KR101637248B1 - 용융아연도금공정의 아연 분말 제거설비 - Google Patents
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- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 title claims abstract description 17
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract description 36
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 102
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 23
- 239000000779 smoke Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims abstract description 4
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 34
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 28
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 28
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 9
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims description 5
- 239000008400 supply water Substances 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 3
- 230000003204 osmotic effect Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000003517 fume Substances 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/26—After-treatment
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/04—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor characterised by the coating material
- C23C2/06—Zinc or cadmium or alloys based thereon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/34—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor characterised by the shape of the material to be treated
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/34—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor characterised by the shape of the material to be treated
- C23C2/36—Elongated material
- C23C2/40—Plates; Strips
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G3/00—Apparatus for cleaning or pickling metallic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G3/00—Apparatus for cleaning or pickling metallic material
- C23G3/02—Apparatus for cleaning or pickling metallic material for cleaning wires, strips, filaments continuously
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G3/00—Apparatus for cleaning or pickling metallic material
- C23G3/02—Apparatus for cleaning or pickling metallic material for cleaning wires, strips, filaments continuously
- C23G3/023—Apparatus for cleaning or pickling metallic material for cleaning wires, strips, filaments continuously by spraying
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Coating With Molten Metal (AREA)
Abstract
본 발명은 아연 도금욕을 통과하여 이동하는 스트립(A)의 표면에 물을 분사하여 냉각하는 냉각부재(110); 스트립(A)이 이동하는 방향으로 따라서 조질압연기(20)의 후방에 위치하여 스트립(A)의 표면에 고온의 물을 분사하는 분사부재(120); 상기 분사부재(120)와 연결하여 고온의 물이 스트립(A)의 표면에 충돌하면서 발생하는 연기를 제거하는 연기제거부재(130); 스트립(A)이 이동하는 방향으로 따라서 링거롤(30)의 후방에 위치하여 스트립(A)의 표면에 열풍을 분사하여 남아있는 물을 제거하는 열풍공급부재(140); 상기 열풍공급부재(140)의 후방에 위치하여 스트립(A)의 양측면에 압축공기를 분사하여 물을 제거하는 공기분사부재(150); 상기 공기분사부재(150)의 후방에 위치하여 스트립(A)의 표면에 물을 분사하여 이물질을 제거하는 제1린스부재(160); 스트립(A)이 이동하는 방향으로 따라서 금속염(40)의 후방에 위치하여 스트립(A)의 표면에 물을 분사하여 인산염을 제거하는 제2린스부재(170);로 이루어지는 용융아연도금공정의 아연 분말 제거설비를 제공하기 위한 것으로, 본 발명은 스트립의 표면에 남아있는 아연 분말을 제거하여 생산품질을 향상시킬 수 있는 효과를 갖는다. 특히 본 발명은 물에 포함된 아연 분말을 제거하여 재활용할 수 있는 효과를 갖는다. 또한, 본 발명은 고온의 물을 스트립의 표면으로 분사하는 과정에서 발생하는 연기를 제거할 수 있는 효과를 갖는다.
Description
본 발명은 용융아연도금공정의 아연 분말 제거설비에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 용융아연도금공정에서 발생하는 아연 분말을 제거할 수 있도록 하는 용융아연도금공정의 아연 분말 제거설비에 관한 것이다.
일반적으로 용융아연도금공정은 도금욕을 통과한 스트립(A)의 표면에 아연도금을 하기 위한 설비이다.
이때 스트립이 다수개의 롤을 통과하면서 응고되지 않은 아연이 다수개의 롤을 통과하면서 아연 분말(징크 파우더)이 발생한다.
이러한 아연 분말은 롤의 표면에 고착되어 스트립의 불량을 초래하는 문제점을 갖게 되었다.
그러나 종래에는 용융아연도금공정에서 사용하는 물(청정액)에 포함된 아연 분말을 완벽하게 제거하지 못하므로 아연 분말이 다시 물의 내부로 혼입되는 문제점을 갖게 되었다.
