KR101497354B1 - 활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물 - Google Patents

활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물 Download PDF

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Abstract

본 발명은 저장 및 pH 안정성을 지닌 에페리손 의약 조성물 50∼90 중량%; 방출 조절제로서 하이드록시프로필메틸셀룰로오스(HPMC) 1∼20 중량%; 및 방출 조절 고분자 5∼45 중량%;를 포함하는 활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물에 관한 것이다.

Description

활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물 {Slow release pharmaceutical composition having Eperisone as active ingredient}
본 발명은 활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 에페리손과 산성화제를 포함하는 에페리손 의약 조성물에 방출 조절제로서 하이드록시프로필메틸셀룰로오스(HPMC) 및 방출 조절 고분자를 첨가시킨 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 서방성 제제 내의 에페리손 의약 조성물은 에페리손에 산성화제를 첨가시킨 저장 및 pH 환경 변화에 안정한 에페리손 의약 조성물로서 상기 에페리손 의약 조성물을 위장관 내에서 pH 변화에 안정하게 지속적으로 에페리손 활성 성분을 방출시킬 수 있는 서방성 제제 조성물에 관한 것이다.
에페리손(Eperisone)은 하기 화학식 1로 표시되는 근골격계 평활근 및 혈관계 평활근에 이완제로 작용하여 근골격계 질환에 수반되는 동통성 근육연축을 비롯한 신경계 질환에 의한 경직성 마비의 치료에 사용되는 약물이며 혈액 내 반감기가 짧아서 현재로서는 1일 용량 50∼150mg을 1일 3회 복용하는 제품이 시판되고 있다.
[화학식 1]
Figure 112013027459814-pat00001

상기와 같은 화학 구조를 지닌 에페리손은 알칼리 환경에서 피페리딘 고리가 쉽게 개환될 수 있는 이유로 pH 안정성에 문제가 있다. 또한 상기 약물을 제제화하여 보관 시에도 경시 변화에 따른 저장 안정성의 문제가 있었던 것이다.
따라서 이러한 pH 안정성 및 저장 안정성의 개선을 위해 에페리손 조성물의 개발이 진행되어왔고 특히 에페리손에 산성 pH 조절제를 첨가시킨 서방성 의약 조성물이 개시되어 왔다.
대한민국 특허등록 제10-1156054호 '안정한 에페리손 함유 서방성 의약 조성물'에서는 카보머, 시트르산 등의 특정 종류의 산성화제를 포함시켜 pH 5.6 이하 범위로 제제화 함으로써 제제의 장기 보관 안정성과 위장관내에서 장시간 체류해야 하는 서방성 제제의 특성상 pH 변화 등의 극한 환경에서도 용출 특성의 변화없이 주성분 분해를 억제할 수 있는 에페리손 서방성 의약 조성물을 개시하고 있다.
또한 상기 특허문헌에서는 산성 pH 조절제 또는 물에 현탁, 용해, 팽윤 또는 혼화되었을 때 pH 5.0 이하를 나타내는 부형제 중에서 선택된 산성화제를 포함하며, 0.5%(W/V) 수성용액으로 제조했을 때의 산도가 pH 0.5∼5.6인 것을 특징으로 하는 안정한 에페리손 함유 서방성 의약조성물을 개시하고 있으며 이때 사용되는 산성 pH 조절제로서는 알긴산, 아세트산, 포름산, 아디프산, 에데트산, 푸마르산, 젖산, 말산, 말레산, 팔미트산, 프로피온산, 소르빈산, 스테아르산, 주석산, 아스코르빈산, 에리소르빈산, 시트르산, 옥살산, 숙신산, 톨루엔설폰산, 메탄설폰산, 질산, 염산, 인산 및 황산으로 이루어진 그룹 중에서 선택된 1종 이상을 개시하고 있다.
한편으로는 에페리손 함유 서방형 제제의 개발도 진행되고 있는 바, 대한민국 공개특허공보 10-2012-52080호 '에페리손 함유 서방정 및 이의 제조방법'에서는 에페리손에 폴리비닐아세테이트, 비닐피롤리돈-비닐아세테이트 공중합체 및 하이드록시프로필메틸셀룰로스를 포함한 서방정 형태의 조성물이 개시되어 있다.
