KR101617023B1 - Method of manufacturing PCB substrate having metal post - Google Patents

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KR101617023B1
KR101617023B1 KR1020140167503A KR20140167503A KR101617023B1 KR 101617023 B1 KR101617023 B1 KR 101617023B1 KR 1020140167503 A KR1020140167503 A KR 1020140167503A KR 20140167503 A KR20140167503 A KR 20140167503A KR 101617023 B1 KR101617023 B1 KR 101617023B1
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정상진
유문상
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Abstract

The technical subject of the present invention is to provide a printed circuit board capable of forming an external connection unit of a narrow pitch size by replacing a traditional solder ball connection unit, and a manufacturing method thereof. In the manufacturing method of a printed circuit board including a metal post according to an embodiment, provided is a carrier substrate including an insulation core layer and a base copper layer formed on the insulation core layer. An insulation bonding layer including a first contact pattern to expose at least a part of the base copper layer is formed on the upper side of the base copper layer. One or more circuit pattern layers which fill the first contact pattern and are formed on the base copper layer are stacked. The lower side of the base copper layer is exposed by separating the insulation core layer and the base copper layer of the carrier substrate. A resist pattern layer including a second contact pattern to selectively expose the base copper layer is formed on the lower side of the base copper layer. A post plating pattern layer which fills the second contact pattern is formed on the exposed base copper layer by using the resist pattern layer. The insulation bonding layer is exposed by selectively etching a part of the base copper layer where the post plating pattern layer is not formed.

Description

금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법{Method of manufacturing PCB substrate having metal post}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a printed circuit board having a metal post,

본 출원은 금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a printed circuit board having a metal post and a method of manufacturing the same.

오늘날 반도체 산업은 경량화, 소형화, 고속화, 다기능화, 고성능화되고 높은 신뢰성을 갖는 제품을 저렴하게 제조하는 방향으로 발전하고 있으며, 이를 달성하기 위한 중요한 기술 중의 하나가 반도체 패키지 기술이다. 반도체 패키지 기술은 웨이퍼 조립 공정을 거쳐 회로부가 형성된 반도체 칩을 외부 환경으로부터 보호하고, 기판 상에 용이하게 실장되도록 하여 반도체 칩의 동작 신뢰성을 확보하기 위한 기술이다. 최근에는, 패키지 제품의 고기능화 및 고성능화 경향에 따라, POP(Package On Package)와 같은 적층 패키지 제품의 요청이 급증하고 있다. Today, the semiconductor industry is moving towards manufacturing light-weighted, miniaturized, high-speed, multi-functional, high-performance, and highly reliable products at low cost. One of the important technologies to achieve this is semiconductor package technology. The semiconductor package technology is a technique for securing operation reliability of a semiconductor chip by protecting a semiconductor chip formed with a circuit part through a wafer assembling process from an external environment and easily mounting the semiconductor chip on a substrate. In recent years, demand for laminated package products such as POP (Package On Package) has been rapidly increasing due to the trend of high performance and high performance of packaged products.

도 1은 종래의 기술에 따르는 POP 적층 패키지의 일 예를 개략적으로 도시하는 도면이다. 도 1을 참조하면, POP 적층 패키지(10)는 제1 칩(160)이 실장된 제1 인쇄회로기판(12)과 복수의 제2 칩(152, 154, 156)이 실장된 제2 인쇄회로기판(14)이 적층되는 구성을 가진다. 제1 인쇄회로기판(12)은 절연층(120), 제1 접속 패드(122) 및 제2 접속 패드(124)를 구비할 수 있다. 제1 칩(160)은 범프(162)에 의해 제1 인쇄회로기판(12)과 접속할 수 있으며, 언더필(164)에 의해 범프(164)가 보호되도록 배치될 수 있다. 제2 인쇄회로기판(154)은 절연층(140), 제3 접속 패드(142), 및 제4 접속 패드(144)를 구비할 수 있다. 복수의 제2 칩(152, 154, 156)은 접착층에 의해 제2 인쇄회로기판(154) 상에 적층될 수 있다. 제2 칩(152, 156) 상의 칩 패드(158)와 제2 인쇄회로기판(154) 상의 접속 단자(146)가 와이어(151)로 서로 연결됨으로써, 제2 인쇄회로기판(154)과 제2 칩(152, 154, 156)이 전기적으로 서로 접속될 수 있다. 복수의 제2 칩(152, 154, 156)은 몰딩 부재(170)에 의해 보호될 수 있다.1 is a view schematically showing an example of a POP stacking package according to the prior art. 1, the POP laminate package 10 includes a first printed circuit board 12 on which a first chip 160 is mounted and a second printed circuit board 12 on which a plurality of second chips 152, 154, and 156 are mounted. And the substrate 14 is laminated. The first printed circuit board 12 may include an insulating layer 120, a first connection pad 122, and a second connection pad 124. The first chip 160 can be connected to the first printed circuit board 12 by the bumps 162 and the bumps 164 can be arranged to be protected by the underfill 164. The second printed circuit board 154 may include an insulating layer 140, a third connection pad 142, and a fourth connection pad 144. A plurality of second chips 152, 154, 156 may be stacked on the second printed circuit board 154 by an adhesive layer. The chip pads 158 on the second chips 152 and 156 and the connection terminals 146 on the second printed circuit board 154 are connected to each other by the wires 151 to connect the second printed circuit board 154 and the second The chips 152, 154, and 156 may be electrically connected to each other. The plurality of second chips (152, 154, 156) can be protected by the molding member (170).

제1 인쇄회로기판(12)과 제2 인쇄회로기판(14)은 제1 솔더볼 접속 수단(16)에 의해 전기적으로 접속될 수 있다. 제1 솔더볼 접속 수단(16)은 제1 인쇄회로기판(12)의 제2 접속 패드(124)와 제2 인쇄회로기판(14)의 제1 접속 패드(142)를 전기적으로 접속시킬 수 있다. 아울러, 제1 인쇄회로기판(12)의 제1 접속 패드(122) 상에는 외부 매체와의 접속을 위한 제2 솔더볼 접속 수단(18)이 배치될 수 있다. 이와 같이, 종래의 POP 구조의 적층 패키지는, 적어도 하나 이상의 칩이 실장된 서로 다른 인쇄회로기판을 솔더볼 접속 수단에 의해 접속함으로써 제조될 수 있다. The first printed circuit board 12 and the second printed circuit board 14 can be electrically connected by the first solder ball connecting means 16. [ The first solder ball connecting means 16 can electrically connect the second connection pad 124 of the first printed circuit board 12 and the first connection pad 142 of the second printed circuit board 14. In addition, second solder ball connecting means 18 for connection with an external medium may be disposed on the first connecting pad 122 of the first printed circuit board 12. As described above, the conventional POP structure laminated package can be manufactured by connecting different printed circuit boards on which at least one chip is mounted by solder ball connecting means.

도 2a 및 도 2b는 종래의 솔더볼 접속 수단 형성 방법을 개략적으로 나타내는 도면이다. 도 2a는 절연층(210), 절연층(210) 내부의 비아층(224), 절연층(210)의 상면 및 하면에 각각 위치하는 제1 회로 패턴(222, 223) 및 제2 회로 패턴(226)을 구비하는 인쇄회로기판을 도시하고 있다.2A and 2B are views schematically showing a conventional method of forming solder ball connecting means. 2A is a plan view of an insulating layer 210, a via layer 224 in the insulating layer 210, first circuit patterns 222 and 223 and second circuit patterns 223 and 223 located on the upper and lower surfaces of the insulating layer 210, respectively. 226). ≪ / RTI >

솔더레지스트 패턴(230)이 제1 회로 패턴(222, 223)의 적어도 일부분을 노출하고 있으며, 노출된 제1 회로 패턴(222)은 제1 접속 패드(222)을 구성할 수 있다. 또한, 솔더레지스트 패턴(230)은 제2 회로 패턴(226)의 적어도 일부분을 노출할 수 있으며, 노출된 제2 회로 패턴(226)은 제2 접속 패드(226)를 구성할 수 있다. The solder resist pattern 230 exposes at least a part of the first circuit patterns 222 and 223 and the exposed first circuit pattern 222 can constitute the first connection pad 222. [ In addition, the solder resist pattern 230 may expose at least a portion of the second circuit pattern 226 and the exposed second circuit pattern 226 may constitute the second connection pad 226.

도 2a를 참조하면, 솔더볼 접속 수단을 제조하기 위해, 제1 접속 패드(222) 사이에 금속 마스크 패턴층(240)을 배치한다. 이어서, 제1 접속 패드(222) 상부에 솔더볼(250)을 배치시킨다. 금속 마스크 패턴층(240)은 솔더볼(250)의 위치를 지정하고, 솔더볼(250)이 제1 접속 패드(222) 상부의 지정된 위치에 배치되는 것을 도울수 있다. Referring to FIG. 2A, a metal mask pattern layer 240 is disposed between first connection pads 222 to manufacture solder ball connection means. Subsequently, a solder ball 250 is disposed on the first connection pad 222. The metal mask pattern layer 240 can position the solder ball 250 and help the solder ball 250 be positioned at a designated location above the first contact pad 222.

도 2b를 참조하면, 금속 마스크 패턴층(240)을 제거한 후에 열을 인가하여 솔더볼(250)을 제1 접속 패드(222)와 공융 접합(eutectic bonding)시킴으로써, 솔더볼 접속 수단(255)를 형성할 수 있다. 이 때, 솔더볼(250)은 제1 접속 패드(222) 및 솔더레지스트 패턴(230)과 접착되도록 형상이 변형될 수 있다.2B, the solder ball connecting unit 255 is formed by eutectic bonding the solder ball 250 with the first connection pad 222 by applying heat after removing the metal mask pattern layer 240 . At this time, the solder ball 250 may be deformed to adhere to the first connection pad 222 and the solder resist pattern 230.

도 2a 및 도 2b를 참조하면, 종래의 솔더볼 접속 수단은 솔더볼(250)을 유동시켜 형성한다. 대체로, 솔더볼 접속 수단은 대체로 구형 또는 반구형의 형태를 가지도록 형성되며, 따라서, 솔더볼 접속 수단의 폭을 고정한 상태로 솔더볼 접속 수단의 높이만을 증가시키는 데는 제조상 어려움이 있다.Referring to FIGS. 2A and 2B, a conventional solder ball connecting means is formed by flowing a solder ball 250. Generally, the solder ball connecting means is formed to have a generally spherical or hemispherical shape, and therefore, it is difficult to manufacture only the height of the solder ball connecting means while fixing the width of the solder ball connecting means.

