의 깊이는 산성 욕에 대한 노출 시간에 의해 제어될 수 있다. 도 3d 는, 에칭불가능 (non-etchable) 영역을 덮는 포토레지스트 코팅이 제거되어서, 금속 또는 엘라스토머 수용 표면 (5) 의 텍스처링된 드럼이 형성되는 프로세스의 마지막 단계를 보여준다. 포토레지스트는 폴리메틸메타크릴레이트 또는 폴리메틸글루타르이미드 또는 디아조나프토퀴논/노볼락 수지 (페놀 포름알데히드 수지) 또는 SU-8 (에폭시계 포토레지스트) 의 재료를 포함한다. 마스크는 자외선에 대해 불투과성인 재료로 이루어진다. 포지티브 (positive) 또는 네거티브 (negative) 포토레지스트가 이 실시형태에서 사용될 수 있지만, 포지티브 포토레지스트가 바람직하다.

표 1 은, 종래 기술의 표면과 본 발명에 의해 이루어진 에칭된 표면을 비교한 잉크 드로우백을 보여준다.

표면 온도 (℃)	간극 (미크론), 종래 기술의 표면	간극 (미크론), 본 발명의 표면
72	86	35
78	125	47

잉크 드로우백의 큰 차이로 인해, 본 발명에 의해 제조된 드럼을 사용하는 경우, 현저히 더 양호한 이미지가 얻어진다. 잉크 드로우백은, 도 4a 및 도 4b 에 나타낸 바와 같이, 간극에 의해 측정되었다. 간극이 클수록, 잉크 드로우백이 나빠진다. 35 미크론의 간극은 잉크 드로우백이 거의 없음에 해당한다.

요약하면, 본 발명은, 일 실시형태에서, 이미지화 시스템에 유용한 잉크 수용 표면의 제조 프로세스를 제공한다. 이 실시형태는, 금속 수용 표면을 제공하는 단계, 화학적으로 반응성인 충전재 또는 그와 혼합된 염기를 갖는 엘라스토머로 상기 수용 표면을 코팅하는 단계, 그 다음으로, 이 코팅된 표면을 산으로 에칭하여, 염기의 수용성 염 및 물을 형성하는 단계, 그리고 마지막으로, 코팅된 표면을 물로 세척함으로써 염을 제거하여, 수용 표면에 텍스처를 제공하는 단계를 포함한다. 금속 수용 표면의 재료는 알루미늄, 니켈, 인산철 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된다. 엘라스토머는 플루오로엘라스토머, 폴리(테트라플루오르에틸렌), 실리콘 고무, 니트릴 부틸 고무, 폴리우레탄 엘라스토머, 및 이들의 조합과 혼합물로 이루어진 군에서 선택된다. 염기는 MgO, Ca(OH)₂, CaCO₃, K₂CO₃ 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되고, 산은 아세트산이다. 염은 MgO, Ca(OH)₂, CaCO₃ 또는 K₂CO₃ 의 염이다. 획득되는 수용 표면은, 약 10⁴ ∼ 약 10⁷ 피트/㎠ 의 밀도, 약 0.5 ∼ 약 5 미크론의 크기, 및 약 0.5 ∼ 약 10 미크론의 텍스처 깊이를 갖는 표면 텍스처를 갖고, 획득되는 수용 표면은 약 0.2 ∼ 약 1.5 미크론의 평균 거칠기 (R_a) 를 갖는다.

더 구체적으로, 본 발명의 프로세스는 잉크 제트 인쇄에 유용한 드럼의 제조를 위해 이용될 수 있다. 일 실시형태에서의 단계에는, 비교적 매끄러운 표면을 갖는 금속 드럼을 제공하는 단계, 엘라스토머와 베이스 재료 (base material) 의 혼합물을 포함하는 재료로 상기 드럼을 코팅하는 단계, 드럼의 코팅된 표면을 산으로 에칭하여, 염기의 수용성 염을 형성하는 단계, 및 물로 코팅된 표면을 세척함으로써 염을 제거하여, 드럼의 표면에 텍스처를 제공하는 단계가 포함된다. 전술한 수용 표면과 같이 드럼은 아연, 니켈, 철 합성물 (iron composition) 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된다. 엘라스토머는 플루오로엘라스토머, 폴리(테트라플루오르에틸렌), 실리콘 고무, 니트릴 부틸 고무, 폴리우레탄 엘라스토머, 및 이들의 조합과 혼합물로 이루어진 군에서 선택되고, 염기는 MgO, Ca(OH)₂, CaCO₃, K₂CO₃ 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된다. 사용되는 산은 아세트산이다. 획득되는 수용 표면은, 약 10⁴ ∼ 약 10⁷ 피트/㎠ 의 밀도, 약 0.5 ∼ 약 5 미크론의 크기, 및 약 0.5 ∼ 약 10 미크론의 텍스처 깊이를 갖는 텍스처를 갖고, 획득되는 수용 표면은 약 0.2 ∼ 약 1.5 미크론의 평균 거칠기 (R_a) 를 갖는다.

