KR101600169B1 - METAL THIN FILM FOR ELECTRONIC COMPONENT AND Mo ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR FORMING METAL THIN FILM - Google Patents
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Abstract
본 발명의 과제는, 내습성이나 내산화성을 개선하고, 저저항의 주 도전막인 Al이나 Cu와 적층하였을 때에, 가열 공정을 거쳐도 낮은 전기 저항값을 유지할 수 있는 전자 부품용 금속 박막 및 이것을 형성하기 위한 Mo 합금 스퍼터링 타깃재를 제공하는 것이다.
원자비에 있어서의 조성식이 Mo100 －x－y-Nix-Wy, 10≤x≤50, 10≤y≤40, x＋y≤65로 나타내어지고, 잔량부가 불가피적 불순물로 이루어지는 전자 부품용 금속 박막, 및 원자비에 있어서의 조성식이 Mo100 －x－y-Nix-Wy, 10≤x≤50, 10≤y≤40, x＋y≤65로 나타내어지고, 잔량부가 불가피적 불순물로 이루어지는 금속 박막 형성용 Mo 합금 스퍼터링 타깃재. An object of the present invention is to provide a metal thin film for electronic parts capable of maintaining a low electric resistance value even after a heating step when laminated with Al or Cu which is a main conductive film having a low resistance and improving moisture resistance and oxidation resistance, And to provide a Mo alloy sputtering target material for forming the Mo alloy sputtering target material.
Wherein the composition formula in the atomic ratio is represented by Mo 100- x-y -Ni x -W y , 10? X? 50, 10? Y ? 40, x + y? 65, and the remaining amount is inevitable impurities Thin film and atomic ratio of Mo 100- x-y -Ni x -W y , 10? X? 50, 10? Y ? 40, x + y? 65, and the balance being inevitable impurities Mo alloy sputtering target material for thin film formation.
Description
본 발명은, 내습성, 내산화성이 요구되는 전자 부품용 금속 박막 및 이 금속 박막을 형성하기 위한 스퍼터링 타깃재에 관한 것이다. The present invention relates to a metal thin film for electronic parts requiring moisture resistance and oxidation resistance and a sputtering target material for forming the metal thin film.
액정 디스플레이(이하, LCD라 함), 플라즈마 디스플레이 패널(이하, PDP라 함), 전자 페이퍼 등에 이용되는 전기 영동형 디스플레이 등의 평면 표시 장치(플랫 패널 디스플레이, 이하, FPD라 함)에 더하여, 각종 반도체 디바이스, 박막 센서, 자기 헤드 등의 박막 전자 부품에 있어서는, 낮은 전기 저항의 배선막이 필요하다. 예를 들어, 글래스 기판 상에 박막 디바이스를 작성하는 LCD, PDP, 유기 EL 디스플레이 등의 FPD는 대화면, 고정밀, 고속 응답화에 수반하여, 그 배선막에는 저저항화가 요구되고 있다. 또한 최근, FPD에 조작성을 더하는 터치 패널이나 수지 기판을 사용한 플렉시블한 FPD 등의 새로운 제품이 개발되어 있다. (Flat panel display, hereinafter referred to as FPD) such as a liquid crystal display (hereinafter referred to as an LCD), a plasma display panel (hereinafter referred to as a PDP), an electrophoretic display used for an electronic paper, BACKGROUND ART [0002] In thin-film electronic components such as semiconductor devices, thin film sensors, and magnetic heads, a wiring film with low electrical resistance is required. For example, FPDs such as LCDs, PDPs, organic EL displays and the like for forming thin film devices on glass substrates are required to have low resistances in their wiring films due to their large size, high precision, and high speed response. Recently, new products such as a flexible FPD using a touch panel or a resin substrate that adds operability to the FPD have been developed.
최근, FPD의 구동 소자로서 사용되고 있는 박막 트랜지스터(TFT)의 배선막에는, 저저항화가 필요하며, 주 배선 재료를 Al로부터 보다 저저항의 Cu를 사용하는 검토가 행해지고 있다. 또한, FPD의 화면을 보면서 직접적인 조작성을 부여하는 터치 패널 기판 화면도 대형화가 진행되고 있고, 저저항화를 위해 Cu를 주 배선 재료에 사용하는 검토가 진행되고 있다. In recent years, a thin film transistor (TFT) wiring film used as a driving element of an FPD is required to have a low resistance, and a study has been made to use Cu with lower resistance from Al as a main wiring material. In addition, enlargement of the screen of the touch panel substrate which gives direct operability while viewing the screen of the FPD is proceeding, and studies for using Cu as the main wiring material for lowering the resistance are underway.
현재, TFT에는 Si 반도체막이 사용되고 있는 바, Si 반도체막에 주 배선 재료인 Cu가 직접 접촉하면, TFT 제조 중의 가열 공정에 의해 Cu가 Si 반도체막 중에 열 확산되어, TFT의 전기 특성을 열화시킨다. 이로 인해, Cu와 Si 반도체막 사이에 내열성이 우수한 Mo나 Mo 합금을 배리어막으로서 형성한 적층 배선막이 사용되고 있다. At present, a Si semiconductor film is used for the TFT, and if the Si semiconductor film is in direct contact with Cu, which is the main wiring material, Cu is thermally diffused into the Si semiconductor film by the heating process during manufacturing the TFT, deteriorating the electric characteristics of the TFT. As a result, a laminated wiring film in which Mo or an alloy of Mo, which is excellent in heat resistance, is formed as a barrier film between Cu and Si semiconductor films is used.
또한, TFT로부터 연결되는 화소 전극이나 휴대형 단말기나 태블릿 PC 등에 사용되고 있는 터치 패널의 위치 검출 전극에는, 일반적으로 투명 도전막인 ITO(인듐-주석 산화물)가 사용되고 있다. Cu는, ITO와의 콘택트성은 얻어지지만, 기판과의 밀착성이 낮음으로써, 기판과의 밀착성을 확보하기 위해 Cu를 Mo나 Mo 합금으로 피복한 적층 배선막으로 할 필요가 있다. Further, ITO (indium-tin oxide), which is a transparent conductive film, is generally used for a pixel electrode connected from a TFT or a position detecting electrode of a touch panel used for a portable terminal or a tablet PC. Cu has a contact property with ITO but it is required to be a laminated wiring film in which Cu is coated with Mo or a Mo alloy in order to ensure adhesion with a substrate due to low adhesiveness with the substrate.
또한, 최근, 비정질 Si 반도체보다 고속 구동에 적합하다고 여겨지고 있는 산화물을 사용한 투명한 반도체막의 적용 검토가 활발히 진행되고 있고, 이들 산화물 반도체의 배선막에도 Cu와 순Mo를 사용한 적층 배선막이 검토되고 있다. In recent years, application of transparent semiconductor films using oxides, which are considered to be suitable for high-speed driving, has been actively studied more than amorphous Si semiconductors. Laminated wiring films using Cu and pure Mo are also studied for these oxide semiconductor wiring films.