최근에 패키지 제품의 고기능화 및 고성능화 경향에 따라, 인쇄회로기판의 접속 패드의 수가 증가하고 접속 패드간의 피치 사이즈가 감소하고 있는데, 상술한 솔더볼 접속 수단은 이러한 고밀도의 소형 접속 패드를 연결하는 수단으로 적용하기에는 어려움이 있다. In recent years, due to the tendency of high-performance and high performance of packaged products, the number of connection pads of the printed circuit board is increased and the pitch size between the connection pads is decreasing. The solder ball connecting means described above is applied as means for connecting such high- There are difficulties in doing so.

본 출원이 이루고자 하는 기술적 과제는, 종래의 솔더볼 접속 수단을 대체하여 보다 협소한 피치 사이즈의 외부 접속 수단을 구현하는 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법을 제공하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is directed to a printed circuit board and a method of manufacturing the printed circuit board, which realize an external connection means with a narrower pitch size in place of the conventional solder ball connecting means.

상기의 기술적 과제를 이루기 위한 본 출원의 일 측면에 따른 금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판의 제조 방법을 제공한다. 상기 제조 방법에 있어서, 절연 코어층 및 상기 절연 코어층 상에 형성되는 베이스 구리층을 포함하는 캐리어 기판을 제공한다. 상기 베이스 구리층의 상면에, 상기 베이스 구리층의 적어도 일부분을 노출시키는 제1 컨택 패턴을 구비하는 절연성 접착층을 형성한다. 상기 제1 컨택 패턴을 채우며 상기 베이스 구리층 상에 형성되는 적어도 한 층 이상의 회로 패턴층을 적층한다. 상기 캐리어 기판의 상기 절연 코어층과 상기 베이스 구리층을 서로 분리시켜, 상기 베이스 구리층의 하면을 노출시킨다. 상기 베이스 구리층의 상기 하면 상에, 상기 베이스 구리층을 선택적으로 노출시키는 제2 컨택 패턴을 구비하는 레지스트 패턴층을 형성한다. 상기 레지스트 패턴층을 이용하여, 상기 노출된 베이스 구리층 상에 상기 제2 컨택 패턴을 채우는 포스트 도금 패턴층을 형성한다. 상기 포스트 도금 패턴층이 형성되지 않은 상기 베이스 구리층의 부분을 선택적으로 식각하여 상기 절연성 접착층을 노출시킨다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a printed circuit board having a metal post. In the above manufacturing method, there is provided a carrier substrate including an insulating core layer and a base copper layer formed on the insulating core layer. And an insulating adhesive layer having a first contact pattern exposing at least a portion of the base copper layer is formed on the upper surface of the base copper layer. At least one or more circuit pattern layers formed on the base copper layer to fill the first contact pattern are laminated. The insulating core layer of the carrier substrate and the base copper layer are separated from each other to expose the bottom surface of the base copper layer. A resist pattern layer having a second contact pattern selectively exposing the base copper layer is formed on the lower surface of the base copper layer. The resist pattern layer is used to form a post-plating pattern layer that fills the second contact pattern on the exposed base copper layer. The portion of the base copper layer on which the post-plating pattern layer is not formed is selectively etched to expose the insulating adhesive layer.

상기의 기술적 과제를 이루기 위한 본 출원의 다른 측면에 따른 금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판을 제공한다. 상기 인쇄회로기판은 절연층, 한 층 이상의 회로 패턴층, 절연성 접착층, 베이스 구리 패턴층, 및 포스트 도금 패턴층을 구비한다. 상기 절연층은 제1 면 및 상기 제1 면과 대향하는 제2 면을 구비한다. 상기 한 층 이상의 회로 패턴층은 적어도 일부분이 상기 절연층의 내부에 배치된다. 상기 절연성 접착층은 상기 절연층의 상기 제1 면의 상부로 돌추되는 상기 회로 패턴층의 일부분인 제1 접속 패드층을 둘러싼다. 상기 베이스 구리 패턴층은 상기 제1 접속 패드층과 접촉하며 상기 절연성 접착층 상에 배치된다. 상기 포스트 도금 패턴층은 상기 베이스 구리 패턴층 상에 적층된다. 상기 베이스 구리 패턴층의 선폭은 인저하는 상기 제1 접속 패드층의 선폭보다 크다.According to another aspect of the present invention, there is provided a printed circuit board having a metal post. The printed circuit board includes an insulating layer, at least one circuit pattern layer, an insulating adhesive layer, a base copper pattern layer, and a post-plating pattern layer. The insulating layer has a first surface and a second surface facing the first surface. At least a portion of the one or more circuit pattern layers is disposed inside the insulating layer. The insulating adhesive layer surrounds the first connection pad layer which is a part of the circuit pattern layer which is projected onto the first surface of the insulating layer. And the base copper pattern layer is disposed on the insulating adhesive layer in contact with the first connection pad layer. The post-plating pattern layer is laminated on the base copper pattern layer. The line width of the base copper pattern layer is larger than the line width of the first connection pad layer.

상기의 기술적 과제를 이루기 위한 본 출원의 또다른 측면에 따른 금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판의 제조 방법을 제공한다. 상기 제조 방법에 있어서, 절연층, 상기 절연층 내부에 배치되는 적어도 한 층 이상의 회로 패턴층, 상기 적어도 한 층 이상의 회로 패턴층과 연결되고 상기 절연층의 일 표면 상에 각각 배치되는 접속 패드층, 및 상기 절연층의 일 표면 상에서 상기 접속 패드층을 선택적으로 노출시키는 솔더마스크 패턴층을 포함하는 적층 회로 기판을 제공한다. 상기 접속 패드층 및 상기 솔더마스크 패턴층 상에 도금 시드층을 형성한다. 적어도 상기 도금 시드층을 덮는 제1 감광성 레지스트막을 상기 적층 회로 기판 상에 형성한다. 상기 제1 감광성 레지스트막을 선택적으로 감광 및 현상하여, 상기 도금 시드층의 적어도 일부분을 노출시키는 하부 컨택 패턴을 구비하는 제1 레지스트 패턴층을 형성한다. 상기 제1 레지스트 패턴층을 이용하는 도금법을 적용하여 상기 하부 컨택 패턴을 채우는 하부 범프층을 상기 도금 시드층 상에 형성하되, 상기 하부 범프층의 상면과 상기 제1 레지스트 패턴층의 상면이 동일 높이를 이루도록 형성한다. 상기 제1 레지스트 패턴층 및 상기 하부 범프층 상에 제2 감광성 레지스트막을 형성한다. 상기 제2 감광성 레지스트막을 선택적으로 감광 및 현상하여, 상기 하부 범프층을 선택적으로 노출시키는 상부 컨택 패턴을 구비하는 제2 레지스트 패턴층을 형성한다. 상기 제2 레지스트 패턴층을 이용하는 도금법을 적용하여, 상부 컨택 패턴을 채우는 상부 범프층을 상기 하부 범프층 상에 형성한다. 상기 제1 및 제2 레지스트 패턴층을 제거하고, 상기 하부 범프층이 형성되지 않은 상기 도금 시드층의 부분을 선택적으로 식각한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a printed circuit board having a metal post. The connection pad layer being connected to the at least one circuit pattern layer and disposed on one surface of the insulating layer, And a solder mask pattern layer selectively exposing the connection pad layer on one surface of the insulating layer. A plating seed layer is formed on the connection pad layer and the solder mask pattern layer. A first photosensitive resist film covering at least the plating seed layer is formed on the laminated circuit substrate. A first resist pattern layer having a lower contact pattern for selectively exposing and developing the first photosensitive resist film and exposing at least a part of the plating seed layer is formed. A lower bump layer filling the lower contact pattern is formed on the plating seed layer by applying a plating method using the first resist pattern layer, wherein an upper surface of the lower bump layer and an upper surface of the first resist pattern layer have the same height Respectively. A second photosensitive resist film is formed on the first resist pattern layer and the lower bump layer. A second resist pattern layer having an upper contact pattern selectively exposing the lower bump layer by selectively exposing and developing the second photosensitive resist film is formed. A plating method using the second resist pattern layer is applied to form an upper bump layer on the lower bump layer to fill the upper contact pattern. The first and second resist pattern layers are removed and portions of the plating seed layer on which the lower bump layer is not formed are selectively etched.

본 출원의 일 실시 예에 의하면, 종래의 솔더볼 접속 수단을 대신하여, 패터닝된 금속 포스트를 인쇄회로기판 간의 접속 수단으로 제조할 수 있다. 광학적 노광 및 현상에 의해 형성되는 레지스트 패턴을 이용하는 도금법에 의해 금속 포스트를 제조함으로써, 종래에 비해 접속 수단 간의 피치 사이즈를 용이하게 감소시킬 수 있다. 이에 따라, 최근의 인쇄회로기판에서 요청되고 있는 협소한 피치 사이즈의 접속 패드에 대응하는 접속 수단을 용이하게 제조할 수 있다.According to one embodiment of the present application, in place of the conventional solder ball connecting means, the patterned metal posts can be manufactured as connection means between printed circuit boards. It is possible to easily reduce the pitch size between connecting means as compared with the conventional method by manufacturing the metal posts by a plating method using a resist pattern formed by optical exposure and development. This makes it possible to easily manufacture connection means corresponding to connection pads of a narrow pitch size required in recent printed circuit boards.

일 실시 예에 따르면, 감광성 레지스트층 패턴층을 이용하는 도금법을 적어도 한번 이상 수행하여 상기 금속 포스트를 제조함으로써, 금속 포스트의 높이를 용이하게 제어할 수 있다. 이에 따라, 종래의 솔더볼 접속 수단과 비교할 때, 상대적으로 감소된 피치 사이즈 및 상대적으로 증가된 높이를 가지는 접속 수단을 제조할 수 있다.According to one embodiment, the height of the metal post can be easily controlled by manufacturing the metal post by performing the plating method using the photosensitive resist layer pattern layer at least once. As a result, it is possible to manufacture a connecting means having a relatively reduced pitch size and a relatively increased height as compared with conventional solder ball connecting means.

일 실시 예에 따르면, 금속 포스트층의 적어도 일부분 하부에 절연성 접착층을 배치함으로써, 상기 금속 포스트층의 구조적 신뢰성을 향상시킬 수 있다.According to one embodiment, the structural reliability of the metal post layer can be improved by disposing an insulating adhesive layer under at least a portion of the metal post layer.

