KR101570530B1 - Flexible Printed Circuit Board and Organic Light Emitting Display using the same - Google Patents

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KR101570530B1 KR1020080099113A KR20080099113A KR101570530B1 KR 101570530 B1 KR101570530 B1 KR 101570530B1 KR 1020080099113 A KR1020080099113 A KR 1020080099113A KR 20080099113 A KR20080099113 A KR 20080099113A KR 101570530 B1 KR101570530 B1 KR 101570530B1
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Abstract

본 발명의 실시예는, 표시패널; 표시패널의 외곽에 위치하는 패드부; 및 패드부에 부착되며 베이스필름과, 베이스필름의 일면에 위치하는 제1필름층과, 베이스필름의 타면에 위치하는 제2필름층을 포함하는 연성회로기판을 포함하며, 제1필름층은 패드부에 부착되도록 정의된 본딩부와, 본딩부와 이격된 위치에 정의된 제1몸체부와, 본딩부와 제1몸체부 사이에 정의된 제1밴딩부와, 본딩부와 제1밴딩부 사이에 정의된 제1더미부를 포함하고, 제2필름층은 본딩부와 반대되는 영역에 정의되며 본딩부의 면적보다 넓은 면적을 갖는 제2더미부와, 제1몸체부와 반대되는 영역에 정의된 제2몸체부와, 제1밴딩부와 반대되는 영역에 정의된 제2밴딩부를 포함하는 유기전계발광표시장치를 제공한다.An embodiment of the present invention is a display panel comprising: a display panel; A pad portion located on the outer periphery of the display panel; And a flexible circuit board attached to the pad portion and including a base film, a first film layer positioned on one side of the base film, and a second film layer positioned on the other side of the base film, A first body portion defined at a spaced-apart position from the bonding portion, a first bending portion defined between the bonding portion and the first body portion, and a second bending portion defined between the bonding portion and the first bending portion, Wherein the second film layer has a second dummy portion defined in a region opposite to the bonding portion and having an area wider than an area of the bonding portion and a second dummy portion defined in an area opposite to the first body portion, 2 body portion and a second bending portion defined in a region opposite to the first bending portion.

유기전계발광표시장치, 연성회로기판, 밴딩 Organic electroluminescent display, flexible circuit board, bending

Description

연성회로기판과 이를 이용한 유기전계발광표시장치{Flexible Printed Circuit Board and Organic Light Emitting Display using the same}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flexible printed circuit board and an organic light emitting display using the same,

본 발명의 실시예는 연성회로기판과 이를 이용한 유기전계발광표시장치에 관한 것이다.An embodiment of the present invention relates to a flexible circuit board and an organic light emitting display using the same.

유기전계발광표시장치에 사용되는 유기전계발광소자는 기판 상에 위치하는 두 개의 전극 사이에 발광층이 형성된 자발광소자였다.An organic electroluminescent device used in an organic electroluminescent display device is a self-luminous device in which a light emitting layer is formed between two electrodes located on a substrate.

또한, 유기전계발광표시장치는 빛이 방출되는 방향에 따라 전면발광(Top-Emission) 방식, 배면발광(Bottom-Emission) 방식 또는 양면발광(Dual-Emission) 방식 등이 있다. 그리고, 구동방식에 따라 수동매트릭스형(Passive Matrix)과 능동매트릭스형(Active Matrix) 등으로 나누어져 있다.In addition, the organic light emitting display device may include a top emission type, a bottom emission type, or a dual emission type depending on a direction in which light is emitted. It is divided into a passive matrix and an active matrix depending on the driving method.

유기전계발광표시장치는 패널 상에 매트릭스 형태로 배치된 복수의 서브 픽셀에 스캔 신호 및 데이터 신호 등이 공급되면, 선택된 서브 픽셀이 발광을 하게 됨으로써 영상을 표시할 수 있다.In an organic light emitting display, when a scan signal, a data signal, or the like is supplied to a plurality of subpixels arranged in a matrix on a panel, the selected subpixel emits light, thereby displaying an image.

스캔 신호 및 데이터 신호 등은 패널과 전기적으로 연결된 구동장치에 의해 공급된다. 구동장치는 스캔 신호를 공급하는 스캔 구동부와 데이터 신호를 공급하 는 데이터 구동부를 포함할 수 있다. 구동장치는 외부회로기판으로부터 공급된 각종 신호에 대응하여 스캔 신호와 데이터 신호를 생성하고 이를 패널에 공급할 수 있다. 패널과 외부회로기판은 연성회로기판에 의해 연결될 수 있으며, 스캔 구동부 및 데이터 구동부는 연성회로기판 또는 패널에 위치할 수 있다.The scan signal, the data signal, and the like are supplied by a drive device electrically connected to the panel. The driving device may include a scan driver for supplying a scan signal and a data driver for supplying a data signal. The driving unit can generate a scan signal and a data signal in response to various signals supplied from an external circuit board, and supply the scan signal and the data signal to the panel. The panel and the external circuit board may be connected by a flexible circuit board, and the scan driver and the data driver may be located on the flexible circuit board or the panel.

한편, 종래 유기전계발광표시장치를 제작하는 공정에서는 탭 본딩(Tape Automated Bonding; TAB) 공정을 실시하여 패널과 연성회로기판을 연결한다. 연성회로기판은 패널에 부착되어 패널의 뒷면으로 구부린다. 이 과정에서, 연성회로기판을 패널의 뒷면으로 구부릴 때 연성회로기판의 밴딩부에 크랙(crack)이 발생하거나 연성회로기판의 본딩부가 뜯기는 문제가 발생한다. 이와 같은 문제는 패널과 외부회로기판 간의 신호전달에 문제를 일으켜 패널의 점등 불량 등을 야기하므로 이의 개선이 요구된다.Meanwhile, in a conventional process for manufacturing an organic light emitting display, a TAB (Tape Automated Bonding) process is performed to connect the panel and the flexible circuit board. The flexible circuit board is attached to the panel and bent to the back side of the panel. In this process, when the flexible circuit board is bent to the rear surface of the panel, cracks are generated in the flexible circuit board's bending portion, and bonding of the flexible circuit board is broken. Such a problem poses a problem in signal transmission between the panel and the external circuit board, causing poor lighting of the panel, and thus an improvement thereof is required.

상술한 배경기술의 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 실시예는, 연성회로기판을 패널의 뒷면으로 구부릴 때 연성회로기판의 밴딩부에 크랙이 발생하거나 연성회로기판의 본딩부가 뜯기는 문제를 해결할 수 있는 연성회로기판과 이를 이용한 유기전계발광표시장치를 제공하는 것이다.In order to solve the problems of the background art described above, an embodiment of the present invention can solve the problem that a bending portion of a flexible circuit board is cracked or a bonding portion of a flexible circuit board is torn when the flexible circuit board is bent to the back surface of the panel And an organic light emitting display using the flexible circuit substrate.