본 발명의 다른 실시형태에서, 금속 수용 표면 또는 드럼은 포토레지스트 층으로 코팅되고, UV 마스크가 포토레지스트 층 위에 놓인다. 마스크는 자외선이 통과할 수 있는 소정의 개구를 갖는다. 포토레지스트 층은 폴리메틸메타크릴레이트 및 폴리메틸글루타르이미드 및 디아조나프토퀴논/노볼락 수지 및 SU-8 로 이루어진 군에서 선택된 재료를 포함한다. 마스크는, 개구를 제외하고는, 예컨대 하기의 재료와 같은 자외선에 대해 불투과성인 재료를 포함한다. 마스크가 자외선에 노출된 후, 포토레지스트 층 및 금속 수용 표면은 상기 에칭 후에 상기 마스크의 소정의 개구에 대응하게 되는 개구 또는 피트를 갖도록 되어 있다. 상기 프로세스는, 그 다음으로, 포토레지스트 층의 비에칭 영역을 덮고 있는 포토레지스트 코팅을 제거하여, 피트를 갖는 드럼 또는 금속 수용 표면에 텍스처를 제공하는 단계를 포함한다.

특히, 본 발명은 잉크 제트 인쇄에 유용한 드럼의 제조 프로세스를 포함한다. 본 프로세스는, 비교적 매끄러운 표면을 갖는 금속 드럼을 제공하는 단계를 포함하고, 여기서 상기 드럼은 아연, 알루미늄, 니켈, 철 합성물 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된 재료로 구성된다. 드럼은 포토레지스트 층 또는 베이스 재료와 엘라스토머의 혼합물을 포함하는 재료로 이루어진 군에서 선택된 재료로 코팅된다. 그리고, 본 프로세스는, 드럼의 코팅된 표면을 산으로 에칭하여, 염기의 수용성 염을 형성하는 단계, 및 코팅된 표면을 물로 세척함으로써 염을 제거하여, 드럼의 표면에 텍스처를 제공하는 단계를 포함한다.

특정 실시형태에서, 금속 드럼은 단지 포토레지스트 층으로만 코팅된다. UV 마스크가 포토레지스트 층 위에 놓이고, 마스크는 자외선이 통과할 수 있는 소정의 개구를 갖는다. 포토레지스트 층은 폴리메틸메타크릴레이트 및 폴리메틸글루타르이미드 및 디아조나프토퀴논/노볼락 수지 및 SU-8 로 이루어진 군에서 선택된 재료를 포함한다. 마스크는, 개구를 제외하고는, 파장이 400 ㎚ 이하인 자외선에 대해 불투과성인 재료를 포함한다. 마스크가 자외선에 노출된 후, 포토레지스트 층 및 드럼 표면은 에칭 후에 소정의 개구에 대응하게 되는 개구 또는 피트를 갖도록 되어 있고, 다음으로, 포토레지스트 층의 비에칭 영역을 덮고 있는 포토레지스트 코팅을 제거하여, 피트를 갖는 금속 수용 표면 또는 드럼에 텍스처를 제공한다.

상기 프로세스에서, 알루미늄 드럼 상의 포토레지스트 또는 엘라스토머 코팅이 금속 드럼으로서 제공된다. 그리고, 드럼은 포토레지스트로 코팅되거나, 또는 플루오로엘라스토머 및 MgO, Ca(OH)₂ 또는 CaCO₃ 의 염기 충전재를 포함하는 혼합물로 이루어진 군에서 선택된 재료로 코팅된다. 코팅을 아세트산으로 에칭하면, MgO, Ca(OH)₂ 또는 CaCO₃ 의 수용성 염이 형성된다. 코팅된 표면을 물로 세척함으로써 염을 제거하면, 표면이 약 0.2 ∼ 약 1.5 미크론의 평균 거칠기 (R_a), 약 10⁴ ∼ 약 10⁷ 피트/㎠ 의 텍스처 밀도, 약 0.5 ∼ 약 5 미크론의 크기, 및 약 0.5 ∼ 약 10 미크론의 텍스처 깊이를 갖는 텍스처링된 드럼 표면이 형성된다.