도 1은 종래의 기술에 따르는 POP 적층 패키지의 일 예를 개략적으로 도시하는 도면이다.
도 2a 및 도 2b는 종래의 솔더볼 접속 수단 형성 방법을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 3은 본 출원의 일 실시 예에 따르는 금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 순서도이다.
도 4a 내지 도 4m은 본 출원의 제1 실시 예에 따르는 금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 5a 내지 도 5e는 본 출원의 제2 실시 예에 따르는 금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 6a 내지 도 6g는 본 개시의 제3 실시 예에 따르는 금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 단면도이다.
1 is a view schematically showing an example of a POP stacking package according to the prior art.
2A and 2B are views schematically showing a conventional method of forming solder ball connecting means.
3 is a flowchart schematically showing a method of manufacturing a printed circuit board having a metal post according to an embodiment of the present application.
4A to 4M are cross-sectional views schematically showing a method of manufacturing a printed circuit board having a metal post according to the first embodiment of the present application.
5A to 5E are cross-sectional views schematically showing a method of manufacturing a printed circuit board having a metal post according to a second embodiment of the present application.
6A to 6G are cross-sectional views schematically showing a method of manufacturing a printed circuit board having a metal post according to a third embodiment of the present disclosure.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 출원의 실시 예들을 보다 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 본 출원에 개시된 기술은 여기서 설명되는 실시 예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 단지, 여기서 소개되는 실시 예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 출원의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다. 도면에서 각 장치의 구성요소를 명확하게 표현하기 위하여 상기 구성요소의 폭이나 두께 등의 크기를 다소 확대하여 나타내었다. 또한, 설명의 편의를 위하여 구성요소의 일부만을 도시하기도 하였으나, 당업자라면 구성요소의 나머지 부분에 대하여도 용이하게 파악할 수 있을 것이다. 전체적으로 도면 설명시 관찰자 시점에서 설명하였고, 일 요소가 다른 요소 위에 위치하는 것으로 언급되는 경우, 이는 상기 일 요소가 다른 요소 위에 바로 위치하거나 또는 그들 요소들 사이에 추가적인 요소가 개재될 수 있다는 의미를 모두 포함한다. 또한, 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 출원의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 출원의 사상을 다양한 다른 형태로 구현할 수 있을 것이다. 그리고, 복수의 도면들 상에서 동일 부호는 실질적으로 서로 동일한 요소를 지칭한다. Embodiments of the present application will now be described in more detail with reference to the accompanying drawings. However, the techniques disclosed in this application are not limited to the embodiments described herein but may be embodied in other forms. It should be understood, however, that the embodiments disclosed herein are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. In the drawings, the width, thickness, and the like of the components are enlarged in order to clearly illustrate the components of each device. In addition, although only a part of the components is shown for convenience of explanation, those skilled in the art can easily grasp the rest of the components. It is to be understood that when an element is described as being located on another element, it is meant that the element is directly on top of the other element or that additional elements can be interposed between the elements . It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the invention. In the drawings, the same reference numerals denote substantially the same elements.

한편, 본 출원에서 서술되는 용어의 의미는 다음과 같이 이해되어야 할 것이다. “제1 ” 또는 “제2 ” 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위한 것으로 이들 용어들에 의해 권리범위가 한정되어서는 아니 된다. 예를 들어, 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수도 있다.Meanwhile, the meaning of the terms described in the present application should be understood as follows. The terms " first " or " second " and the like are intended to distinguish one element from another and should not be limited by these terms. For example, the first component may be referred to as a second component, and similarly, the second component may also be referred to as a first component.

또, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함하는 것으로 이해되어야 하고, “포함하다” 또는 “가지다”등의 용어는 기술되는 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.It is to be understood that the singular forms "a," "an," and "the" include plural referents unless the context clearly dictates otherwise, and the terms "comprise" Or combinations thereof, and does not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof.

또, 방법 또는 제조 방법을 수행함에 있어서, 상기 방법을 이루는 각 과정들은 문맥상 명백하게 특정 순서를 기재하지 않은 이상 명기된 순서와 다르게 일어날 수 있다. 즉, 각 과정들은 명기된 순서와 동일하게 일어날 수도 있고 실질적으로 동시에 수행될 수도 있으며 반대의 순서대로 수행될 수도 있다.
Further, in carrying out the method or the manufacturing method, each of the steps constituting the above method may occur differently from the stated order unless clearly specified in the context. That is, each process may occur in the same order as described, may be performed substantially concurrently, or may be performed in the opposite order.

도 3은 본 출원의 일 실시 예에 따르는 금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 순서도이다. 도 3을 참조하면, S310 단계에서, 절연 코어층 및 상기 절연 코어층 상에 형성되는 베이스 구리층을 포함하는 캐리어 기판을 제공한다.3 is a flowchart schematically showing a method of manufacturing a printed circuit board having a metal post according to an embodiment of the present application. Referring to FIG. 3, in step S310, a carrier substrate including an insulating core layer and a base copper layer formed on the insulating core layer is provided.

S320 단계에서, 상기 베이스 구리층의 상면에, 상기 베이스 구리층의 적어도 일부분을 노출시키는 제1 컨택 패턴을 구비하는 절연성 접착층을 형성한다.In step S320, an insulating adhesive layer having a first contact pattern exposing at least a portion of the base copper layer is formed on the upper surface of the base copper layer.

S330 단계에서, 상기 제1 컨택 패턴을 채우며 상기 절연성 접착층 상에 형성되는 적어도 한 층 이상의 회로 패턴층을 적층한다. 상기 적어도 한층 이상의 회로 패턴층 사이에는 전기적 절연을 위한 층간 절연층이 형성될 수 있다.In step S330, at least one or more circuit pattern layers formed on the insulating adhesive layer are laminated so as to fill the first contact pattern. An interlayer insulating layer for electrical insulation may be formed between the at least one or more circuit pattern layers.

S340 단계에서, 상기 캐리어 기판의 상기 절연 코어층과 상기 베이스 구리층을 서로 분리시켜, 상기 베이스 구리층의 하면을 노출시킨다. 이로써, 상기 캐리어 기판의 일부분이 분리되며, 상술한 적어도 한층 이상의 회로 패턴층은 상기 베이스 구리층 상에 적층될 수 있다.In step S340, the insulating core layer of the carrier substrate and the base copper layer are separated from each other to expose the bottom surface of the base copper layer. Thereby, a part of the carrier substrate is separated, and the above-mentioned at least one layer of the circuit pattern layer can be laminated on the base copper layer.

S350 단계에서, 상기 베이스 구리층의 상기 하면 상에, 상기 베이스 구리층을 선택적으로 노출시키는 제2 컨택 패턴을 구비하는 레지스트 패턴층을 형성한다.In step S350, a resist pattern layer having a second contact pattern selectively exposing the base copper layer is formed on the lower surface of the base copper layer.

S360 단계에서, 상기 레지스트 패턴층을 이용하여, 상기 노출된 베이스 구리층 상에 상기 제2 컨택 패턴을 채우는 포스트 도금 패턴층을 형성한다. 상기 포스트 도금 패턴층은 외부 접속용 금속 포스트의 일부분을 구성할 수 있다.In step S360, the resist pattern layer is used to form a post-plating pattern layer that fills the second contact pattern on the exposed base copper layer. The post-plating pattern layer can constitute a part of the metal posts for external connection.

S370 단계에서, 상기 포스트 도금 패턴층이 형성되지 않은 상기 베이스 구리층의 부분을 선택적으로 제거하여 상기 절연성 접착층을 노출시킨다. 결과적으로, 상기 베이스 구리층 및 상기 포스트 도금 패턴층을 포함하는 금속 포스트를 형성할 수 있다.
In step S370, the portion of the base copper layer on which the post-plating pattern layer is not formed is selectively removed to expose the insulating adhesive layer. As a result, a metal post including the base copper layer and the post-plating pattern layer can be formed.

이하에서는, 상술한 본 출원의 일 실시 예를 공정 단계 별 단면도를 이용하여 보다 구체적으로 설명하도록 한다.Hereinafter, one embodiment of the present application will be described in more detail with reference to cross-sectional views of the process steps.

도 4a 내지 도 4m은 본 출원의 제1 실시 예에 따르는 금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 단면도이다. 도 4a를 참조하면, 캐리어 기판(400)을 제공한다. 캐리어 기판(400)은 절연 코어층(410)의 양쪽 면에 순차적으로 적층된 캐리어 구리층(412) 및 베이스 구리층(414)을 포함한다. 4A to 4M are cross-sectional views schematically showing a method of manufacturing a printed circuit board having a metal post according to the first embodiment of the present application. Referring to FIG. 4A, a carrier substrate 400 is provided. The carrier substrate 400 includes a carrier copper layer 412 and a base copper layer 414 which are sequentially stacked on both sides of an insulating core layer 410.

도 4b를 참조하면, 베이스 구리층(414)의 상면에 절연성 수지층(416)을 형성한다. 절연성 수지층(416)은 구리, 주석 등과 같은 금속과 접착력이 우수한 재질을 포함할 수 있다. 절연성 수지층(416)은 일 예로서, 우레탄 계, 에폭시 계의 수지를 포함할 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않고, 공지의 다양한 수지를 포함할 수 있다. 절연성 수지층(416)은 베이스 구리층(414)과의 접착력을 향상시켜 후술하는 바와 같이 베이스 구리층(414) 상에 배치되는 포스트 도금 패턴층 (460)의 구조적 신뢰성을 향상시킬 수 있다. Referring to FIG. 4B, an insulating resin layer 416 is formed on the upper surface of the base copper layer 414. The insulating resin layer 416 may include a material having excellent adhesion to a metal such as copper, tin, or the like. The insulating resin layer 416 may include, for example, a urethane-based or epoxy-based resin, but is not limited thereto and may include various known resins. The insulating resin layer 416 can improve the adhesion with the base copper layer 414 and improve the structural reliability of the post plating pattern layer 460 disposed on the base copper layer 414 as described later.

일 실시 예에 의하면, 절연성 수지층(416)을 형성하는 단계는, 베이스 구리층(414)의 상면에 열경화성 잉크 조성물을 도포하고, 상기 잉크 조성물을 건조시켜 박막층을 형성하는 과정으로 진행될 수 있다. 이때, 상기 열경화성 잉크 조성물은 상술한 수지 조성물을 포함할 수 있다. According to one embodiment, the step of forming the insulating resin layer 416 may be performed by applying a thermosetting ink composition on the upper surface of the base copper layer 414 and drying the ink composition to form a thin film layer. At this time, the thermosetting ink composition may include the above-mentioned resin composition.

