KR101493710B1 - A design shaded carving method a engraved and embossed no step the sculpture - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a design shaded carving method having a stepless sculpture for engraving and embossing, and more specifically, to a design shaded carving method having having a stepless sculpture for engraving and embossing including steps of: (1) preparing one stone selected from a stone group; (2) forming a design film on which a design pattern is formed on one side of the stone; (3) dipping the stone in a water tank which is filled with a specific chemical solution; and (4) completing design carving of the stone through removing the design film and drying the stone. The present invention can perform standardized mass production through a silk screen printing process.

Description

음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법{A DESIGN SHADED CARVING METHOD A ENGRAVED AND EMBOSSED NO STEP THE SCULPTURE}{A DESIGN SHADED CARVING METHOD A ENGRAVED AND EMBOSSED NO STEP THE SCULPTURE}

본 발명은 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 천연대리석과 화강석(천연석재)과 인조대리석 및 타일을 포함하는 석재에 원하는 디자인 또는 글씨의 디자인 패턴 형상을 침전에 의한 무광택 가공 조각을 사용하여 조각 단차가 없는 무광의 음영 조각이 형성되도록 하는 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a design shading method without engraving steps of engraved and embossed shapes, and more particularly, to a method of engraving design margins of natural or marble (natural stone), artificial marble and tile, The present invention relates to a design shading method in which a matte processed piece is used to form a matte shaded piece without a step.

일반적으로 천연대리석 및 화강석, 인조대리석 및 타일을 포함하는 석재는 대리석 마감재로서 건축 내/외장재 및 조경재로 사용되고 있으며, 석재의 일면에는 원하는 패턴의 디자인이나 글씨 등이 조각되어 건축물의 마감재로 많이 이용되고 있다. 이러한 석재는 원하는 디자인을 조각하는 방법으로 샌드 블라스트, 컴퓨터 조각기(CNC), 및 레이저 등의 방식이 사용되고 있다. 그런데, 상기 방식들을 이용할 경우 천연대리석 및 화강석, 인조대리석 및 타일과 같은 석재에 디자인을 조각하여 표현하게 되면 최소 0.1㎜ 이상의 조각 단차가 발생하게 된다. 이러한 조각 단차가 발생된 석재들은 건축물의 벽체에 시공되어 마감재로서 다양한 디자인을 표현하는데 사용되고 있으나, 조각의 깊이 단차로 인하여 바닥용으로는 사용이 불가능하게 되는 제약이 따르는 어려운 문제가 있다.
In general, natural marble and granite, including artificial marble and tile, are used as a marble finishing material for construction interior / exterior materials and landscaping, and a desired pattern design or text is sculpted on one side of a stone, have. Such stone is used to sandblast the desired design, such as sandblast, computer engraving machine (CNC), and laser. However, when the above-mentioned methods are used, if a design is expressed in stone such as natural marble, granite, artificial marble and tile, a piece step of at least 0.1 mm or more occurs. The stone having such a step difference is applied to the wall of the building to express various designs as a finishing material, but it is difficult to use the floor because of the depth step of the slice.

즉, 종래의 샌드 블라스트, 컴퓨터 조각기(CNC), 및 레이저 방식에 의해 조각되는 천연대리석 및 화강석, 인조대리석 및 타일을 포함하는 석재들은 최소 0.1㎜ 이상의 조각 단차가 발생되는 디자인 패턴을 형성함에 따라 바닥용 마감재로 사용할 경우, 조각의 단차 부분에 모래나 이물질이 끼어 사람들이 밟고 다니게 되면 석재 및 타일에 스크래치가 발생하게 되고, 이는 석재의 표면 손상 및 하자로 인해 사용할 수 없는 상태가 되는 문제가 있었다. 또한, 스크래치와 같은 표면 손상으로 주기적인 보수 및 교체의 유지관리가 요구되고, 그에 따른 추가적인 비용이 계속해서 발생하게 되는 문제가 있었다.That is, stones including natural sandblast, computer engraver (CNC), and natural marble and granite, artificial marble and tile carved by a laser system form a design pattern in which a piece step of at least 0.1 mm is generated, There is a problem in that scratches occur in the stone and the tile when people step on it because sand or foreign substance is stuck on the stepped portion of the piece, and this causes the stone to become unusable due to surface damage and defects. In addition, there is a problem that maintenance of maintenance and replacement periodically is required due to surface damage such as scratches, and additional costs are continuously generated.

