KR101690681B1 - 유체 분사용 에어나이프 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 유랑의 균일 분사를 위한 에어나이프에 관한 것이고 구체적으로 화학 약품을 포함하는 세정액과 같은 유체의 분사가 가능하도록 하는 내화학성을 가진 에어나이프에 관한 것이다. 에어나이프(10)는 한쪽 방향으로 연장되면서 내부에 유체의 유동 공간이 형성된 몸체(111); 외부로부터 상기 유동 공간에 유체를 공급하기 위한 주입 캡(114); 몸체(111)의 하나의 면과 접촉되는 접촉면(CS)을 형성하는 커버(12); 접촉면(CS)에 형성되는 분사 갭(G); 및 상기 분사 갭(G)에 형성된 이격 유닛(S)을 포함하고, 상기 이격 유닛(S)은 분사 갭(G)의 분사 방향에 수직이 되는 분리 거리를 몸체(111)의 길이 방향을 따라 균일하도록 유지한다.

Description

유체 분사용 에어나이프{Air Knife for Use of Fluid Spray}
본 발명은 유랑의 균일 분사를 위한 에어나이프에 관한 것이고 구체적으로 화학 약품을 포함하는 세정액과 같은 유체의 분사가 가능하도록 하는 내화학성을 가진 에어나이프에 관한 것이다.
반도체 기판 또는 엘시디 기판의 제조 과정에서 표면에 존재하는 미세 입자 또는 이물질은 제품 전체의 불량을 발생시킬 수 있다. 그러므로 반도체 제품, 엘시디와 같은 표시 장치 또는 카메라 모듈의 제조 과정에서 표면에 존재하는 이물질에 해당하는 입자가 제거될 필요가 있다. 이와 같은 이물질의 제거는 다양한 제품의 제조 공정에서 요구되고 이에 따라 다양한 세정 관련 기술이 개발되고 있다.
일반적으로 세정을 위하여 화학 약품, 증류수 또는 공기가 사용될 수 있고 에어나이프는 이와 같은 유체의 분사를 이용하여 이물질을 제거하거나 건조를 위하여 사용될 수 있다. 다양한 구조를 가지는 에어나이프가 세정 또는 건조 공정에 적용되고 있다.
에어나이프와 관련된 선행기술로 특허공개번호 제2003-0070172호 PDP 제조용 에어나이프가 있다. 상기 선행기술은 에어나이프 노즐 갭을 0.02 까지 구현할 수 있을 뿐만 아니라 에어나이프로부터 분사되는 압축 공기의 유량과 압력 분포를 전체적으로 균일하게 유지할 수 있는 PDP 제조용 에어나이프를 제공하는 것을 목적으로 한다. 위와 같은 목적을 위하여 선행기술은 상판과 하판으로 이루어져 내부에 공간부가 형성되는 몸체와, 상기 상판 또는 하판 중 어느 한쪽에 형성되는 공기 주입구와, 상기 상판과 하판 사이의 일단에 미세한 갭이 길이 방향으로 형성되는 노즐과, 상기 상판 또는 하판 중 어느 하나에 노즐이 형성된 부분을 제외한 공간부 둘레에 형성되는 오목 홈과, 상기 오목 홈에 결합되는 패킹 부재와, 상기 상판 및 하판을 체결하기 위해 몸체의 가장자리 둘레를 따라 일정한 간격으로 체결되는 체결 부재와, 상기 노즐의 갭을 미세 조절하기 위해 몸체의 일단에 체결되는 조절 부재를 포함하는 PDP 제조용 에어나이프에 대하여 개시한다.
