KR101518632B1 - 스트립 이물질 제거장치 - Google Patents

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KR101518632B1
KR101518632B1 KR1020130161824A KR20130161824A KR101518632B1 KR 101518632 B1 KR101518632 B1 KR 101518632B1 KR 1020130161824 A KR1020130161824 A KR 1020130161824A KR 20130161824 A KR20130161824 A KR 20130161824A KR 101518632 B1 KR101518632 B1 KR 101518632B1
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박석달
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주식회사 포스코
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    • B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
    • B21B—ROLLING OF METAL
    • B21B45/00—Devices for surface or other treatment of work, specially combined with or arranged in, or specially adapted for use in connection with, metal-rolling mills
    • B21B45/02—Devices for surface or other treatment of work, specially combined with or arranged in, or specially adapted for use in connection with, metal-rolling mills for lubricating, cooling, or cleaning
    • B21B45/0269—Cleaning
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Abstract

본 발명의 일실시형태에 따른 스트립 이물질 제거장치는 수직방향으로 이동하는 스트립에 부착된 이물질을 제거하기 위한 장치로서, 상기 스트립에 근접 배치되어 상기 스트립에 부착된 이물질을 분리할 수 있도록 상기 스트립 측으로 가스를 분사하면서 낙하하는 이물질을 흡입하는 메인 제거유닛; 상기 메인 제거유닛 하측으로 이격되되 상기 스트립에 근접 배치되어 상기 스트립에 부착된 이물질 및 상기 메인 제거유닛에서 낙하하는 이물질을 흡입하는 보조 제거유닛; 및 상기 메인 제거유닛 및 상기 보조 제거유닛에 연결 설치되어 흡입된 이물질이 배출되는 배출관;을 포함하고, 상기 메인 제거유닛는 상기 스트립에 이격되어 상기 스트립 폭방향으로 배치되고, 공급받은 가스를 분사하는 분사부; 상기 분사부에서 하측으로 이격되어 상기 스트립 폭방향으로 배치되되 상기 분사부와 상기 스트립이 이격된 거리보다 더 이격되어 배치되고, 이물질을 흡입하는 다수의 제 1 흡입관이 형성된 제 1 흡입 헤더;및 상기 분사부와 상기 제 1 흡입 헤더 사이에 경사지게 설치되어 낙하하는 이물질을 상기 제 1 흡입 헤더 방향으로 유도하는 제 1 경사 플레이트;를 포함하며, 상기 보조 제거유닛은, 상기 메인 제거유닛 하측으로 이격되고, 상기 스트립에 이격되어 상기 스트립 폭방향으로 배치되는 가이드바; 상기 가이드바 하측으로 이격되어 상기 스트립 폭방향으로 배치되되 상기 가이드바와 상기 스트립이 이격된 거리보다 더 이격되어 배치되고, 이물질을 흡입하는 다수의 제 2 흡입관이 형성된 제 2 흡입 헤더;및 상기 가이드바와 상기 제 2 흡입 헤더 사이에 경사지게 설치되어 낙하하는 이물질을 상기 제 2 흡입 헤더 방향으로 유도하는 제 2 경사 플레이트;를 포함한다.

Description

스트립 이물질 제거장치{DEVICE FOR REMOVING MATTER OF STRIP}
본 발명은 스트립 이물질 제거장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 수직방향으로 이동하는 스트립에 부착된 이물질을 제거하는 스트립 이물질 제거장치에 관한 것이다.
일반적으로 광휘소둔은 냉간 압연 스트립에 산화탈탄을 방지하기 위해 환원성이나 비산화성 가스인 분위기가스 내에서 소둔을 실시함으로써 냉각 후 스트립 표면의 광택을 유지할 수 있었다.
이러한 광휘소둔에 사용되는 분위기가스는 수소이며, 이 수소의 유출을 방지하기 위하여 수직소둔로로 이루어지는 광휘소둔로는 스트립이 유입되는 입측과 스트립이 배출되는 출측이 밀폐되는 구조를 갖는다.