그러나 다양한 환경에 장시간 노출되어도 에페리손 염산염의 안정성에 문제가 없는 저장 및 pH 안정성이 개선된 에페리손 의약 조성물의 개발은 충분치 않은 바, 이러한 에페리손 염산염의 안정성 저하 문제로 에페리손 방출을 지연시켜 서방성 제형으로서의 완전한 개발이 어려웠던 것이다.
이에 본 발명자들은 본 출원과 동일자로 출원된 '저장 및 pH 안정성이 개선된 에페리손 의약 조성물'에서 에페리손의 저장 및 pH 안정성을 개선시키기 위해 에페리손에 D-글루카르산, D-글루코아스코르브산, 글루콘산, D-글루쿠론산, 글루코노락톤, 글루쿠로노락톤, 글루탐산, 이타콘산, 카페인산, 글리시리진산, 에탄술폰산, 벤젠술폰산, 데하이드로아스코르브산, 살리실산, 살리실술폰산, 몰식자산, 니코틴산 또는 클로로겐산에서 선택된 1종 이상의 산을 산성화제로 첨가하고 에페리손과 산성화제 간의 안정적 조성을 형성하기 위해 폴리비닐피롤리돈을 결합제로 첨가시킨 에페리손 의약 조성물을 특허 출원하여 개시한 바 있다.
한편, 통상 시판되고 있는 에페리손은 1일 3회 용량으로 복용하게 제조되고 있으나 에페리손 제제와 병용 처방되는 비-스테로이드성 소염진통제(NSAID)의 경우 통상 1일 2회 용량으로 복용하게 되어있는 바 상호간 투여 회수가 일치하지 않음에 따라 병용 처방시 환자들의 복약 순응도가 낮아지는 경향이 있어 1일 2회 용량으로 복용할 수 있는 에페리손 서방성 제제의 개발이 더욱 요구되어 왔던 것이다.
따라서 본 발명자들은 본 발명자들이 이미 개발한 에페리손에 산성화제와 폴리비닐피롤리돈 결합제를 첨가시킨 에페리손 의약 조성물에 방출 조절제로서 하이드록시프로필메틸셀룰로오스(HPMC)와 방출 조절 고분자를 첨가시킨 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물을 개발함으로써 본 발명을 완성하게 된 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 1일 2회 용량으로 복용 가능한 서방출 특성을 갖는 에페리손 함유 서방성 제제를 개발코자 한 것으로, 본 발명자들이 이미 개발한 에페리손에 산성화제와 결합제를 첨가시킨 에페리손 의약 조성물에 방출 조절제로서 하이드록시프로필메틸셀룰로오스(HPMC)와 방출 조절 고분자를 첨가시킨 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물을 개발코자 한 것이다.
본 발명의 목적은 저장 및 pH 안정성을 지닌 에페리손 의약 조성물 50∼90 중량%; 방출 조절제로서 하이드록시프로필메틸셀룰로오스(HPMC) 1∼20 중량%; 및 방출 조절 고분자 5∼45 중량%;를 포함하는 활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물을 제공하는 것이다.
이때 상기 저장 및 pH 안정성을 지닌 에페리손 의약 조성물은 에페리손 또는 그의 약제학적으로 허용 가능한 염 20∼60 중량%; D-글루카르산, D-글루코아스코르브산, 글루콘산, D-글루쿠론산, 글루코노락톤, 글루쿠로노락톤, 글루탐산, 이타콘산, 카페인산, 글리시리진산, 에탄술폰산, 벤젠술폰산, 데하이드로아스코르브산, 살리실산, 살리실술폰산, 몰식자산, 니코틴산 또는 클로로겐산에서 선택된 1종 이상의 산성화제 1∼30 중량%; 결합제로서 결합제 0.5∼8 중량%; 및 희석제 10∼80 중량%;를 포함함을 특징으로 한다.
또한 상기 방출 조절제로서 하이드록시프로필메틸셀룰로오스(HPMC)는 점도가 6∼10,000 cps 범위인 것을 특징으로 한다.
한편 상기 방출 조절 고분자는 미결정셀룰로오스, 전분, 크로스포비돈, 저치환도 히드록시프로필셀룰로오스, 전분글리콘산나트륨, 크로스카멜로오스나트륨, 카르복시메틸셀룰로오스 칼슘 또는 마그네슘알루미늄실리케이트 중에서 선택된 1종 이상임을 특징으로 한다.