에어나이프와 관련된 다른 선행기술로 특허공개번호 제2005-0006332호 엘씨디 패널 건조 장치의 에어 나이프 구조가 있다. 상기 선행기술은 공기 분사 방식으로 건조시키는 LCD 패널의 건조 장치에서 에어 나이프의 토출구를 통해 분사되는 공기의 일률성을 향상시킴과 동시에 조립 볼트공 부위에 발생되는 누출 구멍으로 인해 분사 공기의 일률성 및 인입된 공기의 손실을 최소화하도록 하는 LCD 패널 건조 장치의 에어나이프 구조를 제공하는 것을 목적으로 한다. 이와 같은 목적을 위하여 상기 선행기술은 압축기로부터 공급되는 압축 공기를 내부로 유입시키도록 공기 유입 파이프를 양단에 설치하고, 유입된 공기를 유출시키도록 유출공을 하부면에 다수 개가 형성되고 내부에 공간을 갖는 사각 형상의 공기 유입 블록과 상기 공기 유입 블록과 일측단이 결합되고 타측단에는 분사공이 형성된 공기 분사 블록으로 구성되어 공기를 강한 압력으로 분사시켜 LCD 패널 표면의 세척액 및 파티클을 제거하도록 하는 LCD 패널 건조 장치의 에어나이프 구조에 관한 것으로 상기 공기 분사 블록에 공기 유입 블록의 유출공과 연결되는 공기 유도로를 다수 개 형성하고, 공기 유도로로부터 연장되면서 폭의 변화를 가지며 다단으로 굴곡이 되어 다수의 모서리가 형성된 오리피스 경로를 형성하고 오리피스 경로의 단부에 분사공이 형성된 LCD 패널 건조장치의 에어나이프에 대하여 개시한다.
에어나이프와 관련된 다른 선행기술로 국제공개번호 WO 2006/053115호 에어나이프가 있다. 상기 선행기술은 에어 커튼을 발생시키기 위한 유체 배출 장치를 제공하는 것을 목적으로 공기 유입 챔버와 공기 유출 챔버를 구비하는 바디 부재를 포함하는 에어 커튼 발생용 유체 배출 장치에 관한 것으로 상기 공기 유출 챔버는 공기 유입 챔버와 유체 연통하며 상기 바디 부재는 유체가 본체로부터 통과하여 배출되는 배출 오리피스를 형성하며, 이 배출 오리피스는 공기 유출 챔버와 유체 연통하며, 상기 공기 유출 챔버는 한 쌍의 대향 측벽을 구비하고, 각 측벽은 각진 측벽부를 구비하며, 각진 측벽부는 배출 오리피스를 향하여 하류 방향으로 연장됨에 따라 서로를 향하여 수렴하도록 배치되어, 유체를 배출 오리피스를 향하여 안내 및 지향시키는 대략 V 형상의 도입부를 형성하며, 상기 배출 오리피스는 제1 및 제2 에지에 의해 형성되고, 제1 에지는 제2 에지를 지나서 하류 방향으로 연장되는 연장 벽부에 의해 형성되어 배출 오리피스를 지나서 연장하는 유체 배출용 편향면을 형성하는 유체 배출 장치에 개시하고 있다.
상기 선행기술은 에어 갭의 조절이 어렵고 특히 화학 약품을 포함하는 세정액의 분사가 어렵다. 또한 금속 소재로 제조되므로 화학 약품을 포함하는 세정액이 분사되어야 하는 세정 공정에 적용되기 어렵다. 다른 한편으로 부식 저항성을 가지는 플라스틱 또는 합성수지 소재로 제조되는 경우 분사 갭의 유지가 어렵다.
본 발명은 선행기술이 가진 문제점을 해결하기 위한 것으로 아래와 같은 목적을 가진다.
특허공개번호 제2003-0070172호 PDP 제조용 에어나이프 특허공개번호 제2005-0006332호 엘씨디 패널 건조 장치의 에어 나이프 구조 국제공개번호 WO 2006/053115호 에어나이프
본 발명의 목적은 세정 공정에서 분사 갭을 균일하게 유지하면서 내화학성을 가지는 유체 분사용 에어나이프를 제공하는 것이다.
본 발명의 적절한 실시 형태에 따르면, 에어나이프는 한쪽 방향으로 연장되면서 내부에 유체의 유동 공간이 형성된 몸체; 외부로부터 상기 유동 공간에 유체를 공급하기 위한 주입 캡; 몸체의 하나의 면과 접촉되는 접촉면을 형성하는 커버; 접촉면에 형성되는 분사 갭; 및 상기 분사 갭에 형성된 이격 유닛을 포함하고, 상기 이격 유닛은 분사 갭의 분사 방향에 수직이 되는 분리 거리를 몸체의 길이 방향을 따라 균일하도록 유지한다.
본 발명의 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 상기 하나의 면과 상기 접촉면의 적어도 일부는 내화학성 고분자 소재가 된다.
본 발명의 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 상기 분사 갭은 유동 공간의 끝 부분으로 상기 하나의 면과 상기 접촉 면 사이에 균일한 간격을 유지하면서 연장되고, 상기 이격 유닛은 서로 분리되어 분사 방향에 대하여 수직이 되는 방향으로 분리되어 배치되는 다수 개의 서브 유닛으로 이루어진다.
