KR101479382B1 - 미생물 검출 장치의 교정 방법 및 미생물 검출 장치의 교정 키트 - Google Patents

미생물 검출 장치의 교정 방법 및 미생물 검출 장치의 교정 키트 Download PDF

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Abstract

본 발명은 미생물 검출 장치의 미생물을 이용하지 않는 교정 방법을 제공하는 것을 과제로 한다.
본 발명의 해결수단은, 빛이 조사되면 미생물이 발하는 형광의 강도와 거의 동일한 강도의 형광을 발하는 폴리스티렌 입자를 미생물 검출 장치(20)에 넣는 것과, 미생물 검출 장치(20)의 광원으로부터 폴리스티렌 입자에 빛을 조사하여 폴리스티렌 입자로부터 발생한 형광을 미생물 검출 장치(20)의 형광 검출기로 검출하는 것과, 검출한 형광의 강도에 기초하여 미생물 검출 장치(20)를 교정하는 것을 포함하는 미생물 검출 장치의 교정 방법이다.

Description

미생물 검출 장치의 교정 방법 및 미생물 검출 장치의 교정 키트{CALIBRATION METHOD FOR MICROORGANISM DETECTING DEVICE AND CALIBRATION KIT FOR MICROORGANISM DETECTING DEVICE}
본 발명은 환경 평가 기술에 관한 것으로, 특히 미생물 검출 장치의 교정 방법 및 미생물 검출 장치의 교정 키트에 관한 것이다.
예컨대 의약품 제조 공장의 클린 룸에서는 실내의 공기 중으로 비산되는 미생물의 양이 미생물 검출 장치에 의해 감시되고 있다. 미생물 검출 장치의 성능을 평가하여 정밀도를 교정할 때에는, 미생물 검출 장치에 기지의 미생물을 넣어, 미생물 검출 장치의 출력을 평가하고 있다(예컨대, 특허문헌 1 내지 3 참조).
특허문헌 1 : 일본 특허공개 2004-159508호 공보 특허문헌 2 : 일본 특허공개 2008-22764호 공보 특허문헌 3 : 일본 특허공개 2008-22765호 공보
그러나, 미생물 검출 장치를 평가할 때에 이용된 미생물이 클린룸이나 챔버 등의 환경을 오염시킬 가능성이 있다. 그래서, 본 발명은 미생물 검출 장치의 미생물을 이용하지 않는 교정 방법 및 미생물 검출 장치의 교정 키트를 제공하는 것을 목적의 하나로 한다.
본 발명의 양태에 따르면, (a) 빛이 조사되면 미생물이 발하는 형광의 강도와 거의 동일한 강도의 형광을 발하는 폴리스티렌 입자를 미생물 검출 장치에 넣는 것과, (b) 미생물 검출 장치의 광원으로부터 폴리스티렌 입자에 빛을 조사하여, 폴리스티렌 입자로부터 발생한 형광을 미생물 검출 장치의 형광 검출기로 검출하는 것과, (c) 검출한 형광의 강도에 기초하여 미생물 검출 장치를 교정하는 것을 포함하는 미생물 검출 장치의 교정 방법이 제공된다.
또한, 본 발명의 양태에 따르면, 빛이 조사되면 미생물이 발하는 형광의 강도와 거의 동일한 강도의 형광을 발하는 폴리스티렌 입자를 구비한 미생물 검출 장치의 교정 키트가 제공된다.
본 발명에 따르면, 미생물 검출 장치의 미생물을 이용하지 않는 교정 방법 및 미생물 검출 장치의 교정 키트를 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시형태에 따른 시험실의 모식도이다.