본 출원인은, 글래스 등과의 밀착성이 낮은 Cu나 Ag와, Mo 주체로서 V 및/또는 Nb를 함유하는 Mo 합금을 적층한 적층 배선막으로 함으로써, Cu나 Ag가 갖는 낮은 전기 저항값을 유지하면서 내식성, 내열성이나 기판과의 밀착성을 개선할 수 있는 것을 제안하고 있다.(예를 들어, 특허문헌 1 참조)The applicant of the present application found that by forming a laminated wiring film in which Cu or Ag having low adhesion with glass or the like and Mo alloy containing V and / or Nb as a Mo main body are laminated, corrosion resistance , Heat resistance and adhesion to a substrate can be improved (see, for example, Patent Document 1)
상술한 특허문헌 1에서 제안한 Mo-V, Mo-Nb 합금 등은, 순Mo보다 내식성, 내열성이나 기판과의 밀착성이 우수하므로, 글래스 기판 상에 형성하는 FPD 용도에서는 널리 사용되고 있다. The Mo-V, Mo-Nb alloy and the like proposed in
그러나, FPD를 제조하는 경우에 있어서, 기판 상에 적층 배선막을 형성한 후에, 다음 공정으로 이동할 때에 장시간 대기 중에 방치되는 경우가 있다. 또한, 편리성을 향상시키기 위해 수지 필름을 사용한 경량이며 플렉시블한 FPD 등에 있어서는, 수지 필름이 지금까지의 글래스 기판 등에 비교하여 투습성이 있으므로, 금속 박막에는 높은 내습성이 요구되고 있다. However, in the case of manufacturing the FPD, after the laminated wiring film is formed on the substrate, the film may be left in the air for a long time when moving to the next step. Further, in a lightweight and flexible FPD using a resin film to improve convenience, since the resin film has moisture permeability as compared with conventional glass substrates and the like, the metal thin film is required to have high moisture resistance.
또한, FPD의 단자부 등에 신호선 케이블을 장착할 때에 대기 중에서 가열되는 경우가 있으므로, 금속 박막에는 내산화성의 향상도 요구되고 있다. 덧붙여 말하면, 산화물을 사용한 반도체막에 있어서는, 특성 향상이나 안정화를 위해, 산소를 함유한 분위기나, 산소를 포함하는 보호막을 형성한 후에 350℃ 이상의 고온에서의 가열 처리를 행하는 경우가 있다. 이로 인해, 주 배선막 상에 금속 박막을 캡막으로서 사용한 적층 배선막에도, 이들 가열 처리를 거친 후에도 안정된 특성을 유지할 수 있도록, 내산화성 향상의 요구가 높아지고 있다. Further, when the signal line cable is attached to the terminal portion of the FPD or the like, the metal thin film is required to be improved in oxidation resistance. Incidentally, in a semiconductor film using an oxide, a heat treatment at a high temperature of 350 DEG C or higher may be carried out after forming an atmosphere containing oxygen or a protective film containing oxygen for improvement or stabilization of characteristics. As a result, there is an increasing demand for improving the oxidation resistance of the laminated wiring film using a metal thin film as a cap film on the main wiring film so that stable characteristics can be maintained even after these heating processes.
본 발명자의 검토에 따르면, 상기한 Mo-V, Mo-Nb 합금 등이나 순Mo의 금속 박막에서는, 상술한 환경에서의 내습성이나 내산화성이 충분하지 않고, FPD의 제조 공정 중에서 변색되어 버리는 문제가 발생하는 경우가 있는 것을 확인하였다. According to the study of the present inventors, it has been found that the Mo-V, Mo-Nb alloy or the like and the metal thin film of pure Mo do not have sufficient moisture resistance and oxidation resistance in the above-described environment and are discolored during the manufacturing process of the FPD In some cases.
또한, 본 발명자의 검토에 따르면, Cu는 Al보다 밀착성, 내습성이나 내산화성이 크게 떨어지므로, 밀착성을 확보하기 위한 기초막이나, Cu의 표면을 보호하는 캡막으로 되는 금속 박막을 형성하는 경우가 있다. 상술한 Mo-V, Mo-Nb 합금 등이나 순Mo에서는 내습성이나 내산화성이 충분하지 않고, FPD의 제조 공정 중에서 Cu의 캡막으로 하였을 때에 변색되어 버림과 함께 산소가 투과하고, Cu의 전기 저항값이 크게 증가한다고 하는 문제가 발생하는 경우가 있다. 캡막의 변색은, 전기적 콘택트성을 열화시키고, 전자 부품의 신뢰성 저하에 연결된다. Further, according to the study by the present inventors, since Cu has adhesiveness, moisture resistance and oxidation resistance significantly lower than that of Al, the case of forming a base film for securing adhesion and a metal thin film serving as a cap film for protecting the surface of Cu have. Mo-V, Mo-Nb alloy or the like as described above, Mo is not sufficient in moisture resistance and oxidation resistance, and when it is made into a cap film of Cu in the manufacturing process of FPD, it is discolored and oxygen permeates, There is a case where a problem that a value increases greatly occurs. The discoloration of the cap film deteriorates the electrical contact property and leads to a decrease in the reliability of the electronic component.
또한, FPD의 대화면화나 고속 구동으로 인해, TFT 제조 공정 중의 가열 온도는 상승하는 경향이 있고, 보다 높은 온도에서의 가열 공정을 거치면, 캡막인 금속 박막에 포함되는 합금 원소가 저저항의 Al이나 Cu의 주 배선막에 확산되어 버려, 전기 저항값이 증가하는 경우가 있는 것을 확인하였다. In addition, the heating temperature during the TFT manufacturing process tends to increase due to the large screen or high-speed driving of the FPD. When the heating process is performed at a higher temperature, the alloy element contained in the metal thin film, And it was confirmed that the electric resistance value sometimes increased.
이와 같이, Al이나 Cu의 주 도전막과 적층하는 금속 박막에는, 새롭게 여러 가지 환경에 대응할 수 있는 높은 내습성이나 내산화성과 낮은 전기 저항값의 유지가 요구되고 있다. As described above, a metal thin film to be laminated with a main conductive film of Al or Cu is required to have a high moisture resistance and oxidation resistance capable of coping with various environments and a low electric resistance value.
본 발명의 목적은, 내습성이나 내산화성을 개선하고, 저저항의 주 도전막인 Al이나 Cu와 적층하였을 때에, 가열 공정을 거쳐도 낮은 전기 저항값을 유지할 수 있는 전자 부품용 금속 박막 및 이것을 형성하기 위한 Mo 합금 스퍼터링 타깃재를 제공하는 것에 있다. It is an object of the present invention to provide a metal thin film for electronic parts which can maintain a low electric resistance value even after a heating process when laminated with Al or Cu which is a main conductive film having a low resistance to improve moisture resistance and oxidation resistance, And to provide a Mo alloy sputtering target material for forming the Mo alloy sputtering target material.
본 발명자는, 상기 과제에 비추어, 새롭게 Mo에 첨가하는 원소의 최적화에 몰두하였다. 그 결과, Mo에 특정량의 Ni와 W를 복합으로 첨가한 전자 부품용 금속 박막으로 함으로써, 내습성, 내산화성을 향상시킬 수 있음과 함께, 가열 공정을 거쳐도 낮은 전기 저항값을 유지할 수 있는 것을 발견하고, 본 발명에 도달하였다. In view of the above-described problems, the present inventors have devoted themselves to the optimization of elements newly added to Mo. As a result, it is possible to improve the moisture resistance and the oxidation resistance by forming a metal thin film for electronic parts in which a specific amount of Ni and W are added in combination with Mo, and at the same time, And reached the present invention.
즉, 본 발명은, 원자비에 있어서의 조성식이 Mo100 －x－y-Nix-Wy, 10≤x≤50, 10≤y≤40, x＋y≤65로 나타내어지고, 잔량부가 불가피적 불순물로 이루어지는 전자 부품용 금속 박막의 발명이다. That is, the present invention is characterized in that the composition formula in the atomic ratio is represented by Mo 100- x-y -Ni x -W y , 10 x 50, 10 y 40, x + y 65, The present invention relates to a metal thin film for electronic parts.
본 발명에서는, 상기 조성식의 x, y가, 각각 20≤x≤35, 15≤y≤30으로 하는 것이 바람직하다. In the present invention, it is preferable that x and y in the above composition formula are 20? X? 35 and 15? Y? 30, respectively.