본 발명에 따른 에어나이프는 세정을 위한 화학 약품을 포함하는 세정액이 균일하게 분사될 수 있도록 한다. 또한 본 발명에 따른 에어나이프는 서로 다른 화학적 특성을 가지는 다양한 세정액의 균일 분사가 가능하도록 한다. 추가로 본 발명에 따른 에어나이프는 구조적으로 간단하면서 균일한 세정액의 분사가 가능하도록 한다.
도 1은 본 발명에 따른 에어나이프의 실시 예를 도시한 것이다.
도 2a는 본 발명에 따른 에어나이프에 적용되는 몸체의 실시 예를 도시한 것이고, 도 2b은 본 발명에 따른 에어나이프에서 형성되는 유동 공간의 실시 예를 도시한 것이다.
도 3는 본 발명에 따른 에어나이프에서 분사 갭이 유지될 수 있도록 하는 구조의 실시 예를 도시한 것이다.
도 4는 본 발명에 따른 에어나이프에 적용되는 커버의 실시 예를 도시한 것이다.
아래에서 본 발명은 첨부된 도면에 제시된 실시 예를 참조하여 상세하게 설명이 되지만 실시 예는 본 발명의 명확한 이해를 위한 것으로 본 발명은 이에 제한되지 않는다. 실시 예의 설명에서 공지된 구성요소는 간략하게 설명이 되거나 발명의 이해를 위하여 요구되지 않는 경우 설명이 되지 않는다. 다만 이로 인하여 이와 같은 구성요소가 본 발명의 범위에서 제외되는 것으로 이해되지 않아야 한다.
도 1은 본 발명에 따른 에어나이프(10)의 실시 예를 도시한 것이다.
도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 에어나이프(10)는 한쪽 방향으로 연장되면서 내부에 유체의 유동 공간이 형성된 몸체(111); 외부로부터 상기 유동 공간에 유체를 공급하기 위한 주입 캡(114); 몸체(111)의 하나의 면과 접촉되는 접촉면(CS)을 형성하는 커버(12); 접촉면(CS)에 형성되는 분사 갭(G); 및 상기 분사 갭(G)에 형성된 이격 유닛(S)을 포함하고, 상기 이격 유닛(S)은 분사 갭(G)의 분사 방향에 수직이 되는 분리 거리를 몸체(111)의 길이 방향을 따라 균일하도록 유지한다.
본 발명에 따른 에어 나이프는 LCD 기판 또는 반도체 부품과 같은 전자부품 또는 소자의 표면에 존재하는 이물질 또는 미세 입자의 제거를 위하여 적용될 수 있지만 이에 제한되지 않고 제조 공정에서 세척 또는 건조가 요구되는 임의의 공정에 적용될 수 있다. 세정을 위한 유체는 기체, 액체 또는 이들이 혼합된 형태가 될 수 있고 세정을 위한 화학 물질을 포함할 수 있다. 세정이 되어야 할 전자부품에 따라 화학 약품은 서로 다를 수 있고 본 발명에 따른 에어나이프(10)는 각각의 세정 약품에 적합한 소재로 제조될 수 있다. 일반적으로 금속 소재는 내화학성이 약하므로 본 발명에 따른 에어나이프(10)는 예를 들어 고분자 소재로 제조될 수 있고 바람직하게 화학 약품과 접촉되는 유동 공간 또는 분사 경로가 내화학성을 가지는 고분자 소재로 만들어지거나 고분자 소재로 코팅될 수 있다.
본 발명에 따른 에어나이프(10)의 적어도 일부는 예를 들어 ABS, 아세탈, 나일론, PBT(Poly-butylene Terephthalate), PET(Poly-ethylene Terephthalate), 폴리카보네이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리술폰, PPS(Poly-phenylene Sulfine), PTFE(Polytetrafluoroethylene), PVDF(Poly(vinylidenedifluoride) 또는 이들의 혼합물로부터 제조되거나 코팅이 될 수 있지만 이에 제한되지 않는다. 본 발명에 따른 에어나이프(10)의 적어도 일부는 내화학성을 가지는 임의의 고분자 소재로 제조될 수 있고 본 발명은 고분자 소재의 종류에 의하여 제한되지 않는다.
