KR101508146B1 - 기화-전자 이온화기 및 레이저 이온화기를 포함하는 에어로졸 질량분석기 - Google Patents

기화-전자 이온화기 및 레이저 이온화기를 포함하는 에어로졸 질량분석기 Download PDF

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Abstract

본 발명은 기화-전자 이온화기 및 레이저 이온화기를 포함하는 에어로졸 질량분석기에 관한 것으로 입자가 소스 장치, 압력 유지 장치 및 이온화 장치를 포함하는 에어로졸 질량분석기에서 이온화 장치는 이온화 장치에 도달한 고체 또는 액체인 에어로졸 입자를 기체로 기화시키는 증발기, 및 상기 집중부의 외측에 구비되어 기체의 에어로졸 입자를 이온화시키는 전자 총을 포함하는 기화-전자 이온화기를 포함하고; 이온화 장치의 하측에 구비되며 레이저 빔을 광 집속 렌즈로 반사하는 반사판, 및 레이저 빔을 이온화 장치 중앙에 집광시켜 이온화 장치에 도달한 고체 또는 액체인 에어로졸 입자를 기화 및 이온화시키는 광 집속 렌즈를 포함하는 레이저 이온화기를 포함함으로써, 분자 수준의 화학 조성, 중금속, 미네랄, 내화성 성분 등을 하나의 장치로 모두 검출할 수 있다.

Description

기화-전자 이온화기 및 레이저 이온화기를 포함하는 에어로졸 질량분석기{Aerosol mass spectrometer comprising electron ionizer and laser ionizer}
본 발명은 에어로졸 입자에 함유된 거의 모든 성분을 검출하기 위하여 기화-전자 이온화기 및 레이저 이온화기를 포함하는 에어로졸 질량분석기에 관한 것이다.
대기 에어로졸은 환경, 기후변화 및 건강에 악영향을 미치는 것으로 보고되고 있다.
에어로졸의 화학 조성을 측정하기 위해 사용된 오프라인 기법은 장비의 검출한계로 인해 시료를 포집하는데 6 내지 24 시간이 소요되므로 시간 분해능(time-resolution)이 떨어지고, 복잡한 전처리 과정에서 시료 성분의 손실 및 변성이 발생하여 정확성이 떨어진다.
따라서 최근 선진국을 중심으로 에어로졸의 특성을 실시간으로 측정하기 위해 장비 개발 및 이를 응용한 연구가 매우 활발하게 진행되고 있다. 그 중 가장 대표적인 것이 에어로졸 질량분석기(AMS; Aerosol Mass Spectrometer)로서, 에어로졸의 입경별 화학 조성을 실시간으로 분석할 수 있다.
에어로졸 질량분석기는 이미 상용화된 Aerodyne사나 TSI사 제품에서부터 개개의 연구실에서 개발된 고유의 에어로졸 질량분석기에 이르기까지 그 종류 및 적용 기술이 매우 다양하다. 에어로졸 질량분석기의 특성은 장치에 적용된 주입구(inlet), 입자크기(particle sizing), 기화/이온화 및 질량 검출 기술에 따라 달라진다. 여기서 가장 중요한 기화/이온화 방법은 레이저를 이용한 광학적 기화/이온화, 화학적 이온화 및 전자충돌 이온화 방법으로 나눌 수 있다.
상기 레이저를 이용한 기화 및 이온화(LDI; Laser Desorption/Ionization) 방법은 입자 중 중금속, 황사와 같은 미네랄 성분, 블랙카본과 같이 내화성 성분들을 검출할 수 있다. 또한, 상기 레이저를 이용한 기화/이온화 방법은 강한 에너지를 사용하기 때문에 분열(fragmentation)이 많이 발생하여 분자이온의 검출이 불가능하므로 원자 정보만 얻는 단점이 있다.
반면, 열적증발 전자충돌 이온화(TD-EI; Thermal Desorption-Electron Impact Ionization) 방법은 낮은 검출한계 및 높은 감도로 인하여 상기 레이저를 이용한 방법에 비해 낮은 에너지로 분자 수준의 화학 조성까지의 정보를 알 수 있다. 그러나 기화된 성분만 이온화가 가능하여, 증발기의 설정 온도(약 600 ℃)에서 기화되지 않는 블랙카본, 중금속 등의 성분은 검출이 불가능하다.