도 4c를 참조하면, 절연성 수지층(416) 상에 구리 박막층(418)을 형성한다. 일 예로서, 구리 박막층(418)을 형성하는 방법은, 소정 두께의 구리 포일을 준비하고, 상기 구리 포일을 상기 절연성 수지층(416) 상에 접합시키는 과정으로 진행될 수 있다.Referring to FIG. 4C, a copper foil layer 418 is formed on the insulating resin layer 416. As an example, a method of forming the copper foil layer 418 may be a process of preparing a copper foil having a predetermined thickness and bonding the copper foil to the insulating resin layer 416.

도 4d를 참조하면, 구리 박막층(418)과 절연성 수지층(416)을 선택적으로 가공하여, 제1 컨택 패턴(419)을 구비하는 구리 박막 패턴층(418a) 및 절연성 수지층 패턴(416a)를 형성한다. 이때, 제1 컨택 패턴(419)은 제1 폭(W1)의 컨택 내부 하부 선폭을 가질 수 있다. 4D, the copper thin film layer 418 and the insulating resin layer 416 are selectively processed to form the copper thin film pattern layer 418a and the insulating resin layer pattern 416a having the first contact pattern 419, . At this time, the first contact pattern 419 may have a contact inner bottom line width of the first width W1.

도 4e를 참조하면, 제1 컨택 패턴(419)을 채우며 구리 박막 패턴층(418a) 상에 배치되는 제1 회로 패턴층(420)을 형성한다. 제1 회로 패턴층(420)은 구리 도금법에 의해 형성될 수 있다. 상기 구리 도금법은 일 예로서, 화학 도금법, 전해 도금법, 또는 이들의 결합에 의해 진행될 수 있다. 구체적으로, 제1 회로 패턴층(420)은 공지의 텐팅법(tenting), SAP(semi-additive process) 또는 MSAP(modified semi-additive process)를 진행함으로써, 형성될 수 있다.Referring to FIG. 4E, a first circuit pattern layer 420 is formed which fills the first contact pattern 419 and is disposed on the copper foil pattern layer 418a. The first circuit pattern layer 420 may be formed by a copper plating method. The copper plating method may, for example, be carried out by a chemical plating method, an electrolytic plating method, or a combination thereof. Specifically, the first circuit pattern layer 420 can be formed by performing a known tenting, a semi-additive process (SAP), or a modified semi-additive process (MSAP).

도 4f를 참조하면, 제1 절연층(422) 및 층간 구리층(424)을 적층하는 방법은, 제1 절연층(422) 및 층간 구리층(424)이 순차적으로 적층된 예비 기판을 준비하고, 상기 예비 기판을 소정의 열 및 압력을 가하여 제1 회로 패턴층(420)과 접합시킨다. 이에 의해, 제1 회로 패턴층(420)을 덮는, 제1 절연층(422) 및 층간 구리층(424)을 구리 박막 패턴층(418a) 상에 적층할 수 있다. 제1 절연층(422)은 일 예로서, 프리프레그와 같은 절연 수지를 포함할 수 있다. 다르게는 제1 절연층(422)은 에폭시 수지와 열 가소성 수지가 블렌딩된 수지동박코팅제(RCC) 수지나 ABF 수지가 적용될 수 있다.4F, a method of laminating the first insulating layer 422 and the interlayer copper layer 424 includes preparing a preliminary substrate in which a first insulating layer 422 and an interlayer copper layer 424 are sequentially stacked , The preliminary substrate is bonded to the first circuit pattern layer 420 by applying a predetermined heat and pressure. The first insulating layer 422 and the interlayer copper layer 424 covering the first circuit pattern layer 420 can be stacked on the copper thin film pattern layer 418a. The first insulating layer 422 may include, for example, an insulating resin such as a prepreg. Alternatively, the first insulating layer 422 may be a resin copper foil coating (RCC) resin or an ABF resin in which an epoxy resin and a thermoplastic resin are blended.

도 4g를 참조하면, 제1 절연층(422) 및 층간 구리층(424)을 선택적으로 가공하여, 제1 회로 패턴층(420)을 노출시키는 비아홀을 형성한다. 이어서, 상기 비아홀의 내부 및 층간 구리층(424) 상에 구리 도금법에 의해 제2 회로 패턴층(430)을 형성한다. 이어서, 구리 식각법에 의해, 제2 회로 패턴층(430) 사이의 층간 구리층(424)을 제거함으로써, 제2 회로 패턴층(430) 사이를 전기적으로 절연할 수 있다. 상기 구리 식각법을 진행한 후에, 층간 구리층(424)은 제2 회로 패턴층(430)의 하부에만 구리 패턴층(424a)의 형태로 잔존할 수 있다.Referring to FIG. 4G, the first insulating layer 422 and the interlayer copper layer 424 are selectively processed to form a via hole exposing the first circuit pattern layer 420. Subsequently, a second circuit pattern layer 430 is formed on the interlayer copper layer 424 and the inside of the via hole by a copper plating method. Subsequently, the interlayer copper layer 424 between the second circuit pattern layers 430 is removed by a copper etching method, so that the second circuit pattern layers 430 can be electrically insulated from each other. After the copper etching process, the interlayer copper layer 424 may remain in the form of a copper pattern layer 424a only under the second circuit pattern layer 430.

상기 구리 도금법은 일 예로서, 화학 도금법, 전해 도금법, 또는 이들의 결합에 의해 진행될 수 있다. 구체적으로, 제2 회로 패턴층(430)은 공지의 텐팅법(tenting), SAP(semi-additive process) 또는 MSAP(modified semi-additive process)를 진행함으로써, 형성될 수 있다. The copper plating method may, for example, be carried out by a chemical plating method, an electrolytic plating method, or a combination thereof. Specifically, the second circuit pattern layer 430 may be formed by performing a known tenting, a semi-additive process (SAP), or a modified semi-additive process (MSAP).

도 4h를 참조하면, 제2 회로 패턴층(430)을 덮는 솔더 레지스트막을 제1 절연층(422) 상에 형성하고, 상기 솔더 레지스트막을 선택적으로 노광 및 현상하여 제2 회로 패턴층(430)의 일부분을 노출시키는 솔더마스크 패턴층(440)을 형성한다. 솔더마스크 패턴층(440)에 의해 노출되는 제2 회로 패턴층(430)의 일부분은 후술하는 바와 같이, 외부 접속을 위한 접속 패드층으로 기능할 수 있다.Referring to FIG. 4H, a solder resist film covering the second circuit pattern layer 430 is formed on the first insulating layer 422, and the solder resist film is selectively exposed and developed to form the second circuit pattern layer 430 Thereby forming a solder mask pattern layer 440 that exposes a part of the solder mask pattern layer 440. [ A portion of the second circuit pattern layer 430 exposed by the solder mask pattern layer 440 may function as a connection pad layer for external connection, as described later.

도 4i를 참조하면, 캐리어 기판(400)의 캐리어 구리층(412)과 베이스 구리층(414)을 서로 분리시켜, 베이스 구리층(414)의 하면(414n)을 노출시킨다. 캐리어 구리층(412)과 베이스 구리층(414)을 분리시키는 방법은 캐리어 구리층(412)과 베이스 구리층(414)의 계면에 열 또는 압력을 인가하는 방법을 적용할 수 있다.Referring to FIG. 4I, the carrier copper layer 412 and the base copper layer 414 of the carrier substrate 400 are separated from each other to expose the bottom surface 414n of the base copper layer 414. The method of separating the carrier copper layer 412 and the base copper layer 414 may be a method of applying heat or pressure to the interface between the carrier copper layer 412 and the base copper layer 414. [

도 4j를 참조하면, 노출된 베이스 구리층(414)의 하면(414n), 솔더마스크 패턴층(440) 및 제2 회로 패턴층(430)을 덮는 감광성 레지스트막을 형성한다. 이어서, 베이스 구리층(414)의 하면(414n) 상에 형성된 상기 감광성 레지스트막을 선택적으로 노광 및 현상하여, 제2 컨택 패턴(455)을 구비하는 감광성 레지스트 패턴층(450)을 형성한다. 이때, 제2 컨택 패턴(455)은 베이스 구리층(414)을 선택적으로 노출시킬 수 있다. 제2 컨택 패턴(455)은 제2 폭(W2)의 컨택 내부 하부 선폭을 가질 수 있다. 제2 컨택 패턴(455)의 제2 폭(W2)은 도 1d에 도시된 제1 컨택 패턴(419)의 제1 폭(W1)보다 크도록 형성될 수 있다.Referring to FIG. 4J, a photosensitive resist film covering the lower surface 414n of the exposed base copper layer 414, the solder mask pattern layer 440, and the second circuit pattern layer 430 is formed. Subsequently, the photosensitive resist film formed on the lower surface 414n of the base copper layer 414 is selectively exposed and developed to form a photosensitive resist pattern layer 450 having the second contact pattern 455. At this time, the second contact pattern 455 may selectively expose the base copper layer 414. The second contact pattern 455 may have a contact inner bottom line width of the second width W2. The second width W2 of the second contact pattern 455 may be greater than the first width W1 of the first contact pattern 419 shown in Fig.

도 4k를 참조하면, 감광성 레지스트 패턴층(450)을 이용하여, 상기 노출된 베이스 구리층(414) 상에 제2 컨택 패턴(455)을 채우는 포스트 도금 패턴층(460)을 형성한다. 포스트 도금 패턴층(460)은 일 예로서, 구리, 주석 또는 이들의 합금을 포함할 수 있다. 포스트 도금 패턴층(460)은 일 예로서, 화학 도금법, 전해도금법 또는 이들의 결합에 의해 형성될 수 있다.Referring to FIG. 4K, a photoresist pattern layer 450 is used to form a post-plating pattern layer 460 that fills the second contact pattern 455 on the exposed base copper layer 414. The post-plating pattern layer 460 may include, for example, copper, tin or an alloy thereof. The post-plating pattern layer 460 may be formed by chemical plating, electroplating, or a combination thereof, as an example.

