KR101510815B1 - Imaging device and imaging method - Google Patents

Imaging device and imaging method Download PDF

Info

Publication number
KR101510815B1
KR101510815B1 KR20130163821A KR20130163821A KR101510815B1 KR 101510815 B1 KR101510815 B1 KR 101510815B1 KR 20130163821 A KR20130163821 A KR 20130163821A KR 20130163821 A KR20130163821 A KR 20130163821A KR 101510815 B1 KR101510815 B1 KR 101510815B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
imaging
image
unit
horizontal direction
alignment marks
Prior art date
Application number
KR20130163821A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
김성민
윤보영
이승재
Original Assignee
세광테크 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세광테크 주식회사 filed Critical 세광테크 주식회사
Priority to KR20130163821A priority Critical patent/KR101510815B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101510815B1 publication Critical patent/KR101510815B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B17/00Details of cameras or camera bodies; Accessories therefor
    • G03B17/02Bodies
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/48Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/544Marks applied to semiconductor devices or parts, e.g. registration marks, alignment structures, wafer maps
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N23/00Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
    • H04N23/50Constructional details
    • H04N23/55Optical parts specially adapted for electronic image sensors; Mounting thereof
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0008Apparatus or processes for manufacturing printed circuits for aligning or positioning of tools relative to the circuit board

Abstract

The present invention relates to an image device for an inline bonding device, capable of imagining an inspection object with two alignment marks which are separated with a preset distance. The present invention includes two imaging units which are arranged to be overlapped with a preset vertical step and face each other in a horizontal direction to independently obtain the image about a region including each alignment mark. Thereby, the defective rate of a product is minimized while automating a bonding process of a panel and a semiconductor chip at high speed by accurately checking and imaging the alignment mark of the panel which is the inspection object.

Description

촬상 장치 및 촬상 방법{IMAGING DEVICE AND IMAGING METHOD}[0001] IMAGING DEVICE AND IMAGING METHOD [0002]

본 발명은 촬상 장치 및 촬상 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 반도체칩과 패널을 본딩하기 위하여 이들의 정렬 상태를 촬상하는 촬상 장치 및 촬상 방법과, 이러한 촬상 장치 및 촬상 방법에 따라 촬상된 반도체칩을 공급하여 패널에 본딩하는 인라인 본딩 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an imaging apparatus and an imaging method. More particularly, the present invention relates to an image pickup apparatus and an image pickup method for picking up an alignment state of semiconductor chips and panels for bonding them, and an inline bonding apparatus for supplying semiconductor chips picked up according to such image pickup apparatuses and image pick- .

최근 휴대전화와, 노트북, 태블릿PC, 내비게이션 등과 같은 휴대용 전자기기가 급속도로 보급됨에 따라 고밀도의 반도체 패키지의 수요 역시 증가하고 있다.In recent years, demand for high-density semiconductor packages has also increased as portable electronic devices such as mobile phones, notebooks, tablet PCs, and navigation devices are rapidly spreading.

이러한 고밀도의 반도체 패키지를 제조하기 위해 한 장의 패널 상에 복수의 집적회로소자인 반도체칩을 고밀도로 탑재하는 TCP(Tape Carrier Package) 방식이 주로 사용되어 왔으며, 보다 높은 경박단소화 및 액정패널의 파인피치 요구에 맞추어 COB(Chip On Board), COG(Chip On Glass), FOG(Film On Glass) 또는 FOF(Film On Film) 방식에 의해 반도체칩을 실장하는 기술이 개발되었다.In order to manufacture such a high-density semiconductor package, a TCP (Tape Carrier Package) system in which semiconductor chips as a plurality of integrated circuit elements are mounted on a single panel in a high density has been mainly used. Techniques for mounting a semiconductor chip on a chip on board (COB), a chip on glass (COG), a film on glass (FOG), or a film on film (FOF)

이와 같은 반도체칩 실장 기술에 따라 세정된 패널에 이방성 도전 필름을 부착하고, 부착된 이방성 도전 필름 상에 COF(Chip On Film 또는 Chip On Flex) 반도체칩을 배치하여 예비본딩하는 공정을 수행하고, 반도체칩에 압력을 가하여 메인본딩하는 공정을 수행함으로써, 별도의 디바이스 홀을 생성하지 않고 필름 상에 반도체칩을 접합시키는 OLB(Outer Lead Bonding) 방식의 본딩 장치가 개발되었다.A process of attaching an anisotropic conductive film to a cleaned panel according to the semiconductor chip mounting technique and arranging COF (Chip On Film or Chip On Flex) semiconductor chip on the attached anisotropic conductive film to perform preliminary bonding, An OLB (Outer Lead Bonding) type bonding apparatus for bonding a semiconductor chip to a film without creating a separate device hole by developing a main bonding process by applying pressure to the chip has been developed.

이러한 본딩 장치에서 수행되는 본딩 과정에서 반도체칩과 패널의 정렬(Align)을 맞추기 위해 광학부를 구비한 카메라로 구현되는 촬상부 2개를 본딩 장치의 하부에 수평으로 대향 배치하는 구조의 촬상 장치를 이용하고 있다. In order to align the alignment between the semiconductor chip and the panel in the bonding process performed in such a bonding apparatus, an image pickup apparatus having a structure in which two image pickup units implemented with a camera having an optical unit are horizontally opposed to the lower portion of the bonding apparatus .

그런데 이와 같이 수평으로 배치되는 촬상 장치는, 촬상부를 이루고 있는 카메라의 기구적 구성에 의해 대향하는 2개의 촬상부가 서로 최접근할 수 있는 거리에 한계가 있다. 또한 소형 패널의 경우 정렬 마크의 최소 거리를 정확하게 인식하여 촬상할 수 있도록 개선이 요구되고 있다.However, in such an image pickup apparatus that is horizontally disposed, there is a limit in the distance that the two image pickup sections facing each other can approach each other due to the mechanical configuration of the camera constituting the image pickup section. Further, in the case of a small panel, improvement is required so that the minimum distance of the alignment mark can be correctly recognized and picked up.

따라서 본 발명은 인라인 본딩 장치에 이용되는 촬상 장치의 2개의 촬상부가 검사 대상물인 패널 등의 정렬 마크를 정확하게 확인하여 촬상할 수 있도록 촬상 장치 및 촬상 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, an object of the present invention is to provide an image pickup apparatus and an image pickup method so that two image pickup sections of an image pickup apparatus used in an in-line bonding apparatus can accurately identify and capture an alignment mark such as a panel, which is an object to be inspected.

그리고 본 발명은 검사 대상물인 패널 등의 정렬 마크를 정확하게 확인하여 촬상함으로써 패널과 반도체칩의 본딩 공정을 자동화, 고속화하면서 이에 따른 제품의 불량률을 최소화할 수 있도록 인라인 본딩 장치에 이용되는 촬상 장치 및 촬상 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention provides an imaging device and an image sensing device used in an in-line bonding device for accurately and accurately detecting an alignment mark such as a panel to be inspected and automating the bonding process of the semiconductor chip, And a method thereof.

상기 목적은, 소정 거리로 이격되어 있는 2개의 정렬 마크를 갖는 검사 대상물을 촬상하는 촬상 장치에 있어서, 각각의 정렬 마크를 포함하는 영역에 대한 영상을 독립적으로 획득하도록, 수평 방향으로 서로 대향하여 소정의 상하 단차를 두고 중첩 가능하게 배치되는 2개의 촬상부를 갖는 촬상 장치에 의해 달성될 수 있다.The object is achieved by an image pickup apparatus for picking up an inspection object having two alignment marks spaced apart from each other by a predetermined distance, the image pickup apparatus comprising: And an image pickup device having two image pickup portions arranged so as to overlap each other with the upper and lower steps of the image pickup device.

여기에서, 상기 2개의 촬상부는, 상기 검사 대상물의 하부에 제1 수평 방향으로 배치되며, 제1 수평 방향의 일단에 상기 정렬 마크 중 1개를 포함하는 제1 영역에 대한 영상이 입사되어 직각으로 변환 출사되는 제1 반사부와, 제1 수평 방향의 타단에 제1 반사부에서 출사되는 영상을 획득하는 제1 영상 획득부를 갖는 제1 촬상부와, 상기 제1 촬상부의 하부로 소정의 상하 단차 만큼 이격되어 제1 촬상부와 중첩 가능하게 제2 수평 방향으로 배치되며, 제2 수평 방향의 일단에 상기 정렬 마크 중 다른 1개를 포함하는 제2 영역에 대한 영상이 입사되어 직각으로 변환 출사되는 제2 반사부와, 제2 수평 방향의 타단에 제2 반사부에서 출사되는 영상을 획득하는 제2 영상 획득부를 갖는 제2 촬상부를 포함할 수 있다.Here, the two image sensing units are arranged in a first horizontal direction below the object to be inspected, and an image of a first region including one of the alignment marks is incident on one end in the first horizontal direction, A first image pickup section having a first reflection section to be converted and output and a first image acquisition section to acquire an image emitted from the first reflection section at the other end in the first horizontal direction; And an image of a second region including the other one of the alignment marks is incident on one end of the second horizontal direction so as to be converted and emitted at a right angle And a second image pickup unit having a second reflection unit and a second image acquisition unit for acquiring an image emitted from the second reflection unit at the other end in the second horizontal direction.

여기에서, 본 촬상 장치는, 상기 어느 하나의 촬상부의 영상 획득시 다른 하나의 촬상부가 간섭되지 않도록 적어도 어느 하나의 촬상부에 대한 상기 제1 수평 방향 및 상기 제2 수평 방향 중 적어도 어느 하나의 방향으로의 이동량을 조절하는 제어부를 더 포함할 수 있다. Here, the image pickup apparatus may be arranged so that at least one of the first horizontal direction and the second horizontal direction with respect to at least one of the image pickup sections And a control unit for controlling the amount of movement of the second lens group to the second lens group.

여기에서, 상기 제어부는 상기 제1 촬상부와 상기 제2 촬상부가 상기 검사 대상물에 대하여 서로 대향하는 수평 방향으로 이격 및 근접하도록 이동량을 조절할 수 있다.Here, the control unit may adjust the amount of movement such that the first imaging unit and the second imaging unit are spaced apart from and close to each other in the horizontal direction facing each other.

여기에서, 상기 제어부는, 상기 제1 촬상부와 상기 제2 촬상부가 서로 중첩되지 않고 최근접 배치되었을 때 상기 제1 촬상부와 상기 제2 촬상부의 두 광축 간 수평 거리가 상기 검사 대상물의 2개의 정렬 마크의 최소 거리보다 큰지 여부를 판단하고, 크다고 판단된 경우에는 상기 어느 하나의 촬상부의 영상 획득시 다른 하나의 촬상부와 서로 중첩되게 수평 방향으로의 이동량을 조절하여 상기 두 촬상부의 광축간 수평 거리가 상기 최소 거리보다 작거나 같도록 조절할 수 있다. Here, it is preferable that when the first imaging unit and the second imaging unit are arranged so as to be close to each other without being overlapped with each other, the horizontal distance between the two optical axes of the first imaging unit and the second imaging unit is two And when it is judged that it is larger than the minimum distance of the alignment mark, it adjusts the amount of movement in the horizontal direction so as to overlap with the other one imaging unit at the time of capturing the image of the one imaging unit, The distance may be adjusted to be less than or equal to the minimum distance.