또한, 물의 내부에 남아있는 아연 분말이 설비의 내부에 축적되어 잦은 고장을 유발함은 물론 내구성을 저하하는 문제점을 갖게 되었다.
아울러 종래에는 아연 분말을 제거하기 위해서 생산공정을 중단시켜야 하므로 경제적인 손실이 발생하는 심각한 문제점을 갖게 되었다.
따라서 본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서,
본 발명은 물에 포함된 아연 분말을 제거하여 재활용할 수 있는 용융아연도금공정의 아연 분말 제거설비를 제공함에 목적이 있다.
또한, 본 발명은 고온의 물을 스트립의 표면으로 분사하는 과정에서 발생하는 연기(흄)를 제거할 수 있는 용융아연도금공정의 아연 분말 제거설비를 제공함에 다른 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명 용융아연도금공정의 아연 분말 제거설비(100)는,
아연 도금욕을 통과하여 이동하는 스트립(A)의 표면에 물을 분사하여 냉각하는 냉각부재(110); 스트립(A)이 이동하는 방향으로 따라서 조질압연기(20)의 후방에 위치하여 스트립(A)의 표면에 고온의 물을 분사하는 분사부재(120); 상기 분사부재(120)와 연결하여 고온의 물이 스트립(A)의 표면에 충돌하면서 발생하는 연기를 제거하는 연기제거부재(130); 스트립(A)이 이동하는 방향으로 따라서 링거롤(30)의 후방에 위치하여 스트립(A)의 표면에 열풍을 분사하여 남아있는 물을 제거하는 열풍공급부재(140); 상기 열풍공급부재(140)의 후방에 위치하여 스트립(A)의 양측면에 압축공기를 분사하여 물을 제거하는 공기분사부재(150); 상기 공기분사부재(150)의 후방에 위치하여 스트립(A)의 표면에 물을 분사하여 이물질을 제거하는 제1린스부재(160); 스트립(A)이 이동하는 방향으로 따라서 금속염(40)의 후방에 위치하여 스트립(A)의 표면에 물을 분사하여 인산염을 제거하는 제2린스부재(170);로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
여기서 상기 냉각부재(110)는 내부에 스트립(A)이 통과하는 몸체(10); 상기 몸체(10)의 내부에 위치하여 물을 분사하는 분사노즐(111); 상기 몸체(10)의 하부에 연결하는 연결관(112); 상기 연결관(112)과 연결하여 이물질을 제거하는 필터(113); 상기 필터(113)와 연결하는 집수탱크(114); 상기 집수탱크(114)와 연결하여 상기 분사노즐(111)로 물을 공급하는 펌프(115);로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 분사부재(120)는 스트립(A)이 내부를 통과하도록 형성하는 본체(121); 상기 본체(121)의 내부에 위치하여 고온의 물을 분사하는 노즐(122); 상기 본체(121)와 연결하는 배출관(123); 상기 배출관(123)과 연결하여 이물질을 제거하는 필터(124); 상기 배출관(123)과 연결하되 내부에 고온의 스팀순환관을 마련하여 물을 일정온도로 유지하는 저장탱크(125); 상기 저장탱크(125)와 연결하여 상기 노즐(122)로 고온의 물을 공급하는 펌프(126);로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
한편, 상기 연기제거부재(130)는 상기 분사부재(120)의 본체(121) 상부에 연결하는 순환관(131); 상기 순환관(131)과 연결하여 필터(132); 상기 필터(132)와 연결하여 연기를 흡입하는 흡입팬(133); 상기 필터(132)와 연결하는 물저장탱크(135); 상기 물저장탱크(135)와 연결하여 상기 필터(132)의 내부로 물을 공급하는 펌프(134);로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
특히 상기 열풍공급부재(140)는 스트립(A)이 내부를 통과하도록 형성하는 본체(141); 상기 본체(141)와 연결하되 내부에 고온의 스팀순환관을 마련하는 열원몸체(142); 성가 열원몸체(142)와 연결하여 바람을 발생하는 배기팬(143);으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
아울러 상기 공기분사부재(150)는 스트립(A)의 상부 및 하부에 위치하여 외부에서 압축공기를 공급받는 한 쌍의 공급관; 상기 공급관의 길이방향으로 따라서 양측에 스트립(A)의 양측면으로 분사하기 위한 다수개의 분사노즐로 구성하는 것을 특징으로 한다.