도 1은 일반적인 수직소둔로를 나타내는 도면이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 수직소둔로의 입구에는 인레트 실롤(10)과 댄스 롤(20)이 설치되고, 출구에는 아웃레트 실롤(30)이 설치되어 수직 소둔로의 내부로 외부 공기가 유입되는 것을 차단한다.
스트립(S)은 가열대(40)의 하부로 투입되어 소둔이 이루어지는데, 가열대(40)의 내부에는 스트립(S)이 지나는 머플(50)이 장착되어 보온을 유지시킨다.
그리고 가열대(40)를 통과하는 스트립(S)은 냉각대(60)를 통과한 후 리턴덕트(70)를 거쳐 출구로 배출되는데, 리턴덕트(70) 내부와 리턴덕트(70) 출구 외측에는 스트립(S)의 경로를 변경시키기 위한 디플렉터 롤(80)이 설치된다.
이러한 수직소둔로에서는 스트립(S)이 가열대(40)와 냉각대(60)를 통과하는 과정에서 스트립(S) 표면에는 이물질이 부착되어 스트립(S)의 표면품질을 저하시키는 문제점이 있었다.
이러한 문제점을 해결하기 위해 종래에는 수직소둔로의 가동을 중단시킨 후 분위기가스를 배출시키고, 내부의 온도를 일정 온도 이하로 낮춘 후, 수직수둔로 내부를 청소하였으나, 이는 오랜 시간이 소요될 뿐만 아니라 분위기가스가 완벽히 배출되지 않은 경우 폭발성이 있는 분위기가스에 의해 작업자가 안전사고에 노출되기도 하였다.
한국등록특허 제10-0362651호에는 '소둔공정의 스트립 표면에 석출된 백분 제거장치'가 개시되어 있다.
이러한 '소둔공정의 스트립 표면에 석출된 백분 제거장치'는 스트립 양측 가장자리부에 지지대가 고정되고, 지지대에는 스트립 폭방향으로 축이 설치되며, 상기 축에는 몸체의 일측 하단부가 회전 가능하도록 장착되고 몸체에는 스트립 진행방향으로 풀림축과 감김축이 회전 가능하도록 장착되어 두루마리형으로 부착포가 감겨지도록 구성됨에 따라 부착포를 스트립 표면에 적정한 압력을 밀착시킨 상태로 스트립이 일정길이 이동할 때까지 백분을 제거하고 다시 사용된 부분의 부착포를 감아 미사용된 부분의 부착포가 스트립 표면에 밀착되어 백분을 제거할 수 있었다.
하지만, '소둔공정의 스트립 표면에 석출된 백분 제거장치'는 부직포가 스트립 표면에 덮어져 스트립 표면과 마찰을 일으켜 스트립의 표면 품질을 악화시켰다.
또한, 부직포를 연속적으로 공급 및 이물질 제거에 사용된 부직포를 회수해야 하고, 부직포가 수직으로 진행되는 스트립에 탄력적으로 밀착되도록 누름판의 압력을 수시로 조절해야하는 작업상의 어려움이 있었다.
한국등록특허 제10-0362651호 (2002. 11. 14.)
본 발명은 수직방향으로 이동하는 스트립 측으로 가스 분사하여 낙하하는 이물질을 흡입 및 배출함으로써 스트립에 부착된 이물질을 제거하는 스트립 이물질 제거장치에 관한 것이다.