상술한 과제 해결 수단으로 본 발명의 실시예는, 표시패널; 표시패널의 외곽에 위치하는 패드부; 및 패드부에 부착되며 베이스필름과, 베이스필름의 일면에 위치하는 제1필름층과, 베이스필름의 타면에 위치하는 제2필름층을 포함하는 연성회로기판을 포함하며, 제1필름층은 패드부에 부착되도록 정의된 본딩부와, 본딩부와 이격된 위치에 정의된 제1몸체부와, 본딩부와 제1몸체부 사이에 정의된 제1밴딩부와, 본딩부와 제1밴딩부 사이에 정의된 제1더미부를 포함하고, 제2필름층은 본딩부와 반대되는 영역에 정의되며 본딩부의 면적보다 넓은 면적을 갖는 제2더미부와, 제1몸체부와 반대되는 영역에 정의된 제2몸체부와, 제1밴딩부와 반대되는 영역에 정의된 제2밴딩부를 포함하는 유기전계발광표시장치를 제공한다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a display panel comprising: a display panel; A pad portion located on the outer periphery of the display panel; And a flexible circuit board attached to the pad portion and including a base film, a first film layer positioned on one side of the base film, and a second film layer positioned on the other side of the base film, A first body portion defined at a spaced-apart position from the bonding portion, a first bending portion defined between the bonding portion and the first body portion, and a second bending portion defined between the bonding portion and the first bending portion, Wherein the second film layer has a second dummy portion defined in a region opposite to the bonding portion and having an area wider than an area of the bonding portion and a second dummy portion defined in an area opposite to the first body portion, 2 body portion and a second bending portion defined in a region opposite to the first bending portion.

제2더미부의 면적은, 본딩부의 면적보다 넓고 본딩부의 면적과 제1더미부의 면적의 합과 같거나 좁을 수 있다.The area of the second dummy portion may be larger than the area of the bonding portion, and may be equal to or narrower than the sum of the area of the bonding portion and the area of the first dummy portion.

제1필름층은, 본딩부, 제1더미부 및 제1몸체부에 위치하는 제1도전층과, 제1 도전층 상에 위치하고 제1더미부와 제1몸체부에 구분되어 위치하는 제1접착층과, 제1접착층 상에 위치하는 제1보호층을 포함할 수 있다.The first film layer includes a first conductive layer positioned on the bonding portion, the first dummy portion, and the first body portion, and a second conductive layer positioned on the first conductive layer and separated from the first dummy portion and the first body portion, An adhesive layer, and a first protective layer disposed on the first adhesive layer.

제2필름층은, 제2몸체부에 위치하는 제2도전층과, 제2더미부와 제2몸체부에 구분되어 위치하는 제2접착층과, 제2접착층 상에 위치하는 제2보호층을 포함할 수 있다.The second film layer includes a second conductive layer positioned in the second body portion, a second adhesive layer separated from the second dummy portion and the second body portion, and a second protective layer positioned on the second adhesive layer, .

제1필름층은, 제1밴딩부에 형성되며 제1도전층 상에 위치하는 유기 잉크층을 포함할 수 있다.The first film layer may include an organic ink layer formed on the first bending portion and located on the first conductive layer.

한편, 다른 측면에서 본 발명의 실시예는, 베이스필름과, 베이스필름의 일면에 위치하는 제1필름층과, 베이스필름의 타면에 위치하는 제2필름층을 포함하는 연성회로기판을 포함하며, 제1필름층은 표시패널의 패드부에 부착되도록 정의된 본딩부와, 본딩부와 이격된 위치에 정의된 제1몸체부와, 본딩부와 제1몸체부 사이에 정의된 제1밴딩부와, 본딩부와 제1밴딩부 사이에 정의된 제1더미부를 포함하고, 제2필름층은 본딩부와 반대되는 영역에 정의되며 본딩부의 면적보다 넓은 면적을 갖는 제2더미부와, 제1몸체부와 반대되는 영역에 정의된 제2몸체부와, 제1밴딩부와 반대되는 영역에 정의된 제2밴딩부를 포함하는 연성회로기판을 제공한다.In another aspect, an embodiment of the present invention includes a flexible circuit board including a base film, a first film layer positioned on one side of the base film, and a second film layer positioned on the other side of the base film, The first film layer includes a bonding portion defined to be attached to the pad portion of the display panel, a first body portion defined at a position spaced apart from the bonding portion, a first banding portion defined between the bonding portion and the first body portion, And a first dummy portion defined between the bonding portion and the first bending portion, wherein the second film layer has a second dummy portion defined in a region opposite to the bonding portion and having an area wider than an area of the bonding portion, And a second bending portion defined in a region opposite to the first bending portion.

제2더미부의 면적은, 본딩부의 면적보다 넓고 본딩부의 면적과 제1더미부의 면적의 합과 같거나 좁을 수 있다.The area of the second dummy portion may be larger than the area of the bonding portion, and may be equal to or narrower than the sum of the area of the bonding portion and the area of the first dummy portion.

제1필름층은, 본딩부, 제1더미부 및 제1몸체부에 위치하는 제1도전층과, 제1도전층 상에 위치하고 제1더미부와 제1몸체부에 구분되어 위치하는 제1접착층과, 제1접착층 상에 위치하는 제1보호층을 포함할 수 있다.The first film layer includes a first conductive layer positioned on the bonding portion, the first dummy portion, and the first body portion, and a second conductive layer positioned on the first conductive layer and separated from the first dummy portion and the first body portion, An adhesive layer, and a first protective layer disposed on the first adhesive layer.

제2필름층은, 제2몸체부에 위치하는 제2도전층과, 제2더미부와 제2몸체부에 구분되어 위치하는 제2접착층과, 제2접착층 상에 위치하는 제2보호층을 포함할 수 있다.The second film layer includes a second conductive layer positioned in the second body portion, a second adhesive layer separated from the second dummy portion and the second body portion, and a second protective layer positioned on the second adhesive layer, .

제1필름층은, 제1밴딩부에 형성되며 제1도전층 상에 위치하는 유기 잉크층을 포함할 수 있다.The first film layer may include an organic ink layer formed on the first bending portion and located on the first conductive layer.

본 발명의 실시예는, 연성회로기판을 패널의 뒷면으로 구부릴 때 연성회로기판의 밴딩부에 크랙이 발생하거나 연성회로기판의 본딩부가 뜯기는 문제를 해결할 수 있는 연성회로기판과 이를 이용한 유기전계발광표시장치를 제공하는 효과가 있다.An embodiment of the present invention provides a flexible circuit board capable of solving the problem of cracking in the bending portion of the flexible circuit board or boding of the bonding portion of the flexible circuit board when the flexible circuit board is bent to the back surface of the panel, There is an effect of providing a display device.

이하, 본 발명의 실시를 위한 구체적인 내용을 첨부된 도면을 참조하여 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 유기전계발광표시장치의 측면도 이다.1 is a side view of an organic light emitting display according to an embodiment of the present invention.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 유기전계발광표시장치는 표시패널(110)과, 표시패널(110)에 구동신호를 공급하는 구동장치(160)와, 표시패널(110)의 외곽에 위치하는 패드부(165)와, 패드부(165)에 부착된 연성회로기판(170)을 포함할 수 있다.1, an organic light emitting display according to an exemplary embodiment of the present invention includes a display panel 110, a driving unit 160 for supplying a driving signal to the display panel 110, And a flexible circuit board 170 attached to the pad unit 165. The pad unit 165 may include a flexible printed circuit board (PCB)

표시패널(110)은 복수의 서브 픽셀이 매트릭스형태로 형성된 제1기판(110a)과 제1기판(110a)에 형성된 서브 픽셀을 외기로부터 보호하는 제2기판(110b)을 포함할 수 있다.The display panel 110 may include a first substrate 110a in which a plurality of sub pixels are formed in a matrix form and a second substrate 110b that protects sub pixels formed in the first substrate 110a from outside air.

