KR101540047B1 - Apparatus and method for attaching substrates - Google Patents

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Abstract

본 발명은 OLED가 형성된 기판과, OLED를 보호하기 위해 기판에 안착된 보호 필름에 대한 합착공정을 복수로 진행할 수 있는 기판 합착 장치 및 기판 합착 방법을 제공하기 위하여,OLED가 형성된 제 1기판 및 상기 제 1기판에 안착된 제 1보호 필름을 갖는 복수 개의 제 1공정기판과 상기 복수 개의 제 1공정기판 사이에 배치되는 제 1열 전달부가 복수로 적층되어 반입되는 챔버 및 상기 챔버 내부에 배치되며 상기 복수 개의 제 1공정기판과, 상기 복수 개의 제 1공정기판 사이에 각각 배치되는 복수 개의 상기 제 1열 전달부가 안착되는 제 1히팅 플레이트 및 상기 챔버 내부에서 상기 제 1히팅 플레이트에 마주하도록 배치되는 가압 플레이트 및 상기 제 1히팅 플레이트를 상기 가압 플레이트로 이송시켜, 상기 제 1기판들과 상기 제 1보호 필름들이 열 합착되도록 이송부를 포함를 포함한다. 이에, OLED가 지지된 기판과, OLED를 보호하기 위해 기판에 안착된 보호 필름에 대한 합착공정을 복수로 진행할 수 있어 디스플레이 장치의 생산성이 향상되는 효과가 있다.In order to provide a substrate adhering apparatus and a substrate adhering method capable of performing a plurality of adhesion processes on a substrate on which an OLED is formed and a protective film placed on the substrate to protect the OLED, A plurality of first process substrates having a first protective film seated on a first substrate, a chamber in which a plurality of first heat transfer units disposed between the plurality of first process substrates are stacked and carried, A first heating plate on which a plurality of first heat transfer parts are respectively disposed, the first heat transfer plate being disposed between the plurality of first process substrates, and a second heating plate disposed on the first heating plate, The plate and the first heating plate are transferred to the pressing plate so that the first substrates and the first protective films are thermally adhered to each other And a conveying portion. Accordingly, a plurality of adhesion processes can be performed on the substrate on which the OLED is supported and the protective film on the substrate to protect the OLED, thereby improving the productivity of the display device.

Figure R1020130166040
Figure R1020130166040

Description

기판 합착 장치 및 기판 합착 방법{APPARATUS AND METHOD FOR ATTACHING SUBSTRATES}[0001] APPARATUS AND METHOD FOR ATTACHING SUBSTRATES [0002]

본 발명은 기판 합착 장치 및 기판 합착 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 OLED가 형성된 기판과, OLED를 보호하기 위한 보호기판을 합착하는 기판 합착 장치 및 기판 합착 방법에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a substrate adhering apparatus and a substrate adhering method, and more particularly, to a substrate adhering apparatus and a substrate adhering method for adhering a substrate on which an OLED is formed and a protective substrate for protecting the OLED.

스마트 폰, 스마트 패드와 같은 모바일 기기에는 간편한 입력장치가 탑재된 이른바 터치패널 디스플레이 장치가 사용되고 있다. 이러한, 터치패널 디스플레이 장치는 인-셀(In-Cell) 타입과 온-셀(On-Cell) 타입으로 구분될 수 있다.A so-called touch panel display device in which a simple input device is mounted is used for a mobile device such as a smart phone or a smart pad. Such a touch panel display device can be classified into an in-cell type and an on-cell type.

여기서, 인-셀 타입은 셀 자체에 터치 기능이 탑재된 셀을 기판 사이에 결합하는 방식으로 제조되며, 온-셀 방식은 상, 하부 기판의 사이에 셀을 결합한 후 상부 기판 위에 별도의 터치 패널을 결합하는 방식으로 제조된다. Here, the in-cell type is manufactured by bonding a cell having a touch function to the cell itself between the substrates. In the on-cell type, a cell is coupled between the upper and lower substrates, . ≪ / RTI >

이러한, 인-셀 타입 또는 온-셀 타입의 터치패널 디스플레이 장치의 셀들은 얇고 무게가 가벼우며 구조 및 제조공정이 단순하고, 소비전력이 절약되는 장점을 가지고 있는 OLED(Organic Light Emitting Diodes)로 이루어질 수 있다.Cells of the in-cell type or on-cell type touch panel display device are made of OLED (Organic Light Emitting Diodes) which are thin, light in weight, simple in structure and manufacturing process, .

특히, 종래의 디스플레이 장치에 비해 활용도가 높은 플렉시블 디스플레이 장치에 대한 관심이 높아지면서 OLED를 사용한 플렉시블 디스플레이 장치에 대한 활발한 개발이 진행되고 있고 있다. 이러한 플렉시블 디스플레이 장치의 제조방법에 대해서는 이미 "대한민국 공개특허공보 제 2011-0065777호(플렉시블 유기발광다이오드 표시장치와 그 제조방법, 2011.06.16)" 에 개시된 바 있다.Particularly, interest in a flexible display device having higher utility than that of a conventional display device is increasing, and active development of a flexible display device using an OLED is progressing. A manufacturing method of such a flexible display device has already been disclosed in Korean Patent Laid-Open Publication No. 2011-0065777 (flexible organic light emitting diode display device and manufacturing method thereof, June 16, 2011).

상기 공개특허에서는 플렉시블 기판과 유기발광다이오드 등으로 이루어지는 플렉시블 유기발광다이오드 표시장치를 구현하기 위해, OLED 상에 레진 물질을 도포한 후 레진 물질이 경화됨에 따라 OLED가 보호되도록 할 수 있다. In order to realize a flexible organic light emitting diode display device including a flexible substrate and an organic light emitting diode, the OLED may be protected after the resin material is cured after applying the resin material on the OLED.

이와 같이, 상기 공개특허를 포함한 종래 기술에서는 OLED를 보호하기 위해 OLED 상에 상기 레진 물질을 경화하거나 보호 기판을 합착한다. 그러나 레진 물질의 경화 또는 보호 기판의 합착에 따른 공정 시간 지연으로 터치패널 디스플레이 장치의 생산성이 저하되는 문제점이 있다. Thus, in the prior art including the aforementioned patents, the resin material is cured on the OLED or the protective substrate is cemented to protect the OLED. However, there is a problem that the productivity of the touch panel display device is lowered due to the hardening of the resin material or the delay of the process time due to the adhesion of the protective substrate.

"대한민국 공개특허공보 제 2011-0065777호(플렉시블 유기발광다이오드 표시장치와 그 제조방법, 2011.06.16)"Korean Patent Laid-Open Publication No. 2011-0065777 (Flexible organic light emitting diode display device and manufacturing method thereof, June 16, 2011)

본 발명의 목적은 OLED가 형성된 기판과, OLED를 보호하기 위해 기판에 안착된 보호 필름에 대한 합착공정을 복수로 진행할 수 있는 기판 합착 장치 및 기판 합착 방법을 제공하기 위한 것이다.
It is an object of the present invention to provide a substrate adhering apparatus and a substrate adhering method capable of performing a plurality of adhering processes for a substrate on which an OLED is formed and a protective film adhered to the substrate for protecting the OLED.