도 4l을 참조하면, 감광성 레지스트 패턴층(450)을 제거한다. 도 4m을 참조하면, 포스트 도금 패턴층(460)이 형성되지 않은 베이스 구리층(414)의 부분을 선택적으로 제거하여 절연성 수지층 패턴(416a)을 노출시킨다. 구체적인 실시 예에서, 플래시 식각(flash etch)과 같은 공지의 습식 식각법을 절연성 수지층 패턴(416a) 상의 베이스 구리층(414)이 제거될 때까지 수행할 수 있다. 이로써, 베이스 구리층(414)은 베이스 구리 패턴층(414a)으로 변환될 수 있다. 상술한 단계를 진행함으로써, 금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판을 제조 할 수 있다.
Referring to FIG. 4L, the photosensitive resist pattern layer 450 is removed. Referring to FIG. 4M, the portion of the base copper layer 414 on which the post-plating pattern layer 460 is not formed is selectively removed to expose the insulating resin layer pattern 416a. In a specific embodiment, a known wet etching method such as flash etch may be performed until the base copper layer 414 on the insulating resin layer pattern 416a is removed. Thereby, the base copper layer 414 can be converted into the base copper pattern layer 414a. By proceeding with the above-described steps, a printed circuit board having a metal post can be manufactured.

도 5a 내지 도 5e는 본 출원의 제2 실시 예에 따르는 금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 단면도이다. 먼저, 도 4a 내지 도 4i와 관련하여 상술한 제1 실시 예의 제조 단계의 일부분을 수행하여, 캐리어 기판(400)의 캐리어 구리층(412)과 베이스 구리층(414)을 서로 분리시키고, 베이스 구리층(414) 상에 제1 회로 패턴층(420) 및 제2 회로 패턴층(430)이 적층된 인쇄회로 적층구조물을 준비한다.5A to 5E are cross-sectional views schematically showing a method of manufacturing a printed circuit board having a metal post according to a second embodiment of the present application. First, a part of the manufacturing steps of the first embodiment described above with reference to FIGS. 4A to 4I is performed to separate the carrier copper layer 412 and the base copper layer 414 of the carrier substrate 400 from each other, A first circuit pattern layer 420 and a second circuit pattern layer 430 are stacked on the layer 414.

도 5a를 참조하면, 캐리어 구리층(412)과 베이스 구리층(414)이 분리됨으로써, 노출되는 베이스 구리층(414)의 하면(414n), 솔더마스크 패턴층(440) 및 제2 회로 패턴층(430)을 덮는 감광성 레지스트막을 형성한다. 이어서, 베이스 구리층(414)의 하면(414n) 상에 형성된 상기 감광성 레지스트막을 선택적으로 노광 및 현상하여, 제2 컨택 패턴(555)을 구비하는 레지스트 패턴층(550)을 형성한다. 이때, 제2 컨택 패턴(555)은 베이스 구리층(414)을 선택적으로 노출시킬 수 있다. 제2 컨택 패턴(555)은 제2 폭(W3)의 하부 선폭 사이즈를 가질 수 있다. 제2 컨택 패턴(555)의 제2 폭(W3)은 도 1d에 도시된 제1 컨택 패턴(419)의 제1 폭(W1)보다 크도록 형성될 수 있다.5A, the carrier copper layer 412 and the base copper layer 414 are separated from each other so that the bottom surface 414n of the exposed base copper layer 414, the solder mask pattern layer 440, Thereby forming a photosensitive resist film that covers the photosensitive layer 430. Subsequently, the photosensitive resist film formed on the lower surface 414n of the base copper layer 414 is selectively exposed and developed to form a resist pattern layer 550 having the second contact pattern 555. At this time, the second contact pattern 555 may selectively expose the base copper layer 414. The second contact pattern 555 may have a bottom line width size of the second width W3. The second width W3 of the second contact pattern 555 may be greater than the first width W1 of the first contact pattern 419 shown in Fig.

도 5b를 참조하면, 레지스트 패턴층(550)을 이용하여, 상기 노출된 베이스 구리층(414) 상에 제2 컨택 패턴(555)을 채우는 제1 포스트 도금 패턴층(560)을 형성한다. 제1 포스트 도금 패턴층(560)은 일 예로서, 구리, 주석 또는 이들의 합금을 포함할 수 있다. 제1 포스트 도금 패턴층(560)은 일 예로서, 화학 도금법, 전해도금법 또는 이들의 결합에 의해 형성될 수 있다. 제1 포스트 도금 패턴층(560)은 레지스트 패턴층(550)과 동일한 표면을 이루도록 형성될 수 있다.Referring to FIG. 5B, a first post plating pattern layer 560 is formed using the resist pattern layer 550 to fill the second contact pattern 555 on the exposed base copper layer 414. The first post-plating pattern layer 560 may include, for example, copper, tin or an alloy thereof. The first post-plating pattern layer 560 may be formed by chemical plating, electrolytic plating, or a combination thereof, as an example. The first post-plating pattern layer 560 may be formed to have the same surface as the resist pattern layer 550.

도 5c를 참조하면, 제1 포스트 도금 패턴층(560) 및 레지스트 패턴층(550) 상에, 제1 포스트 도금 패턴층(560)의 적어도 일부분을 노출시키는 제3 컨택 패턴(575)을 구비하는 레지스트 패턴층(570)을 형성할 수 있다. 제3 컨택 패턴(575)은 제3 폭(W4)의 하부 선폭 사이즈를 가질 수 있다. 일 예로서, 제3 컨택 패턴(575)의 제3 폭(W4)은 제2 컨택 패턴(555)의 제2 폭(W3)보다 작을 수 있다.5C, a third contact pattern 575 is formed on the first post plating pattern layer 560 and the resist pattern layer 550 to expose at least a portion of the first post plating pattern layer 560 A resist pattern layer 570 can be formed. The third contact pattern 575 may have a bottom line width size of the third width W4. As an example, the third width W4 of the third contact pattern 575 may be smaller than the second width W3 of the second contact pattern 555.

도 5d를 참조하면, 레지스트 패턴층(570)을 이용하여, 제3 컨택 패턴(575)를 채우는 제2 포스트 도금 패턴층(580)을 형성할 수 있다. 제2 포스트 도금 패턴층(580)은 일 예로서, 구리, 주석 또는 이들의 합금을 포함할 수 있다. 제2 포스트 도금 패턴층(580)은 일 예로서, 화학 도금법, 전해도금법 또는 이들의 결합에 의해 형성될 수 있다.5D, a resist pattern layer 570 may be used to form the second post-plating pattern layer 580 filling the third contact pattern 575. [ The second post-plating pattern layer 580 may comprise, by way of example, copper, tin or an alloy thereof. The second post-plating pattern layer 580 may be formed, for example, by chemical plating, electroplating, or a combination thereof.

도 5e를 참조하면, 레지스트 패턴층(550, 570)을 각각 제거하고, 제1 포스트 도금 패턴층(560) 또는 제2 포스트 도금 패턴층(580)이 형성되지 않은 베이스 구리층(414)의 부분을 선택적으로 제거하여 절연성 수지층 패턴(416a)을 노출시킨다. 구체적인 실시 예에서, 플래시 식각(flash etch)과 같은 공지의 습식 식각법을 절연성 수지층 패턴(416a) 상의 베이스 구리층(414)이 제거될 때까지 수행할 수 있다. 이로써, 베이스 구리층(414)은 베이스 구리 패턴층(414a)으로 변환될 수 있다. 상술한 단계를 진행함으로써, 제1 및 제2 포스트 도금 패턴층(560, 580)을 포함하는 금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판을 제조 할 수 있다.
5E, the resist pattern layers 550 and 570 are removed, and the portions of the base copper layer 414 where the first post plating pattern layer 560 or the second post plating pattern layer 580 are not formed The insulating resin layer pattern 416a is exposed. In a specific embodiment, a known wet etching method such as flash etch may be performed until the base copper layer 414 on the insulating resin layer pattern 416a is removed. Thereby, the base copper layer 414 can be converted into the base copper pattern layer 414a. By proceeding with the above-described steps, a printed circuit board having a metal post including the first and second post-plating pattern layers 560 and 580 can be manufactured.

상술한 바와 같이, 본 출원의 일 실시 예에 의하면, 종래의 솔더볼 접속 수단을 대신하여, 패터닝된 금속 포스트를 인쇄회로기판 간의 접속 수단으로 제조할 수 있다. 광학적 노광 및 현상에 의해 형성되는 레지스트 패턴을 이용하여, 도금법에 의해 금속 포스트를 제조함으로써, 종래에 비해, 접속 수단 간의 피치 사이즈를 용이하게 감소시킬 수 있다. 이에 따라, 최근의 인쇄회로기판에서 요청되는 협소한 피치 사이즈의 접속 패드에 대응하여, 접속 수단을 용이하게 제조할 수 있다.As described above, according to the embodiment of the present application, the patterned metal posts can be manufactured as connecting means between the printed circuit boards instead of the conventional solder ball connecting means. It is possible to easily reduce the pitch size between the connecting means as compared with the prior art by manufacturing the metal posts by a plating method using a resist pattern formed by optical exposure and development. As a result, the connection means can be easily manufactured corresponding to the connection pads of a narrow pitch size required in recent printed circuit boards.

일 실시 예에 따르면, 감광성 레지스트층 패턴층을 이용하는 도금법을 적어도 한번 이상 수행하여 상기 금속 포스트를 제조함으로써, 금속 포스트의 높이를 용이하게 제어할 수 있다. 이에 따라, 종래의 솔더볼 접속 수단과 비교할 때, 상대적으로 감소된 피치 사이즈 및 상대적으로 증가된 높이를 가지는 접속 수단을 제조할 수 있다. 이때, 금속 포스트를 제조함에 있어서, 하부의 제1 포스트 도금 패턴층의 선폭보다 상부의 제2 포스트 도금 패턴층의 선폭을 작게 형성할 수도 있다. 이 경우, 제2 포스트 도금 패턴층과 외부의 인쇄회로기판 사이에 물리적 접합이 이루어질 때, 이웃하는 제2 포스트 도금 패턴층 간 간격을 증가시킬 수 있어, 금속 포스트 사이의 접촉에 의한 전기적 통전 위험성을 낮출 수 있다.According to one embodiment, the height of the metal post can be easily controlled by manufacturing the metal post by performing the plating method using the photosensitive resist layer pattern layer at least once. As a result, it is possible to manufacture a connecting means having a relatively reduced pitch size and a relatively increased height as compared with conventional solder ball connecting means. At this time, the line width of the second post plating pattern layer above the line width of the lower first post plating pattern layer may be made small in manufacturing the metal post. In this case, when physical bonding is performed between the second post-plating pattern layer and the external printed circuit board, the interval between adjacent second post-plating pattern layers can be increased, and the risk of electrical conduction due to contact between the metal posts Can be lowered.