본 발명의 일실시형태에 따른 스트립 이물질 제거장치는 수직방향으로 이동하는 스트립에 부착된 이물질을 제거하기 위한 장치로서, 상기 스트립에 근접 배치되어 상기 스트립에 부착된 이물질을 분리할 수 있도록 상기 스트립 측으로 가스를 분사하면서 낙하하는 이물질을 흡입하는 메인 제거유닛; 상기 메인 제거유닛 하측으로 이격되되 상기 스트립에 근접 배치되어 상기 스트립에 부착된 이물질 및 상기 메인 제거유닛에서 낙하하는 이물질을 흡입하는 보조 제거유닛; 및 상기 메인 제거유닛 및 상기 보조 제거유닛에 연결 설치되어 흡입된 이물질이 배출되는 배출관;을 포함하고, 상기 메인 제거유닛는 상기 스트립에 이격되어 상기 스트립 폭방향으로 배치되고, 공급받은 가스를 분사하는 분사부; 상기 분사부에서 하측으로 이격되어 상기 스트립 폭방향으로 배치되되 상기 분사부와 상기 스트립이 이격된 거리보다 더 이격되어 배치되고, 이물질을 흡입하는 다수의 제 1 흡입관이 형성된 제 1 흡입 헤더;및 상기 분사부와 상기 제 1 흡입 헤더 사이에 경사지게 설치되어 낙하하는 이물질을 상기 제 1 흡입 헤더 방향으로 유도하는 제 1 경사 플레이트;를 포함하며, 상기 보조 제거유닛은, 상기 메인 제거유닛 하측으로 이격되고, 상기 스트립에 이격되어 상기 스트립 폭방향으로 배치되는 가이드바; 상기 가이드바 하측으로 이격되어 상기 스트립 폭방향으로 배치되되 상기 가이드바와 상기 스트립이 이격된 거리보다 더 이격되어 배치되고, 이물질을 흡입하는 다수의 제 2 흡입관이 형성된 제 2 흡입 헤더;및 상기 가이드바와 상기 제 2 흡입 헤더 사이에 경사지게 설치되어 낙하하는 이물질을 상기 제 2 흡입 헤더 방향으로 유도하는 제 2 경사 플레이트;를 포함한다.
삭제
상기 분사부는 상기 스트립에 이격되어 상기 스트립 폭방향으로 배치되고, 중공의 내부를 가지며 그 내부로 가스가 공급되는 스프레이 헤더; 상기 스프레이 헤더에 구비되되 상기 스프레이 헤더 내부로 공급된 가스를 상기 스트립 측으로 분사하는 분사노즐;및 상기 스프레이 헤더 단부에 연결 설치되어 상기 스프레이 헤더 내부로 가스를 공급하는 제 1 가스 공급관;을 포함한다.
삭제
삭제
상기 제 1 흡입 헤더 및 상기 제 2 흡입 헤더는 그 일단에 가스를 공급하는 제 2 가스 공급관이 연결 설치되고, 그 타단에 상기 배출관이 연결 설치되어 상기 제 1 흡입 헤더 및 상기 제 2 흡입 헤더로 공급된 가스와 함께 상기 제 1 흡입관 및 제 2 흡입관에서 흡입된 이물질이 상기 제 1 흡입 헤더 및 상기 제 2 흡입 헤더의 일단에서 타단방향으로 유동되는 것을 특징으로 한다.
상기 제 2 경사 플레이트에는 그 단부에 가이드바가 탈착 가능하게 설치되는 것을 특징으로 한다.
상기 제 1 흡입관 및 제 2 흡입관은 그 일단이 각각 상기 스프레이 헤더 및 상기 가이드바를 향하도록 상기 제 1 흡입 헤더 및 상기 제 2 흡입 헤더의 외부로 돌출되고, 그 타단이 상기 제 1 흡입 헤더 및 상기 제 2 흡입 헤더 내부에서 가스의 진행방향으로 꺾여있어 상기 가스의 진행방향으로 흡입력이 작용하는 것을 특징으로 한다.
상기 메인 제거유닛 및 상기 보조 제거유닛은 각각 상기 스트립 양측에 이격되어 한 쌍이 설치되는 것을 특징으로 한다.
본 발명은 상기한 기술적 구성으로 인해 아래와 같은 효과를 얻을 수 있다.
첫째, 스트립에 부착된 이물질을 가스 분사하여 분리시킴에 따라 스트립 표면에 이물질을 부착포 등을 밀착시켜 제거하는 것에 비해 스트립과의 마찰 줄일 수 있는 효과가 있다.
둘째, 스트립에 부착된 이물질을 제거하기 위한 사전작업이 요구되지 않아 소둔공정의 중단없이 스트립에 부착된 이물질을 연속적으로 제거할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 일반적인 수직소둔로를 나타내는 도면이다.
도 2는 본 발명 일실시예에 따른 스트립 이물질 제거장치를 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명 일실시예에 따른 스트립 이물질 제거장치의 메인 제거유닛을 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명 일실시예에 따른 스트립 이물질 제거장치의 보조 제거유닛을 나타내는 도면이다.