또한, 종래의 에어로졸 질량분석기는 입자의 화학 조성에 대한 정보를 실시간으로 측정할 수 있다는 장점이 있지만, 다른 실시간 에어로졸 분석기(PILS-IC) 에 비해서는 포집효율(collection efficiency)이 낮다고 보고되었다. 에어로졸 질량분석기를 이용한 정량분석을 위해서는 포집효율을 반드시 고려해야한다. 특히, 열적증발 전자충돌 이온화 방법을 이용한 에어로졸 질량분석기의 경우에는 증발기에서의 포집효율 향상이 필수적이다.
따라서, 포집효율이 우수하며 에어로졸 입자에 함유된 거의 모든 성분 및 질량을 검출할 수 있는 에어로졸 질량분석기가 요구되고 있다.
대한민국 등록특허 제0816482호
본 발명의 목적은 기화-전자 이온화기 및 레이저 이온화기를 포함하여 포집효율이 우수하며, 에어로졸 입자에 함유된 거의 모든 성분 및 질량을 검출할 수 있는 에어로졸 질량분석기를 제공하는데 있다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 기화-전자 이온화기 및 레이저 이온화기를 포함하는 에어로졸 질량분석기는 투입되는 에어로졸 입자가 소스 장치, 압력 유지 장치 및 이온화 장치를 순차적으로 통과하여 이온화되며 상기 이온화된 이온들을 이온 검출기로 화학 조성 및 질량을 검출하는 것으로서,
상기 이온화 장치는 이온화 장치에 유입된 고체 또는 액체인 에어로졸 입자를 기체로 기화시키는 증발기, 및 상기 기화된 에어로졸 입자를 이온화시키는 전자 총을 포함하는 기화-전자 이온화기를 포함하고;
상기 이온화 장치의 외부에 구비되며, 레이저 빔을 발생시키는 레이저 발생기, 상기 레이저 빔을 광 집속 렌즈로 반사하는 반사판, 및 상기 레이저 빔을 이온화 장치 내부에 집광시켜 이온화 장치에 유입된 고체 또는 액체인 에어로졸 입자를 기화 및 이온화시키는 광 집속 렌즈를 포함한다.
상기 증발기는 고체 또는 액체인 에어로졸 입자를 포집하기 위하여 일측에 역콘(reversely conical) 또는 폐쇄된 원통형(enclosed cylindrical) 형태의 팁을 구비할 수 있다.
상기 레이저 이온화기의 광 집속 렌즈를 통과한 레이저 빔은 이온화 장치의 하면과 수직인 상태 또는 이온화 장치의 하면과 30 내지 50 °의 각도로 이온화 장치에 투과될 수 있다.
상기 소스 장치는 에어로졸 입자의 이동이 가능한 통로가 구비된 다수개의 오리피스(orifice)로 구성된 공기 역학 집속 렌즈를 포함할 수 있다.
상기 소스 장치 및 압력 유지 장치 사이에 구비되어 에어로졸 입자에 함유된 가스를 제거 및 입자의 퍼짐 현상을 방지하는 스키머(skimmer)를 포함할 수 있다.
상기 에어로졸 질량분석기는 상기 이온화 장치의 상면에 구비되며 이온 검출기를 포함하는 이온 비행탑을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 에어로졸 질량분석기는 황산염, 질산염, 암모늄, 유기물 등의 비내화성 성분에 대한 분자 수준의 화학 조성 및 중금속, 미네랄, 블랙카본과 같은 내화성 성분 등을 하나의 장치로 모두 검출할 수 있을 뿐만 아니라, 기화-전자 이온화기에 구비된 증발기의 팁 표면을 역콘(reversely conical) 또는 폐쇄된 원통형(enclosed cylindrical)으로 형성하여 입자 바운스를 줄임으로써 에어로졸 입자의 포집효율을 극대화시켰다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따라 제조된 에어로졸 질량분석기를 간략하게 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따라 제조된 에어로졸 질량분석기를 3D로 나타낸 도면(a) 및 촬영한 사진(b)이다.