일 실시 예에 따르면, 금속 포스트층과 절연층 내부의 회로패턴층 사이에 절연성 수지 패턴층인 접착층을 형성함으로써, 상기 금속 포스트층의 구조적 신뢰성을 향상시킬 수 있다.According to one embodiment, the structure reliability of the metal post layer can be improved by forming an adhesive layer which is an insulating resin pattern layer between the metal post layer and the circuit pattern layer in the insulating layer.

상술한 실시 예에서는, 제1 포스트 도금 패턴층(560)과 제2 포스트 도금 패턴층(580)의 선폭이 서로 다른 경우를 도시 및 설명하고 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 제2 컨택 패턴(555)과 제3 컨택 패턴(575)이 동일한 선폭을 가지도록 하고 동시에 제2 컨택 패턴(555)과 제3 컨택 패턴(575)의 정렬을 일치시키도록, 제1 및 제2 레지스트 패턴층(550, 570)을 형성함으로써, 제1 포스트 도금 패턴층(560)과 제2 포스트 도금 패턴층(580)의 선폭을 동일하게 형성할 수도 있다.
Although the case where the first post-plating pattern layer 560 and the second post-plating pattern layer 580 have different linewidths is shown and described in the above-described embodiment, the present invention is not limited thereto. The second contact pattern 555 and the third contact pattern 575 are arranged such that the second contact pattern 555 and the third contact pattern 575 have the same line width and the alignment of the second contact pattern 555 and the third contact pattern 575 coincides with each other. The line widths of the first post-plating pattern layer 560 and the second post-plating pattern layer 580 can be made the same by forming the resist pattern layers 550 and 570.

이하에서는, 도 5e를 참조하여, 본 출원의 일 실시 예에 따르는 제조방법에 의해 형성되는 금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판을 설명한다. Hereinafter, a printed circuit board having a metal post formed by the manufacturing method according to one embodiment of the present application will be described with reference to FIG. 5E.

상기 인쇄회로기판은 절연층(422), 한 층 이상의 회로 패턴층(418a, 420, 424a, 430), 절연성 접착층(416a), 베이스 구리 패턴층(414a) 및 포스트 도금 패턴층(560, 580)을 구비한다.The printed circuit board includes an insulating layer 422, at least one circuit pattern layer 418a, 420, 424a, 430, an insulating adhesive layer 416a, a base copper pattern layer 414a, and a post plating pattern layer 560, Respectively.

절연층(422)는 제1 면(422a) 및 제1 면(422a)과 대향하는 제2 면(422b)를 구비할 수 있다. 한 층 이상의 회로 패턴층(418a, 420, 424a, 430)은 적어도 일부분이 절연층(422)의 내부에 배치될 수 있다. 또한, 한 층 이상의 회로 패턴층(418a, 420, 424a, 430) 중 일부분은 절연층(422)의 제1 면(422a)으로부터 돌출될 수 있고, 돌출된 부분은 제1 접속 패드층(420a)를 구성할 수 있다. The insulating layer 422 may have a first surface 422a and a second surface 422b opposite the first surface 422a. At least a portion of the one or more circuit pattern layers 418a, 420, 424a, and 430 may be disposed inside the insulating layer 422. [ A portion of the one or more circuit pattern layers 418a, 420, 424a and 430 may protrude from the first surface 422a of the insulating layer 422 and the protruding portion may protrude from the first connection pad layer 420a. .

절연성 접착층(416a)는 제1 접속 패드층(420a)을 둘러싸도록 배치될 수 있다. 절연성 접착층(416a)의 상면은 제1 접속 패드층(420a)의 상면과 동일 높이를 이룰 수 있다. 절연성 접착층(416a)은 일 예로써, 열경화성 수지일 수 있다. 절연성 접착층(416a)은 베이스 구리 패턴층(414a)과의 접착력을 향상시켜 베이스 구리 패턴층(414a) 상에 배치되는 포스트 도금 패턴층(560, 580)의 구조적 신뢰성을 향상시킬 수 있다.The insulating adhesive layer 416a may be disposed so as to surround the first connection pad layer 420a. The upper surface of the insulating adhesive layer 416a may be flush with the upper surface of the first connection pad layer 420a. The insulating adhesive layer 416a may be, for example, a thermosetting resin. The insulating adhesive layer 416a improves the adhesion with the base copper pattern layer 414a and can improve the structural reliability of the post plating pattern layers 560 and 580 disposed on the base copper pattern layer 414a.

베이스 구리 패턴층(414a)은 제1 접속 패드층(420a)과 접촉하며, 절연성 접착층(416a) 상에 배치될 수 있다. 포스트 도금 패턴층(560, 580)은 베이스 구리 패턴층(414a) 상에 적층될 수 있다. 포스트 도금 패턴층(560)은 베이스 구리 패턴층(414a)과 동일한 선폭을 가지는 하부 포스트 패턴층(560)과 하부 포스트 패턴층(560)과 서로 다른 선폭을 가지는 상부 포스트 패턴층(580)을 구비할 수 있다. 상부 포스트 패턴층(580)의 선폭은 하부 포스트 패턴층(560)의 선폭보다 작을 수 있다.The base copper pattern layer 414a contacts the first connection pad layer 420a and can be disposed on the insulating adhesive layer 416a. Post-plating pattern layers 560 and 580 may be deposited on base copper pattern layer 414a. The post plating pattern layer 560 includes a lower post pattern layer 560 having the same line width as the base copper pattern layer 414a and an upper post pattern layer 580 having a different line width from the lower post pattern layer 560 can do. The line width of the upper post pattern layer 580 may be less than the line width of the lower post pattern layer 560.

절연층(422)의 제2 면(422b)에는 한 층 이상의 회로 패턴층(418a, 420, 424a, 430)의 일부분으로부터 연장되는 제2 접속 패드층(430)이 배치될 수 있다. 또한, 제2 면(422b) 상에서 제2 접속 패드층(430)의 적어도 일부분을 노출시키는 솔더마스크 패턴층(440)이 배치될 수 있다.
A second connection pad layer 430 extending from a portion of one or more circuit pattern layers 418a, 420, 424a, and 430 may be disposed on the second surface 422b of the insulating layer 422. [ In addition, a solder mask pattern layer 440 may be disposed on the second surface 422b to expose at least a portion of the second contact pad layer 430.

도 6a 내지 도 6g는 본 개시의 제3 실시 예에 따르는 금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 단면도이다. 도 6a를 참조하면, 먼저, 적층 회로 기판을 제공한다. 상기 적층 회로 기판은 절연층(610), 절연층(610) 내부에 배치되는 회로 패턴층(620), 회로 패턴층(620)과 연결되고 절연층(610)의 일 표면 상에 각각 배치되는 제1 및 제2 접속 패드층(622, 624), 절연층(610)의 일 표면 상에서 제1 및 제2 접속 패드층(622, 624)을 선택적으로 노출시키는 제1 및 제2 컨택 패턴(635, 636)를 구비하는 제1 및 제2 솔더마스크 패턴층(632, 634)을 포함할 수 있다. 6A to 6G are cross-sectional views schematically showing a method of manufacturing a printed circuit board having a metal post according to a third embodiment of the present disclosure. Referring to FIG. 6A, first, a laminated circuit board is provided. The laminated circuit board includes an insulating layer 610, a circuit pattern layer 620 disposed inside the insulating layer 610, and a plurality of circuit patterns 620 connected to the circuit pattern layer 620 and each disposed on one surface of the insulating layer 610 First and second contact patterns 635 and 636 selectively exposing the first and second contact pad layers 622 and 624 on one surface of the first and second contact pad layers 622 and 624 and the insulating layer 610, 636 may be formed on the first and second solder mask pattern layers 632, 634.

도 6a에서는 회로 패턴층(620)으로서, 비아층(620)을 도시하고 있지만, 반드시 이에 한정되지는 않고, 적어도 한 층 이상의 회로 패턴층이 추가로 배치될 수도 있다. Although the via layer 620 is shown as the circuit pattern layer 620 in Fig. 6A, the circuit pattern layer 620 is not necessarily limited to this, and at least one or more circuit pattern layers may be additionally disposed.

도 6a를 다시 참조하면, 제1 접속 패드층(622) 및 제1 솔더마스크 패턴층(634) 상에 도금 시드층(640)을 형성한다. 도금 시드층(640)은 일 예로서, 스퍼터링법 또는 화학 도금법에 의해 형성될 수 있다. 도금 시드층(640)은 제1 컨택 패턴(635)의 내벽을 따라 형성될 수 있다.Referring again to FIG. 6A, a plating seed layer 640 is formed on the first connection pad layer 622 and the first solder mask pattern layer 634. The plating seed layer 640 may be formed by, for example, a sputtering method or a chemical plating method. The plating seed layer 640 may be formed along the inner wall of the first contact pattern 635.

도 6b를 참조하면, 적어도 도금 시드층(640)을 덮는 제1 감광성 레지스트막을 상기 적층 회로 기판 상에 형성한다. 이어서, 상기 제1 감광성 레지스트막을 선택적으로 감광 및 현상하여, 도금 시드층(640)의 적어도 일부분을 노출시키는 하부 컨택 패턴(655)을 구비하는 제1 레지스트 패턴층(650)을 형성한다. 하부 컨택 패턴(655)은 적어도 제1 접속 패드층(622)을 커버하는 위치의 도금 시드층(640)의 부분을 노출시킬 수 있다. 즉, 제1 컨택 패턴(635) 내부에 형성되는 도금 시드층(640)의 부분을 노출시킬 수 있다. 이때, 하부 컨택 패턴(655)은 제1 폭(W5)의 하부 선폭 사이즈를 가질 수 있다. Referring to FIG. 6B, a first photosensitive resist film covering at least the plating seed layer 640 is formed on the laminated circuit substrate. Then, the first photosensitive resist film is selectively exposed and developed to form a first resist pattern layer 650 having a lower contact pattern 655 exposing at least a portion of the plating seed layer 640. The lower contact pattern 655 may expose at least a portion of the plating seed layer 640 in a position covering the first connection pad layer 622. [ That is, the portion of the plating seed layer 640 formed in the first contact pattern 635 can be exposed. At this time, the lower contact pattern 655 may have a lower line width size of the first width W5.