그리고 상기 제1린스부재(160)는 스트립(A)이 내부를 통과하도록 형성하는 본체(161); 상기 본체(161)의 내부에 위치하여 고온의 물을 분사하는 노즐(162); 상기 본체(161)와 연결하여 이물질을 제거하는 필터(163); 상기 필터(163)와 연결하되 내부에 고온의 스팀순환관을 마련하여 물을 일정온도로 유지하는 저장탱크(164); 상기 저장탱크(164)와 연결하여 상기 노즐(162)로 고온의 물을 공급하는 펌프(165); 상기 본체(161)와 필터(163)의 사이에 형성하는 여과탱크(166); 상기 여과탱크(166)의 내부를 전체적으로 순환하도록 이동하는 스크린(167);으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제2린스부재(170)는 스트립(A)이 내부를 통과하도록 형성하는 본체(171); 상기 본체(171)의 내부에 위치하여 고온의 물을 분사하는 노즐(172); 상기 본체(171)와 연결하여 이물질을 제거하는 필터(173); 상기 필터(173)와 연결하되 내부에 고온의 스팀순환관을 마련하여 물을 일정온도로 유지하는 저장탱크(174); 상기 저장탱크(174)와 연결하여 상기 노즐(172)로 고온의 물을 공급하는 펌프(175);로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명은 스트립의 표면에 남아있는 아연 분말을 제거하여 생산품질을 향상시킬 수 있는 효과를 갖는다.
특히 본 발명은 물에 포함된 아연 분말을 제거하여 재활용할 수 있는 효과를 갖는다.
또한, 본 발명은 고온의 물을 스트립의 표면으로 분사하는 과정에서 발생하는 연기를 제거할 수 있는 효과를 갖는다.
도 1은 본 발명 용융아연도금공정의 아연 분말 제거설비에 대한 구조를 나타내기 위한 사시도.
상기한 바와 같이 본 발명의 구성을 첨부한 도면에 의해 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1은 본 발명 용융아연도금공정의 아연 분말 제거설비에 대한 구조를 나타내기 위한 사시도를 도시한 것이다.
본 발명은 아연 도금욕을 통과하여 이동하는 스트립(A)의 표면에 물을 분사하여 냉각하는 냉각부재(110); 스트립(A)이 이동하는 방향으로 따라서 조질압연기(20)의 후방에 위치하여 스트립(A)의 표면에 고온의 물을 분사하는 분사부재(120); 상기 분사부재(120)와 연결하여 고온의 물이 스트립(A)의 표면에 충돌하면서 발생하는 연기를 제거하는 연기제거부재(130); 스트립(A)이 이동하는 방향으로 따라서 링거롤(30)의 후방에 위치하여 스트립(A)의 표면에 열풍을 분사하여 남아있는 물을 제거하는 열풍공급부재(140); 상기 열풍공급부재(140)의 후방에 위치하여 스트립(A)의 양측면에 압축공기를 분사하여 물을 제거하는 공기분사부재(150); 상기 공기분사부재(150)의 후방에 위치하여 스트립(A)의 표면에 물을 분사하여 이물질을 제거하는 제1린스부재(160); 스트립(A)이 이동하는 방향으로 따라서 금속염(40)의 후방에 위치하여 스트립(A)의 표면에 물을 분사하여 인산염을 제거하는 제2린스부재(170);로 이루어진다.
본 발명에서 상기 냉각부재(110)는 고온의 아연 도금욕과 에어나이프를 통과한 스트립(A)의 표면을 냉각하기 위해서 사용한다.