또한, 본 발명은, 상기 전자 부품용 금속 박막을 형성하기 위한 Mo 합금 스퍼터링 타깃재이며, 원자비에 있어서의 조성식이 Mo100 －x－y-Nix-Wy, 10≤x≤50, 10≤y≤40, x＋y≤65로 나타내어지고, 잔량부가 불가피적 불순물로 이루어지는 금속 박막 형성용 스퍼터링 타깃재의 발명이다. Further, the present invention is a Mo alloy sputtering target material for forming the metal thin film for electronic parts, wherein the composition formula in the atomic ratio is Mo 100- x-y -Ni x -W y , 10? X? ? Y? 40, x + y? 65, and the remaining amount is inevitable impurities.
본 발명에서는, 상기 조성식의 x, y가, 각각 20≤x≤35, 15≤y≤30인 것이 바람직하다. In the present invention, x and y in the composition formula are preferably 20? X? 35 and 15? Y? 30, respectively.
본 발명의 전자 부품용 금속 박막은, 종래의 전자 부품용 금속 박막에 비해 내습성, 내산화성이 우수하다. 또한, 주 도전막의 Al이나 Cu와 적층할 때의 가열 공정에 있어서도, 전기 저항값의 증가를 억제하고, 낮은 전기 저항값을 유지할 수 있다. 이에 의해, 다양한 전자 부품, 예를 들어 수지 기판 상에 형성하는 FPD 등의 배선막에 사용함으로써, 전자 부품의 안정 제조나 신뢰성 향상에 크게 공헌할 수 있는 이점을 갖는 것이며, 전자 부품의 제조에 유용한 기술로 된다. 특히, 터치 패널이나 수지 기판을 사용하는 플렉시블한 FPD에 대해 매우 유용한 금속 박막으로 된다. 이들 제품에서는, 특히 내습성, 내산화성이 매우 중요하기 때문이다. The metal thin film for electronic parts of the present invention is superior in moisture resistance and oxidation resistance to conventional metal thin films for electronic parts. In addition, even in the heating step when the main conductive film is laminated with Al or Cu, an increase in electric resistance value can be suppressed and a low electric resistance value can be maintained. Thereby, it is advantageous in contributing to the stable production and reliability improvement of electronic parts by using it for various electronic parts, for example, a wiring film such as an FPD formed on a resin substrate. Technology. In particular, it is a metal thin film very useful for a flexible FPD using a touch panel or a resin substrate. These products are particularly important in moisture resistance and oxidation resistance.
도 1은 본 발명의 전자 부품용 금속 박막의 적용예를 나타내는 단면 모식도. 1 is a schematic sectional view showing an application example of a metal thin film for an electronic part of the present invention.
본 발명의 전자 부품용 금속 박막(이하, 간단히 금속 박막이라 함.)의 적용예를 도 1에 나타낸다. 본 발명의 금속 박막은, 예를 들어 기판(1) 상에 형성되고, 주 도전막(3)의 기초막(2)이나 캡막(4)에 사용할 수 있다. 도 1에서는 주 도전막(3)의 양면에 금속 박막(2, 4)을 형성하고 있는 바, 기초막(2) 또는 캡막(4) 중 어느 한쪽의 면만을 덮어도 되고, 적절히 선택할 수 있다. 또한, 주 도전막의 한쪽의 면만을 본 발명의 금속 박막으로 덮는 경우에는, 주 도전막(3)의 다른 쪽의 면에는 전자 부품의 용도에 따라, 본 발명과는 다른 조성의 금속 박막으로 덮을 수 있다.Fig. 1 shows an application example of the metal thin film for electronic parts of the present invention (hereinafter, simply referred to as metal thin film). The metal thin film of the present invention is formed on the
본 발명의 중요한 특징은, Mo에 대해 Ni를 10∼50원자％, W를 10∼40원자％, 또한 양자 합계로 65원자％ 이하의 범위에서 첨가함으로써, 내습성, 내산화성을 향상시키고, 예를 들어 주 도전막을 형성하는 Cu나 Al 등과의 적층 시의 가열 공정에 있어서, 낮은 전기 저항값을 유지할 수 있는 새로운 금속 박막을 발견한 점에 있다. 이하, 본 발명의 금속 박막에 대해 상세하게 설명한다. 또한, 이하의 설명에 있어서 「내습성」이라 함은, 고온 고습 환경하에 있어서의 배선막의 전기 저항값의 변화되기 어려움을 말하는 것으로 한다. 또한, 「내산화성」이라 함은, 고온 환경하에 있어서의 전기적 콘택트성의 열화되기 어려움을 말하고, 배선막의 변색에 의해 확인할 수 있고, 예를 들어 반사율에 의해 정량적으로 평가할 수 있다. An important feature of the present invention is to improve the moisture resistance and oxidation resistance by adding Ni to 10 to 50 atom% of W, 10 to 40 atom% of W, and 65 atom% In which a low electric resistance value can be maintained in a heating process in the lamination with Cu, Al or the like which forms the main conductive film. Hereinafter, the metal thin film of the present invention will be described in detail. In the following description, " moisture resistance " means that the electrical resistance value of the wiring film under the high temperature and high humidity environment is difficult to change. "Oxidation resistance" refers to difficulty in deteriorating the electrical contact property under a high temperature environment, and can be confirmed by discoloration of the wiring film, and can be quantitatively evaluated by, for example, reflectance.
본 발명의 금속 박막에 있어서, Mo 합금에 Ni를 첨가하는 이유는, 내산화성을 향상시키기 위해서이다. 순Mo는, 대기 중에서 가열하면 용이하게 산화되어 금속 박막 표면이 변색되어 버리고, 전기적 콘택트성이 열화되어 버린다. 본 발명의 금속 박막은, Mo에 특정량의 Ni를 첨가함으로써, 내산화성이 향상된다. 그 효과는, Ni의 첨가량이 10원자％ 이상에서 현저해진다. In the metal thin film of the present invention, Ni is added to the Mo alloy in order to improve oxidation resistance. When pure Mo is heated in the atmosphere, it is easily oxidized and the surface of the metal thin film is discolored and the electrical contact property is deteriorated. In the metal thin film of the present invention, oxidation resistance is improved by adding a specific amount of Ni to Mo. The effect is remarkable when the addition amount of Ni is 10 atomic% or more.
또한, 주 도전막을 형성하는 Cu는, 대기 중에서 가열하면 매우 산화되기 쉬운 원소이다. 본 발명의 금속 박막을 Cu로 이루어지는 주 도전막의 캡막으로서 사용하는 경우에는, 300℃ 이상의 고온까지 충분한 내산화성과, 낮은 전기 저항값을 확보하기 위해, Ni의 첨가량을 20원자％ 이상으로 하는 것이 바람직하다. Further, Cu forming the main conductive film is an element which is easily oxidized when heated in air. When the metal thin film of the present invention is used as a cap film of a main conductive film made of Cu, it is preferable to set the addition amount of Ni to 20 atomic% or more in order to ensure sufficient oxidation resistance to a high temperature of 300 캜 or higher and low electrical resistance Do.
한편, Ni는, Mo보다 Cu에 대해 열 확산되기 쉬운 원소이다. Mo에의 Ni의 첨가량이 50원자％를 초과하면, FPD 등의 전자 부품을 제조할 때의 가열 공정에 있어서, 금속 박막에 포함되는 Ni가 용이하게 주 도전막의 Cu에 확산되어 버려, 낮은 전기 저항값을 유지하기 어려워진다. 이로 인해, Ni의 첨가량은 10∼50원자％로 한다. On the other hand, Ni is an element that is more likely to be thermally diffused to Cu than Mo. If the amount of Ni added to Mo exceeds 50 atomic%, Ni contained in the metal thin film is easily diffused into Cu of the main conductive film in the heating process for producing electronic parts such as FPD, . Therefore, the addition amount of Ni is 10 to 50 atomic%.