구동장치(160)는 표시패널(110)에 형성된 서브 픽셀의 스캔 배선에 연결되어 스캔 신호를 공급하는 스캔 구동부와, 서브 픽셀의 데이터 배선에 연결되어 데이터 신호를 공급하는 데이터 구동부를 포함할 수 있다. 스캔 구동부와 데이터 구동부는 표시패널(110) 또는 표시패널(110) 외부에 구분되어 위치할 수도 있다.The driving device 160 may include a scan driver connected to scan lines of sub pixels formed in the display panel 110 to supply scan signals and a data driver connected to the data lines of the sub pixels to supply data signals . The scan driver and the data driver may be separately located outside the display panel 110 or the display panel 110.

패드부(165)는 표시패널(110)에 위치하는 배선들과 연결될 수 있으며, 연성회로기판(170) 등과 같은 외부회로기판과 표시패널(110)을 연결할 수 있도록 표시패널(110)의 외곽에 위치할 수 있다.The pad unit 165 may be connected to the wirings located on the display panel 110 and may be connected to an external circuit board such as the flexible circuit board 170 or the like to the outside of the display panel 110 Can be located.

연성회로기판(170)은 패드부(165)에 부착되어 외부회로기판으로부터 공급된 각종 신호를 구동장치(160) 및 표시패널(110)에 공급할 수 있도록 한다. 또한, 연성회로기판(170)에는 표시패널(110) 및 구동장치(160)에 전원을 공급하는 전원부 등이 위치할 수도 있다.The flexible circuit board 170 is attached to the pad unit 165 so that various signals supplied from the external circuit board can be supplied to the driving apparatus 160 and the display panel 110. A power supply unit for supplying power to the display panel 110 and the driving unit 160 may be disposed on the flexible circuit board 170.

이하, 표시패널(110)에 형성된 서브 픽셀의 회로 구성에 대해 설명한다.The circuit configuration of subpixels formed on the display panel 110 will be described below.

도 2는 도 1에 도시된 표시패널에 형성된 서브 픽셀의 회로 구성 예시도 이다.2 is a circuit diagram of a sub-pixel formed on the display panel shown in FIG.

도 2에 도시된 바와 같이, 서브 픽셀은 스캔 배선(Scan)에 게이트가 연결되고 데이터 배선(Data)에 일단이 연결된 스위칭 트랜지스터(SWTFT)를 포함할 수 있 다. 또한, 서브 픽셀은 스위칭 트랜지스터(SWTFT)의 타단에 게이트가 연결되고 제2전원배선(VSS)에 일단이 연결된 구동 트랜지스터(DRTFT)를 포함할 수 있다. 또한, 서브 픽셀은 구동 트랜지스터(DRTFT)의 게이트와 제2전원배선(VSS) 사이에 연결된 커패시터(CST)를 포함할 수 있다. 또한, 서브 픽셀은 제1전원배선(VDD)에 애노드가 연결되고 구동 트랜지스터(DRTFT)의 타단에 캐소드가 연결된 유기 발광다이오드(OLED)를 포함할 수 있다.As shown in FIG. 2, the sub-pixel may include a switching transistor SWTFT having a gate connected to the scan line Scan and one end connected to the data line Data. The subpixel may include a driving transistor DRTFT having a gate connected to the other end of the switching transistor SWTFT and one end connected to the second power supply line VSS. In addition, the sub-pixel may include a capacitor CST connected between the gate of the driving transistor DRTFT and the second power source line VSS. The subpixel may include an organic light emitting diode (OLED) having an anode connected to the first power supply line VDD and a cathode connected to the other end of the driving transistor DRTFT.

도 2의 회로 구성에서는 서브 픽셀이 스위칭 트랜지스터(SWTFT), 구동 트랜지스터(DRTFT), 커패시터(CST) 및 유기 발광다이오드(OLED)를 포함하는 것을 일례로 하고, 스위칭 트랜지스터(SWTFT) 및 구동 트랜지스터(DRTFT)가 N-type인 것을 일례로 하나 이에 한정되지 않는다.2, the sub-pixel includes a switching transistor SWTFT, a driving transistor DRTFT, a capacitor CST and an organic light emitting diode OLED. The switching transistor SWTFT and the driving transistor DRTFT ) Is N-type, but the present invention is not limited thereto.

여기서, 데이터 배선(Data)은 데이터 구동부에 연결되고 스캔 배선(Scan)은 스캔 구동부에 연결된다. 이에 따라, 도시된 서브 픽셀은 데이터 구동부 및 스캔 구동부로부터 데이터 신호 및 스캔 신호 등이 공급되면, 제1전원배선(VDD)에 인가된 전류가 제2전원배선(VSS)을 통해 흐르게 됨으로써 유기 발광다이오드(OLED)가 발광을 하게 되어 영상을 표현할 수 있게 된다.Here, the data line Data is connected to the data driver and the scan line Scan is connected to the scan driver. Accordingly, when a data signal, a scan signal, or the like is supplied from the data driver and the scan driver, the subpixel is supplied with the current supplied to the first power supply line VDD through the second power supply line VSS, (OLED) emits light to display an image.

이하, 서브 픽셀의 회로 구성을 기초로 형성된 서브 픽셀의 단면도에 대해 설명한다.Hereinafter, a cross-sectional view of a subpixel formed based on the circuit configuration of the subpixel will be described.

도 3은 서브 픽셀의 단면 예시도 이다.3 is a cross-sectional exemplary view of a subpixel.

도 3에 도시된 바와 같이, 제1기판(110a) 상에는 버퍼층(111)이 위치할 수 있다. 버퍼층(111)은 제1기판(110a)에서 유출되는 알칼리 이온 등과 같은 불순물로부터 후속 공정에서 형성되는 박막 트랜지스터를 보호하기 위해 형성할 수 있다. 버퍼층(111)은 실리콘 산화물(SiOx), 실리콘 질화물(SiNx) 등을 사용할 수 있다.As shown in FIG. 3, the buffer layer 111 may be positioned on the first substrate 110a. The buffer layer 111 may be formed to protect a thin film transistor formed in a subsequent process from an impurity such as alkali ions or the like, which is emitted from the first substrate 110a. The buffer layer 111 may be made of silicon oxide (SiOx), silicon nitride (SiNx), or the like.

버퍼층(111) 상에는 게이트(112)가 위치할 수 있다. 게이트(112)는 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어질 수 있다. 또한, 게이트(112)는 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어진 다중층일 수 있다. 또한, 게이트(112)는 몰리브덴/알루미늄-네오디뮴 또는 몰리브덴/알루미늄의 2중층일 수 있다.A gate 112 may be located on the buffer layer 111. The gate 112 is formed of any one selected from the group consisting of molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), neodymium (Nd), and copper Or an alloy thereof. The gate 112 may be formed of a material selected from the group consisting of Mo, Al, Cr, Au, Ti, Ni, And may be a multilayer composed of any one selected or an alloy thereof. Also, the gate 112 may be a double layer of molybdenum / aluminum-neodymium or molybdenum / aluminum.