도 6c를 참조하면, 제1 레지스트 패턴층(650)을 이용하는 도금법을 적용하여 하부 컨택 패턴(655)을 채우는 하부 범프층(660)을 도금 시드층(640) 상에 형성한다. 이때, 하부 범프층(660)의 상면과 제1 레지스트 패턴층(650)의 상면이 동일 높이를 이루도록 형성할 수 있다.Referring to FIG. 6C, a plating process using the first resist pattern layer 650 is applied to form a lower bump layer 660 on the plating seed layer 640 to fill the lower contact pattern 655. At this time, the upper surface of the lower bump layer 660 and the upper surface of the first resist pattern layer 650 may be formed to have the same height.

도 6d를 참조하면, 제1 레지스트 패턴층(650) 및 하부 범프층(660) 상에 제2 감광성 레지스트막을 형성한다. 이어서, 상기 제2 감광성 레지스트막을 선택적으로 감광 및 현상하여, 하부 범프층(660)을 선택적으로 노출시키는 상부 컨택 패턴(675)을 구비하는 제2 레지스트 패턴층(670)을 형성한다. 이때, 상부 컨택 패턴(675)은 제2 폭(W6)의 하부 선폭 사이즈를 가질 수 있으며, 제2 폭(W6)은 하부 컨택 패턴(655)의 제1 폭(W5)보다 작을 수 있다. Referring to FIG. 6D, a second photosensitive resist film is formed on the first resist pattern layer 650 and the lower bump layer 660. Next, the second resist pattern layer 670 is formed by selectively exposing and developing the second photosensitive resist film to form an upper contact pattern 675 selectively exposing the lower bump layer 660. The upper contact pattern 675 may have a lower width W6 of the second width W6 and the second width W6 may be smaller than the first width W5 of the lower contact pattern 655. [

도 6e를 참조하면, 제2 레지스트 패턴층(670)을 이용하는 도금법을 적용하여, 상부 컨택 패턴(675)을 채우는 상부 범프층(680)을 하부 범프층(660) 상에 형성한다. 상부 컨택 패턴(675)의 제2 폭(W6)이 하부 컨택 패턴(655)의 제1 폭(W5)보다 작을 경우, 상부 범프층(680)의 폭은 대응하는 하부 범프층(660)의 폭보다 작을 수 있다.Referring to FIG. 6E, a plating method using the second resist pattern layer 670 is applied to form an upper bump layer 680 on the lower bump layer 660 to fill the upper contact pattern 675. When the second width W6 of the upper contact pattern 675 is less than the first width W5 of the lower contact pattern 655 the width of the upper bump layer 680 is greater than the width of the corresponding lower bump layer 660 .

도 6f를 참조하면, 제1 및 제2 레지스트 패턴층(650, 670)을 제거한다. 이어서, 도 6g를 참조하면, 하부 범프층(660)이 형성되지 않은 도금 시드층(640)의 부분을 선택적으로 식각하여 제1 솔더마스크 패턴층(632)를 노출시킨다. 이에 따라, 도금 시드층(640)이 도금 시드 패턴층(640a)로 변환될 수 있다.Referring to FIG. 6F, the first and second resist pattern layers 650 and 670 are removed. 6G, a portion of the plating seed layer 640 on which the lower bump layer 660 is not formed is selectively etched to expose the first solder mask pattern layer 632. Next, as shown in FIG. Thus, the plating seed layer 640 can be converted into the plating seed pattern layer 640a.

이와 같이 상술한 과정을 거쳐서, 하부 범프층(660)과 상부 범프층(680)을 구비하는 금속 포스트를 인쇄회로기판 상에 형성할 수 있다. 상술한 실시 예에서는, 하부 범프층(660)과 상부 범프층(680)의 폭이 서로 다른 경우를 설명하고 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 하부 컨택 패턴(655)과 상부 컨택 패턴(675)이 동일한 선폭을 가지도록 하고 동시에 하부 컨택 패턴(655)과 상부 컨택 패턴(675)의 정렬을 일치시키도록, 제1 및 제2 레지스트 패턴층(650, 670)을 형성함으로써, 하부 범프층(660)과 상부 범프층(680)의 폭을 동일하게 형성할 수도 있다.Through the above-described process, a metal post including the lower bump layer 660 and the upper bump layer 680 can be formed on the printed circuit board. In the above-described embodiment, the widths of the lower bump layer 660 and the upper bump layer 680 are different from each other, but the present invention is not limited thereto. The first and second resist pattern layers 655 and 655 are formed so that the lower contact pattern 655 and the upper contact pattern 675 have the same line width and at the same time the alignment of the lower contact pattern 655 and the upper contact pattern 675 is aligned. 650, and 670, the widths of the lower bump layer 660 and the upper bump layer 680 may be the same.

이상에서는 도면 및 실시 예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 출원의 기술적 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 출원에 개시된 실시예들을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. It can be understood that

10: POP적층 패키지, 12: 제1 인쇄회로기판, 14: 제2 인쇄회로기판,
16: 제1 솔더볼 접속 수단, 18: 제2 솔더볼 접속 수단,
120: 절연층, 122: 제1 접속 패드, 124: 제2 접속 패드,
140: 절연층, 142: 제3 접속 패드, 144: 제4 접속 패드,
146: 접속 단자, 151: 와이어,
152 154 156: 제2 칩, 158: 칩 패드,
160: 제1 칩, 162 164: 범프, 170: 몰딩 부재,
210: 절연층, 222 223: 제1 회로 패턴,
224: 비아층, 226: 제2 회로 패턴,
230: 솔더레지스트 패턴, 240: 금속 마스크 패턴층,
250: 솔더볼, 255: 솔더볼 접속 수단,
400: 캐리어 기판, 410: 절연 코어층, 412: 캐리어 구리층,
414: 베이스 구리층, 414a: 베이스 구리 패턴층, 414n: 베이스 구리층의 하면,
416: 절연성 수지층, 416a: 절연성 수지층 패턴,
418: 구리 박막층, 418a: 구리 박막 패턴층,
419: 제1 컨택 패턴, 420: 제1 회로 패턴층,
422: 제1 절연층, 422a: 제1 절연층의 제1 면, 422b: 제1 절연층의 제2 면,
424: 층간 구리층, 424a: 구리 패턴층,
430: 제2 회로 패턴층, 440: 솔더마스크 패턴층,
450: 감광성 레지스트 패턴층, 455: 제2 컨택 패턴,
460: 포스트 도금 패턴층,
550: 레지스트 패턴층, 555: 제2 컨택 패턴,
560: 제1 포스트 도금 패턴층, 570: 레지스트 패턴층,
575: 제3 컨택 패턴, 580: 제2 포스트 도금 패턴층,
610: 절연층, 622: 제1 접속 패드층, 624: 제2 접속 패드층,
632: 제1 솔더마스크 패턴층, 634: 제2 솔더마스크 패턴층,
635: 제1 컨택 패턴, 636: 제2 컨택 패턴,
640: 도금 시드층, 640a: 도금 시드 패턴층,
650: 제1 레지스트 패턴층, 655: 하부 컨택 패턴,
660: 하부 범프층, 670: 제2 레지스트 패턴층,
675: 상부 컨택 패턴, 680: 상부 범프층.
10: POP laminate package, 12: first printed circuit board, 14: second printed circuit board,
16: first solder ball connecting means, 18: second solder ball connecting means,
120: insulating layer, 122: first connection pad, 124: second connection pad,
140: insulating layer, 142: third connection pad, 144: fourth connection pad,
146: connection terminal, 151: wire,
152 154 156: second chip, 158: chip pad,
160: first chip, 162 164: bump, 170: molding member,
210: insulating layer, 222 223: first circuit pattern,
224: via layer, 226: second circuit pattern,
230: solder resist pattern, 240: metal mask pattern layer,
250: solder ball, 255: solder ball connecting means,
400: carrier substrate, 410: insulating core layer, 412: carrier copper layer,
414 base copper layer, 414a base copper pattern layer, 414n base copper layer,
416: insulating resin layer, 416a: insulating resin layer pattern,
418: copper thin film layer, 418a: copper thin film pattern layer,
419: first contact pattern, 420: first circuit pattern layer,
422: first insulating layer, 422a: first surface of the first insulating layer, 422b: second surface of the first insulating layer,
424: an interlayer copper layer, 424a: a copper pattern layer,
430: second circuit pattern layer, 440: solder mask pattern layer,
450: photosensitive resist pattern layer, 455: second contact pattern,
460: Post-plating pattern layer,
550: resist pattern layer, 555: second contact pattern,
560: first post-plating pattern layer, 570: resist pattern layer,
575: third contact pattern, 580: second post plating pattern layer,
610: insulating layer, 622: first connection pad layer, 624: second connection pad layer,
632: first solder mask pattern layer, 634: second solder mask pattern layer,
635: first contact pattern, 636: second contact pattern,
640: plating seed layer, 640a: plating seed pattern layer,
650: first resist pattern layer, 655: lower contact pattern,
660: lower bump layer, 670: second resist pattern layer,
675: upper contact pattern, 680: upper bump layer.