이러한 상기 냉각부재(110)는 내부에 스트립(A)이 통과하는 몸체(10); 상기 몸체(10)의 내부에 위치하여 물을 분사하는 분사노즐(111); 상기 몸체(10)의 하부에 연결하는 연결관(112); 상기 연결관(112)과 연결하여 이물질을 제거하는 필터(113); 상기 필터(113)와 연결하는 집수탱크(114); 상기 집수탱크(114)와 연결하여 상기 분사노즐(111)로 물을 공급하는 펌프(115);로 이루어진다.
따라서 상기 펌프(115)의 작동으로 물을 상기 분사노즐(111)로 공급하여 스트립(A)의 표면을 냉각할 수 있다.
이때 상기 필터(113)는 내부에 다공성 매체 또는 삼투압 매체를 포함한 역세필터를 형성하여 스트립(A)에서 떨어지는 아연 분말을 제거할 수 있다.
본 발명에서 상기 분사부재(120)는 조질압연기(20)를 통과하는 스트립(A)의 표면으로 고온의 물을 분사하여 아연 분말을 제거하기 위한 구성이다.
이러한 상기 분사부재(120)는 스트립(A)이 내부를 통과하도록 형성하는 본체(121); 상기 본체(121)의 내부에 위치하여 고온의 물을 분사하는 노즐(122); 상기 본체(121)와 연결하는 배출관(123); 상기 배출관(123)과 연결하여 이물질을 제거하는 필터(124); 상기 배출관(123)과 연결하되 내부에 고온의 스팀순환관을 마련하여 물을 일정온도로 유지하는 저장탱크(125); 상기 저장탱크(125)와 연결하여 상기 노즐(122)로 고온의 물을 공급하는 펌프(126);로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
이때 상기 저장탱크(125)의 내부에는 온도감지센서를 구비하여 물의 온도를 유지할 수 있다.
특히 상기 스팀순환관은 상기 저장탱크(125)의 내부를 순환하면서 물의 온도를 상승시킬 수 있다.
여기서 상기 필터(124)는 내부에 다공성 매체 또는 삼투압 매체를 포함한 역세필터를 형성하여 스트립(A)에서 떨어지는 아연 분말 및 이물질을 제거할 수 있다.
따라서 상기 펌프(126)의 작동으로 고온의 물이 상기 노즐(122)을 통해서 스트립(A)의 분사하여 아연 분말 및 이물질을 제거할 수 있다.
본 발명에서 상기 연기제거부재(130)는 상기 분사부재(120)의 작동으로 고온의 물이 스트립(A)의 표면에 충돌하면서 비산 및 발생하는 연기를 제거하여 스트립(A)의 2차 오염을 방지하기 위한 구성이다.
이러한 상기 연기제거부재(130)는 상기 분사부재(120)의 본체(121) 상부에 연결하는 순환관(131); 상기 순환관(131)과 연결하여 필터(132); 상기 필터(132)와 연결하여 연기를 흡입하는 흡입팬(133); 상기 필터(132)와 연결하는 물저장탱크(135); 상기 물저장탱크(135)와 연결하여 상기 필터(132)의 내부로 물을 공급하는 펌프(134);로 이루어진다.
특히 상기 필터(132)는 내부에 물을 분사 또는 순환시켜 흡입하는 연기에 포함된 미량의 이물질을 포집할 수 있다.
따라서 상기 흡입팬(133)의 작동으로 상기 분사부재(120)의 본체(121) 내부에서 발생하는 연기를 흡입하여 외부로 배출하고, 상기 펌프(134)의 작동으로 상기 필터(132)의 내부에 물을 분사 또는 순환시켜 통과하는 연기 및 이물질을 제거할 수 있다.
본 발명에서 상기 열풍공급부재(140)는 링거롤(30)을 통과하는 스트립(A)의 표면에 남아있는 물기를 제거하기 위한 구성이다.