도 2는 본 발명의 실시형태에 따른 미생물 검출 장치의 모식적인 단면도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른, 건조 조건 하에 형광 현미경으로 관찰된 폴리스티렌 입자 및 미생물의 형광 강도의 분포를 도시하는 그래프이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른, 건조 조건 하에 형광 현미경으로 관찰된 폴리스티렌 입자 및 미생물의 형광 강도의 분포를 도시하는 그래프이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른, 건조 조건 하에 형광 현미경으로 관찰된 폴리스티렌 입자 및 미생물의 형광 강도의 분포를 도시하는 그래프이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른, 건조 조건 하에 형광 현미경으로 관찰된 폴리스티렌 입자의 형광 강도의 95% 신뢰 구간을 도시하는 그래프이다.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른, 형광 현미경으로 관찰된 폴리스티렌 입자 및 미생물의 형광 강도를 도시하는 그래프이다.
도 8은 본 발명의 실시예에 따른, 액 중 조건 하에 형광 현미경으로 관찰된 폴리스티렌 입자의 형광 강도의 분포를 도시하는 그래프이다.
도 9는 본 발명의 실시예에 따른, 액 중 조건 하에 형광 현미경으로 관찰된 폴리스티렌 입자의 형광 강도의 95% 신뢰 구간을 도시하는 그래프이다.
도 10은 본 발명의 실시예에 따른, 공중 부유균 검출기로 검출된 폴리스티렌 입자 및 미생물의 형광 강도를 도시하는 그래프이다.
이하에 본 발명의 실시형태를 설명한다. 이하의 도면의 기재에 있어서 동일 또는 유사한 부분에는 동일 또는 유사한 부호로 나타내고 있다. 단, 도면은 모식적인 것이다. 따라서, 구체적인 치수 등은 이하의 설명을 대조하여 판단해야 될 것이다. 또한, 도면 상호 간에 있어서도 서로의 치수 관계나 비율이 다른 부분이 포함되어 있음은 물론이다.
실시형태에 따른 미생물 검출 장치의 교정 방법은, 빛이 조사되면 미생물이 발하는 형광의 강도와 거의 동일한 강도의 형광을 발하는 폴리스티렌 입자를 미생물 검출 장치에 넣는 것과, 미생물 검출 장치의 광원으로부터 폴리스티렌 입자에 빛을 조사하여, 폴리스티렌 입자로부터 발생한 형광을 미생물 검출 장치의 형광 검출기로 검출하는 것과, 검출한 형광의 강도에 기초하여 미생물 검출 장치의 교정을 행하는 것을 포함한다.
도 1에 도시하는 것과 같이, 교정 방법의 대상이 되는 미생물 검출 장치(20)는 예컨대 시험실(1)에 설치되어 있다. 시험실(1)은 골격을 이루는 예컨대 알루미늄제의 프레임과, 프레임에 끼워진, 측벽을 이루는 폴리카보네이트제의 투명 패널을 구비하는 챔버이다. 시험실(1)에는 예컨대 급기 장치(11A, 11B)가 설치되어 있다. 급기 장치(11A, 11B)는 HEPA(High Efficiency Particulate Air Filter) 및 ULPA(Ultra Low Penetration Air Filter) 등의 초고성능 에어 필터를 통해서 시험실(1) 내부에 청정한 공기를 보내준다. 시험실(1)의 측벽에는 도어가 설치되어 있더라도 좋다.
실시형태에 따른 폴리스티렌 입자는 시험실(1)에 설치된 분무 장치(2)로부터 시험실(1) 내부에 방출된다. 분무 장치(2)는 예컨대 제트식 네블라이저이며, 소정의 농도로 폴리스티렌 입자를 포함하는 유체를 보관한다. 분무 장치(2)는 소정의 유량으로 압축 가스 등의 기류를 공급받아, 기류를 폴리스티렌 입자를 포함하는 유체에 내뿜어 에어로졸을 발생시켜, 시험실(1) 내부에 폴리스티렌 입자를 포함하는 유체를 미스트형으로 하여 분무한다. 한편, 도 1에서는, 분무 장치(2)는 시험실(1) 내부에 배치되어 있지만, 분무 장치(2)를 시험실(1)의 외부에 배치하고, 분무 장치(2)가 분무한 에어로졸을 배관 등으로 시험실(1) 내부로 유도하더라도 좋다.