Claims (19)

(a) 절연 코어층 및 상기 절연 코어층 상에 형성되는 베이스 구리층을 포함하는 캐리어 기판을 제공하는 단계;
(b) 상기 베이스 구리층의 상면에, 상기 베이스 구리층의 적어도 일부분을 노출시키는 제1 컨택 패턴을 구비하는 절연성 접착층을 형성하는 단계;
(c) 상기 제1 컨택 패턴을 채우며 상기 절연성 접착층 상에 형성되는 적어도 한 층 이상의 회로 패턴층을 적층하는 단계;
(d) 상기 캐리어 기판의 상기 절연 코어층과 상기 베이스 구리층을 서로 분리시켜, 상기 베이스 구리층의 하면을 노출시키는 단계;
(e) 상기 베이스 구리층의 상기 하면 상에, 상기 베이스 구리층을 선택적으로 노출시키는 제2 컨택 패턴을 구비하는 레지스트 패턴층을 형성하는 단계;
(f) 상기 레지스트 패턴층을 이용하여, 상기 노출된 베이스 구리층 상에 상기 제2 컨택 패턴을 채우는 포스트 도금 패턴층을 형성하는 단계; 및
(g) 상기 레지스트 패턴층을 제거하고, 상기 포스트 도금 패턴층이 형성되지 않은 상기 베이스 구리층의 부분을 선택적으로 제거하여 상기 절연성 접착층을 노출시키는 단계를 포함하되,
(f) 단계는
(f1) 상기 제2 컨택 패턴을 구비하는 레지스트 패턴층을 이용하여, 상기 제2 컨택 패턴을 채우는 제1 포스트 도금 패턴층을 형성하는 단계;
(f2) 상기 제1 포스트 도금 패턴층 및 상기 레지스트 패턴층 상에, 상기 제1 포스트 도금 패턴층의 적어도 일부분을 노출시키는 제3 컨택 패턴을 구비하는 레지스트 패턴층을 형성하는 단계;
(f3) 상기 제3 컨택 패턴을 구비하는 레지스트 패턴층을 이용하여, 상기 제3 컨택 패턴을 채우는 제2 포스트 도금 패턴층을 형성하는 단계; 및
(f4) 상기 제2 및 제3 컨택 패턴을 구비하는 레지스트 패턴층을 각각 제거하는 단계를 포함하는
금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
(a) providing a carrier substrate comprising an insulating core layer and a base copper layer formed on the insulating core layer;
(b) forming, on an upper surface of the base copper layer, an insulating adhesive layer having a first contact pattern exposing at least a portion of the base copper layer;
(c) stacking at least one or more circuit pattern layers formed on the insulating adhesive layer to fill the first contact pattern;
(d) separating the insulating core layer and the base copper layer of the carrier substrate from each other to expose a bottom surface of the base copper layer;
(e) forming, on the lower surface of the base copper layer, a resist pattern layer having a second contact pattern selectively exposing the base copper layer;
(f) forming a post-plating pattern layer on the exposed base copper layer using the resist pattern layer to fill the second contact pattern; And
(g) removing the resist pattern layer and selectively removing portions of the base copper layer on which the post-plating pattern layer is not formed to expose the insulating adhesive layer,
(f)
(f1) forming a first post-plating pattern layer filling the second contact pattern using a resist pattern layer having the second contact pattern;
(f2) forming a resist pattern layer having a third contact pattern exposing at least a part of the first post-plating pattern layer on the first post-plating pattern layer and the resist pattern layer;
(f3) forming a second post-plating pattern layer filling the third contact pattern using the resist pattern layer having the third contact pattern; And
(f4) removing the resist pattern layer having the second and third contact patterns, respectively
A method of manufacturing a printed circuit board having a metal post.
제1 항에 있어서,
(b) 단계는
(b1) 상기 베이스 구리층의 상면에 절연성 수지층을 형성하는 단계;
(b2) 상기 절연성 수지층을 선택적으로 가공하여, 상기 제1 컨택 패턴을 형성하는 단계를 포함하는
금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
The method according to claim 1,
(b)
(b1) forming an insulating resin layer on an upper surface of the base copper layer;
(b2) selectively processing the insulating resin layer to form the first contact pattern
A method of manufacturing a printed circuit board having a metal post.
제2 항에 있어서,
(b1) 단계는
상기 베이스 구리층의 상면에 열경화성 잉크 조성물을 도포하는 과정; 및
상기 잉크 조성물을 건조시켜 박막층을 형성하는 과정을 포함하는
금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
3. The method of claim 2,
(b1)
Applying a thermosetting ink composition to an upper surface of the base copper layer; And
And drying the ink composition to form a thin film layer
A method of manufacturing a printed circuit board having a metal post.
제2 항에 있어서,
(c) 단계는
(c1) 구리 도금법을 수행하여 상기 제1 컨택 패턴을 채우고 상기 절연성 수지층 상에 배치되는 제1 회로 패턴층을 형성하는 과정;
(c2) 상기 제1 회로 패턴층을 덮는 제1 절연층을 상기 절연성 수지층 상에 형성하는 과정;
(c3) 상기 제1 절연층을 선택적으로 가공하여, 상기 제1 회로 패턴층을 노출시키는 비아홀을 형성하는 과정; 및
(c4) 상기 비아홀 내부 및 상기 제1 절연층 상에, 구리 도금법에 의해 제2 회로 패턴층을 형성하는 과정을 포함하는
금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
3. The method of claim 2,
(c)
(c1) performing a copper plating process to fill the first contact pattern and form a first circuit pattern layer disposed on the insulating resin layer;
(c2) forming a first insulating layer on the insulating resin layer to cover the first circuit pattern layer;
(c3) selectively etching the first insulating layer to form a via hole exposing the first circuit pattern layer; And
(c4) forming a second circuit pattern layer in the via hole and on the first insulating layer by a copper plating method
A method of manufacturing a printed circuit board having a metal post.
제1 항에 있어서,
(c) 단계는
(c1) 상기 적어도 한 층 이상의 회로 패턴층의 최상층을 덮는 솔더 레지스트막을 상기 베이스 구리층의 상부에 형성하는 과정; 및
(c2) 상기 솔더 레지스트막을 선택적으로 노광 및 현상하여, 상기 회로 패턴층의 상기 최상층의 일부분을 노출시키는 솔더마스크 패턴층을 형성하는 과정을 포함하는
금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
The method according to claim 1,
(c)
(c1) forming a solder resist film on top of the base copper layer to cover the uppermost layer of the at least one circuit pattern layer; And
(c2) selectively exposing and developing the solder resist film to form a solder mask pattern layer that exposes a portion of the uppermost layer of the circuit pattern layer
A method of manufacturing a printed circuit board having a metal post.
제1 항에 있어서,
(e) 단계는
(e1) 상기 노출된 베이스 구리층의 하면 및 상기 적어도 하나의 회로 패턴층의 상면을 덮는 감광성 레지스트막을 형성하는 과정; 및
(e2) 상기 베이스 구리층의 하면 상에 형성된 상기 감광성 레지스트막을 선택적으로 노광 및 현상하여, 상기 제2 컨택 패턴을 구비하는 감광성 레지스트 패턴층을 형성하는 과정을 포함하는
금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판의 제조 방법.

The method according to claim 1,
(e)
(e1) forming a photosensitive resist film covering the lower surface of the exposed base copper layer and the upper surface of the at least one circuit pattern layer; And
(e2) selectively exposing and developing the photosensitive resist film formed on the lower surface of the base copper layer to form a photosensitive resist pattern layer having the second contact pattern
A method of manufacturing a printed circuit board having a metal post.

제6 항에 있어서,
상기 제2 컨택 패턴의 컨택 내부 선폭은 상기 제1 컨택 패턴의 컨택 내부 선폭보다 크도록 형성되는
금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
The method according to claim 6,
The contact inner line width of the second contact pattern is formed to be larger than the contact inner line width of the first contact pattern
A method of manufacturing a printed circuit board having a metal post.
제1 항에 있어서,
(f) 단계의 포스트 도금 패턴층은
구리 및 주석으로 구성된 그룹에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는
금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
The method according to claim 1,
The post-plating pattern layer in step (f)
At least one selected from the group consisting of copper and tin
A method of manufacturing a printed circuit board having a metal post.
제1 항에 있어서,
상기 포스트 도금 패턴층은
전해도금법 및 화학도금법 중에서 선택된 적어도 하나의 방법을 수행하여 형성되는
금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
The method according to claim 1,
The post-plating pattern layer
Electroplating, and chemical plating. ≪ RTI ID = 0.0 >
A method of manufacturing a printed circuit board having a metal post.
삭제delete 제1 면 및 상기 제1 면과 대향하는 제2 면을 구비하는 절연층;
적어도 일부분이 상기 절연층의 내부에 배치되는 한 층 이상의 회로 패턴층;
상기 절연층의 상기 제1 면으로부터 돌출되는 상기 회로 패턴층의 일부분인 제1 접속 패드층을 둘러싸는 절연성 접착층;
상기 제1 접속 패드층과 접촉하며, 상기 절연성 접착층 상에 배치되는 베이스 구리 패턴층; 및
상기 베이스 구리 패턴층 상에 적층되는 포스트 도금 패턴층을 구비하되,
상기 베이스 구리 패턴층의 선폭은 인접하는 상기 제1 접속 패드층의 선폭보다 크며,
상기 포스트 도금 패턴층은 상기 베이스 구리 패턴층과 동일한 선폭을 가지는 하부 포스트 패턴층과
상기 하부 포스트 패턴층 상에서 상기 하부 포스트 패턴층과 서로 다른 선폭을 가지는 상부 포스트 패턴층을 구비하는
금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판.
An insulating layer having a first surface and a second surface opposite to the first surface;
At least a portion of which is disposed inside the insulating layer;
An insulating adhesive layer surrounding the first connection pad layer which is a part of the circuit pattern layer protruding from the first surface of the insulating layer;
A base copper pattern layer in contact with the first connection pad layer and disposed on the insulating adhesive layer; And
And a post plating pattern layer laminated on the base copper pattern layer,
The line width of the base copper pattern layer is larger than the line width of the adjacent first connection pad layer,
Wherein the post-plating pattern layer comprises a lower post pattern layer having the same line width as the base copper pattern layer,
And an upper post pattern layer having a line width different from that of the lower post pattern layer on the lower post pattern layer
A printed circuit board comprising a metal post.
제11 항에 있어서,
상기 절연성 접착층은 열경화성 수지층인
금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판.
12. The method of claim 11,
The insulating adhesive layer is a thermosetting resin layer
A printed circuit board comprising a metal post.
삭제delete 제11 항에 있어서,
상기 상부 포스트 패턴층의 선폭은 상기 하부 포스트 패턴층의 선폭보다 작은
금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판.
12. The method of claim 11,
The line width of the upper post pattern layer is smaller than the line width of the lower post pattern layer
A printed circuit board comprising a metal post.
제11 항에 있어서,
상기 절연층의 상기 제2 면에 배치되고 상기 한 층 이상의 회로 패턴층의 일부분으로부터 연장되는 제2 접속 패드층; 및
상기 제2 면 상에서 상기 제2 접속 패드층의 적어도 일부분을 노출시키는 솔더마스크 패턴층을 더 포함하는
금속 포스트를 구비하는 인쇄회로기판.
12. The method of claim 11,
A second connection pad layer disposed on the second surface of the insulating layer and extending from a portion of the one or more circuit pattern layers; And
And a solder mask pattern layer that exposes at least a portion of the second contact pad layer on the second surface
A printed circuit board comprising a metal post.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2010135720A (en) * 2008-12-08 2010-06-17 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd Printed circuit board comprising metal bump and method of manufacturing the same
KR101039774B1 (en) * 2009-04-08 2011-06-09 대덕전자 주식회사 Method of fabricating a metal bump for printed circuit board

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