여기에서, 상기 촬상 장치는, 상기 제1 촬상부와 상기 제2 촬상부가 서로 중첩되지 않고 최근접 배치되는 경우, 상기 제1 촬상부와 상기 제2 촬상부의 두 광축 간 수평 거리는 상기 검사 대상물의 2개의 정렬 마크의 최소 거리보다 크게 할 수 있다. Here, in the case where the first imaging unit and the second imaging unit are disposed in close proximity to each other without being overlapped with each other, the horizontal distance between the two optical axes of the first imaging unit and the second imaging unit is Can be made larger than the minimum distance of the alignment marks.

여기에서, 상기 촬상 장치는, 상기 제1 촬상부와 상기 제2 촬상부가 서로 중첩되어 최근접 배치되는 경우, 상기 제1 촬상부와 상기 제2 촬상부의 두 광축 간 수평 거리는 상기 검사 대상물의 2개의 정렬 마크의 최소 거리와 같거나 작게 할 수 있다.Here, when the first imaging unit and the second imaging unit overlap each other and are arranged close to each other, the horizontal distance between the two optical axes of the first imaging unit and the second imaging unit is two It can be made equal to or smaller than the minimum distance of the alignment mark.

여기에서, 상기 촬상 장치는, 상기 제1 영역에 대한 영상과 상기 제2 영역에 대한 영상의 크기를 서로 동일하게 할 수 있다. Here, the image pickup apparatus may make the size of the image of the first area and the size of the image of the second area equal to each other.

여기에서, 상기 촬상 장치는, 상기 각각의 정렬 마크가 상기 제1 영역 및 상기 제2 영역의 중심 위치에 배치되게 할 수 있다. Here, the imaging device may cause each of the alignment marks to be disposed at the center position of the first area and the second area.

여기에서, 상기 촬상 장치는, 상기 각각의 정렬 마크가 상기 제1 촬상부 및 상기 제2 촬상부의 광축과 일치하게 배치되게 할 수 있다.Here, the imaging device may be arranged so that the respective alignment marks are aligned with the optical axes of the first imaging section and the second imaging section.

한편, 본 발명의 목적은, 서로 이격되어 있는 적어도 2개의 정렬 마크를 갖는 검사 대상물을 촬상하는 촬상 방법에 있어서, 상기 검사 대상물의 하부에 제1 수평 방향으로 배치되는 제1 촬상부를 마련하는 단계와; 상기 제1 촬상부의 하부로 소정 상하 단차 만큼 이격되어 제1 촬상부와 중첩 가능하게 제2 수평 방향으로 배치되는 제2 촬상부를 마련하는 단계와; 상기 검사 대상물의 2개의 정렬 마크 사이의 이격 거리가 미리 설정된 최소 거리와 같은지 여부를 판단하는 단계와; 상기 판단결과 상기 검사 대상물의 2개의 정렬 마크 사이의 이격 거리가 미리 설정된 최소 거리와 같거나 작은 경우, 상기 2개의 촬상부가 서로 중첩된 상태에서 어느 하나의 촬상부의 영상 획득시 다른 하나의 촬상부가 간섭되지 않도록 상기 제1 수평 방향 및 상기 제2 수평 방향 중 적어도 어느 하나의 방향으로의 이동량을 조절하는 단계와; 상기 제1 촬상부의 상부에서 입사되는 상기 정렬 마크 중 1개를 포함하는 제1 영역에 대한 영상을 직각으로 변환하여 제1 수평 방향의 타단에 마련된 제1 촬상부의 제1 영상 획득부에서 영상을 획득하는 단계와; 상기 제2 촬상부의 상부에서 입사되는 상기 정렬 마크 중 다른 1개를 포함하는 제2 영역에 대한 영상을 직각으로 변환하여 제2 수평 방향의 타단에 마련된 제2 촬상부의 제2 영상 획득부에서 영상을 획득하는 단계를 포함하는 촬상 방법에 의하여 달성할 수 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided an imaging method for imaging an object to be inspected having at least two alignment marks spaced from each other, the method comprising: providing a first imaging section arranged in a first horizontal direction below the object to be inspected; ; Providing a second image sensing unit spaced apart from the first sensing unit by a predetermined vertical distance and arranged in a second horizontal direction so as to be superimposed on the first sensing unit; Determining whether a distance between two alignment marks of the inspection object is equal to a predetermined minimum distance; When the distance between the two alignment marks of the inspection object is equal to or smaller than a preset minimum distance, when one of the two imaging units is overlapped with another, Adjusting the amount of movement in at least one of the first horizontal direction and the second horizontal direction so as not to be disturbed; The image for the first region including one of the alignment marks incident on the upper portion of the first image sensing portion is converted to a right angle and the image is acquired by the first image acquiring portion of the first image sensing portion provided at the other end in the first horizontal direction ; The image for the second area including the other one of the alignment marks incident on the second imaging unit is converted to a right angle and the second image obtained by the second image acquiring unit of the second imaging unit provided at the other end in the second horizontal direction And a step of acquiring the image data.

여기에서, 상기 이동량 조절 단계는, 상기 제1 촬상부와 상기 제2 촬상부가 상기 검사 대상물에 대하여 서로 대향하는 수평 방향으로 이격 및 근접하도록 이동량을 조절하는 단계를 포함하도록 할 수 있다.Here, the moving amount adjustment step may include a step of adjusting the amount of movement such that the first imaging unit and the second imaging unit are spaced apart from and close to each other in the horizontal direction opposite to each other with respect to the inspected object.

여기에서, 상기 촬상 방법은, 상기 제1 영역에 대한 영상과 상기 제2 영역에 대한 영상의 크기는 서로 동일하게 할 수 있다. Here, in the image pickup method, the image of the first area and the image of the second area may have the same size.

여기에서, 상기 촬상 방법은, 상기 각각의 정렬 마크가 상기 제1 영역 및 상기 제2 영역의 중심 위치에 배치되게 할 수 있다.Here, in the imaging method, each of the alignment marks may be disposed at a center position of the first area and the second area.

여기에서, 상기 촬상 방법은, 상기 각각의 정렬 마크가 상기 제1 촬상부 및 상기 제2 촬상부의 광축과 일치하게 배치되게 할 수 있다. Here, in the imaging method, each of the alignment marks may be arranged to coincide with the optical axis of the first imaging unit and the second imaging unit.

여기에서, 상기 판단하는 단계는, 상기 제1 촬상부와 상기 제2 촬상부가 서로 중첩되지 않고 최근접 배치되었을 때 상기 제1 촬상부와 상기 제2 촬상부의 두 광축 간 수평 거리가 상기 검사 대상물의 2개의 정렬 마크의 최소 거리보다 큰지 여부를 판단하는 단계를 포함하고, 상기 이동량 조절 단계는, 상기 두 광축간 수평 거리가 상기 검사 대상물의 2개의 정렬 마크의 최소 거리보다 크다고 판단된 경우에는 상기 어느 하나의 촬상부의 영상 획득시 다른 하나의 촬상부와 서로 중첩되게 수평 방향으로의 이동량을 조절하여 상기 두 촬상부의 광축간 수평 거리가 상기 최소 거리보다 작거나 같도록 조절하는 단계를 포함하게 할 수 있다. Here, the determining may be such that, when the first imaging unit and the second imaging unit are disposed in close proximity without overlapping each other, the horizontal distance between the two optical axes of the first imaging unit and the second imaging unit is And determining whether the horizontal distance between the two optical axes is larger than the minimum distance between the two alignment marks of the inspected object, Adjusting the amount of movement in the horizontal direction so as to overlap with another imaging unit when acquiring an image of one imaging unit so that the horizontal distance between the optical axes of the two imaging units is less than or equal to the minimum distance .

한편, 본 발명의 목적은, 패널과 반도체칩의 본딩에 필요한 열을 공급하는 열 공급부와; 상기 열 공급부로부터 열을 공급받아 패널에 반도체칩을 압착하는 압착헤드와; 상기 패널의 상측 또는 하측에 마련되어 상기 패널과 반도체칩의 정렬을 위한 영상을 획득하기 위하여 광을 조사하는 광 조사부와; 상기 패널과 반도체칩을 검사 대상물로 제공받아 상기 검사 대상물을 촬상하는 상기 촬상 장치를 포함하는 인라인 본딩 장치에 의하여 달성될 수 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided a plasma display panel comprising: a heat supply unit for supplying heat required for bonding a panel and a semiconductor chip; A compression head that receives heat from the heat supply unit and compresses the semiconductor chip on the panel; A light irradiating unit provided above or below the panel to irradiate light to obtain an image for alignment of the semiconductor chip with the panel; And an imaging device that receives the panel and the semiconductor chip as an object to be inspected and picks up the object to be inspected.

본 발명에 따른 촬상 장치 및 촬상 방법에 의하면, 인라인 본딩 장치에 이용되는 촬상 장치의 2개의 촬상부가 검사 대상물인 패널 등의 정렬 마크를 정확하게 확인하여 촬상할 수 있다. According to the imaging device and the imaging method of the present invention, it is possible to accurately recognize and capture an alignment mark such as a panel, which is an object to be inspected, of two imaging units of the imaging apparatus used in an inline bonding apparatus.

본 발명에 따른 촬상 장치 및 촬상 방법에 의하면, 인라인 본딩 장치에서 검사 대상물인 패널 등의 정렬 마크를 정확하게 확인하여 촬상함으로써 패널과 반도체칩의 본딩 공정을 자동화, 고속화하면서 이에 따른 제품의 불량률을 최소화할 수 있다.According to the imaging device and the imaging method of the present invention, it is possible to automate and speed up the bonding process of the panel and the semiconductor chip by accurately checking and photographing the alignment mark such as the panel to be inspected in the inline bonding device, .

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 수평 방향으로 대향 배치된 촬상 장치의 개략도이며,
도 2는 도 1의 촬상 장치에 따른 정렬 마크의 최소 거리 촬상시의 개략도이며,
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 수평 방향으로 상하 단차를 두고 대향 배치된 촬상 장치의 개략도이며,
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 일측 촬상부의 구조를 자세히 나타낸 개략도이며,
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 촬상 장치를 포함하는 인라인 본딩 장치의 구성도이며,
도 6은 검사 대상물의 정렬 상태를 나타낸 개략도이며,
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 촬상 방법을 도시한 흐름도이다.
Fig. 1 is a schematic view of an image pickup device arranged horizontally opposite to each other according to an embodiment of the present invention,
Fig. 2 is a schematic view of a minimum distance imaging of an alignment mark according to the imaging device of Fig. 1,
Fig. 3 is a schematic view of an image pickup device disposed at an upper and lower stepwise position in the horizontal direction and facing each other according to an embodiment of the present invention,
4 is a schematic view showing the structure of the one-side image pickup unit according to the embodiment of the present invention in detail,
5 is a configuration diagram of an in-line bonding apparatus including an image pickup apparatus according to an embodiment of the present invention,
6 is a schematic view showing an alignment state of the object to be inspected,
7 is a flowchart showing an imaging method according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 촬상 장치 및 방법과, 이들을 이용하는 인라인 본딩 장치에 대하여 상세하게 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an imaging apparatus and method according to an embodiment of the present invention and an in-line bonding apparatus using the same will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 인라인 본딩 장치(100; 도 5 참조)에 이용되는 촬상 장치를 개략적으로 도시한 것이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 촬상 장치(300)는 인라인 본딩 장치의 하부에 배치되는 2개의 촬상부(301, 302)로 구성된다. 이에 따라 인라인 본딩 장치(100)의 스테이지(S)에 놓인 다양한 사양으로 제공되는 패널(P) 등의 검사 대상물의 정렬 상태를 확인하기 위하여, 패널(P)의 정렬 마크(m10, m20)를 포함하는 각각의 영역을 각 촬상부의 관측시야 영역(Field of view; 이하 FOV영역이라 하며, FOV10, FOV20)으로 하여, 각 촬상부에서 해당 영역을 촬상한다. 여기에서 FOV영역의 크기는 후술하는 각 촬상부의 영상획득부에 마련되는 이미지 센서 등의 촬상면의 크기에 대응된다.Fig. 1 schematically shows an imaging apparatus used in an in-line bonding apparatus 100 (see Fig. 5) according to an embodiment of the present invention. As shown in Fig. 1, the image capturing apparatus 300 is composed of two image capturing sections 301 and 302 arranged at the lower part of the in-line bonding apparatus. The alignment marks m 10 and m 20 of the panel P are used to check the alignment state of the inspection object such as the panel P provided in various specifications placed on the stage S of the in- (Hereinafter referred to as a FOV area, FOV10, and FOV20) of each imaging unit, and captures the corresponding area in each imaging unit. Here, the size of the FOV area corresponds to the size of an image pickup surface of an image sensor or the like provided in an image obtaining section of each image pickup section described later.

