KR101627483B1 - 여과재 순환코팅 시스템이 구비되는 가압형 수처리장치 - Google Patents
여과재 순환코팅 시스템이 구비되는 가압형 수처리장치 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 여과판과 여과포가 다수단으로 적층되고 여과재를 코팅한 후 고압의 원수를 공급하여 여과하는 가압형 수처리장치에서, 여과포를 통과한 여과재를 그대로 배출하지 않고 순환시켜 여과포에 코팅이 되도록 하는 여과재 순환코팅 시스템이 구비되는 가압형 수처리장치에 관한 발명이다.
본 발명은 다수단의 여과판과, 상기 여과판 사이에 여과포가 결합되고, 상기 여과판의 일측에는 원수를 공급하는 원수공급관이 구비되며 타측에는 여과수가 배출되는 여과수배출관이 구비되는 가압형 수처리장치에 있어서, 여과재희석액을 상기 여과판측으로 공급하기 위해 여과재를 희석시키는 여과재희석액탱크; 상기 여과재희석탱크에 결합되어 여과재를 정량 공급하는 여과재정량공급부; 및 상기 여과재희석액탱크로부터 여과판측으로 공급된 여과재희석액에서 여과포에 도포되지 않고 여과포를 통과한 여과재를 다시 여과판 측으로 순환시켜 공급시키는 여과재희석액순환부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명은 여과재의 코팅을 위해 공급하는 여과재희석액으로부터 여과재가 여과포를 통과한 후에도 그대로 버려지지 않고 순환되어 여과재의 소모량을 줄일 수 있는 효과가 있다.
본 발명은 다수단의 여과판과, 상기 여과판 사이에 여과포가 결합되고, 상기 여과판의 일측에는 원수를 공급하는 원수공급관이 구비되며 타측에는 여과수가 배출되는 여과수배출관이 구비되는 가압형 수처리장치에 있어서, 여과재희석액을 상기 여과판측으로 공급하기 위해 여과재를 희석시키는 여과재희석액탱크; 상기 여과재희석탱크에 결합되어 여과재를 정량 공급하는 여과재정량공급부; 및 상기 여과재희석액탱크로부터 여과판측으로 공급된 여과재희석액에서 여과포에 도포되지 않고 여과포를 통과한 여과재를 다시 여과판 측으로 순환시켜 공급시키는 여과재희석액순환부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명은 여과재의 코팅을 위해 공급하는 여과재희석액으로부터 여과재가 여과포를 통과한 후에도 그대로 버려지지 않고 순환되어 여과재의 소모량을 줄일 수 있는 효과가 있다.
Description
본 발명은 가압형 수처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 여과판과 여과포가 다수단으로 적층되고 여과재를 코팅한 후 고압의 원수를 공급하여 여과하는 가압형 수처리장치에서, 여과포를 통과한 여과재를 그대로 배출하지 않고 순환시켜 여과포에 코팅이 되도록 하는 여과재 순환코팅 시스템이 구비되는 가압형 수처리장치에 관한 발명이다.
일반적으로, 상수원을 식수로 사용하기 위해서는 여러 단계를 거쳐 상수원에 포함된 다양한 슬러지를 여과하고 정화하여 공급하고 있으며, 많은 사람들이 공동으로 사용하는 수영장 등에 물을 공급하거나, 수영장 등에서 사용한 물을 다시 걸러 수영장으로 순환시키기 위해서도 물속에 포함된 아주 미세한 슬러지까지 확실하게 걸러 공급하고 있다.
본 출원인이 출원하여 선등록된 가압형 수처리장치는, 도 1 내지 도 4에 도시된 바와같이, 원수를 여과하기 전에 먼저 수처리장치(10)의 여과판(11) 사이마다 결합된 여과포(11)에 활성탄 또는 규조토 등의 여과재를 도포하는 작업을 수행하게 된다.