도 3은 본 발명의 에어로졸 질량분석기에 사용되는 팁의 형상에 따라 입자 바운스를 시험한 그래프이다(a: 에어로졸 평균입경 550 nm; b: 에어로졸 평균입경 800 nm).
도 4는 본 발명의 에어로졸 질량분석기에 사용되는 팁의 형상을 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 에어로졸 질량분석기에 사용되는 팁의 공극률에 따라 입자 바운스를 시험한 그래프이다(a: 에어로졸 평균입경 550 nm; b: 에어로졸 평균입경 800 nm).
도 6은 본 발명의 에어로졸 질량분석기에 사용되는 팁의 깊이에 따라 입자 바운스를 시험한 그래프이다(a: 에어로졸 평균입경 550 nm; b: 에어로졸 평균입경 800 nm).
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따라 제조된 이온화 장치의 단면도이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따라 제조된 이온화 장치의 단면도이다.
본 발명은 에어로졸 입자에 함유된 거의 모든 성분을 검출하기 위하여 기화-전자 이온화기 및 레이저 이온화기를 포함하는 에어로졸 질량분석기에 관한 것이다.
이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 에어로졸 질량분석기를 나타낸 단면도이며, 도 2a는 본 발명에 따른 에어로졸 질량분석기를 3D로 나타낸 도면이고, 도 2b는 본 발명에 따른 에어로졸 질량분석기를 촬영한 사진이다.
도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 에어로졸 질량분석기(100)는 소스 장치(110), 압력 유지 장치(130) 및 이온화 장치(140)가 연속적으로 구비되고 상기 이온화 장치(140) 상면에 구비된 이온 비행탑(170) 및 상기 이온 비행탑(170) 상측에 구비된 이온 검출기(180)를 포함한다.
본 발명의 에어로졸 질량분석기(100)에서 에어로졸 입자가 이온화되어 화학 조성 및 질량이 검출되는 과정을 간략하게 설명하면, 투입되는 에어로졸 입자가 소스 장치(110) 및 압력 유지 장치(130)를 통과하여 이온화 장치(140)에 도달하면 이온화 장치(140)의 내부에 구비된 기화-전자 이온화기(150)에 의해 기화 및 이온화되고, 상기 이온화 장치(140) 외부에 구비된 레이저 이온화기(160)에 의하여 에어로졸 입자가 이온화되며, 이온화된 이온들은 이온 비행탑(170)을 통해 비행하다가 이온 검출기(180)에 의해 이온들의 화학 조성 및 질량(양)이 검출된다.
소스 장치
상기 소스 장치(110)는 에어로졸 입자의 이동이 가능한 통로가 구비된 다수개의 오리피스(orifice)로 구성된 공기 역학 집속 렌즈(111)를 포함하여 투입되는 에어로졸 입자를 에어로졸 입자 빔의 형태로 집속한다. 이때 소스 장치(110)는 에어로졸 입자를 입자 빔 형태로 집속시키기 위하여 10-2 내지 10-3 torr의 압력을 유지하는 것이 바람직하다. 상기 에어로졸 입자 빔은 고체 또는 액체 상태인 에어로졸 입자가 진공 속에서 1 mm 이내의 가는 선형으로 집속되어 한 방향으로 나아가는 것을 의미한다.
구체적으로, 상기 공기 역학 집속 렌즈(111)는 공기 역학 집속 렌즈 프로그램을 이용하여 평균입경이 50 내지 1000 nm인 에어로졸 입자에 대하여 에어로졸 입자 빔 형태로 평균 90% 이상의 투과효율을 보이도록 하기 위해서는 20 mm 내경의 노즐에 오리피스가 각 5 mm, 4.5 mm, 4 mm, 3 mm, 2.5 mm 및 2.7 mm 내경을 가질 때 각 93 mm, 60 mm, 50 mm, 40 mm 및 30 mm의 간격을 가지는 것이 바람직하다. 이와 같이 형성된 공기 역학 집속 렌즈(111)는 평균입경이 100 내지 500 nm인 에어로졸 입자에 대하여 에어로졸 입자 빔 형태로 99% 이상의 투과효율을 보인다. 상기 에어로졸 입자 빔의 직경은 0.5 내지 1 mm로 나타났으며, 이와 같이 충분히 가는 입자 빔은 고효율로 이온화 장치까지 도달할 수 있다.