이 때, 두 촬상부 사이의 이격 거리(H10)는 촬상부를 구성하고 있는 기구적 한계로 인하여, 서로 최소 접근할 수 있는 최소 간격이 존재한다. 가령 두 촬상부 사이의 최근접 이격 거리(H10min)는 1mm로 유지할 수 있다. 이에 따라 검사 대상물인 패널(P)의 정렬 마크 간 이격 거리(dm10)가 소정의 최소 거리보다 작은 경우에는 검사 대상물에 대한 적절한 촬상을 수행하기 곤란할 수 있다.At this time, the separation distance (H 10 ) between the two imaging units is the minimum distance that can be minimized because of the mechanical limitations of the imaging unit. For example, the closest distance (H 10 min ) between the two imaging units can be maintained at 1 mm. Accordingly, the separation distance between the alignment mark of the panel (P) object to be inspected (dm 10) is less than a predetermined minimum distance may be difficult to perform an appropriate image capture for the object to be inspected.

즉, 패널(P)의 정렬 마크(m10, m20)는 각 촬상부의 FOV영역의 가능한 한 중심 위치에 배치되는 것이 바람직하며, 각 FOV영역의 중심 위치는 인식 기준점(f10,f20)으로 설정될 수 있다. 특히 검사 대상물인 패널(P)상에 마련되는 터미널 단자 간 피치는 마이크로미터 단위를 가지므로, 패널(P)의 정렬 마크가 FOV영역의 중심 위치를 벗어날 경우 정확한 인식이 곤란할 수 있어, 각 촬상부의 고유한 광학적 사양과 특성에 따라 왜곡 등을 최소화할 필요가 있다. That is, the alignment marks on the panel (P) (m 10, m 20) is preferably arranged at a central location available in each imaging unit FOV area, the center positions of the respective FOV region recognition reference point (f 10, f 20) Lt; / RTI > In particular, since the pitch between terminal terminals provided on the panel P to be inspected has micrometer units, it is difficult to accurately recognize when the alignment mark of the panel P is out of the center position of the FOV region, It is necessary to minimize the distortion according to the inherent optical specifications and characteristics.

따라서 FOV영역의 중심 위치, 즉 인식 기준점(f10, f20) 근방에서는 촬상되는 영상의 왜곡이 최소화될 수 있으므로, 각각의 정렬 마크는 FOV영역의 중심 위치에 일치하도록 배치되는 것이 바람직하다. 이는 FOV영역의 중심 위치가 각 촬상부에 마련되는 광학부를 통과하는 광의 중심이 되는 광축(L10, L20)을 따라 일치하게 배치되어 있는 광학적 구조에 기인한다. Therefore, since the distortion of the image to be captured can be minimized in the vicinity of the center position of the FOV region, that is, in the vicinity of the recognition reference point (f 10 , f 20 ), it is preferable that the respective alignment marks are arranged to coincide with the center position of the FOV region. This is due to the optical structure in which the center position of the FOV area is aligned along the optical axes L10 and L20 which are the centers of the light passing through the optical parts provided in the respective image pickup parts.

이에 따라 도 1의 패널(P)에 마련되는 정렬 마크(m10, m20)의 이격 거리(dm10)는 FOV영역의 인식 기준점(f10, f20) 사이의 거리(df10)와 동일하게 배치되어 촬상될 수 있다.Accordingly, the separation distance dm 10 of the alignment marks m 10 and m 20 provided on the panel P in Fig. 1 is equal to the distance df 10 between the recognition reference points f 10 and f 20 of the FOV region And can be picked up.

그리고 도 2에서는 도 1의 패널(P)과 달리, 보다 소형 패널(P)에서 정렬 마크의 이격 거리(dm11)가, 두 FOV영역(FOV10, FOV20)의 인식 기준점 사이의 거리(df10) 보다 더 가까운 경우를 도시한 것으로, 가령 df10은 9mm이나, dm11은 6mm인 경우를 예로 들 수 있으며, 이 경우 상술과 같이 정렬 마크가 인식 기준점에서 벗어나므로 촬상된 영상의 왜곡 등으로 정렬 마크의 정확한 인식에 곤란을 가져올 수 있다.And the distance between the contrast and the panel (P) of the 2 1, more spacing of the alignment mark on a small panel (P) (dm 11) is, two FOV area recognition reference point of the (FOV 10, FOV 20) ( df 10 , for example, df 10 is 9 mm, and dm 11 is 6 mm. In this case, since the alignment mark deviates from the recognition reference point as described above, distortion of the captured image or the like It may be difficult to accurately recognize the alignment mark.

이와 같은 경우, 각 촬상부 중 적어도 어느 하나를 수평 방향에 대하여 기울어지게 배치하여 공통의 프리즘과 같은 반사부를 채택하거나, 촬상부의 광학적 특성을 달리하도록 구성하거나, 촬상부의 물리적 배치 구조를 수직 방향으로 하는 등에 의하여, 정렬 마크가 각 FOV영역의 인식 기준점에 일치하도록 구성할 수 있다.In such a case, it is preferable that at least one of the image pickup units is arranged so as to be inclined with respect to the horizontal direction so as to adopt a reflective portion such as a common prism, or to change the optical characteristics of the image pickup portion, The alignment mark can be configured to match the recognition reference point of each FOV area.

또한, 도 3의 본 발명의 다른 실시예에서와 같이 수평 방향으로 배치된 2개의 촬상부를 상하 단차를 갖도록 하여 서로 중첩 가능한 구조를 채택할 수 있다.In addition, as in the other embodiment of the present invention shown in Fig. 3, a structure in which two imaging units arranged in the horizontal direction have upper and lower steps and can overlap each other can be adopted.

도 3에서는, 검사 대상물인 패널(P) 등의 정렬 마크의 이격 거리(dm1)에 대하여 미리 설정된 최소 거리(dmmin)가, 도 1과 같은 촬상 장치의 배치 구조에 따라 수평 방향으로 대향 배치된 두 촬상부가 최근접시 각각의 기구적 한계에 의하여 확보되어야 하는 간격으로 인하여, 각 FOV영역의 인식 기준점 사이의 거리(df10) 보다 작은 경우에, 보다 정확하게 검사 대상물인 패널(P) 등의 정렬 마크에 대한 영상을 획득하기 위한 촬상 장치의 구조를 나타낸다.3, a predetermined minimum distance dm min with respect to the separation distance dm 1 of the alignment marks of the panel P or the like to be inspected is arranged to be opposed horizontally in accordance with the arrangement structure of the imaging device as shown in Fig. The distance between the two reference points of the FOV area is smaller than the distance (df 10 ) between the recognition reference points of the FOV area due to the interval in which the two image pickup parts have recently to be secured by the mechanical limitations of the respective plates, Fig. 6 shows a structure of an image pickup apparatus for obtaining an image for a mark.

도 3의 본 발명의 실시예에 따른 촬상 장치(200)는 도 1의 촬상 장치(300)와 마찬가지로, 인라인 본딩 장치(100)의 하부에 배치되는 2개의 촬상부(201, 202)로 구성된다. 이에 따라 인라인 본딩 장치(100)의 스테이지(S)에 놓인 다양한 사양으로 제공되는 검사 대상물인 패널(P) 등의 정렬 상태를 확인하기 위하여, 패널(P)의 정렬 마크(m1, m2)를 포함하는 각각의 영역을 각 촬상부의 FOV영역(FOV1, FOV2)으로 하여, 각 촬상부에서 해당 영역을 촬상한다.The imaging apparatus 200 according to the embodiment of the present invention shown in Fig. 3 is configured by two imaging units 201 and 202 disposed under the in-line bonding apparatus 100 in the same manner as the imaging apparatus 300 shown in Fig. 1 . The alignment marks m 1 and m 2 of the panel P are used to check the alignment state of the panel P or the like which is provided in various specifications placed on the stage S of the in- Is taken as the FOV regions FOV 1 and FOV 2 of the respective image pickup units, and the corresponding regions are picked up by the respective image pickup units.

여기에서, 도 3의 촬상 장치(200)를 이루고 있는 2개의 촬상부(201, 202)는, 패널(P)의 각 정렬 마크(m1, m2)를 포함하는 영역에 대한 영상을 FOV영역(FOV1, FOV2)으로 독립적으로 획득하도록, 수평 방향으로 서로 대향하여 소정의 상하 단차(V1)를 두고 중첩 가능하게 배치된다.Here, the image sensing device 200 with two image pick-up unit (201, 202) that make up of Figure 3, the image of the area including respective alignment marks (m 1, m 2) of the panel (P) FOV area (V 1 ) so as to be independently obtained with the vertical and horizontal steps (FOV 1 , FOV 2 ).

2개의 촬상부 중 하나의 촬상부(이하 '제1 촬상부'라 함, 201)는, 검사 대상물인 패널(P) 등의 하부에 제1 수평 방향으로 배치된다. 제1 촬상부에서, 제1 수평 방향의 일단에는 정렬 마크 중 1개(m1)를 포함하는 제1 영역에 대한 영상을 FOV영역(FOV1)으로 입사받아서 이를 직각으로 변환하여 출사시키는 제1 반사부(210, 도 4 참조)가 마련되며, 제1 수평 방향의 타단에는 제1 반사부(210)에서 출사되는 영상을 획득하는 CCD, CMOS 등의 이미지 센서로 구현될 수 있는 제1 영상 획득부(220; 도 4 참조)가 마련된다. 또한 제1 반사부(210)와 제1 영상 획득부(220) 사이에는, 소정의 사양 및 광학적 특성을 갖는 제1 광학부(230; 도 4 참조)가 배치될 수 있다. One imaging unit (hereinafter referred to as "first imaging unit" 201) of the two imaging units is disposed in the first horizontal direction below the panel P or the like to be inspected. In the first imaging unit, an image of a first region including one (m 1 ) of alignment marks is incident on the FOV region (FOV 1 ) at one end in the first horizontal direction, A first image acquiring unit 210 may be implemented with an image sensor such as a CCD or CMOS for acquiring an image emitted from the first reflecting unit 210 at the other end in the first horizontal direction, (See FIG. 4). A first optical unit 230 (see FIG. 4) having a predetermined specification and optical characteristics may be disposed between the first reflecting unit 210 and the first image obtaining unit 220.

그리고 2개의 촬상부 중 다른 하나의 촬상부(이하 '제2 촬상부'라 함, 202)는 제1 촬상부(201)의 하부로 소정의 상하 단차(V1) 만큼 이격되어 제1 촬상부(201)와 중첩 가능하게 제2 수평 방향으로 배치된다. 여기서 제2 수평 방향은 제1 수평 방향과 평행하지만 제1 수평 방향과 대향하는 방향으로 마련된다. The other imaging unit (hereinafter, referred to as "second imaging unit") 202 of the two imaging units is spaced apart from the first imaging unit 201 by a predetermined upper and lower steps V 1 , Is disposed in the second horizontal direction so as to be superimposed on the first horizontal plane (201). Here, the second horizontal direction is parallel to the first horizontal direction, but is provided in a direction opposite to the first horizontal direction.