도 5는 본 발명 일실시예에 따른 스트립 이물질 제거장치의 메인 제거유닛을 나타내는 단면도이다.
도 6은 본 발명 일실시예에 따른 스트립 이물질 제거장치의 보조 제거유닛을 나타내는 단면도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 더욱 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.
도 2는 본 발명 일실시예에 따른 스트립 이물질 제거장치를 나타내는 도면이고, 도 3은 본 발명 일실시예에 따른 스트립 이물질 제거장치의 메인 제거유닛을 나타내는 도면이다. 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 스트립 이물질 제거장치는 수직방향으로 이동하는 스트립에 부착된 이물질을 제거하기 위한 장치로서, 메인 제거유(100)닛; 보조 제거유닛(200);및 배출관(300)을 포함한다.
상기 메인 제거유닛(100)은 상기 스트립(S)에 근접배치되어 상기 스트립(S) 측으로 가스를 분사하여 상기 스트립(S) 표면에 부착된 이물질을 분리시키고, 분리된 이물질이 낙하하면 이를 흡입하여 배출하는 수단으로서, 상기 스트립(S) 측으로 가스를 분사하는 분사부(110); 상기 분사부(110)에서 분사하는 가스에 의해 상기 스트립(S) 표면에 부착된 이물질이 분리되어 낙하하면 이를 흡입하는 제 1 흡입 헤더(120);및 상기 분사부(110)와 상기 제 1 흡입 헤더(120)에 연결 설치되는 제 1 경사 플레이트(130);를 포함한다.
상기 분사부(110)는 공급받은 가스를 분사하는 수단으로서, 상기 스트립(S)에 이격되어 상기 스트립(S) 폭방향으로 배치되는 스프레이 헤더(111); 상기 스프레이 헤더(111)에 구비되는 다수의 분사노즐(112);및 상기 스프레이 헤더(111) 단부에 설치되는 제 1 가스 공급관(113)을 포함한다.
상기 스프레이 헤더(111)는 중공의 내부를 갖고, 둘레가 둥근 대 형상으로 형성되되 그 길이는 상기 스트립(S)의 폭방향 길이에 대응되는 길이를 갖는다.
그리고 상기 스프레이 헤더(111)는 그 단부에 제 1 가스 공급관(113)이 연결 설치되고, 그 내부로 가스가 공급된다.
또한, 상기 스프레이 헤더(111)에는 상기 스트립 측으로 상기 제 1 가스 공급관(113)으로부터 공급받은 가스를 분사할 수 있도록 상기 스트립(S)의 폭방향 길이에 대응되는 길이를 갖는 길이방향을 따라 상기 분사노즐(112)이 설치된다.
상기 분사노즐(112)은 상기 스프레이 헤더(111)의 내부로 연통되고, 상기 제 1 가스 공급관(113)으로부터 상기 스프레이 헤더(111) 내부로 공급되는 가스를 상기 스트립(S) 측으로 분사한다.
특히, 상기 분사노즐(112)이 설치되는 위치는 상기 분사노즐(112)을 통해 분사되는 가스가 상기 스트립(S)의 진행방향의 반대방향으로 경사지게 분사될 수 있는 위치에 형성되는 것이 바람직하다.
상기 제 1 가스 공급관(113)은 상기 스프레이 헤더(111) 단부에 연결 설치되어 상기 스프레이 헤더(111) 내부로 가스를 공급한다.
특히, 상기 제 1 가스 공급관(113)에는 가스 공급의 개폐 동작을 제어하는 제 1 밸브(114)가 설치되고, 상기 제 1 밸브(114)는 세팅된 시간을 주기로 일정시간 개방되어 가스를 공급할 수 있도록 제어하는 제 1 제어부(500)에 전기적으로 연결된다.
상기 제 1 흡입 헤더(120)는 이물질을 흡입하기 위한 수단으로서, 상기 스프레이 헤더(111) 하측으로 이격되어 상기 스트립(S) 폭방향으로 배치되되 상기 분사부(110)와 상기 스트립(S)이 이격된 거리보다 더 이격되어 배치되고, 상기 스트립(S)의 폭방향 길이에 대응되는 길이를 갖는다.
