KR101527820B1 - 플로트 배스의 드로스 제거 장치 및 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 플로트 배스에 수용된 용융 금속 내부에 존재하는 드로스를 제거하는 장치 및 방법을 개시한다. 본 발명에 따른 드로스 제거 장치는, 플로트 배스의 하류 측에 구비되어 상기 플로트 배스의 용융 금속 내부에 존재하는 드로스를 필터링하는 디 드로스 포켓; 및 상기 디 드로스 포켓의 내부로 환원 가스를 공급하는 환원 가스 공급부를 포함한다.

Description

플로트 배스의 드로스 제거 장치 및 방법{Apparatus and method for removing dross in float bath}
본 발명은 플로트 배스를 이용하여 유리를 제조하는 기술에 관한 것으로, 보다 상세하게는 플로트 배스를 이용해 플로트 유리를 제조하는 과정에서 플로트 배스에 수용된 용융 금속 내부에 존재하는 드로스를 제거하는 장치 및 방법에 관한 것이다.
창유리, 차량의 윈드 스크린, 거울 등과 같이, 산업에 이용되는 거의 모든 범위의 평판 유리(flat glass) 대부분은 널리 알려진 플로트(float) 법을 이용하여 생산되고 있다. 또한, TFT 디스플레이 등을 위한 얇은 판 유리(thin glass plane) 또는 유리 필름(glass film) 역시 플로트 법에 의해 제조된 유리, 즉 '플로트 유리'이다.
플로트 유리는 일반적으로 용융 주석 또는 용융 주석 합금과 같은 용융 금속이 저장되어 유동되는 플로트 배스(float bath)를 이용하여 제조된다. 이때, 용융 금속보다 낮은 점도를 가지며 용융 금속보다 대략 2/3 정도 더 가벼운 용융 유리가 플로트 배스의 입구를 통해 연속적으로 플로트 배스 내부로 공급되는데, 이러한 용융 유리는 용융 금속 위에서 플로팅 및 스프레딩되면서 플로트 배스의 하류 측으로 진행된다. 이 과정에서, 용융 유리는 자신의 표면 장력과 중력에 따라 평형 두께 부근에 도달하게 되어 어느 정도 응고된 유리 스트립 또는 리본이 형성되고, 그러한 용융 유리 리본은 플로트 배스의 출구에 인접한 리프트 아웃 롤러(lift out roller)에 의해 서냉로를 향해 끌어 당겨진다. 또한, 입구를 통해 투입되는 유리의 양, 롤러들의 회전 속도에 의해 결정되는 당김 속도 및 플로트 챔버 내부에 설치된 탑 롤러들과 같은 성형 수단의 조절 및 변화는 생산되는 유리 리본의 두께를 변화시킬 수 있다. 이러한 플로트 유리 제조 방법은 순환하는 연속적인 공정을 포함하고, 끊임없이 영구적으로 작동될 수 있으며, 가능한 거의 중단 없이 수년 이상 평판 유리를 제조할 수 있다는 점에서 각광을 받고 있다.
그런데, 플로트 챔버 내부의 용융 금속은 고온(약 600~1100℃) 상태이므로, 용융 금속, 용융 유리, 분위기 중의 N2, H2, 미량의 O2, H2O 및 S2 등이 화학적으로 반응하여, SnOx와 같은 불순물을 발생시킬 수 있는데, 이러한 불순물을 일반적으로 드로스(dross)라 한다. 특히, 플로트 배스의 하류 측은 상류 측에 비해 저온이기 때문에 용융 금속의 용융도가 감소하고, 이에 의해 미세한 금속 산화물, 예를 들어 SnO2 등의 드로스가 생성되기 쉬울 뿐만 아니라 그 주위에 쌓이기 쉬운 경향이 있다.
이러한 드로스는 리프트 아웃 롤러에 의해 리본 형태의 용융 유리를 끌어올릴 때, 용융 유리의 하면에 부착되어 플로트 배스로부터 인출됨으로써 후속 공정 및/또는 최종 제품의 유리 품질을 현저하게 떨어뜨릴 수 있는 스크래치나 얼룩 등을 유발시킬 우려가 있다.