또한 제2 촬상부(202)는 제1 촬상부(201)와 마찬가지로 제2 반사부 및 제2 영상 획득부가 마련되며, 제2 반사부와 제2 영상 획득부 사이에는 제2 광학부가 배치될 수 있다. The second image sensing unit 202 may have a second reflection unit and a second image acquisition unit similar to the first image sensing unit 201 and a second optical unit may be disposed between the second reflection unit and the second image acquisition unit. have.

즉, 제2 촬상부(202)에서, 제2 수평 방향의 일단에는 정렬 마크 중 다른 1개(m2)를 포함하는 제2 영역에 대한 영상을 FOV영역(FOV2)로 입사받아서 직각으로 변환하여 출사시키는 제2 반사부가 마련되며, 제2 수평 방향의 타단에는 제2 반사부에서 출사되는 영상을 획득하는 CCD, CMOS등의 이미지 센서로 구현될 수 있는 제2 영상 획득부가 마련된다.That is, in the second imaging unit 202, an image of the second area including one (m 2 ) of the alignment marks is incident on the FOV area FOV 2 at one end in the second horizontal direction, And a second image acquiring unit is provided at the other end of the second horizontal direction, which can be implemented by an image sensor such as a CCD or CMOS, which acquires an image emitted from the second reflecting unit.

여기에서, 제2 촬상부(202)의 제2 광학부는 제1 광학부(230)와 다른 사양 및 광학적 특성을 갖도록 마련될 수 있다. 두 촬상부에 의해 제공되는 FOV영역(FOV1, FOV2)은 서로 동일한 크기로 마련되지만, 검사 대상물인 패널(P)등의 촬상할 대상면과, 각 촬상부의 끝단(도 3에서 각 반사부의 윗면)까지의 작동 거리(working distance, W/D)는 W/D1과 W/D2로 서로 상이하게 마련된다. Here, the second optical portion of the second imaging unit 202 may be provided so as to have different specifications and optical characteristics from the first optical portion 230. The FOV areas FOV 1 and FOV 2 provided by the two image pickup units are provided in the same size as each other. However, the FOV areas FOV 1 and FOV 2 provided by the two image pickup units are provided in the same size, Working distance (W / D) to the upper surface (W / D) is different from W / D 1 and W / D 2 .

가령 제1 촬상부(201)에 마련된 제1 광학부(230)와 동일한 사양과 광학적 특성을 갖는 제2 광학부를 제1 촬상부(202)에 마련할 경우, 제2 광학부의 작동 거리(W/D2)가 제1 광학부의 작동 거리(W/D1)보다 원거리이므로 제2 광학부의 FOV영역(FOV2)에 의해 확보되는 패널(P)의 정렬 마크(m2)를 포함하는 영역은, 제1 광학부의 FOV영역(FOV1)에 의해 확보되는 패널(P)의 정렬 마크(m1)를 포함하는 영역보다 더 넓은 면적을 포함하게 된다.When the second optical section having the same specification and optical characteristics as those of the first optical section 230 provided in the first image pickup section 201 is provided in the first image pickup section 202, Since the D 2) is far less than the first optical unit working distance (W / D 1) a region including the alignment mark (m 2) of the panel (P) is secured by a second optical portion FOV region (FOV 2) is, The area including the alignment mark m 1 of the panel P secured by the FOV area FOV 1 of the first optical part.

따라서 서로 동일한 크기의 두 FOV영역에 포함되는 패널(P)의 정렬 마크를 포함하는 영역의 축적이 상이하게 되어, 패널(P)에 형성된 터미널 단자의 미세 피치의 인식에 장애를 가져올 수 있다. Therefore, the accumulation of the regions including the alignment marks of the panel P included in the two FOV regions of the same size is different, which may interfere with the recognition of the fine pitch of the terminal terminals formed on the panel P. [

이와 같이 서로 상이한 작동 거리(W/D1, W/D2)에도 불구하고, 패널(P)의 각 정렬 마크를 포함하는 영역의 면적이 서로 동일하게 되는 FOV영역을 확보하려면, 검사 대상물인 패널(P) 등에 근접하게 배치되는 제1 촬상부(201)는 제2 촬상부(202)에 대비하여 상대적으로 광각 특성을 갖는 광학부로 마련되며, 검사 대상물인 패널(P) 등과 이격되어 마련되는 제2 촬상부(202)는 제1 촬상부(201)에 대비하여 상대적으로 망원 특성을 갖는 광학부로 마련될 수 있다. 또한 각 촬상부의 반사부의 입사부 쪽에 광학 요소가 더 구비될 수 있다.Despite the operating distances (W / D 1 , W / D 2 ) which are different from each other as described above, in order to secure the FOV area in which the area including the alignment marks of the panel P are equal to each other, The first image sensing unit 201 arranged close to the image sensing unit P is provided with an optical unit having a relatively wide angle characteristic as compared with the second image sensing unit 202, 2 imaging section 202 may be provided as an optical section having a relatively telephoto characteristic in contrast to the first imaging section 201. [ Further, an optical element may be further provided on the incident side of the reflection portion of each image pickup portion.

물론, 각 FOV영역(FOV1, FOV2)의 중심 위치, 즉 인식 기준점(f1, f2)에서 촬상되는 영상의 왜곡 등이 최소화되므로, 각각의 정렬 마크(m1, m2)는 FOV영역의 중심 위치에 일치하도록 배치되는 것이 바람직하다. 또한 FOV 영역의 중심 위치는 각 촬상부에 마련되는 광학부의 광축(L1, L2)과 일치하도록 배치된다.Of course, since the center positions of the FOV areas FOV 1 and FOV 2 , that is, the distortion of the image captured at the recognition reference points f 1 and f 2 are minimized, the respective alignment marks m 1 and m 2 are FOV It is preferable that they are arranged so as to coincide with the center positions of the regions. Further, the center position of the FOV area is arranged so as to coincide with the optical axes (L1, L2) of the optical part provided in each imaging section.

이에 따라 도 3의 패널(P)에 마련되는 소정의 최소 거리(dmmin)에 대응하는 정렬 마크(m1, m2)의 이격 거리(dm1)는 각 FOV영역의 인식 기준점(f1, f2) 사이의 거리(df1)와 동일하게 배치되어 촬상될 수 있다.Accordingly, the separation distance (dm 1) is a base point recognition of the respective FOV region of the alignment mark (m 1, m 2) corresponding to FIG on (dm min) the predetermined minimum distance is provided on the third panel (P) (f 1, f 2 ) of the first lens group G1.

도 3의 촬상 장치에서 상하 단차를 두고 수평 방향으로 대향 배치된 두 촬상부가 서로 중첩되지 않는 범위에서 최근접시의 인식 기준점 간 거리는, 도 1의 촬상 장치에서 두 촬상부가 최근접시의 인식 기준점 간 거리와 동일하게 설정될 수 있다.In the imaging apparatus of Fig. 3, the distances between the recognition reference points of the latest dish in the range where the two imaging units opposed horizontally with the upper and lower steps are not overlapped with each other are as follows: Can be set the same.

이에 따라, 도 3에서 패널(P)의 정렬 마크(m1, m2)의 이격 거리(dm1)가 미리 설정된 최소 거리(dmmin)에 해당하는 경우, 상하 단차(V1)를 두고 수평 방향으로 대향 배치된 두 촬상부(201, 202)를 서로 중첩되게 이동량을 조절하여 인식 기준점(f1, f2) 간 거리(df1)를 정렬 마크의 최소 거리(dmmin)에 대응하게 할 수 있다. 이와 같은 촬상부의 이동량은 인라인 본딩 장치(100)에 마련되는 제어부(400; 도 5 참조)에 의하여 구현될 수 있다.Accordingly, if the alignment marks (m 1, m 2) spaced distance (dm 1) a pre-set minimum distance (dm min) of the panel (P) in Fig. 3, with the bottom step difference (V 1) Horizontal The distance df 1 between the recognition reference points f 1 and f 2 is adjusted to correspond to the minimum distance dm min of the alignment mark by adjusting the amount of movement so that the two imaging units 201 and 202 opposed to each other in the direction . The moving amount of the image sensing unit may be realized by a control unit 400 (see FIG. 5) provided in the inline bonding apparatus 100. FIG.

또한, 도 3의 촬상 장치에서, 제어부(400)는 제1 촬상부 또는 제2 촬상부(201 또는 202) 중 어느 하나의 촬상부(가령 제2 촬상부(202))의 영상 획득시 상하 단차를 두고 중첩되어 배치되어 있는 다른 하나의 촬상부(가령 제1 촬상부(201))가 간섭되지 않도록 어느 하나의 촬상부(201 또는 202)에 대한 제1 수평 방향 및 제2 수평 방향 중 적어도 어느 하나의 방향으로의 이동량을 조절할 수 있으며, 이와 달리 두 촬상부의 이동량을 함께 조절할 수도 있다.3, the control unit 400 controls the operation of the image pickup unit (for example, the second image pickup unit 202) of either the first image pickup unit or the second image pickup unit 201 or 202, At least either one of the first horizontal direction and the second horizontal direction with respect to any one of the imaging units 201 or 202 so as not to interfere with another one of the imaging units (e.g., the first imaging unit 201) The amount of movement in one direction can be adjusted, and the amount of movement of the two imaging units can be adjusted in the same manner.

또한, 도 1의 촬상 장치(200)를 이루고 있는 2개의 촬상부 중 어느 하나를 상하 방향으로 단차를 갖도록 조절하고 이와 함께 촬상부의 수평 방향으로의 이동량을 조절하도록 하여 도 3과 같은 촬상 장치 구조를 구현할 수 있다. 이 때, 2개의 촬상부 중 어느 하나의 광학적 특성, 가령 작동 거리에 대응하는 배율을 갖는 광학부를 갖는 촬상부를 교환 가능한 구조로 채택할 수 있다. In addition, any one of the two imaging units constituting the imaging device 200 of Fig. 1 may be adjusted so as to have a step in the vertical direction and the moving amount of the imaging unit in the horizontal direction may be adjusted, Can be implemented. At this time, it is possible to adopt a structure in which an image pickup section having an optical section having an optical characteristic of any one of the two image pickup sections, for example, a magnification corresponding to the operation distance, can be exchanged.

한편, 본 발명의 실시예들에 개시된 촬상 장치에 포함되는 각 촬상부 중 하나의 구조를 도 4에 기초하여 상세히 설명한다.On the other hand, the structure of one of the imaging units included in the imaging apparatus disclosed in the embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIG.

도 4의 촬상부는 제1 수평 방향으로 배치된 제1 촬상부(201)를 보다 상세히 도시한 것이다. 여기에서, 도 1의 각 촬상부(301, 302)는 대향하는 수평 방향으로 배치되어 서로 동일한 사양으로 마련되고, 도 3의 각 촬상부(201, 203)는 상하 단차를 두고 대향하는 수평 방향으로 배치되어 서로 다른 사양(가령 작동 거리의 상이, 광학 배율의 상이 등)으로 마련되는 점을 제외하면, 각각의 촬상부(201, 202, 301, 303)는 기구적으로 도 4의 제1 촬상부(201)의 구조와 실질적으로 동일하게 마련될 수 있으므로, 각 촬상부에 대하여 반복적으로 서술하지 아니한다.The image sensing unit of FIG. 4 shows the first image sensing unit 201 arranged in the first horizontal direction in more detail. Here, each of the imaging units 301 and 302 shown in Fig. 1 is arranged in the opposite horizontal direction and provided with the same specifications, and each of the imaging units 201 and 203 shown in Fig. Each of the imaging units 201, 202, 301, and 303 is mechanically arranged in the first imaging unit 210 of FIG. 4, except that the imaging units 201, 202, 301, and 303 are arranged and provided with different specifications (e.g., differences in working distance, It is not necessary to repeatedly describe each imaging unit.