본 발명에 따른 에어나이프는 예를 들어 이오나이저를 포함할 수 있고 그리고 집진 장치에 연결되어 사용될 수 있다. 예를 들어 본 발명에 따른 에어나이프는 집진 장치에 부착되어 설치되거나 또는 에어 나이프의 한쪽 끝에 집진 장치가 설치될 수 있다. 그러므로 본 발명에 따른 장치는 부가적인 장치의 설치에 의하여 제한되지 않는다.
도 1의 (가)는 정면도 및 측면도를 각각 도시한 것이고 그리고 (나)는 외부 공기가 유입되는 면을 각각 도시한 것이다.
에어나이프(10)는 몸체(111) 및 커버(12)로 이루어질 수 있고 몸체(111)와 커버(12)는 접촉면(CS)을 가질 수 있고 접촉면(CS)에 분사 갭이 형성될 수 있다. 분사 갭은 세정을 위하여 분사가 되어야 할 유체의 특성 또는 몸체(111)와 커버(12)의 구조에 따라 적절하게 선택될 수 있고 예를 들어 0.01 내지 2.0 가 될 수 있지만 이에 제한되지 않는다. 몸체(111)의 내부에 분사 갭으로 유체를 유도하기 위한 유동 공간이 형성될 수 있고 유동 공간으로 외부의 공기를 주입시키기 위한 주입 캡(114)이 형성될 수 있다. 필요에 따라 적어도 하나의 보조 캡(117)이 주입 캡(114)과 동일한 관통 방향으로 형성되어 유동 공간의 압력 조절을 위하여 사용될 수 있다. 구체적으로 주입 캡(114)을 통하여 세정을 위한 유체가 공급되는 한편 유동 공간의 내부가 전체적으로 균일한 압력으로 유지될 수 있도록 주입 캡(114)에 비하여 작은 직경을 가지는 보조 캡(117)을 통하여 공기 또는 유체가 공급되거나 또는 미리 결정된 크기의 압력이 가해지도록 할 수 있다.
커버(12)는 몸체(111)의 한쪽 면에 결합되는 제1 블록(121) 및 제2 블록의 앞쪽에 형성되는 경사 블록(122)으로 이루어질 수 있고 경사 블록(122)의 한쪽 끝 면은 몸체(111)로부터 돌출되어 돌출 면을 형성할 수 있다.
몸체(111)와 커버(12)는 적절한 고정 수단(127)에 의하여 고정될 수 있고 필요에 따라 몸체(111)는 다수 개의 블록으로 형성되어 서로 결합되거나 또는 커버(12)와 결합될 수 있다.본 발명에 따른 에어나이프(10)는 다수 개의 블록의 결합으로 이루어질 수 있고 서로 다른 블록은 적절한 고정 수단(127)에 의하여 서로 결합될 수 있다.
몸체(111)의 하나의 면 또는 몸체(111)의 위쪽 면과 커버(12)의 아래쪽 면이 서로 만나 접촉면(CS)이 형성될 수 있고, 접촉면(CS)에 분사 갭이 형성될 수 있고 그리고 분사 갭에 이격 유닛이 배치될 수 있다.
주입 캡(114)을 통하여 내부 공간으로 유입된 유체는 분사 갭을 통하여 분사될 수 있고 이격 유닛은 분사 갭의 이격 수준이 균일하게 유지되도록 한다. 이격 유닛은 분리된 유닛으로 형성되거나 또는 몸체(111) 또는 커버(12)와 일체형으로 형성될 수 있고 이격 유닛에 의하여 유체는 분사 면을 따라 균일하게 분사될 수 있다. 또한 이격 유닛은 분사 갭이 형성되는 기능을 가질 수 있다.
아래에서 구체적으로 설명된다.
도 2a는 본 발명에 따른 에어나이프에 적용되는 몸체의 실시 예를 도시한 것이고, 도 2b은 본 발명에 따른 에어나이프에서 형성되는 유동 공간의 실시 예를 도시한 것이다.
도 2a 및 도 2b를 참조하면, 몸체(111)의 내부에 유동 공간이 형성될 수 있고 유동 공간은 주입 캡(114)으로부터 분사 갭에 이르는 방향으로 서로 다른 부피 또는 형상을 가지는 다수 개의 서브 공간으로 이루어질 수 있다. 그리고 유동 공간은 분사 갭(G)과 연결될 수 있고 그리고 유동 공간 또는 분사 갭(G) 내에 형성된 서로 다른 영역을 구분하기 위하여 제1, 2 및 3 경계선(211L, 212L, 213L)이 형성될 수 있다.