또한, Cu로 이루어지는 주 도전막과 Ni의 첨가량이 35원자％를 초과하는 금속 박막을 적층하고, 350℃보다 고온에서 가열하는 경우에는, 금속 박막에 포함되는 Ni가 주 도전막의 Cu에 확산되기 쉬워져, 전기 저항값이 상승하는 경우가 있다. 본 발명의 금속 박막에서 낮은 전기 저항값과 내산화성을 유지하기 위해서는, Ni의 첨가량은 20∼35원자％가 바람직하다. Further, when a main conductive film made of Cu and a metal thin film having an added amount of Ni exceeding 35 at% are stacked and heated at a temperature higher than 350 캜, Ni contained in the metal thin film easily diffuses into Cu of the main conductive film So that the electric resistance value may rise. In order to maintain low electrical resistance and oxidation resistance in the metal thin film of the present invention, the addition amount of Ni is preferably 20 to 35 atomic%.
또한, 주 도전막을 형성하는 Al은, 대기 중에 폭로되면, 그 표면에 얇은 부동태막을 생성하여 내부를 보호하므로, Cu에 비교하여 내산화성, 내습성이 우수한 원소이다. 그러나, Ni는 Al에 대해 열 확산되기 쉬운 원소이므로, 그 첨가량은 내산화성을 개선할 수 있는 최소한으로 할 필요가 있다. Al forming the main conductive film is an element superior in oxidation resistance and moisture resistance as compared with Cu since it forms a thin passive film on the surface thereof to protect the inside when exposed to the atmosphere. However, since Ni is an element that is easily diffused thermally to Al, it is necessary to add Ni to a minimum amount that can improve oxidation resistance.
본 발명의 금속 박막을 Al로 이루어지는 주 도전막의 캡막으로서 사용하는 경우에는, Ni의 첨가량이 25원자％를 초과하면, FPD 등의 전자 부품을 제조할 때의 350℃ 정도의 가열 공정에 있어서, 캡막에 포함되는 Ni가 주 도전막의 Al에 확산되어 버려, 낮은 전기 저항값을 유지하기 어려워진다. 이로 인해, 본 발명의 금속 박막을 Al로 이루어지는 주 도전막의 캡막으로서 사용하는 경우에는, Ni의 첨가량을 25원자％ 이하로 하는 것이 바람직하다. In the case where the metal thin film of the present invention is used as a cap film of a main conductive film made of Al, if the addition amount of Ni exceeds 25 at%, in a heating process at about 350 캜 when an electronic component such as an FPD is produced, Ni diffuses into Al of the main conductive film and it becomes difficult to maintain a low electric resistance value. Therefore, when the metal thin film of the present invention is used as a cap film of the main conductive film made of Al, it is preferable that the addition amount of Ni is 25 at% or less.
본 발명의 금속 박막을 형성하는 Mo 합금에 W를 첨가하는 이유는, 내습성을 향상시키기 위해서이다. W는, Mo보다 내식성이 높은 원소이며, 본 발명의 금속 박막에 특정량의 W를 첨가함으로써 내습성이 향상된다. 이 효과는, 10원자％로부터 명확해진다. 장시간의 고온 고습 환경하에 있어서의 배선막의 전기 저항값의 변화를 억제하기 위해서는, W의 첨가량을 15원자％ 이상으로 하는 것이 바람직하다. The reason why W is added to the Mo alloy forming the metal thin film of the present invention is to improve moisture resistance. W is an element having higher corrosion resistance than Mo. Moisture resistance is improved by adding a specific amount of W to the metal thin film of the present invention. This effect becomes clear from 10 atomic%. In order to suppress the change of the electric resistance value of the wiring film in a high temperature and high humidity environment for a long time, it is preferable that the addition amount of W is 15 atomic% or more.
한편, W의 첨가량이 40원자％를 초과하면, 에칭 속도가 저하되고, Cu와의 적층막의 에칭 시에 잔사가 발생하거나, 에칭을 할 수 없게 된다. 이로 인해, 본 발명에서는 W의 첨가량을 10∼40원자％로 한다. 보다 용이하게 에칭하기 위해서는, W의 첨가량을 30원자％ 이하로 하는 것이 바람직하다. On the other hand, if the addition amount of W exceeds 40 atomic%, the etching rate is lowered, and a residue is generated or can not be etched when etching the laminated film with Cu. Therefore, in the present invention, the addition amount of W is set to 10 to 40 atomic%. In order to more easily etch, it is preferable that the addition amount of W is 30 atomic% or less.
또한, 본 발명의 금속 박막은, Ni와 W의 합계량을 65원자％ 이하로 한다. 그 이유는, Ni와 W의 합계량이 65원자％를 초과하면, 내습성과 내산화성을 개선할 수 있지만, 본래 Mo가 갖는 우수한 배리어성이나 에칭성을 유지할 수 없게 되기 때문이다. 바람직하게는, Ni와 W의 합계량은 60원자％ 이하이다. In the metal thin film of the present invention, the total amount of Ni and W is set to 65 atomic% or less. The reason for this is that when the total amount of Ni and W exceeds 65 at%, moisture resistance and oxidation resistance can be improved, but the excellent barrier property and the etching property inherent to Mo can not be maintained. Preferably, the total amount of Ni and W is 60 atom% or less.
또한, 본 발명의 금속 박막에 첨가되는 Ni와 W는, 원자비로 Ni/W가 1 이상인 것이 바람직하다. 상술한 바와 같이, W는, 내습성의 향상에 기여하는 원소이지만, 내산화성의 개선 효과는 낮다. 본 발명자의 검토에 따르면, 금속 박막 중의 Ni의 첨가량보다 W의 첨가량이 많은 경우에는, 내산화성의 향상 효과를 얻기 어려워지는 것을 확인하였다. 이로 인해, 본 발명의 금속 박막은, 원자비로 Ni/W가 1 이상으로 되도록, 각각 첨가하는 것이 바람직하고, 이에 의해 금속 박막의 내습성과 내산화성을 안정적으로 얻는 것이 가능해진다. 바람직하게는, 원자비로 Ni/W는 3 이하이다.Ni and W added to the metal thin film of the present invention preferably have an atomic ratio of Ni / W of 1 or more. As described above, W is an element contributing to improvement in moisture resistance, but the effect of improving oxidation resistance is low. According to the study by the present inventors, it has been confirmed that when the amount of W added is larger than the amount of Ni added in the metal thin film, it becomes difficult to obtain an effect of improving oxidation resistance. Therefore, it is preferable that the metal thin film of the present invention is added in such a manner that the Ni / W ratio becomes 1 or more in terms of the atomic ratio, whereby the moisture resistance and the oxidation resistance of the metal thin film can be stably obtained. Preferably, the atomic ratio of Ni / W is 3 or less.
본 발명의 금속 박막의 막 두께는, 20∼100㎚로 하는 것이 바람직하다. 금속 박막의 막 두께가 20㎚ 미만에서는, Mo 합금막의 연속성이 낮아져 버려, 내습성과 내산화성을 충분히 얻을 수 없는 경우가 있다. 한편, 막 두께가 100㎚를 초과하면, 금속 박막의 전기 저항값이 높으므로, 주 도전막의 Al막이나 Cu막과 적층하였을 때에, 적층 배선막으로서 낮은 전기 저항값을 얻기 어려워진다. The film thickness of the metal thin film of the present invention is preferably 20 to 100 nm. If the thickness of the metal thin film is less than 20 nm, the continuity of the Mo alloy film is lowered, and moisture resistance and oxidation resistance may not be sufficiently obtained. On the other hand, when the film thickness exceeds 100 nm, the electrical resistance value of the metal thin film is high, so that it becomes difficult to obtain a low electric resistance value as the laminated wiring film when the film is laminated with the Al film or the Cu film of the main conductive film.