본 발명에 따른 기판 합착 장치는 OLED가 형성된 제 1기판 및 상기 제 1기판에 안착된 제 1보호 필름을 갖는 복수 개의 제 1공정기판과 상기 복수 개의 제 1공정기판 사이에 배치되는 제 1열 전달부가 복수로 적층되어 반입되는 챔버 및 상기 챔버 내부에 배치되며 상기 복수 개의 제 1공정기판과, 상기 복수 개의 제 1공정기판 사이에 각각 배치되는 복수 개의 상기 제 1열 전달부가 안착되는 제 1히팅 플레이트 및 상기 챔버 내부에서 상기 제 1히팅 플레이트에 마주하도록 배치되는 가압 플레이트 및 상기 제 1히팅 플레이트를 상기 가압 플레이트로 이송시켜, 상기 제 1기판들과 상기 제 1보호 필름들이 열 합착되도록 이송부를 포함한다.A substrate coalescing apparatus according to the present invention includes a plurality of first process substrates having a first substrate on which an OLED is formed and a first protective film seated on the first substrate, A plurality of first process substrates and a plurality of first heat transfer units disposed between the plurality of first process substrates, the first heat transfer plates being disposed inside the chamber, And a transfer plate disposed inside the chamber so as to face the first heating plate and transferring the first heating plate to the pressure plate so that the first substrates and the first protective films are thermally adhered to each other .

상기 제 1히팅 플레이트가 상기 가압 플레이트를 향해 이송됨에 따라, 상기 가압 플레이트는 상기 복수 개의 제 1공정기판과 상기 복수 개의 제 1열 전달부를 히팅할 수 있다.As the first heating plate is transported toward the presser plate, the presser plate may heat the plurality of first process substrates and the plurality of first heat transfer parts.

상기 기판 합착 장치는 상기 제 1히팅 플레이트와 가압 플레이트 사이에 배치되고, OLED가 지지된 제 2기판 및 상기 제 2기판에 안착된 제 2보호 필름을 갖는 복수 개의 제 2공정기판과 상기 복수 개의 제 2공정기판 사이에 배치되는 제 2열 전달부가 복수로 적층되어 안착되는 제 2히팅 플레이트를 더 포함할 수 있다.Wherein the substrate cementing apparatus comprises a plurality of second processing substrates disposed between the first heating plate and the pressing plate and having a second substrate on which the OLED is supported and a second protective film seated on the second substrate, And a second heating plate on which a plurality of second heat transfer parts disposed between the two process substrates are stacked and seated.

상기 제 1히팅 플레이트가 상기 가압 플레이트를 향해 이송됨에 따라, 상기 제 2히팅 플레이트는 제 1히팅 플레이트와 함께 상기 가압 플레이트를 향해 이송되며 상기 제 2기판들과 제 2보호 필름들이 상기 가압 플레이트와 상기 제 2히팅 플레이트 사이에서 열 가압되도록 할 수 있다.As the first heating plate is transported toward the pressure plate, the second heating plate is transported toward the pressure plate together with the first heating plate, and the second substrates and the second protective films are transported toward the pressure plate, So as to be thermally pressed between the second heating plates.

상기 기판 합착 장치는 상기 챔버 내측의 테두리 영역에 배치되며, 상기 제 1 및 제 2히팅 플레이트의 이송을 가이드하는 가이드축 및 상기 제 1이송 플레이트와 상기 제 2이송 플레이트 사이에서 배치되어 상기 제 2히팅 플레이트가 상기 제 1히팅 플레이트를 향해 이송되는 것을 방지하는 스톱퍼를 더 포함할 수 있다. Wherein the substrate cohesion apparatus is disposed in a frame region inside the chamber and includes a guide shaft for guiding the conveyance of the first and second heating plates and a guide shaft disposed between the first conveyance plate and the second conveyance plate, And a stopper for preventing the plate from being transported toward the first heating plate.

상기 기판 합착 장치는 상기 챔버에 연결되어 상기 챔버 내부로 불활성 가스를 공급하는 가스 공급부를 더 포함할 수 있다.The substrate adhering apparatus may further include a gas supply unit connected to the chamber and supplying an inert gas into the chamber.

상기 기판 합착 장치는 상기 챔버의 일측방에 배치되는 이송로봇을 더 포함하고, 상기 복수 개의 제 1공정기판과 상기 제 1열 전달부는 사전에 순차적으로 적층되어 상기 이송로봇을 통해 상기 챔버 내부로 반입될 수 있다.Wherein the plurality of first process substrates and the first heat transfer unit are sequentially stacked in advance, and the substrates are transferred into the chamber through the transfer robot, .

한편, 본 발명에 따른 기판 합착 방법은 (a) OLED가 형성된 제 1기판 및 상기 제 1기판에 안착된 1보호 필름을 갖는 복수 개의 제 1공정기판과 상기 복수 개의 제 1공정기판 사이에 배치되는 제 1열 전달부가 복수로 적층되는 단계 및 (b) 상기 복수 개의 제 1공정기판과, 상기 복수 개의 제 1공정기판 사이에 각각 배치되는 복수 개의 상기 제 1열 전달부가 챔버 내부로 반입되어 제 1히팅 플레이트에 안착되는 단계 및 (c) 상기 제 1히팅 플레이트가 마주하고 있는 가입 플레이트를 향해 이송되며, 상기 제 1기판과 상기 제 1 보호 필름이 열 가압되는 단계를 포함한다.(A) a plurality of first process substrates having a first substrate on which an OLED is formed and one protective film seated on the first substrate, and a plurality of second process substrates disposed between the plurality of first process substrates (B) a plurality of the first process substrates and a plurality of the first heat transfer units respectively disposed between the plurality of first process substrates are carried into the chamber, And (c) being transported toward the subscription plate facing the first heating plate, wherein the first substrate and the first protective film are thermally pressed.

상기 (c)단계는 상기 제 1히팅 플레이트가 상기 가압 플레이트를 향해 이송됨에 따라, 상기 가압 플레이트가 상기 복수 개의 제 1공정기판과 상기 복수 개의 제 1열 전달부들을 히팅할 수 있다.In the step (c), the pressing plate may heat the plurality of first process substrates and the plurality of first heat transfer parts as the first heating plate is transferred toward the pressing plate.

상기 기판 합착 방법에서는 상기 제 1히팅 플레이트와 상기 가압 플레이트 사이에 배치되는 제 2히팅 플레이트를 더 포함하고, 상기 (b)단계는 OLED가 지지된 제 2기판 및 상기 제 2기판에 안착된 제 2보호 필름을 갖는 복수 개의 제 2공정기판과 상기 복수 개의 제 2공정기판 사이에 배치되는 제 2열 전달부가 복수로 적층되어 상기 제 2히팅 플레이트에 안착되는 단계를 포함할 수 있다.The method according to any one of claims 1 to 3, further comprising a second heating plate disposed between the first heating plate and the pressing plate, wherein the step (b) includes a second substrate on which the OLED is supported, A plurality of second process substrates having a protective film and a plurality of second heat transfer units disposed between the plurality of second process substrates and stacked on the second heating plate.