시험실(1) 내에는 교반 장치로서의 교반 팬(10A, 10B, 10C, 10D)이 배치되어 있다. 교반 팬(10A∼10D)은 시험실(1) 내부의 공기를 교반하여, 시험실(1) 내부에 살포된 폴리스티렌 입자의 자체 중량에 의한 자연 침강을 방지한다.
또한, 시험실(1) 내에는 청정화 장치로서의 에어 클리너(6)가 배치되어 있다. 에어 클리너(6)는 시험실(1) 내부의 공기 등의 기체에 포함되는 미립자나 미생물을 제거하여 기체를 청정화한다. 예컨대, 분무 장치(2)로부터 시험실(1) 내에 폴리스티렌 입자를 포함하는 유체를 분무하기 전에 에어 클리너(6)를 운전함으로써, 분무 장치(2)가 분무하는 폴리스티렌 입자 이외의 미립자나 미생물을 미리 시험실(1) 내부에서 제거하는 것이 가능하다. 한편, 도 1에서는, 에어 클리너(6)는 시험실(1) 내부 바닥면에 배치되어 있지만, 에어 클리너(6)를 시험실(1)의 벽면 또는 천장부에 배치하더라도 좋다.
미생물 검출 장치(20)는 예컨대 도 2의 모식적인 단면도에 도시하는 것과 같이, 케이스(21)와, 시험실(1) 내부에서 케이스(21)의 내부로 공기를 흡인하는 제1 흡인 장치(22)를 구비한다. 제1 흡인 장치(22)로 흡인된 공기는 케이스(21) 내부의 노즐(23) 선단으로부터 방출된다. 노즐(23)의 선단으로부터 방출된 공기는 노즐(23)의 선단과 대향하여 케이스(21)의 내부에 배치된 제2 흡인 장치(24)에 의해 흡인된다. 미생물 검출 장치(20)는 레이저 등의 광원(25)을 더 구비한다. 광원(25)은, 노즐(23)의 선단으로부터 방출되어, 제2 흡인 장치(24)에 의해 흡인되는 공기를 향해서 레이저광(26)을 조사한다. 레이저광(26)은 가시광이라도 자외광이라도 좋다. 레이저광(26)이 가시광인 경우, 레이저광(26)의 파장은 예컨대 400 내지 410 nm의 범위 내이며, 예컨대 405 nm이다. 레이저광(26)이 자외광인 경우, 레이저광(26)의 파장은 예컨대 310 내지 380 nm의 범위 내이며, 예컨대 340 nm이다.
공기 중에 세균 등의 미생물이 포함되는 경우, 레이저광(26)이 조사된 세균이 형광을 발한다. 세균의 예로서는, 그램 음성균, 그램 양성균 및 곰팡이 포자를 포함하는 진균을 들 수 있다. 그램 음성균의 예로서는 대장균을 들 수 있다. 그램 양성균의 예로서는 표피포도구균, 고초균 아포, 마이크로코커스 및 코리네박테리움을 들 수 있다. 곰팡이 포자를 포함하는 진균의 예로서는 아스페르길루스를 들 수 있다. 미생물 검출 장치(20)는 형광 검출기(27)를 더 구비한다. 형광 검출기(27)는 미생물이 발한 형광을 검출하여 형광 강도를 계측한다. 미생물 검출 장치(20)는 형광 강도의 크기에 기초하여, 공기 중에 포함되어 있는 미생물의 농도를 측정하는 것이 가능하다.
미생물 검출 장치(20)를 교정할 때에는 바람직하게는 도 1에 도시하는 시험실(1) 내부의 먼지, 티끌, 미립자 및 미생물 등을 에어 클리너(6)로 완전히 제거하고 분무 장치(2)로부터 폴리스티렌 입자를 방출한다. 방출된 폴리스티렌 입자를 포함하는 공기는 미생물 검출 장치(20)에 넣어져, 도 2에 도시하는 레이저광(26)이 조사된다. 일반적으로 폴리스티렌 입자는 형광 물질로 분류되지 않지만, 레이저광(26)이 조사된 폴리스티렌 입자는 자가 형광을 발한다. 여기서, 본 발명자가 처음으로 알아낸 것인데, 하나의 폴리스티렌 입자가 발하는 자가 형광의 강도는 하나의 미생물이 발하는 형광의 강도에 가깝다. 그 때문에, 미생물을 이용하지 않고 폴리스티렌 입자를 이용하여 미생물 검출 장치(20)의 형광 검출기(27)의 감도 등을 교정하는 것이 가능하게 된다.
