KR101651879B1 - Apparatus for leveling a heater - Google Patents

Apparatus for leveling a heater Download PDF

Info

Publication number
KR101651879B1
KR101651879B1 KR1020140137957A KR20140137957A KR101651879B1 KR 101651879 B1 KR101651879 B1 KR 101651879B1 KR 1020140137957 A KR1020140137957 A KR 1020140137957A KR 20140137957 A KR20140137957 A KR 20140137957A KR 101651879 B1 KR101651879 B1 KR 101651879B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
leveling
chamber
shaft
washer
heater
Prior art date
Application number
KR1020140137957A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20160043488A (en
Inventor
장경호
Original Assignee
주식회사 테스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 테스 filed Critical 주식회사 테스
Priority to KR1020140137957A priority Critical patent/KR101651879B1/en
Publication of KR20160043488A publication Critical patent/KR20160043488A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101651879B1 publication Critical patent/KR101651879B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/46Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for heating the substrate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/458Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/458Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
    • C23C16/4582Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs
    • C23C16/4583Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs the substrate being supported substantially horizontally

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)

Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 히터 레벨링 장치는 내부에 샤워헤드가 장착된 챔버; 샤웨헤드의 하부에 위치되고 기판이 안착되는 히터블럭과, 히터블럭에 연결된 샤프트가 마련된 히터부; 및 챔버의 외부에서, 챔버와 샤프트에 연결되어, 샤워헤드에서 분사된 반응가스가 기판에 고르게 증착되도록 히터블럭의 수평도를 조절하는 레벨링부를 포함하는 것이 바람직하다.A heater leveling apparatus according to an embodiment of the present invention includes: a chamber having a showerhead mounted therein; A heater disposed at a lower portion of the shaft and having a substrate mounted thereon, and a heater connected to the heater block; And a leveling unit connected to the chamber and the shaft, outside the chamber, for adjusting the level of the heater block so that the reactive gas injected from the showerhead is uniformly deposited on the substrate.

Description

히터 레벨링 장치{APPARATUS FOR LEVELING A HEATER}[0001] APPARATUS FOR LEVELING A HEATER [0002]

본 발명은 히터 레벨링 장치에 관한 것이며, 상세하게는 히터의 수평도를 조절하는 히터 레벨링 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a heater leveling apparatus, and more particularly, to a heater leveling apparatus for adjusting the level of a heater.

일반적으로 화학기상증착장치를 사용하여 기판상에 박막을 형성할 때, 화학기상증착장치의 반응 챔버 내에서 증착 공정을 진행한 기판의 누적 매수가 증가함에 따라 기판 뿐만 아니라 반응 챔버 내부의 히터 블록 위에도 박막이 증착될 수 있다. Generally, when a thin film is formed on a substrate by using a chemical vapor deposition apparatus, as the cumulative number of substrates subjected to the deposition process in the reaction chamber of the chemical vapor deposition apparatus is increased, not only on the substrate but also on the heater block inside the reaction chamber A thin film can be deposited.

이는 박막 증착 공정 중에 반응 챔버 내에서 반응 가스가 기판 에지 부분을 통해 히터 블록 가장자리 쪽으로 침투하여 이 부분에서 박막 퇴적층이 형성되기 때문이다. 히터블럭 위에 박막 퇴적층이 형성되면, 기판이 히터블럭 상에 안착될 때 비스듬하게 놓여지게 되어 박막의 증착 특성이 불량하게 되어 증착 공정의 재현성을 확보할 수 없게 된다. This is because during the thin film deposition process, the reaction gas penetrates the edge of the heater block through the substrate edge portion in the reaction chamber to form a thin film deposition layer at this portion. When the thin film deposition layer is formed on the heater block, the substrate is placed obliquely when the substrate is placed on the heater block, so that the deposition characteristics of the thin film become poor and the reproducibility of the deposition process can not be secured.

이와 같은 현상이 발생 되면, 화학기상증착장치의 가동을 중단시키고 히터블럭 위에 증착된 박막 퇴적층 및 반응 챔버 내부의 이물질을 제거하고 다시 장치를 복구시킨 후, 히터블록 승강장치에 의해 히터블럭의 위치를 조정한다. When such a phenomenon occurs, the operation of the chemical vapor deposition apparatus is stopped, the thin film deposition layer deposited on the heater block and the foreign materials inside the reaction chamber are removed, and the apparatus is restored again. Thereafter, the position of the heater block Adjust.

예를 들어, 도 1에 도시한 바와 같은 화학기상증착장치에서, 챔버(10) 하부에 위치한 히터블럭승강유닛(30)을 사용하여 챔버(10) 내부의 히터블럭(20)의 위치를 조정한다. 그런 다음, 히터블럭 레벨링 장치(40)를 이용하여 히터블럭의 수평도를 조정한다.
For example, in a chemical vapor deposition apparatus as shown in Fig. 1, the position of the heater block 20 inside the chamber 10 is adjusted by using a heater block lifting unit 30 located below the chamber 10 . Then, the heater block leveling device 40 is used to adjust the level of the heater block.

한편, 증착 공정을 수행해서 얻은 박막의 3차원 맵(3D map)이 불균일한 경우가 발생하는데, 균일한 박막 두께를 얻기 위해서는, 히터블럭과 샤워헤드의 간격을 조정하기 위하여 히터블럭 레벨링장치(40)에 의해 히터블럭의 기울기를 조정하는 레벨링(leveling) 작업을 실시하여야 한다.
On the other hand, a three-dimensional map (3D map) of the thin film obtained by performing the deposition process may be uneven. In order to obtain a uniform thin film thickness, a heater block leveling device 40 ) Should be performed to adjust the inclination of the heater block.

상기 히터블럭 레벨링장치(40)를 이용하여 히터블럭(20)의 기울기를 조절하는 방법은, 레벨링스크류(42)에 체결된 레벨링 플레이트(41)의 기울기를 조절한다. 그런 다음, 레벨링스크류(42)에 연결된 상부너트(43)와 하부너트(44)를 서로 반대방향으로 조여주면서 레벨링 플레이트(41)를 레벨링 스크류(42)에 고정한다. 그러나, 이 과정에서 레벨링스크류(42)에는 상부너트(43) 및 하부너트(44)와 맞닿은 부분에서 도 1 및 도 2b에 도시된 바와 같이 레벨링 플레이트(41)의 기울어진 각도(θ)만큼 휨이 발생하게 된다. The method of adjusting the inclination of the heater block 20 using the heater block leveling device 40 adjusts the inclination of the leveling plate 41 fastened to the leveling screw 42. Then, the leveling plate 41 is fixed to the leveling screw 42 while tightening the upper nut 43 and the lower nut 44 connected to the leveling screw 42 in opposite directions. However, in this process, the leveling screw 42 is warped by the inclined angle &thetas; of the leveling plate 41 as shown in Figs. 1 and 2B at the portion abutting the upper nut 43 and the lower nut 44 .

이로 인하여 상부너트(43) 및 하부너트(44)가 레벨링스크류(42)와의 조임시 나사산의 손실되어 그 역할을 제대로 수행하지 못하고, 또한, 레벨링스크류(42)의 휨으로 인해, 레벨링플레이트(41)의 위치조작이 용이하게 행하여지지 못하는 문제점이 발생한다. 또한, 이로 인해 파손된 히터블럭 레벨링장치(40)을 교체하기 위하여 챔버(10)에서 분리하여야 하는 상황이 발생하고, 교체하는데 많은 시간이 소요된다. As a result, when the upper nut 43 and the lower nut 44 are fastened with the leveling screw 42, the thread is lost and the role of the screw is lost. Also, due to the warping of the leveling screw 42, The positional manipulation can not be easily performed. Further, in this case, there is a situation in which the heater 10 needs to be separated from the chamber 10 in order to replace the broken heater block leveling device 40, and it takes a lot of time to replace it.