이를 위해 여과재희석액탱크(20)의 밸브를 개방하여 소정의 비율로 여과재가 희석된 여과재액을 여과재액공급관(21)을 통해 수처리장치(10) 측으로 연결된 원수공급관(13) 중도부로 공급하게 된다. 여과재희석액탱크(20)에는 여과재를 교반시키기 위한 교반기(22)가 구비되고, 상수를 공급하기 위한 상수공급관(23)가 구비된다.
여과재희석액이 수처리장치(10) 측으로 공급되면 각각의 여과판(11) 사이마다 결합된 여과포(12)를 거치면서 여과재희석액에 희석된 여과재는 미세한 사이즈의 여과포(12)의 기공을 통과하지 못하고 여과포(12) 하부에 걸러지면서 도포가 되고 물만 통과하여 여과수배출관(14)으로 배출되도록 구성된다.
한편, 여과재의 입자가 보통 15 ~ 250㎛ 사이의 크기가 대부분이지만, 작게는 보통 5㎛부터 큰 입자는 300㎛ 이상의 크기도 있다. 따라서, 여과재희석액이 도 4에 도시된 바와 가은 여과포(12)에 형성된 50 ~ 80㎛ 정도 사이즈의 기공을 최초 통과할 때, 여과포(12)의 기공보다 큰 입자의 여과재는 여과포(12)를 통과하지 못하고 여과포(12)의 기공에 걸러지게 되지만, 여과포(12)의 기공 사이즈보다 작은 크기의 여과재는 여과포(12)에 걸러지지 않고 여과포(12)의 기공을 통과하여 여과수배출관(14)으로 배출이 되게 된다.
따라서, 상기와 같은 종래 기술에서는 여과포(12)의 기공보다 작은 입자의 많은 양의 여과재가 그대로 배출되어 버려지게 되고, 일정 두께 이상으로 여과재를 코팅하기 위해서는 더 많은 양의 여과재희석액을 공급하여야 하므로, 여과재 사용량이 많아 비경제적인 문제점이 있었다.
본 발명은 여과재의 코팅을 위해 공급하는 여과재희석액으로부터 여과재가 여과포를 통과한 후에도 그대로 버려지지 않도록 하는데 그 목적이 있다.
또한, 본 발명은 여과재를 주기적으로 일정량의 여과재를 희석시킬 수 있도록 하는 시스템을 제공하는데 다른 목적이 있다.
또한, 본 발명은 여과재호퍼 내부의 여과재가 여과재호퍼 벽면에 부착되어 배출이 용이하지 않는 문제점을 해결하는데 다른 목적이 있다.
본 발명은 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 다수단의 여과판과, 상기 여과판 사이에 여과포가 결합되고, 상기 여과판의 일측에는 원수를 공급하는 원수공급관이 구비되며 타측에는 여과수가 배출되는 여과수배출관이 구비되는 가압형 수처리장치에 있어서, 여과재희석액을 상기 여과판측으로 공급하기 위해 여과재를 희석시키는 여과재희석액탱크; 상기 여과재희석액탱크와 결합되며, 상기 여과재희석액탱크에 여과재를 정량 공급하는 여과재정량공급부; 상기 여과재희석액탱크로부터 상기 수처리장치에 여과재희석액을 정량공급하도록 작동하는 여과재희석액정량펌프; 및 상기 여과재희석액탱크로부터 여과판측으로 공급된 여과재희석액에서 여과포에 도포되지 않고 여과포를 통과한 여과재를 다시 여과판 측으로 순환시켜 공급시키는 여과재희석액순환부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 여과재희석액순환부는, 상기 원수공급관 중도부와 여과수배출관의 중도부 사이를 연결하는 여과재희석액순환관과, 상기 여과재희석액순환관의 중도부에 구비되어 여과재희석액이 순환 또는 차단되도록 하는 순환제어밸브 및 상기 여과재희석액이 일방향으로만 흐르도록 제어하는 여과재희석액체크밸브를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 여과재정량공급부는, 여과재가 수용되는 여과재호퍼와, 상기 여과재호퍼의 하부에서 상기 여과재희석액탱크의 상측방향으로 구비되며 내부에는 미리 설정한 회전수만큼 회전하는 스크류가 구비되어 여과재를 정량씩 이송시키는 여과재정량이송부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 여과재희석액탱크 상하에는 고,저수위체크센서를 구비하고, 저수위체크센서가 작동시에는 상수공급관으로부터 상수를 공급시키고, 상기 여과재정량이송부를 작동하여 여과재를 정량 공급하며, 상기 상단수위체크센서가 작동시에는 상수의 공급과 여과재정량이송부의 작동이 정지되도록 제어하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 여과재호퍼에는 바이브레이터가 더 구비되어 여과재가 여과재호퍼의 외벽에 부착되는 것을 방지하여 배출이 용이하도록 하는 것을 특징으로 한다.