게이트(112) 상에는 제1절연막(113)이 위치할 수 있다. 제1절연막(113)은 실리콘 산화물(SiOx), 실리콘 질화물(SiNx) 또는 이들의 다중층일 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The first insulating layer 113 may be located on the gate 112. The first insulating layer 113 may be silicon oxide (SiOx), silicon nitride (SiNx), or a multilayer thereof, but is not limited thereto.

제1절연막(113) 상에는 액티브층(114)이 위치할 수 있다. 액티브층(114)은 비정질 실리콘 또는 이를 결정화한 다결정 실리콘을 포함할 수 있다. 여기서 도시하지는 않았지만, 액티브층(114)은 채널 영역, 소오스 영역 및 드레인 영역을 포함할 수 있으며, 소오스 영역 및 드레인 영역에는 P형 또는 N형 불순물이 도핑될 수 있다. 또한, 액티브층(114)은 접촉 저항을 낮추기 위한 오믹 콘택층을 포함할 수도 있다.The active layer 114 may be located on the first insulating layer 113. The active layer 114 may comprise amorphous silicon or polycrystalline silicon crystallized therefrom. Although not shown here, the active layer 114 may include a channel region, a source region, and a drain region, and the source region and the drain region may be doped with P-type or N-type impurities. In addition, the active layer 114 may include an ohmic contact layer for lowering the contact resistance.

액티브층(114) 상에는 소오스(115a) 및 드레인(115b)이 위치할 수 있다. 소 오스(115a) 및 드레인(115b)은 단일층 또는 다중층으로 이루어질 수 있으며, 소오스(115a) 및 드레인(115b)이 단일층일 경우에는 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어질 수 있다. 또한, 소오스(115a) 및 드레인(115b)이 다중층일 경우에는 몰리브덴/알루미늄-네오디뮴의 2중층, 몰리브덴/알루미늄/몰리브덴 또는 몰리브덴/알루미늄-네오디뮴/몰리브덴의 3중층으로 이루어질 수 있다.On the active layer 114, the source 115a and the drain 115b may be positioned. The source 115a and the drain 115b may be formed of a single layer or multiple layers and may be formed of a single layer such as molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr) And may be made of any one selected from the group consisting of gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), neodymium (Nd), and copper (Cu) When the source 115a and the drain 115b are multilayered, they may be formed of a triple layer of molybdenum / aluminum-neodymium, molybdenum / aluminum / molybdenum, or molybdenum / aluminum-neodymium / molybdenum.

소오스(115a) 및 드레인(115b) 상에는 제2절연막(116a)이 위치할 수 있다. 제2절연막(116a)은 실리콘 산화물(SiOx), 실리콘 질화물(SiNx) 또는 이들의 다중층일 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The second insulating film 116a may be located on the source 115a and the drain 115b. The second insulating layer 116a may be silicon oxide (SiOx), silicon nitride (SiNx), or a multilayer thereof, but is not limited thereto.

소오스(115a) 및 드레인(115b) 중 하나는 제2절연막(116a) 상에 위치하며 소오스(115a) 및 드레인(115b) 간의 간섭을 방지하기 위한 실드(shield) 금속(118)에 연결될 수 있다.One of the source 115a and the drain 115b is located on the second insulating film 116a and may be connected to a shield metal 118 for preventing interference between the source 115a and the drain 115b.

제2절연막(116a) 상에는 평탄도를 높이기 위한 제3절연막(116b)이 위치할 수 있다. 제3절연막(116b)은 폴리이미드 등의 유기물을 포함할 수 있다.A third insulating layer 116b may be formed on the second insulating layer 116a to increase the flatness. The third insulating film 116b may include an organic material such as polyimide.

이상은 제1기판(110a) 상에 형성된 트랜지스터가 바탐 게이트형인 것을 일례로 설명하였다. 그러나, 제1기판(110a) 상에 형성되는 트랜지스터는 바탐 게이트형뿐만 아니라 탑 게이트형으로도 형성될 수 있다.In the above description, the transistor formed on the first substrate 110a is a Bam gate type transistor. However, the transistor formed on the first substrate 110a may be formed not only as a totem gate type but also as a top gate type.

트랜지스터의 제3절연막(116b) 상에는 소오스(115a) 또는 드레인(115b)에 연결된 하부전극(117)이 위치할 수 있다. 하부전극(117)은 애노드 또는 캐소드로 선 택될 수 있다. 하부전극(117)이 애노드로 선택된 경우, 애노드의 재료로는 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ITZO(Indium Tin Zinc Oxide), AZO(Zno doped Al2O3) 중 어느 하나로 형성될 수 있으나 이에 한정되지 않는다.A lower electrode 117 connected to the source 115a or the drain 115b may be positioned on the third insulating film 116b of the transistor. The lower electrode 117 can be selected as an anode or a cathode. When the lower electrode 117 is selected as the anode, the anode may be formed of any one of ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Tin Zinc Oxide), ITZO (Indium Tin Zinc Oxide), and AZO (Zno doped Al2O3) But are not limited thereto.

하부전극(117) 상에는 하부전극(117)의 일부를 노출하는 개구부를 갖는 뱅크층(119)이 위치할 수 있다. 뱅크층(119)은 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene,BCB)계 수지, 아크릴계 수지 또는 폴리이미드 수지 등의 유기물을 포함할 수 있다.On the lower electrode 117, a bank layer 119 having an opening exposing a part of the lower electrode 117 may be positioned. The bank layer 119 may include an organic material such as a benzocyclobutene (BCB) resin, an acrylic resin, or a polyimide resin.

하부전극(117) 상에는 유기 발광층(121)이 위치할 수 있다. 유기 발광층(121)은 서브 픽셀에 따라 적색, 녹색 및 청색 중 어느 하나의 색을 발광하도록 형성될 수 있다.The organic light emitting layer 121 may be positioned on the lower electrode 117. The organic light emitting layer 121 may be formed to emit light of any one of red, green, and blue depending on subpixels.

유기 발광층(121) 상에는 상부전극(122)이 위치할 수 있다. 상부전극(122)은 캐소드 또는 애노드로 선택될 수 있다. 캐소드로 선택된 경우, 캐소드의 재료로는 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(Al alloy), 알미네리윰(AlNd) 중 어느 하나로 형성될 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The upper electrode 122 may be located on the organic light emitting layer 121. The upper electrode 122 may be selected as a cathode or an anode. When the cathode is selected, the material of the cathode may be any one of aluminum (Al), aluminum alloy (Al alloy), and aluminum nitride (AlNd), but is not limited thereto.

도 3에 도시된 서브 픽셀의 단면 구조의 경우 실시예의 일례를 설명하기 위한 것일 뿐 본 발명은 이에 한정되지 않는다.The cross-sectional structure of the subpixel shown in FIG. 3 is only intended to illustrate an example of the embodiment, but the present invention is not limited thereto.

이하, 도 4를 참조하여 유기 발광층(121)을 포함하는 유기 발광다이오드(OLED)에 대해 더욱 자세히 설명한다. 다만, 하부전극(117)이 애노드로 선택되고 상부전극(122)이 캐소드로 선택된 것을 일례로 설명한다.Hereinafter, an organic light emitting diode (OLED) including the organic light emitting layer 121 will be described in more detail with reference to FIG. However, an example will be described in which the lower electrode 117 is selected as the anode and the upper electrode 122 is selected as the cathode.