히터블럭 레벨링장치(40)를 교체하기 위해서는 챔버(10)의 온도를 하강하고 챔버내의 진공상태를 해제하여 대기상태의 챔버(10)를 만든 후에 히터블럭(20)를 분리하고 히터블럭 레벨링장치(40)에서 휘어진 레벨링스크류(42)를 절단기를 이용하여 분리하게 된다. In order to replace the heater block leveling device 40, the temperature of the chamber 10 is lowered and the vacuum state in the chamber is released to make the chamber 10 in the standby state. Thereafter, the heater block 20 is removed and the heater block leveling device 40 by using a cutter.

만약, 레벨링플레이트(41)상단에서 레벨링스크류(42)가 휜다면 절단이 필요없지만, 상부너트(43)와 하부너트(44)를 조일 때 아래부분에 먼저 힘이 가해진다면 레벨링스크류(42) 하부가 휘게 된다. 이 때, 하부너트(44)가 레벨링스크류(42)와 분리되지 않아 절단까지 이르게 되는 상황이 발생하기도 한다.
If the leveling screw 42 is bent at the upper end of the leveling plate 41, cutting is not required. However, if a force is first applied to the lower portion of the leveling screw 42 when the upper nut 43 and the lower nut 44 are tightened, . At this time, the lower nut 44 may not be separated from the leveling screw 42 and may be cut off.

상기와 같은 과정을 거쳐, 히터블럭 레벨링장치(40)를 교체한 후, 상술한 순서의 역순으로 재조립한다. After replacing the heater block leveling device 40 through the above-described process, the heater block leveling device 40 is reassembled in the reverse order of the above-described procedure.

이때, 히터블럭(20)을 챔버(10) 내에 재장착하는 과정에서 히터블럭(20)의 센터링 및 위치 교정이 수행되며, 이후, 챔버(10)를 진공상태로 만든 후 온도를 상승하여 공정을 진행한다. 이때, 챔버(10) 내의 상태가 교체전의 상태 그대로 재현되는지 여부가 불완전하고, 교체 과정에서 이물질 검출등의 문제가 발생한다면 해당 챔버(10)를 장시간 사용하지 못하게 되는 문제점이 발생하게 된다.
At this time, in the process of re-mounting the heater block 20 in the chamber 10, the centering and position calibration of the heater block 20 is performed. Thereafter, the chamber 10 is brought into a vacuum state, Go ahead. At this time, whether or not the state in the chamber 10 is reproduced as it is before the replacement is incomplete, and if a problem such as foreign matter detection occurs in the replacement process, the chamber 10 can not be used for a long time.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 히터의 기울기를 용이하게 조절할 수 있을 뿐만 아니라 히터의 기울기 조절시에 레벨링 부재의 손상을 방지할 수 있는 히터 레벨링 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made keeping in mind the above problems occurring in the prior art, and it is an object of the present invention to provide a heater leveling device capable of easily controlling a tilt of a heater, The purpose.

또한, 본 발명은 화학기상증착공정시 기판에 성장하는 막질이 균일하도록, 히터의 기울기를 조절하는 히터 레벨링 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
It is another object of the present invention to provide a heater leveling device for adjusting the inclination of a heater so that the quality of a film grown on a substrate is uniform during a chemical vapor deposition process.

상술한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 의한 히터 레벨링 장치는, 챔버;According to an aspect of the present invention, there is provided a heater leveling apparatus comprising: a chamber;

기판이 안착되는 히터블럭과, 상기 히터블럭에 연결된 샤프트가 마련된 히터부; 및 상기 챔버의 외부에서, 상기 챔버와 상기 샤프트에 연결되어, 상기 히터블럭의 기울기를 조절하는 레벨링부를 포함하며, 상기 레벨링부는, 상기 히터부에 연결되는 레벨링 플레이트; 상기 챔버와 상기 레벨링 플레이트를 연결하는 고정부재; 및 상기 챔버와 상기 레벨링 플레이트에 연결되어, 상기 레벨링 플레이트의 높이를 조절하는 복수의 레벨링부재를 포함하는 것을 특징으로 한다. A heater block on which the substrate is placed, and a heater connected to the heater block; And a leveling unit connected to the chamber and the shaft outside the chamber to adjust the inclination of the heater block, wherein the leveling unit includes: a leveling plate connected to the heater unit; A fixing member connecting the chamber and the leveling plate; And a plurality of leveling members connected to the chamber and the leveling plate for adjusting a height of the leveling plate.

상기 고정부재는 일단이 상기 챔버의 저면에 나사결합되고, 타단이 구형 헤드를 가지며, 상기 고정부재의 구형헤드는 상기 레벨링 플레이트에 마련된 고정오목홈에 안착되고, 상기 고정오목홈과의 접촉면에서 미끄럼 회동하는 것을 특징으로 한다. Wherein the fixing member has one end screwed to the bottom surface of the chamber and the other end has a spherical head and the spherical head of the fixing member is seated on a fixing concave groove provided in the leveling plate, And is rotated.

상기 레벨링 플레이트에는 상기 복수의 레벨링부재가 각각 관통되는 복수의 레벨링관통홀이 마련되고, 상기 복수의 레벨링관통홀의 내주면에는 상기 레벨링관통홀의 원주방향을 따라 고리형 오목홈이 마련된 것을 특징으로 한다. The leveling plate is provided with a plurality of leveling through holes through which the plurality of leveling members are respectively passed, and an annular concave groove is formed in the inner circumferential surface of the plurality of leveling through holes along the circumferential direction of the leveling through hole.

상기 레벨링부재는 일단이 상기 챔버의 저면에 결합되는 레벨링 샤프트; 상기 레벨링 샤프트의 외주면을 둘러싸고 상기 고리형 오목홈에 안착되며 상기 고리형 오목홈과의 접촉면에서 미끄럼 회동하는 구형 와셔를 포함하는 것을 특징으로 한다. A leveling shaft having one end coupled to a bottom surface of the chamber; And a spherical washer that surrounds the outer circumferential surface of the leveling shaft and is seated on the annular recessed groove and slidably rotates on a contact surface with the annular recessed groove.

상기 레벨링부재는 일단이 구형 헤드를 가지며 상기 챔버의 저면에 마련된 챔버오목홈에 설치되고, 타단이 상기 레벨링 플레이트를 관통하여 상기 챔버와 상기 레벨링 플레이트를 연결하는 레벨링 샤프트; 상기 레벨링 샤프트의 일단을 둘러싸도록 상기 챔버오목홈에 안착되는 고정블럭을 포함하고, 상기 레벨링 샤프트의 구형 헤드는 상기 챔버오목홈 및 상기 고정블럭과의 접촉면에서 미끄럼 회동하는 것을 특징으로 한다. The leveling member having a spherical head at one end and provided at a chamber recessed groove provided at the bottom surface of the chamber and the other end penetrating the leveling plate to connect the chamber and the leveling plate; And a fixing block that is seated on the chamber concave groove so as to surround one end of the leveling shaft, wherein the spherical head of the leveling shaft slides and rotates at a contact surface with the chamber concave groove and the fixing block.