또한, 본 발명의 금속 박막의 막 두께는, 30㎚ 이상이 보다 바람직하다. 이에 의해, 350℃ 이상의 고온에서 가열해도, 주 도전막의 Cu의 산화에 수반하는 전기 저항값의 상승을 억제할 수 있다. 또한, 본 발명의 금속 박막의 막 두께는, 70㎚ 이하가 더욱 바람직하다. 이에 의해, 350℃ 이상의 고온에서 가열해도, 주 도전막의 Cu에의 원자 확산에 의한 전기 저항값의 증가를 억제할 수 있다. The thickness of the metal thin film of the present invention is more preferably 30 nm or more. Thereby, even when heated at a high temperature of 350 占 폚 or more, it is possible to suppress an increase in electric resistance value due to oxidation of Cu of the main conductive film. Further, the film thickness of the metal thin film of the present invention is more preferably 70 nm or less. As a result, even when heated at a high temperature of 350 占 폚 or more, it is possible to suppress an increase in electric resistance value due to atom diffusion into Cu of the main conductive film.
본 발명의 금속 박막을 형성하기 위해서는, 스퍼터링 타깃을 사용한 스퍼터링법이 최적이다. 금속 박막의 조성과 동일한 조성의 Mo 합금 스퍼터링 타깃을 사용하여 성막하는 방법이나, 예를 들어 Mo-Ni 합금 스퍼터링 타깃과 Mo-W 합금 또는 Ni-W 합금의 스퍼터링 타깃을 사용하여 코-스퍼터링에 의해 성막하는 방법 등을 적용할 수 있다. 스퍼터링의 조건 설정의 간이성이나, 원하는 조성의 금속 박막을 얻기 쉽다고 하는 관점에서는, 금속 박막의 조성과 동일한 조성의 Mo 합금 스퍼터링 타깃을 사용하여 스퍼터링 성막하는 것이 가장 바람직하다. In order to form the metal thin film of the present invention, the sputtering method using the sputtering target is optimum. A method of forming a film by using a Mo alloy sputtering target having the same composition as the composition of the metal thin film or a method of sputtering using a Mo-Ni alloy sputtering target and a sputtering target of a Mo-W alloy or a Ni-W alloy by co- A method of forming a film can be applied. It is most preferable to form the sputtering target by using the Mo alloy sputtering target having the same composition as the composition of the metal thin film from the viewpoint of simplicity of setting the sputtering condition and easy obtaining of the metal thin film of the desired composition.
본 발명의 금속 박막 형성용 Mo 합금 스퍼터링 타깃재는, 원자비에 있어서의 조성식이 Mo100 －x－y-Nix-Wy, 10≤x≤50, 10≤y≤40, x＋y≤65로 나타내어지고, 잔량부가 불가피적 불순물로 이루어진다. 또한, Ni를 20∼35원자％, W를 10∼30원자％ 함유시키는 것이 바람직하다. The Mo alloy sputtering target material for forming a metal thin film of the present invention has a composition formula of Mo 100- x-y -Ni x -W y , 10 x 50, 10 y 40, x + y 65 And the residual amount is inevitable impurities. It is also preferable to contain Ni in an amount of 20 to 35 atomic% and W in an amount of 10 to 30 atomic%.
본 발명의 금속 박막 형성용 Mo 합금 스퍼터링 타깃재의 제조 방법으로서는, 예를 들어 분말 소결법이 적용 가능하다. 분말 소결법에서는, 예를 들어 용해 가능한 조성을 가스 아토마이즈법으로 합금 분말을 제조하여 원료 분말로 하는 것이나, 복수의 합금 분말이나 순금속 분말을 본 발명의 최종 조성으로 되도록 혼합한 혼합 분말을 원료 분말로 하는 것이 가능하다. 원료 분말의 소결 방법으로서는, 열간 정수압 프레스, 핫 프레스, 방전 플라즈마 소결, 압출 프레스 소결 등의 가압 소결을 이용하는 것이 가능하다. As a method for producing the Mo alloy sputtering target material for metal thin film formation of the present invention, for example, powder sintering method is applicable. In the powder sintering method, for example, a powder which can be dissolved is prepared by preparing an alloy powder by a gas atomization method, and a mixed powder obtained by mixing a plurality of alloy powder or pure metal powder so as to have a final composition of the present invention is used as a raw material powder It is possible. As the sintering method of the raw material powder, pressure sintering such as hot isostatic pressing, hot press, discharge plasma sintering, extrusion press sintering, or the like can be used.
본 발명의 금속 박막을 형성하는 Mo 합금에 있어서, 내산화성, 내습성을 확보하기 위해 필수 원소인 Ni, W 이외의 잔량부를 차지하는 Mo 이외의 불가피적 불순물의 함유량은 적은 것이 바람직하다. 본 발명의 작용을 손상시키지 않는 범위에서, 가스 성분인 산소, 질소나 탄소, 전이 금속인 Fe, Cu, 반금속의 Al, Si 등의 불가피적 불순물을 포함해도 된다. 예를 들어, 가스 성분의 산소, 질소는 각각 1000질량ppm 이하, 탄소는 200질량ppm 이하, Fe, Cu는 200질량ppm 이하, Al, Si는 100질량ppm 이하이며, 가스 성분을 제외한 순도로서 99.9질량％ 이상인 것이 바람직하다. In the Mo alloy for forming the metal thin film of the present invention, it is preferable that the content of inevitable impurities other than Mo, which occupies the remaining portion other than Ni and W, is small in order to ensure oxidation resistance and moisture resistance. It may contain inevitable impurities such as oxygen, nitrogen or carbon, transition metals Fe, Cu, semimetal Al, Si or the like within a range not impairing the action of the present invention. For example, oxygen and nitrogen of the gas components are each 1000 mass ppm or less, carbon is 200 mass ppm or less, Fe, Cu is 200 mass ppm or less, Al and Si are 100 mass ppm or less, and the purity excluding gas component is 99.9 By mass or more.
실시예 1Example 1
우선, 전자 부품용 금속 박막을 형성하기 위한 각 스퍼터링 타깃재를 제작하였다. 평균 입경이 6㎛인 Mo 분말과 평균 입경 100㎛의 Ni 분말과 평균 입경 8㎛의 W 분말을 준비하였다. 다음으로, Mo-30원자％ Ni 합금, Mo-35원자％ W 합금으로 되도록 각각 상기한 분말을 혼합하고, 연강제의 캔에 충전한 후, 가열하면서 진공 배기하여 캔 내의 가스분을 제외한 후에 밀봉하였다. 다음으로, 밀봉한 캔을 열간 정수압 프레스 장치에 넣어, 1000℃, 120㎫, 5시간의 조건에서 소결시킨 후에, 기계 가공에 의해, 직경 100㎜, 두께 5㎜의 각 스퍼터링 타깃재를 제작하였다. First, respective sputtering target materials for forming a metal thin film for electronic parts were produced. Mo powder having an average particle diameter of 6 탆, Ni powder having an average particle diameter of 100 탆 and W powder having an average particle diameter of 8 탆 were prepared. Next, the above powders were mixed so as to be a Mo-30 atomic% Ni alloy and an Mo-35 atomic% W alloy, filled in a can made of soft steel, vacuumed while being heated to remove gas components in the can, Respectively. Next, the sealed can was placed in a hot isostatic pressing apparatus and sintered under the conditions of 1000 ° C and 120 MPa for 5 hours, and then each sputtering target material having a diameter of 100 mm and a thickness of 5 mm was produced by machining.
또한, Mo-10원자％ Nb 합금, Mo-15원자％ Ni 합금, Mo-15원자％ W로 이루어지는 스퍼터링 타깃재도 마찬가지로 제작하였다. A sputtering target material composed of Mo-10 atomic% Nb alloy, Mo-15 atomic% Ni alloy, and Mo-15 atomic% W was similarly prepared.