도 4는 유기 발광다이오드의 계층 구조 예시도 이다.4 is a view showing an example of a hierarchical structure of an organic light emitting diode.

도 4에 도시된 바와 같이, 유기 발광다이오드가 상부발광형인 경우, 유기 발광다이오드는 하부전극(117), 정공주입층(121a), 정공수송층(121b), 발광층(121c), 전자수송층(121d), 전자주입층(121e) 및 상부전극(122)을 포함할 수 있다.4, the organic light emitting diode includes a lower electrode 117, a hole injecting layer 121a, a hole transporting layer 121b, a light emitting layer 121c, an electron transporting layer 121d, , An electron injection layer (121e), and an upper electrode (122).

정공주입층(121a)은 정공의 주입을 원활하게 하는 역할을 할 수 있으며, CuPc(cupper phthalocyanine), PEDOT(poly(3,4)-ethylenedioxythiophene), PANI(polyaniline) 및 NPD(N,N-dinaphthyl-N,N'-diphenyl benzidine)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상으로 이루어질 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The hole injection layer 121a may serve to smooth the injection of holes and may be formed of a material such as cupper phthalocyanine, PEDOT (poly (3,4) -ethylenedioxythiophene), PANI (polyaniline) and NPD (N, -N, N'-diphenyl benzidine), but the present invention is not limited thereto.

정공수송층(121b)은 정공의 수송을 원활하게 하는 역할을 하며, NPD(N,N-dinaphthyl-N,N'-diphenyl benzidine), TPD(N,N'-bis-(3-methylphenyl)-N,N'-bis-(phenyl)-benzidine), s-TAD 및 MTDATA(4,4',4"-Tris(N-3-methylphenyl-N-phenyl-amino)-triphenylamine)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상으로 이루어질 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The hole transport layer 121b plays a role of facilitating the transport of holes and includes a hole transporting material such as NPD (N, N-dinaphthyl-N, N'-diphenyl benzidine), TPD (N, N'- , N'-bis- (phenyl) -benzidine), s-TAD and MTDATA (4,4 ', 4 "-tris (N-3-methylphenyl-N-phenylamino) But is not limited thereto.

발광층(121c)은 적색, 녹색, 청색 및 백색을 발광하는 물질을 포함할 수 있으며, 인광 또는 형광물질을 이용하여 형성할 수 있다.The light emitting layer 121c may include a material that emits red, green, blue, and white light, and may be formed using phosphorescent or fluorescent materials.

발광층(121c)이 적색인 경우, CBP(carbazole biphenyl) 또는 mCP(1,3-bis(carbazol-9-yl)를 포함하는 호스트 물질을 포함하며, PIQIr(acac)(bis(1-phenylisoquinoline)acetylacetonate iridium), PQIr(acac)(bis(1-phenylquinoline)acetylacetonate iridium), PQIr(tris(1-phenylquinoline)iridium) 및 PtOEP(octaethylporphyrin platinum)로 이루어진 군 에서 선택된 어느 하나 이상을 포함하는 도펀트를 포함하는 인광물질로 이루어질 수 있고, 이와는 달리 PBD:Eu(DBM)3(Phen) 또는 Perylene을 포함하는 형광물질로 이루어질 수 있으나 이에 한정되지 않는다.When the light emitting layer 121c is red, it includes a host material including CBP (carbazole biphenyl) or mCP (1,3-bis (carbazol-9-yl)), and PIQIr (acac) (bis (1-phenylisoquinoline) acetylacetonate wherein the dopant comprises at least one selected from the group consisting of iridium, iridium, PQIr (acac) (bis (1-phenylquinoline) acetylacetonate iridium), PQIr (tris (1-phenylquinoline) iridium) and PtOEP (octaethylporphyrin platinum) Or PBD: Eu (DBM) 3 (Phen) or Perylene. However, the present invention is not limited thereto.

발광층(121c)이 녹색인 경우, CBP 또는 mCP를 포함하는 호스트 물질을 포함하며, Ir(ppy)3(fac tris(2-phenylpyridine)iridium)을 포함하는 도펀트 물질을 포함하는 인광물질로 이루어질 수 있고, 이와는 달리, Alq3(tris(8-hydroxyquinolino)aluminum)을 포함하는 형광물질로 이루어질 수 있으나 이에 한정되지 않는다.When the light emitting layer 121c is green, it may be made of a phosphorescent material including a dopant material including a host material including CBP or mCP and containing Ir (ppy) 3 (fac tris (2-phenylpyridine) iridium) Alternatively, it may be made of a fluorescent material including Alq3 (tris (8-hydroxyquinolino) aluminum), but is not limited thereto.

발광층(121c)이 청색인 경우, CBP 또는 mCP를 포함하는 호스트 물질을 포함하며, (4,6-F2ppy)2Irpic을 포함하는 도펀트 물질을 포함하는 인광물질로 이루어질 수 있다. 이와는 달리, spiro-DPVBi, spiro-6P, 디스틸벤젠(DSB), 디스트릴아릴렌(DSA), PFO계 고분자 및 PPV계 고분자로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나를 포함하는 형광물질로 이루어질 수 있으나 이에 한정되지 않는다.When the light emitting layer 121c is blue, it may include a host material including CBP or mCP, and may include a phosphorescent material including a dopant material including (4,6-F2ppy) 2Irpic. Alternatively, the fluorescent material may include any one selected from the group consisting of spiro-DPVBi, spiro-6P, distyrylbenzene (DSB), distyrylarylene (DSA), PFO polymer, and PPV polymer. It is not limited.

전자수송층(121d)은 전자의 수송을 원활하게 하는 역할을 하며, Alq3(tris(8-hydroxyquinolino)aluminum), PBD, TAZ, spiro-PBD, BAlq 및 SAlq로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상으로 이루어질 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The electron transporting layer 121d serves to smooth the transport of electrons and may be made of any one or more selected from the group consisting of Alq3 (tris (8-hydroxyquinolino) aluminum), PBD, TAZ, spiro-PBD, BAlq and SAlq But are not limited thereto.

전자주입층(121e)은 전자의 주입을 원활하게 하는 역할을 하며, Alq3(tris(8-hydroxyquinolino)aluminum), PBD, TAZ, spiro-PBD, BAlq 또는 SAlq를 사용할 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The electron injection layer 121 e may be used to facilitate the injection of electrons and may include Alq 3 (tris (8-hydroxyquinolino) aluminum), PBD, TAZ, spiro-PBD, BAlq or SAlq.

여기서, 본 발명의 실시예는 도 4에 한정되는 것은 아니며, 정공주입층(121a), 정공수송층(121b), 전자수송층(121d), 전자주입층(121e) 중 적어도 어느 하나가 생략될 수도 있다.Here, the embodiment of the present invention is not limited to FIG. 4, and at least one of the hole injection layer 121a, the hole transport layer 121b, the electron transport layer 121d, and the electron injection layer 121e may be omitted .

이하, 연성회로기판(170)에 대해 더욱 자세히 설명한다.Hereinafter, the flexible circuit board 170 will be described in more detail.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 연성회로기판의 일부 단면도 이다.5 is a partial cross-sectional view of a flexible circuit board according to an embodiment of the present invention.