특히, 상기 제 1 흡입 헤더(120)는 상기 스트립(S)의 폭방향 길이에 대응되는 길이를 갖는 길이방향을 따라 다수개의 제 1 흡입관(121)이 형성된다.
상기 제 1 흡입관(121)은 이물질을 흡입하기 위한 수단으로서, 상기 제 1 흡입관(121)의 후술될 제 2 흡입관(221)과 그 기능 및 구조가 동일하며, 자세한 설명은 이하에서 설명되는 제 2 흡입관(221)과 함께 기술하기로 한다.
상기 제 1 경사 플레이트(130)는 상기 스프레이 헤더(111)와 상기 제 1 흡입 헤더(120) 사이에 경사지게 설치되어 낙하하는 이물질을 상기 제 1 흡입 헤더(120) 방향으로 유도하는 수단으로서, 상기 분사노즐(112)에서 가스를 분사함에 따라 상기 스트립(S) 표면에 부착된 이물질이 분리되어 낙하하는데, 이 낙하하는 이물질을 부착시킨다.
도 4은 본 발명 일실시예에 따른 스트립 이물질 제거장치의 보조 제거유닛을 나타내는 도면이다. 도 2 및 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 보조 제거유닛(200)은 상기 메인 제거유닛(100) 하측으로 이격되고, 상기 스트립(S)에 근접 배치되며, 상기 스트립(S) 표면에 부착된 이물질 및 상기 메인 제거유닛(100)에서 낙하하는 이물질을 흡입하여 배출하는 수단으로서, 상기 스트립(S)에서 이격 배치되는 가이드바(210); 상기 스트립(S) 표면에 부착된 이물질 및 상기 메인 제거유닛(100)에서 낙하하는 이물질을 흡입하는 제 2 흡입 헤더(220);및 상기 가이드바(210)와 상기 제 2 흡입 헤더(220)에 연결 설치되는 제 2 경사 플레이트(230)를 포함한다.
상기 가이드바(210)는 상기 메인 제거유닛(100) 하측으로 이격되고, 상기 스트립(S)에 근접 배치되되 상기 스트립(S) 폭방향으로 배치된다.
특히, 상기 가이드바(210)는 상기 스트립(S) 이동 중 형상 변형이나 원래의 진행방향에서 사행되어 이동하는 것을 방지하기 위한 것이다.
따라서, 상기 스트립(S) 이동 중 형상 변형이나 원래의 진행방향에서 사행되어 이동하면 상기 가이드바(210)는 상기 스트립(S)에 접하게 되므로 상기 스트립(S) 표면과 마찰력을 최소화할 수 있도록 고무재질로 이루어지는 것이 바람직하다.
특히, 상기 가이드바(210)는 상기 제 2 경사 플레이트(230)의 단부에 결합되되 탈착 가능하게 설치된다.
상기 제 2 흡입 헤더(220)는 이물질을 흡입하기 위한 수단으로서, 상기 가이드바(210) 하측으로 이격되어 상기 스트립(S) 폭방향으로 배치되되 상기 가이드바(210)와 상기 스트립(S)이 이격된 거리보다 더 이격되어 배치되고, 상기 스트립(S)의 폭방향 길이에 대응되는 길이를 갖는다.
특히, 상기 제 2 흡입 헤더(220)는 상기 스트립(S) 폭방향 길이에 대응되는 길이를 갖는 길이방향을 따라 다수개의 제 2 흡입관(221)이 형성된다.
도 5는 본 발명 일실시예에 따른 스트립 이물질 제거장치의 메인 제거유닛을 나타내는 단면도이고, 도 6은 본 발명 일실시예에 따른 스트립 이물질 제거장치의 보조 제거유닛을 나타내는 단면도이다.