또한 상기 활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물은 pH 1.2의 완충액 내에서 용출 초기 60분 이내 전체 함량의 30∼55 중량%, 3시간 이내 55∼85 중량%, 그리고 5시간 이내 85 중량% 이상 용출됨을 특징으로 한다.
한편 본 발명의 또 다른 목적은 속방출층으로 상기 저장 및 pH 안정성을 지닌 에페리손 의약 조성물을 사용하고 서방출층으로 상기 활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물을 사용한 이중층 형태의 에페리손 함유 서방정을 제공하는 것이다.
한편 본 발명의 또 다른 목적은 상기 활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물에 추가적으로 비-스테로이드성 소염진통제(NSAID)를 포함하는 에페리손 복합제제를 제공하는 것이다.
이때 상기 비-스테로이드성 소염진통제(NSAID)는 셀레콕시브, 아세클로페낙, 디클로페낙, 이부프로펜, 덱시부프로펜, 록소프로펜, 잘토프로펜, 케토프로펜, 멜록시캄, 나프록센, 에토돌락, 나부메톤, 펠비낙, 니메설리드 중에서 선택된 1종 이상임을 특징으로 한다.
본 발명의 효과는 1일 2회 용량으로 복용 가능한 서방출 특성을 갖는 에페리손 함유 서방성 제제를 제공하기 위한 것으로, 에페리손에 산성화제와 폴리비닐피롤리돈 결합제를 첨가시킨 에페리손 의약 조성물에 방출 조절제로서 하이드록시프로필메틸셀룰로오스(HPMC)와 방출 조절 고분자를 첨가시킨 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물을 제공하는 것이다.
도 1은 본 발명의 제조실시예 1에서 제조된 시료의 패들법에 의한 시간별 용출율을 도시한 그래프이다.
본 발명은 저장 및 pH 안정성을 지닌 에페리손 의약 조성물 50∼90 중량%; 방출 조절제로서 하이드록시프로필메틸셀룰로오스(HPMC) 1∼20 중량%; 및 방출 조절 고분자 5∼45 중량%;를 포함하는 활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물에 관한 것이다.
이때 서방성 제제 내의 에페리손 의약 조성물은 에페리손에 산성화제를 첨가시킨 저장 및 pH 환경 변화에 안정한 에페리손 의약 조성물로서 상기 에페리손 의약 조성물을 위장관 내에서 pH 변화에 안정하게 지속적으로 에페리손 활성 성분을 방출시킬 수 있는 서방성 제제 조성물에 관한 것이다.
이하 본 발명을 더욱 상세히 설명한다.
본 발명의 서방성 제제 조성물 내에 사용되는 저장 및 pH 안정성을 지닌 에페리손 의약 조성물은 에페리손 또는 그의 약제학적으로 허용 가능한 염 20∼60 중량%; D-글루카르산, D-글루코아스코르브산, 글루콘산, D-글루쿠론산, 글루코노락톤, 글루쿠로노락톤, 글루탐산, 이타콘산, 카페인산, 글리시리진산, 에탄술폰산, 벤젠술폰산, 데하이드로아스코르브산, 살리실산, 살리실술폰산, 몰식자산, 니코틴산 또는 클로로겐산에서 선택된 1종 이상의 산성화제 1∼30 중량%; 결합제 0.5∼8 중량%; 및 희석제 10∼80 중량%;를 포함하는 것이다.
상기 저장 및 pH 안정성을 지닌 에페리손 의약 조성물 내에 사용되는 희석제로서는 미결정셀룰로오스, 유당 수화물, 무수 유당, 전분, 덱스트로즈, 설탕, 말티톨, 인산수소칼슘 또는 만니톨에서 선택된 1종 이상을 들 수 있다.
또한 상기 산성화제로서는 D-글루쿠론산(D-glucuronic acid), 글루코노락톤(gluconolactone) 또는 글루쿠로노락톤(glucuronolactone)에서 선택된 1종 이상이 바람직하다.
한편 상기 산성화제의 함량은 상기 에페리손 의약조성물의 1.0%(w/v) 수용성 용액의 pH를 2.0∼5.5로 조정시킬 수 있는 양이다.