도 5에 도시된 바와 같이, 연성회로기판(170)은 표시패널(110)에 형성된 패드부(165)에 부착되며 베이스필름(171)과, 베이스필름(171)의 일면에 위치하는 제1필름층(172)과, 베이스필름(171)의 타면에 위치하는 제2필름층(173)을 포함할 수 있다.5, the flexible circuit board 170 is attached to a pad portion 165 formed on a display panel 110 and includes a base film 171, a first film 171 disposed on one side of the base film 171, A layer 172 and a second film layer 173 located on the other side of the base film 171. [

제1필름층(172)은 패드부(165)에 부착되도록 정의된 본딩부(TP)와, 본딩부(TP)와 이격된 위치에 정의된 제1몸체부(FP1)와, 본딩부(TP)와 제1몸체부(FP1) 사이에 정의된 제1밴딩부(BP1)와, 본딩부(TP)와 제1밴딩부(BP1) 사이에 정의된 제1더미부(DP1)를 포함할 수 있다. 이러한 제1필름층(172)은 본딩부(TP), 제1더미부(DP1) 및 제1몸체부(FP1)에 위치하는 제1도전층(172b)과, 제1도전층(172b) 상에 위치하고 제1더미부(DP1)와 제1몸체부(FP1)에 구분되어 위치하는 제1접착층(172d)과, 제1접착층(172d) 상에 위치하는 제1보호층(172e)을 포함할 수 있다. 또한, 제1필름층(172)은 베이스필름(171)의 일면과 제1도전층(172b) 사이에 위치하는 제1금속층(172a)을 포함할 수 있다. 여기서, 제1밴딩부(BP1)에는 제1접착층(172d)과 제1보호층(172e)이 제거된 것을 일례로 한다.The first film layer 172 includes a bonding part TP defined to be attached to the pad part 165, a first body part FP1 defined at a position spaced apart from the bonding part TP, A first bending portion BP1 defined between the first body portion FP1 and the first body portion FP1 and a first dummy portion DP1 defined between the bonding portion TP and the first bending portion BP1. have. The first film layer 172 includes a bonding portion TP, a first dummy portion DP1 and a first conductive layer 172b located on the first body portion FP1 and a second conductive layer 172b on the first conductive layer 172b. A first adhesive layer 172d located on the first dummy part DP1 and the first body part FP1 and a first protective layer 172e located on the first adhesive layer 172d . The first film layer 172 may include a first metal layer 172a positioned between the first conductive layer 172b and one side of the base film 171. [ Here, the first bending portion BP1 is an example in which the first adhesive layer 172d and the first protective layer 172e are removed.

제2필름층(173)은 본딩부(TP)와 반대되는 영역에 정의되며 본딩부(TP)의 면적보다 넓은 면적을 갖는 제2더미부(DP2)와, 제1몸체부(FP1)와 반대되는 영역에 정의된 제2몸체부(FP2)와, 제1밴딩부(BP1)와 반대되는 영역에 정의된 제2밴딩부(BP2)를 포함할 수 있다. 이러한 제2필름층(173)은 제2몸체부(FP2)에 위치하는 제2도전층(173b)과, 제2더미부(DP2)와 제2몸체부(FP2)에 구분되어 위치하는 제2접착층(173d)과, 제2접착층(173d) 상에 위치하는 제2보호층(173e)을 포함할 수 있다. 또한, 제2필름층(173)은 베이스필름(171)의 타면과 제2도전층(173b) 사이에 위치하는 제2금속층(173a)을 포함할 수 있다. 여기서, 제2밴딩부(BP2)에는 제2도전층(173b), 제2접착층(173d)과 제2보호층(173e)이 제거된 것을 일례로 한다.The second film layer 173 includes a second dummy portion DP2 defined in a region opposite to the bonding portion TP and having an area larger than that of the bonding portion TP and a second dummy portion DP2 opposite to the first body portion FP1 And a second bending portion BP2 defined in a region opposite to the first bending portion BP1. The second film layer 173 includes a second conductive layer 173b disposed on the second body portion FP2 and a second conductive layer 173b disposed on the second dummy portion DP2 and the second body portion FP2, An adhesive layer 173d, and a second protective layer 173e positioned on the second adhesive layer 173d. The second film layer 173 may include a second metal layer 173a positioned between the other surface of the base film 171 and the second conductive layer 173b. Here, the second bending portion BP2 is an example in which the second conductive layer 173b, the second adhesive layer 173d, and the second passivation layer 173e are removed.

한편, 제1필름층(172)은 제1밴딩부(BP1)에 형성된 제1도전층(172b) 상에 위치하는 유기 잉크층(175)을 포함할 수 있다. 유기 잉크층(175)은 연성회로기판(170)을 구부릴 때 밴딩부(BP1, BP2)의 변형 다른 말로 설명하면, 휘는 작용에 이점을 줄 수 있다. 그리고 제1필름층(172)은 본딩부(TP)에 형성된 제1도전층(172b) 상에 위치하는 도금층(172c)을 포함할 수 있다. 도금층(172c)은 표면에 노출된 제1도전층(172b)을 보호할 수 있으며 패드부(165)와의 접착시 접착력 향상 등의 이점을 줄 수 있다.Meanwhile, the first film layer 172 may include an organic ink layer 175 positioned on the first conductive layer 172b formed on the first banding portion BP1. The organic ink layer 175 can be advantageous in bending by explaining another variation of the bending portions BP1 and BP2 when the flexible circuit board 170 is bent. And the first film layer 172 may include a plating layer 172c positioned on the first conductive layer 172b formed on the bonding portion TP. The plated layer 172c can protect the first conductive layer 172b exposed on the surface and can provide an advantage such as an improvement in adhesion strength when bonding to the pad part 165. [

앞서 설명한 연성회로기판(170)은 본딩부(TP)에 위치하는 제1도전층(172b)을 통해 표시패널(110)에 형성된 패드부(165)와 부착된다. 연성회로기판(170)과 패드부(165)는 유기전계발광표시장치를 제작하는 공정에서는 탭 본딩(Tape Automated Bonding; TAB) 공정에 의해 전기적으로 연결된다.The flexible circuit board 170 described above is attached to the pad portion 165 formed on the display panel 110 through the first conductive layer 172b located in the bonding portion TP. The flexible circuit board 170 and the pad unit 165 are electrically connected by a TAB (Tape Automated Bonding) process in the process of manufacturing the organic light emitting display device.

탭 본딩에 의해 표시패널(110)에 부착된 연성회로기판(170)은 표시패널(110)의 뒷면으로 구부려진다. 이때, 연성회로기판(170)의 구부려지는 영역은 본딩부(TP)와 인접한 영역에 위치하는 밴딩부(BP1, BP2)이다.The flexible circuit board 170 attached to the display panel 110 by the tap bonding is bent to the back surface of the display panel 110. At this time, the bent region of the flexible circuit board 170 is the bending portions BP1 and BP2 located in the region adjacent to the bonding portion TP.

도 6은 종래 연성회로기판과 본 발명의 실시예에 따른 연성회로기판을 비교하기 위한 도면이다.6 is a view for comparing a conventional flexible circuit board and a flexible circuit board according to an embodiment of the present invention.