본 발명은 기존에 제안된 방법들의 상기와 같은 문제점들을 해결하기 위해 제안된 것으로서, 천연대리석 및 화강석과 인조대리석 및 타일을 포함하는 석재에 원하는 디자인 또는 글씨의 디자인 패턴 형상을 형성하여 제조하되, 침전에 의한 무광택 가공 조각 공법을 사용하여 조각 단차가 없는 무광의 음영 조각이 석재에 형성되도록 함으로써, 석재의 표면 손상에 따른 스크래치 발생의 우려가 없는 건축물의 바닥에 마감재로 사용할 수 있도록 하는, 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
The present invention has been proposed in order to solve the above-mentioned problems of the previously proposed methods, and is produced by forming a desired design or design pattern shape on a stone including natural marble and granite and artificial marble and tile, , Which can be used as a finishing material on the floor of a building which does not cause scratches due to the surface damage of the stone, by forming a shade piece of matte, The present invention has been made to solve the above problems.

또한, 본 발명은, 조각 단차가 없는 무광의 음영 조각이 형성된 석재를 건축물의 벽면은 물론 바닥의 마감재로도 시공하여 사용할 수 있도록 하고, 석재 인테리어의 고급화에 이바지할 수 있도록 하며, 시트 부착 공정을 통해 소량 주문 생산에 대응이 가능하고, 실크 스크린 인쇄 공정을 통해서는 규격화된 대량생산에 맞는 양산이 가능하도록 하는, 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법을 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.The present invention also provides a method of making a stone material in which a shaded piece of a matte shade without a piece step is formed to be used as a finishing material for a floor as well as a wall of a building, It is another object of the present invention to provide a design shading method capable of coping with small order production through a silkscreen printing process and mass production of a standardized mass production through a silk screen printing process, .

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따른 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법은,According to an aspect of the present invention, there is provided a design shading method,

음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법으로서,A method of engraving design shading without engraving and engraving steps,

(1) 천연대리석 및 화강석, 인조대리석 및 타일을 포함하는 석재 군으로부터 선택된 어느 하나의 석재를 준비하는 단계;(1) preparing a stone selected from the group consisting of natural marble and stone including granite, artificial marble and tile;

(2) 상기 단계 (1)에서 준비된 석재의 일면으로 특정 문양의 디자인 패턴이 형성된 디자인 막을 형성하는 단계;(2) forming a design film in which a design pattern of a specific pattern is formed on one side of the stone prepared in the step (1);

(3) 상기 단계 (2)를 통해 디자인 막이 형성된 석재를 특정 약품 용액이 담긴 침전 수조에 디핑(dipping) 처리하는 단계; 및(3) dipping the stone having the design film formed thereon through the step (2) into a sedimentation tank containing a specific chemical solution; And

(4) 상기 디핑 처리가 완료된 상기 석재에 형성한 디자인 막을 제거하고 건조하는 공정을 통해 상기 특정 문양의 디자인 패턴이 음영 조각으로 표현되는 석재의 디자인 음영 조각을 완료하는 단계를 포함하는 것을 그 구성상의 특징으로 한다.
(4) completing the design shade piece of the stone in which the design pattern of the specific pattern is expressed as a shade piece through a process of removing the design film formed on the stone material after the dipping process is completed and drying the same, .

바람직하게는, 상기 단계 (1)에서는,Preferably, in the step (1)

상기 천연대리석 및 화강석, 인조대리석 및 타일을 포함하는 석재 군으로부터 선택된 어느 하나의 석재를 특정 문양의 디자인 패턴 음영 조각을 위해 준비하되, 상기 특정 문양의 디자인 패턴이 형성될 상기 석재의 이물질을 제거하는 과정을 더 포함하여 이루어질 수 있다.
The method according to any one of claims 1 to 4, wherein any one selected from the group consisting of natural marble, granite, artificial marble, and tiles is prepared for shading design patterns of a specific pattern, And < / RTI >

바람직하게는, 상기 단계 (2)에서는,Preferably, in the step (2)

상기 석재에 디자인 막을 형성하되, 상기 특정 약품 용액에 반응하지 않는 특정 시트를 부착하여 특정 문양의 디자인 패턴이 형성되도록 하는 시트 부착 공정으로 이루어질 수 있다.
And a sheet attaching step of forming a design film on the stone and attaching a specific sheet which does not react with the specific chemical solution to form a design pattern of a specific pattern.