본 발명은 여과재의 코팅을 위해 공급하는 여과재희석액으로부터 여과재가 여과포를 통과한 후에도 그대로 버려지지 않고 순환되어 여과재의 소모량을 줄일 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 여과재를 주기적으로 일정량의 여과재를 자동으로 희석시킬 수 있는 장점이 있다.
또한, 본 발명은 여과재호퍼 내부의 여과재가 여과재호퍼 벽면에 부착되지 않고 용이하게 배출되는 장점이 있다.
도 1은 종래 수평형의 가압형 수처리장치에서 여과재희석액을 공급하는 상태를 도시한 간략 개념도
도 2는 종래 수직형의 가압형 수처리장치에서 여과재희석액을 공급하는 상태를 도시한 간략 개념도
도 3은 종래 원형의 가압형 수처리장치에서 여과재희석액을 공급하는 상태를 도시한 간략 개념도
도 4는 일반적인 여과포에 형성된 기공을 보여주기 위한 일부 확대 사진
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 수평형의 가압형 수처리장치에서 여과재희석액을 순환시켜 공급하는 상태를 도시한 간략 개념도
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 수평형의 가압형 수처리장치에서 원수를 여과하여 배출시키는 상태를 도시한 간략 개념도
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 가압형 수처리장치에서 여과재희석액탱크와 여과재정량공급부와의 결합 관계를 보여주기 위한 일부 간략 개념도
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 수직형의 가압형 수처리장치에서 여과재희석액을 순환시켜 공급하는 상태를 도시한 간략 개념도
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 수직형의 가압형 수처리장치에서 원수를 여과하여 배출시키는 상태를 도시한 간략 개념도
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 원형의 가압형 수처리장치에서 여과재희석액을 순환시켜 공급하는 상태를 도시한 간략 개념도
도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 원형의 가압형 수처리장치에서 원수를 여과하여 배출시키는 상태를 도시한 간략 개념도
도 2는 종래 수직형의 가압형 수처리장치에서 여과재희석액을 공급하는 상태를 도시한 간략 개념도
도 3은 종래 원형의 가압형 수처리장치에서 여과재희석액을 공급하는 상태를 도시한 간략 개념도
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도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 수평형의 가압형 수처리장치에서 여과재희석액을 순환시켜 공급하는 상태를 도시한 간략 개념도
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 수평형의 가압형 수처리장치에서 원수를 여과하여 배출시키는 상태를 도시한 간략 개념도
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 가압형 수처리장치에서 여과재희석액탱크와 여과재정량공급부와의 결합 관계를 보여주기 위한 일부 간략 개념도
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 수직형의 가압형 수처리장치에서 여과재희석액을 순환시켜 공급하는 상태를 도시한 간략 개념도
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 수직형의 가압형 수처리장치에서 원수를 여과하여 배출시키는 상태를 도시한 간략 개념도
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 원형의 가압형 수처리장치에서 여과재희석액을 순환시켜 공급하는 상태를 도시한 간략 개념도
도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 원형의 가압형 수처리장치에서 원수를 여과하여 배출시키는 상태를 도시한 간략 개념도
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
여기서 사용되는 전문용어는 단지 특정 실시예를 언급하기 위한 것이며, 본 발명을 한정하는 것을 의도하지 않는다. 여기서 사용되는 단수 형태들은 문구들이 이와 명백히 반대의 의미를 나타내지 않는 한 복수 형태들도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함하는"의 의미는 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 및/또는 성분을 구체화하며, 다른 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소, 성분 및/또는 군의 존재나 부가를 제외시키는 것은 아니다.