상기 소스 장치(110) 및 압력 유지 장치(130) 사이에는 직경이 0.8 내지 1.2 mm인 스키머(120, skimmer)가 구비되어 상기 공기 역학 집속 렌즈(111)를 거친 에어로졸 입자 빔에 함유된 가스를 제거 및 입자 빔의 퍼짐 현상을 방지함으로써, 순수한 에어로졸 입자만 높은 효율로 압력 유지 장치(130)에 유입된다. 상기 스키머(skimmer)를 사용하지 않을 경우에는 입자의 브라운 운동에 의해 입자 빔이 퍼져 많은 양의 입자들이 이온화 장치(140)까지 도달하기 어렵다. 이는 질량분석기의 검출한계를 높이기 때문에 입자의 수 농도가 낮은 경우 사용할 수 없게 된다.
압력 유지 장치
상기 압력 유지 장치(130)는 10-4 내지 10-5 torr의 압력을 유지하여 바로 이웃하게 구비된 이온화 장치(140) 내부의 압력을 낮게 유지시키고, 에어로졸 입자 빔에 남아있는 가스 분자를 제거한다.
이온화 장치
상기 이온화 장치(140)는 압력 유지 장치(130)에서 유입된 고체 또는 액체상태인 에어로졸 입자를 이온화시키는 장치로서, 이온화 장치(140) 내부에 구비된 기화-전자 이온화기(150) 및 이온화 장치(150) 외부에 구비된 레이저 이온화기(160)를 이용하여 에어로졸 입자 빔 형태로 존재하는 에어로졸 입자를 이온화시킨다.
상기 기화-전자 이온화기(150)는 이온화 장치에 유입된 고체 또는 액체인 에어로졸 입자를 기체로 기화시키는 증발기(151), 및 상기 증발기의 팁(152)과 인접한 위치에 구비되어 기체의 에어로졸 입자를 이온화시키는 전자 총(153, EGun)을 포함한다. 상기 증발기(151)의 일측에는 고체 또는 액체인 에어로졸 입자를 포집하기 위한 팁(152)이 구비되며, 다른 일측에는 상기 팁의 위치를 조절할 수 있는 이동부(154, 도 7)를 구비한다. 상기 팁(152)은 이온 비행탑(170) 내의 전기장 방해를 최소화하기 위하여 반사전극판 및 이온 추출 그리드판(증발기 위, 아래의 파란색 실선) 사이에 구비되는 것이 바람직하며, 상기 이동부(154)는 팁(152)이 상기 두 판 사이에서 전기장 교란을 최소화하는 범위 내에서 높은 포집율을 보이는 위치를 선정하기 위하여 구비된다.
상기 소스 장치(110)에 구비된 공기 역학 집속 렌즈(111, 에어로졸 입자 빔의 출구)에서 상기 팁(152)까지의 거리는 40 내지 50 ㎝이다. 거리가 길어질 경우에는 에어로졸 입자 빔이 퍼져 입자 빔 내의 입자가 팁(152)까지 전달되는 효율이 감소한다.
상기 증발기에 구비된 팁(152)은 모양, 공극률 및 깊이에 따라 포집효율에 상당한 차이를 보이는데, 그 중에서 팁(152)의 모양에 따라 포집효율이 확연한 차이가 발생한다. 상기 포집효율은 빠른 속도로 진행하는 에어로졸 입자가 팁(152)에 부딪혀 튕겨져 나가는 현상(입자 바운스)을 줄일수록 향상되며, 포집효율이 높다는 것은 많은 입자를 기화시킬 수 있다는 의미이다. 또한, 입자가 기화기 팁에 잠시라도 머물러야 기화되기 때문에 팁의 모양은 에어로졸 질량분석기의 포집효율을 결정하는데 가장 크게 기여하는 부분이다.
도 3에 도시된 바와 같이, 상기 팁(152)의 모양은 입구는 좁고 내부는 넓은 역콘(reversely conical) 또는 폐쇄된 원통형(enclosed cylindrical)인 것이 다른 평판(flat), 원통형(cylindrical), 콘(conical) 및 U자형(U-shape) 모양에 비하여 포집효율이 높은 것을 알 수 있으며, 이는 에어로졸 입자의 평균입경이 800 nm인 것보다 550 nm일 때 더 두드러진다. 상기 팁(152)의 구체적인 모양은 도 4에 도시되어 있다.