상기 (c)단계는 상기 제 1히팅 플레이트가 상기 가압 플레이트를 향해 이송됨에 따라, 상기 제 2히팅 플레이트가 상기 제 1히팅 플레이트와 함께 상기 가압 플레이트를 향해 이송되며 상기 제 2기판들과 상기 제 2보호 필름들이 열 가압되도록 할 수 있다.Wherein the step (c) is performed such that as the first heating plate is transported toward the pressure plate, the second heating plate is transported toward the pressure plate together with the first heating plate, and the second substrates and the second The protective films can be thermally pressed.

상기 챔버 내부로 불활성 가스가 공급되는 단계를 더 포함할 수 있다.
And supplying an inert gas into the chamber.

본 발명에 따른 기판 합착 장치 및 기판 합착 방법은 OLED가 지지된 기판과, OLED를 보호하기 위해 기판에 안착된 보호 필름에 대한 합착공정을 복수로 진행할 수 있어 디스플레이 장치의 생산성이 향상되는 효과가 있다.The substrate adhering apparatus and the substrate adhering method according to the present invention can improve the productivity of a display device because a plurality of adhering processes can be performed on the substrate on which the OLED is supported and the protective film seated on the substrate to protect the OLED .

이상과 같은 본 발명의 기술적 효과는 이상에서 언급한 효과로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 효과들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
The technical effects of the present invention are not limited to the effects mentioned above, and other technical effects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

도 1은 본 실시예에 따른 공정기판 및 열전달부의 적층 구조를 나타낸 사시도이고,
도 2는 본 실시예에 따른 기판 합착 장치를 나타낸 단면도이고,
도 3은 본 실시예에 따른 기판 합착 방법을 나타낸 블록도이고,
도 4 내지 도 7은 본 실시예에 따른 기판 합착 장치의 작동을 나타낸 단면도이다.
1 is a perspective view showing a laminated structure of a process substrate and a heat transfer part according to the present embodiment,
FIG. 2 is a cross-sectional view of the substrate sticking apparatus according to the present embodiment,
3 is a block diagram showing a method of attaching a substrate according to the present embodiment,
Figs. 4 to 7 are sectional views showing the operation of the substrate adhering apparatus according to the present embodiment.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나 본 실시예는 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도면에서의 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 위하여 과장되게 표현된 부분이 있을 수 있으며, 도면 상에서 동일 부호로 표시된 요소는 동일 요소를 의미한다.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, it should be understood that the present invention is not limited to the disclosed embodiments, but may be implemented in various forms, and the present embodiments are not intended to be exhaustive or to limit the scope of the invention to those skilled in the art. It is provided to let you know completely. The shape and the like of the elements in the drawings may be exaggerated for clarity, and the same reference numerals denote the same elements in the drawings.

도 1은 본 실시예에 따른 공정기판 및 열전달부의 적층 구조를 나타낸 사시도이다.1 is a perspective view showing a laminated structure of a process substrate and a heat transfer part according to the present embodiment.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 기판 합착 장치(이하, 합착장치라 칭한다.)를 설명하기에 앞서, 공정기판(S3) 및 열 전달부(10)에 대하여 설명하도록 한다. 1, the process substrate S3 and the heat transfer unit 10 will be described before describing the substrate adhering apparatus (hereinafter, referred to as a adhering apparatus) according to the present embodiment.

먼저, 공정기판(SS)은 기판(S1)과 보호 필름(S2)으로 이루어질 수 있다. 여기서, 기판(S1)은 플렉시블(Flexible) 기판으로 마련될 수 있으며, 일면에 인-셀(In-Cell) 타입의 터치셀을 포함하고 있는 OLED(Organic Light Emitting Diodes)가 증착된 상태일 수 있다. 그리고 보호 필름(S2)은 기판(S1)의 OLED를 보호하기 위한 것으로, 기판(S1)의 OLED가 형성된 일면에 안착된 상태일 수 있다. First, the process substrate SS may be composed of the substrate S1 and the protective film S2. Here, the substrate S1 may be a flexible substrate, or an OLED (Organic Light Emitting Diode) including an in-cell type touch cell may be deposited on one side . The protective film S2 is for protecting the OLED of the substrate S1 and may be in a state of being mounted on one surface of the substrate S1 on which the OLED is formed.

또한 본 실시예서의 기판(S1)과 보호필름(S2)은 이송 편의를 위하여 이송기판(미도시)에 각각 지지된 상태일 수 있다. 예를 들어, 기판(S1)은 이송기판의 상부면에 안착되어 지지된 상태이고, 보호필름(S2)은 이송기판의 하부면에 지지된 상태로 기판(S1)의 상부면에 안착될 수 있다. 이러한 이송기판은 기판(S1)과 보호 필름(S2)에 대한 합착 공정이 완료된 후 기판(S1)과 보호필름(S2)으로부터 각각 분리될 수 있다. In addition, the substrate S1 and the protective film S2 of the present embodiment may be respectively supported on a transfer substrate (not shown) for transfer convenience. For example, the substrate S1 may be seated on the upper surface of the transfer substrate, and the protective film S2 may be seated on the upper surface of the substrate S1 while being supported by the lower surface of the transfer substrate . Such a transfer substrate may be separated from the substrate S1 and the protective film S2 after the laminating process for the substrate S1 and the protective film S2 is completed.

그리고 기판(S1)과 보호 필름(S2) 사이에는 기판(S1)과 보호 필름(S2)의 합착을 위한 레진이 도포된 상태일 수 있다.The substrate S1 and the protective film S2 may be coated with a resin between the substrate S1 and the protective film S2.

다만, 본 실시예서의 합착장치는 기판(S1) 및 보호 필름(S2)에 대한 합착 공정을 복수로 진행하기 위한 것으로, 공정기판(S3)이 복수 개로 마련되어 사전에 적층될 수 있다. However, the laminating apparatus of the present embodiment is for advancing a plurality of laminating processes for the substrate S1 and the protective film S2, and a plurality of process substrates S3 may be provided and stacked in advance.

그리고 복수 개의 공정기판(S3) 사이에는 열 전달부(10)가 배치될 수 있다. 열 전달부(10)는 플레이트 형태로 마련될 수 있으며, 공정기판(S3)과 동일한 면적을 갖거나 공정기판(S3)의 면적보다 넓은 면적을 갖도록 구비될 수 있다. 이러한, 열 전달부(10)는 기판(S1)과 보호 필름(S2)에 대한 합착 공정에서 기판(S1)과 보호 필름(S2)으로 열을 전달하기 위해 열 전도성 부재로 구비될 수 있다. The heat transfer unit 10 may be disposed between the plurality of process substrates S3. The heat transfer unit 10 may be provided in the form of a plate and may have the same area as the process substrate S3 or may have a larger area than the process substrate S3. The heat transfer unit 10 may be provided as a heat conductive member to transfer heat to the substrate S1 and the protective film S2 in a process of attaching the substrate S1 and the protective film S2.