또한, 이러한 드로스는 플로트 배스의 상류 측으로 이동할 수 있는데, 이 경우 상류 측의 높은 온도로 인해 드로스가 재환원될 수 있다. 이 과정에서 드로스로부터 분리된 산소가 용융 유리 하면에 부착되어 BOS(Bottom Open Seed) 등의 문제를 일으킬 수도 있다.
이와 같은 문제를 해결하고자, 종래에 플로트 배스의 하류 측에서 플로트 배스의 용융 금속으로부터 드로스를 물리적으로 분리시키는 기술 등이 제안되고 있으나, 이러한 기술에 의하더라도 플로트 배스의 용융 금속에 존재하는 드로스를 효과적으로 제거하지 못해 플로트 유리 제조 공정에서 드로스로 인한 문제점은 여전히 계속된다고 할 수 있다.
대한민국 공개특허공보 제10-2006-0052293호(공개일자: 2006년 5월 19일) 대한민국 공개특허공보 제10-2007-0089621호(공개일자: 2007년 8월 31일) 대한민국 공개특허공보 제10-2003-0074260호(공개일자: 2003년 9월 19일)
따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 창안된 것으로서, 물리적인 방법과 함께 화학적인 방법을 사용하여 플로트 배스의 용융 금속에 존재하는 드로스를 효과적이면서도 신속하게 제거할 수 있는 드로스 제거 장치와 방법, 그리고 이러한 드로스 제거 장치를 포함하는 플로트 배스 및 플로트 유리 제조 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 다른 목적 및 장점들은 하기의 설명에 의해서 이해될 수 있으며, 본 발명의 실시예에 의해 보다 분명하게 알게 될 것이다. 또한, 본 발명의 목적 및 장점들은 특허 청구 범위에 나타낸 수단 및 그 조합에 의해 실현될 수 있음을 쉽게 알 수 있을 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 드로스 제거 장치는, 플로트 유리를 제조하기 위한 플로트 배스에 수용된 용융 금속 내부에 존재하는 드로스를 제거하는 장치로서, 상기 플로트 배스의 하류 측에 구비되어 상기 플로트 배스의 용융 금속 내부에 존재하는 드로스를 필터링하는 디 드로스 포켓; 및 상기 디 드로스 포켓의 내부로 환원 가스를 공급하는 환원 가스 공급부를 포함한다.
바람직하게는, 상기 환원 가스는, 수소 가스를 포함한다.
또한 바람직하게는, 상기 드로스 제거 장치는, 상기 환원 가스 공급부에 의해 공급되는 환원 가스에 열을 공급하는 열 공급부를 더 포함한다.
또한 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 플로트 배스는, 상술한 드로스 제거 장치를 포함한다.
또한 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 플로트 유리 제조 장치는, 상술한 드로스 제거 장치를 포함한다.
또한 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 드로스 제거 방법은, 플로트 유리를 제조하기 위한 플로트 배스에 수용된 용융 금속 내부에 존재하는 드로스를 제거하는 방법으로서, 상기 플로트 배스의 하류 측에 구비된 디 드로스 포켓을 통해 플로트 배스의 용융 금속 내부에 존재하는 드로스를 필터링하는 단계; 및 상기 디 드로스 포켓의 내부로 환원 가스를 공급하는 단계를 포함한다.
바람직하게는, 상기 환원 가스는, 수소 가스를 포함한다.
또한 바람직하게는, 상기 드로스 제거 방법은, 상기 환원 가스 공급부에 의해 공급되는 환원 가스에 열을 공급하는 단계를 더 포함한다.
본 발명에 의하면, 플로트 배스의 용융 주석 중에 존재하는 드로스를 수집함과 동시에 수집된 드로스를 환원시킴으로써, 물리적 방식과 화학적 방식을 병행하여 드로스를 효과적이면서도 신속하게 제거할 수 있다.
따라서, 용융 주석에 존재하는 드로스로 인해 플로트 유리의 하부에 스크래치나 얼룩, BOS와 같은 문제를 일으키는 것을 방지하여, 플로트 유리의 품질을 현저하게 향상시킬 수 있다.