상기 레벨링부재는 상기 챔버와 상기 레벨링 플레이트를 연결하는 레벨링샤프트; 상부볼록와셔와, 상기 상부볼록와셔의 볼록면과 맞닿는 오목면이 마련된 상부오목와셔가 구비된 상부와셔부; 및 하부볼록와셔와, 상기 하부볼록와셔의 볼록면과 맞닿는 오목면이 마련된 하부오목와셔가 구비된 하부와셔부를 포함하는 것을 특징으로 한다. The leveling member includes a leveling shaft connecting the chamber and the leveling plate; An upper washer portion having an upper convex washer and an upper concave washer provided with a concave surface abutting the convex surface of the upper convex washer; And a lower washer portion having a lower convex washer and a lower concave washer provided with a concave surface contacting the convex surface of the lower convex washer.

상기 상부볼록와셔와 상기 하부볼록와셔는 각각 상기 상부오목와셔와 상기 하부오목와셔에 대하여 상대적으로 미끄럼 이동가능한 것을 특징으로 한다.
And the upper convex washers and the lower convex washers are slidable relative to the upper concave washer and the lower concave washer, respectively.

본 발명에 의하면, 상술한 바와 같은 레벨링 샤프트와 레벨링 플레이트의 구성에 의해, 레벨링 플레이트의 기울기를 조절하여 레벨링 샤프트가 수직방향에 대하여 경사각을 갖더라도 레벨링 샤프트의 휨을 방지할 수 있어, 레벨링 장치의 부품이 손상되는 것을 방지할 수 있다. According to the present invention, it is possible to prevent the leveling shaft from being warped even if the leveling shaft has an inclination angle with respect to the vertical direction by adjusting the inclination of the leveling plate by the configuration of the leveling shaft and the leveling plate as described above, Can be prevented from being damaged.

또한, 본 발명의 다른 실시예에 의하면, 레벨링 플레이트의 기울기를 조절하더라도 상기 레벨링 샤프트는 수직방향에 대하여 경사각을 갖지 않도록 유지하면서 레벨링 샤프트에 휨응력이 발생하는 것을 방지할 수 있어 레벨링 장치의 부품이 손상되는 것을 방지할 수 있다. According to another embodiment of the present invention, even when the leveling plate is inclined, the leveling shaft can be prevented from generating a bending stress in the leveling shaft while maintaining the inclining angle with respect to the vertical direction, Can be prevented.

또한, 레벨링 샤프트에 연결된 레벨링 플레이트의 위치를 미세하게 조정함으로써, 샤워헤드에서 분사된 반응가스가 히터블럭상에 안착된 기판으로 균일하게 증착되도록 함으로써, 기판의 막질 성장을 균일하게 유도하여, 기판의 불량율을 줄일 수 있다. In addition, by finely adjusting the position of the leveling plate connected to the leveling shaft, the reaction gas injected from the showerhead is uniformly deposited on the substrate placed on the heater block, thereby uniformly inducing film quality growth of the substrate, The defective rate can be reduced.

또한, 본 발명은 레벨링 부재의 손상을 방지하여 레벨링 장치의 손상으로 인해 레벨링 장치의 부품을 교체하기 위해 챔버에서 분리한 후 다시 조립하는 과정을 생략할 수 있어, 레벨링부재의 교체에 소요되는 시간 및 비용을 절감시킬 수 있고, 부품을 교체하는 동안에 공정수행을 하지 못함에 의한 비용적 손실을 예방할 수 있어 경제적이다. Further, the present invention can prevent the leveling member from being damaged, thereby eliminating the process of separating and reassembling the leveling device from the chamber in order to replace the leveling device due to the damage of the leveling device. Cost can be saved, and cost loss due to failure to perform the process while replacing parts can be prevented, which is economical.

아울러, 본 발명은 레벨링 샤프트의 휨을 방지하여, 종래기술에서 발생된 레벨링 샤프트의 손상으로 인한 레벨링부의 교체 및 재조립공정을 화학기상증착공정동안에 수행하지 않아도 되고, 이로 인해, 레벨링부를 챔버에서 분리 및 재조립하는 동안에 발생가능한 공정미스(예컨데, 이전 공정과 동일한 조건에서의 공정환경 재현 불가, 또는 재조립공정시 챔버로의 이물질 유입 등과 같은 문제점)를 방지할 수 있다.
In addition, the present invention prevents the leveling shaft from being warped, so that the leveling portion replacement and reassembling process due to the damage of the leveling shaft generated in the prior art does not have to be performed during the chemical vapor deposition process, It is possible to prevent a process mistake that may occur during reassembly (for example, a process environment can not be reproduced under the same conditions as the previous process, or a problem such as foreign matter into the chamber during the reassembling process).

도 1은 종래기술에 따른 히터 레벨링 장치의 구성도를 개략적으로 도시한 것이다.
도 2a는 종래기술에서, 정상상태에서의 레벨링스크류와 레벨링플레이트의 연결상태도를 개략적으로 도시한 것이며, 도 2b는 레벨링스크류의 휨상태에서의 레벨링플레이트에 대한 연결상태도를 개략적으로 도시한 것이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 히터 레벨링 장치의 구성도를 개략적으로 도시한 것이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 히팅레벨링부의 배치상태에 대한 평면도를 개략적으로 도시한 것이다.
도 5a는 정상상태에서의 도 3의 A-A단면을 개략적으로 도시한 것이고, 도 5b는 휨상태에서의 도 3의 A-A단면을 개략적으로 도시한 것이다.
도 6은 본 발명의 일예에 따른 히팅레벨링부의 구성도를 개략적으로 도시한 것이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 예에 따른 히팅레벨링부의 구성도를 개략적으로 도시한 것이다.
Fig. 1 schematically shows a configuration diagram of a heater leveling apparatus according to the prior art.
FIG. 2A schematically shows a connection state diagram of a leveling screw and a leveling plate in a steady state, and FIG. 2B schematically shows a connection state diagram of a leveling plate in a bending state of the leveling screw.
3 schematically illustrates a configuration of a heater leveling apparatus according to an embodiment of the present invention.
4 schematically shows a plan view of the arrangement of the heating leveling portions according to an embodiment of the present invention.
FIG. 5A schematically shows an AA section of FIG. 3 in a steady state, and FIG. 5B schematically shows an AA section of FIG. 3 in a bent state.
FIG. 6 schematically shows a configuration of a heating leveling unit according to an embodiment of the present invention.
7 schematically shows a configuration of a heating leveling unit according to another example of the present invention.

이하에서는 첨부도면을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 히터 레벨링 장치에 대해 설명하기로 한다.
Hereinafter, a heater leveling apparatus according to a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

<제 1 실시예>&Lt; Embodiment 1 >

도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 히터 레벨링 장치(100)는 챔버(110), 히터부(120), 승강구동부(130)와, 레벨링부(140)를 포함한다. 3 and 4, the heater leveling apparatus 100 according to the present embodiment includes a chamber 110, a heater unit 120, an elevation driving unit 130, and a leveling unit 140.

상기 챔버(110)에는 기판(1)으로 반응가스를 분사하기 위한 샤워헤드(115)가 설치된다. A showerhead 115 for spraying a reaction gas into the substrate 1 is installed in the chamber 110.

상기 샤워헤드(115)의 하부에는 기판이 안착되고 가열되는 히터부(120)가 설치된다. 상기 히터부(120)는 히터블럭(121)과 상기 히터블럭을 지지하는 샤프트(122)를 포함한다. 상기 샤프트(122)는 상기 챔버(110)의 외부에 위치된 승강구동부(130)에 연결된다. The shower head 115 is provided with a heater unit 120 on which a substrate is placed and heated. The heater unit 120 includes a heater block 121 and a shaft 122 for supporting the heater block. The shaft 122 is connected to an elevation driving unit 130 located outside the chamber 110.