폴리스티렌 입자가 발하는 형광의 강도는 폴리스티렌 입자의 재료 및 입경에 의존하여 변화된다. 따라서, 재료 및 입경이 다른 복수의 폴리스티렌 입자의 각각을 미생물 검출 장치(20)에 넣어, 재료 및 입경이 다른 복수의 폴리스티렌 입자의 각각의 형광 강도의 차를 분리할 수 있는 감도를 미생물 검출 장치(20)의 형광 검출기(27)가 갖는지 여부를 평가하더라도 좋다.
폴리스티렌 입자는 예컨대 폴리스티렌으로 이루어진다. 혹은, 폴리스티렌 입자는 폴리스티렌과 첨가물로 이루어진다. 또, 혹은 폴리스티렌 입자는 예컨대 98 질량%의 폴리스티렌과 2 질량%의 디비닐벤젠으로 이루어진다.
본질적으로 폴리스티렌으로 이루어지는 폴리스티렌 입자의 입경은 바람직하게는 0.75 ㎛ 이상 10 ㎛ 미만이며, 보다 바람직하게는 0.75 ㎛ 이상 5 ㎛ 미만이다. 본질적으로 폴리스티렌으로 이루어지는 폴리스티렌 입자의 입경이 0.75 ㎛보다 작으면, 하나의 폴리스티렌 입자가 발하는 형광의 강도가 하나의 미생물이 발하는 형광의 강도보다 약해지는 경향이 있다. 또한, 본질적으로 폴리스티렌으로 이루어지는 폴리스티렌 입자의 입경이 10 ㎛ 이상이면, 하나의 폴리스티렌 입자가 발하는 형광의 강도가 하나의 미생물이 발하는 형광의 강도보다 강해지는 경향이 있다. 본질적으로 폴리스티렌으로 이루어지는 폴리스티렌 입자의 입경은, 폴리스티렌 입자에 빛이 조사되었을 때에 발하는 형광의 강도가 미생물이 발하는 형광의 강도와 거의 동일하게 되도록 선택된다면, 상기한 범위에 한정되지 않는다.
본질적으로 폴리스티렌과 디비닐벤젠으로 이루어지는 폴리스티렌 입자의 입경은 바람직하게는 0.75 ㎛ 이상 7.5 ㎛ 이하이다. 본질적으로 폴리스티렌과 디비닐벤젠으로 이루어지는 폴리스티렌 입자의 입경이 0.75 ㎛보다 작으면, 하나의 폴리스티렌 입자가 발하는 형광의 강도가 하나의 미생물이 발하는 형광의 강도보다 약해지는 경향이 있다. 또한, 본질적으로 폴리스티렌과 디비닐벤젠으로 이루어지는 폴리스티렌 입자의 입경이 7.5 ㎛보다 크면, 하나의 폴리스티렌 입자가 발하는 형광의 강도가 하나의 미생물이 발하는 형광의 강도보다 강해지는 경향이 있다. 본질적으로 폴리스티렌과 디비닐벤젠으로 이루어지는 폴리스티렌 입자의 입경은, 폴리스티렌 입자에 빛이 조사되었을 때에 발하는 형광의 강도가 미생물이 발하는 형광의 강도와 거의 동일하게 되도록 선택된다면, 상기한 범위에 한정되지 않는다.