이에, 본 실시예서의 열 전달부(10)는 스테인리스 스틸(Stainless Steel) 재질의 플레이트로 구비될 수 있으나, 이는 본 실시예를 설명하기 위한 일실시예일 뿐, 열 전달부(10)는 다양한 재질과 형상으로 구비될 수 있다.Accordingly, the heat transfer portion 10 of the present embodiment may be formed of a plate made of stainless steel, but this is only one example for explaining the present embodiment. The heat transfer portion 10 may be made of various materials As shown in FIG.

한편, 이러한 복수 개의 공정기판(S3)과 열 전달부(10)는 사전에 순차적으로 적층되어 세트화될 수 있으며, 후술할 이송로봇(200, 도 2참조)에 의해 챔버(100, 도 2참조) 내부로 반입되어 기판(S1)과 보호 필름(S2)에 대한 합착공정이 진행될 수 있다. 이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 기판(S1)과 보호 필름(S2)에 대한 합착 공정을 수행하는 합착장치(100)에 대하여 상세히 설명하도록 한다.The plurality of process substrates S3 and the heat transfer units 10 may be stacked in advance and set in advance and then transferred to the chamber 100 (see FIG. 2) by the transfer robot 200 (see FIG. 2) And the adhesion process for the substrate S1 and the protective film S2 may proceed. Hereinafter, a lacquering apparatus 100 for performing a laminating process on a substrate S1 and a protective film S2 will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 실시예에 따른 기판 합착 장치를 나타낸 단면도이다.2 is a cross-sectional view showing a substrate adhering apparatus according to the present embodiment.

도 2에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 합착장치는 챔버(100) 및 이송로봇(200)을 포함할 수 있다.As shown in FIG. 2, the lacquering apparatus according to the present embodiment may include the chamber 100 and the transfer robot 200.

먼저, 챔버(100)는 제 1공정기판(S3a)과 제 2공정기판(S3b)에 대한 합착공정이 진행되는 공정공간을 형성한다. 이때, 챔버(100)의 몸체는 공정공간에서 발생된 열이 챔버(100) 외측으로 방출되는 것을 저지하기 위하여 단열재질로 마련될 수 있다. First, the chamber 100 forms a process space in which a laminating process is performed on the first process substrate S3a and the second process substrate S3b. At this time, the body of the chamber 100 may be provided with an insulating material to prevent heat generated in the processing space from being discharged to the outside of the chamber 100.

그리고 챔버(100)의 내측에는 제 1히팅 플레이트(110), 가압 플레이트(130), 제 2히팅 플레이트(150) 및 이송 가이드부(170)가 배치될 수 있다.A first heating plate 110, a pressing plate 130, a second heating plate 150, and a conveyance guide unit 170 may be disposed inside the chamber 100.

먼저, 제 1히팅 플레이트(110)에는 사전에 세트화된 복수 개의 제 1공정기판(S3a)과, 복수 개의 제 1공정기판(S3a) 사이에 배치된 제 1열 전달부(10a)가 안착될 수 있다. 이러한, 제 1히팅 플레이트(110)는 합착 공정에서 제 1기판(S1a), 제 1보호필름(S2a) 및 제 1열 전달부(10a)로 열을 제공하기 위하여 히팅유닛(미도시)을 포함할 수 있다. 여기서, 히팅유닛은 히팅 케이블 및 히팅 코일 등 다양한 형태로 제 1히팅 플레이트(110)의 내측에 배치될 수 있으며, 가압 플레이트(130) 및 제 2히팅 플레이트(150)에도 동일한 형태로 구비될 수 있다.First, a plurality of first process substrates S3a pre-set and a first heat transfer unit 10a disposed between the plurality of first process substrates S3a are seated on the first heating plate 110 . The first heating plate 110 includes a heating unit (not shown) for providing heat to the first substrate S1a, the first protective film S2a, and the first heat transfer portion 10a in the laminating process. can do. Here, the heating unit may be disposed inside the first heating plate 110 in various forms such as a heating cable and a heating coil, or may be provided in the same shape in the pressing plate 130 and the second heating plate 150 .

그리고 제 1히팅 플레이트(110)는 이송부(120)에 의해 챔버(100) 내측에서 이송될 수 있다. 여기서, 이송부(120)는 챔버(100) 외측에 배치된다. 이송부(120)는 제 1히팅 플레이트(110)와 축 연결되어 제 1히팅 플레이트(110)가 챔버(100) 내측에서 승강되도록 할 수 있다. The first heating plate 110 may be transported inside the chamber 100 by the transfer unit 120. Here, the transfer unit 120 is disposed outside the chamber 100. The transfer unit 120 may be connected to the first heating plate 110 so that the first heating plate 110 may be moved up and down inside the chamber 100.

그리고 가압 플레이트(130)는 챔버(100) 내측에서 제 1히팅 플레이트(110)에 마주하도록 배치될 수 있다. 이때, 가압 플레이트(130)는 챔버(100) 내측 상단에 지지될 수 있으며, 가압 플레이트(130)에는 상술한 바와 같이 히팅유닛이 구비될 수 있다. The pressure plate 130 may be disposed to face the first heating plate 110 inside the chamber 100. At this time, the pressing plate 130 may be supported at the upper inside of the chamber 100, and the pressing plate 130 may be provided with a heating unit as described above.

그리고 제 2히팅 플레이트(150)는 제 1히팅 플레이트(110)와 가압 플레이트(130) 사이에 배치된다. 제 2히팅 플레이트(150)에는 사전에 세트화된 복수 개의 제 2공정기판(S3b)과, 복수 개의 제 2공정기판(S3b) 사이에 배치된 제 2열 전달부(10b)가 안착될 수 있다. 여기서, 제 2히팅 플레이트(150)에는 상술한 바와 같이, 제 2기판(S1b), 제 2보호필름(S2b) 및 제 2열 전달부(10b)로 열을 제공하기 위한 히팅유닛이 구비될 수 있다. The second heating plate 150 is disposed between the first heating plate 110 and the pressing plate 130. The second heating plate 150 may be provided with a plurality of second process substrates S3b and a second heat transfer unit 10b disposed between the plurality of second process substrates S3b . Here, the second heating plate 150 may be provided with a heating unit for providing heat to the second substrate S1b, the second protective film S2b, and the second heat transfer unit 10b, as described above have.