다르게 정의하지는 않았지만, 여기에 사용되는 기술용어 및 과학용어를 포함하는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 일반적으로 이해하는 의미와 동일한 의미를 가진다. 보통 사용되는 사전에 정의된 용어들은 관련기술문헌과 현재 개시된 내용에 부합하는 의미를 가지는 것으로 추가 해석되고, 정의되지 않는 한 이상적이거나 매우 공식적인 의미로 해석되지 않는다.
도면을 참조하여 설명된 본 발명의 실시예는 본 발명의 이상적인 실시예를 구체적으로 나타낸다. 그 결과, 도해의 다양한 변형, 예를 들면 제조 방법 및/또는 사양의 변형이 예상된다. 따라서 실시예는 도시한 영역의 특정 형태에 국한되지 않으며, 예를 들면 제조에 의한 형태의 변형도 포함한다. 예를 들면, 편평하다고 도시되거나 설명된 영역은 일반적으로 거칠거나/거칠고 비선형인 특성을 가질 수 있다. 또한, 날카로운 각도를 가지는 것으로 도시된 부분은 라운드질 수 있다. 따라서 도면에 도시된 영역은 원래 대략적인 것에 불과하며, 이들의 형태는 영역의 정확한 형태를 도시하도록 의도된 것이 아니고, 본 발명의 범위를 좁히려고 의도된 것이 아니다.
첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어서, 도면 부호에 관계없이 동일한 구성요소는 동일한 참조부호를 부여하고, 이에 대한 중복설명은 생략하기로 한다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.
본 발명은 공지의 가압형 수처리장치(10)에 여과재희석액탱크(20) 및 여과재정량공급부(300), 그리고 여과재희석액순환부(400)가 결합되어 구성될 수 있다.
여기서 가압형 수처리장치(10)는 도 5 내지 도 11에 도시된 바와 같이, 여과판(11)이 수평으로 눕혀져 상하 다단으로 적층되는 수평형과, 여과판(11)이 수직으로 세워져 측면이 서로 접하도록 결합되는 수직형 및 원형으로 되는 여과판(11)이 수평으로 상하 다단으로 적층되는 원형 가압형 수처리장치가 모두 적용될 수 있다.
가압형 수처리장치(10)는 여과판(11)과 여과판(11) 사이마다 여과포(12)가 각각 결합되고, 여과판(11)의 일측으로는 원수가 공급되는 원수공급관(13)이 연결되며, 타측으로는 여과가 된 여과수가 배출되는 여과수배출관(14)이 연결된다. 그리고 여과수배출관(14)에는 여과수자동제어밸브(15)가 더 구비되는 것이 바람직하다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 가압형 수처리장치에서 여과재희석액탱크와 여과재정량공급부와의 결합 관계를 보여주기 위한 일부 간략 개념도이다.
여기서 여과재희석액탱크(20)는 여과재희석액이 수용되는 탱크로써, 여과재희석액을 가압형 수처리장치(10) 측으로 공급하기 위한 여과재희석액공급관(21)이 연결되고, 내부에는 여과재와 상수를 교반시켜 희석시키기 위한 교반기(22)가 구비되고, 여과재희석액탱크(20) 내부에 상수를 공급하기 위한 상수공급관(23)이 구비된다.
그리고, 여과재희석액탱크(20) 내부에는 별도의 제어부(210)와 연결되도록 수위감지센서(220)가 구비되고, 여과재희석액공급관(21)에는 여과재희석액탱크(20)로부터 수처리장치(10) 측으로 여과재희석액을 일정량 공급하기 위한 여과재희석액정량펌프(230)가 더 구비될 수 있다.