도 6의 (a)는 표시패널(110)과 종래 연성회로기판(170)을 탭 본딩하고 표시패널(110)의 뒷면으로 구부렸을 때, 본딩부가 뜯겨지는 영역(ER1)이 나타나는 문제를 설명하기 위한 도면이다.6A illustrates a problem that an area ER1 in which the bonding portion is torn when the display panel 110 and the conventional flexible circuit board 170 are bonded to each other by tap bonding and bent to the back surface of the display panel 110 FIG.

도 6의 (b)는 표시패널(110)과 종래 연성회로기판(170)을 탭 본딩하고 표시패널(110)의 뒷면으로 구부렸을 때, 본딩부에 크랙(crack)이 발생하는 영역(ER2)이 나타나는 문제를 설명하기 위한 도면이다.6B shows a region ER2 where cracks are generated in the bonding portion when the display panel 110 and the conventional flexible circuit board 170 are tap-bonded and bent to the back surface of the display panel 110, Fig. 2 is a diagram for explaining a problem in which the above-

도 6의 (c)는 표시패널(110)과 본 발명의 실시예에 따른 연성회로기판(170)을 탭 본딩하고 표시패널(110)의 뒷면으로 구부렸을 때, 도 6의 (a) 또는 (b)와 같은 문제가 나타나지 않음을 설명하기 위한 도면이다.6 (c) is a cross-sectional view of the flexible printed circuit board 170 according to the embodiment of the present invention when the display panel 110 and the flexible circuit board 170 according to the embodiment of the present invention are bent and bent to the back surface of the display panel 110, b) is not shown in FIG.

본 발명의 실시예에 따른 연성회로기판(170)이 도 6의 (a) 또는 (b)와 같은 문제가 발생하지 않는 이유는 본딩부(TP)의 면적보다 이와 반대되는 영역에 위치하는 제2더미부(DP2)의 면적이 넓게 형성되어 있기 때문이다. 연성회로기판(170)을 표시패널(110)의 뒷면으로 구부릴 때, 받는 힘은 밴딩부(BP1, BP2)에만 작용하지 않고 이와 인접하는 영역에 모두 작용한다. 여기서, 본딩부(TP)의 면적보다 넓은 면적을 갖는 제2더미부(DP2)는 밴딩부(BP1, BP2)와 인접하는 영역에 작용한 힘을 분산, 흡수 또는 완충시켜 주는 역할을 할 수 있다. 이로 인해, 탭 본딩 후 연성회로기판(170)을 표시패널(110)의 뒷면으로 구부려도 도 6의 (a) 또는 (b)와 같은 문제가 발생하지 않으므로, 패널과 외부회로기판 간의 신호전달에 의한 패널의 점등 불량 등과 같은 문제는 해소된다.The reason why the flexible circuit board 170 according to the embodiment of the present invention does not cause the problem as shown in FIG. 6 (a) or 6 (b) is that the second This is because the area of the dummy portion DP2 is wide. When the flexible circuit board 170 is bent to the back surface of the display panel 110, the receiving force does not act on the bending portions BP1 and BP2 but acts on both of the bending portions BP1 and BP2. Here, the second dummy portion DP2 having an area larger than that of the bonding portion TP may serve to disperse, absorb, or buffer the force acting on the region adjacent to the banding portions BP1 and BP2 . 6 (a) or 6 (b) does not occur even if the flexible circuit board 170 is bent to the back surface of the display panel 110 after the tap bonding, the signal transmission between the panel and the external circuit board The problems such as the lighting failure of the panel caused by the panel are solved.

도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 연성회로기판의 일부 단면도 이다.7 is a partial cross-sectional view of a flexible circuit board according to another embodiment of the present invention.

도 7에 도시된 연성회로기판(170)은 도 5를 참조하여 설명한 것과 유사하다. 여기서, 제2필름층(173)에 포함된 제2더미부(DP2)의 면적을 본딩부(TP)의 면적과 제1더미부(DP1)의 면적의 합과 같은 면적을 차지하도록 형성한 것이다. 다만, 연성회로기판(170)의 제2필름층(173)에 포함된 제2더미부(DP2)의 면적은 본딩부(TP)의 면적보다 넓되 본딩부(TP)의 면적과 제1더미부(DP1)의 면적의 합과 같거나 좁게 형성할 수 있다. 그러나, 경우에 따라서 제2더미부(DP2)의 면적은 제2밴딩부(BP2) 영역을 포함하도록 형성할 수도 있다.The flexible circuit board 170 shown in Fig. 7 is similar to that described with reference to Fig. The area of the second dummy portion DP2 included in the second film layer 173 is formed to occupy the same area as the sum of the area of the bonding portion TP and the area of the first dummy portion DP1 . The area of the second dummy portion DP2 included in the second film layer 173 of the flexible circuit board 170 is wider than the area of the bonding portion TP and the area of the bonding portion TP is larger than the area of the bonding portion TP, (DP1) of the light-emitting layer. However, in some cases, the area of the second dummy portion DP2 may be formed to include the second bending portion BP2 region.

이상 본 발명의 실시예는 연성회로기판을 패널의 뒷면으로 구부릴 때 연성회로기판의 밴딩부에 크랙이 발생하거나 연성회로기판의 본딩부가 뜯기는 문제를 해결할 수 있는 연성회로기판과 이를 이용한 유기전계발광표시장치를 제공하는 효과가 있다. 이에 따라, 패널과 외부회로기판 간의 신호전달에 의한 패널의 점등 불량 등과 같은 문제는 해소된다.As described above, according to the embodiment of the present invention, there is provided a flexible circuit board capable of solving the problem of cracking in the bending portion of the flexible circuit board or boding of the bonding portion of the flexible circuit board when the flexible circuit board is bent to the rear surface of the panel, There is an effect of providing a display device. As a result, problems such as lighting failure of the panel due to signal transmission between the panel and the external circuit board are solved.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 상술한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 한다. 아울러, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어진다. 또한, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It will be understood that the invention may be practiced. It is therefore to be understood that the embodiments described above are to be considered in all respects only as illustrative and not restrictive. In addition, the scope of the present invention is indicated by the following claims rather than the detailed description. Also, all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included within the scope of the present invention.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 유기전계발광표시장치의 측면도.1 is a side view of an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention;

도 2는 도 1에 도시된 표시패널에 형성된 서브 픽셀의 회로 구성 예시도.FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a circuit configuration of a subpixel formed in the display panel shown in FIG. 1; FIG.

도 3은 서브 픽셀의 단면 예시도.3 is a cross-sectional exemplary view of a subpixel.

도 4는 유기 발광다이오드의 계층 구조 예시도.Fig. 4 is an example of a hierarchical structure of an organic light emitting diode. Fig.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 연성회로기판의 일부 단면도.5 is a partial cross-sectional view of a flexible circuit board according to an embodiment of the present invention.

도 6은 종래 연성회로기판과 본 발명의 실시예에 따른 연성회로기판을 비교하기 위한 도면.6 is a view for comparing a conventional flexible circuit board and a flexible circuit board according to an embodiment of the present invention.