이러한, 제 2히팅 플레이트(150)는 제 1히팅 플레이트(110)가 가압 플레이트(130)를 향해 상승할 경우, 제 1히팅 플레이트(110)에 안착된 제 1공정기판(S2a)에 접촉되며 제 1히팅 플레이트(110)와 함께 가압 플레이트(130)를 향해 상승된다. 이에, 제 2히팅 플레이트(150)에 안착된 제 2기판(S1b)과 제 2보호필름(S3b)이 열 가압될 수 있다.When the first heating plate 110 rises toward the pressing plate 130, the second heating plate 150 contacts the first processing substrate S2a placed on the first heating plate 110, 1 < / RTI > Accordingly, the second substrate S1b and the second protective film S3b, which are seated on the second heating plate 150, can be thermally pressed.

즉, 제 1히팅 플레이트(110)가 이송부(120)에 의해 상승되면, 제 1히팅 플레이트(110)의 상승에 의해 제 1히팅 플레이트(110)에 안착된 제 1공정기판(S3a)과 제 2히팅 플레이트(130)의 하부면이 접촉된다. 이후, 제 1히팅 플레이트(110)의 계속된 상승에 의해 제 2히팅 플레이트(150)는 제 1히팅 플레이트(110)에 지지되며 가압 플레이트(130)를 향해 상승된다. That is, when the first heating plate 110 is raised by the transfer unit 120, the first process substrate S3a and the second process substrate S3a, which are seated on the first heating plate 110 by the elevation of the first heating plate 110, The lower surface of the heating plate 130 is contacted. The second heating plate 150 is supported by the first heating plate 110 and is raised toward the pressing plate 130 by the continuous elevation of the first heating plate 110. [

이에, 제 1히팅 플레이트(110)에 안착된 제 1공정기판(S3a)과 제 1열 전달부(10a)은 제 1히팅 플레이트(110)와 제 2히팅 플레이트(150) 사이에서 열 가압되고, 제 2히팅 플레이트(150)에 안착된 제 2공정기판(S3b)과 제 2열 전달부(10b)는 제 2히팅 플레이트(150)와 가압 플레이트(130) 사이에서 열 가압될 수 있다.The first process substrate S3a and the first heat transfer unit 10a mounted on the first heating plate 110 are thermally pressed between the first and second heating plates 110 and 150, The second process substrate S 3 b and the second heat transfer unit 10 b mounted on the second heating plate 150 may be thermally pressed between the second heating plate 150 and the pressing plate 130.

이때, 열 전달부(10a, 10b)들은 제 1히팅 플레이트(110), 가압플레이트(130) 및 제 2히팅 플레이트(150)로부터 방출되는 열을 복수 개의 제 1공정기판(S3a)과 복수 개의 제 2공정기판(S3b)으로 각각 전달하여, 제 1기판(S1a)과 제 1보호필름(S2a), 그리고 제 2기판(S1b)과 제 2보호필름(S2b)이 열 합착되도록 할 수 있다.The heat transfer parts 10a and 10b heat the heat emitted from the first heating plate 110, the pressing plate 130 and the second heating plate 150 to a plurality of first process substrates S3a and a plurality of Process substrate S3b so that the first substrate S1a and the first protective film S2a and the second substrate S1b and the second protective film S2b are thermally adhered to each other.

다만, 본 실시예서는 제 1히팅 플레이트(110)와 가압 플레이트(130) 사이에 제 2히팅 플레이트(150)가 배치되어 제 1 및 제 2공정기판(S3a, S3b)에 대한 합착 공정을 실시하는 것을 설명하고 있으나, 제 2히팅 플레이트(150)의 구비없이 제 1히팅 플레이트(110)와 가압 플레이트(130)로 제 1공정기판(S3a)에 대한 합착 공정만을 수행하는 것도 가능하다. However, in this embodiment, a second heating plate 150 is disposed between the first heating plate 110 and the pressing plate 130 to perform a laminating process on the first and second process substrates S3a and S3b It is also possible to perform only the adhesion process for the first process substrate S3a with the first heating plate 110 and the pressure plate 130 without the second heating plate 150. [

한편, 이송 가이드부(170)는 가이드축(171) 및 스톱퍼(175)를 포함할 수 있다. Meanwhile, the conveyance guide unit 170 may include a guide shaft 171 and a stopper 175.

먼저, 가이드축(171)은 챔버(100) 내측 테두리 영역에 배치될 수 있다. 보다 구체적으로, 가이드축(171)은 복수 개로 마련되어 챔버(100) 내측 가장자리부에 각각 배치될 수 있다. 이때, 제 1 및 제 2히팅 플레이트(150)의 가장자리는 복수 개의 가이드축(171)에 각각 연결되어 지지될 수 있다. First, the guide shaft 171 may be disposed in the inner edge region of the chamber 100. More specifically, a plurality of guide shafts 171 may be provided on the inner edge of the chamber 100, respectively. At this time, the edges of the first and second heating plates 150 may be connected to and supported by the plurality of guide shafts 171, respectively.

여기서, 제 1히팅 플레이트(130)와 제 2히팅 플레이트(150)는 가이드축(171)을 관통하도록 배치되어 가이드축(171)을 따라 승강되며 가이드되는 방식, 또는 제 1 및 제 2히팅 플레이트(130, 150)의 가장자리에 배치된 롤러가 가이드축(171)에 형성된 레일을 따라 회전하며 가이드축(171)에 가이드되는 방식 등 다양한 방식으로 가이드축(171)에 연결될 수 있다.The first heating plate 130 and the second heating plate 150 are disposed so as to penetrate the guide shaft 171 and are guided along the guide shaft 171 to be guided or guided by the first and second heating plates 130 may be connected to the guide shaft 171 in various manners such as a method in which the rollers disposed at the edges of the guide shafts 130, 150 are rotated along the rails formed on the guide shafts 171 and guided by the guide shafts 171.

그리고 스톱퍼(173)는 제 1히팅 플레이트(110)와 제 2히팅 플레이트(130) 사이에 마련될 수 있다. 여기서, 스톱퍼(173)는 챔버(100) 내측벽으로부터 돌출될 수 있다. 이러한 스톱퍼(173)는 제 1히팅 플레이트(110)와 제 2히팅 플레이트(150)의 이격 거리가 유지되도록 한다. And a stopper 173 may be provided between the first heating plate 110 and the second heating plate 130. Here, the stopper 173 may protrude from the inner wall of the chamber 100. The stopper 173 maintains a distance between the first heating plate 110 and the second heating plate 150.

즉, 스톱퍼(173)는 제 1히팅 플레이트(110)와 가압 플레이트(130) 사이에 배치된 제 2히팅 플레이트(150)를 지지하여, 제 2히팅 플레이트(150)가 자중에 의해 제 1히팅 플레이트(110)를 향해 하강하는 것을 방지할 수 있다. 이러한, 스톱퍼(173)는 도 2에 도시된 바와 같이 챔버(100)의 내측벽으로부터 돌출 형성될 수 있으며, 필요에 따라 별도의 스톱퍼 장치로 마련되어 적용될 수 있다.That is, the stopper 173 supports the second heating plate 150 disposed between the first heating plate 110 and the pressing plate 130, so that the second heating plate 150 is supported by the first heating plate 150, And can be prevented from descending toward the main body 110. The stopper 173 may protrude from the inner wall of the chamber 100 as shown in FIG. 2, and may be provided as a separate stopper device if necessary.