상기 승강구동부(130)는 상기 샤프트(122)를 승강구동시켜서 상기 히터블럭(121)의 높이를 조정한다. 상기 승강구동부(130)는 승강플레이트(131), 승강샤프트(132), 가이드레일(133), 리프팅부재(134)와 구동모터(135)로 이루어진다. The lifting and lowering driving unit 130 lifts and drives the shaft 122 to adjust the height of the heater block 121. The lifting and lowering driving unit 130 includes a lifting plate 131, a lifting shaft 132, a guide rail 133, a lifting member 134, and a driving motor 135.

상기 승강샤프트(132)는 챔버(110)의 외부에 위치되고, 상기 승강샤프트(132)의 상면에는 레벨링 플레이트(141)가 연결된다. 상기 승강샤프트(132)의 측면에는 가이드레일(133)이 설치되고, 상기 가이드레일(133)에는 상기 리프팅부재(134)를 통해 상기 승강플레이트(131)가 연결된다. The lifting shaft 132 is located outside the chamber 110 and a leveling plate 141 is connected to the upper surface of the lifting shaft 132. A guide rail 133 is provided on a side surface of the lifting shaft 132 and the lifting plate 131 is connected to the guide rail 133 through the lifting member 134.

상기 승강플레이트(131)에는 상기 샤프트(122)가 연결된다. 상기 구동모터(135)의 구동에 의해 상기 리프팅부재(134)는 상기 가이드레일(133)을 따라 승강구동된다. 이에 따라 상기 리프팅부재(134)에 연결된 상기 승강플레이트(131)와 상기 승강플레이트(131)가 지지하는 상기 샤프트(122) 및 상기 히터블럭(121)이 승강구동된다.
The shaft 122 is connected to the lifting plate 131. The lifting member 134 is lifted and lowered along the guide rails 133 by driving the driving motor 135. The lifting plate 131 connected to the lifting member 134 and the shaft 122 and the heater block 121 supported by the lifting plate 131 are raised and lowered.

상기 레벨링부(140)는 상기 챔버(110)와 상기 승강구동부(130) 사이에 설치된다. 상기 레벨링부(140)는 레벨링 플레이트(141)와, 고정부재(143)와, 복수의 레벨링부재(145)를 포함한다. The leveling unit 140 is installed between the chamber 110 and the lifting and lowering driving unit 130. The leveling unit 140 includes a leveling plate 141, a fixing member 143, and a plurality of leveling members 145.

상기 레벨링 플레이트(141)는 상기 샤프트(122)가 관통되는 샤프트홀(141a)이 마련된 평판형 구조를 가진다. 상기 레벨링 플레이트(141)는 상기 승강샤프트(132)에 고정설치되어, 상기 레벨링 플레이트(141)의 기울기를 조절함으로써, 상기 승강샤프트(132)와 상기 승강샤프트(132)에 연결된 상기 샤프트(122) 및 상기 히터블럭(121)의 기울기를 조절할 수 있다. The leveling plate 141 has a flat plate-like structure having a shaft hole 141a through which the shaft 122 passes. The leveling plate 141 is fixed to the lifting shaft 132 and adjusts the inclination of the leveling plate 141 to move the lifting shaft 132 and the shaft 122 connected to the lifting shaft 132. [ And the inclination of the heater block 121 can be adjusted.

상기 레벨링 플레이트(141)는 고정부재(143)와 복수의 레벨링부재(145)에 의해 상기 챔버(110)에 연결된다. 상기 레벨링 플레이트(141)에는 상기 고정부재(143)의 구형 헤드부분이 안착되며 상기 구형 헤드부분에 대응하는 형상으로 오목하게 형성된 고정오목홈(141b)이 마련되고, 복수의 레벨링부재(145)가 각각 관통되는 복수의 레벨링관통홀(141c)이 마련된다.
The leveling plate 141 is connected to the chamber 110 by a fixing member 143 and a plurality of leveling members 145. The leveling plate 141 is provided with a fixed concave groove 141b in which a spherical head portion of the fixing member 143 is seated and concaved in a shape corresponding to the spherical head portion and a plurality of leveling members 145 A plurality of leveling through holes 141c are formed so as to penetrate through them.

상기 고정부재(143)는 상기 레벨링 플레이트(141)와의 체결높이가 고정되어 있고 상기 레벨링 플레이트(141)와 미끄럼회동이 가능하게 설치되어, 상기 레벨링 플레이트(141)와 상기 챔버(110)의 연결한다. 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 고정부재(143)의 일단(143a)에는 나사산이 마련되고, 타단(143b)은 구형구조를 가진다. 상기 고정부재(143)는 일단(143a)이 챔버(110)의 저면에 나사결합되고, 타단(143b)이 상기 고정오목홈(141b)에 안착되고 상기 고정오목홈(141b)을 덮는 고정오목와셔(142)에 의해 레벨링 플레이트(141)에 결합된다.
The fixing member 143 has a fixing height with the leveling plate 141 and is slidably rotatable with respect to the leveling plate 141 to connect the leveling plate 141 and the chamber 110 . As shown in FIG. 3, one end 143a of the fixing member 143 is provided with a thread, and the other end 143b has a spherical structure. The fixing member 143 is fixed to the fixed concave groove 141b so that one end 143a is screwed to the bottom surface of the chamber 110 and the other end 143b is seated on the fixing concave groove 141b and covers the fixing concave groove 141b. And is coupled to the leveling plate 141 by an elastic member 142.

상기 복수의 레벨링부재(145)는 상기 레벨링 플레이트(141)와의 체결높이를조절할 수 있고, 상기 챔버(110)의 저면과 미끄럼회동이 가능하게 설치되어, 상기 레벨링 플레이트(141)와 상기 챔버(110)의 연결한다. 상기 레벨링부재(145)와 상기 레벨링 플레이트(141)와의 체결높이를 조절함으로써 상기 레벨링 플레이트(141)의 기울기를 조절한다. 도 4에 나타낸 바와 같이, 상기 복수의 레벨링부재(145)는 상기 고정부재(143)와 대략 삼각형으로 이격된 위치에서 상기 챔버(110)와 상기 레벨링 플레이트(141)에 연결된다. The plurality of leveling members 145 can adjust the tightening height with the leveling plate 141 and are slidably pivotable with respect to the bottom surface of the chamber 110. The leveling plate 141 and the chamber 110 ). The inclination of the leveling plate 141 is adjusted by adjusting the level of the leveling member 145 and the leveling plate 141. 4, the plurality of leveling members 145 are connected to the chamber 110 and the leveling plate 141 at a position substantially triangularly separated from the fixing member 143. As shown in FIG.

도 3 내지 도 5b에 도시된 바와 같이, 상기 레벨링부재(145)는 레벨링 샤프트(146), 고정블럭(146d), 제 1 너트부재(147)와 제 2 너트부재(148)로 이루어진다. 3 to 5B, the leveling member 145 includes a leveling shaft 146, a fixing block 146d, a first nut member 147, and a second nut member 148. [

상기 레벨링 샤프트(146)는 일끝단이 구형(spherical) 구조를 가지며, 상기 챔버(110)의 저면에 마련된 챔버오목홈(116)에 미끄럼 가능하게 안착되고, 상기 고정블럭(146d)에 의해 챔버(110)에 고정된다. The leveling shaft 146 has a spherical structure at one end and is slidably seated in a chamber concave groove 116 provided on the bottom surface of the chamber 110. The leveling shaft 146 is fixed to the chamber 110).