이러한 상기 열풍공급부재(140)는 스트립(A)이 내부를 통과하도록 형성하는 본체(141); 상기 본체(141)와 연결하되 내부에 고온의 스팀순환관을 마련하는 열원몸체(142); 성가 열원몸체(142)와 연결하여 바람을 발생하는 배기팬(143);으로 이루어진다.
여기서 상기 본체(141)의 일측은 상기 열원몸체(142)와 연결하고 타측으로 열풍이 외부로 배출할 수 있도록 배기관(미 도시함)을 포함할 수 있다.
이때 상기 열원몸체(142)의 내부에는 스팀순환관 또는 히터를 포함하여 약 100 내지 200℃의 열풍을 발생시킬 수 있다.
따라서 상기 배기팬(143)의 작동으로 고온의 열풍을 상기 본체(141)의 내부로 공급하여 통과하는 스트립(A)의 표면에 남아있는 물기를 제거할 수 있다.
본 발명에서 상기 공기분사부재(150)는 상기 열풍공급부재(140)를 통과하는 스트립(A)의 양측면에 남아있는 물기를 제거하기 위한 구성이다.
즉, 스트립(A)의 상부 및 하부면에 남아있는 물기를 제거할 수 있으나, 이와 달리 스트립(A)의 양측면에 남아있는 물기를 완벽하게 제거할 수 없으므로 스트립(A)의 상부 및 하부 양측면에 압축공기를 분사하여 남아있는 물을 제거할 수 있다.
이때 상기 공기분사부재(150)는 스트립(A)의 상부 및 하부에 위치하여 외부에서 압축공기를 공급받는 한 쌍의 공급관; 상기 공급관의 길이방향으로 따라서 양측에 스트립(A)의 양측면으로 분사하기 위한 다수개의 분사노즐로 구성한다.
따라서 압축공기를 스트립(A)의 양측면으로 분사하여 남아있는 물기를 남김없이 제거할 수 있다.
본 발명에서 상기 제1린스부재(160)는 스트립(A)의 표면에 남아있는 아연 분말 및 이물질을 제거하기 위한 구성이다.
이러한 상기 제1린스부재(160)는 스트립(A)이 내부를 통과하도록 형성하는 본체(161); 상기 본체(161)의 내부에 위치하여 고온의 물을 분사하는 노즐(162); 상기 본체(161)와 연결하여 이물질을 제거하는 필터(163); 상기 필터(163)와 연결하되 내부에 고온의 스팀순환관을 마련하여 물을 일정온도로 유지하는 저장탱크(164); 상기 저장탱크(164)와 연결하여 상기 노즐(162)로 고온의 물을 공급하는 펌프(165);로 이루어진다.
이때 상기 필터(163)는 내부에 다공성 매체 또는 삼투압 매체를 포함한 역세필터를 형성하여 스트립(A)에서 떨어지는 아연 분말 및 이물질을 다시 한번 제거할 수 있다.
그리고 상기 저장탱크(164)의 내부에는 온도감지센서를 구비하여 스트립(A)의 변형을 방지할 수 있도록 물을 40 내지 50℃의 온도를 유지할 수 있다.
특히 상기 스팀순환관은 상기 저장탱크(164)의 내부를 순환하면서 물의 온도를 상승시킬 수 있다.
따라서 상기 펌프(165)의 작동으로 고온의 물이 상기 노즐(162)을 통해서 스트립(A)의 분사하여 아연 분말 및 이물질을 제거할 수 있다.
본 발명에서 상기 제2린스부재(170)는 산세척 후 남아있는 스트립(A)의 아연 분말 및 이물질을 제거하기 위한 구성이다.