도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 흡입관(121) 및 상기 제 2 흡입관(221)은 각각 상기 제 1 경사 플레이트(130)와 상기 제 2 경사 플레이트(230)의 상면에 부착되는 이물질을 흡입하기 위한 수단으로서, 상기 제 1 흡입관(121) 및 상기 제 2 흡입관(221)은 그 일단이 각각 상기 스프레이 헤더(111) 및 상기 가이드바(210)를 향하도록 상기 제 1 흡입 헤더(120) 및 상기 제 2 흡입 헤더(220)의 외부로 돌출되고, 그 타단이 상기 제 1 흡입 헤더(120) 및 상기 제 2 흡입 헤더(220)의 내부에서 가스의 진행방향으로 꺾여있는 'ㄴ'자 형상을 갖는다.
상기 제 1 흡입관(121) 및 상기 제 2 흡입관(221)은 이러한 형성적 특징으로 인해 상기 가스의 진행방향으로 이물질이 흡입되는 흡입력이 작용할 수 있는 것이다.
상기 제 2 경사 플레이트(230)는 상기 가이드바(210)와 상기 제 2 흡입 헤더(220) 사이에 경사지게 설치되어 상기 스트립(S)의 이물질 및 상기 메인 제거유닛(100)에서 낙하하는 이물질을 상기 제 2 흡입 헤더(220) 방향으로 유도하는 수단으로서, 상기 스트립(S)에 부착된 이물질 및 상기 메인 제거유닛(100)에서 흡입되지 못하고, 낙하하는 이물질을 부착시킨다.
상기 배출관(300)은 상기 제 1 흡입 헤더(120) 및 제 2 흡입 헤더(220)의 타단에 연결 설치되어 상기 제 1 흡입 헤더(120) 및 상기 제 2 흡입 헤더(220) 내부로 공급된 가스와 함께 이물질이 흡입되어 배출되는 통로이다.
바람직하게 상기 배출관(300)의 배출구에는 이물질을 수거할 수 있도록 수거함(700)이 배치될 수 있다.
특히, 상기 제 1 흡입 헤더(120)는 그 일단에 가스를 공급하는 제 2 가스 공급관(400)이 연결 설치되고, 그 타단에 상기 제 1 흡입 헤더(120) 내부로 공급된 가스와 함께 상기 제 1 흡입관(121)으로 이물질이 흡입되어 배출되는 배출관(300)이 연결 설치된다.
그리고 상기 제 2 흡입 헤더(220)는 그 일단에 가스를 공급하는 제 2 가스 공급관(400)이 연결 설치되고, 그 타단에 상기 제 2 흡입 헤더(220) 내부로 공급된 가스와 함께 제 2 흡입관(221)으로 이물질이 흡입되어 배출되는 배출관(300)이 연결 설치된다.
이에 따라 상기 제 1 흡입 헤더(120) 및 상기 제 2 흡입 헤더(220)의 내부에서 상기 제 1 흡입 헤더(120) 및 상기 제 2 흡입 헤더(220)의 일단에서 타단방향으로 가스가 유동된다.
또한, 상기 제 2 가스 공급관(400)에는 가스 공급의 개폐 동작을 제어하는 제 2 밸브(410)가 설치되고, 상기 배출관(300)에는 상기 제 1 흡입 헤더(120) 및 상기 제 2 흡입 헤더(220) 내부로 공급된 가스와 함께 흡입된 이물질의 배출 개폐동작을 제어하는 제 3 밸브가 설치된다.
상기 제 2 밸브(410) 및 상기 제 3 밸브(310)는 세팅된 시간을 주기로 일정시간 개방되어 가스를 공급 및 배출할 수 있도록 세팅된 시간을 주기로 일정시간 개방되어 공급된 가스와 함께 흡입된 이물질을 배출할 수 있도록 제어하는 제 2 제어부(600)에 전기적으로 연결된다.
상기 메인 제거유닛(100) 및 상기 보조 제거유닛(200)은 각각 상기 스트립(S)을 기준으로 서로 대향되어 한 쌍이 설치된다면 상기 스트립(S) 양측 표면에 부착된 이물질을 제거할 수 있다.
또한, 상기 한 쌍의 메인 제거유닛(100) 및 한 쌍의 상기 보조 제거유닛(200)은 각각 상기 스트립의 진행방향을 따라 이격되어 다수개가 배치한다면, 상기 스트립(S) 표면에 부착된 이물질 제거율을 향상시킬 수 있다.