종래, 미생물 검출 장치를 교정할 때에는, 기지의 농도의 미생물을 미생물 검출 장치에 넣어, 미생물 검출 장치가 산출한 미생물의 농도와 실제 미생물의 농도를 비교하거나 하였다. 그러나, 미생물은 배양 설비나 누출 방지용 안전 설비가 필요하게 되기 때문에, 미생물 검출 장치의 교정에 드는 비용이 높다고 하는 문제가 있다. 이에 대하여, 미생물 검출 장치의 교정에 폴리스티렌 입자를 이용하면, 배양 설비나 안전 설비가 불필요하게 되기 때문에, 미생물 검출 장치의 교정에 드는 비용을 대폭 저하시키는 것이 가능하게 된다.
또한, Applied Microbiology and Biotechnology, Vol. 30, 59-66 및 The Chemical Engineering Journal, Vol. 34, B7-B12에 기재되어 있는 바와 같이, 미생물이 발하는 형광은 미생물의 생육 조건에 따라 변화할 수 있다. 그 때문에, 미생물을 이용하여 미생물 검출 장치의 교정을 하려고 해도, 미생물 검출 장치의 형광 검출기의 감도 목표치(임계치)를 설정하기 위한 지침을 얻을 수 없는 경우가 있다. 이에 대하여, 미생물 검출 장치의 교정에 폴리스티렌 입자를 이용하면, 폴리스티렌 입자가 발하는 형광의 강도는 안정적이기 때문에, 확실하게 미생물 검출 장치의 교정을 할 수 있게 된다.
실시예
이하, 실시예에 의해 실시형태를 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예에 의해 하등 한정되는 것이 아니다.
(폴리스티렌 입자의 입수)
폴리스티렌 입자는 Fisher Scientific사로부터 Thermo Scientific Nanosphere 3000 시리즈·사이즈 스탠다드의 형번(型番) 3500A, Latex Microsphere Suspensions 5000 시리즈의 형번 5100A, Duke Standards 4000 시리즈 Monosized Particles의 형번 4203A 및 4205A를 입수했다.
형번 3500A의 입자는 현탁액으로서 제공되며, 입경은 498 nm±9 nm(변동 계수 1.6%), 재료는 폴리스티렌, 밀도는 1.05 g/㎤, 굴절율은 1.59이다. 형번 3500A의 입자는 입경이 0.5 ㎛인 표준 샘플로서 사용할 수 있는 입경의 균일성을 갖는다.
형번 5100A의 입자는 현탁액으로서 제공되며, 입경은 1.0 ㎛(변동 계수 3% 이하), 재료는 폴리스티렌, 밀도는 1.05 g/㎤, 굴절율은 1.59이다.
형번 4203A의 입자는 현탁액으로서 제공되며, 입경은 3.002 ㎛±0.019(변동 계수 1.1%), 재료는 폴리스티렌이다. 형번 4203A의 입자는 입경이 3 ㎛인 표준 샘플로서 사용할 수 있는 입경의 균일성을 갖는다.
형번 4205A의 입자는 현탁액으로서 제공되며, 입경은 4.993 ㎛±0.040(변동 계수 1.0%), 재료는 폴리스티렌이다. 형번 4205A의 입자는 입경이 5 ㎛인 표준 샘플로서 사용할 수 있는 입경의 균일성을 갖는다.
또한, Bangs Laboratories사에서, Polymer Microspheres 시리즈의 형번 PS04N/5749, 형번 PS06N/5623 및 형번 PS05N/7508을 입수했다.
형번 PS04N/5749의 입자는 현탁액으로서 제공되며, 입경은 1.01 ㎛, 재료는 폴리스티렌, 밀도는 1.05 g/㎤이다.
형번 PS06N/5623의 입자는 현탁액으로서 제공되며, 입경은 5.09 ㎛(표준 편차 0.44 ㎛), 재료는 가교 폴리스티렌디비닐벤젠(cross linked polystyrene/2% divinylbenzen), 밀도는 1.062 g/㎤이다. 형번 PS06N/5623의 입자는 입경이 5 ㎛인 표준 샘플로서 사용할 수 있는 입경의 균일성을 갖는다.
형번 PS05N/7508의 입자는 현탁액으로서 제공되며, 입경은 4.61 ㎛(표준 편차 0.63 ㎛), 재료는 폴리스티렌, 밀도는 1.05 g/㎤이다. 형번 PS05N/7508의 입자는 입경이 4.6 ㎛인 표준 샘플로서 사용할 수 있는 입경의 균일성을 갖는다.