상기 팁(152)의 공극률은 공극의 크기가 증가할수록 포집효율이 증가하는 것을 확인하였으며(도 5), 콘의 깊이도 깊어질수록 포집효율이 증가하는 것을 확인하였다(도 6).
상기 역콘(reversely conical) 또는 폐쇄된 원통형(enclosed cylindrical) 모양의 팁(152)의 포집효율이 높은 것은 에어로졸 입자가 벽면에 충돌하는 빈도가 증가하기 때문이다. 벽면에 충돌하는 빈도가 증가할수록 포집효율이 높아지는 것은 입자의 운동 에너지가 충돌로 인하여 감소하므로 충돌 후 속도는 충돌 전의 속도보다 훨씬 줄어들기 때문에 충돌이 반복될수록 표면에 입자가 부착될 확률이 높아지기 때문이다.
상기 팁(152)의 재질은 에어로졸 질량분석기의 검출효율에 영향을 주지는 않지만, 스테인레스 스틸, 구리, 텅스텐 및 몰리브덴으로 이루어진 군에서 선택된 1종인 것이 바람직하다.
상기 이온화 장치(140)의 외부에 구비되는 레이저 이온화기(160)는 레이저 빔을 발생시키는 레이저 발생기, 레이저 빔을 광 집속 렌즈로 반사하는 반사판(광학거울)(161), 및 레이저 빔을 이온화 장치 중앙에 집광시켜 이온화 장치에 유입된 고체 또는 액체인 에어로졸 입자를 기화 및 이온화시키는 광 집속 렌즈(162)를 포함한다.
상기 광 집속 렌즈(162)를 통과한 레이저 빔은 기화-전자 이온화기(150)의 전자 총(153)에 미칠 영향을 최소화하며, 에어로졸 입자에 조사되는 레이저 빔의 정확성 및 검출효율(hitting efficiency)을 높이기 위하여 이온화 장치(140)의 하면과 수직인 상태(도 7) 또는 이온화 장치(140)의 하면과 30 내지 50 °의 각도로 이온화 장치(140)에 투과된다(도 2; 빨간색 화살표, 도 8).
이온화 장치(140) 내에서 에어로졸 입자가 이온화되는 과정을 하기에서 설명한다.
에어로졸 입자를 이온화시키는 기화-전자 이온화기(150) 및 레이저 이온화기(160)는 별도로 사용, 예컨대 기화-전자 이온화기(150)를 이용하여 에어로졸 입자를 이온화시킨 후 3 내지 6분 후 레이저 이온화기(160)를 이용하여 에어로졸 입자를 이온화시키는 것이 바람직하다.
기화-전자 이온화기(150)를 이용하여 에어로졸 입자를 이온화시키는 과정은 압력 유지 장치(130)로부터 유입된 에어로졸 입자 빔이 진행하는 방향의 일정한 위치에 증발기(151)를 구비하여 고체 또는 액체 상태인 에어로졸 입자와 팁(152)을 충돌시킴으로써 팁(152)으로 입자를 포집하여 기화시키는 동시에 증발기(151)와 이웃하게 구비된 전자 총(153)에서 방출되는 전자로 상기 기화된 에어로졸 입자를 이온화시킨다.
또한, 레이저 이온화기(160)를 이용하여 에어로졸 입자를 이온화시키는 과정은 고체 또는 액체 상태인 에어로졸 입자 빔이 진행하고 있는 위치(이온화 장치(140) 내부)에 레이저 빔을 집광시켜 에어로졸 입자를 기화함과 동시에 이온화시킨다. 상기 사용된 레이저 빔은 레이저 발생기에서 방출된 532 nm 파장을 갖는 Nd:YAG 펄스 레이저 빔이다.