이러한 상기 제1린스부재(160)는 스트립(A)이 내부를 통과하도록 형성하는 본체(161); 상기 본체(161)의 내부에 위치하여 고온의 물을 분사하는 노즐(162); 상기 본체(161)와 연결하여 이물질을 제거하는 필터(163); 상기 필터(163)와 연결하되 내부에 고온의 스팀순환관을 마련하여 물을 일정온도로 유지하는 저장탱크(164); 상기 저장탱크(164)와 연결하여 상기 노즐(162)로 고온의 물을 공급하는 펌프(165); 상기 본체(161)와 필터(163)의 사이에 형성하는 여과탱크(166); 상기 여과탱크(166)의 내부를 전체적으로 순환하도록 이동하는 스크린(167);으로 이루어진다.
이때 상기 필터(173)는 내부에 다공성 매체 또는 삼투압 매체를 포함한 역세필터를 형성하여 스트립(A)에서 떨어지는 아연 분말 및 이물질을 다시 한번 제거할 수 있다.
그리고 상기 저장탱크(174)의 내부에는 온도감지센서를 구비하여 스트립(A)의 변형을 방지할 수 있도록 물을 40 내지 50℃의 온도를 유지할 수 있다.
특히 상기 스팀순환관은 상기 저장탱크(174)의 내부를 순환하면서 물의 온도를 상승시킬 수 있다.
따라서 상기 펌프(175)의 작동으로 고온의 물이 상기 노즐(172)을 통해서 스트립(A)의 분사하여 아연 분말 및 이물질을 제거할 수 있다.
한편, 상기 여과탱크(166)의 일측에서 타측으로 갈수록 점차 하부방향으로 기울어지도록 형성하여 상기 본체(161)에서 공급하는 물이 상기 필터(163)의 내부로 자연스럽게 유입될 수 있도록 유도할 수 있다.
특히 상기 스크린(167)은 물이 통과하면서 내부에 포함된 이물질을 걸러내고 물만 통과할 수 있도록 일정입도를 갖도록 형성한다.
이때 상기 스크린(167)의 입도는 50 마이크론 이하인 것이 사용하여 물의 내부에 포함된 미세한 이물질을 여과함이 바람직하다.
이처럼 상기와 같이 본 발명의 실시한 예에 대하여 상세히 설명하였으나, 본 발명의 권리범위는 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 실시한 예와 실질적으로 균등의 범위에 있는 것까지 본 발명의 권리범위가 포함되는 것은 당연하다.
10: 몸체 20: 조질압연기
30: 링거롤 40: 금속염
100: 본 발명 용융아연도금공정의 아연 분말 제거설비
110: 냉각부재 111: 분사노즐
112: 연결관 113: 필터
114: 집수탱크 115: 펌프
120: 분사부재 121: 본체
122: 노즐 123: 배출관
124: 필터 125: 저장탱크
126: 펌프
130: 연기제거부재 131: 순환관
132: 필터 133: 흡입팬
134: 펌프 135: 물저장탱크
140: 열풍공급부재 141: 본체
142: 열원몸체 143: 배기팬
150: 공기분사부재
160: 제1린스부재 161: 본체
162: 노즐 163: 필터
164: 저장탱크 165: 펌프
166: 여과탱크 167: 스크린
170: 제2린스부재 171: 본체
172: 노즐 173: 필터
174: 저장탱크 175: 펌프
A: 스트립
30: 링거롤 40: 금속염
100: 본 발명 용융아연도금공정의 아연 분말 제거설비
110: 냉각부재 111: 분사노즐
112: 연결관 113: 필터
114: 집수탱크 115: 펌프
120: 분사부재 121: 본체
122: 노즐 123: 배출관
124: 필터 125: 저장탱크
126: 펌프
130: 연기제거부재 131: 순환관
132: 필터 133: 흡입팬
134: 펌프 135: 물저장탱크
140: 열풍공급부재 141: 본체
142: 열원몸체 143: 배기팬
150: 공기분사부재
160: 제1린스부재 161: 본체
162: 노즐 163: 필터
164: 저장탱크 165: 펌프
166: 여과탱크 167: 스크린
170: 제2린스부재 171: 본체
172: 노즐 173: 필터
174: 저장탱크 175: 펌프
A: 스트립
Claims (8)