상기 고정블럭(146d)은 상기 레벨링 샤프트(146)의 일단을 둘러싸도록 챔버오목홈(116)에 설치되고, 상기 레벨링 샤프트가 안착되는 부분은 상기 레벨링 샤프트(146)의 일끝단의 구형에 상응하는 형상으로 오목하게 형성된다. 상기 고정블럭(146d)은 결합볼트에 의해 챔버(110)에 결합된다. The leveling shaft 146 is installed in the chamber concave groove 116 so as to surround one end of the leveling shaft 146 and the portion where the leveling shaft is mounted corresponds to a sphere of one end of the leveling shaft 146 As shown in Fig. The fixed block 146d is coupled to the chamber 110 by an engaging bolt.

상기 레벨링 샤프트(146)의 타단은 레벨링관통홀(141c)을 관통하여 상기 레벨링 플레이트(141)에 연결된다. 상기 레벨링 샤프트(146)는 제 1 너트부재(147)와 제 2 너트부재(148)에 의해 상기 레벨링 플레이트(141)에 결합된다. The other end of the leveling shaft 146 is connected to the leveling plate 141 through a leveling through hole 141c. The leveling shaft 146 is coupled to the leveling plate 141 by a first nut member 147 and a second nut member 148.

본 실시예에 따른 히터 레벨링 장치(100)는 상기 레벨링 플레이트(141)을 보호하기 위해, 제 1 너트부재(147)와 레벨링 플레이트(141)의 상면 사이에, 그리고, 레벨링 플레이트(141)의 하면과 제 2 너트부재(148) 사이에 평와셔(149)를 더 구비할 수 있다. The heater leveling apparatus 100 according to the present embodiment is provided between the first nut member 147 and the upper surface of the leveling plate 141 and the lower surface of the leveling plate 141 in order to protect the leveling plate 141. [ And a flat washer 149 may be further provided between the first nut member 148 and the second nut member 148.

상기 레벨링 샤프트(146)와 상기 레벨링 플레이트(141)의 체결높이를 조절하여, 상기 레벨링 플레이트(141)의 기울기를 조절할 수 있다. 이 때, 상기 레벨링 샤프트(146)는 구형 헤드부분이 상기 챔버오목홈(116) 및 상기 고정블럭(146d)과의 접촉면에서 매끄럽게 회동되어, 상기 레벨링 샤프트(146)와 상기 레벨링 플레이트(141)는 기울기 조절 이전과 마찬가지로 직각을 이룰 수 있다. The inclination of the leveling plate 141 can be adjusted by adjusting the level of the leveling shaft 146 and the leveling plate 141. At this time, the leveling shaft 146 is smoothly rotated at the contact surface of the spherical head portion with the chamber concave groove 116 and the fixed block 146d, so that the leveling shaft 146 and the leveling plate 141 As before the tilt adjustment can be done at right angles.

이로써, 상기 레벨링 샤프트(146)에 휨이 발생하는 것을 방지할 수 있고, 종래기술에서와 같이 휘어진 레벨링 샤프트에 의해 너트부재를 조임고정할 때에 상기 너트부재(147, 148)가 손상되는 것을 방지할 수 있다.
This prevents the leveling shaft 146 from being bent and prevents the nut members 147 and 148 from being damaged when the nut member is tightened and fixed by the bent leveling shaft as in the prior art .

또한, 본 실시예에 따른 히터 레벨링 장치(100)는 상기 레벨링 샤프트(146)의 휨을 방지하는 구조에 의해, 상기 제 1 너트부재(147) 및 제 2 너트부재(148)의 조임 또는 풀림 조작을 원할하게 수행할 수 있어, 레벨링을 용이하게 할 수 있다. The heater leveling apparatus 100 according to the present embodiment is configured to prevent the leveling shaft 146 from being warped so that the first nut member 147 and the second nut member 148 are tightened or loosened It can be performed smoothly, and leveling can be facilitated.

또한, 상기 레벨링 샤프트(146)의 휨을 방지하여, 상기 레벨링부(140)의 교체 및 재조립공정을 화학기상증착공정동안에 수행하지 않아도 되고, 이로 인해, 레벨링부(140)를 챔버(110)에서 탈착 및 재조립하는 동안에 발생가능한 공정미스(예컨데, 이전 공정과 동일한 조건에서의 공정환경 재현 불가, 또는 재조립공정시 챔버(110)로의 이물질 유입 등과 같은 문제점)를 방지할 수 있다. It is also possible to prevent the leveling shaft 146 from being warped and replace and reassemble the leveling unit 140 during the CVD process so that the leveling unit 140 can be removed from the chamber 110 It is possible to prevent a process mistake that may occur during desorption and reassembly (for example, a process environment can not be reproduced under the same conditions as the previous process, or a problem such as foreign matter into the chamber 110 in the reassembling process).

아울러, 상기 레벨링 플레이트(141)의 위치를 미세하게 조정함으로써, 샤워헤드(115)에서 분사된 반응가스가 상기 히터블럭(121)상에 안착된 기판(1)으로 균일하게 증착되도록 함으로써, 기판(1)의 불량율을 줄일 수 있다.
The position of the leveling plate 141 is finely adjusted so that the reaction gas injected from the showerhead 115 is uniformly deposited on the substrate 1 placed on the heater block 121, 1) can be reduced.

<제 2 실시예>&Lt; Embodiment 2 >

이하에서는 도 6을 참조하여, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 히터 레벨링 장치에 대해 설명한다. Hereinafter, a heater leveling apparatus according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

본 실시예에 따른 히터 레벨링 장치는 복수의 레벨링부재의 구성이 상기 제 1 실시예와 상이하므로 상기 제 1 실시예와 동일한 구조에 대해서는 동일한 도면부호를 부여하고 중복된 설명은 생략한다Since the structure of the leveling members of the heater leveling device according to the present embodiment is different from that of the first embodiment, the same reference numerals are assigned to the same structures as those of the first embodiment, and a duplicated description is omitted

도 6에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 의한 레벨링부재(245)는 레벨링 샤프트(246), 구형와셔(246c), 제 1 너트부재(247)와 제 2 너트부재(248)를 포함한다. 레벨링 플레이트(241)에는 상술한 제 1 실시예에서와 같이 고정부재(도시하지 않음)가 안착되는 고정오목홈이 마련되고, 복수의 레벨링부재(245)가 각각 관통되는 복수의 레벨링관통홀(241c)이 마련된다. 6, the leveling member 245 according to the present embodiment includes a leveling shaft 246, a spherical washer 246c, a first nut member 247, and a second nut member 248. [ The leveling plate 241 is provided with a fixed concave groove on which a fixing member (not shown) is seated as in the above-described first embodiment and includes a plurality of leveling through holes 241c ).

상기 복수의 레벨링관통홀(241c)의 내주면에는 원주방향을 따라 고리형 오목홈부(241e)가 마련된다. 여기서, 상기 고리형 오목홈부(241e)는 레벨링 플레이트(241)의 레벨링관통홀(241c)에 볼팅조립가능한 구조를 가지는 것이 바람직하다.An annular recessed groove portion 241e is formed in the inner peripheral surface of the plurality of leveling through holes 241c along the circumferential direction. It is preferable that the annular concave groove portion 241e has a structure that can be bolted to the leveling through hole 241c of the leveling plate 241. [

상기 레벨링 샤프트(246)의 일단(246a)에는 나사산이 마련되어, 상기 챔버(110)의 저면에 나사결합된다. One end (246a) of the leveling shaft (246) is threaded and screwed to the bottom surface of the chamber (110).