도 4의 제1 촬상부(201)에서 제1 반사부(210)는 도 1의 촬상 장치와 같이 수평 방향으로 대향 배치될 경우, 제2 촬상부의 제2 반사부와는 소정의 이격 거리(H10)를 두고 배치되며, 촬상부의 기구적 한계에 따라 이격 거리(H10)의 최소값이 설정될 수 있음은 상술과 같다.When the first reflecting portion 210 of the first image pickup portion 201 of FIG. 4 is disposed horizontally opposite to the image pickup device of FIG. 1, the first reflecting portion 210 is spaced apart from the second reflecting portion of the second image pickup portion by a predetermined distance H 10 , and the minimum value of the separation distance H 10 can be set in accordance with the mechanical limitations of the image pickup section.

여기에서, 제1 반사부(210)에 배치된 프리즘, 거울 등으로 구성되는 반사체(211)는, 입사되는 FOV영역에 대응하는 영상의 난반사 등의 오차를 줄이기 위하여 반사체(211)의 끝단으로부터 소정 치수의 안전 거리(e1)를 마련한다. Here, the reflector 211 formed of the prism, mirror, or the like disposed in the first reflector 210 may be provided in a predetermined (predetermined or predeterminable) range from the end of the reflector 211 in order to reduce the error of irregular reflection of the image corresponding to the incident FOV region, Provide the safe distance (e 1 ) of the dimension.

아울러 제1 반사부(210)에 배치되는 반사체(211)는 기구적 구조상 제1 반사부(210) 외측면과 일정한 배치 간격(t1)을 갖게 된다.In addition, the reflector 211 disposed in the first reflector 210 has a predetermined arrangement interval t 1 with the outer surface of the first reflector 210 in terms of mechanical structure.

이에 따라 FOV영역의 면적, 즉 가로 치수(X), 세로 치수(Y)에 의하여 확보되는 광에 대응하는 영역의 영상은 제1 촬상부(201)의 광축(L1)을 따라 제1 반사부(210)의 반사체(211)로 입사되어 직각 변환되어 출사될 수 있다. The image of the area corresponding to the light ensured by the area of the FOV area, that is, the lateral dimension X and the longitudinal dimension Y is transmitted along the optical axis L1 of the first image sensing unit 201 to the first reflection unit 210, and converted into a right angle and emitted.

도 4에서 FOV영역의 입사 영상은 반사체(211)를 거쳐 직각 변환되어 출사되어, 제1 광학부(230)를 통과하여 제1 영상 획득부(220)로 제공되므로, FOV영역의 가로 치수(X)의 양단부(La, Lb)는 광축(L1)을 중심으로 2등분(a, a)되는 것으로 나타낼 수 있다. 또한 FOV영역의 세로 치수(Y)에 대하여도 가로 치수(X)와 대응하여 나타낼 수 있다.4, the incident image of the FOV region is converted into a rectangular image through the reflector 211, passes through the first optical unit 230, and is provided to the first image obtaining unit 220. Therefore, the horizontal dimension X The two ends La and Lb of the light beam L1 can be represented as being bisected (a, a) around the optical axis L1. The vertical dimension (Y) of the FOV region can also be represented corresponding to the horizontal dimension (X).

이에 따라 도 1의 촬상 장치에서 두 촬상부의 FOV영역 사이의 최근접 거리를 F10min이라 하면, FOV영역의 가로 치수(X)를 기준으로 살펴보면, 제1 촬상부의 안전거리 e1, 반사체의 배치 간격 t1, 촬상부간 최근접 이격 거리 H10min, 제2 촬상부의 안전 거리(e1 과 동일), 반사체의 배치 간격(t1과 동일)의 합으로 나타낼 수 있다. Thus if according as the closest distance F 10min between the two image pick-up portion FOV area in the imaging device of Figure 1, looking relative to the transverse dimension (X) of the FOV area, safety distance portion first sensing e 1, the spacing of the reflector t 1 , the closest distance between the imaging units H 10 min , the safety distance of the second imaging unit (same as e 1 ), and the arrangement interval of the reflectors (same as t 1 ).

수식 (1) : F10min = 2*(e1 + t1) + H10min Formula (1): F 10min = 2 * (e 1 + t 1) + H 10min

그리고 도 1의 촬상 장치에서 두 촬상부의 인식 기준점 사이의 최근접 거리를 dfmin이라 하면, FOV영역의 가로 치수(X)를 기준으로 살펴보면, 위 F10min의 값에 2등분 값 a를 2번 더한 값으로 나타낼 수 있다. And when referred to as the closest distance df min between the two image sensing unit recognizes the reference point in the imaging device of Figure 1, looking relative to the transverse dimension (X) of the FOV area, the value of the above F 10min 2 equally divided values a to 2 plus Value. ≪ / RTI >

수식 (2) : dfmin = F10min + 2*a Equation (2): df min = F 10 min + 2 * a

또한 도 3의 촬상 장치에서와 같이 두 촬상부가 상하 단차(V1)를 두고 수평 방향으로 대향 배치되는 경우 두 촬상부가 서로 중첩되었을 때 FOV영역 사이의 거리(F1)가 최근접시의 거리를 Fmin이라 하면, 이는 상술한 F10min 으로부터 두 촬상부가 수평 방향으로 중첩된 거리(H1)와 최근접 이격 거리 H10min을 제외한 값으로 나타낼 수 있다.In addition, the distance between the distance (F 1) between the FOV area recently plate when also been placed a two-state imaging additional vertical step (V 1), as in the imaging device of the third case where the counter arranged in the horizontal direction two image pick-up portion overlapping each other F min , it can be expressed as a value excluding the distance (H 1 ) in which the two image pickup portions are overlapped in the horizontal direction and the closest distance H 10min from the above-mentioned F 10min .

수식 (3) : Fmin = F10min - (H1 + H10min)Formula (3): F min = F 10min - (H 1 + H 10min)

이에 따라 상술과 같이 도 3의 촬상 장치를 이루고 있는 두 촬상부가 상하 단차(V1)를 두고 서로 중첩된 상태로 검사 대상물인 패널(P) 등에 대한 정렬 마크를 포함하는 FOV영역의 촬상시 간섭을 일으키지 않는 범위는, FOV영역의 최근접 거리Fmin 을 고려하여 설정할 수 있으며, 이에 기초하여 제어부는 촬상부의 이동량을 조절할 수 있다. Accordingly, the two image pickup section vertically interference imaging FOV region including the alignment mark for the like steps of the panel (P) object to be inspected with a (V 1) in a mutually superimposed condition that make up the imaging device of Figure 3 as described above The range that does not cause the occurrence of the focal length can be set in consideration of the closest distance Fmin of the FOV area, and based on this, the control unit can adjust the amount of movement of the imaging unit.

한편, 본 발명의 촬상 장치에 따른 제어부는, 제1 촬상부(201)와 제2 촬상부(202)가 검사 대상물인 패널(P) 등에 대하여 서로 대향하는 수평 방향으로 이격 및 근접하도록 이동량을 조절할 수 있다.On the other hand, the control unit according to the imaging apparatus of the present invention adjusts the amount of movement such that the first imaging unit 201 and the second imaging unit 202 are spaced apart from and close to each other in the horizontal direction opposite to each other with respect to the panel P .

또한, 본 발명의 촬상 장치에 따른 제어부는, 제1 촬상부(201)와 제2 촬상부(202)가 서로 중첩되지 않고 최근접 배치되었을 때에 제1 촬상부(201)와 제2 촬상부(202)의 두 광축(L1, L2) 간 수평 거리(도 3의 FOV영역의 인식 기준점(f1, f2 사이의 간격과 동일)가 검사 대상물인 패널(P) 등의 2개의 정렬 마크(m1, m2)의 미리 설정된 최소 거리(dmmin)보다 큰지 여부를 판단할 수 있도록 구성될 수 있다. 여기에서, 크다고 판단된 경우에는 어느 하나의 촬상부의 영상 획득시 다른 하나의 촬상부와 서로 중첩되게 수평 방향으로의 이동량을 조절하여 두 촬상부의 광축간 수평 거리가 정렬 마크 간의 미리 설정된 최소 거리보다 작거나 같도록 조절할 수 있다.The control unit according to the imaging apparatus of the present invention is configured such that when the first imaging unit 201 and the second imaging unit 202 are arranged so as to be close to each other without overlapping each other, the first imaging unit 201 and the second imaging unit (The same as the interval between f 1 and f 2 ) of the FOV area in Fig. 3 is the distance between the two alignment marks m (m) of the panel P 1, may be configured to determine whether or not greater than the minimum distance (dm min) preset in m 2). here, the large if it is determined, the one of the imaging unit images a different one of the imaging unit when picked up with each other, The horizontal distance between the optical axes of the two imaging units can be adjusted to be less than or equal to a predetermined minimum distance between the alignment marks by adjusting the amount of movement in the horizontal direction so as to overlap.

한편, 본 발명의 실시예에 따른 촬상 장치는, 제1 촬상부와 제2 촬상부가 서로 중첩되지 않고 최근접 배치되는 경우에, 제1 촬상부와 제2 촬상부의 두 광축 간 수평 거리는 검사 대상물인 패널(P) 등의 2개의 정렬 마크의 최소 거리보다 크게 마련될 수 있다. 이는, 두 촬상부가 소정의 상하 단차를 두고 배치되는 경우에도 마찬가지이다.On the other hand, in the image pickup apparatus according to the embodiment of the present invention, when the first image pickup section and the second image pickup section are arranged close to each other without being overlapped with each other, the horizontal distance between the two optical axes of the first image pickup section and the second image pickup section May be provided larger than the minimum distance of the two alignment marks such as the panel (P). This is also true in the case where the two image pickup units are arranged with a predetermined upper and lower steps.

또한, 본 발명의 촬상 장치는, 제1 촬상부와 제2 촬상부가 상하 단차를 두고 수평 방향으로 대향하여 서로 중첩되어 최근접 배치되는 경우, 제1 촬상부와 제2 촬상부의 두 광축 간 수평 거리는 검사 대상물인 패널(P)등의 2개의 정렬 마크의 최소 거리와 같거나 작게 마련될 수 있다.In the image pickup apparatus of the present invention, when the first image pickup section and the second image pickup section are vertically arranged so as to overlap each other with the upper and lower steps facing each other in the horizontal direction, the horizontal distance between the two optical axes of the first image pickup section and the second image pickup section And may be equal to or smaller than the minimum distance of the two alignment marks such as the panel P as an object to be inspected.

또한, 두 촬상부를 소정의 방향으로 이동시키는 미도시한 구동부는 수직/수평 이송을 위한 2축 이송기구, 3축 이송기구 등의 이송기구와, 액추에이터 등으로 구성될 수 있으며, 구동부의 제어는 제어부(400)에 의하여 수행될 수 있다. The driving unit, which is not shown for moving the two imaging units in a predetermined direction, may be constituted by a conveying mechanism such as a two-axis conveying mechanism for vertical / horizontal conveyance, a three-axis conveying mechanism, an actuator, (Not shown).