한편, 챔버(100)에는 가스 공급 유닛(190)이 연결될 수 있다. 가스 공급 유닛(190)은 불활성 가스를 챔버(100) 내측으로 공급한다. 여기서, 불활성 가스로는 질소 가스가 사용될 수 있다. 이러한, 불활성 가스는 제 1, 제 2히팅 플레이트(110, 150) 및 가압 플레이트(130)로부터 열이 방출될 경우, 챔버(100) 내부 온도가 균일하게 유지되도록 하여, 제 1기판(S1a)과 제 1보호필름(S2a), 그리고 제 2기판(S1b)과 제 2보호필름(S2b)의 열 합착이 신속하고 정확하게 이루어지도록 할 수 있다. Meanwhile, the gas supply unit 190 may be connected to the chamber 100. The gas supply unit 190 supplies an inert gas into the chamber 100. Here, nitrogen gas may be used as the inert gas. When inert gas is discharged from the first and second heating plates 110 and 150 and the pressing plate 130, the temperature of the interior of the chamber 100 is uniformly maintained, The first protective film S2a, and the second substrate S1b and the second protective film S2b can be quickly and accurately bonded together.

한편, 이송로봇(200)은 챔버(100)의 일측방에 배치된다. 여기서, 이송로봇(200)으로는 상술한 바와 같이 사전에 세트화된 복수 개의 공정기판(S3)과 열 전달부(10)가 전달될 수 있다. 이에, 이송로봇(200)은 세트화된 복수 개의 공정기판(S3)과 열 전달부(10)를 게이트(G)를 통해 제 1히팅 플레이트(110)와 제 2히팅 플레이트(150)로 제공하여 공정기판(S3)과 열 전달부(10)가 제 1히팅 플레이트(110)와 제 2히팅 플레이트(150) 각각에 안착되도록 할 수 있다. On the other hand, the transfer robot 200 is disposed on one side of the chamber 100. Here, a plurality of pre-set process substrates S3 and the heat transfer unit 10 can be transferred to the transfer robot 200 as described above. The transfer robot 200 provides the plurality of process substrates S3 and the heat transfer unit 10 which are set through the gate G to the first heating plate 110 and the second heating plate 150 The process substrate S3 and the heat transfer unit 10 may be seated on the first and second heating plates 110 and 150, respectively.

이때 이송로봇(200)은 x, y, z축 방향으로 공정기판(S3)과 열 전달부(10)를 이송시킬 수 있으며, 이러한 이송로봇(200)에 대한 구성은 이미 공지된 기술로 이해 가능하므로 상세한 설명은 생략하도록 한다.
At this time, the transfer robot 200 can transfer the process substrate S3 and the heat transfer unit 10 in the x-, y-, and z-axis directions, and the configuration of the transfer robot 200 can be understood by a known technique Therefore, the detailed description will be omitted.

한편, 이하에서는 본 실시예에 따른 기판 합착 방법에 대하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다. Hereinafter, a method of attaching a substrate according to the present embodiment will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 실시예에 따른 기판 합착 방법을 나타낸 블록도이고, 도 4 내지 도 7은 본 실시예에 따른 기판 합착 장치의 작동을 나타낸 단면도이다.FIG. 3 is a block diagram showing a method of attaching a substrate according to the present embodiment, and FIGS. 4 to 7 are sectional views showing the operation of the substrate sticking apparatus according to the present embodiment.

도 3 내지 도 7에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 기판 합착 방법은 먼저, 공정기판(S3)과 열 전달부(10)가 복수 개로 마련되어 세트화될 수 있다. 예를 들어, 공정기판(S3)은 12개로 적층될 수 있으며, 12개의 공정기판(S3)들 사이에는 열 전달부(10)가 각각 배치되어 하나의 세트로 사전에 준비될 수 있다. 다만. 여기서 공정기판(S3)의 수는 본 실시예를 설명하기 위한 하나의 실시예로 공정기판(S3)의 수는 변경될 수 있다.As shown in FIGS. 3 to 7, in the substrate bonding method according to the present embodiment, a plurality of process substrates S3 and heat transfer parts 10 may be provided and set. For example, the process substrate S3 may be stacked in twelve, and the heat transfer portions 10 may be arranged between the twelve process substrates S3, respectively, so as to be prepared in advance as one set. but. Here, the number of process substrates S3 is one example for describing the present embodiment, and the number of process substrates S3 may be changed.

그리고 세트화된 공정기판(S3)과 열 전달부(10)는 이송로봇(200)으로 제공된다. 이송로봇(200)은 도 4에 도시된 바와 같이 공정기판(S3)과 열 전달부(10)를 게이트(G)를 통해 제 1히팅 플레이트(110)와 제 2히팅 플레이트(150) 각각에 안착시킨 후 챔버(100)로부터 빠져나온다(S100). 그리고 게이트(G)가 폐쇄된다.The set process substrate S3 and the heat transfer unit 10 are provided to the transfer robot 200. 4, the transfer robot 200 seats the process substrate S3 and the heat transfer unit 10 on the first and second heating plates 110 and 150 through the gate G, And then exits from the chamber 100 (S100). Then, the gate (G) is closed.

이후, 챔버(100) 내부로는 불활성 가스가 유입되고, 제 1히팅 플레이트(110)가 도 5에 도시된 바와 같이 제 2히팅 플레이트(150)를 향해 승강된다. 이때, 제 1히팅 플레이트(110)에 안착된 복수 개의 제 1공정기판(S3a)과 제 1열 전달부(10a)는 제 1히팅 플레이트(110)의 승강에 따라 제 1공정기판(S3a)의 상부면이 제 2히팅 플레이트(150)의 하부면에 접촉하게 된다. 여기서, 제 1히팅 플레이트(110)의 계속된 승강에 따라 제 2히팅 플레이트(150)는 도 6에 도시된 바와 같이 제 1히팅 플레이트(110)에 지지되어 가압플레이트(130)를 향해 상승하게 된다.Thereafter, inert gas is introduced into the chamber 100, and the first heating plate 110 is lifted and raised toward the second heating plate 150 as shown in FIG. At this time, the plurality of first process substrates S3a and the first heat transfer unit 10a placed on the first heating plate 110 are moved to the first process substrate S3a along with the elevation of the first heating plate 110 The upper surface of the second heating plate 150 is brought into contact with the lower surface of the second heating plate 150. 6, the second heating plate 150 is supported by the first heating plate 110 and is raised toward the pressing plate 130 as the first heating plate 110 is continuously lifted and lowered .