여기서 여과재정량공급부(300)는 여과재희석액을 제조하기 위한 여과재를 여과재희석액탱크(20)로 일정량만큼씩 공급하기 위한 것으로서, 여과재희석액탱크(20)의 상부측으로 연결된다. 이를 위해 여과재가 수용되는 여과재호퍼(310)와 여과재호퍼(310)의 하부에서 여과재희석액탱크(20)의 상부측으로 경사지도록 여과재정량이송부(320)가 구비된다. 여과재정량이송부(320)의 내부에는 여과재를 밀어 이송시키는 스크류(321)가 회전되도록 구비되는 것이 바람직하다. 스크류(321)는 제어부(210)에 미리 설정한 회전수만큼씩 회전 작동함으로써, 여과재를 일정량만큼씩 이송시켜 여과재희석액탱크(20)로 공급하게 된다.
여과재호퍼(310)의 벽면에는 바이브레이터(330)가 더 결합되어 진동을 주도록 하는 것도 바람직하다.
여기서 여과재희석액순환부(400) 여과재희석액순환관(410)과 순환제어밸브(420) 및 여과재희석액 체크밸브(430)를 포함한다. 여과재희석액순환관(410)은 원수공급관(13)과 여과수 배출관(14)의 중도부 사이에 연통되도록 연결 결합된다.
순환제어밸브(420) 및 여과재희석액 체크밸브(430)는 여과재희석액순환관(410)의 중도부에 결합되는 것으로서, 여과재희석액의 순환을 제어하고 여과재희석액이 일방향으로만 이동하도록 제어한다.
이상과 같이 구성된 본 발명의 가압형 수처리장치의 작용관계를 설명한다.
도 5 및 도 8 및 도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 가압형 수처리장치에서 여과재희석액을 순환시켜 공급하는 상태를 도시한 간략 개념도이다.
본 발명의 가압형 수처리장치는 원수공급관(13)을 통해 가압형 수처리장치(10)의 여과판(11) 측으로 원수를 공급하여 여과가 이루어지도록 하는 바, 여과가 진행되기 전에 먼저 원수를 공급하면서 여과재희석액탱크(20)로부터 활성탄 또는 규조토 등의 여과재를 희석하여 동시에 공급하도록 한다.
이를 위해 여과재희석액탱크(20)에는 여과재를 희석시켜 여과재희석액을 준비하여야 하는 바, 상수공급관(23)으로부터 상수가 유입되어 채워지게 되는데, 수위감지센서(220)에 의해 제어부(210)에 미리 설정된 고수위만큼 채워지면 자동으로 상수의 공급이 중단되게 된다.
그리고, 여과재정량공급부(300)로부터 여과재를 일정량 공급받아 교반기(22)에 의해 교반하여 희석시키게 된다. 여과재는 여과재호퍼(310)에서 배출되어 여과재정량이송부(320)의 스크류(321)로 투입되고, 제어부(210)의 제어에 의해 미리 설정한 회전수만큼 스크류(321)가 회전하면서 여과재를 여과재희석액탱크(20) 측으로 투입시킨다. 즉, 스크류(321)의 회전량만큼만 여과재가 일정하게 여과재희석액탱크(20) 속으로 투입되게 된다.
이때, 여과재호퍼(310) 속에 채워진 여과재가 여과재호퍼(310)의 벽면에 부착되어 배출이 용이하지 않은 경우가 있는데, 바이브레이터(330)가 진동을 발생시킴으로써 여과재가 여과재호퍼(310)의 벽면에 부착이 되지 않고 용이하게 배출되도록 하는 것도 바람직하다.