도 5는 상술과 같은 본 발명의 실시예에 따른 촬상 장치를 이용하여 패널과 반도체칩을 본딩하는 인라인 본딩 장치의 개략적 구성을 도시한 것이다.FIG. 5 shows a schematic configuration of an in-line bonding apparatus for bonding a panel and a semiconductor chip using the imaging apparatus according to the embodiment of the present invention described above.

도시된 인라인 본딩 장치(100)는 외부로부터 스테이지(S)에 공급된 패널(P) 상에 이방성 도전 필름이 부착된 후, 반도체칩(C; 도 6 참조)과 정렬하여 본딩하도록 부착된 이방성 도전 필름을 패널(P)을 향해 가압하기 위해 열 공급부(10)와, 압착헤드(20)와, 광 조사부(31)를 포함한다.The inline bonding device 100 shown in the figure is an anisotropic conductive film which is attached to the panel P supplied from the outside to the stage S and then anisotropic conductive film attached to the semiconductor chip C A heat supply part 10, a compression head 20 and a light irradiation part 31 for pressing the film toward the panel P. [

스테이지(S)는 인라인 본딩장치(100)의 하부 영역에 마련되어 외부로부터 공급된 패널(P)과 반도체칩(C)이 각각 이동하여 본딩작업이 수행되는 작업공간을 제공한다. 스테이지(S)는 패널(P)을 지지하는 평탄면으로 구성될 수 있으며, 미도시한 투과부가 스테이지(S)에 안착되어 패널(P)을 지지할 수 있다.The stage S is provided in a lower region of the in-line bonding apparatus 100 to provide a work space in which the panel P and the semiconductor chip C supplied from the outside respectively move to perform a bonding operation. The stage S may be a flat surface for supporting the panel P and a not shown transmitting portion may be seated on the stage S to support the panel P. [

패널(P)은 스테이지(S) 상에 놓여 반도체칩이 부착되는 이방성 도전 필름 등을 포함할 수 있다.The panel P may include an anisotropic conductive film or the like on which the semiconductor chips are placed on the stage S.

열 공급부(10)는 패널과 반도체칩의 본딩공정을 수행하는 데 필요한 열을 공급하며, 열 공급부(10)는 히팅박스 형태로 구현될 수 있다.The heat supply unit 10 supplies heat required to perform the bonding process of the panel and the semiconductor chip, and the heat supply unit 10 can be implemented in the form of a heating box.

압착헤드(20)는 열 공급부(10)로부터 열을 공급받아 패널(P)에 반도체칩(C)을 압착한다. 압착헤드(20)는 열 공급부(10)로부터 공급되는 열을 패널(P)과, 반도체칩(C)으로 전달함과 동시에 반도체칩에 압력을 가한다. 반도체칩을 공급하는 압착헤드(20)는 미도시한 이송 기구(가령 3축 이송 장치 등)에 의해 상술과 같이 촬상된 패널(P)의 정렬 마크를 기준으로 위치 조정되며, 그에 따라 스테이지(S)에서 패널(P)과 압축헤드(20)에 의해 이송되는 반도체칩(C)이 서로 정확하게 정렬되어 압착된다. The pressing head 20 receives heat from the heat supply unit 10 and presses the semiconductor chip C on the panel P. The compression head 20 transfers the heat supplied from the heat supply unit 10 to the panel P and the semiconductor chip C and applies pressure to the semiconductor chip. The pressing head 20 for supplying the semiconductor chip is adjusted in position with reference to the alignment mark of the panel P picked up by the unillustrated conveying mechanism (for example, three-axis conveying device or the like) as described above, The panel P and the semiconductor chip C conveyed by the compression head 20 are accurately aligned and pressed to each other.

광 조사부(31)는 패널(P)의 상측에 마련되어 열 공급부(10) 및 압착헤드(20) 중 적어도 어느 하나에 결합되고, 반도체칩과의 정렬을 위해 패널(P)로 광을 조사하여 촬상 장치(200, 300)에서 패널(P)의 정렬 마크 영역을 정확하게 촬상하기 위한 조명을 제공한다. 본 광조사부(31)는 광을 조사하는 LED 등의 램프와 조사된 광을 반사하는 반사부를 더 구비할 수 있다. The light irradiation unit 31 is provided on the upper side of the panel P and is coupled to at least one of the heat supply unit 10 and the compression head 20. The light irradiation unit 31 irradiates light to the panel P for alignment with the semiconductor chip, And provides illumination for accurately picking up the alignment mark area of the panel P in the apparatus 200, The light irradiating unit 31 may further include a lamp such as an LED for emitting light and a reflector for reflecting the irradiated light.

한편, 패널(P)의 하측에 마련되는 다른 광 조사부(32)는 스테이지(S)에 고정된 패널(P)과 압착헤드(20)에서 공급되는 반도체칩에 광을 조사하여 촬상 장치(200, 300)에서 각 정렬 마크 영역의 영상을 촬상하는데 필요한 조명을 제공한다. 다른 광 조사부(32)는 반사판을 포함하고 있지 않은 바(Bar) 타입의 공지의 구성으로 된 백라이트로 구현될 수 있다.On the other hand, the other light irradiating unit 32 provided below the panel P illuminates the semiconductor chip supplied from the panel P fixed on the stage S and the pressing head 20, 300 provide illumination necessary to image an image of each alignment mark region. The other light irradiating unit 32 may be realized as a backlight of a known configuration of a Bar type which does not include a reflector.

클램프(40)는 상하로 슬라이드 이동되어 스테이지(S)에 위치한 패널(P)의 흔들림이 없도록 2차로 고정시키는 기능을 수행한다.The clamp 40 is slid up and down to perform a function of fixing the panel P in the second position so that there is no shaking of the panel P located on the stage S.

미도시한 투과부는 패널(P)과 반도체칩의 본딩에 앞서 정렬을 맞추기 위한 단계에서, 촬상 장치의 각 촬상부(201, 202, 301, 302)에서 패널(P)과 반도체칩의 각 정렬 마크 영역에 대한 영상을 얻을 수 있도록 광조사부(31, 32)로부터 조사된 광을 투과시킨다. 여기서 투과부는 투명한 석영 등의 재질로 구현될 수 있으며, 미도시한 진공 기구에 의해 그 상면에 패널(P)을 진공 흡착하여 고정할 수 있도록 진공 흡입공이 마련될 수 있다.Unshown transmissive portions are formed in the respective imaging portions 201, 202, 301, and 302 of the image pickup device so as to align the respective alignment marks of the panel P and the semiconductor chip And transmits the light irradiated from the light irradiation units 31 and 32 so as to obtain an image for the region. Here, the transmitting portion may be formed of a transparent quartz or the like, and a vacuum suction hole may be provided on the upper surface thereof by a vacuum mechanism (not shown) so that the panel P can be vacuum-adsorbed and fixed.

촬상 장치(200, 300)를 이루고 있는, 각 촬상부(201, 202, 301, 303)는 스테이지(S)의 하측 영역에 마련되어 패널(P)의 진입을 감지하고, 상술한 바와 같이 스테이지(S)에 배치된 패널(P)의 상태를 정렬할 수 있도록 스테이지(S) 상의 패널(P)을 촬상하여 패널(P)의 정렬 마크 영역에 대한 영상을 획득한다. 또한 촬상 장치(200, 300)는 압착헤드(20)로 공급되는 반도체칩(C)을 촬상하여 반도체칩의 정렬 마크 영역에 대한 영상을 획득할 수 있다. Each of the image sensing units 201, 202, 301 and 303 constituting the image sensing apparatuses 200 and 300 is provided in a lower region of the stage S to sense the entry of the panel P, The image of the panel P on the stage S is picked up so that the state of the panel P arranged on the panel P can be aligned. Further, the image pickup devices 200 and 300 can capture an image of the alignment mark area of the semiconductor chip by picking up an image of the semiconductor chip C supplied to the compression head 20.

도 6은 본 발명의 실시예에 따른 촬상 장치의 검사 대상물로 제공되어 인라인 본딩 장치에 의해 본딩된 패널(P)과 반도체칩(C)의 상태를 도시한 확대도이다. 여기에서 패널(P)과 반도체칩(C)의 정렬 마크(m)가 서로 정확하게 정렬된 상태를 나타내며, 정렬 마크(m)는 도시된 + 모양 이외에도 다양한 기하학적 도형을 이용할 수 있다. 6 is an enlarged view showing the state of the panel P and the semiconductor chip C which are provided as an object to be inspected in the imaging apparatus according to the embodiment of the present invention and bonded by the inline bonding apparatus. Here, the alignment marks m of the panel P and the semiconductor chip C are accurately aligned with each other, and the alignment mark m can use various geometric shapes in addition to the illustrated + shape.

이하, 도 7을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 검사 대상물에 대한 촬상 방법에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, an imaging method for an object to be inspected according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG.

먼저 서로 이격되어 있는 2개의 정렬 마크(m1, m2)를 갖는 검사 대상물로 패널(P) 등을 준비한다(S10). 이때 검사 대상물인 패널, 반도체칩 등은 별도 이송 기구를 이용하여 인라인 본딩 장치(100)의 스테이지(S) 상에 제공될 수 있다.First, a panel P or the like is prepared as an inspection object having two alignment marks (m 1 , m 2 ) spaced from each other (S10). At this time, a panel, a semiconductor chip or the like to be inspected may be provided on the stage S of the in-line bonding apparatus 100 using a separate transfer mechanism.

검사 대상물인 패널(P)등을 촬상하기 위한 촬상 장치는 상술과 같이 2개의 촬상부로 이루어지며, 각 촬상부를 검사 대상물의 하부에 수평 방향으로 서로 대향 배치하여 준비한다(S20). 또한 2개의 촬상부 중 제1 촬상부(201)는 검사 대상물의 하부에 제1 수평 방향으로 배치되며, 제2 촬상부(202)는 제1 촬상부(201)의 하부로 상하 단차(V1) 만큼 이격되어 제1 촬상부(201)와 중첩 가능하게 제2 수평 방향으로 대향 배치되도록 할 수 있다.The imaging device for imaging the panel P or the like to be inspected is made up of two imaging sections as described above, and the imaging sections are arranged facing each other horizontally below the examination subject (S20). The first imaging unit 201 of the two imaging units is disposed in the first horizontal direction below the object to be inspected and the second imaging unit 202 is disposed below the first imaging unit 201 at the upper and lower levels V 1 So as to be opposed to each other in the second horizontal direction so as to be overlapped with the first image sensing unit 201. [

이후, 검사 대상물로 제공된 패널(P) 등의 정렬 마크 사이의 이격 거리(dm1)가 미리 설정된 최소 거리(dmmin)와 같은지 여부를 판단한다(S30). 이는 두 촬상부 간의 적정한 간격을 유지하여 정렬 마크를 포함하는 영역을 FOV영역으로 확보하여 정확한 촬상을 하기 위한 것임은 상술과 같다. Then, it is determined whether or not the object to be inspected is equal to the panel (P) separation distance (dm 1) a (dm min) pre-set minimum distance between the alignment marks, such as provided by (S30). It is as described above that an appropriate interval between the two imaging units is maintained to secure an area including an alignment mark in the FOV area to perform accurate imaging.