이온 비행탑 및 이온 검출기
상기 이온화 장치(140)에서 이온화된 이온들이 이온 비행탑(170)을 따라 비행한다. 이온 비행탑(170)의 상측에 구비된 이온 검출기(180)를 이용하여 이온들의 비행시간(Time-of-Flight)에 따라 차례로 이온들의 화학 조성 및 질량을 검출하는데, 이온의 비행시간은 질량에 반비례하는 원리를 이용한 것이다. 구체적으로, 이온 검출기(180)는 시간에 따라 이온에서 발생하는 전기 신호의 세기를 질량/전하에 따른 농도로 환산하여 이온의 정성 및 정량을 분석합니다.
상기 검출된 신호는 오실로스코프를 이용하여 모니터링 및 저장된다.
본 발명의 에어로졸 질량분석기(100)는 에어로졸 질량분석기(100)에 구비된 추출 그리드(extraction grid, 증발기 상측에 구비)의 펄스 신호에 따라 레이저 이온화기(160)의 레이저 발사 타이밍 및 이온 검출기(180)의 검출 타이밍을 결정하며, 반사전극판 및 추출 그리드가 동일한 크기의 전압을 가질 때 전자 총(153)이 작동을 한다.
이상으로 본 발명 내용의 특정한 부분을 상세히 기술하였는바, 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게, 이러한 구체적 기술은 단지 바람직한 실시양태일 뿐이며, 이에 의해 본 발명의 범위가 제한되는 것은 아니며, 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연하다.
100: 에어로졸 질량분석기 110: 소스 장치
111: 공기 역학 집속 렌즈 120: 스키머
130: 압력 유지 장치 140: 이온화 장치
150: 기화-전자 이온화기 151: 증발기
152: 팁 153: 전자 총
154: 이동부 160: 레이저 이온화기
161: 반사판 162: 광 집속 렌즈
170: 이온 비행탑 180: 이온 검출기

Claims (8)

  1. 투입되는 에어로졸 입자가 소스 장치, 압력 유지 장치 및 이온화 장치를 순차적으로 통과하여 이온화되며 상기 이온화된 이온들을 이온 검출기로 화학 조성 및 질량을 검출하는 에어로졸 질량분석기로서,
    상기 이온화 장치는 이온화 장치에 유입된 고체 또는 액체인 에어로졸 입자를 포집하기 위하여 일측에 역콘(reversely conical) 형태의 팁 또는 폐쇄된 원통형(enclosed cylindrical) 형태의 팁을 구비하고 상기 포집된 고체 또는 액체인 에어로졸 입자를 기체로 기화시키는 증발기, 및 상기 기화된 에어로졸 입자를 이온화시키는 전자 총을 포함하는 기화-전자 이온화기를 포함하고;
    상기 이온화 장치의 외부에 구비되며, 레이저 빔을 방출하는 레이저 발생기, 상기 레이저 빔을 광 집속 렌즈로 반사하는 반사판, 및 상기 레이저 빔을 이온화 장치 내부에 집광시켜 이온화 장치에 유입된 고체 또는 액체인 에어로졸 입자를 기화 및 이온화시키는 광 집속 렌즈를 포함하는 레이저 이온화기를 포함하는 것을 특징으로 하는 에어로졸 질량분석기.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서, 상기 레이저 이온화기의 광 집속 렌즈를 통과한 레이저 빔은 이온화 장치의 하면과 수직인 상태로 이온화 장치에 투과되는 것을 특징으로 하는 에어로졸 질량분석기.
  5. 제1항에 있어서, 상기 레이저 이온화기의 광 집속 렌즈를 통과한 레이저 빔은 이온화 장치의 하면과 30 내지 50 °의 각도로 이온화 장치에 투과되는 것을 특징으로 하는 에어로졸 질량분석기.
  6. 제1항에 있어서, 상기 소스 장치는 에어로졸 입자의 이동이 가능한 통로가 구비된 다수개의 오리피스로 구성된 공기 역학 집속 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 에어로졸 질량분석기.
  7. 제1항에 있어서, 상기 소스 장치 및 압력 유지 장치 사이에 구비되어 에어로졸 입자에 함유된 가스를 제거 및 입자의 퍼짐 현상을 방지하는 스키머(skimmer)를 포함하는 것을 특징으로 하는 에어로졸 질량분석기.
  8. 제1항에 있어서, 상기 에어로졸 질량분석기는 상기 이온화 장치의 상면에 구비되며 이온 검출기를 포함하는 이온 비행탑을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 에어로졸 질량분석기.
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