여과재희석액탱크(20)에서 상수와 희석된 여과재는 다시 제어부(210)의 제어에 의해 여과재희석액정량펌프(230)가 소정의 시간동안 작동하면서, 여과재희석액이 여과재희석액공급관(21)을 통해 원수공급관(13)으로부터 고압으로 유입되는 원수와 함께 수처리장치(10)의 여과판(11) 측으로 유입된다. 이때, 여과수배출관(14)에 구비된 여과수자동제어밸브(15)를 차단하고 여과재희석액순환관(410)에 구비된 순환제어밸브(420)는 개방되도록 한다.
여과재희석액정량펌프(230)의 작동이 정지한 상태에서도, 수처리장치(100)의 작동으로 고압의 압력에 의해 여과재희석액이 여과포(12)를 거치면서 여과재희석액 중 여과재는 여과포(12)에 형성된 기공에 의해 걸러지면서 여과포(12)에 도포되게 되고, 물은 그대로 통과하여 배출되게 된다. 이때, 여과포(12)의 기공보다 작은 입자의 여과재는 여과포(12)를 통과하여 물과 함께 배출되게 되는데, 여과수배출관(14)에 구비된 여과수자동제어밸브(15)가 차단 제어되고 순환제어밸브(420)는 개방이 되므로, 여과포(12)를 통과한 여과재가 포함된 물은 여과수배출관(14)으로 배출되지 않고 여과재희석액순환관(410) 측으로 반복 순환하여 다시 수처리장치(10)의 여과판(11) 측으로 유입되게 된다.
그리고, 여과재희석액탱크(20)로부터 배출되는 여과재희석액은 여과재희석액 체크밸브(430)에 의해 여과수배출관(14) 방향으로는 흐르지 못하고 항상 원수공급관(13) 측으로 흐르게 된다.
따라서, 이미 여과포(12)를 거치면서 여과포(12)의 기공보다 큰 입자의 여과재가 여과포(12)의 기공을 통과하지 못하면서 기공을 일부 차단하게 되므로, 순환 반복하여 유입되는 여과재 중 여과포(12)의 기공보다 작은 입자의 여과재일지라도 이미 도포된 여과재에 의해 걸러지면서 도포가 되게 된다. 이렇게 여과재희석액의 순환과정이 반복되게 되면 소정의 시간 이후부터는 맑은 물만 배출이 되게 된다.
이후, 제어부(210)에 설정된 소정의 시간동안 여과재희석액의 순환작업이 완료되면 도 6 및 도 9 및 도 11에 도시된 바와 같이, 여과수배출관(14)에 구비된 여과수자동제어밸브(15)는 개방시키고 여과재희석액순환관(410)에 구비된 순환제어밸브(420)는 차단시킨다.
따라서, 고압의 원수만 원수공급관(13)을 통해 공급이 되면서 여과포(12)에 도포된 여과재에 의해 원수에 포함된 이물질이 걸러지게 되고, 여과수만 여과재의 기공과 여과포(12)의 기공을 통과하여 여과수배출관(14) 측으로 배출이 된다.
그리고, 여과재희석액탱크(20) 내의 여과재희석액이 줄어들어 수위감지센서(220)에 의해 미리 설정한 저수위가 감지되면, 다시 상수공급관(23)이 개방되어 상수가 유입되게 되고 여과재정량공급부(300)로부터 여과재가 일정량 공급되는 과정이 반복된다.
한편, 일정 시간 이상 여과가 이루어지면, 여과포(12)에 도포된 여과재에도 이물질이 부착이 되어 여과재의 기공이 막히게 되고, 여과효율이 떨어지면서 수처리장치(10) 내부의 압력이 높아지게 된다. 따라서, 미리 설정한 압력 이상으로 압력이 높아지면 자동으로 여과와 반대방향으로 역세척수를 공급함으로써, 여과포(12)에 도포된 여과재와 이물질을 탈리시켜 배출시키는 역세척 과정을 거친다.
이렇게 여과재와 이물질이 탈리되어 원상태로 복원된 여과포(12)에 다시 상기와 같은 여과재의 순환 도포과정을 거치고, 다시 여과과정을 거치는 과정을 반복하게 된다.