본 실시예에 따른 상기 레벨링 샤프트(246)의 외주면에는 구형 와셔(spherical washer, 246c)가 설치된다. 여기서, 상기 구형 와셔(246c)는 상기 레벨링 샤프트(246)의 외주면을 둘러싸고, 상기 고리형 오목홈부(241e)에 회전가능하게 안착되는 구조를 갖는다.A spherical washer 246c is installed on the outer circumferential surface of the leveling shaft 246 according to the present embodiment. The spherical washer 246c surrounds the outer circumferential surface of the leveling shaft 246 and has a structure rotatably mounted on the annular concave groove portion 241e.

상기 레벨링 샤프트(246)는 제 1 너트부재(247)와 제 2 너트부재(248)에 의해 상기 레벨링 플레이트(241)에 결합된다.  The leveling shaft 246 is coupled to the leveling plate 241 by a first nut member 247 and a second nut member 248.

또한, 상기 레벨링 플레이트(241)를 보호하기 위해, 제 1 너트부재(247)와 레벨링 플레이트(241) 사이 및 제 2 너트부재(248)와 레벨링 플레이트(241) 사이에 평와셔(249)를 설치할 수도 있다.
A flat washer 249 is provided between the first nut member 247 and the leveling plate 241 and between the second nut member 248 and the leveling plate 241 to protect the leveling plate 241 It is possible.

상기 레벨링 샤프트(246)와 상기 레벨링 플레이트(241)의 체결높이를 조절하여, 상기 레벨링 플레이트(241)의 기울기를 조절할 수 있다. 이 때, 상기 레벨링 플레이트(241)는 상기 구형 와셔(246c)와의 접촉면에서 매끄럽게 회동된다. The inclination of the leveling plate 241 can be adjusted by adjusting the level of the leveling shaft 246 and the leveling plate 241. At this time, the leveling plate 241 is smoothly rotated at the contact surface with the spherical washer 246c.

이로써, 상기 레벨링 샤프트(246)는 상기 챔버(110)의 저면에 대하여 수직인 상태를 유지하지만, 상기 레벨링 플레이트(241)와의 사이에서 휨이 발생하는 것을 방지할 수 있고, 종래기술에서와 같이 휘어진 레벨링 샤프트에 의해 너트부재를 조임고정할 때에 상기 너트부재(247, 248)가 손상되는 것을 방지할 수 있다.
Thus, the leveling shaft 246 maintains a vertical state with respect to the bottom surface of the chamber 110, but it is possible to prevent a warp from occurring between the leveling shaft 241 and the leveling shaft 246, It is possible to prevent the nut members 247 and 248 from being damaged when the nut member is fastened and fixed by the leveling shaft.

<제 3 실시예>&Lt; Third Embodiment >

이하에서는 도 7a 및 도 7b를 참조하여 본 발명의 제 3 실시예에 따른 히터 레벨링 장치에 대해 설명한다. Hereinafter, a heater leveling apparatus according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 7A and 7B. FIG.

본 실시예에 따른 히터 레벨링 장치는 복수의 레벨링부재의 구성이 상기 제 1 및 제 2 실시예와 상이하므로 상기 제 1 및 제 2 실시예와 동일한 구조에 대해서는 동일한 도면부호를 부여하고 중복된 설명은 생략한다
Since the structure of the leveling members of the heater leveling apparatus according to the present embodiment is different from that of the first and second embodiments, the same reference numerals are given to the same structures as those of the first and second embodiments, Omit

본 실시예의 레벨링부는 레벨링 플레이트(341), 고정부재(도시하지 않음)와 복수의 레벨링부재(345)를 포함한다. The leveling portion of this embodiment includes a leveling plate 341, a fixing member (not shown), and a plurality of leveling members 345.

도 7a에 도시된 바와 같이, 상기 레벨링부재(345)는 레벨링 샤프트(346), 제 1 너트부재(347), 제 2 너트부재(348), 상부와셔부(347a)와 하부와셔부(348a)로 이루어진다. 여기서, 상기 레벨링 플레이트(341)에는 상기 고정부재(도시하지 않음)가 안착되는 고정오목홈(도시하지 않음)이 마련되고, 복수의 레벨링부재(345)가 각각 관통되는 복수의 레벨링관통홀(341c)이 마련된다. 7A, the leveling member 345 includes a leveling shaft 346, a first nut member 347, a second nut member 348, an upper washer portion 347a and a lower washer portion 348a, . Here, the leveling plate 341 is provided with a fixed concave groove (not shown) in which the fixing member (not shown) is seated, and a plurality of leveling through holes 341c (not shown) through which the plurality of leveling members 345 penetrate ).

상기 레벨링 샤프트(346)는 일단이 상기 챔버(110)의 저면에 나사결합된다. 상기 레벨링 샤프트(346)는 제 1 너트부재(347)와 제 2 너트부재(348)에 의해 상기 레벨링 플레이트(341)에 결합된다One end of the leveling shaft 346 is screwed to the bottom surface of the chamber 110. The leveling shaft 346 is coupled to the leveling plate 341 by a first nut member 347 and a second nut member 348

상기 레벨링부재(345)는 상기 제 1 너트부재(347)와 상기 레벨링 플레이트(341) 사이에 설치되는 상부와셔부(347a)와, 상기 레벨링 플레이트(341)과 상기 제 2 너트부재(348) 사이에 설치되는 하부와셔부(348a)를 포함한다. The leveling member 345 includes an upper washer portion 347a disposed between the first nut member 347 and the leveling plate 341 and a lower washer portion 347b between the leveling plate 341 and the second nut member 348. [ And a lower washer portion 348a.

상기 상부와셔부(347a)는 상부볼록와셔(347b)와 상부오목와셔(347c)로 이루어진다. 상기 상부볼록와셔(347b)는 평평한 면이 상기 제 1 너트부재(347)와 접촉되도록 위치되고, 볼록한 면이 상기 상부오목와셔(347c)의 오목한 면과 접촉되도록 위치된다. 상기 상부오목와셔(347c)는 평평한 면이 상기 레벨링 플레이트(341)과 접촉되고, 오목한 면이 상기 상부볼록와셔(347b)의 볼록한 면과 접촉되도록 위치된다. The upper washer portion 347a is composed of an upper convex washer 347b and an upper concave washer 347c. The upper convex washer 347b is positioned such that its flat side is in contact with the first nut member 347 and the convex side is positioned to contact the concave side of the upper concave washer 347c. The upper concave washer 347c is positioned such that a flat surface is in contact with the leveling plate 341 and a concave surface is in contact with the convex surface of the upper convex washer 347b.

상기 하부와셔부(348a)는 하부볼록와셔(348b)와 하부오목와셔(348c)로 이루어진다. 상기 하부볼록와셔(348b)와 상기 하부오목와셔(348c)의 구성은 상기 상부볼록와셔(347b)와 상기 상부오목와셔(347c)의 구성과 동일하므로 중복된 설명은 생략한다.
The lower washer portion 348a includes a lower convex washer 348b and a lower concave washer 348c. The construction of the lower convex washer 348b and the lower concave washer 348c is the same as that of the upper convex washer 347b and the upper concave washer 347c, and thus a duplicated description will be omitted.