도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 연성회로기판의 일부 단면도.7 is a partial cross-sectional view of a flexible circuit board according to another embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 관한 부호의 설명>DESCRIPTION OF THE REFERENCE NUMERALS

110: 표시패널 160: 구동장치110: display panel 160: driving device

165: 패드부 170: 연성회로기판165: pad part 170: flexible circuit board

171: 베이스필름 172: 제1필름층171: base film 172: first film layer

173: 제2필름층 TP: 본딩부173: second film layer TP: bonding part

DP1: 제1더미부 DP2: 제2더미부DP1: first dummy portion DP2: second dummy portion

BP1: 제1밴딩부 BP2: 제2밴딩부BP1: first bending part BP2: second bending part

FP1: 제1몸체부 FP2: 제2몸체부FP1: first body part FP2: second body part

Claims (10)

표시패널;Display panel; 상기 표시패널의 외곽에 위치하는 패드부; 및A pad portion located at an outer periphery of the display panel; And 상기 패드부에 부착되며 베이스필름과, 상기 베이스필름의 일면에 위치하는 제1필름층과, 상기 베이스필름의 타면에 위치하는 제2필름층을 포함하는 연성회로기판을 포함하며,And a flexible circuit board attached to the pad portion and including a base film, a first film layer positioned on one side of the base film, and a second film layer positioned on the other side of the base film, 상기 제1필름층은 상기 패드부에 부착되도록 정의된 본딩부와, 상기 본딩부와 이격된 위치에 정의된 제1몸체부와, 상기 본딩부와 상기 제1몸체부 사이에 정의된 제1밴딩부와, 상기 본딩부와 상기 제1밴딩부 사이에 정의된 제1더미부를 포함하고,Wherein the first film layer includes a bonding portion defined to be attached to the pad portion, a first body portion defined at a position spaced apart from the bonding portion, and a second band portion defined between the bonding portion and the first body portion, And a first dummy portion defined between the bonding portion and the first bending portion, 상기 제2필름층은 상기 본딩부와 반대되는 영역에 정의되며 상기 본딩부의 면적보다 넓은 면적을 갖는 제2더미부와, 상기 제1몸체부와 반대되는 영역에 정의된 제2몸체부와, 상기 제1밴딩부와 반대되는 영역에 정의된 제2밴딩부를 포함하는 유기전계발광표시장치.Wherein the second film layer is defined in a region opposite to the bonding portion and has a larger area than an area of the bonding portion, a second body portion defined in a region opposite to the first body portion, And a second bending portion defined in a region opposite to the first bending portion. 제1항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제2더미부의 면적은,The area of the second dummy portion 상기 본딩부의 면적보다 넓고 상기 본딩부의 면적과 상기 제1더미부의 면적의 합과 같거나 좁은 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치.Wherein the first dummy area is wider than an area of the bonding part and is equal to or smaller than a sum of an area of the bonding part and an area of the first dummy part. 제1항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제1필름층은,Wherein the first film layer comprises: 상기 본딩부, 상기 제1더미부 및 상기 제1몸체부에 위치하는 제1도전층과, 상기 제1도전층 상에 위치하고 상기 제1더미부와 상기 제1몸체부에 구분되어 위치하는 제1접착층과, 상기 제1접착층 상에 위치하는 제1보호층을 포함하는 유기전계발광표시장치.A first conductive layer positioned on the bonding portion, the first dummy portion, and the first body portion; and a second conductive layer disposed on the first conductive layer and separated from the first dummy portion and the first body portion, An adhesive layer, and a first protective layer disposed on the first adhesive layer. 제1항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제2필름층은,Wherein the second film layer comprises: 상기 제2몸체부에 위치하는 제2도전층과, 상기 제2더미부와 상기 제2몸체부에 구분되어 위치하는 제2접착층과, 상기 제2접착층 상에 위치하는 제2보호층을 포함하는 유기전계발광표시장치.A second adhesive layer positioned on the second dummy portion and the second body portion and a second protective layer disposed on the second adhesive layer; Organic electroluminescence display device. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 제1필름층은,Wherein the first film layer comprises: 상기 제1밴딩부에 형성되며 상기 제1도전층 상에 위치하는 유기 잉크층을 포함하는 유기전계발광표시장치.And an organic ink layer formed on the first bending portion and positioned on the first conductive layer. 베이스필름과, 상기 베이스필름의 일면에 위치하는 제1필름층과, 상기 베이스필름의 타면에 위치하는 제2필름층을 포함하는 연성회로기판을 포함하며,A flexible circuit board comprising: a base film; a first film layer located on one side of the base film; and a second film layer located on the other side of the base film, 상기 제1필름층은 표시패널의 패드부에 부착되도록 정의된 본딩부와, 상기 본딩부와 이격된 위치에 정의된 제1몸체부와, 상기 본딩부와 상기 제1몸체부 사이에 정의된 제1밴딩부와, 상기 본딩부와 상기 제1밴딩부 사이에 정의된 제1더미부를 포함하고,Wherein the first film layer includes a bonding portion defined to be attached to a pad portion of a display panel, a first body portion defined at a position spaced apart from the bonding portion, and a second body portion defined between the bonding portion and the first body portion A first bending portion and a first dummy portion defined between the bonding portion and the first bending portion, 상기 제2필름층은 상기 본딩부와 반대되는 영역에 정의되며 상기 본딩부의 면적보다 넓은 면적을 갖는 제2더미부와, 상기 제1몸체부와 반대되는 영역에 정의된 제2몸체부와, 상기 제1밴딩부와 반대되는 영역에 정의된 제2밴딩부를 포함하는 연성회로기판.Wherein the second film layer is defined in a region opposite to the bonding portion and has a larger area than an area of the bonding portion, a second body portion defined in a region opposite to the first body portion, And a second bending portion defined in an area opposite to the first bending portion. 제6항에 있어서,The method according to claim 6, 상기 제2더미부의 면적은,The area of the second dummy portion 상기 본딩부의 면적보다 넓고 상기 본딩부의 면적과 상기 제1더미부의 면적의 합과 같거나 좁은 것을 특징으로 하는 연성회로기판.Wherein the first dummy portion is wider than an area of the bonding portion and is equal to or narrower than a sum of an area of the bonding portion and an area of the first dummy portion. 제6항에 있어서,The method according to claim 6, 상기 제1필름층은,Wherein the first film layer comprises: 상기 본딩부, 상기 제1더미부 및 상기 제1몸체부에 위치하는 제1도전층과, 상기 제1도전층 상에 위치하고 상기 제1더미부와 상기 제1몸체부에 구분되어 위치하는 제1접착층과, 상기 제1접착층 상에 위치하는 제1보호층을 포함하는 연성회로 기판.A first conductive layer positioned on the bonding portion, the first dummy portion, and the first body portion; and a second conductive layer disposed on the first conductive layer and separated from the first dummy portion and the first body portion, An adhesive layer; and a first protective layer disposed on the first adhesive layer. 제6항에 있어서,The method according to claim 6, 상기 제2필름층은,Wherein the second film layer comprises: 상기 제2몸체부에 위치하는 제2도전층과, 상기 제2더미부와 상기 제2몸체부에 구분되어 위치하는 제2접착층과, 상기 제2접착층 상에 위치하는 제2보호층을 포함하는 연성회로기판.A second adhesive layer positioned on the second dummy portion and the second body portion and a second protective layer disposed on the second adhesive layer; Flexible circuit board. 제8항에 있어서,9. The method of claim 8, 상기 제1필름층은,Wherein the first film layer comprises: 상기 제1밴딩부에 형성되며 상기 제1도전층 상에 위치하는 유기 잉크층을 포함하는 연성회로기판.And an organic ink layer formed on the first bending portion and positioned on the first conductive layer.
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