또한, Ni-20원자％ W 합금의 스퍼터링 타깃재는, 전해 Ni와 괴상의 W 원료를 소정량으로 칭량한 후, 진공 유도 가열로에서 용해하여 잉곳을 제작하고, 기계 가공을 실시하여 제작하였다. The sputtering target material of the Ni-20 atomic% W alloy was produced by weighing the electrolytic Ni and the massive W raw material in a predetermined amount and then dissolving in a vacuum induction furnace to produce ingots and machining.
또한, 순W의 스퍼터링 타깃재는, 가부시끼가이샤 고쥰도 가가꾸 겐뀨쇼(高純度化學硏究所)제의 것을 사용하였다. In addition, the sputtering target material of pure W was a product of Kobunshi Kaisho Kagaku Kagaku Koen.
상기에서 얻은 각 스퍼터링 타깃재를 구리제의 배킹 플레이트에 브레이징하여 스퍼터링 장치에 장착하였다. 스퍼터링 장치는, 캐논 아네르바 가부시끼가이샤제의 SPF-440H를 사용하였다.Each of the sputtering target materials obtained above was brazed to a copper backing plate and mounted on a sputtering apparatus. As the sputtering apparatus, SPF-440H manufactured by Canon Anner Inc. was used.
25㎜×50㎜의 글래스 기판 상에, 표 1에 나타내는 각 조성의 금속 박막을 200㎚ 형성하고, 시료를 얻었다. 또한, Mo-Ni-W 합금으로 이루어지는 금속 박막의 형성은, 상기에서 작성한 스퍼터링 타깃재를 동시에 스퍼터하는 코-스퍼터법에 의해 형성하였다. 스퍼터 조건은 Ar 압력 0.3㎩로 하고, 각각의 스퍼터링 타깃재에 가하는 전력을 변화시켜 성막하였다. 얻어진 금속 박막의 조성 분석은, 가부시끼가이샤 시마즈 세이사꾸쇼(島津製作所)제의 ICP(유도 결합 플라즈마 발광 분석 장치) ICPV-1017로 분석하였다. 200 nm of a metal thin film of each composition shown in Table 1 was formed on a glass substrate of 25 mm x 50 mm to obtain a sample. In addition, the formation of the metal thin film made of the Mo-Ni-W alloy was performed by the co-sputtering method in which the sputtering targets prepared above were simultaneously sputtered. The sputtering conditions were Ar pressure 0.3 Pa and film formation was carried out by varying the electric power applied to each sputtering target material. The composition of the resulting metal thin film was analyzed by ICP (Inductively Coupled Plasma Atomic Emission Spectrometer) ICPV-1017 manufactured by Shimazu Seisakusho Co., Ltd.
내산화성의 평가는, 상기에서 얻은 각 시료를 대기 중에서 250℃, 300℃, 350℃에서 1시간 가열한 후의 반사율의 변화를 측정하였다. 또한, 참고로서, 상기에서 얻은 각 시료를 85℃×85％의 고온 고습 분위기에 100시간, 200시간, 300시간 방치한 후의 반사율의 변화도 측정하였다. 반사율의 측정은, 코니카 미놀타 가부시끼가이샤제의 분광 측색계 CM-2500d를 사용하여 가시광 영역의 반사 특성을 측정하였다. The oxidation resistance was evaluated by measuring the change in reflectance after each of the samples obtained above was heated in air at 250 ° C, 300 ° C and 350 ° C for 1 hour. For reference, the change in the reflectance after each of the samples obtained above was allowed to stand for 100 hours, 200 hours, and 300 hours in a high-temperature and high-humidity atmosphere of 85 ° C × 85%. The reflectance was measured using a spectroscopic colorimeter CM-2500d manufactured by Konica Minolta Co., Ltd., and the reflection characteristic of the visible light region was measured.
에칭성의 평가는, 상기에서 얻은 각 시료를 간또 가가꾸(關東化學) 가부시끼가이샤제의 Al용 에천트에 10분간 침지하여, 기판 상에 금속 박막의 잔류가 있는지를 평가하였다. 에칭 가능하였던 시료 및 잔사는 있었지만 에칭된 시료를 ○, 에칭되지 않고 남은 시료를 ×로 하고, 그 상황을 표기하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다. The evaluation of the etching properties was carried out by immersing each of the samples obtained above in a cantilever for Al for 10 minutes by Kanto Chemical Co., Ltd. to evaluate whether or not the metal thin film remained on the substrate. The etched samples were marked with ○, and the remaining samples without etching were marked as ×, and the situation was indicated. The results are shown in Table 1.
표 1에 나타내는 바와 같이, 순Mo나 비교예로 되는 본 발명과는 다른 Mo 합금으로 이루어지는 금속 박막을 대기 중에서 가열하거나, 고온 고습 분위기에 방치하면, 반사율이 저하되는 경향이 있고, 첨가 원소에 의해 반사율의 저하에 큰 차가 있는 것을 확인하였다. As shown in Table 1, when the metal thin film made of pure Mo or a Mo alloy different from the present invention as a comparative example is heated in air or left in a high temperature and high humidity atmosphere, the reflectance tends to decrease, It is confirmed that there is a great difference in the decrease of reflectance.
Mo-10원자％ Nb 합금으로 이루어지는 금속 박막의 반사율은, 대기 중에서 가열하면 300℃에서 크게 저하되고, 350℃에서는 금속 박막이 산화물로 되어 투과하였다. 또한, Mo-15원자％ W 및 Mo-35원자％ W 합금으로 이루어지는 금속 박막의 반사율은, 350℃에서 급격하게 저하되어 버려, 내산화성이 낮은 것을 확인하였다. 또한, Mo-15원자％ Ni 합금으로 이루어지는 금속 박막은, 고온 고습 분위기에 방치하였을 때의 반사율이 100시간 방치하면 크게 저하되고, 내산화성이 낮은 것을 확인하였다. The reflectance of the metal thin film composed of the Mo-10 atomic% Nb alloy significantly decreased at 300 캜 when heated in the atmosphere, and at 350 캜, the metal thin film passed through the oxide. Further, the reflectance of the metal thin film composed of the Mo-15 atomic% W and Mo-35 atomic% W alloys sharply decreased at 350 ° C, confirming that the oxidation resistance was low. Further, it was confirmed that the metal thin film made of the Mo-15 atomic% Ni alloy significantly deteriorates when the reflectance when left in a high temperature and high humidity atmosphere is left for 100 hours, and the oxidation resistance is low.
또한, 비교예로 되는 Mo-20원자％ Ni-45원자％ W로 이루어지는 금속 박막은, 내산화성은 개선되어 있지만, 에칭할 수 없었다. Further, the metal thin film made of the Mo-20 atomic% Ni-45 atomic% W as a comparative example was improved in oxidation resistance but could not be etched.
이들에 반해, 본 발명의 Mo에 특정 범위의 Ni와 W를 첨가한 Mo 합금으로 이루어지는 금속 박막은, 대기 중의 가열, 고온 고습 분위기에 방치해도 반사율의 저하는 적고, 내산화성 및 내산화성이 우수하고, Al용 에천트에서의 에칭도 가능한 것을 확인할 수 있었다. On the other hand, the metal thin film made of the Mo alloy containing Mo and W in a specific range of Mo according to the present invention has a low decrease in reflectance even when heated in the atmosphere or in a high temperature and high humidity atmosphere, and is excellent in oxidation resistance and oxidation resistance , It was confirmed that etching with an etchant for Al is also possible.
이로 인해, 본 발명의 금속 박막은, Al을 주 도전막으로 하는 적층막의 금속 박막에 적용하는 것도 가능하다. As a result, the metal thin film of the present invention can be applied to a metal thin film of a lamination film having Al as a main conductive film.