상기 레벨링 샤프트(346)와 상기 레벨링 플레이트(341)의 체결높이를 조절하여, 상기 레벨링 플레이트(341)의 기울기를 조절할 수 있다. 이 때, 상기 레벨링 플레이트(341)의 상하부에 배치된 상기 상부볼록와셔(347b)와 상기 하부볼록와셔(348b)는 각각 상기 상부오목와셔(347c)와 상기 하부오목와셔(348c)에 대하여 접촉면에서 매끄럽게 미끄러져 이동된다. The inclination of the leveling plate 341 can be adjusted by adjusting the level of the leveling shaft 346 and the leveling plate 341. At this time, the upper convex washer 347b and the lower convex washer 348b disposed at the upper and lower portions of the leveling plate 341 are respectively engaged with the upper concave washer 347c and the lower concave washer 348c It slides smoothly and moves.

이로써, 상기 레벨링 샤프트(346)는 상기 챔버(110)의 저면에 대하여 수직인 상태를 유지하지만, 상기 레벨링 플레이트(341)와의 사이에서 휨이 발생하는 것을 방지할 수 있고, 종래기술에서와 같이 휘어진 레벨링 샤프트에 의해 너트부재를 조임고정할 때에 상기 너트부재(347, 348)가 손상되는 것을 방지할 수 있다.
Thus, the leveling shaft 346 maintains a vertical state with respect to the bottom surface of the chamber 110, but it is possible to prevent a warp from occurring between the leveling shaft 341 and the leveling shaft 341, It is possible to prevent the nut members 347 and 348 from being damaged when the nut member is fastened and fixed by the leveling shaft.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능함은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명백할 것이다.
It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the inventions. It will be apparent to those of ordinary skill in the art.

100: 히터 레벨링 장치
110: 챔버 120: 히터부
121: 히터블럭 122: 샤프트
130: 승강구동부 131: 승강플레이트
132; 승강샤프트 133: 가이드레일
134: 리프팅부재 135: 구동모터
140: 레벨링부 141: 레벨링 플레이트
143: 고정부재 145, 245, 345: 레벨링부재
146, 246, 346: 레벨링 샤프트 146d: 고정블럭
147, 247, 347: 제 1 너트부재 148, 248, 348: 제 2 너트부재
347a: 상부와셔부 347b:상부볼록와셔
347c: 상부오목와셔 348a: 하부와셔부
348b: 하부볼록와셔 348c: 하부오목와셔
100: heater leveling device
110: chamber 120: heater part
121: Heater block 122: shaft
130: lifting opening portion 131: lifting plate
132; Lifting shaft 133: guide rail
134: lifting member 135: drive motor
140: Leveling section 141: Leveling plate
143: fixing member 145, 245, 345: leveling member
146, 246, 346: leveling shaft 146d: fixed block
147, 247, 347: first nut member 148, 248, 348: second nut member
347a: upper washer portion 347b: upper convex washer
347c: upper concave washer 348a: lower washer portion
348b: Lower convex washer 348c: Lower concave washer

Claims (8)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 챔버;
기판이 안착되는 히터블럭과, 상기 히터블럭에 연결된 샤프트가 마련된 히터부; 및
상기 히터부에 연결되는 레벨링 플레이트와, 상기 챔버와 상기 레벨링 플레이트를 연결하는 고정부재; 및 상기 챔버와 상기 레벨링 플레이트에 연결되어, 상기 레벨링 플레이트의 높이를 조절하는 복수의 레벨링부재를 가지며, 상기 챔버의 외부에서, 상기 챔버와 상기 샤프트에 연결되어, 상기 히터블럭의 기울기를 조절하는 레벨링부를 포함하며,
상기 고정부재는 일단이 상기 챔버의 저면에 나사결합되고, 타단이 구형 헤드를 가지며, 상기 고정부재의 구형헤드는 상기 레벨링 플레이트에 마련된 고정오목홈에 안착되고, 상기 고정오목홈과의 접촉면에서 미끄럼 회동하고,
상기 레벨링부재는 일단이 상기 챔버의 저면에 결합되는 레벨링 샤프트와, 상기 레벨링 샤프트의 외주면을 둘러싸고 고리형 오목홈에 안착되며 상기 고리형 오목홈과의 접촉면에서 미끄럼 회동하는 구형 와셔를 포함하고, 상기 레벨링 플레이트에는 상기 복수의 레벨링부재가 각각 관통되는 복수의 레벨링관통홀이 마련되고, 상기 복수의 레벨링관통홀의 내주면에는 상기 레벨링관통홀의 원주방향을 따라 상기 고리형 오목홈이 마련된 것을 특징으로 하는 히터 레벨링 장치.
chamber;
A heater block on which the substrate is placed, and a heater connected to the heater block; And
A leveling plate connected to the heater unit, a fixing member connecting the chamber and the leveling plate, And a leveling member connected to the chamber and the leveling plate and having a plurality of leveling members for adjusting a height of the leveling plate, wherein the leveling member is connected to the chamber and the shaft outside the chamber to adjust a tilt of the heater block, &Lt; / RTI &gt;
Wherein the fixing member has one end screwed to the bottom surface of the chamber and the other end has a spherical head and the spherical head of the fixing member is seated on a fixing concave groove provided in the leveling plate, However,
Wherein the leveling member includes a leveling shaft having one end coupled to a bottom surface of the chamber, a spherical washer that surrounds the outer circumferential surface of the leveling shaft and is seated on the annular recessed groove and slidably rotates on a contact surface of the annular recessed groove, Wherein the leveling plate is provided with a plurality of leveling through holes through which the plurality of leveling members are respectively passed and the annular recessed grooves are formed in the inner circumferential surface of the plurality of leveling through holes along the circumferential direction of the leveling through hole. Device.
챔버;
기판이 안착되는 히터블럭과, 상기 히터블럭에 연결된 샤프트가 마련된 히터부; 및
상기 히터부에 연결되는 레벨링 플레이트와, 상기 챔버와 상기 레벨링 플레이트를 연결하는 고정부재; 및 상기 챔버와 상기 레벨링 플레이트에 연결되어, 상기 레벨링 플레이트의 높이를 조절하는 복수의 레벨링부재를 가지며, 상기 챔버의 외부에서, 상기 챔버와 상기 샤프트에 연결되어, 상기 히터블럭의 기울기를 조절하는 레벨링부를 포함하며,
상기 고정부재는 일단이 상기 챔버의 저면에 나사결합되고, 타단이 구형 헤드를 가지며, 상기 고정부재의 구형헤드는 상기 레벨링 플레이트에 마련된 고정오목홈에 안착되고, 상기 고정오목홈과의 접촉면에서 미끄럼 회동하고,
상기 레벨링부재는
일단이 구형 헤드를 가지며 상기 챔버의 저면에 마련된 챔버오목홈에 설치되고, 타단이 상기 레벨링 플레이트를 관통하여 상기 챔버와 상기 레벨링 플레이트를 연결하는 레벨링 샤프트;
상기 레벨링 샤프트의 일단을 둘러싸도록 상기 챔버오목홈에 안착되는 고정블럭을 포함하고,
상기 레벨링 샤프트의 구형 헤드는 상기 챔버오목홈 및 상기 고정블럭과의 접촉면에서 미끄럼 회동하는 것을 특징으로 하는 히터 레벨링 장치.
chamber;
A heater block on which the substrate is placed, and a heater connected to the heater block; And
A leveling plate connected to the heater unit, a fixing member connecting the chamber and the leveling plate, And a leveling member connected to the chamber and the leveling plate and having a plurality of leveling members for adjusting a height of the leveling plate, wherein the leveling member is connected to the chamber and the shaft outside the chamber to adjust a tilt of the heater block, &Lt; / RTI &gt;
Wherein the fixing member has one end screwed to the bottom surface of the chamber and the other end has a spherical head and the spherical head of the fixing member is seated on a fixing concave groove provided in the leveling plate, However,
The leveling member
A leveling shaft having a spherical head and provided at a chamber concave groove provided in a bottom surface of the chamber and having the other end penetrating the leveling plate to connect the chamber and the leveling plate;
And a fixing block which is seated on the chamber recessed groove so as to surround one end of the leveling shaft,
Wherein the spherical head of the leveling shaft slides and rotates at a contact surface with the chamber recessed groove and the fixed block.
챔버;
기판이 안착되는 히터블럭과, 상기 히터블럭에 연결된 샤프트가 마련된 히터부; 및
상기 챔버의 외부에서, 상기 챔버와 상기 샤프트에 연결되어, 상기 히터블럭의 기울기를 조절하는 레벨링부를 포함하며,
상기 레벨링부는,
상기 히터부에 연결되는 레벨링 플레이트;
상기 챔버와 상기 레벨링 플레이트를 연결하는 고정부재; 및
상기 챔버와 상기 레벨링 플레이트에 연결되어, 상기 레벨링 플레이트의 높이를 조절하는 복수의 레벨링부재를 포함하며,
상기 레벨링부재는
상기 챔버와 상기 레벨링 플레이트를 연결하는 레벨링샤프트;
상부볼록와셔와, 상기 상부볼록와셔의 볼록면과 맞닿는 오목면이 마련된 상부오목와셔가 구비된 상부와셔부; 및
하부볼록와셔와, 상기 하부볼록와셔의 볼록면과 맞닿는 오목면이 마련된 하부오목와셔가 구비된 하부와셔부를 포함하는 것을 특징으로 하는 히터 레벨링 장치.
chamber;
A heater block on which the substrate is placed, and a heater connected to the heater block; And
And a leveling unit connected to the chamber and the shaft, outside the chamber, for adjusting a tilt of the heater block,
The leveling unit,
A leveling plate connected to the heater unit;
A fixing member connecting the chamber and the leveling plate; And
And a plurality of leveling members connected to the chamber and the leveling plate for adjusting a height of the leveling plate,
The leveling member
A leveling shaft connecting the chamber and the leveling plate;
An upper washer portion having an upper convex washer and an upper concave washer provided with a concave surface abutting the convex surface of the upper convex washer; And
And a lower washer portion having a lower convex washer and a lower concave washer provided with a concave surface abutting against the convex surface of the lower convex toothed portion.
제 6 항에 있어서,
상기 상부볼록와셔와 상기 하부볼록와셔는 각각 상기 상부오목와셔와 상기 하부오목와셔에 대하여 상대적으로 미끄럼 이동가능한 것을 특징으로 하는 히터 레벨링 장치.
The method according to claim 6,
Wherein the upper convex washer and the lower convex washer are slidable relative to the upper concave washer and the lower concave washer, respectively.
제 6 항 또는 제 7 항에 있어서,
상기 고정부재는 일단이 상기 챔버의 저면에 나사결합되고, 타단이 구형 헤드를 가지며,
상기 고정부재의 구형헤드는 상기 레벨링 플레이트에 마련된 고정오목홈에 안착되고, 상기 고정오목홈과의 접촉면에서 미끄럼 회동하는 것을 특징으로 하는 히터 레벨링 장치.
8. The method according to claim 6 or 7,
Wherein the fixing member has one end screwed to the bottom surface of the chamber and the other end has a spherical head,
Wherein the spherical head of the fixing member is seated on a fixed concave groove provided on the leveling plate and slidably rotates on a contact surface with the fixed concave groove.
KR1020140137957A 2014-10-13 2014-10-13 Apparatus for leveling a heater KR101651879B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140137957A KR101651879B1 (en) 2014-10-13 2014-10-13 Apparatus for leveling a heater