바람직하게는, 상기 단계 (2)에서는,Preferably, in the step (2)

상기 석재에 디자인 막을 형성하되, 상기 특정 약품 용액에 반응하지 않는 특정 잉크를 도포하여 특정 문양의 디자인 패턴이 형성되도록 하는 실크 스크린 공정으로 이루어질 수 있다.
And a silk screen process in which a design film is formed on the stone, and a specific pattern of a specific pattern is formed by applying a specific ink that does not react with the specific chemical solution.

바람직하게는, 상기 특정 약품 용액은,Preferably, the specific drug solution is a drug solution,

질산(Nitric Acid) 20중량%와, 과산화수소(Hydrogen Peroxide) 10중량%와, 산성불화암모늄(Acidic a㎜onium fluoride) 5중량%와, 물(water) 65중량%를 혼합하여 제조된 석재의 침전에 의한 무광택 가공을 위한 조성물로 구성할 수 있다.
A precipitate of stone prepared by mixing 20 wt% of nitric acid, 10 wt% of hydrogen peroxide, 5 wt% of acidic ammonium fluoride, and 65 wt% of water, And a composition for matte processing by the above-mentioned method.

더욱 바람직하게는, 상기 단계 (3)에서는,More preferably, in the step (3)

상기 석재의 디핑 처리 시, 상기 특정 약품 용액이 특정 문양의 디자인 패턴이 형성된 디자인 막을 제외한 부분과 반응하는 침전에 의한 무광택 가공으로 무광의 음영 조각이 처리되도록 할 수 있다.
During the dipping process of the stone, matte shadows can be treated by matte processing by precipitation in which the specific chemical solution reacts with a portion of the design pattern except for the design film in which the design pattern of the specific pattern is formed.

더욱 바람직하게는, 상기 디핑 처리 조건은,More preferably, the dipping treatment conditions include:

영상 5℃ 이상의 온도에서 디핑 처리 작업이 가능하며, 상기 석재의 디핑 처리시간은 30분 이내로 가공할 수 있다.The dipping process can be performed at a temperature of 5 ° C or higher, and the dipping process time of the stone can be processed within 30 minutes.

본 발명에서 제안하고 있는 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 조각 방법에 따르면, 천연대리석 및 화강석과 인조대리석 및 타일을 포함하는 석재에 원하는 디자인 또는 글씨의 디자인 패턴 형상을 형성하여 제조하되, 침전에 의한 무광택 가공 조각 공법을 사용하여 조각 단차가 없는 무광의 음영 조각이 석재에 형성되도록 함으로써, 석재의 표면 손상에 따른 스크래치 발생의 우려가 없는 건축물의 바닥에 마감재로 사용할 수 있도록 할 수 있다.
According to the design engraving method which does not have the engraving step of embossed and embossed pieces proposed in the present invention, it is possible to manufacture a stone having natural marble and granite and artificial marble and tile by forming a design pattern shape of a desired design or letter, It is possible to use a matte shaded piece without a step of a piece on the stone so that it can be used as a finishing material on the floor of a building where there is no fear of scratching due to surface damage of the stone.

또한, 본 발명에 따르면, 조각 단차가 없는 무광의 음영 조각이 형성된 석재를 건축물의 벽면은 물론 바닥의 마감재로도 시공하여 사용할 수 있도록 하고, 석재 인테리어의 고급화에 이바지할 수 있도록 하며, 시트 부착 공정을 통해 소량 주문 생산에 대응이 가능하고, 실크 스크린 인쇄 공정을 통해서는 규격화된 대량생산에 맞는 양산이 가능하도록 할 수 있다.Further, according to the present invention, it is possible to construct a stone having a matte shaded piece without a piece step to be used as a finishing material for a floor as well as a wall of a building, and to contribute to the upgrading of the interior of a stone, It is possible to cope with small order production through the silk screen printing process, and mass production according to the standardized mass production can be made possible.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법의 순서도를 도시한 도면.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법에서, 디자인 막을 형성하는 구체적인 방법을 도시한 도면.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법의 단계별 구성을 도시한 도면.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법에 의해 제조된 석재의 구성을 도시한 도면.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법에 의해 제조된 석재의 걸림 없는 상태를 설명하기 위해 도시한 도면.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법에 의해 제조된 석재를 회전문에 설치한 일례의 구성을 도시한 도면.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Figure 1 is a flow diagram of a design shading method without engraving steps of engraved and embossed according to an embodiment of the present invention.
2 is a diagram illustrating a specific method of forming a design film in a design shading method without engraving steps of engraved and embossed according to an embodiment of the present invention.
3 is a view showing a stepwise configuration of a design shading method without engraving steps of embossed and embossed shapes according to an embodiment of the present invention.
4 is a view showing a structure of a stone produced by a design shading method without engraving steps of engraved and embossed according to an embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a view for explaining a state in which no stone is produced by a method of design shading according to an embodiment of the present invention, in which the engraving step is not provided. FIG.
6 is a view showing an example of a structure in which a stone manufactured by a design shading method without engraving steps of engraved and embossed angles according to an embodiment of the present invention is installed in a revolving door.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다만, 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 도면 전체에 걸쳐 동일한 부호를 사용한다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, in order that those skilled in the art can easily carry out the present invention. In the following detailed description of the preferred embodiments of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear. In the drawings, like reference numerals are used throughout the drawings.

덧붙여, 명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 ‘연결’ 되어 있다고 할 때, 이는 ‘직접적으로 연결’ 되어 있는 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고 ‘간접적으로 연결’ 되어 있는 경우도 포함한다. 또한, 어떤 구성요소를 ‘포함’ 한다는 것은, 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다.
In addition, in the entire specification, when a part is referred to as being 'connected' to another part, it may be referred to as 'indirectly connected' not only with 'directly connected' . Also, to "include" an element means that it may include other elements, rather than excluding other elements, unless specifically stated otherwise.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법의 순서도를 도시한 도면이고, 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법에서, 디자인 막을 형성하는 구체적인 방법을 도시한 도면이며, 도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법의 단계별 구성을 도시한 도면이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법은, 석재(101)를 준비하는 단계(S110), 석재(101)의 일면으로 특정 문양의 디자인 패턴이 형성된 디자인 막(102)을 형성하는 단계(S120), 디자인 막(102)이 형성된 석재(101)를 특정 약품 용액(103)이 담긴 침전 수조(104)에 디핑 처리하는 단계(S130), 및 디핑 처리가 완료된 석재(101)에 형성한 디자인 막(102)을 제거하고 건조하는 공정을 통해 특정 문양의 디자인 패턴이 음영 조각으로 표현되는 석재(101)의 디자인 음영 조각을 완료하는 단계(S140)를 포함하여 구현될 수 있다.
FIG. 1 is a flow chart of a design shading method without engraving steps of engraving and embossing according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross- FIG. 3 is a view showing a stepwise configuration of a design shading method without engraving steps of engraving and embossing according to an embodiment of the present invention. FIG. 3 is a view showing a specific method of forming a design film in a design shading method. As shown in FIG. 1, a design shading method without engraving steps of engraving and embossing according to an embodiment of the present invention includes a step (S110) of preparing a stone 101, A step S120 of forming a design film 102 in which a design pattern of a pattern is formed and a step of dipping the stone 101 formed with the design film 102 into a sedimentation tank 104 containing a specific chemical solution 103 And the design film 102 formed on the dipped stone 101 is removed and dried to complete the design shading piece of the stone 101 in which the design pattern of the specific pattern is expressed as a shaded piece Step S 140 may be implemented.

단계 S110에서는, 원하는 디자인 또는 글씨를 음각 및 양각의 조각 단차 없이 디자인 음영 조각을 위해 사용될 석재(101)를 준비하는 단계이다. 여기서, 석재(101)는 천연대리석 및 화강석, 인조대리석 및 타일을 포함하는 석재(101) 군으로부터 선택된 어느 하나의 석재(101)가 사용될 수 있다. 이때, 단계 S110에서는 천연대리석 및 화강석, 인조대리석 및 타일을 포함하는 석재(101) 군으로부터 선택된 어느 하나의 석재(101)를 특정 문양의 디자인 음영 패턴 조각을 위해 준비하되, 특정 문양의 디자인 음영 패턴이 형성될 석재(101)의 이물질을 제거하는 과정을 더 포함하여 이루어지게 된다.
Step S110 is a step of preparing the stone 101 to be used for a design shade piece without engraving steps of engraving and embossing the desired design or text. Here, as the stone 101, any one stone 101 selected from the group of the stone 101 including natural marble and granite, artificial marble and tile may be used. At this time, in step S110, any one stone 101 selected from the group of stones 101 including natural marble and granite, artificial marble and tile is prepared for a design shading pattern piece of a specific pattern, And removing the foreign substance of the stone 101 to be formed.

단계 S120에서는, 단계 S110에서 준비된 석재(101)의 일면으로 특정 문양의 디자인 패턴이 형성된 디자인 막(102)을 형성하게 된다. 여기서, 디자인 막(102)을 형성하는 방법으로는 도 2에 도시된 바와 같이, 특정 약품 용액(103)(도 3 참조)에 반응하지 않는 특정 시트를 부착하여 특정 문양의 디자인 패턴이 형성되도록 하는 시트 부착 공정(S121)으로 이루어질 수 있다. 또한, 디자인 막(102)을 형성하는 다른 방법으로는 도 2에 도시된 바와 같이, 특정 약품 용액(103)에 반응하지 않는 특정 잉크를 도포하여 특정 문양의 디자인 패턴이 형성되도록 하는 실크 스크린 공정(S122)으로 이루어질 수 있다. 시트 부착 공정(S121)은 특정 약품 용액(103)에 시트가 반응하지 않는 주문 제작 시트에 원하는 디자인 및 글씨를 형성하는 방식으로, 소량의 주문 제작에 대응한 생산 가공에 사용하는 방법이다. 이러한 시트 부착 공정(S121)은 소량 생산의 주문 생산을 짧은 시간 내에 가능하게 한다. 한편, 실크 스크린 공정(S122)은 특정 약품 용액(103)에 반응하지 않는 특정 잉크를 도포하여 특정 문양의 디자인 패턴이 형성되도록 하는 방식으로, 대량으로 생산하는 가공에 사용하는 방법이다. 이러한 실크 스크린 공정(S122)은 실크 스크린의 마스킹 방법으로 똑같은 디자인 또는 글씨를 반복하여 대량 생산하는 양산이 가능하도록 한다.
In step S120, a design film 102 having a design pattern of a specific pattern is formed on one side of the stone 101 prepared in step S110. Here, as a method of forming the design film 102, as shown in FIG. 2, a specific sheet which does not react with the specific chemical solution 103 (see FIG. 3) is attached to form a design pattern of a specific pattern And a sheet attaching step (S121). Another method of forming the design film 102 includes a silk screen process (FIG. 2) in which a specific ink that does not react with the specific chemical solution 103 is applied to form a design pattern of a specific pattern S122). The sheet attaching step (S121) is a method for forming a desired design and text on a custom-made sheet on which a sheet does not react with a specific chemical solution 103, and is used for production processing corresponding to a small amount of customized production. Such a sheet attaching step (S121) enables customized production of a small amount of production in a short time. On the other hand, the silk screen step (S122) is a method used for mass production in such a manner that a specific pattern of a specific pattern is formed by applying a specific ink which does not react with the specific chemical solution 103. [ Such a silk screen process (S122) is a silk screen masking method, which enables mass production of the same design or a large number of letters repeatedly.

단계 S130에서는, 단계 S120을 통해 디자인 막(102)이 형성된 석재(101)를 특정 약품 용액(103)이 담긴 침전 수조(104)에 디핑(dipping) 처리한다. 여기서, 특정 약품 용액(103)은 질산(Nitric Acid) 20중량%와, 과산화수소(Hydrogen Peroxide) 10중량%와, 산성불화암모늄(Acidic a㎜onium fluoride) 5중량%와, 물(water) 65중량%를 혼합하여 제조된 석재(101)의 침전에 의한 무광택 가공을 위한 조성물이다. 즉, 단계 S130에서는 도 3에 도시된 바와 같이, 석재(101)의 디핑 처리 시, 특정 약품 용액(103)이 특정 문양의 디자인 패턴이 형성된 디자인 막(102)을 제외한 부분과 반응하는 침전에 의한 무광택 가공으로 무광의 음영 조각이 처리되도록 한다. 여기서, 디핑 처리 조건은 영상 5℃ 이상의 온도에서 디핑 처리 작업이 가능하며, 석재(101)의 디핑 처리시간은 30분 이내로 가공할 수 있다.
In step S130, the stone material 101 on which the design film 102 is formed is dipped into the sedimentation water tank 104 containing the specific chemical solution 103 through step S120. Here, the specific chemical solution 103 contains 20% by weight of nitric acid, 10% by weight of hydrogen peroxide, 5% by weight of acid ammonium fluoride, 65% by weight of water By weight of the stone 101 prepared by mixing 100% by weight of the above-mentioned mixture. That is, in step S130, as shown in FIG. 3, when the stone 101 is dipped, the specific chemical solution 103 is precipitated by the precipitation reaction with the portion excluding the design film 102 on which the design pattern of the specific pattern is formed Matte processing allows the shaded pieces of matte to be processed. Here, the dipping treatment condition can be dipping treatment at a temperature of 5 ° C or higher, and the dipping treatment time of the stone 101 can be processed within 30 minutes.

단계 S140에서는, 디핑 처리가 완료된 석재(101)에 형성한 디자인 막(102)을 제거하고 도 3의 (C)에 도시된 바와 같이, 근적외선(NIR) 건조기(105)를 통해 수분을 제거하는 건조 공정을 통해 특정 문양의 디자인 패턴이 음영 조각으로 표현되는 석재(101)의 디자인 음영 조각을 완료한다. 이러한 특정 문양의 디자인 패턴이 음영조각으로 표현된 석재(101)는 도 4 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 조각 단차가 없는 디자인 음영 패턴이 표현되게 된다. 도 3의 (a)는 천연대리석 및 화강석, 인조대리석 및 타일을 포함하는 석재(101)에 말 형상과 글씨의 조합으로 디자인 패턴이 형성된 디자인 막(102)을 나타내고, 도 3의 (b)는 침전 수조(104)에 디자인 막(102)이 형성된 석재(101)를 침전시킨 디핑 상태를 나타내며, 도 3의 (c)는 디핑 처리가 완료된 석재(101)에 형성한 디자인 막(102)을 제거한 후 근적외선 건조기(105)를 통해 수분을 제거하는 과정을 나타낸다.
In step S140, the design film 102 formed on the stone 101 having been subjected to the dipping process is removed and dried to remove moisture through the near infrared (NIR) dryer 105 as shown in Fig. 3 (C) A design shading piece of the stone 101 in which a design pattern of a specific pattern is expressed as a shading piece is completed through the process. As shown in FIGS. 4 to 6, the stone 101 in which the design pattern of the specific pattern is expressed by a shaded piece is represented by a design shade pattern without a piece step. 3 (a) shows a design film 102 in which a design pattern is formed by a combination of a horse shape and a letter in a stone 101 including natural marble and granite, artificial marble and tile, and FIG. 3 (b) 3 (c) shows a dipping state in which the design film 102 formed on the dredged stone 101 is removed. Fig. 3 And then the moisture is removed through the near-infrared ray dryer 105. FIG.

도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법에 의해 제조된 석재의 구성을 도시한 도면이고, 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법에 의해 제조된 석재의 걸림 없는 상태를 설명하기 위해 도시한 도면이며, 도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법에 의해 제조된 석재를 회전문에 설치한 일례의 구성을 도시한 도면이다. 도 4는 본 발명에 따른 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법에 의해 제조가 완료된 석재(101)의 조각 후의 상태를 나타내고, 도 5는 조각이 완료된 석재(101)의 디자인 음영 패턴이 형성된 면을 손가락으로 걸림이 없음을 설명하기 위해 나타낸다. 도 6은 단차가 없도록 조각된 본 발명의 석재(101)를 회전문 및 바닥에 시공하여 설치한 일례를 나타낸다. 본 발명에 따라 제조된 석재(101)를 회전문에 시공 설치하여 사용하였으나, 어떠한 디자인 음영 조각의 변색이나 손상, 스크래치나 이상 유무가 발견된 바 없으며, 본 발명에 제조된 석재(101)는 조각의 단차가 없어 바닥에 사용할 수 있는 마감재임을 알 수 있다.
FIG. 4 is a view showing the construction of a stone made by a design shading method without engraving step of engraving and embossing according to an embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a cross- Fig. 6 is a view showing a state in which a design shade slicing method without a engraving step of engraving and embossing according to an embodiment of the present invention. Fig. Fig. 2 is a view showing an example of a structure in which a stone produced by the above method is installed in a revolving door. Fig. 4 shows a state of the stone 101 after being manufactured by the design shading method without engraving step of engraving and embossing according to the present invention, and Fig. 5 shows a state in which the design shading pattern of the completed stone 101 It is shown to explain that the formed surface is not jammed with the fingers. 6 shows an example in which the stone 101 of the present invention, which has been sculpted so as to have no step, is installed on the revolving door and the floor. The stone 101 manufactured according to the present invention is installed and used in a revolving door. However, no discoloration, damage, scratches or abnormality of any design shading piece has been found, It can be seen that it is a finishing material that can be used on the floor because there is no step difference.

이상 설명한 본 발명은 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 다양한 변형이나 응용이 가능하며, 본 발명에 따른 기술적 사상의 범위는 아래의 특허청구범위에 의하여 정해져야 할 것이다.The present invention may be embodied in many other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics of the invention.

101: 석재 102: 디자인 막
103: 특정 약품 용액(조성물) 104: 침전 수조
105: 근적외선(NIR) 건조기
S110: 천연대리석 및 화강석, 인조대리석 및 타일을 포함하는 석재 군으로부터 선택된 어느 하나의 석재를 준비하는 단계
S120: 준비된 석재의 일면으로 특정 문양의 디자인 패턴이 형성된 디자인 막을 형성하는 단계
S130: 디자인 막이 형성된 석재를 특정 약품 용액이 담긴 침전 수조에 디핑 처리하는 단계
S140: 디핑 처리가 완료된 석재에 형성한 디자인 막을 제거하고 건조하는 공정을 통해 특정 문양의 디자인 패턴이 음영 조각으로 표현되는 석재의 디자인 조각을 완료하는 단계101: Stone material 102: Design film
103: Specific chemical solution (composition) 104: Precipitation tank
105: Near Infrared (NIR) dryer
S110: a step of preparing any one stone selected from the group of stones including natural marble and granite, artificial marble and tile
S120: a step of forming a design film in which a design pattern of a specific pattern is formed on one side of the prepared stone
S130: Step of dipping the stone in which the design film is formed into a sedimentation tank containing a specific chemical solution
S140: Completing a design piece of a stone in which a design pattern of a specific pattern is expressed as a shaded piece through a process of removing a design film formed on the stone subjected to the dipping process and drying

Claims (7)

음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법으로서,
(1) 천연대리석 및 화강석, 인조대리석 및 타일을 포함하는 석재(101) 군으로부터 선택된 어느 하나의 석재(101)를 준비하는 단계;
(2) 상기 단계 (1)에서 준비된 석재(101)의 일면으로 특정 문양의 디자인 패턴이 형성된 디자인 막(102)을 형성하는 단계;
(3) 상기 단계 (2)를 통해 디자인 막(102)이 형성된 석재(101)를 특정 약품 용액(103)이 담긴 침전 수조(104)에 디핑(dipping) 처리하는 단계; 및
(4) 상기 디핑 처리가 완료된 상기 석재(101)에 형성한 디자인 막(102)을 제거하고 건조하는 공정을 통해 상기 특정 문양의 디자인 패턴이 음영 조각으로 표현되는 석재(101)의 디자인 음영 조각을 완료하는 단계를 포함하되,
상기 특정 약품 용액(103)은,
질산(Nitric Acid) 20중량%와, 과산화수소(Hydrogen Peroxide) 10중량%와, 산성불화암모늄(Acidic ammonium fluoride) 5중량%와, 물(water) 65중량%를 혼합하여 제조된 석재(101)의 침전에 의한 무광택 가공을 위한 조성물인 것을 특징으로 하는, 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법.
A method of engraving design shading without engraving and engraving steps,
(1) preparing any one stone 101 selected from the group of stone (101) including natural marble and granite, artificial marble and tile;
(2) forming a design film 102 on which a design pattern of a specific pattern is formed on one side of the stone 101 prepared in the step (1);
(3) dipping the stone 101 formed with the design film 102 into the sedimentation water tank 104 containing the specific chemical solution 103 through the step (2); And
(4) A step of removing the design film 102 formed on the stone 101 after the dipping process is completed, and drying a design shade piece of the stone 101 in which the design pattern of the specific pattern is expressed as a shade piece Comprising the steps of:
The specific chemical solution (103)
A stone 101 prepared by mixing 20% by weight of nitric acid, 10% by weight of hydrogen peroxide, 5% by weight of acidic ammonium fluoride and 65% by weight of water, Wherein the composition is a composition for matte processing by sedimentation.
제1항에 있어서, 상기 단계 (1)에서는,
상기 천연대리석 및 화강석, 인조대리석 및 타일을 포함하는 석재(101) 군으로부터 선택된 어느 하나의 석재(101)를 특정 문양의 디자인 음영 패턴 조각을 위해 준비하되, 상기 특정 문양의 디자인 패턴이 형성될 상기 석재(101)의 이물질을 제거하는 과정을 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는, 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법.
2. The method according to claim 1, wherein in the step (1)
(101) selected from the group of stones (101) including natural marble and granite, artificial marble and tile is prepared for a design shading pattern piece of a specific pattern, The method of claim 1, further comprising the step of removing foreign substances from the stone (101).
제1항에 있어서, 상기 단계 (2)에서는,
상기 석재(101)에 디자인 막(102)을 형성하되, 상기 특정 약품 용액(103)에 반응하지 않는 특정 시트를 부착하여 특정 문양의 디자인 패턴이 형성되도록 하는 시트 부착 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법.
2. The method according to claim 1, wherein in the step (2)
Characterized by comprising a sheet attaching step of forming a design film (102) on the stone (101), and attaching a specific sheet which does not react with the specific chemical solution (103) How to engrave engraving and embossing.
제1항에 있어서, 상기 단계 (2)에서는,
상기 석재(101)에 디자인 막(102)을 형성하되, 상기 특정 약품 용액(103)에 반응하지 않는 특정 잉크를 도포하여 특정 문양의 디자인 패턴이 형성되도록 하는 실크 스크린 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법.
2. The method according to claim 1, wherein in the step (2)
And a silk screen process for forming a design pattern of a specific pattern by applying a specific ink which does not react with the specific chemical solution 103 by forming a design film 102 on the stone 101. [ How to engrave engraving and embossing.
삭제delete 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 단계 (3)에서는,
상기 석재(101)의 디핑 처리 시, 상기 특정 약품 용액(103)이 특정 문양의 디자인 패턴이 형성된 디자인 막(102)을 제외한 부분과 반응하는 침전에 의한 무광택 가공으로 무광의 음영 조각이 처리되도록 하는, 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법.
5. The method according to any one of claims 1 to 4, wherein in the step (3)
In the dipping process of the stone 101, matte shadows are treated by matte processing by precipitation in which the specific chemical solution 103 reacts with a portion excluding the design film 102 on which the design pattern of a specific pattern is formed , Engraving, and embossing.
제6항에 있어서, 상기 디핑 처리 조건은,
영상 5℃ 이상의 온도에서 디핑 처리 작업이 가능하며, 상기 석재(101)의 디핑 처리시간은 30분 이내로 가공하는 것을 특징으로 하는, 음각 및 양각의 조각 단차가 없는 디자인 음영 조각 방법.7. The method according to claim 6,
Characterized in that the dipping process can be performed at a temperature of 5 ° C or higher and the dipping process time of the stone (101) is processed within 30 minutes.
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