실시예 2Example 2
도 1에 도시하는 적층 배선막의 구성을 상정하고, 25㎜×50㎜의 글래스 기판 상에 표 2에 나타내는 조성의 기초막을 형성하고, 그 상면에 주 도전막인 Cu막, 또한 그 상면에 표 2에 나타내는 조성의 캡막을, 각각 표 2에 나타내는 막 두께 구성에서, 실시예 1과 동일한 스퍼터링 장치를 사용하여 형성하고, 적층 배선막의 시료를 얻었다. 또한, Cu의 스퍼터링 타깃재는 히다찌 덴센(日立電線) 가부시끼가이샤의 무산소 구리의 판재를 기계 가공하여 제작하였다. Assuming the configuration of the laminated wiring film shown in Fig. 1, a base film having a composition shown in Table 2 was formed on a glass substrate having a size of 25 mm x 50 mm, and a Cu film as a main conductive film was formed on the base film. Were formed by using the same sputtering apparatus as in Example 1 in the film thickness configuration shown in Table 2, respectively, to obtain a sample of the laminated wiring film. The sputtering target material of Cu was produced by machining a sheet material of oxygen free copper of Hitachi Cable, Ltd.
내산화성의 평가는, 실시예 1과 동일한 조건에서 측정하였다. 또한, 내습성의 평가는, 상기에서 얻은 각 시료를 85℃×85％의 고온 고습 분위기에 100시간, 200시간 방치한 후의 전기 저항값의 변화를 측정하였다. 전기 저항값의 측정은, 가부시끼가이샤 다이아 인스트루먼트제의 4단자 박막 저항률 측정기 MCP-T400을 사용하여 측정하였다. The evaluation of oxidation resistance was carried out under the same conditions as in Example 1. The moisture resistance was evaluated by measuring the change in the electrical resistance value after each sample obtained above was allowed to stand for 100 hours and 200 hours in a high temperature and high humidity atmosphere of 85 캜 85%. The electrical resistance was measured using a 4-terminal thin film resistivity meter MCP-T400 manufactured by Kabushiki Kaisha Diamond Instruments.
에칭성의 평가는, 상기에서 얻은 각 시료를 간또 가가꾸 가부시끼가이샤제의 Cu용 에천트 Cu02에 10분간 침지하여, 기판 상에 금속 박막의 잔류가 있는지를 평가하였다. 에칭 가능하였던 시료 및 잔사는 있었지만 에칭된 시료를 ○, 에칭되지 않고 남은 시료를 ×로 하고, 그 상황을 표기하였다. 그 결과를 표 2 및 표 3에 나타낸다. In the evaluation of the etching property, each of the samples obtained above was immersed in Cu etchant Cu for Cu for 10 minutes by Kanto Kagaku Co., Ltd. to evaluate whether or not the metal thin film remained on the substrate. The etched samples were marked with ○, and the remaining samples without etching were marked as ×, and the situation was indicated. The results are shown in Tables 2 and 3.
표 2에 나타내는 바와 같이, 주 도전막의 Cu막 단체에서는, 대기 중에서 250℃ 이상 가열하면, 산화되어 버려, 반사율은 크게 저하되고, 전기 저항값의 측정을 할 수 없었다. 또한, 비교예로 되는 본 발명과는 다른 Mo 합금과 Cu의 적층 배선막의 반사율은, 대기 중에서 가열하면, 저하되는 경향이 있었다. 특히, 순Mo나 Mo-10원자％ Nb 및 Mo-35원자％ W의 금속 박막을 사용한 적층 배선막의 반사율은, 대기 중에서 300℃ 가열하면, 크게 저하되고, 내산화성이 낮은 것을 확인하였다. 또한, Mo, Mo-10원자％ Nb로 이루어지는 금속 박막을 사용한 적층 배선막의 전기 저항값은, 300℃ 이상의 가열에서 크게 증가하였다. 이것은, 산소가 금속 박막을 투과해 버려, 주 도전막의 Cu막이 산화되어 있다고 생각된다. As shown in Table 2, when the Cu film of the main conductive film was heated in the air at 250 ° C or higher, it was oxidized and the reflectance was greatly lowered, and the electrical resistance value could not be measured. In addition, the reflectance of the Mo-alloyed and Cu laminated wiring films, which is different from the present invention as a comparative example, tends to decrease when heated in air. In particular, it was confirmed that the reflectance of a laminated wiring film using a thin metal film of pure Mo, Mo-10 atomic% Nb and Mo-35 atomic% W largely decreased when heated at 300 ° C in the atmosphere, and the oxidation resistance was low. In addition, the electrical resistance value of the laminated wiring film using a metal thin film made of Mo and Mo-10 atomic% Nb greatly increased upon heating at 300 占 폚 or more. This is considered to be because the oxygen permeates the metal thin film and the Cu film of the main conductive film is oxidized.
또한, 표 3에 나타내는 바와 같이, 비교예로 되는 Mo-15원자％ Ni로 이루어지는 금속 박막을 사용한 적층 배선막은, 고온 고습 분위기에 방치하면, 순Mo와 마찬가지로 100시간에서 반사율이 크게 저하되고, 전기 저항값도 증가하고, 내습성 및 내산화성이 낮은 것을 확인하였다. As shown in Table 3, when the laminated wiring film using the metal thin film made of Mo-15 atomic% Ni as a comparative example is left in a high-temperature and high-humidity atmosphere, the reflectance largely decreases in 100 hours as in the case of pure Mo, The resistance value was increased, and it was confirmed that the moisture resistance and the oxidation resistance were low.
또한, 비교예로 되는 W의 첨가량이 45원자％를 초과하는 금속 박막을 사용한 적층 배선막은, 에칭할 수 없게 되는 것이 확인되었다. In addition, it was confirmed that the laminated wiring film using the metal thin film of Comparative Example in which the addition amount of W exceeded 45 at% could not be etched.
이들에 반해, 본 발명의 금속 박막을 사용한 적층 배선막은, 350℃의 대기 중에서 가열하거나, 고온 고습 분위기에 장시간 방치해도, 반사율의 저하, 전기 저항값의 증가도 적고, 내습성, 내산화성 모두 크게 개선되는 것을 확인하였다. 이에 의해, 본 발명의 금속 박막은, 주 도전막의 기초막이나 캡막으로서 유용한 것을 확인할 수 있었다. On the contrary, the laminated wiring film using the metal thin film of the present invention exhibits both a decrease in reflectance and an increase in electrical resistance even when heated in an atmosphere at 350 ° C or left in a high temperature and high humidity atmosphere for a long time, . Thus, it was confirmed that the metal thin film of the present invention is useful as a base film or a cap film of the main conductive film.
실시예 3Example 3
실시예 2와 마찬가지로, 25㎜×50㎜의 글래스 기판 상에, 표 3에 나타내는 조성의 기초막을 형성하고, 그 상면에 주 도전막인 Al막, 또한 그 상면에 캡막을, 각각 표 3에 나타내는 막 두께 구성에서, 실시예 1과 동일한 스퍼터링 장치를 사용하여 형성하고, 적층 배선막의 시료를 얻었다. 또한, Al의 스퍼터링 타깃재는, 스미또모 가가꾸(住友化學) 가부시끼가이샤로부터 구입한 판재를 기계 가공하여 제작하였다. A base film having the composition shown in Table 3 was formed on a glass substrate having a size of 25 mm x 50 mm in the same manner as in Example 2. On the top surface thereof, an Al film as a main conductive film and a cap film on the upper surface thereof were respectively shown in Table 3 In the film thickness configuration, the same sputtering device as in Example 1 was used to obtain a sample of the laminated wiring film. The sputtering target material of Al was manufactured by machining a plate material purchased from Sumitomo Chemical Co., Ltd.