따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 가압형 수처리장치는 여과재의 도포시 작은 입자의 여과재도 배출되지 않고 여과포에 도포가 이루어지므로 여과재의 낭비가 줄어들고, 여과재가 그대로 배출되어 버려짐으로 인한 오염발생을 줄일 수 있게 된다.
10 : 수처리장치 11 : 여과판
12 : 여과포 13 : 원수공급관
14 : 여과수배출관 15 : 여과수자동제어밸브
20 : 여과재희석액탱크 21 : 여과재희석액공급관
22 : 교반기 23 : 상수공급관
210 : 제어부 220 : 수위감지센서
300 : 여과재정량공급부 310 : 여과재호퍼
320 : 여과재정량이송부 321 : 스크류
400 : 여과재희석액순환부 410 : 여과재희석액순환관
420 : 순환제어밸브 430 : 여과재희석액 체크밸브
12 : 여과포 13 : 원수공급관
14 : 여과수배출관 15 : 여과수자동제어밸브
20 : 여과재희석액탱크 21 : 여과재희석액공급관
22 : 교반기 23 : 상수공급관
210 : 제어부 220 : 수위감지센서
300 : 여과재정량공급부 310 : 여과재호퍼
320 : 여과재정량이송부 321 : 스크류
400 : 여과재희석액순환부 410 : 여과재희석액순환관
420 : 순환제어밸브 430 : 여과재희석액 체크밸브
Claims (5)
- 다수단의 여과판과, 상기 여과판 사이에 여과포가 결합되고, 상기 여과판의 일측에는 원수를 공급하는 원수공급관이 구비되며 타측에는 여과수가 배출되는 여과수배출관과 여과수자동제어밸브가 구비되는 가압형 수처리장치;
여과재희석액을 상기 여과판측으로 공급하기 위해 교반기에 의해 여과재를 희석시키는 여과재희석액탱크;
상기 여과재희석액탱크와 결합되며, 상기 여과재희석액탱크에 여과재를 정량 공급하는 여과재정량공급부;
상기 여과재희석액탱크로부터 상기 수처리장치에 여과재희석액을 정량공급하도록 작동하는 여과재희석액정량펌프; 및
상기 여과재희석액탱크로부터 여과판측으로 공급된 여과재희석액에서 여과포에 도포되지 않고 여과포를 통과한 여과재를 다시 여과판 측으로 순환시켜 공급시키는 여과재희석액순환부;를 포함하며,
상기 여과재희석액순환부는,
상기 원수공급관 중도부와 여과수배출관의 중도부 사이를 연결하는 여과재희석액순환관과, 상기 여과재희석액순환관의 중도부에 구비되어 여과재희석액이 순환 또는 차단되도록 하는 순환제어밸브 및 상기 여과재희석액이 일방향으로만 흐르도록 제어하는 여과재희석액체크밸브를 포함하며,
상기 여과재정량공급부는,
여과재가 수용되며 바이브레이터가 구비되어 여과재가 여과재호퍼의 외벽에 부착되는 것을 방지하여 배출이 용이하도록 하는 여과재호퍼와, 상기 여과재호퍼의 하부에서 상기 여과재희석액탱크의 상측방향으로 경사지도록 구비되며 내부에는 제어부에 미리 설정한 회전수만큼 회전하는 스크류가 구비되어 여과재를 정량씩 이송시키는 여과재정량이송부를 포함하며,
상기 여과재희석액탱크 상하에는 고,저수위체크센서를 구비하고, 저수위체크센서가 작동시에는 상수공급관으로부터 상수를 공급시키고, 상기 여과재정량이송부를 작동하여 여과재를 정량 공급하며, 상기 고수위체크센서가 작동시에는 상수의 공급과 여과재정량이송부의 작동이 정지되도록 제어하는 것을 특징으로 하는 여과재 순환코팅 시스템이 구비되는 가압형 수처리장치.
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