이에, 제 1히팅 플레이트(110)에 안착된 복수 개의 제 1공정기판(S3a)과 열 제 1전달부(10a)는 제 1히팅 플레이트(110)와 제 2히팅 플레이트(150) 사이에서 열 가압되어, 제 1기판(S1a)과 제 1보호필름(S2a)이 합착되도록 한다. 그리고 제 2히팅 플레이트(150)에 안착된 복수 개의 제 2공정기판(S3b)과 제 2열 전달부(10b)는 제 3히팅 플레이트(150)와 가압 플레이트(130) 사이에서 열 가압되어, 제 2기판(S1b)과 제 2보호필름(S2b)이 합착되도록 한다. 이때, 제 1, 제 2히팅 플레이트(110, 150) 및 가압 플레이트(130)의 온도는 대략 110~130℃로 유지되며, 공정기판(S3)에 대한 합착공정이 진행되도록 할 수 있다(S200).The plurality of first process substrates S3a and the first heat transfer unit 10a mounted on the first heating plate 110 are heated and pressed between the first and second heating plates 110 and 150, So that the first substrate S1a and the first protective film S2a are bonded together. The plurality of second process substrates S3b and the second heat transfer unit 10b mounted on the second heating plate 150 are thermally pressed between the third heating plate 150 and the pressing plate 130, 2 substrate (S1b) and the second protective film (S2b). At this time, the temperatures of the first and second heating plates 110 and 150 and the pressing plate 130 are maintained at about 110 to 130 ° C, and the laminating process can be performed on the process substrate S3 (S200) .

여기서, 복수 개의 기판(S1) 사이에 배치된 열전달부(10)들은 제 1 및 제 2히팅 플레이트(110, 150), 가압플레이트(130)로부터 방출되는 열을 공정기판(S3)으로 균일하게 제공하여 제 1기판(S1a)과 제 1보호필름(S2a), 그리고 제 2기판(S1b)과 제 2보호필름(S2b)이 열 합착되도록 할 수 있다. The heat transfer units 10 disposed between the plurality of substrates S1 uniformly supply the heat emitted from the first and second heating plates 110 and 150 and the pressure plate 130 to the process substrate S3. The first substrate S1a and the first protective film S2a and the second substrate S1b and the second protective film S2b may be thermally cemented together.

이후, 공정기판(S3)에 대한 합착 공정이 완료되면, 제 1히팅 플레이트(110)는 하강된다. 이때, 제 2히팅 플레이트(150)는 제 1히팅 플레이트(110)의 하강에 동반되어 하강하게 된다. 여기서, 제 2히팅 플레이트(150)는 도 7에 도시된 바와 같이, 스톱퍼(173)에 의해 먼저 하강이 정지되고, 제 1히팅 플레이트(110)는 제 2히팅 플레이트(150)로부터 이격되며 최초 위치로 복귀하게 된다.Thereafter, when the laminating process for the process substrate S3 is completed, the first heating plate 110 is lowered. At this time, the second heating plate 150 is lowered along with the lowering of the first heating plate 110. 7, the lowering of the second heating plate 150 is stopped first by the stopper 173, the first heating plate 110 is separated from the second heating plate 150, .

이와 같이, 기판 합착 장치 및 기판 합착 방법은 OLED가 지지된 기판과, OLED를 보호하기 위해 기판에 안착된 보호 필름에 대한 합착공정을 복수로 진행할 수 있어 디스플레이 장치의 생산성이 향상되는 효과가 있다.As described above, the substrate adhering apparatus and the substrate adhering method can improve the productivity of the display device by performing a plurality of adhesion processes for the substrate on which the OLED is supported and the protective film that is seated on the substrate for protecting the OLED.

앞에서 설명되고, 도면에 도시된 본 발명의 일 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 한정하는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 발명의 보호범위는 청구범위에 기재된 사항에 의하여만 제한되고, 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상을 다양한 형태로 개량 변경하는 것이 가능하다. 따라서 이러한 개량 및 변경은 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것인 한 본 발명의 보호범위에 속하게 될 것이다.
An embodiment of the present invention described above and shown in the drawings should not be construed as limiting the technical idea of the present invention. The scope of protection of the present invention is limited only by the matters described in the claims, and those skilled in the art will be able to modify the technical idea of the present invention in various forms. Accordingly, such improvements and modifications will fall within the scope of the present invention as long as they are obvious to those skilled in the art.

S1 : 기판 S2 : 보호필름
10 : 열 전달부 100 :챔버
110 : 제 1히팅 플레이트 130 : 가압 플레이트
150 : 제 2히팅 플레이트 170 : 이송 가이드부
S1: Substrate S2: Protective film
10: heat transfer part 100: chamber
110: first heating plate 130: pressure plate
150: second heating plate 170: conveying guide part

Claims (12)