여기에서 판단결과에 따라 검사 대상물의 2개의 정렬 마크 사이의 이격 거리가 미리 설정된 최소 거리와 같은 경우, 2개의 촬상부가 서로 중첩된 상태에서 어느 하나의 촬상부의 영상 획득시 다른 하나의 촬상부가 간섭되지 않도록 제1 수평 방향 및 제2 수평 방향 중 적어도 어느 하나의 방향으로의 이동량을 조절할 수 있다(S40). 이는 검사 대상물의 2개의 정렬 마크 사이의 이격 거리가 미리 설정된 최소 거리보다 작은 경우에도 마찬가지이다. 또한 촬상부 간의 간섭을 방지하기 위하여 필요한 구조와, 촬상부를 구성하는 부재 간의 소정의 치수 등에 관한 수식은 상술한 바와 같다.When the distance between the two alignment marks of the object to be inspected is equal to a preset minimum distance according to the determination result, the two imaging units are overlapped with each other, and when one imaging unit acquires an image, the other imaging unit is not interfered The amount of movement in at least one of the first horizontal direction and the second horizontal direction can be adjusted (S40). This is also true when the distance between the two alignment marks of the object to be inspected is smaller than a preset minimum distance. Further, the formulas necessary to prevent interference between the image pickup units, the predetermined dimensions between the members constituting the image pickup unit, and the like are as described above.

한편 판단결과에 따라서 검사 대상물의 2개의 정렬 마크 사이의 이격 거리가 미리 설정된 최소 거리보다 큰 경우, 2개의 촬상부가 서로 중첩되지 않은 상태로 제1 수평 방향 및 상기 제2 수평 방향 중 적어도 어느 하나의 방향으로의 이동량을 조절하여 촬상을 수행할 수 있다(S50). 이때 도 3의 실시예에 따른 촬상 장치에서는 소정의 상하 단차(V1)를 유지하면서 상이한 광학적 특성을 갖는 2개의 촬상부에 의하여 촬상이 수행될 수 있다. 또한 도 1의 실시예에서와 같이 상하 단차 없이 수평 방향으로 배치되는 2개의 촬상부를 갖는 촬상 장치를 이용할 수도 있다. On the other hand, when the distance between the two alignment marks of the object to be inspected is larger than a predetermined minimum distance in accordance with the determination result, at least one of the first horizontal direction and the second horizontal direction (Step S50). [0051] In step S50, At this time, also in the image sensor according to the embodiment of the image pick-up 3 it can be performed by the image pickup unit 2 that have different optical properties while maintaining a predetermined vertical level difference (V 1). Also, as in the embodiment of Fig. 1, it is also possible to use an image pickup apparatus having two image pickup units arranged horizontally without upper and lower steps.

이후, 각 촬상부에서 FOV영역에 대한 영상을 획득한다(S60). 즉 제1 촬상부(201)의 상부에서 입사되는 정렬 마크 중 1개를 포함하는 제1 영역에 대한 영상은 제1 반사부(210)에서 직각으로 변환 출사되어, 제1 광학부(230)를 거쳐, 제1 수평 방향의 타단에 마련된 제1 촬상부의 제1 영상 획득부(220)에서 획득될 수 있다. Thereafter, an image for the FOV area is acquired at each imaging unit (S60). That is, the image for the first region including one of the alignment marks incident on the upper portion of the first image sensing unit 201 is converted and emitted at a right angle at the first reflector 210, and the first optical portion 230 And may be acquired by the first image acquiring unit 220 of the first image sensing unit provided at the other end in the first horizontal direction.

그리고 제2 촬상부(202)의 상부에서 입사되는 정렬 마크 중 다른 1개를 포함하는 제2 영역에 대한 영상은 제2 반사부에서 직각으로 변환 출사되어, 제2 광학부를 거쳐, 제2 수평 방향의 타단에 마련된 제2 촬상부의 제2 영상 획득부에서 획득될 수 있다. The image of the second region including the other one of the alignment marks incident on the upper portion of the second image sensing unit 202 is converted and emitted at a right angle in the second reflection portion and is transmitted through the second optical portion in the second horizontal direction The second image acquiring unit of the second image sensing unit provided at the other end of the second image sensing unit.

여기에서, 위의 S30의 판단하는 단계에는, 제1 촬상부와 제2 촬상부가 서로 중첩되지 않고 최근접 배치되었을 때 제1 촬상부와 제2 촬상부의 두 광축(L1, L2) 간 수평 거리가 검사 대상물의 2개의 정렬 마크의 최소 거리(dmmin)보다 큰지 여부를 판단하는 단계를 포함할 수 있다.Here, it is assumed that the horizontal distance between the two optical axes (L1, L2) of the first imaging unit and the second imaging unit when the first imaging unit and the second imaging unit are disposed in close proximity without overlapping each other (Dm min ) of the two alignment marks of the object to be inspected.

여기에서, 위의 S40, S50의 각 촬상부의 이동량을 조절 단계는, 두 촬상부의 광축간 수평 거리가 검사 대상물의 2개의 정렬 마크의 최소 거리보다 크다고 판단된 경우에는 어느 하나의 촬상부의 영상 획득시 다른 하나의 촬상부와 서로 중첩되게 수평 방향으로의 이동량을 조절하여 두 촬상부의 광축간 수평 거리가 정렬 마크의 최소 거리보다 같도록 조절하는 단계를 포함할 수 있으며, 또한 정렬 마크의 최소 거리보다 작도록 조절하는 단계를 포함할 수 있다. Here, in the case where it is determined that the horizontal distance between the optical axes of the two image sensing units is larger than the minimum distance of the two alignment marks of the object to be inspected, the step of adjusting the movement amounts of the image sensing units in S40 and S50, Adjusting the amount of movement in the horizontal direction so as to overlap with the other imaging unit so that the horizontal distance between the optical axes of the two imaging units is equal to the minimum distance of the alignment mark, And the like.

또한, 각 촬상부의 수평 방향으로의 이격 및 근접에 필요한 이동량의 조절은 상술한 바와 같다. The adjustment of the necessary movement amount in the horizontal direction and in the vicinity of each image pickup unit is as described above.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 촬상 장치 및 촬상 방법에 의해 획득된 영상은 미도시한 영상처리를 위한 영상처리부 및 처리된 영상을 표시하는 디스플레이 장치 등을 이용하여 사용자가 인식할 수 있다.In addition, the image obtained by the imaging apparatus and the imaging method according to the embodiment of the present invention can be recognized by a user using an image processing unit for image processing and a display device for displaying the processed image, which are not shown.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 촬상 장치 및 촬상 방법은 인라인 본딩 장치에 적용되는 것으로 설명하였으나, 이외에도 다양한 반도체, 영상 소자 등의 제조, 검사 및 측정 장치 등에 채용될 수 있음은 당연하다.In addition, although the imaging device and the imaging method according to the embodiments of the present invention are described as being applied to the in-line bonding device, it is natural that they can be employed in manufacturing, inspecting and measuring devices for various semiconductors and imaging devices.

이상과 같이, 본 발명의 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니며 특허청구범위 내에서 다양하게 실시될 수 있다. 또한 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 원칙이나 정신에서 벗어나지 않으면서 본 발명의 실시예를 개량 및/또는 변형할 수 있음을 알 수 있을 것이다. 본 발명의 범위는 첨부된 청구항과 그 균등물에 의해 정해질 것이다.Although the present invention has been described in detail with reference to the exemplary embodiments of the present invention, the present invention is not limited thereto and various changes and modifications may be made within the scope of the appended claims. It will be apparent to those skilled in the art that modifications and variations can be made in the embodiments of the present invention without departing from the principles or spirit of the invention. The scope of the present invention shall be determined by the appended claims and their equivalents.

100: 인라인 본딩 장치 200, 300 : 촬상 장치
400 : 제어부 201 : 제1 촬상부
202 : 제2 촬상부 210 : 제1 반사부
220 : 제1 영상 획득부 230 : 제1 광학부
100: inline bonding device 200, 300: imaging device
400: control unit 201: first imaging unit
202: second image pickup unit 210: first reflection unit
220: first image obtaining unit 230: first optical unit

Claims (16)