- 아연 도금욕을 통과하여 이동하는 스트립(A)의 표면에 물을 분사하여 냉각하는 냉각부재(110); 스트립(A)이 이동하는 방향으로 따라서 조질압연기(20)의 후방에 위치하여 스트립(A)의 표면에 고온의 물을 분사하는 분사부재(120); 상기 분사부재(120)와 연결하여 고온의 물이 스트립(A)의 표면에 충돌하면서 발생하는 연기를 제거하는 연기제거부재(130); 스트립(A)이 이동하는 방향으로 따라서 링거롤(30)의 후방에 위치하여 스트립(A)의 표면에 열풍을 분사하여 남아있는 물을 제거하는 열풍공급부재(140); 상기 열풍공급부재(140)의 후방에 위치하여 스트립(A)의 양측면에 압축공기를 분사하여 물을 제거하는 공기분사부재(150); 상기 공기분사부재(150)의 후방에 위치하여 스트립(A)의 표면에 물을 분사하여 이물질을 제거하는 제1린스부재(160); 스트립(A)이 이동하는 방향으로 따라서 금속염(40)의 후방에 위치하여 스트립(A)의 표면에 물을 분사하여 인산염을 제거하는 제2린스부재(170);로 이루어지되,
상기 냉각부재(110)는 내부에 스트립(A)이 통과하는 몸체(10); 상기 몸체(10)의 내부에 위치하여 물을 분사하는 분사노즐(111); 상기 몸체(10)의 하부에 연결하는 연결관(112); 상기 연결관(112)과 연결하여 이물질을 제거하는 필터(113); 상기 필터(113)와 연결하는 집수탱크(114); 상기 집수탱크(114)와 연결하여 상기 분사노즐(111)로 물을 공급하는 펌프(115);로 이루어지고, 상기 분사부재(120)는 스트립(A)이 내부를 통과하도록 형성하는 본체(121); 상기 본체(121)의 내부에 위치하여 고온의 물을 분사하는 노즐(122); 상기 본체(121)와 연결하는 배출관(123); 상기 배출관(123)과 연결하여 이물질을 제거하는 필터(124); 상기 배출관(123)과 연결하되 내부에 고온의 스팀순환관을 마련하여 물을 일정온도로 유지하는 저장탱크(125); 상기 저장탱크(125)와 연결하여 상기 노즐(122)로 고온의 물을 공급하는 펌프(126);로 이루어지며, 상기 연기제거부재(130)는 상기 분사부재(120)의 본체(121) 상부에 연결하는 순환관(131); 상기 순환관(131)과 연결하여 필터(132); 상기 필터(132)와 연결하여 연기를 흡입하는 흡입팬(133); 상기 필터(132)와 연결하는 물저장탱크(135); 상기 물저장탱크(135)와 연결하여 상기 필터(132)의 내부로 물을 공급하는 펌프(134);로 이루어지고, 상기 열풍공급부재(140)는 스트립(A)이 내부를 통과하도록 형성하는 본체(141); 상기 본체(141)와 연결하되 내부에 고온의 스팀순환관을 마련하는 열원몸체(142); 성가 열원몸체(142)와 연결하여 바람을 발생하는 배기팬(143);으로 이루어지며, 상기 공기분사부재(150)는 스트립(A)의 상부 및 하부에 위치하여 외부에서 압축공기를 공급받는 한 쌍의 공급관; 상기 공급관의 길이방향으로 따라서 양측에 스트립(A)의 양측면으로 분사하기 위한 다수개의 분사노즐로 구성하고, 상기 제1린스부재(160)는 스트립(A)이 내부를 통과하도록 형성하는 본체(161); 상기 본체(161)의 내부에 위치하여 고온의 물을 분사하는 노즐(162); 상기 본체(161)와 연결하여 이물질을 제거하는 필터(163); 상기 필터(163)와 연결하되 내부에 고온의 스팀순환관을 마련하여 물을 일정온도로 유지하는 저장탱크(164); 상기 저장탱크(164)와 연결하여 상기 노즐(162)로 고온의 물을 공급하는 펌프(165); 상기 본체(161)와 필터(163)의 사이에 형성하는 여과탱크(166); 상기 여과탱크(166)의 내부를 전체적으로 순환하도록 이동하는 스크린(167);으로 이루어지며, 상기 제2린스부재(170)는 스트립(A)이 내부를 통과하도록 형성하는 본체(171); 상기 본체(171)의 내부에 위치하여 고온의 물을 분사하는 노즐(172); 상기 본체(171)와 연결하여 이물질을 제거하는 필터(173); 상기 필터(173)와 연결하되 내부에 고온의 스팀순환관을 마련하여 물을 일정온도로 유지하는 저장탱크(174); 상기 저장탱크(174)와 연결하여 상기 노즐(172)로 고온의 물을 공급하는 펌프(175);로 이루어지는 것을 특징으로 하는 용융아연도금공정의 아연 분말 제거설비. - 삭제
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Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020150175662A KR101637248B1 (ko) | 2015-12-10 | 2015-12-10 | 용융아연도금공정의 아연 분말 제거설비 |