특히, 본 발명의 일 실시예에 의하면, 환원 가스로서 수소 가스가 수소 라디칼 형태로 공급됨으로써 드로스의 환원 효율이 크게 향상될 수 있어, 드로스 제거 효과가 크게 증가할 수 있다.
본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 후술하는 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니 된다.
도 1은, 본 발명의 일 실시예에 따른 드로스 제거 장치의 구성을 개략적으로 도시하는 도면이다.
도 2는, 본 발명의 다른 실시예에 따른 드로스 제거 장치의 구성을 개략적으로 도시하는 도면이다.
도 3은, 본 발명의 일 실시예에 따른 드로스를 제거하는 방법을 개략적으로 도시하는 흐름도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상에 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.
도 1은, 본 발명의 일 실시예에 따른 드로스 제거 장치의 구성을 개략적으로 도시하는 도면으로서, 플로트 배스(10)의 상부에서 플로트 배스(10)를 바라본 형태의 상면도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 드로스 제거 장치는, 디 드로스 포켓(110) 및 환원 가스 공급부(120)를 포함한다.
상기 디 드로스 포켓(De Dross Pocket; DDP)(110)은, 플로트 배스(float bath)(10)의 내부 또는 외부에 구비되어 플로트 배스(10)의 용융 금속(M) 내부에 존재하는 드로스(20)를 필터링(filtering)한다. 도면에 도시된 바와 같이, 플로트 배스(10)에 수용된 용융 금속(M) 내부에는 드로스(dross)(20), 즉 불순물이 존재할 수 있는데, 이러한 드로스(20)의 대표적인 형태로는 SnOx와 같은 주석 산화물을 들 수 있다. 주석 산화물은 용융 주석 중에 존재하는 주석 성분과 플로트 배스(10) 내부에 잔존하는 산소가 결합하여 형성될 수 있다. 상기 디 드로스 포켓(110)은, 이러한 주석 산화물과 같은 드로스(20)를 수집하여 분리함으로써, 드로스(20)에 대한 필터링을 수행한다. 이와 같이 디 드로스 포켓(110)이 용융 금속(M) 중의 드로스(20)를 필터링하는 방식, 즉, 드로스(20)를 수집하여 이를 물리적으로 분리하는 방식에는 다양한 방식이 이용될 수 있다. 본 발명은, 이와 같은 디 드로스 포켓(110)의 드로스 필터링 방식에 대해 구체적인 형태로 제한되지 않는다.
상기 디 드로스 포켓(110)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 플로트 배스(10)의 하류 측에 구비될 수 있다. 플로트 배스(10)는 통상적으로 특수 내화 재료가 내장되어 세로로 길게 연장된 구조로 형성될 수 있는데, 이러한 플로트 배스(10)에 수용된 용융 금속(M)은 용융 유리와 마찬가지로, 플로트 배스(10)의 상류 측(도 1에서 좌측)에서 하류 측(도 1에서 우측) 방향으로 이동하게 된다. 이로 인해, 용융 금속(M) 중에 존재하는 드로스 역시 플로트 배스(10)의 상류 측에서 하류 측 방향으로 이동하게 된다. 그러므로, 디 드로스 포켓(110)은, 플로트 배스(10)의 하류 측에 구비되어 드로스를 수거 및 분리하는 것이 좋다.
특히, 상기 디 드로스 포켓(110)은, 플로트 배스(10)에서 하류 측의 용융 금속(M)이 상류 측으로 이동되는 경로에 구비될 수 있다. 즉, 도 1에서 화살표로 도시된 바와 같이, 플로트 배스(10)의 상류 측(좌측)에서 하류 측(우측) 방향으로 이동하던 용융 금속(M)은, 재사용을 위해 다시 플로트 배스(10)의 상류 측으로 이동될 수 있다. 이때, 디 드로스 포켓(110)은, 용융 금속(M)이 재사용을 위해 플로트 배스(10)의 하류 측에서 상류 측으로 이동하는 경로 중에 배치되어, 용융 금속(M) 중에 존재하는 드로스를 필터링할 수 있다.