소정 거리로 이격되어 있는 2개의 정렬 마크를 갖는 검사 대상물을 촬상하는 인라인 본딩 장치용 촬상 장치에 있어서,
각각의 정렬 마크를 포함하는 영역에 대한 영상을 독립적으로 획득하도록, 수평 방향으로 서로 대향하여 소정의 상하 단차를 두고 중첩 가능하게 배치되며 적어도 하나가 독립적으로 이동 가능한 2개의 촬상부를 포함하며,
상기 2개의 촬상부는,
상기 검사 대상물의 하부에 제1 수평 방향으로 배치되며, 제1 수평 방향의 일단에 상기 정렬 마크 중 1개를 포함하는 제1 영역에 대한 영상이 입사되어 직각으로 변환 출사되는 제1 반사부와, 제1 수평 방향의 타단에 제1 반사부에서 출사되는 영상을 획득하는 제1 영상 획득부를 갖는 제1 촬상부와,
상기 제1 촬상부의 하부로 소정의 상하 단차 만큼 이격되어 제1 촬상부와 중첩 가능하게 제2 수평 방향으로 배치되며, 제2 수평 방향의 일단에 상기 정렬 마크 중 다른 1개를 포함하는 제2 영역에 대한 영상이 입사되어 직각으로 변환 출사되는 제2 반사부와, 제2 수평 방향의 타단에 제2 반사부에서 출사되는 영상을 획득하는 제2 영상 획득부를 갖는 제2 촬상부를 포함하는 것을 특징으로 하는 촬상 장치.
An imaging apparatus for an in-line bonding apparatus for picking up an inspection object having two alignment marks spaced apart from each other by a predetermined distance,
And at least one of the two image pickup portions is disposed so as to be able to independently acquire an image for an area including the respective alignment marks and overlap each other in a horizontal direction with a predetermined upper and lower steps,
Wherein the two imaging units
A first reflector disposed at a lower portion of the object to be inspected in a first horizontal direction, wherein an image of a first region including one of the alignment marks is incident on one end of the first horizontal direction, A first image capturing unit having a first image capturing unit for capturing an image emitted from the first reflecting unit at the other end in the first horizontal direction,
And a second area including a second one of the alignment marks at a first end in the second horizontal direction, the second area being spaced apart from the first image sensing unit by a predetermined upper and lower steps and overlapping with the first image sensing unit, And a second image capturing unit having a second image capturing unit for capturing an image to be emitted from the second reflecting unit at the other end in the second horizontal direction, .
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 어느 하나의 촬상부의 영상 획득시 다른 하나의 촬상부가 간섭되지 않도록 적어도 어느 하나의 촬상부에 대한 상기 제1 수평 방향 및 상기 제2 수평 방향 중 적어도 어느 하나의 방향으로의 이동량을 조절하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 촬상 장치.
The method according to claim 1,
A control unit for adjusting a movement amount of at least one of the imaging units in at least one of the first horizontal direction and the second horizontal direction so that the other imaging unit does not interfere with any one of the imaging units Further comprising:
제3항에 있어서,
상기 제어부는 상기 제1 촬상부와 상기 제2 촬상부가 상기 검사 대상물에 대하여 서로 대향하는 수평 방향으로 이격 및 근접하도록 이동량을 조절하는 것을 특징으로 하는 촬상 장치.
The method of claim 3,
Wherein the control section adjusts the amount of movement such that the first imaging section and the second imaging section are spaced apart from and close to each other in a horizontal direction facing each other with respect to the inspected object.
제3항에 있어서,
상기 제어부는,
상기 제1 촬상부와 상기 제2 촬상부가 서로 중첩되지 않고 최근접 배치되었을 때 상기 제1 촬상부와 상기 제2 촬상부의 두 광축 간 수평 거리가 상기 검사 대상물의 2개의 정렬 마크의 최소 거리보다 큰지 여부를 판단하고, 크다고 판단된 경우에는 상기 어느 하나의 촬상부의 영상 획득시 다른 하나의 촬상부와 서로 중첩되게 수평 방향으로의 이동량을 조절하여 상기 두 촬상부의 광축간 수평 거리가 상기 최소 거리보다 작거나 같도록 조절하는 것을 특징으로 하는 검사 장치.
The method of claim 3,
Wherein,
When the horizontal distance between the two optical axes of the first imaging section and the second imaging section is larger than the minimum distance of the two alignment marks of the inspected object when the first imaging section and the second imaging section are arranged so as not to overlap each other And when it is judged that the two images are large, the movement amount in the horizontal direction is adjusted so as to overlap with the other one imaging unit at the time of capturing the images of the one imaging unit, so that the horizontal distance between the optical axes of the two imaging units is smaller than the minimum distance Or equal to each other.
제1항에 있어서,
상기 제1 촬상부와 상기 제2 촬상부가 서로 중첩되지 않고 최근접 배치되는 경우, 상기 제1 촬상부와 상기 제2 촬상부의 두 광축 간 수평 거리는 상기 검사 대상물의 2개의 정렬 마크의 최소 거리보다 큰 것을 특징으로 하는 검사 장치.
The method according to claim 1,
The horizontal distance between the two optical axes of the first imaging section and the second imaging section is larger than the minimum distance of the two alignment marks of the inspected object when the first imaging section and the second imaging section are disposed close to each other without being overlapped with each other And the inspection device.
제1항에 있어서,
상기 제1 촬상부와 상기 제2 촬상부가 서로 중첩되어 최근접 배치되는 경우, 상기 제1 촬상부와 상기 제2 촬상부의 두 광축 간 수평 거리는 상기 검사 대상물의 2개의 정렬 마크의 최소 거리와 같거나 작은 것을 특징으로 하는 검사 장치.
The method according to claim 1,
The horizontal distance between the two optical axes of the first imaging unit and the second imaging unit is equal to or smaller than the minimum distance of the two alignment marks of the inspection object when the first imaging unit and the second imaging unit are disposed close to each other Characterized in that it is small.
제1항에 있어서,
상기 제1 영역에 대한 영상과 상기 제2 영역에 대한 영상의 크기는 서로 동일한 것을 특징으로 하는 검사 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the image of the first area and the image of the second area are the same in size.
제8항에 있어서,
상기 각각의 정렬 마크는 상기 제1 영역 및 상기 제2 영역의 중심 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 검사 장치.
9. The method of claim 8,
Wherein each of the alignment marks is disposed at a center position of the first region and the second region.
제8항에 있어서,
상기 각각의 정렬 마크는 상기 제1 촬상부 및 상기 제2 촬상부의 광축과 일치하게 배치되는 것을 특징으로 하는 검사 장치.
9. The method of claim 8,
Wherein each of the alignment marks is arranged to coincide with the optical axis of the first imaging unit and the second imaging unit.
서로 이격되어 있는 적어도 2개의 정렬 마크를 갖는 검사 대상물을 촬상하는 촬상 방법에 있어서,
상기 검사 대상물의 하부에 제1 수평 방향으로 배치되는 제1 촬상부를 마련하는 단계와,
상기 제1 촬상부의 하부로 소정 상하 단차 만큼 이격되어 제1 촬상부와 중첩 가능하게 제2 수평 방향으로 배치되는 제2 촬상부를 마련하는 단계와;
상기 검사 대상물의 2개의 정렬 마크 사이의 이격 거리가 미리 설정된 최소 거리와 같은지 여부를 판단하는 단계와;
상기 판단결과 상기 검사 대상물의 2개의 정렬 마크 사이의 이격 거리가 미리 설정된 최소 거리와 같거나 작은 경우, 상기 2개의 촬상부가 서로 중첩된 상태에서 어느 하나의 촬상부의 영상 획득시 다른 하나의 촬상부가 간섭되지 않도록 상기 제1 수평 방향 및 상기 제2 수평 방향 중 적어도 어느 하나의 방향으로의 이동량을 조절하는 단계와;
상기 제1 촬상부의 상부에서 입사되는 상기 정렬 마크 중 1개를 포함하는 제1 영역에 대한 영상을 직각으로 변환하여 제1 수평 방향의 타단에 마련된 제1 촬상부의 제1 영상 획득부에서 영상을 획득하는 단계와;
상기 제2 촬상부의 상부에서 입사되는 상기 정렬 마크 중 다른 1개를 포함하는 제2 영역에 대한 영상을 직각으로 변환하여 제2 수평 방향의 타단에 마련된 제2 촬상부의 제2 영상 획득부에서 영상을 획득하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 촬상 방법.
An image pickup method for picking up an inspection object having at least two alignment marks spaced from each other,
Providing a first imaging unit disposed in a first horizontal direction below the object to be inspected;
Providing a second image sensing unit spaced apart from the first sensing unit by a predetermined vertical distance and arranged in a second horizontal direction so as to be superimposed on the first sensing unit;
Determining whether a distance between two alignment marks of the inspection object is equal to a predetermined minimum distance;
When the distance between the two alignment marks of the inspection object is equal to or smaller than a preset minimum distance, when one of the two imaging units is overlapped with another, Adjusting the amount of movement in at least one of the first horizontal direction and the second horizontal direction so as not to be disturbed;
The image for the first region including one of the alignment marks incident on the upper portion of the first image sensing portion is converted to a right angle and the image is acquired by the first image acquiring portion of the first image sensing portion provided at the other end in the first horizontal direction ;
The image of the second region including the other one of the alignment marks incident on the second imaging unit is converted to a right angle and the second image obtained by the second image acquiring unit of the second imaging unit provided at the other end in the second horizontal direction And acquiring the acquired image data.
제11항에 있어서,
상기 이동량 조절 단계는, 상기 제1 촬상부와 상기 제2 촬상부가 상기 검사 대상물에 대하여 서로 대향하는 수평 방향으로 이격 및 근접하도록 이동량을 조절하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 촬상 방법.
12. The method of claim 11,
Wherein the moving amount adjusting step includes a step of adjusting a moving amount such that the first imaging unit and the second imaging unit are spaced apart from and close to each other in a horizontal direction facing each other with respect to the inspected object.
제11항에 있어서,
상기 제1 영역에 대한 영상과 상기 제2 영역에 대한 영상의 크기는 서로 동일한 것을 특징으로 하는 촬상 방법.
12. The method of claim 11,
Wherein an image of the first area and an image of the second area are equal to each other.
제11항에 있어서,
상기 각각의 정렬 마크는 상기 제1 영역 및 상기 제2 영역의 중심 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 촬상 방법.
12. The method of claim 11,
And each of the alignment marks is disposed at a center position of the first area and the second area.
제11항에 있어서,
상기 각각의 정렬 마크는 상기 제1 촬상부 및 상기 제2 촬상부의 광축과 일치하게 배치되는 것을 특징으로 하는 촬상 방법.
12. The method of claim 11,
Wherein each of the alignment marks is arranged to coincide with an optical axis of the first imaging unit and the second imaging unit.
제11항에 있어서,
상기 판단하는 단계는,
상기 제1 촬상부와 상기 제2 촬상부가 서로 중첩되지 않고 최근접 배치되었을 때 상기 제1 촬상부와 상기 제2 촬상부의 두 광축 간 수평 거리가 상기 검사 대상물의 2개의 정렬 마크의 최소 거리보다 큰지 여부를 판단하는 단계를 포함하고,
상기 이동량 조절 단계는,
상기 두 광축간 수평 거리가 상기 검사 대상물의 2개의 정렬 마크의 최소 거리보다 크다고 판단된 경우에는 상기 어느 하나의 촬상부의 영상 획득시 다른 하나의 촬상부와 서로 중첩되게 수평 방향으로의 이동량을 조절하여 상기 두 촬상부의 광축간 수평 거리가 상기 최소 거리보다 작거나 같도록 조절하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 촬상 방법.
12. The method of claim 11,
Wherein the determining step comprises:
When the horizontal distance between the two optical axes of the first imaging section and the second imaging section is larger than the minimum distance of the two alignment marks of the inspected object when the first imaging section and the second imaging section are arranged so as not to overlap each other And judging whether or not it is possible,
Wherein the moving amount adjusting step comprises:
When it is determined that the horizontal distance between the two optical axes is larger than the minimum distance between the two alignment marks of the inspected object, the amount of movement in the horizontal direction is adjusted so as to overlap with the other imaging unit And adjusting the horizontal distance between the optical axes of the two imaging units to be less than or equal to the minimum distance.
KR20130163821A 2013-12-26 2013-12-26 Imaging device and imaging method KR101510815B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20130163821A KR101510815B1 (en) 2013-12-26 2013-12-26 Imaging device and imaging method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20130163821A KR101510815B1 (en) 2013-12-26 2013-12-26 Imaging device and imaging method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101510815B1 true KR101510815B1 (en) 2015-04-10

Family

ID=53034107

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR20130163821A KR101510815B1 (en) 2013-12-26 2013-12-26 Imaging device and imaging method

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101510815B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101876934B1 (en) * 2016-05-10 2018-07-12 한미반도체 주식회사 Vision Detecting Device

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20080007349A (en) * 2005-05-31 2008-01-18 토레 엔지니어링 가부시키가이샤 Bonding apparatus
KR20090051929A (en) * 2007-11-20 2009-05-25 세크론 주식회사 Method of aligning a wafer and method of manufacturing a flip chip using the same
KR101026935B1 (en) 2003-12-10 2011-04-04 엘지디스플레이 주식회사 Apparatus for aligning dispenser and method thereof

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101026935B1 (en) 2003-12-10 2011-04-04 엘지디스플레이 주식회사 Apparatus for aligning dispenser and method thereof
KR20080007349A (en) * 2005-05-31 2008-01-18 토레 엔지니어링 가부시키가이샤 Bonding apparatus
KR20090051929A (en) * 2007-11-20 2009-05-25 세크론 주식회사 Method of aligning a wafer and method of manufacturing a flip chip using the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101876934B1 (en) * 2016-05-10 2018-07-12 한미반도체 주식회사 Vision Detecting Device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20130301904A1 (en) Visual inspection apparatus
JP4883181B2 (en) Component mounting method
US5883663A (en) Multiple image camera for measuring the alignment of objects in different planes
KR101000047B1 (en) Vision inspection system
KR101640935B1 (en) Three dimensional shape measurment apparatus
KR20160147045A (en) Bonding apparatus and bonding method
KR102255607B1 (en) Bonding device and method for detecting the height of the object to be bonded
KR20010033900A (en) Electronics assembly apparatus with stereo vision linescan sensor
US20140232850A1 (en) Vision testing device with enhanced image clarity
US9594028B2 (en) Method and apparatus for determining coplanarity in integrated circuit packages
JP2008300394A (en) Substrate joining device and substrate joining method
US9906695B2 (en) Manufacturing method of imaging module and imaging module manufacturing apparatus
JP2011066041A (en) Electronic component mounting device
KR101245622B1 (en) Vision inspection apparatus using stereo vision grid pattern
KR102224699B1 (en) 3d measurement device, 3d measurement method, and manufacturing method of substrate
KR101470424B1 (en) Testing apparatus for lens
KR101510815B1 (en) Imaging device and imaging method
US6242756B1 (en) Cross optical axis inspection system for integrated circuits
TW584708B (en) Method and apparatus for measuring a line width
CN112964639B (en) LCM detection method and equipment
KR101503482B1 (en) In-line bonding apparatus and bonding method thereof
KR102091930B1 (en) Panel member inclination angle measuring device and method
JP2014003312A (en) Substrate joining device and substrate joining method
KR102228802B1 (en) Bonding defect inspection method using interference fringe during display panel PCB bonding process
KR20130053586A (en) Noncontact inspection apparatus for components

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
LAPS Lapse due to unpaid annual fee