OLED가 형성된 제 1기판 및 상기 제 1기판에 안착된 제 1보호 필름을 갖는 복수 개의 제 1공정기판과 상기 복수 개의 제 1공정기판 사이에 배치되는 제 1열 전달부가 복수로 적층되어 반입되는 챔버;
상기 챔버 내부에 배치되며 상기 복수 개의 제 1공정기판과, 상기 복수 개의 제 1공정기판 사이에 각각 배치되는 복수 개의 상기 제 1열 전달부가 안착되는 제 1히팅 플레이트;
상기 챔버 내부에서 상기 제 1히팅 플레이트에 마주하도록 배치되는 가압 플레이트;
상기 제 1히팅 플레이트를 상기 가압 플레이트로 이송시켜, 상기 제 1기판들과 상기 제 1보호 필름들이 열 합착되도록 하는 이송부; 및
상기 챔버에 연결되어 상기 챔버 내부로 불활성 가스를 공급하여 상기 챔버 내부의 온도가 균일하게 유지되도록 하는 가스 공급부를 포함하는 기판 합착 장치.
A plurality of first process substrates having a first substrate on which an OLED is formed and a first protective film seated on the first substrate, and a plurality of first heat transfer units disposed between the plurality of first process substrates, ;
A first heating plate disposed in the chamber and having a plurality of first process substrates and a plurality of first heat transfer units disposed between the plurality of first process substrates, respectively;
A pressing plate disposed inside the chamber so as to face the first heating plate;
A transfer unit for transferring the first heating plate to the pressing plate to heat-bond the first substrates and the first protective films; And
And a gas supply unit connected to the chamber and supplying an inert gas into the chamber to maintain a uniform temperature inside the chamber.
제 1항에 있어서,
상기 제 1히팅 플레이트가 상기 가압 플레이트를 향해 이송됨에 따라,
상기 가압 플레이트는 상기 복수 개의 제 1공정기판과 상기 복수 개의 제 1열 전달부를 히팅하는 것을 특징으로 하는 기판 합착 장치.
The method according to claim 1,
As the first heating plate is transported toward the pressing plate,
Wherein the pressing plate heats the plurality of first process substrates and the plurality of first heat transfer units.
제 1항에 있어서,
상기 제 1히팅 플레이트와 가압 플레이트 사이에 배치되고, OLED가 지지된 제 2기판 및 상기 제 2기판에 안착된 제 2보호 필름을 갖는 복수 개의 제 2공정기판과 상기 복수 개의 제 2공정기판 사이에 배치되는 제 2열 전달부가 복수로 적층되어 안착되는 제 2히팅 플레이트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 합착 장치.
The method according to claim 1,
A plurality of second processing substrates disposed between the first heating plate and the pressing plate and having a second substrate on which the OLED is supported and a second protective film seated on the second substrate, Further comprising a second heating plate on which a plurality of second heat transfer parts to be disposed are stacked and seated.
제 3항에 있어서,
상기 제 1히팅 플레이트가 상기 가압 플레이트를 향해 이송됨에 따라,
상기 제 2히팅 플레이트는 제 1히팅 플레이트와 함께 상기 가압 플레이트를 향해 이송되며 상기 제 2기판들과 제 2보호 필름들이 상기 가압 플레이트와 상기 제 2히팅 플레이트 사이에서 열 가압되도록 하는 것을 특징으로 하는 기판 합착 장치.
The method of claim 3,
As the first heating plate is transported toward the pressing plate,
Wherein the second heating plate is conveyed together with the first heating plate toward the pressing plate such that the second substrates and the second protective films are thermally pressed between the pressing plate and the second heating plate. Lid device.
제 4항에 있어서,
상기 챔버 내측의 테두리 영역에 배치되며, 상기 제 1 및 제 2히팅 플레이트의 이송을 가이드하는 가이드축 및
상기 제 1이송 플레이트와 상기 제 2이송 플레이트 사이에서 배치되어 상기 제 2히팅 플레이트가 상기 제 1히팅 플레이트를 향해 이송되는 것을 방지하는 스톱퍼를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 합착 장치.
5. The method of claim 4,
A guide shaft disposed in a rim region inside the chamber and guiding the conveyance of the first and second heating plates,
Further comprising a stopper disposed between the first transfer plate and the second transfer plate to prevent the second heating plate from being transferred toward the first heating plate.
삭제delete 제 1항에 있어서,
상기 챔버의 일측방에 배치되는 이송로봇을 더 포함하고,
상기 복수 개의 제 1공정기판과 상기 제 1열 전달부는 사전에 순차적으로 적층되어 상기 이송로봇을 통해 상기 챔버 내부로 반입되는 것을 특징으로 하는 기판 합착 장치.
The method according to claim 1,
Further comprising a transfer robot disposed on one side of the chamber,
Wherein the plurality of first process substrates and the first heat transfer unit are sequentially stacked in advance and carried into the chamber through the transfer robot.
(a) OLED가 형성된 제 1기판 및 상기 제 1기판에 안착된 제 1보호 필름을 갖는 복수 개의 제 1공정기판과 상기 복수 개의 제 1공정기판 사이에 배치되는 제 1열 전달부가 복수로 적층되는 단계;
(b) 상기 복수 개의 제 1공정기판과, 상기 복수 개의 제 1공정기판 사이에 각각 배치되는 복수 개의 상기 제 1열 전달부가 챔버 내부로 반입되어 제 1히팅 플레이트에 안착되는 단계; 및
(c) 상기 제 1히팅 플레이트가 마주하고 있는 가압 플레이트를 향해 이송되며, 상기 제 1기판과 상기 제 1 보호 필름이 열 가압되는 단계를 포함하고,
상기 (c)단계는 상기 챔버 내부로 불활성 가스가 공급되어 상기 챔버 내부의 온도가 균일하게 유지된 상태에서 수행되는 기판 합착 방법.
(a) a plurality of first process substrates having a first substrate on which an OLED is formed and a first protective film seated on the first substrate, and a plurality of first heat transfer parts disposed between the plurality of first process substrates, step;
(b) a plurality of the first process substrates and a plurality of the first heat transfer units, which are respectively disposed between the plurality of first process substrates, are carried into the chambers and are seated on the first heating plates; And
(c) the first heating plate is transported toward a pressing plate facing the first substrate, and the first substrate and the first protective film are thermally pressed,
Wherein the step (c) is performed while an inert gas is supplied into the chamber and the temperature inside the chamber is uniformly maintained.
제 8항에 있어서,
상기 (c)단계는
상기 제 1히팅 플레이트가 상기 가압 플레이트를 향해 이송됨에 따라,
상기 가압 플레이트가 상기 복수 개의 제 1공정기판과 상기 복수 개의 제 1열 전달부들을 히팅하는 것을 특징으로 하는 기판 합착 방법.
9. The method of claim 8,
The step (c)
As the first heating plate is transported toward the pressing plate,
Wherein the pressing plate heats the plurality of first process substrates and the plurality of first heat transfer parts.
제 8항에 있어서,
상기 제 1히팅 플레이트와 상기 가압 플레이트 사이에 배치되는 제 2히팅 플레이트를 더 포함하고,
상기 (b)단계는
OLED가 지지된 제 2기판 및 상기 제 2기판에 안착된 제 2보호 필름을 갖는 복수 개의 제 2공정기판과 상기 복수 개의 제 2공정기판 사이에 배치되는 제 2열 전달부가 복수로 적층되어 상기 제 2히팅 플레이트에 안착되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 합착 방법.
9. The method of claim 8,
Further comprising a second heating plate disposed between the first heating plate and the pressure plate,
The step (b)
A plurality of second process substrates having a second substrate on which the OLED is supported and a second protective film seated on the second substrate, and a plurality of second heat transfer parts disposed between the plurality of second process substrates, Lt; RTI ID = 0.0 > 2 < / RTI > heating plate.
제 9항에 있어서,
상기 (c)단계는
상기 제 1히팅 플레이트가 상기 가압 플레이트를 향해 이송됨에 따라,
상기 제 2히팅 플레이트가 상기 제 1히팅 플레이트와 함께 상기 가압 플레이트를 향해 이송되며 상기 제 2기판들과 상기 제 2보호 필름들이 열 가압되도록 하는 것을 특징으로 하는 기판 합착 방법.





10. The method of claim 9,
The step (c)
As the first heating plate is transported toward the pressing plate,
Wherein the second heating plate is conveyed together with the first heating plate toward the pressing plate so that the second substrates and the second protective films are thermally pressed.





삭제delete
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005053076A (en) * 2003-08-04 2005-03-03 Denso Corp Manufacturing method of multilayered substrate and hot press
JP2007180317A (en) * 2005-12-28 2007-07-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd Manufacturing method of printed wiring board
KR101233338B1 (en) * 2010-07-16 2013-02-14 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 Press mechanism and bonding apparatus
KR101311856B1 (en) * 2006-12-08 2013-09-27 엘아이지에이디피 주식회사 Apparatus for joining of substrate

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005053076A (en) * 2003-08-04 2005-03-03 Denso Corp Manufacturing method of multilayered substrate and hot press
JP2007180317A (en) * 2005-12-28 2007-07-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd Manufacturing method of printed wiring board
KR101311856B1 (en) * 2006-12-08 2013-09-27 엘아이지에이디피 주식회사 Apparatus for joining of substrate
KR101233338B1 (en) * 2010-07-16 2013-02-14 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 Press mechanism and bonding apparatus

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