한편, 도 1에는 2개의 디 드로스 포켓(110)이 구비되어 플로트 배스(10)의 하류 측에서 플로트 배스(10)의 양 측면에 각각 설치되어 드로스를 필터링하는 것으로 도시되었으나, 본 발명이 이러한 디 드로스 포켓(110)의 개수에 의해 제한되는 것은 아니다. 즉, 디 드로스 포켓(110)은 플로트 배스(10)에 1개 또는 3개 이상 구비될 수 있다.
상기 환원 가스 공급부(120)는, 상기 디 드로스 포켓(110)의 내부로 환원 가스를 공급한다. 그리고, 이와 같이, 디 드로스 포켓(110)의 내부로 유입된 환원 가스는, 드로스를 환원시킬 수 있다. 따라서, 본 발명은, 플로트 배스(10)의 용융 금속(M)에 존재하는 드로스를 화학적으로 제거할 수 있다.
바람직하게는, 상기 환원 가스는 수소 가스를 포함한다. 수소 가스는 환원성을 갖고 있어 주석 산화물과 같은 드로스를 환원시킬 수 있을 뿐 아니라, 플로트 배스(10)의 분위기 중에 포함되어 있는 가스이기 때문에 플로트 배스(10)의 유리 성형 공정에도 큰 영향을 끼치지 않을 수 있다.
환원 가스로서 수소 가스가 공급되는 경우 주석 산화물은 다음과 같은 과정을 거쳐 환원될 수 있다.
SnO2+2H2 → SnO+H2O+H2 → Sn+2H2O
여기서, 상기 환원 가스 공급부(120)에 의해 디 드로스 포켓(110) 내부로 공급되는 환원 가스에는, 수소 가스가 1 내지 16 부피%의 농도로 포함되는 것이 좋다. 예를 들어, 환원 가스에는 수소 가스 16 부피% 및 질소 가스 84 부피%의 농도로 포함될 수 있다. 이는 수소 가스가 1 부피% 이하 농도로 포함되는 경우 환원성이 떨어질 수 있고, 16 부피% 이상 농도로 포함되는 경우 수소의 폭발성으로 인해 공정상 안전성이 보장되지 못할 가능성이 있기 때문이다. 더욱 바람직하게는, 공정상 안전성을 보다 확실하게 보장받기 위해, 환원 가스로서 수소 가스를 1 내지 10 부피%의 농도 범위로 포함할 수 있다. 그러나, 본 발명이 반드시 이와 같은 수소 농도의 구체적인 수치 범위에 의해 제한되는 것은 아니며, 환원 가스에 포함된 수소 가스의 농도는 드로스의 양, 유리의 종류, 유리 제조 공정 등 여러 상황에 따라 다양하게 변형될 수 있다.
또한 본 발명에 따른 드로스 제거 장치는, 도 1에 도시된 바와 같이, 열 공급부(130)를 더 포함할 수 있다.
상기 열 공급부(130)는, 환원 가스 공급부(120)에 의해 디 드로스 포켓(110) 내부로 공급되는 환원 가스에 열을 공급한다. 이와 같이, 열 공급부(130)에 의해 환원 가스에 열이 공급되면 환원 가스의 온도가 높아져 라디칼 형태로 환원 가스가 공급될 수 있다. 예를 들어, 환원 가스 공급부(120)가 디 드로스 포켓(110)으로 수소 가스를 공급하는 경우, 상기 열 공급부(130)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 수소 가스 공급 라인 상에 구비되어 수소 가스를 가열할 수 있다. 그러면, 수소 가스에서는 열 분해(thermal decomposition)가 일어나게 되어, 수소 가스는 수소 라디칼 형태로 변환될 수 있다. 이러한 수소 라디칼은 수소 가스에 비해 환원성이 높으므로, 주석 산화물과 같은 드로스의 환원 효율을 크게 증가시킬 수 있다.
더욱 바람직하게는, 상기 열 공급부(130)는, 히팅 코일(heating coil)을 구비하여 환원 가스를 가열할 수 있다. 즉, 상기 열 공급부(130)는, 히팅 코일로서 구현되는 것이 좋다. 다만, 여기서 히팅 코일은 열을 발생시키는 발열 소자를 의미하는 것으로, 반드시 그 명칭에 국한되지는 않으며, 핫 와이어(hot wire)나 핫 필라멘트(hot filament)와 같이 다양한 용어로 표현될 수 있다.