또한, JSR 주식회사로부터 DYNOSPHERES(등록상표) 시리즈의 형번 SS-053-P 및 SS-104-P를 입수했다.
형번 SS-053-P의 입자는 현탁액으로서 제공되며, 평균 입경은 5.124 ㎛(변동 계수 1.22%), 재료는 폴리스티렌이다. 형번 SS-053-P의 입자는 표준 입자로서 입경 측정 장치의 교정용 및 치수 표준용으로 많은 실적이 있다.
형번 SS-104-P의 입자는 현탁액으로서 제공되며, 평균 입경은 10.14 ㎛(변동 계수 1.20%), 재료는 폴리스티렌이다. 형번 SS-104-P의 입자는 표준 입자로서 입경 측정 장치의 교정용 및 치수 표준용으로 많은 실적이 있다.
또, 폴리사이언스사(Polyscience, Inc.)로부터 Microbead NIST Traceable Particle Size Standard 3.00 ㎛(형번 64060-15)를 또한 입수했다. 형번 64060-15의 입자는 현탁액으로서 제공되며, 입경의 분포는 2.85에서 3.15 ㎛, 재료는 폴리스티렌이다. 형번 64060-15의 입자는 표준 입자로서 입경 측정 장치의 교정용 및 치수 표준용으로 많은 실적이 있다.
(폴리스티렌 입자의 세정)
입수한 폴리스티렌 입자의 현탁액 1 mL를 마이크로 원심 튜브에 옮겨, 원심기(히타치고키가부시키가이샤, CT13R)를 이용하여 13,000 g으로 5분간 원심하여 상청을 제거했다. 이어서, 폴리스티렌 입자를 멸균 증류수에 재현탁했다. 그 후, 폴리스티렌 입자의 현탁액의 원심 및 재현탁을 2회 더 반복하여, 폴리스티렌 입자를 세정했다. 마지막으로 얻어진 폴리스티렌 입자 현탁액의 용매인 멸균 증류수의 체적은 0.5 mL였다.
(미생물의 입수)
입수한 미생물은 대장균(Escherichia coli, 약칭 E. coli, ATCC 13706), 표피포도구균(Staphylococcus epidermidis, ATCC 12228), 고초균 아포( Bacillus atrophaeus, ATCC 9372), 마이크로코커스( Micrococcus lylae, ATCC 27566), 코리네박테리움(Corynebacterium afermentans, ATCC 51403) 및 아스페르길루스(Aspergillus niger, 약칭 A. niger, ATCC9142)였다. 한편, ATCC는 미국배양세포계통보존기관(American Type Culture Collection)의 약칭이다.
대장균은 그램 음성균이다. 표피포도구균, 고초균 아포, 마이크로코커스, 및 코리네박테리움은 그램 양성균이다. 아스페르길루스는 누룩곰팡이라고도 불리며, 곰팡이 포자의 일종이다.
(미생물의 조제 방법)
대장균, 표피포도구균 및 마이크로코커스를 3 mL의 트립틱 소이 액체 배지(Becton, Dickinson and Company, Ref : 211825)에 식균하여, 32℃에서 하룻밤 호기적으로 배양했다. 대장균, 표피포도구균 및 마이크로코커스를 한천 배지에서 더 배양하는 경우는, 균액을 트립틱 소이 한천 배지(에이켄가가쿠가부시키가이샤, E-MP25) 상에 획선하여, 32℃에서 하룻밤 호기적으로 배양했다.
코리네박테리움을 배양할 때에는, 액체 배지로서 R 배지(펩톤 10 g, 효모 엑기스 5 g, 맥아 엑기스 5 g, 카자미노산 5 g, 비프 엑기스 2 g, 글리세린 2 g, 트윈 80 50 mg, MgSO4·7H2O 1 g, 증류수 1 L, pH 7.2), 한천 배지로서 양 혈액 한천 배지(에이켄가가쿠가부시키가이샤 M-58)를 사용했다.