또한 본 발명의 서방성 제제 조성물에 사용되는 방출 조절제로서 하이드록시프로필메틸셀룰로오스(HPMC)는 점도가 6∼10,000 cps 범위인 것으로 이때 점도가 10,000 cps를 초과하면 약물의 용출이 낮아지는 문제가 있다.
또한 본 발명의 서방성 제제 조성물에 사용되는 방출 조절 고분자는 미결정셀룰로오스, 전분, 크로스포비돈, 저치환도 히드록시프로필셀룰로오스, 전분글리콘산나트륨, 크로스카멜로오스나트륨, 카르복시메틸셀룰로오스 칼슘 또는 마그네슘알루미늄실리케이트 중에서 선택된 1종 이상이며 상기 방출 조절 고분자는 방출 조절제로 사용하는 하이드록시프로필메틸셀룰로오스(HPMC)와 서로 혼합하여 사용함으로써 저장 및 pH 안정성을 지닌 에페리손 의약 조성물의 방출을 더욱 안정적으로 조절할 수 있게 한다.
또한 본 발명의 활성성분인 에페리손은 염산염 형태가 바람직하고, 1회 투여 용량 내 함유된 염산 에페리손의 함량은 75∼150mg가 바람직하다.
또한 상기 활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물은 pH 1.2의 완충액 내에서 용출 초기 60분 이내 전체 함량의 30∼55 중량%, 3시간 이내 55∼85 중량%, 그리고 5시간 이내 85 중량% 이상 용출됨을 특징으로 한다.
한편 본 발명의 또 다른 목적은 속방출층으로 상기 저장 및 pH 안정성을 지닌 에페리손 의약 조성물을 사용하고 서방출층으로 상기 활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물을 사용한 이중층 형태의 에페리손 함유 서방정을 제공하는 것이다.
이때 속방출층은 60분 이내에 활성성분의 85 중량% 이상 용출되는 특성을 지니며 이러한 2개 층의 결합을 통한 2중층 형태의 에페리손 함유 서방정을 제조함으로써 더욱 편리하게 1일 2회 용량으로 복용 가능케 한다.
한편 본 발명은 상기 활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물에 추가적으로 비-스테로이드성 소염진통제(NSAID)를 포함하는 에페리손 복합제제를 제공하는 것이다.
본 발명의 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물은 추가적으로 비-스테로이드성 소염진통제(NSAID)를 포함할 수 있으며, 예를 들면 셀레콕시브, 아세클로페낙, 디클로페낙, 이부프로펜, 덱시부프로펜, 록소프로펜, 잘토프로펜, 케토프로펜, 멜록시캄, 나프록센, 에토돌락, 나부메톤, 펠비낙, 니메설리드 중에서 선택된 1종 이상을 열거할 수 있다.
본 발명의 1일 2회 용량으로 복용 가능한 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물과 1일 2회 복용하는 비-스테로이드성 소염진통제를 병용 투여하면 환자들의 복용 편리성을 증진시켜 복약 순응도를 더욱 향상시킬 수 있다.
본 발명의 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물은 각각의 조성 성분을 혼합시킨 후 통상적인 직타법이나 습식법, 건식법 등을 통해 제조할 수 있으며 일반적인 과립 비드 펠렛 정제 캡슐 환제 뿐 아니라 이들의 다층정, 코팅정, 유핵정, 매트릭스 형태로 제형화할 수 있다.
이하 본 발명을 제조실시예, 제조비교예 및 실시예를 통하여 더욱 상세히 설명한다. 그러나 본 발명의 실시예들로 본 발명의 범위를 한정하는 것은 아니다.
(제조실시예 1) 본 발명의 활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물의 제조
(단계 1)
염산에페리손 100g, 산성화제로서 글루쿠론산 20g, 희석제로서 유당 수화물 175g을 정량하여 24 메쉬체에 사과한 후 투입하여 5분간 혼합하였다. 결합제로서 폴리비닐피롤리돈(PVP K30) 5g을 이소프로판올 50ml에 녹여 결합액을 만든 후 상기 혼합물로 에페리손 의약 조성물 300g을 제조하였다.