또한, 본 발명은 열 공급부(130)를, 반드시 히팅 코일을 구비한 형태로 한정하지는 않으며, 플라즈마를 이용하는 형태 등과 같이 환원 가스, 특히 수소 가스를 열분해시킬 수 있는 것이면 다양한 형태로 구현될 수 있다.
또한 바람직하게는, 상기 열 공급부(130)는, 환원 가스의 온도가 400℃ 내지 600℃가 되도록 열을 공급하는 것이 좋다. 환원 가스의 온도가 400℃ 미만이면 환원 가스의 열분해가 제대로 일어나지 않을 수 있고, 환원 가스의 온도가 600℃ 이상이면 플로트 배스(10)의 온도에 영향을 미쳐 플로트 배스(10)에서의 유리 성형 공정에 좋지 않은 영향을 끼칠 수 있기 때문이다. 더욱 바람직하게는, 상기 열 공급부(130)는, 환원 가스의 온도가 500℃ 이하로 되도록 하는 것이 좋다.
본 발명에 따른 플로트 배스(10)는, 상술한 드로스 제거 장치를 포함할 수 있다. 즉, 상술한 바와 같이 드로스를 필터링하는 디 드로스 포켓(110) 및 디 드로스 포켓(110)의 내부로 환원 가스를 공급하는 환원 가스 공급부(120)가 플로트 배스(10)의 구성요소로 포함될 수 있다.
한편, 도 1에서는, 플로트 배스(10)의 하류 측 양쪽에 디 드로스 포켓(110)이 각각 구비되어 있고, 이러한 디 드로스 포켓(110) 각각에 환원 가스 공급부(120) 및 열 공급부(130)가 구비된 것으로 도시되었으나, 본 발명이 반드시 이러한 실시예로 한정되는 것은 아니다.
도 2는, 본 발명의 다른 실시예에 따른 드로스 제거 장치의 구성을 개략적으로 도시하는 도면으로서, 도 1과 마찬가지로 플로트 배스(10)의 상부에서 플로트 배스(10)를 바라본 형태의 상면도이다.
도 2를 참조하면, 도 1과 같이 플로트 배스(10)의 하류 측 양쪽에 디 드로스 포켓(110)이 각각 구비되어 있다. 하지만, 도 2에서는 도 1과 달리 환원 가스 공급부(120) 및 열 공급부(130)가 하나만 구비되어 있다. 이러한 실시예에 의하면, 하나의 환원 가스 공급부(120)로부터 2개의 디 드로스 포켓(110)으로 환원 가스가 공급되며, 열 공급부(130) 또한 하나만 구비되어 디 드로스 포켓(110)으로 공급되는 환원 가스를 가열할 수 있다. 다만, 이와 같은 구성 또한 일례에 불과하며, 이러한 구성 이외에도 다양한 구성이 가능할 수 있음은 물론이다. 예를 들어, 도 2의 구성에서 환원 가스 공급부(120)는 하나이되, 열 공급부(130)는 2개 구비되어 2개의 디 드로스 포켓(110)으로 공급되는 환원 가스가 각각의 열 공급부(130)에 의해 가열되는 형태로 구현되는 것도 가능하다.
본 발명에 따른 플로트 유리 제조 장치는, 상술한 드로스 제거 장치를 포함할 수 있다. 즉, 플로트 유리 제조 장치에는 플로트 배스(10)가 포함되는데, 상술한 디 드로스 포켓(110) 및 환원 가스 공급부(120)가 플로트 배스(10)에 일체화된 형태로 포함되거나, 플로트 배스(10)와는 별도의 구성요소로 포함될 수 있다.
도 3은, 본 발명의 일 실시예에 따른 드로스를 제거하는 방법을 개략적으로 도시하는 흐름도이다.