도 2b를 참조하면, 주입 캡(114)은 원통 형상으로 연장되는 주입 공간(231V)을 형성하고 주입 공간(231V)은 상대적으로 큰 부피를 가지는 체류 공간(232V)과 연결될 수 있다. 체류 공간(232V)의 안쪽에 압력 조절 공간(233V)이 형성될 수 있고 그리고 체류 공간(232V)의 아래쪽에 분사 갭(G)이 연결될 수 있다.
커버와 접촉되는 몸체(111)의 위쪽 면은 평면 형상을 가질 수 있고 몸체(111)의 아래쪽 면은 평면으로 연장되는 평면 연장 영역(21), 평면 연장 영역(21)의 끝 부분으로부터 경사진 형상으로 연장되는 경사 연장 영역(22) 및 경사 연장 영역(22)으로부터 수직으로 커버 방향 또는 몸체(111)의 위쪽 부분으로 연장되는 수직 연장 영역(23)으로 이루어질 있다. 수직 연장 영역(23)의 끝 부분은 분사 면 또는 분사 갭(G)의 끝 부분을 형성한다.
압력 조절 공간(233V)은 체류 공간(232V)의 아래쪽 면으로부터 경사지면서 분사 갭(G)의 방향으로 돌출되도록 형성될 수 있다. 그리고 체류 공간(232V)과 분사 갭(G) 사이에 유도 공간(235V)이 형성될 수 있고 그리고 유도 공간(235V)에 분사 갭(G)이 연결될 수 있다. 구체적으로 경사면(234S)은 제1 경계면(211L)과 제2 경계면(212L) 사이에 형성되고, 제2 경계면(212L)로부터 분사 방향으로 이격된 거리에 제3 경계면(213L)이 형성될 수 있다. 제2 경계면(212L)과 제3 경계면(213L) 사이에 유도 공간(235V)가 형성될 수 있고 유도 공간(235V)은 체류 공간(232V)에 비하여 작고 분사 갭(G)에 비하여 큰 높이를 가지도록 형성될 수 있다. 그리고 유도 공간(235V)의 끝 부분으로부터 분사 갭(G)이 연장될 수 있다. 이와 같은 구조로 인하여 주입 캡(114)으로 주입되는 유체가 직접 분사 갭(G)으로 유도되는 것이 방지되면서 체류 공간(232V)의 전체 압력이 균일해질 수 있도록 한다. 그리고 균일한 압력으로 유지되는 유체는 경사면(234S)을 통하여 유도 공간(235V)으로 유도되어 균일하게 분사 갭(G)으로 유도될 수 있다.
도 2a 및 도 2b를 참조하면 체류 공간 및 분사 갭(G)이 형성되는 영역의 밀폐 특성을 향상시키면서 이와 동시에 전체적으로 수평 방향의 균형이 유지될 수 있도록 하는 밀폐 유닛(24)이 배치될 수 있다. 밀폐 유닛(24)은 외부 충격 또는 진동으로 인하여 발생될 수 있는 에어나이프의 성능 저하를 방지하면서 한쪽 방향으로 상대적으로 길게 연장되는 에어나이프의 수평 수준이 유지될 수 있도록 한다.
분사 갭(G)과 체류 공간 사이에 이격 유닛(S)이 배치될 수 있다. 구체적으로 체류 공간으로부터 분사 면으로 연장되는 분사 갭(G)에 이격 유닛(S)이 배치되거나 이격 유닛(S)이 형성될 수 있다. 이격 유닛(S)은 분사 갭(G)의 상하 높이 차가 유지되도록 하면서 체류 공간으로부터 분사 면으로 이동하는 유체의 흐름이 방해되지 않도록 하는 기능을 가질 수 있다. 금속이 아닌 고분자 소재로 몸체(111)가 형성되는 경우 예를 들어 0.01 내지 2.0 ㎜의 높이가 되는 분사 갭(G)이 몸체의 길이 방향으로 유지되기 어렵다. 예를 들어 몸체(111)의 제1 방향의 길이가 1300 내지 1500 ㎜가 되고 그리고 제1 방향으로 길이가 35 내지 60 ㎜가 될 수 있다. 분사 갭(G)의 제1 방향의 길이는 몸체(111)의 길이와 유사하고 제2방향의 길이는 5 내지 20 ㎜가 될 수 있다. 그리고 분사 갭(G)의 높이는 예를 들어 0.01 내지 2 ㎜가 될 수 있다. 이와 같은 구조에서 분사 갭(G)의 제1 또는 2 방향 전체에 대하여 균일한 높이가 유지되기 어렵고 고분자 소재의 경우 소재 자체의 특성으로 인하여 균일한 높이가 유지되지 않는다.