(단계 2)
상기 단계 1에서 제조된 조성물 225g에 하이드록시프로필메틸셀룰로오스(HPMC) 36g과 방출 조절 고분자로서 미결정셀룰로오스 30g, 폴리비닐피롤리돈 5g 및 소량의 물을 첨가하여 5분간 혼합시킨 후 과립물을 오븐에서 50℃ 조건으로 1시간 동안 건조한 후 20 메쉬체를 이용하여 정립하여 과립물을 제조하였으며 활택제로서 탤크 및 스테아르산마그네슘 각 2g을 투입하여 비닐백에서 3분간 혼합하고, 이 혼합물을 타정기에서 압축하여 1정당 염산에페리손 75mg이 함유된 300mg 정제 1000개를 제조하였다. 최종 활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제의 성분 함량은 1정 당 염산에페리손 75mg, 글루쿠론산 15mg, 유당 수화물 131.25mg, 폴리비닐피롤리돈 8.75mg, HPMC 36mg, 미결정셀룰로오스 30mg 이었다.
(제조실시예 2) 본 발명의 활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물의 제조
제조실시예 1에서 방출 조절 고분자로서 미결정셀룰로오스 30g 대신에 저치환도히드록시프로필셀룰로오스 30g을 사용한 것을 제외하고는 제조실시에 1과 동일한 방법으로 제조하였다. 최종 활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제의 성분 함량은 1정 당 염산에페리손 75mg, 글루쿠론산 15mg, 유당 수화물 131.25mg, 폴리비닐피롤리돈 8.75mg, HPMC 36mg, 저치환도히드록시프로필셀룰로오스 30mg 이었다.
(제조실시예 3) 본 발명의 활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물의 제조
제조실시예 1에서 방출 조절 고분자로서 미결정셀룰로오스 30g 대신에 전분글리콜산나트륨 30g을 사용한 것을 제외하고는 제조실시에 1과 동일한 방법으로 제조하였다. 최종 활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제의 성분 함량은 1정 당 염산에페리손 75mg, 글루쿠론산 15mg, 유당 수화물 131.25mg, 폴리비닐피롤리돈 8.75mg, HPMC 36mg, 전분글리콜산나트륨 30mg 이었다.
(제조비교예 1) HPMC의 성분 제외
제조실시예 1에서 첨가된 HPMC를 첨가하지 않은 대신에 방출 조절 고분자 미결정셀룰로오스의 함량을 30g 대신에 66g으로 증가시켜 제조실시에 1과 동일한 방법으로 제조하였다. 최종 활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제의 성분 함량은 1정 당 염산에페리손 75mg, 글루쿠론산 15mg, 유당 수화물 131.25mg, 폴리비닐피롤리돈 8.75mg, 미결정셀룰로오스 66mg 이었다.
(제조비교예 2) 방출 조절 고분자 성분 제외
제조실시예 1에서 첨가된 방출 조절 고분자 미결정셀룰로오스를 첨가하지 않은 대신에 HMPC의 함량을 36g 대신에 66g으로 증가시켜 제조실시에 1과 동일한 방법으로 제조하였다. 최종 활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제의 성분 함량은 1정 당 염산에페리손 75mg, 글루쿠론산 15mg, 유당 수화물 131.25mg, 폴리비닐피롤리돈 8.75mg, HPMC 66mg 이었다.
(제조비교예 3) 에페리손 의약 조성물 내 산성화제 성분 제외
제조실시예 1 단계 1에서 에페리손 의약 조성물을 제조하는 단계에서 산성화제로 사용된 글루쿠론산 20g을 첨가하지 않고 대신에 희석제 유당 수화물의 함량을 195g으로 증가시켜 에페리손 의약 조성물을 제조하였다. 상기 수득된 에페리손 의약 조성물 225g을 제조실시예 1 단계 2에 첨가하여 제조실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다. 최종 활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제의 성분 함량은 1정 당 염산에페리손 75mg, 유당 수화물 146.25mg, 폴리비닐피롤리돈 8.75mg, HPMC 36mg, 미결정셀룰로오스 30mg 이었다.
(실시예) 용출 시험(패들법)
상기 제조실시예 1 내지 3, 제조비교예 1 내지 3에서 제조된 서방형 제제 시료 1정을 37℃에서 pH 1.2 완충액에 넣어 패들법으로 50rpm의 조건에서 용출시험을 시행하였다. 각 시점에서 5mL를 채취하여 여과한 후 UV-스펙트로포토미터 흡광도측정법(261nm)으로 에페리손 염산염의 함량을 측정하여 그 누적 용출율을 표 1에 나타내었다. 또한 도 1은 제조실시예 1에서 제조된 시료의 용출 그래프를 나타낸 것이다.