| PCT/KR2016/008439 WO2017099325A1 (ko) | 2015-12-10 | 2016-08-01 | 용융아연도금공정의 아연분말 제거설비 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020150175662A KR101637248B1 (ko) | 2015-12-10 | 2015-12-10 | 용융아연도금공정의 아연 분말 제거설비 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR101637248B1 true KR101637248B1 (ko) | 2016-07-07 |
Family
ID=56500102
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020150175662A KR101637248B1 (ko) | 2015-12-10 | 2015-12-10 | 용융아연도금공정의 아연 분말 제거설비 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101637248B1 (ko) |
| WO (1) | WO2017099325A1 (ko) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20050013464A (ko) * | 2003-07-28 | 2005-02-04 | 주식회사 포스코 | 아연괴의 표면 이물질 제거장치 |
| KR100504367B1 (ko) | 2000-12-08 | 2005-07-28 | 주식회사 포스코 | 용융아연 도금설비에서 징크파우더 회수장치 |
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| KR20130139955A (ko) * | 2010-10-27 | 2013-12-23 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 도금 처리 장치 및 도금 처리 방법 그리고 도금 처리 프로그램을 기록한 기록 매체 |
| KR101442832B1 (ko) | 2007-11-22 | 2014-09-23 | 주식회사 포스코 | 코터 롤의 징크 파우더 제거 장치 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0630845Y2 (ja) * | 1990-02-09 | 1994-08-17 | 住友金属工業株式会社 | ガルバニール炉内の酸化亜鉛除去装置 |
-
2015
- 2015-12-10 KR KR1020150175662A patent/KR101637248B1/ko active IP Right Grant
-
2016
- 2016-08-01 WO PCT/KR2016/008439 patent/WO2017099325A1/ko active Application Filing
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| KR100504367B1 (ko) | 2000-12-08 | 2005-07-28 | 주식회사 포스코 | 용융아연 도금설비에서 징크파우더 회수장치 |
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| KR101442832B1 (ko) | 2007-11-22 | 2014-09-23 | 주식회사 포스코 | 코터 롤의 징크 파우더 제거 장치 |
| KR20090067449A (ko) * | 2007-12-21 | 2009-06-25 | 주식회사 포스코 | 아연 도금 강판 제조방법 및 아연 분말 제거장치 |
| KR100929823B1 (ko) | 2007-12-21 | 2009-12-07 | 주식회사 포스코 | 아연 도금 강판 제조방법 및 아연 분말 제거장치 |
| KR20130139955A (ko) * | 2010-10-27 | 2013-12-23 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 도금 처리 장치 및 도금 처리 방법 그리고 도금 처리 프로그램을 기록한 기록 매체 |
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|---|---|
| WO2017099325A1 (ko) | 2017-06-15 |
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