상기와 같이 구성된 본 발명의 일실시예에 따른 스트립 이물질 제거장치의 작동상태를 설명한다.
스트립(S)이 수직소둔로의 입구인 가열대 하부로 투입되어 냉각대를 통과한 후 리턴덕트를 거치는 과정 중, 스트립(S) 상에 이물질이 부착되어 있는 것이 감지되면 제 1 제어부(500)에서는 제 1 밸브(114)를 일정시간 동안 개방하도록 제어한다.
제 1 밸브(114)가 개방됨에 따라 스프레이 헤더(111)로 공급된 가스는 분사노즐(112)을 통해 스트립(S) 측으로 분사되는데, 이로 인해 스트립(S) 표면에 부착된 이물질이 스트립(S) 표면에서 분리되어 제 1 경사 플레이트(130)로 낙하하게 된다.
이와 동시에 제 2 제어부(600)에서는 제 2 밸브(410) 및 제 3 밸브(310)를 일정시간 동안 개방하도록 제어한다.
제 2 밸브(410)가 개방됨에 따라 제 1 흡입 헤더(120) 및 제 2 흡입 헤더(220)의 일단으로 가스가 공급되고, 이때 제 1 흡입 헤더(120) 공급되는 가스의 진행방향을 따라 제 1 경사 플레이트(130)로 낙하하는 이물질이 제 1 흡입관(121)으로 흡입된다.
그리고 제 1 흡입관(121)으로 흡입된 이물질은 제 1 흡입 헤더(120) 내부로 이동되고, 제 3 밸브(310)가 개방됨에 따라 제 1 흡입 헤더(120) 내부에 가스 진행방향을 따라 이물질이 가스와 함께 배출관(300)으로 배출되어 수거함(700)으로 수거된다.
이때, 제 1 흡입관(121)에서 흡입되지 못하고 하부로 낙하하는 이물질은 제 2 경사 플레이트(230)로 낙하하고, 제 2 경사 플레이트(230)로 낙하하는 이물질은 제 2 흡입관(221)으로 흡입되어 제 2 흡입 헤더(220) 내부로 이동되고, 제 3 밸브(310)가 개방됨에 따라 제 2 흡입 헤더(220) 내부에 가스 진행방향을 따라 이물질이 가스와 함께 배출관(300)으로 배출되어 수거함(700)으로 수거된다.
발명을 첨부 도면과 전술된 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였으나, 본 발명은 그에 한정되지 않으며, 후술되는 특허청구범위에 의해 한정된다. 따라서, 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 후술되는 특허청구범위의 기술적 사상에서 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 변형 및 수정할 수 있다.
S: 스트립 10: 인레트 실롤
20: 댄스 롤 30: 아웃레트 실롤
40: 가열대 50: 머플
60: 냉각대 70: 리턴덕트
80: 디플렉터 롤 100: 메인 제거유닛
110: 분사부 111: 스프레이 헤더
112: 분사노즐 113: 제 1 가스 공급관
114: 제 1 밸브 120: 제 1 흡입 헤더
121: 제 1 흡입관 130: 제 1 경사 플레이트
200: 보조 제거유닛 210: 가이드바
220: 제 2 흡입 헤더 221: 제 2 흡입관
230: 제 2 경사 플레이트 300: 배출관
310: 제 3 밸브 400: 제 2 가스 공급관
410: 제 2 밸브 500: 제 1 제어부
600: 제 2 제어부 700: 수거함

Claims (8)

  1. 수직방향으로 이동하는 스트립에 부착된 이물질을 제거하기 위한 장치로서,
    상기 스트립에 근접 배치되어 상기 스트립에 부착된 이물질을 분리할 수 있도록 상기 스트립 측으로 가스를 분사하면서 낙하하는 이물질을 흡입하는 메인 제거유닛; 상기 메인 제거유닛 하측으로 이격되되 상기 스트립에 근접 배치되어 상기 스트립에 부착된 이물질 및 상기 메인 제거유닛에서 낙하하는 이물질을 흡입하는 보조 제거유닛; 및 상기 메인 제거유닛 및 상기 보조 제거유닛에 연결 설치되어 흡입된 이물질이 배출되는 배출관;을 포함하고, 상기 메인 제거유닛는 상기 스트립에 이격되어 상기 스트립 폭방향으로 배치되고, 공급받은 가스를 분사하는 분사부; 상기 분사부에서 하측으로 이격되어 상기 스트립 폭방향으로 배치되되 