패들법에 의한 본 발명의 서방성 제제의 염산에페리손 누적 용출율(%)
시간(분)
0 30 60 180 300
제조실시예 1 0 24.1 36.9 74.8 95.4
제조실시예 2 0 29.5 41.9 79.4 98.9
제조실시예 3 0 27.2 40.1 78.9 96.2
제조비교예 1 0 70.4 98.4 98.9 99.6
제조비교예 2 0 15.9 24.6 46.3 68.1
제조비교예 3 0 22.1 35.3 71.9 94.6
상기 표 1의 결과로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 제조실시예 1 내지 3에서 제조된 서방성 제제(1정당 염산에페리손 75mg 함유)의 경우, 초기 60분에 전체 함량의 36 내지 42%를 방출하였고 180분에 74 내지 80%, 300분에 95% 이상의 용출율을 나타내고 있어 안정된 용출패턴을 보여주고 있다.
반면 본 발명의 제조비교예 1 내지 3에서 제조된 제제(1정당 염산에페리손 75mg 함유)의 경우, 초기 60분에 전체 함량의 25 내지 99%를 방출하였고 180분에 46 내지 99%, 300분에 58 내지 100% 의 용출율을 나타내어 안정하지 않고 변화가 큰 용출패턴을 나타내고 있다.
따라서 본 발명의 방법에 따라 제조된 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물의 경우 제조비교예에 의해 제조된 서방성 제제 조성물에 비해 안정되고 일정한 용출 패턴의 차이를 나타냄을 확인한 것이다.
본 발명의 방법에 따라 제조된 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물의 경우 위에서 체류하는 시간 뿐 아니라 소장을 통과하는 시간 동안에도 정제의 붕해가 완전히 이루어지지 않고 정제 내에 약물을 계속 함유한 상태로 이동하게 된다. 즉 위내에서 체류하는 동안에 활성성분인 에페리손이 일부만 방출되고, 그 잔량은 붕해되지 않은 정제 내에 남아 소장을 통과하면서 서서히 방출되는 양상을 나타내게 된다.
따라서 소장 내부의 높은 pH 환경에서도 에페리손이 화학적 안정성을 유지하도록 정제 내부의 pH 환경을 낮게 유지할 필요가 있다. 이러한 기술적 요구에 따라 본 발명에서는 산성화제를 첨가함으로써 pH 6.8의 완충액 중에서 에페리손의 분해산물이 현저히 낮게 생성됨을 확인할 수 있다.

Claims (8)

  1. ⅰ) 에페리손 의약 조성물 50∼90 중량%; ⅱ) 방출 조절제로서 하이드록시프로필메틸셀룰로오스(HPMC) 1∼20 중량%; 및 ⅲ) 방출 조절 고분자로서 저치환도 히드록시프로필셀룰로오스 5∼45 중량%;를 포함하는 활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물에 있어서,
    상기 에페리손 의약 조성물은 에페리손 또는 그의 약제학적으로 허용 가능한 염 20∼60 중량부; D-글루카르산, D-글루코아스코르브산, 글루콘산, D-글루쿠론산, 글루코노락톤, 글루쿠로노락톤, 글루탐산, 이타콘산, 카페인산, 글리시리진산, 에탄술폰산, 벤젠술폰산, 데하이드로아스코르브산, 살리실산, 살리실술폰산, 몰식자산, 니코틴산 또는 클로로겐산에서 선택된 1종 이상의 산성화제 1∼30 중량부; 결합제 0.5∼8 중량부; 및 희석제 10∼80 중량부;를 포함하고
    상기 활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물은 pH 1.2의 완충액 내에서 용출 초기 60분 이내 전체 함량의 30∼55 중량%, 3시간 이내 55∼85 중량%, 그리고 5시간 이내 85 중량% 이상 용출됨
    을 특징으로 하는 활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물.
  2. 삭제
  3. 제 1항에 있어서, 상기 방출 조절제로서 하이드록시프로필메틸셀룰로오스(HPMC)는 점도가 6∼10,000 cps 범위인 것을 특징으로 하는 활성 성분으로 에페리손을 함유하는 서방성 제제 조성물.
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 삭제
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