이격 유닛(S)은 이와 같은 구조에서 분사 갭(G)의 높이를 균일하게 유지하는 기능을 가질 수 있고 몸체(111)와 커버의 접촉면 사이에 설치되어 두 개의 접촉면이 분사 갭(G)을 형성하면서 균일한 높이 또는 간격이 유지되도록 한다. 이격 유닛(S)은 몸체(111)의 제1 방향을 따라 균일하게 또는 불균일하게 배치되는 다수 개의 서브 유닛으로 이루어질 수 있다. 이와 같은 구조에서 주입 캡(114)으로 유입된 유체는 체류 공간(232V)에서 균일 압력으로 유지되면서 체류되고 이후 경사면(234S)을 따라 유도 공간(235V)를 거쳐 분사 갭(G)으로 유도되어 이격 유닛(23)의 서브 유닛 사이를 거쳐 분사 갭(G)을 따라 흐르게 되고 이후 분사 갭(G)을 따라 분사 면으로 유도되어 분사될 수 있다.
도 2b의 아래쪽에 도시된 것처럼, 이격 유닛(S)은 분사 갭(G)이 시작되는 위치로부터 예를 들어 분사 갭(G) 전체 길이의 1/5 내지 4/5의 길이만큼 연장되도록 형성될 수 있지만 이격 유닛은 다양한 구조로 형성될 수 있고 제시된 실시 예에 제한되지 않는다.
도 3는 본 발명에 따른 에어나이프에서 분사 갭이 유지될 수 있도록 하는 구조의 실시 예를 도시한 것이다.
도 3을 참조하면, 체류 공간의 제1 경계 면(211L)으로부터 경사면(234S)이 형성되고 그리고 경사면(234S)과 분사 갭(G) 사이에 유도 공간(235V)이 형성될 수 있다. 유도 공간(235V)은 분사 갭(G)에 비하여 상대적으로 큰 높이를 가질 수 있고 경사면(234S)이 끝나는 제2 경계면(212L)으로부터 분사 방향으로 이격되어 위치하는 제3 경계면(213L)에 의하여 형성될 수 있다. 체류 공간이 높이는 12 내지 20 ㎜가 되고, 유도 공간(235V)의 높이는 1.0 내지 4 ㎜가 되고 그리고 분사 갭(G)의 높이는 0.1 내지 0.5 ㎜가 될 수 있다. 다른 한편으로 제2 방향으로 체류 공간의 길이는 14 내지 20 ㎜가 되고, 유도 공간(235V)의 길이는 4 내지 8 ㎜가 되고 그리고 분사 갭(G)의 제2 방향 길이는 7 내지 12 ㎜가 될 수 있다. 체류 공간, 유도 공간 및 분사 갭(G)은 다양한 구조로 만들어질 수 있고 본 발명은 제시된 실시 예에 제한되지 않는다.
도 3을 참조하면, 이격 유닛(S)은 유도 공간(235V)로부터 전체 분사 갭(G)의 길이의 1/5 내지 4/5가 되도록 형성될 수 있지만 이에 제한되지 않는다.
도 3을 참조하면, 이격 유닛(23)을 형성하는 각각의 서브 유닛(S1, S2, S3, S4)은 타원 형상이 되거나, 다각형 형상이 되거나 원형이 될 수 있고 타원 형상 또는 다각형 형상은 분사 방향으로 연장되는 형상이 될 수 있다. 이격 유닛(S)은 동일하거나 또는 서로 다른 형상의 서브 유닛(S1, S2, S3, S4)이 분리되어 배치된 구조로 이루어질 수 있고, 하나의 몸체(111)에 배치되는 서브 유닛(S1, S2, S3, S4)은 몸체(111)의 제1 방향 또는 가로 방향으로 분리되어 위치되어 유체의 흐름이 방해되지 않도록 배치될 수 있다. 다양한 구조의 이격 유닛(S)이 본 발명에 따른 에어나이프에 적용될 수 있고 본 발명은 제시된 실시 예에 제한되지 않는다.