상기 분사부와 상기 스트립이 이격된 거리보다 더 이격되어 배치되고, 이물질을 흡입하는 다수의 제 1 흡입관이 형성된 제 1 흡입 헤더;및 상기 분사부와 상기 제 1 흡입 헤더 사이에 경사지게 설치되어 낙하하는 이물질을 상기 제 1 흡입 헤더 방향으로 유도하는 제 1 경사 플레이트;를 포함하며, 상기 보조 제거유닛은, 상기 메인 제거유닛 하측으로 이격되고, 상기 스트립에 이격되어 상기 스트립 폭방향으로 배치되는 가이드바; 상기 가이드바 하측으로 이격되어 상기 스트립 폭방향으로 배치되되 상기 가이드바와 상기 스트립이 이격된 거리보다 더 이격되어 배치되고, 이물질을 흡입하는 다수의 제 2 흡입관이 형성된 제 2 흡입 헤더;및 상기 가이드바와 상기 제 2 흡입 헤더 사이에 경사지게 설치되어 낙하하는 이물질을 상기 제 2 흡입 헤더 방향으로 유도하는 제 2 경사 플레이트;를 포함하는, 스트립 이물질 제거장치.
  2. 삭제
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 분사부는
    상기 스트립에 이격되어 상기 스트립 폭방향으로 배치되고, 중공의 내부를 가지며 그 내부로 가스가 공급되는 스프레이 헤더;
    상기 스프레이 헤더에 구비되되 상기 스프레이 헤더 내부로 공급된 가스를 상기 스트립 측으로 분사하는 분사노즐;및
    상기 스프레이 헤더 단부에 연결 설치되어 상기 스프레이 헤더 내부로 가스를 공급하는 제 1 가스 공급관;을 포함하는 스트립 이물질 제거장치.
  4. 삭제
  5. 청구항 3에 있어서,
    상기 제 1 흡입 헤더 및 상기 제 2 흡입 헤더는 그 일단에 가스를 공급하는 제 2 가스 공급관이 연결 설치되고, 그 타단에 상기 배출관이 연결 설치되어 상기 제 1 흡입 헤더 및 상기 제 2 흡입 헤더로 공급된 가스와 함께 상기 제 1 흡입관 및 제 2 흡입관에서 흡입된 이물질이 상기 제 1 흡입 헤더 및 상기 제 2 흡입 헤더의 일단에서 타단방향으로 유동되는 것을 특징으로 하는 스트립 이물질 제거장치.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 제 2 경사 플레이트에는 그 단부에 가이드바가 탈착 가능하게 설치되는 것을 특징으로 하는 스트립 이물질 제거장치.
  7. 청구항 5에 있어서,
    상기 제 1 흡입관 및 제 2 흡입관은 그 일단이 각각 상기 스프레이 헤더 및 상기 가이드바를 향하도록 상기 제 1 흡입 헤더 및 상기 제 2 흡입 헤더의 외부로 돌출되고, 그 타단이 상기 제 1 흡입 헤더 및 상기 제 2 흡입 헤더 내부에서 가스의 진행방향으로 꺾여있어 상기 가스의 진행방향으로 흡입력이 작용하는 것을 특징으로 하는 스트립 이물질 제거장치.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 메인 제거유닛 및 상기 보조 제거유닛은 각각 상기 스트립 양측에 이격되어 한 쌍이 설치되는 것을 특징으로 하는 스트립 이물질 제거장치.

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20000014685U (ko) * 1998-12-30 2000-07-25 이구택 스트립의 이물질 제거장치
KR20070022382A (ko) * 2004-08-05 2007-02-26 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 부착물 제거 장치

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20000014685U (ko) * 1998-12-30 2000-07-25 이구택 스트립의 이물질 제거장치
KR20070022382A (ko) * 2004-08-05 2007-02-26 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 부착물 제거 장치

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