도 3을 참조하면, 플로트 유리를 제조하기 위한 플로트 배스(10)에 수용된 용융 금속(M) 내부에 존재하는 드로스를 제거하는 방법으로, 먼저 플로트 배스(10)의 하류 측에 구비된 디 드로스 포켓(110)을 통해 플로트 배스(10)의 용융 금속(M) 내부에 존재하는 드로스를 필터링한다(S110). 그리고 나서, 본 발명에 따른 드로스 제거 방법은 디 드로스 포켓(110)의 내부로 환원 가스를 공급한다(S120). 여기서, 환원 가스는 수소 가스를 포함할 수 있다. 더욱 바람직하게는, 수소 가스의 농도는 1 내지 16 부피%일 수 있다. 이와 같이, 디 드로스 포켓(110) 내부로 환원 가스가 공급되면, 디 드로스 포켓(110)에 포집되어 수용된 드로스는 환원될 수 있으며, 이는 결국 드로스를 화학적으로 제거하는 것이 된다.
바람직하게는, 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 드로스 제거 방법은, 환원 가스 공급부(120)에 의해 공급되는 환원 가스에 열을 공급하는 단계(S130)를 더 포함할 수 있다. 이와 같이 환원 가스에 열을 공급하면, 환원 가스가 라디칼 형태로 변할 수 있어, 환원성이 크게 향상될 수 있다. 이때, 상기 S130 단계는 히팅 코일에 의해 수행될 수 있다. 또한, 상기 S130 단계는, 환원 가스의 온도가 400℃ 내지 600℃가 되도록 열을 공급함으로써 수행될 수 있다.
이상과 같이, 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 이것에 의해 한정되지 않으며 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술사상과 아래에 기재될 특허청구범위의 균등범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능함은 물론이다.
한편, 본 명세서에서 '환원 가스 공급부', '열 공급부' 등과 같이 '부'라는 용어가 사용되었으나, 이는 논리적인 구성 단위를 나타내는 것으로서, 반드시 물리적으로 분리될 수 있는 구성요소를 나타내는 것이 아니라는 점은 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자에게 자명하다.
10: 플로트 배스
20: 드로스
110: 디 드로스 포켓
120: 환원 가스 공급부
130: 열 공급부

Claims (14)

  1. 플로트 배스의 하류 측에 구비되어 상기 플로트 배스의 용융 금속 내부에 존재하는 드로스를 필터링하는 디 드로스 포켓; 및
    상기 디 드로스 포켓의 내부로 환원 가스를 공급하는 환원 가스 공급부
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 드로스 제거 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 환원 가스는, 수소 가스를 포함하는 것을 특징으로 하는 드로스 제거 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 환원 가스에 포함된 수소 가스 농도는 1 내지 16 부피%인 것을 특징으로 하는 드로스 제거 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 환원 가스 공급부에 의해 공급되는 환원 가스에 열을 공급하는 열 공급부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 드로스 제거 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 열 공급부는, 히팅 코일을 구비하는 것을 특징으로 하는 드로스 제거 장치.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 열 공급부는, 상기 환원 가스의 온도가 400℃ 내지 600℃가 되도록 열을 공급하는 것을 특징으로 하는 드로스 제거 장치.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 드로스 제거 장치를 포함하는 플로트 배스.
  8. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 드로스 제거 장치를 포함하는 플로트 유리 제조 장치.
  9. 플로트 배스의 하류 측에 구비된 디 드로스 포켓을 통해 플로트 배스의 용융 금속 내부에 존재하는 드로스를 필터링하는 단계; 및
    상기 디 드로스 포켓의 내부로 환원 가스를 공급하는 단계
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 드로스 제거 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 환원 가스는, 수소 가스를 포함하는 것을 특징으로 하는 드로스 제거 방법.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 환원 가스에 포함된 수소 가스 농도는 1 내지 16 부피%인 것을 특징으로 하는 드로스 제거 방법.
  12. 제9항에 있어서,
    상기 환원 가스 공급부에 의해 공급되는 환원 가스에 열을 공급하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 드로스 제거 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 열 공급 단계는, 히팅 코일에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 드로스 제거 방법.
  14. 제12항에 있어서,
    상기 열 공급 단계는, 상기 환원 가스의 온도가 400℃ 내지 600℃가 되도록 열을 공급하는 것을 특징으로 하는 드로스 제거 방법.
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