또한, 일 실시형태에서, 릴리스 유체의 얇은 필름의 적용을 수용하도록 되어 있는 용융 표면 구조가 제공되며, 상기 표면은 하기 특성, 즉 (a) 약 0.2 ∼ 약 1.5 미크론의 평균 거칠기 (R_a), (b) 약 10⁴ ∼ 약 10⁷ 피트/㎠ 의 텍스처 밀도, (c) 약 0.5 ∼ 약 5 미크론의 텍스처 크기, 및 (d) 약 0.5 ∼ 약 10 미크론의 텍스처 깊이를 포함하는 텍스처링된 수용 표면이다. 수용 표면은 잉크 제트 기술에 유용한 드럼 기재를 포함한다. 잉크 제트 기술에 유용한 이 드럼 기재는, 잉크 드로우백을 방지하거나 최소화하고 또한 최종 프린트에서의 잉크 제트 이미지 품질을 향상시키도록 구성되어 있다.

Claims (3)

1. 잉크 제트 인쇄 시스템을 위한 이미지-수용 표면을 제조하기 위한 방법으로서,
   금속 기재를 제공하는 단계;
   상기 금속 기재를, 화학적으로 반응성인 충전재 또는 그와 혼합된 염기를 갖는 엘라스토머 층으로 코팅하여, 상기 금속 기재상에 코팅을 형성하는 단계;
   상기 코팅을, 코팅의 표면에서 노출된 충전재 또는 염기에 반응하는 유효 농도의 산으로 에칭하여, 코팅의 표면에서 수용성 염을 포함하는 반응 생성물을 형성하는 단계; 및
   코팅 표면을 수용액으로 세척함으로써 상기 반응 생성물을 제거하여, 코팅의 표면에 복수의 피트 (pit) 를 형성하는 단계를 포함하고,
   상기 금속 기재는 아연, 알루미늄, 니켈, 철 합성물 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터의 선택된 재료들을 포함하는 것을 특징으로 하는 이미지-수용 표면을 제조하는 방법.
2. 잉크 제트 인쇄 시스템을 위한 이미지-수용 표면을 제조하기 위한 방법으로서,
   잉크 제트 프린트 드럼의 비교적 매끄러운 표면을 갖는 금속 기재 또는 엘라스토머 층형 (layered) 기재를 제공하는 단계;
   상기 기재를 포토레지스트 층으로 코팅하는 단계;
   UV원과 상기 포토레지스트 층 사이에, UV 마스크를 개재시키는 단계로서, 여기서 상기 마스크는 소정의 크기 범위를 갖는 복수의 개구를 갖고 또한 자외선에 대해 불투과성인 재료를 포함하며, 상기 자외선은 상기 마스크 개구를 통과하는 단계;
   상기 마스크를 자외선에 노출시켜서, 상기 자외선이 상기 마스크 개구를 통과하게 하고, 그에 따라 포토레지스트 층의 일부를 파괴하는 단계;
   상기 자외선에 의해 파괴된 포토레지스트 층의 일부를 제거하는 단계;
   획득되는 기재의 표면을 에칭하여, 표면에 복수의 피트를 형성하는 단계;
   포토레지스트 층의 잔부를 제거하여, 상기 복수의 피트를 갖는 기재의 표면을 형성하는 단계를 포함하고,
   상기 금속 기재는 아연, 알루미늄, 니켈, 철 합성물 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터의 선택된 재료들을 포함하는 것을 특징으로 하는 이미지-수용 표면을 제조하는 방법.
3. 릴리스 유체의 얇은 필름의 적용을 수용하도록 되어 있는 용융 (fusing) 표면 구조로서,
   상기 용융 표면은 잉크 제트 프린트에 사용되는 드럼 기재의 표면이고,
   상기 표면은 하기 특성, 즉
   0.2 ∼ 1.5 미크론의 평균 거칠기 (R_a),
   10⁴ ∼ 10⁷ 피트/㎠ 의 텍스처 밀도,
   0.5 ∼ 5 미크론의 크기의 개구를 갖는 각각의 피트, 및
   0.5 ∼ 10 미크론의 깊이
   를 포함하는 피트구비 (pitted) 표면인 용융 표면 구조.

Images