내산화성의 평가는, 실시예 1과 동일한 조건에서 측정하였다. 또한, 내습성의 평가는, 상기에서 얻은 각 시료를 85℃×85％의 고온 고습 분위기에 100시간, 200시간, 300시간 방치한 후의 전기 저항값의 변화를 측정하였다. 전기 저항값의 측정은, 가부시끼가이샤 다이아 인스트루먼트제의 4단자 박막 저항률 측정기 MCP-T400을 사용하여 측정하였다. The evaluation of oxidation resistance was carried out under the same conditions as in Example 1. In addition, the moisture resistance was evaluated by measuring the change in the electrical resistance after 100 hours, 200 hours, and 300 hours of each sample obtained in the high temperature and high humidity atmosphere of 85 캜 x 85%. The electrical resistance was measured using a 4-terminal thin film resistivity meter MCP-T400 manufactured by Kabushiki Kaisha Diamond Instruments.
에칭성의 평가는, 상기에서 얻은 각 시료를 간또 가가꾸 가부시끼가이샤제의 Al용 에천트에 10분간 침지하여, 기판 상에 금속 박막의 잔류가 있는지를 평가하였다. 에칭 가능하였던 시료 및 잔사는 있었지만 에칭된 시료를 ○, 에칭되지 않고 남은 시료를 ×로 하고, 그 상황을 표기하였다. 그 결과를 표 3에 나타낸다. The evaluation of the etching properties was carried out by immersing each of the samples obtained above in a cantilever for Al for 10 minutes by Kanto Chemical Co., Ltd. to evaluate whether or not the metal thin film remained on the substrate. The etched samples were marked with ○, and the remaining samples without etching were marked as ×, and the situation was indicated. The results are shown in Table 3.
표 3에 나타내는 바와 같이, 주 도전막의 Al막 단체는, 내산화성, 내습성이 높고 반사율, 저항값의 변화는 적지만, 상술한 바와 같이 반도체막인 Si와의 열 확산이나 ITO막과의 콘택트성에 과제가 있으므로, Mo와의 적층막으로 할 필요가 있다. 표 3에 나타내는 비교예로 되는 순Mo나 Mo-10원자％ Nb 및 Mo-35원자％ W의 금속 박막을 사용한 적층 배선막의 반사율은, 대기 중에서 가열하면 크게 저하되고, 내산화성이 낮은 것을 확인하였다. As shown in Table 3, although the Al film of the main conductive film has high oxidation resistance, moisture resistance, and little change in the reflectance and resistance value, as described above, thermal diffusion with Si, which is a semiconductor film, and contact with the ITO film Therefore, it is necessary to use a laminated film of Mo. It was confirmed that the reflectance of a laminated wiring film using a metal thin film of pure Mo, Mo-10 atomic% Nb and Mo-35 atomic% W as a comparative example shown in Table 3 was significantly lowered by heating in air and the oxidation resistance was low .
또한, Mo, Mo-35원자％ W, Mo-15원자％ Ni의 금속 박막을 사용한 적층 배선막은 고온 고습 분위기에 방치하면, 순Mo와 마찬가지로 100시간에서 반사율이 크게 저하되고, 전기 저항값도 증가하고, 내습성이 낮은 것을 확인하였다. 또한, Mo에 Ni가 60원자％ 함유한 합금막과 적층하면 350℃에서 가열하면 반사율의 증가는 적지만, 전기 저항값이 크게 증가하는 것도 확인하였다. When a laminated wiring film using a metal thin film of Mo, Mo-35 atomic% W and Mo-15 atomic% Ni is left in a high temperature and high humidity atmosphere, the reflectance greatly decreases in 100 hours as in the case of pure Mo, And the moisture resistance was low. Further, it was confirmed that although the increase in the reflectance was small at 350 캜 when laminated with an alloy film containing 60 atomic% of Ni in Mo, the electric resistance value was greatly increased.
이에 반해, 본 발명의 금속 박막을 사용한 적층 배선막은, 350℃의 대기 중에서 가열하거나, 고온 고습 분위기에 장시간 방치해도, 반사율의 저하도 적고, 내습성 및 내산화성이 크게 개선되는 것을 확인하였다. 또한, 본 발명의 금속 박막은, 주 도전막의 기초막이나 캡막으로서 유용한 것을 확인할 수 있었다. 그리고, 본 발명의 금속 박막은, 전기 저항값의 증가를 보다 억제하기 위해서는, Ni의 함유량을 25원자％ 이하로 하는 것이 바람직한 것을 알 수 있다. On the other hand, it was confirmed that the laminated wiring film using the metal thin film of the present invention exhibited less deterioration of the reflectance and greatly improved the moisture resistance and oxidation resistance even when heated in an atmosphere at 350 ° C or left in a high temperature and high humidity atmosphere for a long time. Further, it was confirmed that the metal thin film of the present invention is useful as a base film or a cap film of the main conductive film. It is also understood that the metal thin film of the present invention preferably has a Ni content of 25 atomic% or less in order to further suppress an increase in electric resistance value.
1 : 기판
2 : 금속 박막(기초막)
3 : 주 도전막
4 : 금속 박막(캡막) 1: substrate
2: metal thin film (base film)
3: Main conductive film
4: metal thin film (cap film)
Claims (4)
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013048907 | 2013-03-12 | ||
| JPJP-P-2013-048907 | 2013-03-12 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20140111955A KR20140111955A (en) | 2014-09-22 |
| KR101600169B1 true KR101600169B1 (en) | 2016-03-04 |
Family
ID=51500333
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020140024385A KR101600169B1 (en) | 2013-03-12 | 2014-02-28 | METAL THIN FILM FOR ELECTRONIC COMPONENT AND Mo ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR FORMING METAL THIN FILM |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6292471B2 (en) |
| KR (1) | KR101600169B1 (en) |
| CN (1) | CN104046947B (en) |
| TW (1) | TWI498440B (en) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3619334A4 (en) | 2017-05-01 | 2020-12-02 | The Johns Hopkins University | Method of depositing nanotwinned nickel-molybdenum-tungsten alloys |
| AT15574U3 (en) * | 2017-05-11 | 2018-05-15 | Plansee Se | Flexible component with layer structure with metallic layer |
| JP7419886B2 (en) * | 2019-03-20 | 2024-01-23 | 株式会社プロテリアル | Mo alloy target material and its manufacturing method |
| CN110670032B (en) * | 2019-10-29 | 2021-10-01 | 金堆城钼业股份有限公司 | Molybdenum-nickel-copper multi-element alloy sputtering target material and preparation method thereof |
| CN114892134B (en) * | 2022-05-23 | 2024-02-13 | 安泰天龙钨钼科技有限公司 | Molybdenum alloy tube target material and preparation method and application thereof |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN101922816B (en) * | 2010-07-14 | 2012-07-18 | 北京航空航天大学 | Solar selective absorbing coating and preparation method thereof |
| JP5797398B2 (en) * | 2010-12-16 | 2015-10-21 | 山陽特殊製鋼株式会社 | Ni-based alloy for magnetic recording, sputtering target material, and magnetic recording medium |
| KR20120108632A (en) * | 2011-03-25 | 2012-10-05 | 윤웅 | Nickel-tungsten-molybdenum alloy electroless plating solution and coating body using the same |
-
2014
- 2014-02-28 KR KR1020140024385A patent/KR101600169B1/en active IP Right Grant
- 2014-03-05 JP JP2014042697A patent/JP6292471B2/en active Active
- 2014-03-07 TW TW103107788A patent/TWI498440B/en active
- 2014-03-12 CN CN201410090923.0A patent/CN104046947B/en active Active
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2014199920A (en) | 2014-10-23 |
| TWI498440B (en) | 2015-09-01 |
| KR20140111955A (en) | 2014-09-22 |
| CN104046947A (en) | 2014-09-17 |
| JP6292471B2 (en) | 2018-03-14 |
| CN104046947B (en) | 2016-08-24 |
| TW201441400A (en) | 2014-11-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190201 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200205 Year of fee payment: 5 |