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140137957A KR101651879B1 (en) 2014-10-13 2014-10-13 Apparatus for leveling a heater

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160043488A KR20160043488A (en) 2016-04-21
KR101651879B1 true KR101651879B1 (en) 2016-08-29

Family

ID=55917980

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140137957A KR101651879B1 (en) 2014-10-13 2014-10-13 Apparatus for leveling a heater

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101651879B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102325102B1 (en) 2020-06-18 2021-11-11 주식회사 플레이티지 Auto-leveling apparatus for heater chuck

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10571069B2 (en) * 2017-09-14 2020-02-25 Applied Materials, Inc. Gimbal assembly for heater pedestal
KR102419803B1 (en) * 2020-06-19 2022-07-12 주식회사 제이엔케이 Leveling apparatus of substrate treating equipment
KR102644510B1 (en) * 2021-10-20 2024-03-07 주식회사 에이치지에스 Leveling apparatus of substrate treating equipment
CN116240528B (en) * 2023-05-10 2023-08-08 无锡金源半导体科技有限公司 Thin film deposition equipment with heating plate leveling function

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101006837B1 (en) 2010-03-10 2011-01-12 박종규 Vibration & noise prevention apparatus capable of easy levelling between slab layers

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040022278A (en) * 2002-09-03 2004-03-12 삼성전자주식회사 Apparatus for manufacturing semiconductor devices
KR100887380B1 (en) * 2007-01-18 2009-03-06 오용진 Levelling bolt
KR20140054701A (en) * 2012-10-29 2014-05-09 세메스 주식회사 Heater unit

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101006837B1 (en) 2010-03-10 2011-01-12 박종규 Vibration & noise prevention apparatus capable of easy levelling between slab layers

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102325102B1 (en) 2020-06-18 2021-11-11 주식회사 플레이티지 Auto-leveling apparatus for heater chuck

Also Published As

Publication number Publication date
KR20160043488A (en) 2016-04-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101651879B1 (en) Apparatus for leveling a heater
US6206768B1 (en) Adjustable and extended guide rings
KR102460311B1 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
KR101105429B1 (en) Table Height Adjusting Mechanism and Height Adjusting Table Using The Same
CN101985745B (en) Chemical vapor deposition (CVD) apparatus and substrate processing apparatus
JP2013168461A (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
KR20150030104A (en) Deposition apparatus and aligning method of mask assembly usnig the same
KR101203377B1 (en) device for leveling heater
KR20130111181A (en) Film forming apparatus and film forming method
JP2013209697A6 (en) Film forming apparatus and film forming method
JP4513960B2 (en) Slit coat type coating apparatus and slit coat type coating method
US6921457B2 (en) Semiconductor manufacturing apparatus, and positioning jig used for same
US8398875B2 (en) Method of orienting an upper electrode relative to a lower electrode for bevel edge processing
KR20150069104A (en) Thin layers deposition apparatus
KR20160109636A (en) Apparatus for rotating substrate
CN105470176A (en) Semiconductor film-formation device, substrate automatic positioning and clamping structure and clamping method
CN105448785A (en) Semi-conductor film forming equipment, automatic positioning and clamping structures of wafer and clamping method
CN105120721A (en) Baking-plate assembly for a waffle-baking machine
TWI828815B (en) Methods and apparatus for marangoni drying
KR20060119088A (en) An apparatus for handling a substrate and method using the apparatus
KR102290078B1 (en) Wafer boat
TWI787653B (en) Apparatus for controlling tilting
KR101212941B1 (en) Flexible shower head
KR102496284B1 (en) Apparatus for inspecting wafer edge ring
KR100833472B1 (en) Apparatus for treating substrate

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant