KR101488877B1 - Vacuum treatment apparatus - Google Patents

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Abstract

본 발명은 진공 상태에서 기판을 처리하는 진공 처리 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 공정 챔버 몸체의 일 측면에 결합되는 게이트 밸브의 상부에 보강 부재를 설치하고, 상기 보강 부재의 일 측면이 기판이 출입하는 공정 챔버의 개구부 상부의 일 측면에 결합하여 공정 챔버의 개구부의 변형을 방지하고, 상기 공정 챔버에 게이트 밸브를 견고하게 밀착시킬 수 있는 진공 처리 장치에 관한 것이다.
본 발명에 따른 진공 처리 장치에 의하면 공정 챔버 몸체의 일 측면에 결합되는 게이트 밸브의 상부에 보강 부재를 설치하고, 상기 보강 부재의 일 측면이 기판이 출입하는 공정 챔버의 개구부 상부의 일 측면에 결합하여 공정 챔버의 개구부의 변형을 방지하고, 상기 공정 챔버에 게이트 밸브를 견고하게 밀착시킬 수 있는 현저한 효과가 있다.The present invention relates to a vacuum processing apparatus for processing a substrate in a vacuum state, and more particularly, to a vacuum processing apparatus in which a reinforcing member is provided on an upper portion of a gate valve coupled to one side of a process chamber body, To a vacuum processing apparatus capable of preventing deformation of an opening of a process chamber and firmly bringing a gate valve into close contact with the process chamber.
According to the vacuum processing apparatus of the present invention, the reinforcing member is provided on the upper portion of the gate valve coupled to one side of the process chamber body, and one side of the reinforcing member is coupled to one side of the upper portion of the opening of the process chamber, Thereby preventing deformation of the opening of the process chamber and firmly bringing the gate valve into close contact with the process chamber.

Description

진공 처리 장치{VACUUM TREATMENT APPARATUS}[0001] DESCRIPTION [0002] VACUUM TREATMENT APPARATUS [

본 발명은 진공 상태에서 기판을 처리하는 진공 처리 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 공정 챔버 몸체의 일 측면에 결합되는 게이트 밸브의 상부에 보강 부재를 설치하고, 상기 보강 부재의 일 측면이 기판이 출입하는 공정 챔버의 개구부 상부의 일 측면에 결합하여 공정 챔버의 개구부의 변형을 방지하고, 상기 공정 챔버에 게이트 밸브를 견고하게 밀착시킬 수 있는 진공 처리 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a vacuum processing apparatus for processing a substrate in a vacuum state, and more particularly, to a vacuum processing apparatus in which a reinforcing member is provided on an upper portion of a gate valve coupled to one side of a process chamber body, To a vacuum processing apparatus capable of preventing deformation of an opening of a process chamber and firmly bringing a gate valve into close contact with the process chamber.

최근에는 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display: LCD), 플라즈마 표시 장치(Plasma Display Panel: PDP), 유기발광 다이오드 장치(Organic Light Emitting Diode Device: OLED) 등과 같은 평면 표시 장치가 널리 사용되고 있다.2. Description of the Related Art In recent years, flat panel display devices such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), and an organic light emitting diode (OLED) device have been widely used.

이러한 평면 표시 장치를 제조함에 있어서는 유리 기판 등의 피처리 기판 상에 여러 종류의 박막을 증착하는 공정과 증착된 박막을 패터닝하는 공정 등의 다양한 제조 공정을 거쳐야 하며, 이러한 공정들은 해당 공정의 진행에 최적의 조건을 제공하는 공정 챔버에서 진행된다. 특히, 최근에는 단시간에 많은 기판을 처리할 수 있도록 다수의 공정 챔버들을 클러스터 구조로 배치한 기판 처리 시스템이 널리 사용되고 있다.In manufacturing such a flat panel display device, various manufacturing processes such as a process of depositing a thin film of various kinds on a substrate to be processed such as a glass substrate and a process of patterning the deposited thin film must be carried out. And proceeds in a process chamber that provides optimal conditions. Particularly, recently, a substrate processing system in which a plurality of process chambers are arranged in a cluster structure is widely used so that a large number of substrates can be processed in a short time.

이러한 기판 처리 시스템은 화학 기상 증착 공정을 수행하는 다수의 공정 챔버(Process Chamber)들과, 상기 공정 챔버로 기판이 진입되기 전에 기판이 공정 챔버로 진입될 수 있는 환경을 조성하는 로드락 챔버(Loadlock Chamber)와, 상기 로드락 챔버 내의 기판을 공정 챔버로 이송하거나 공정 챔버 내의 기판을 로드락 챔버로 이송하는 로봇 암이 설치된 이송 챔버(Transfer Chamber)를 구비한다.Such a substrate processing system includes a plurality of process chambers for performing a chemical vapor deposition process and a load lock chamber for creating an environment in which the substrate can enter the process chamber before the substrate enters the process chamber And a transfer chamber provided with a robot arm for transferring the substrate in the load lock chamber to the process chamber or transferring the substrate in the process chamber to the load lock chamber.

한편, 공정 챔버, 로드락 챔버 및 이송 챔버의 적어도 일 측면에는 기판이 출입하기 위한 개구부가 형성되고, 상기 공정 챔버와 이송 챔버, 이송 챔버와 로드락 챔버의 사이에는 상기 개구부와 연통되는 슬롯을 가지는 게이트 밸브가 각각 결합된다. 게이트 밸브는 공정 챔버와 이송 챔버, 이송 챔버와 로드락 챔버의 사이에서 기판의 출입 통로를 개폐하고 각각의 챔버를 상호 간에 격리시키는 역할을 한다.On the other hand, at least one side of the process chamber, the load lock chamber, and the transfer chamber is provided with an opening for allowing the substrate to enter and exit, and between the process chamber and the transfer chamber, the transfer chamber and the load lock chamber, Respectively. The gate valve serves to open and close the inlet and outlet passages of the substrate between the process chamber and the transfer chamber, and between the transfer chamber and the load lock chamber, and isolate each chamber from each other.

외부의 대기압 환경과는 달리 통상적으로 공정 챔버는 내부가 진공 상태이고 고온의 환경에서 기판에 대한 처리 공정을 수행한다. 따라서 공정 챔버는 항상 내부 쪽으로 큰 압력을 받게 되고, 상기 압력에 의해 공정 챔버, 특히 공정 챔버의 측면에 형성된 개구부의 변형을 초래하기 쉽다.Unlike an external atmospheric environment, a process chamber typically performs a process on a substrate in a vacuum and in a high temperature environment. Therefore, the process chamber is always subjected to a large pressure toward the inside, and this pressure tends to cause deformation of the process chamber, particularly, the opening formed in the side of the process chamber.

개구부는 장방형의 단면 형상을 가지면서도 중앙부에 지지 구조물이 없고, 특히 개구부의 높이에 비하여 개구부의 상부의 두께가 훨씬 얇기 때문에 개구부의 상부에 상대적으로 많은 변형이 초래된다.The opening has a rectangular cross-sectional shape, but has no support structure at the center. In particular, the upper portion of the opening is much thinner than the height of the opening, resulting in relatively large deformation at the top of the opening.

또한, 공정 챔버는 공정 챔버 몸체와 상기 공정 챔버 몸체의 상부를 밀폐하는 공정 챔버 리드를 포함하여 이루어진다. 따라서, 공정 챔버 몸체의 측면에 형성되는 개구부의 변형은 상기 공정 챔버 몸체와 공정 챔버 리드 사이에 간극을 발생시켜 공정 챔버 내부의 진공 형성을 방해하고, 공정 챔버 내의 공정 가스의 누출 및 공정 챔버 내로 이물질이 스며들어 기판상에 이상 증착 내지 이상 방전을 초래할 수 있다. 뿐만 아니라, 개구부의 변형은 기판이 출입하는 통로를 좁히게 되어 충돌로 인한 기판의 파손 위험성도 증가시킨다.The process chamber also includes a process chamber body and a process chamber lid that seals the top of the process chamber body. Thus, deformation of the opening formed in the side of the process chamber body may create a gap between the process chamber body and the process chamber lid, thereby interfering with the formation of vacuum within the process chamber, resulting in leakage of the process gas in the process chamber, So that abnormal deposition or abnormal discharge may occur on the substrate. In addition, the deformation of the opening narrows the passage through which the substrate enters and exits, thereby increasing the risk of breakage of the substrate due to collision.

이와 같은 공정 챔버의 개구부의 변형을 방지하기 위하여 대한민국 공개특허 제10-2005-0019129호에서는 공정 챔버의 리드에 대응하는 상부 섹션 및 개구부가 형성되는 공정 챔버의 벽에 대응하는 측방향 섹션을 고강도 재료, 예를 들어 SA-723 스틸 등으로 구성하여 공정 챔버에서 발생하는 고압을 견딜 수 있는 기술에 대하여 기재하고 있다.In order to prevent the deformation of the opening of the process chamber, Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2005-0019129 discloses a process for manufacturing a high-strength material, such as an upper section corresponding to a lead of a process chamber and a lateral section corresponding to a wall of a process chamber, , SA-723 steel or the like, and is capable of withstanding the high pressure generated in the process chamber.

그러나, 최근 기판이 점차 대형화되고 있는 경향에 비추어 볼 때, 상기와 같이 공정 챔버를 분리하여 상부 섹션 및 측방향 섹션 자체를 고강도 재료로 구성하는 것은 많은 비용이 들뿐만 아니라, 진공 상태를 요구하는 공정 챔버의 특성상 설계가 용이하지 않다는 문제점이 여전히 존재한다.
However, in view of the tendency that the substrate is gradually becoming larger in recent years, it is costly to separate the process chamber as described above and configure the upper section and the side section itself as a high-strength material, There is still a problem that the design of the chamber is not easy due to the characteristics of the chamber.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 공정 챔버의 개구부가 장방형의 단면 형상을 가지면서도 중앙부에 지지 구조물이 없고, 특히 개구부의 높이에 비하여 개구부의 상부의 두께가 훨씬 얇기 때문에 개구부의 상부에 상대적으로 많은 변형이 초래되는 문제점을 해결할 수 있는 진공 처리 장치에 관한 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a process chamber in which the opening of the process chamber has a rectangular sectional shape but no supporting structure at a central portion thereof, The present invention relates to a vacuum processing apparatus capable of solving the problem that relatively large deformation is caused in the upper portion of the opening portion.

또한, 본 발명의 목적은 내부가 고온의 진공 상태이고 외부가 대기압 상태인 공정 챔버가 항상 내부 쪽으로 큰 압력을 받게 되어 공정 챔버와 게이트 밸브 사이에 간극을 발생시키게 되어 진공 형성을 방해하고 공정 챔버 내의 공정 가스의 누출 및 공정 챔버 내로 이물질이 스며들어 기판상에 이상 증착 내지 이상 방전을 초래하는 문제점을 해결할 수 있는 진공 처리 장치에 관한 것이다.
It is also an object of the present invention to provide a process chamber in which the inside of the process chamber is in a vacuum state at a high temperature and the outside is at an atmospheric pressure is always subjected to a great pressure toward the inside thereof to generate a gap between the process chamber and the gate valve, The present invention relates to a vacuum processing apparatus capable of solving the problem of leakage of a process gas and foreign matter penetrating into a process chamber to cause abnormal deposition or abnormal discharge on a substrate.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리 장치는 공정 챔버 리드; 상기 공정 챔버 리드와 결합하여 내부에 일정한 반응 공간을 형성하고, 적어도 일 측면에 개구부가 위치하는 공정 챔버 몸체; 상기 개구부가 위치하는 공정 챔버 몸체의 일 측면에 결합되어 상기 공정 챔버 몸체의 내부 공간과 연통되는 게이트 밸브; 및 상기 게이트 밸브의 상부에 설치되어, 저면은 상기 게이트 밸브의 상부에 결합되고 일 측면은 상기 개구부 상부의 공정 챔버 몸체의 일 측면에 결합되어 개구부의 상부를 지지하는 보강 부재를 포함하며,According to an aspect of the present invention, there is provided a vacuum processing apparatus comprising: a process chamber lead; A process chamber body coupled with the process chamber lid to form a constant reaction space therein and having an opening on at least one side thereof; A gate valve coupled to one side of the process chamber body where the opening is located to communicate with an interior space of the process chamber body; And a reinforcing member provided on the top of the gate valve, the bottom surface being coupled to the top of the gate valve and the one side being coupled to one side of the process chamber body above the opening to support the top of the opening,

또한, 상기 공정 챔버 몸체는 개구부가 위치한 일 측면의 상부 면이 상기 게이트 밸브의 상부 면보다 돌출되며,Further, the upper surface of one side of the processing chamber body where the opening is located projects beyond the upper surface of the gate valve,

뿐만 아니라, 상기 보강 부재는 상기 개구부의 폭 방향으로 연장되는 저면 판과 상기 저면 판의 양 측면에서 상부로 각각 연장되는 제 1 측면 판 및 제 2 측면 판을 포함하며,The reinforcing member may include a bottom plate extending in the width direction of the opening and a first side plate and a second side plate extending upward from both sides of the bottom plate,

게다가, 상기 보강 부재는 상기 제 1 측면 판과 제 2 측면 판을 연결하는 다수 개의 보강 판을 더 포함하며,In addition, the reinforcing member may further include a plurality of reinforcing plates connecting the first side plate and the second side plate,

또한, 상기 보강 판에는 배선 또는 배관을 위한 홀이 형성되며,Further, a hole for wiring or piping is formed in the reinforcing plate,

뿐만 아니라, 상기 게이트 밸브와 연통되는 내부 공간을 갖도록 결합되는 이송 챔버를 더 포함하고, 상기 보강 부재의 저면 판은 상기 게이트 밸브에 결합되고, 상기 보강 부재의 제 1 측면 판은 상기 이송 챔버의 일 측면에 결합되고, 상기 보강 부재의 제 2 측면 판은 상기 개구부 상부의 공정 챔버 몸체의 일 측면에 결합되며,The apparatus of claim 1, further comprising a transfer chamber coupled to the interior space communicating with the gate valve, wherein a bottom plate of the reinforcement member is coupled to the gate valve and a first side plate of the reinforcement member And a second side plate of the reinforcing member is coupled to one side of the process chamber body above the opening,

게다가, 상기 개구부의 폭 방향으로 연장되어 개구부 상부의 공정 챔버 몸체에 삽입되는 지지대를 더 포함하고,In addition, the apparatus further comprises a support extending in the width direction of the opening to be inserted into the process chamber body above the opening,

또한, 상기 보강 부재의 제 2 측면 판은 상기 지지대와 결합 부재에 의하여 상기 개구부 상부의 공정 챔버 몸체의 일 측면에 결합되며,The second side plate of the reinforcing member is coupled to one side of the process chamber body above the opening by the supporting member and the engaging member,

뿐만 아니라, 상기 게이트 밸브의 하부에 설치되어, 일 측면은 상기 이송 챔버의 일 측면에 결합되고, 타 측면은 상기 공정 챔버 몸체의 일 측면에 결합되는 하부 밀착 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
The apparatus may further include a lower contact member provided at a lower portion of the gate valve and having one side coupled to one side of the transfer chamber and the other side coupled to a side of the process chamber body.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 실시예에 따른 진공 처리 장치는 내부에 일정한 공간을 가지며 적어도 일 측면에 개구부가 위치하는 공정 챔버; 상기 공정 챔버의 개구부가 위치한 일 측면에 결합되어 공정 챔버 내부 공간과 연통되는 게이트 밸브; 상기 게이트 밸브와 결합되는 이송 챔버; 및 상기 게이트 밸브의 상부에 설치되어 상기 공정 챔버의 개구부의 상부와 상기 이송 챔버를 동시에 지지하는 보강 부재를 포함하며,According to another aspect of the present invention, there is provided a vacuum processing apparatus comprising: a processing chamber having a predetermined space therein and having an opening on at least one side thereof; A gate valve coupled to a side of the process chamber where the opening is located and communicating with a space inside the process chamber; A transfer chamber coupled with the gate valve; And a reinforcing member provided at an upper portion of the gate valve to simultaneously support an upper portion of the opening of the process chamber and the transfer chamber,

또한, 상기 보강 부재는 상기 공정 챔버의 개구부의 폭 방향으로 연장되어 상기 게이트 밸브와 결합되는 저면 판; 상기 저면 판의 일 측면에서 상부로 연장되어 상기 이송 챔버의 일 측면에 결합되는 제 1 측면 판; 및 상기 저면 판의 타 측면에서 상부로 연장되고 상기 공정 챔버의 개구부의 상부로 절곡되어, 상기 공정 챔버의 개구부 상부와 일정 간격 이격되어 결합되는 제 2 측면 판을 포함하며,Further, the reinforcing member may include a bottom plate extending in the width direction of the opening of the process chamber and coupled with the gate valve; A first side plate extending upward from one side of the bottom plate and coupled to one side of the transfer chamber; And a second side plate extending upwardly from the other side of the bottom plate and bent upwardly from the opening of the process chamber and spaced apart from the upper portion of the opening of the process chamber,

뿐만 아니라, 상기 보강 부재는 상기 제 1 측면 판과 제 2 측면 판을 연결하는 다수 개의 보강 판을 더 포함하며,In addition, the reinforcing member may further include a plurality of reinforcing plates connecting the first side plate and the second side plate,

게다가, 상기 보강 부재의 제 2 측면 판은 상기 공정 챔버의 개구부 상부와의 간격을 조절하도록 결합 부재에 의하여 결합되며,In addition, the second side plate of the reinforcing member is joined by the engaging member to adjust the distance from the upper portion of the opening of the process chamber,

또한, 상기 게이트 밸브의 하부에 설치되어, 일 측면은 상기 이송 챔버의 일 측면에 결합되고, 타 측면은 상기 공정 챔버의 일 측면에 결합되는 하부 밀착 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
The apparatus may further include a lower contact member provided at a lower portion of the gate valve and having one side coupled to one side of the transfer chamber and the other side coupled to a side of the process chamber.

본 발명에 따른 진공 처리 장치에 의하면 공정 챔버 몸체의 일 측면에 결합되는 게이트 밸브의 상부에 보강 부재를 설치하고, 상기 보강 부재의 일 측면이 기판이 출입하는 공정 챔버의 개구부 상부의 일 측면에 결합하여 공정 챔버의 개구부의 변형을 방지하고, 상기 공정 챔버에 게이트 밸브를 견고하게 밀착시킬 수 있는 현저한 효과가 있다.According to the vacuum processing apparatus of the present invention, the reinforcing member is provided on the upper portion of the gate valve coupled to one side of the process chamber body, and one side of the reinforcing member is coupled to one side of the upper portion of the opening of the process chamber, Thereby preventing deformation of the opening of the process chamber and firmly bringing the gate valve into close contact with the process chamber.

또한, 본 발명에 따른 진공 처리 장치에 의하면 게이트 밸브의 상부에 개구부의 폭 방향으로 연장되는 저면 판과 상기 저면 판의 양 측면에서 상부로 각각 연장되는 제 1 측면 판 및 제 2 측면 판을 포함하는 보강 부재를 설치하여 보강 부재의 강도를 유지하면서도 보강 부재 자체의 무게를 감소시킬 수 있는 현저한 효과가 있다.According to the vacuum processing apparatus of the present invention, the bottom plate extending in the width direction of the opening portion is provided on the top of the gate valve, and the first side plate and the second side plate extending upward from both sides of the bottom plate. There is a remarkable effect that the weight of the reinforcing member itself can be reduced while maintaining the strength of the reinforcing member by providing the reinforcing member.

뿐만 아니라, 본 발명에 따른 진공 처리 장치에 의하면 보강 부재의 제 1 측면 판은 충분한 강도를 갖는 스테인리스 스틸 재질로 이루어진 이송 챔버의 일 측면에 결합하고, 상기 보강 부재의 제 2 측면 판은 개구부 상부의 공정 챔버 몸체의 일 측면에 동시에 결합하여 알루미늄 재질로 이루어진 공정 챔버 몸체의 개구부의 변형을 보다 효율적으로 방지할 수 있는 현저한 효과가 있다.
In addition, according to the vacuum processing apparatus of the present invention, the first side plate of the reinforcing member is coupled to one side of the transfer chamber made of stainless steel material having sufficient strength, and the second side plate of the reinforcing member There is a remarkable effect that the deformation of the opening of the process chamber body made of aluminum material can be prevented more effectively by being simultaneously bonded to one side of the process chamber body.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리 장치의 모습을 전체적으로 도시한 측면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리 장치의 보강 부재의 모습을 도시한 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리 장치의 보강 부재가 개구부 상부의 공정 챔버 몸체에 삽입되는 지지대와 결합되는 모습을 도시한 측면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리 장치에 하부 밀착 부재를 추가로 설치한 모습을 도시한 측면도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 진공 처리 장치의 모습을 전체적으로 도시한 측면도이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 진공 처리 장치의 공정 챔버의 일 측면의 상부 면을 돌출 형성한 모습을 도시한 측면도이다.FIG. 1 is a side view of a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG.
2 is a perspective view showing a state of a reinforcing member of a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a side view showing a state in which a reinforcing member of a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention is coupled with a support member inserted into a process chamber body above the opening.
FIG. 4 is a side view showing a state in which a lower contact member is additionally provided in a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
5 is a side view of a vacuum processing apparatus according to another embodiment of the present invention.
6 is a side view showing an upper surface protruding from one side of a process chamber of a vacuum processing apparatus according to another embodiment of the present invention.

본 발명에 따른 진공 처리 장치는 공정 챔버 몸체의 일 측면에 결합되는 게이트 밸브의 상부에 보강 부재를 설치하고, 상기 보강 부재의 일 측면이 기판이 출입하는 공정 챔버의 개구부 상부의 일 측면에 결합하여 공정 챔버의 개구부의 변형을 방지하고, 상기 공정 챔버에 게이트 밸브를 견고하게 밀착시킬 수 있는 기술적 특징을 제시한다.A vacuum processing apparatus according to the present invention is characterized in that a reinforcing member is provided on an upper portion of a gate valve coupled to one side of a process chamber body and one side of the reinforcing member is coupled to one side of an upper portion of an opening of a process chamber The present invention provides a technical feature that prevents deformation of the opening of the process chamber and firmly adheres the gate valve to the process chamber.

이하에서, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예, 장점 및 특징에 대하여 상세히 설명하도록 한다.
In the following, preferred embodiments, advantages and features of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리 장치의 전체적인 모습을 나타내는 측면도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리 장치의 게이트 밸브 상부에 설치되는 보강 부재의 모습을 나타내는 사시도이다. 도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리 장치는 공정 챔버 리드(10), 상기 공정 챔버 리드(10)와 결합하여 내부에 일정한 반응 공간을 형성하고, 적어도 일 측면에 개구부가 위치하는 공정 챔버 몸체(20), 상기 개구부가 위치하는 공정 챔버 몸체(20)의 일 측면에 결합되어 상기 공정 챔버 몸체(20)의 내부 공간과 연통되는 게이트 밸브(30) 및 상기 게이트 밸브(30)의 상부에 설치되어, 저면은 상기 게이트 밸브(30)의 상부에 결합되고 일 측면은 상기 개구부 상부의 공정 챔버 몸체(20)의 일 측면에 결합되어 개구부의 상부를 지지하는 보강 부재(50)를 포함한다.FIG. 1 is a side view showing an overall structure of a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a perspective view showing a state of a reinforcing member provided on a gate valve of a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention. to be. 1 and 2, a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a process chamber lid 10 and a process chamber lid 10 to form a reaction space therein, A gate valve 30 coupled to one side of the process chamber body 20 where the opening is located and communicating with an internal space of the process chamber body 20, A bottom surface of which is coupled to an upper portion of the gate valve 30 and a side surface of which is coupled to one side of the process chamber body 20 above the opening to support an upper portion of the opening, (50).

공정 챔버는 공정 챔버 리드(10)와 공정 챔버 몸체(20)로 이루어지며, 상기 공정 챔버 몸체(20)는 공정 챔버 리드(10)와 결합하여 내부에 일정한 반응 공간을 형성한다. 상기 반응 공간은 진공 상태를 유지하게 되고, 상기 진공 상태에서 기판에 대한 박막 증착 등의 공정이 수행된다. 일반적으로 공정 챔버 몸체(20)는 공정 가스에 의한 부식 문제로 인하여 알루미늄 재질로 이루어진다.The process chamber includes a process chamber lid 10 and a process chamber body 20. The process chamber body 20 is coupled with the process chamber lid 10 to form a constant reaction space therein. The reaction space is maintained in a vacuum state, and a thin film deposition process or the like is performed on the substrate in the vacuum state. Generally, the process chamber body 20 is made of aluminum because of corrosion problems caused by process gases.

공정 챔버 몸체(20)의 적어도 일 측면에는 기판의 이송을 위한 개구부(미도시)가 형성되고, 상기 개구부가 위치하는 공정 챔버 몸체(20)의 일 측면에는 게이트 밸브(30)가 결합된다. 상기 게이트 밸브(30)는 공정 챔버 몸체(20)의 내부 공간과 연통되는 슬롯을 가지며, 게이트 밸브(30)의 내부에는 상기 슬롯을 개폐하는 슬롯 밸브(미도시)가 설치되어 슬롯 밸브의 구동에 의하여 공정 챔버와 이송 챔버(60) 사이에서 기판의 출입 통로를 개폐하고 각 챔버를 상호 간에 격리시킨다.An opening (not shown) for transferring the substrate is formed on at least one side of the process chamber body 20, and a gate valve 30 is coupled to one side of the process chamber body 20 where the opening is located. The gate valve 30 has a slot communicating with the internal space of the process chamber body 20 and a slot valve (not shown) for opening and closing the slot is installed in the gate valve 30, Thereby opening and closing the entry and exit passage of the substrate between the process chamber and the transfer chamber 60 and isolating the chambers from each other.

본 발명의 일 실시예에 따른 보강 부재(50)는 상기 게이트 밸브(30)의 상부에 설치되어, 상기 보강 부재(50)의 저면은 게이트 밸브(30)의 상부에 결합되고, 상기 보강 부재(50)의 일 측면은 개구부 상부의 공정 챔버 몸체(20)의 일 측면에 결합된다. 상기 보강 부재(50)를 게이트 밸브(30)의 상부 및 개구부 상부의 공정 챔버 몸체(20)의 일 측면에 결합하기 위하여는 볼트 및 이에 대응하는 너트 또는 너트 홀 등을 사용할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The reinforcing member 50 according to an embodiment of the present invention is installed on the gate valve 30 so that the bottom surface of the reinforcing member 50 is coupled to the upper portion of the gate valve 30, 50 is coupled to one side of the process chamber body 20 above the opening. A bolt and a corresponding nut or nut hole may be used to connect the reinforcing member 50 to the upper portion of the gate valve 30 and the one side of the process chamber body 20 above the opening portion, no.

도면에 도시되지는 않았으나, 게이트 밸브(30)에 결합하는 공정 챔버 몸체(20)의 일 측면에는 개구부가 형성된다. 상기 개구부는 기판의 이송을 위하여 횡 방향의 폭이 종 방향의 높이보다 큰 장방형의 모양을 가진다. 또한, 일반적으로 상기 공정 챔버 몸체(20)에서 개구부의 상부 두께는 개구부의 하부 두께보다 훨씬 작고, 개구부의 상부 두께가 개구부 자체의 높이보다도 작게 형성된다. 따라서, 공정 챔버 몸체(20)의 개구부의 상부는 상대적으로 변형 가능성이 크게 된다.Although not shown in the drawing, an opening is formed at one side of the process chamber body 20 that is coupled to the gate valve 30. [ The opening has a rectangular shape with a transverse width greater than a longitudinal direction for transporting the substrate. Generally, the upper thickness of the opening in the process chamber body 20 is much smaller than the lower thickness of the opening, and the upper thickness of the opening is smaller than the height of the opening itself. Therefore, the upper portion of the opening of the process chamber body 20 is relatively deformable.

따라서, 도 1에 도시된 바와 같이 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리 장치는 상기 공정 챔버 몸체(20)의 개구부가 위치한 일 측면의 상부 면을 게이트 밸브(30)의 상부 면보다 돌출되도록 형성하여 개구부 상부의 강도를 보강하고, 변형 가능성을 줄이는 것이 바람직하다. 공정 챔버 몸체(20)의 개구부 상부는 상기 공정 챔버 몸체(20)의 일 측면을 일체적으로 돌출 형성하거나, 별도의 돌출 부재를 공정 챔버 몸체(20)의 개구부 상부에 결합할 수도 있음은 물론이다.1, the upper surface of one side of the process chamber body 20 where the opening of the process chamber body 20 is located is formed to protrude from the upper surface of the gate valve 30 It is desirable to reinforce the strength of the upper portion of the opening and reduce the possibility of deformation. The upper portion of the opening of the process chamber body 20 may integrally protrude from one side of the process chamber body 20 or a separate projecting member may be coupled to the upper portion of the opening of the process chamber body 20 .

또한, 상기한 바와 같이 공정 챔버 몸체(20)는 알루미늄 재질로 이루어지며, 내부가 고온의 진공 상태이고 외부가 대기압 상태이므로 항상 내부 쪽으로 큰 압력을 받게 된다. 이러한 압력은 공정 챔버 몸체(20)와 게이트 밸브(30) 사이에 간극을 발생시키게 되어 진공 형성을 방해하고 공정 가스의 누출 원인이 된다.In addition, as described above, the process chamber body 20 is made of aluminum. Since the inside of the process chamber body 20 is in a vacuum state at a high temperature and the outside is in an atmospheric pressure state, a large pressure is always applied toward the inside thereof. This pressure creates a gap between the process chamber body 20 and the gate valve 30, which hinders vacuum formation and causes leakage of the process gas.

본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리 장치는 보강 부재(50)의 저면이 게이트 밸브(30)의 상부에 결합되고, 상기 보강 부재(50)의 일 측면이 개구부 상부의 공정 챔버 몸체(20)의 일 측면에 결합되어 공정 챔버 몸체(20)의 개구부 상부의 처짐을 방지할 뿐만 아니라 게이트 밸브(30)와 공정 챔버 몸체(20) 사이에 간극이 발생하는 것을 방지하여 상기 공정 챔버 몸체(20)에 게이트 밸브(30)를 견고하게 밀착시킬 수 있게 된다.The vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention is characterized in that the bottom surface of the reinforcing member 50 is coupled to the upper portion of the gate valve 30 and one side surface of the reinforcing member 50 is connected to the process chamber body 20, To prevent the upper portion of the opening of the process chamber body 20 from being sagged and to prevent the gap between the gate valve 30 and the process chamber body 20 from occurring, The gate valve 30 can be tightly adhered.

바람직하게는, 상기 보강 부재(50)는 개구부의 폭 방향으로 연장되는 저면 판(52)과 상기 저면 판(52)의 양 측면에서 상부로 각각 연장되는 제 1 측면 판(54) 및 제 2 측면 판(56)을 포함하고, 상기 저면 판(52), 제 1 측면 판(54) 및 제 2 측면 판(56)에는 각각 볼트 등을 삽입하기 위한 다수 개의 관통공이 형성된다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 보강 부재(50)는 내부가 비어 있는 형상을 갖게 되어 강도를 유지하면서도 보강 부재(50) 자체의 무게를 줄일 수 있게 된다.Preferably, the reinforcing member 50 includes a bottom plate 52 extending in the width direction of the opening, a first side plate 54 extending upward from both sides of the bottom plate 52, And a plurality of through holes for inserting bolts and the like are formed on the bottom plate 52, the first side plate 54 and the second side plate 56, respectively. Therefore, the reinforcing member 50 according to an embodiment of the present invention has an empty shape, so that the weight of the reinforcing member 50 itself can be reduced while maintaining the strength.

또한, 상기 보강 부재(50)는 저면 판(52)의 양 측면에서 상부로 각각 연장되는 제 1 측면 판(54)과 제 2 측면 판(56)을 연결하는 다수 개의 보강 판(58)을 더 포함하여 제 1 측면 판(54) 및 제 2 측면 판(56)이 보강 부재(50)의 내부로 휘어지는 것을 방지할 수 있다. 바람직하게는, 상기 보강 판(58)에 공정 챔버의 배선 또는 배관을 위한 홀(59)을 형성하여 전체 진공 처리 장치의 배선 및 배관을 용이하게 하도록 구성할 수 있다.The reinforcing member 50 further includes a plurality of reinforcing plates 58 connecting the first side plate 54 and the second side plate 56 extending from both sides of the bottom plate 52 to the upper side It is possible to prevent the first side plate 54 and the second side plate 56 from being bent into the reinforcing member 50. [ Preferably, the reinforcing plate 58 is provided with a hole 59 for wiring or piping of the process chamber, thereby facilitating wiring and piping of the entire vacuum processing apparatus.

저면 판(52), 제 1 측면 판(54), 제 2 측면 판(56) 및 다수 개의 보강 판(58)을 포함하는 보강 부재(50)는 예를 들어 스테인리스 스틸(SUS) 재질로 이루어질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 공정 챔버 몸체(20)의 개구부 상부를 지지할 수 있는 강도를 가진 다른 재질로 이루어질 수 있음은 물론이다.The reinforcing member 50 including the bottom plate 52, the first side plate 54, the second side plate 56 and the plurality of reinforcing plates 58 may be made of, for example, stainless steel (SUS) However, the present invention is not limited thereto and may be made of another material having a strength capable of supporting the upper portion of the opening of the process chamber body 20.

더 바람직하게는, 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리 장치는 상기 게이트 밸브(30)와 연통되는 내부 공간을 갖도록 결합되는 이송 챔버(60)를 더 포함하여, 상기 보강 부재(50)의 저면 판(52)은 상기 게이트 밸브(30)에 결합되고, 상기 보강 부재(50)의 제 1 측면 판(54)은 상기 이송 챔버(60)의 일 측면에 결합되고, 상기 보강 부재(50)의 제 2 측면 판(56)은 상기 개구부 상부의 공정 챔버 몸체(20)의 일 측면에 결합될 수 있다.More preferably, the vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention further includes a transfer chamber 60 coupled to have an internal space communicating with the gate valve 30, so that the bottom surface of the reinforcing member 50 A plate 52 is coupled to the gate valve 30 and a first side plate 54 of the reinforcing member 50 is coupled to one side of the transfer chamber 60, A second side plate 56 may be coupled to one side of the process chamber body 20 above the opening.

일반적으로 공정 챔버는 공정 가스에 의한 부식 문제로 인하여 알루미늄 재질로 이루어지는 반면에, 이송 챔버(60)의 경우 스테인리스 스틸(SUS) 재질로 이루어져 강도가 높다. 따라서, 보강 부재(50)의 제 1 측면 판(54)은 충분한 강도를 갖는 스테인리스 스틸 재질로 이루어진 이송 챔버(60)의 일 측면에 결합되고, 상기 보강 부재(50)의 제 2 측면 판(56)은 개구부 상부의 공정 챔버 몸체(20)의 일 측면에 동시에 결합되어 알루미늄 재질로 이루어진 공정 챔버 몸체(20)의 개구부의 변형을 보다 효율적으로 방지할 수 있게 된다.Generally, the process chamber is made of aluminum due to corrosion problems caused by the process gas, while the transfer chamber 60 is made of stainless steel (SUS) and has high strength. The first side plate 54 of the reinforcing member 50 is coupled to one side of the transfer chamber 60 made of a stainless steel material having sufficient strength and the second side plate 56 Can be simultaneously coupled to one side of the process chamber body 20 above the opening to more effectively prevent deformation of the opening of the process chamber body 20 made of aluminum.

또한, 도 3에 도시된 바와 같이 상기 진공 처리 장치는 개구부의 폭 방향으로 연장되어 개구부 상부의 공정 챔버 몸체(20)에 삽입되는 지지대(70)를 더 포함하여 상기 보강 부재(50)의 제 2 측면 판(56)이 상기 지지대(70)와 볼트 등의 결합 부재(75)에 의하여 상기 개구부 상부의 공정 챔버 몸체(20)의 일 측면에 결합하도록 구성할 수 있다.3, the vacuum processing apparatus further includes a support 70 extending in the width direction of the opening to be inserted into the process chamber body 20 above the opening, so that the second The side plate 56 may be configured to be coupled to one side of the process chamber body 20 above the opening by a support member 70 and a coupling member 75 such as a bolt.

상기 지지대(70)는 개구부의 폭 방향으로 연장되는 원통 또는 막대 등의 형상을 가질 수 있으며, 보강 부재(50)의 제 2 측면 판(56)이 상기 결합 부재(75)에 의하여 지지대(70)와 결합하여 게이트 밸브의 상부에 설치된 보강 부재(50)가 개구부 상부의 공정 챔버 몸체(20)의 일 측면에 더욱 견고하게 고정 설치될 수 있게 된다.
The support plate 70 may have a shape such as a cylinder or a rod extending in the width direction of the opening and the second side plate 56 of the reinforcement member 50 is fixed to the support 70 by the engagement member 75. [ The reinforcing member 50 installed on the upper portion of the gate valve can be more firmly fixed to one side of the process chamber body 20 above the opening portion.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리 장치에 하부 밀착 부재를 추가로 설치한 모습을 도시한 측면도이다. 도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리 장치는 게이트 밸브(30)의 하부에 설치되어, 일 측면은 이송 챔버(60)의 일 측면에 결합되고, 타 측면은 공정 챔버 몸체(20)의 일 측면에 결합되는 하부 밀착 부재(90)를 더 포함할 수 있다.FIG. 4 is a side view showing a state in which a lower contact member is additionally provided in a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention. 4, a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention is installed at a lower portion of the gate valve 30, one side of which is coupled to one side of the transfer chamber 60, And a lower contact member 90 coupled to one side of the base 20.

상기한 바와 같이 공정 챔버 몸체(20)는 알루미늄 재질로 이루어지며, 내부가 고온의 진공 상태이고 외부가 대기압 상태이므로 항상 내부 쪽으로 큰 압력을 받게 된다. 따라서, 다수의 공정 챔버들을 클러스터 구조로 배치한 기판 처리 시스템에서 이송 챔버(60)를 중심으로 외측 방향으로 공정 챔버의 변형이 일어나게 된다. 이는 이송 챔버(60)와 게이트 밸브(30) 사이 및 공정 챔버와 게이트 밸브(30) 사이에 간극을 발생시키게 되어 진공 형성을 방해하고 공정 챔버 내의 공정 가스의 누출 및 공정 챔버 내로 이물질이 스며들어 기판상에 이상 증착 내지 이상 방전을 초래하게 된다.As described above, the process chamber body 20 is made of aluminum. Since the inside of the process chamber body 20 is in a vacuum state at a high temperature and the outside is at an atmospheric pressure state, the process chamber body 20 is always subjected to a large pressure toward the inside thereof. Thus, in a substrate processing system in which a plurality of process chambers are arranged in a cluster structure, a deformation of the process chamber occurs in the outward direction about the transfer chamber 60. This creates a gap between the transfer chamber 60 and the gate valve 30 and between the process chamber and the gate valve 30 to interfere with the formation of vacuum and leak of the process gas in the process chamber and impurities into the process chamber, Resulting in abnormal deposition or abnormal discharge.

상기와 같은 문제점은 게이트 밸브(30)의 상부뿐만 아니라 게이트 밸브(30)의 하부에서도 동시에 발생한다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리 장치에서 보강 부재(50)는 게이트 밸브(30)의 상부에서 이송 챔버(60)와 게이트 밸브(30) 사이 및 공정 챔버와 게이트 밸브(30) 사이에 간극이 발생하는 것을 방지시키고, 상기 하부 밀착 부재(90)는 게이트 밸브(30)의 하부에서 이송 챔버(60)와 게이트 밸브(30) 사이 및 공정 챔버와 게이트 밸브(30) 사이에 간극이 발생하는 것을 방지하여 공정 가스의 누출을 완벽히 차단할 수 있으며 공정 챔버 내에 이물질의 유입을 효율적으로 방지할 수 있게 된다.
Such a problem occurs simultaneously in the lower portion of the gate valve 30 as well as in the upper portion of the gate valve 30. [ Thus, in the vacuum processing apparatus according to the embodiment of the present invention, the reinforcing member 50 is disposed between the transfer chamber 60 and the gate valve 30 at the top of the gate valve 30, and between the process chamber and the gate valve 30 And the lower contact member 90 prevents a clearance between the transfer chamber 60 and the gate valve 30 at the lower portion of the gate valve 30 and between the process chamber and the gate valve 30 So that the leakage of the process gas can be completely blocked and the inflow of foreign matter into the process chamber can be effectively prevented.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 진공 처리 장치의 전체적인 모습을 도시한 측면도이다. 도 5를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 진공 처리 장치는 내부에 일정한 공간을 가지며 적어도 일 측면에 개구부가 위치하는 공정 챔버, 상기 공정 챔버의 개구부가 위치한 일 측면에 결합되어 공정 챔버 내부 공간과 연통되는 게이트 밸브(30), 상기 게이트 밸브(30)와 결합되는 이송 챔버(60) 및 상기 게이트 밸브(30)의 상부에 설치되어 상기 공정 챔버의 개구부의 상부와 상기 이송 챔버(60)를 동시에 지지하는 보강 부재(50)를 포함한다.FIG. 5 is a side view showing the overall structure of a vacuum processing apparatus according to another embodiment of the present invention. Referring to FIG. 5, a vacuum processing apparatus according to another embodiment of the present invention includes a process chamber having a predetermined space therein and having an opening on at least one side thereof, A transfer chamber 60 coupled to the gate valve 30 and an upper portion of the gate valve 30 so that the upper portion of the opening of the process chamber and the transfer chamber 60 are opened, And a reinforcing member (50) for supporting at the same time.

본 발명의 다른 실시예에 따른 보강 부재(50)는 게이트 밸브(30)의 상부에 설치되어 공정 챔버의 개구부의 상부와 이송 챔버(60)를 동시에 지지한다. 상기한 바와 같이 알루미늄 재질로 이루어지는 공정 챔버에 비해 이송 챔버(60)는 스테인리스 스틸 재질로 이루어져 강도가 높다. 따라서, 공정 챔버의 개구부의 상부와 이송 챔버(60)를 동시에 지지함으로써 공정 챔버의 개구부의 변형을 효율적으로 방지할 수 있게 되고 게이트 밸브(30)의 양 측면에 결합되는 공정 챔버와 이송 챔버(60)의 밀착력을 향상시켜 공정 가스의 누출을 차단할 수 있게 된다.The reinforcing member 50 according to another embodiment of the present invention is installed on the upper portion of the gate valve 30 to simultaneously support the upper portion of the opening of the process chamber and the transfer chamber 60. As described above, the transfer chamber 60 is made of stainless steel and has a higher strength than a process chamber made of an aluminum material. Accordingly, by simultaneously supporting the upper portion of the opening of the process chamber and the transfer chamber 60, deformation of the opening of the process chamber can be effectively prevented, and the process chamber and the transfer chamber 60 The leakage of the process gas can be prevented.

또한, 본 발명의 다른 실시예에 따른 보강 부재(50)는 공정 챔버의 개구부의 폭 방향으로 연장되어 상기 게이트 밸브(30)와 결합되는 저면 판(52), 상기 저면 판(52)의 일 측면에서 상부로 연장되어 상기 이송 챔버(60)의 일 측면에 결합되는 제 1 측면 판(54) 및 상기 저면 판(52)의 타 측면에서 상부로 연장되고 상기 공정 챔버의 개구부의 상부로 절곡되어, 상기 공정 챔버의 개구부 상부와 일정 간격 이격되어 결합되는 제 2 측면 판(56)을 포함한다. 따라서, 상기 보강 부재(50)는 내부가 비어있는 형상을 갖게 되어 보강 부재(50) 자체의 강도를 유지하면서도 무게를 줄일 수 있게 된다.The reinforcing member 50 according to another embodiment of the present invention includes a bottom plate 52 extending in the width direction of the opening of the process chamber and coupled with the gate valve 30, A first side plate 54 extending upwardly from the other side of the bottom plate 52 and coupled to one side of the transfer chamber 60 and an upper portion extending upward from the other side of the bottom plate 52, And a second side plate 56 coupled to the upper portion of the opening of the process chamber at a predetermined distance. Therefore, since the reinforcing member 50 has an empty shape, the weight of the reinforcing member 50 can be reduced while maintaining the strength of the reinforcing member 50 itself.

뿐만 아니라, 상기 보강 부재(50)는 보강 부재(50)의 제 1 측면 판(54)과 제 2 측면 판(56)을 연결하는 다수 개의 보강 판(58)을 더 포함하여 제 1 측면 판(54) 및 제 2 측면 판(56)이 보강 부재(50)의 내부로 휘어지는 것을 방지할 수 있으며, 상기 보강 판(58)에 공정 챔버의 배선 또는 배관을 위한 홀(59)을 더 형성하여 강도를 유지하면서도 배선 및 배관을 용이하게 하도록 구성할 수 있음은 전술한 바와 같다.The reinforcing member 50 may further include a plurality of reinforcing plates 58 connecting the first side plate 54 and the second side plate 56 of the reinforcing member 50 to the first side plate 54 and the second side plate 56 can be prevented from being bent into the reinforcing member 50 and holes 59 for wiring or piping of the process chamber can be further formed in the reinforcing plate 58, The wiring and the piping can be easily configured while maintaining the above-described structure.

보다 상세하게는, 본 발명의 다른 실시예에 따른 보강 부재(50)의 제 2 측면 판(56)은 공정 챔버를 향하는 면인 저면 판(52)의 타 측면에서 상부로 연장되고, 공정 챔버의 개구부 상부와 일정 간격 이격되도록 절곡되어 형성된다. 그리고, 공정 챔버의 개구부 상부와 일정 간격 이격되도록 절곡된 상기 보강 부재(50)의 제 2 측면 판(56)은 공정 챔버의 개구부 상부와의 간격을 조절하도록 상·하 방향의 결합 부재(80)에 의하여 결합된다.The second side plate 56 of the reinforcement member 50 according to another embodiment of the present invention extends upward from the other side of the bottom plate 52 which is the surface facing the process chamber, And is formed to be spaced apart from the upper portion by a predetermined distance. The second side plate 56 of the reinforcing member 50, which is bent so as to be spaced apart from the upper portion of the opening portion of the process chamber, is provided with an upper and lower coupling member 80 to adjust the distance from the upper portion of the process chamber. Lt; / RTI >

따라서, 보강 부재(50)의 제 2 측면 판(56)과 개구부의 상부를 일정 간격 이격시켜 간격 조절이 가능한 결합 부재(80)에 의하여 결합시킴으로써 공정 챔버의 개구부의 상부를 위에서 지지함과 동시에 상기 개구부의 처짐이 발생하는 경우 간격을 조절하여 개구부의 변형을 방지할 수 있게 된다. 상기의 공정 챔버의 개구부 상부와 제 2 측면 판(56)의 간격을 조절하기 위한 결합 부재(80)는 볼트 및 너트의 나사 결합과 같은 간격 조절이 가능한 다양한 결합 부재(80)를 사용할 수 있음은 물론이다.Therefore, the upper side of the opening of the process chamber is supported from above by engaging the upper side of the opening portion with the second side plate 56 of the reinforcing member 50 by a coupling member 80 spacing- It is possible to prevent deformation of the opening by adjusting the gap when the opening is deflected. The engaging member 80 for adjusting the distance between the upper portion of the opening of the process chamber and the second side plate 56 may use various engaging members 80 capable of adjusting the spacing such as the screwing of bolts and nuts Of course.

바람직하게는, 본 발명의 다른 실시예에 따른 진공 처리 장치는 도 6에 도시된 바와 같이 공정 챔버의 개구부가 위치한 일 측면의 상부 면을 게이트 밸브(30)의 상부 면보다 돌출되는 것으로 형성하여 개구부 상부의 강도를 보강할 수 있다. 뿐만 아니라, 상기와 같이 공정 챔버의 개구부의 상부 면을 돌출 형성함으로써 보강 부재(50)의 제 2 측면 판(56)을 볼트 등에 의하여 돌출된 공정 챔버의 개구부 상부와 측면에서 추가로 결합하는 것으로 구성하여 게이트 밸브(30)와 공정 챔버 사이의 밀착력을 더욱 향상시킬 수 있게 된다.6, the upper surface of one side where the opening of the process chamber is located is formed to protrude from the upper surface of the gate valve 30, Can be reinforced. In addition, by forming the upper surface of the opening portion of the process chamber so as to protrude as described above, the second side plate 56 of the reinforcing member 50 is further combined with the upper portion and the side surface of the opening portion of the process chamber protruded by bolts or the like So that the adhesion between the gate valve 30 and the process chamber can be further improved.

또한, 도면에 도시되지는 않았으나 본 발명의 다른 실시예에 따른 진공 처리 장치는 게이트 밸브(30)의 하부에 설치되어, 일 측면은 이송 챔버(60)의 일 측면에 결합되고, 타 측면은 공정 챔버의 일 측면에 결합되는 하부 밀착 부재(90)를 더 포함할 수 있다.Further, although not shown in the drawing, the vacuum processing apparatus according to another embodiment of the present invention is installed at a lower portion of the gate valve 30, one side is coupled to one side of the transfer chamber 60, And a lower contact member 90 coupled to one side of the chamber.

따라서, 본 발명의 다른 실시예에 따른 진공 처리 장치에서 보강 부재(50)는 게이트 밸브(30)의 상부에서 이송 챔버(60)와 게이트 밸브(30) 사이 및 공정 챔버와 게이트 밸브(30) 사이에 간극이 발생하는 것을 방지시키고, 상기 하부 밀착 부재(90)는 게이트 밸브(30)의 하부에서 이송 챔버(60)와 게이트 밸브(30) 사이 및 공정 챔버와 게이트 밸브(30) 사이에 간극이 발생하는 것을 방지하여 공정 가스의 누출을 완벽히 차단할 수 있으며 공정 챔버 내에 이물질의 유입을 효율적으로 방지할 수 있게 된다.
Thus, in a vacuum processing apparatus according to another embodiment of the present invention, the reinforcing member 50 is disposed between the transfer chamber 60 and the gate valve 30 at the top of the gate valve 30 and between the process chamber and the gate valve 30 And the lower contact member 90 prevents a clearance between the transfer chamber 60 and the gate valve 30 at the lower portion of the gate valve 30 and between the process chamber and the gate valve 30 So that the leakage of the process gas can be completely blocked and the inflow of foreign matter into the process chamber can be effectively prevented.

상기에서 본 발명의 바람직한 실시예가 특정 용어들을 사용하여 설명 및 도시되었지만 그러한 용어는 오로지 본 발명을 명확히 설명하기 위한 것일 뿐이며, 본 발명의 실시예 및 기술된 용어는 다음의 청구범위의 기술적 사상 및 범위로부터 이탈되지 않고서 여러가지 변경 및 변화가 가해질 수 있는 것은 자명한 일이다. 이와 같이 변형된 실시예들은 본 발명의 사상 및 범위로부터 개별적으로 이해되어져서는 안되며, 본 발명의 청구범위 안에 속한다고 해야 할 것이다.
While the preferred embodiments of the present invention have been described and illustrated above using specific terms, such terms are used only for the purpose of clarifying the invention, and it is to be understood that the embodiment It will be obvious that various changes and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the invention. Such modified embodiments should not be understood individually from the spirit and scope of the present invention, but should be regarded as being within the scope of the claims of the present invention.

10: 공정 챔버 리드 20: 공정 챔버 몸체
30: 게이트 밸브 50: 보강 부재
52: 저면 판 54: 제 1 측면 판
56: 제 2 측면 판 58: 보강 판
60: 이송 챔버 70: 지지대
80: 결합 부재 90: 하부 밀착 부재10: process chamber lead 20: process chamber body
30: gate valve 50: reinforcing member
52: bottom plate 54: first side plate
56: second side plate 58: reinforcing plate
60: transfer chamber 70: support
80: coupling member 90: lower contact member

Claims (13)

공정 챔버 리드;
상기 공정 챔버 리드와 결합하여 내부에 일정한 반응 공간을 형성하고, 적어도 일 측면에 개구부가 위치하는 공정 챔버 몸체;
상기 개구부가 위치하는 공정 챔버 몸체의 일 측면에 결합되어 상기 공정 챔버 몸체의 내부 공간과 연통되는 게이트 밸브;
상기 게이트 밸브와 연통되는 내부 공간을 갖도록 결합되고, 상기 공정 챔버 몸체보다 고강도의 재질로 이루어진 이송 챔버; 및
상기 게이트 밸브의 상부에 설치되어, 저면은 상기 게이트 밸브의 상부에 결합되고 일 측면은 상기 개구부 상부의 공정 챔버 몸체의 일 측면에 결합되어 개구부의 상부를 지지하는 보강 부재를 포함하고,
상기 보강 부재는 상기 개구부의 폭 방향으로 연장되는 저면 판; 상기 저면 판의 양 측면에서 상부로 각각 연장되는 제 1 측면 판 내지 제 2 측면 판; 및 상기 제 1 측면 판과 제 2 측면 판을 연결하는 다수 개의 보강 판을 포함하며,
상기 보강 부재의 저면 판은 상기 게이트 밸브에 결합되고, 상기 보강 부재의 제 1 측면 판은 상기 이송 챔버의 일 측면에 결합되고, 상기 보강 부재의 제 2 측면 판은 상기 개구부 상부의 공정 챔버 몸체의 일 측면에 결합되는 진공 처리 장치.
Process chamber leads;
A process chamber body coupled with the process chamber lid to form a constant reaction space therein and having an opening on at least one side thereof;
A gate valve coupled to one side of the process chamber body where the opening is located to communicate with an interior space of the process chamber body;
A transfer chamber coupled with the internal space communicating with the gate valve, the transfer chamber being made of a material having a higher strength than the process chamber body; And
And a reinforcing member provided on the gate valve and having a bottom surface coupled to the top of the gate valve and one side surface coupled to one side of the process chamber body above the opening to support an upper portion of the opening,
Wherein the reinforcing member comprises: a bottom plate extending in the width direction of the opening; A first side plate to a second side plate each extending upwardly from both sides of the bottom plate; And a plurality of reinforcing plates connecting the first side plate and the second side plate,
Wherein a bottom plate of the reinforcing member is coupled to the gate valve, a first side plate of the reinforcement member is coupled to one side of the transfer chamber, and a second side plate of the reinforcement member is coupled to the process chamber body And a vacuum processing device coupled to the one side surface.
제 1 항에 있어서,
상기 공정 챔버 몸체는 개구부가 위치한 일 측면의 상부 면이 상기 게이트 밸브의 상부 면보다 돌출되는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the upper surface of one side of the process chamber body where the opening is located protrudes from the upper surface of the gate valve.
삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 보강 판에는 배선 또는 배관을 위한 홀이 형성되는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
The method according to claim 1,
And a hole for wiring or piping is formed in the reinforcing plate.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 개구부의 폭 방향으로 연장되어 개구부 상부의 공정 챔버 몸체에 삽입되는 지지대를 더 포함하고,
상기 보강 부재의 제 2 측면 판은 상기 지지대와 결합 부재에 의하여 상기 개구부 상부의 공정 챔버 몸체의 일 측면에 결합되는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
The method according to claim 1,
Further comprising a support extending in the width direction of the opening to be inserted into the process chamber body above the opening,
Wherein the second side plate of the reinforcing member is coupled to one side of the process chamber body above the opening by the supporting member and the engaging member.
제 1 항에 있어서,
상기 게이트 밸브의 하부에 설치되어, 일 측면은 상기 이송 챔버의 일 측면에 결합되고, 타 측면은 상기 공정 챔버 몸체의 일 측면에 결합되는 하부 밀착 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
The method according to claim 1,
Further comprising a lower contact member provided at a lower portion of the gate valve and having one side coupled to one side of the transfer chamber and the other side coupled to one side of the process chamber body.
내부에 일정한 공간을 가지며 적어도 일 측면에 개구부가 위치하는 공정 챔버;
상기 공정 챔버의 개구부가 위치한 일 측면에 결합되어 공정 챔버 내부 공간과 연통되는 게이트 밸브;
상기 게이트 밸브와 결합되고, 상기 공정 챔버보다 고강도의 재질로 이루어진 이송 챔버; 및
상기 게이트 밸브의 상부에 설치되어 상기 공정 챔버의 개구부의 상부와 상기 이송 챔버를 동시에 지지하는 보강 부재를 포함하고,
상기 보강 부재는,
상기 공정 챔버의 개구부의 폭 방향으로 연장되어 상기 게이트 밸브와 결합되는 저면 판; 상기 저면 판의 일 측면에서 상부로 연장되어 상기 이송 챔버의 일 측면에 결합되는 제 1 측면 판; 상기 저면 판의 타 측면에서 상부로 연장되고 상기 공정 챔버의 개구부의 상부로 절곡되어, 상기 공정 챔버의 개구부 상부와 일정 간격 이격되어 결합되는 제 2 측면 판; 및 상기 제 1 측면 판과 제 2 측면 판을 연결하는 다수 개의 보강 판을 더 포함하는 진공 처리 장치.
A process chamber having a predetermined space therein and having an opening on at least one side thereof;
A gate valve coupled to a side of the process chamber where the opening is located and communicating with a space inside the process chamber;
A transfer chamber coupled to the gate valve and made of a material having a higher strength than the process chamber; And
And a reinforcing member provided at an upper portion of the gate valve to simultaneously support an upper portion of the opening of the process chamber and the transfer chamber,
The reinforcing member
A bottom plate extending in the width direction of the opening of the process chamber and coupled with the gate valve; A first side plate extending upward from one side of the bottom plate and coupled to one side of the transfer chamber; A second side plate extending upward from the other side of the bottom plate and bent upwardly from the opening of the process chamber, the second side plate being spaced apart from the upper portion of the opening of the process chamber; And a plurality of reinforcing plates connecting the first side plate and the second side plate.
삭제delete 삭제delete 제 9 항에 있어서,
상기 보강 부재의 제 2 측면 판은 상기 공정 챔버의 개구부 상부와의 간격을 조절하도록 결합 부재에 의하여 결합되는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
10. The method of claim 9,
Wherein the second side plate of the reinforcing member is coupled by an engaging member to adjust the distance from the upper portion of the opening of the process chamber.
제 9 항에 있어서,
상기 게이트 밸브의 하부에 설치되어, 일 측면은 상기 이송 챔버의 일 측면에 결합되고, 타 측면은 상기 공정 챔버의 일 측면에 결합되는 하부 밀착 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
10. The method of claim 9,
Further comprising a lower contact member provided at a lower portion of the gate valve and having one side coupled to one side of the transfer chamber and the other side coupled to a side of the process chamber.
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Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060124815A (en) * 2005-05-26 2006-12-06 주성엔지니어링(주) Vacuum treatment apparatus of which reinforcing member is combined at open portion of chamber
KR100738874B1 (en) 2006-02-07 2007-07-12 주식회사 에스에프에이 Chemical vapor deposition apparatus for flat display
KR20090005473A (en) * 2007-07-09 2009-01-14 주성엔지니어링(주) Supporting member for slot port of chamber and apparatus for treating substrate having the same

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