도 4는 본 발명에 따른 에어나이프에 적용되는 커버(12)의 실시 예를 도시한 것이다.
도 4를 참조하면. 커버(12)는 평면 형상으로 연장되는 제1 블록(121) 및 위쪽 면이 경사지도록 연장되는 제2 블록(122)으로 이루어질 수 있고 고정 수단(127)에 의하여 몸체에 결합될 수 있다. 커버(12)의 접촉면(CS)은 몸체의 접촉면과 접촉되어 체류 공간, 유도 공간 및 분사 갭의 한쪽 면을 형성할 수 있다.
다양한 형상을 가지는 커버(12)가 몸체에 결합되어 에어나이프를 형성할 수 있고 본 발명은 제시된 실시 예에 제한되지 않는다.
본 발명에 따른 에어나이프는 세정을 위한 화학 약품을 포함하는 세정액이 균일하게 분사될 수 있도록 한다. 또한 본 발명에 따른 에어나이프는 서로 다른 화학적 특성을 가지는 다양한 세정액의 균일 분사가 가능하도록 한다. 추가로 본 발명에 따른 에어나이프는 구조적으로 간단하면서 균일한 세정액의 분사가 가능하도록 한다.
위에서 본 발명의 제시된 실시 예를 참조하여 상세하게 설명이 되었지만 이 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 제시된 실시 예를 참조하여 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위에서 다양한 변형 및 수정 발명을 만들 수 있을 것이다. 본 발명은 이와 같은 변형 및 수정 발명에 의하여 제한되지 않으며 다만 아래에 첨부된 청구범위에 의하여 제한된다.
10: 에어나이프 12: 커버
24: 밀폐 유닛 111: 몸체
114: 주입 캡 117: 보조 캡
121: 제1 블록 122: 제2 블록
127: 고정 수단
CS: 접촉 면 G: 분사 갭
S: 이격 유닛

Claims (3)

  1. 한쪽 방향으로 연장되면서 내부에 유체의 유동 공간이 형성된 몸체(111);
    외부로부터 상기 유동 공간에 유체를 공급하기 위한 주입 캡(114);
    몸체(111)의 하나의 면과 접촉되는 접촉면(CS)을 형성하는 커버(12);
    유동 공간에 형성되는 체류 공간(232V);
    접촉면(CS)에 형성되는 분사 갭(G);
    분사 갭(G)에 연결되면서 분사 갭(G)에 비하여 상대적으로 큰 높이를 가지는 유도 공간(235V); 및
    분사 갭(G)이 시작되는 위치로부터 분사 캡(G)의 전체 길이의 1/5 내지 4/5의 길이만큼 연장되도록 형성되는 이격 유닛(S)을 포함하고,
    상기 몸체(111)의 하나의 면과 상기 접촉면의 적어도 일부는 내화학성 고분자 소재가 되고, 상기 이격 유닛(S)은 분사 갭(G)의 분사 방향에 수직이 되는 분리 거리를 몸체(111)의 길이 방향을 따라 균일하도록 유지하는 것을 특징으로 하는 유체 분사용 에어나이프.
  2. 삭제
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 이격 유닛(S)은 서로 분리되어 분사 방향에 대하여 수직이 되는 방향으로 분리되어 배치되는 다수 개의 서브 유닛(S1, S2, S3, S4)으로 이루어지는 것을 특징으로 유체 분사용 에어나이프.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000015780A (ja) * 1998-07-02 2000-01-18 Toppan Printing Co Ltd エアーノズル

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11277011A (ja) * 1998-03-31 1999-10-12 Shibaura Mechatronics Corp エアナイフ及びエアナイフを用いた処理装置
KR100791726B1 (ko) 2002-02-21 2008-01-03 이중호 Pdp 제조용 에어나이프
KR100527789B1 (ko) 2003-07-08 2005-11-09 태화일렉트론(주) 엘씨디 패널 건조장치의 에어나이프 구조
CN100562371C (zh) 2004-11-10 2009-11-25 喷洒系统公司 空气刀

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000015780A (ja) * 1998-07-02 2000-01-18 Toppan Printing Co Ltd エアーノズル

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