액체 배지로부터 미생물을 조제하는 경우, 원심기(구보타쇼지가부시키가이샤, 2410 혹은 히타치고키가부시키가이샤, CT13R)를 이용하여, 2,100 g으로 3분간 배양액을 원심하여 집균하고, 상청의 배지를 제거한 후, 미생물을 멸균 증류수에 재현탁했다. 그 후, 미생물의 현탁액의 원심 및 재현탁을 2회 더 반복하여 미생물을 세정했다. 마지막으로 얻어진 미생물 현탁액의 용매인 멸균 증류수의 체적은 3 mL였다.
한천 배지로부터 미생물을 조제하는 경우, 한천 배지 상의 콜로니를 긁어내어, 그것을 5 mL의 멸균 증류수 중에 현탁했다. 이어서, 현탁액을 가볍게 보텍스하여 미생물을 분산시킨 후, 2,100 g으로 3분간 현탁액을 원심하여 집균하고, 상청을 제거함으로써 미생물을 세정했다. 그 후, 미생물을 5 mL의 멸균 증류수에 재현탁했다.
고초균 아포에 대해서는, 시판되는 아포액(NORTH AMERICAN SCIENCE ASSOCIATES, Inc., SUN-07)을 사용했다.
아스페르길루스에 대해서는, 포테이토 덱스트로오스 한천 배지(가부시키가이샤아이사이언스, PM0002-1) 상에서 생육시켜 4℃ 보존하고 있었던 아스페르길루스를, 동 배지 상에 천자하여, 일주일 25℃에서 배양하여 포자 형성시켰다. 이어서, 디옥틸술포호박산나트륨 50 mg/L의 수용액을 포자 형성한 배양 플레이트 상에 약 10 mL 부어, 디스포저블 루프로 포자를 가볍게 어루만져 얇게 도려내어, 수용액 중에 분산시켰다. 포자가 분산된 수용액을 피펫으로 회수하고, 8장 겹친 멸균 가제로 여과하여 균사를 제거한 후, 여과액을 1,400 g으로 10분간 원심하여, 상청을 제거했다. 침전된 포자에 멸균 증류수를 10 mL 가하여, 세정한 후, 다시 같은 조건으로 원심했다. 이것을 3회 반복한 후, 5 mL의 멸균 증류수에 현탁하여 포자액으로 했다.
(형광 현미경에 의한 건조 조건 하에 있어서의 형광 강도의 측정)
폴리스티렌 입자 혹은 미생물의 현탁액을 슬라이드 유리에 적하하여, 암소에서 건조시킨 후, 형광 현미경(올림푸스주식회사 BX51)으로 관찰했다. 파장 340 nm 부근의 빛에 의한 여기에는 U-MWU2, 파장 405 nm 부근의 빛에 의한 여기에는 U-MNV2 미러 유닛을 사용했다. UMPlanFL x100 대물 렌즈를 사용함으로써, 커버 유리를 슬라이드 유리에 씌우지 않고서 폴리스티렌 입자 혹은 미생물을 관찰했다. 암시야 광로로부터의 미광은 DIC 슬라이더를 이용하여 컷트했다. 폴리스티렌 입자 혹은 미생물의 형광 화상 및 동 시야의 명시야 화상은 현미경에 접속된 DP-70 CCD 카메라(올림푸스주식회사)로 촬영했다.
촬영한 형광 화상은 화상 해석 소프트웨어 Image-Pro Plus 6.3J(Media Cybernetics, Inc.)를 사용하여, 8 비트 그레이 스케일 화상으로 변환하여, 형광 화상 내의 폴리스티렌 입자 혹은 미생물을 검출했다. 하나의 폴리스티렌 입자당 형광 강도는 화상 해석 소프트웨어가 입자라고 인식한 범위에 있는 화소의 그레이 스케일 값을 합계함으로써 산출했다. 이 때, 화상 내의, 입자를 포함하지 않는 임의 범위의 화소의 평균 그레이 스케일 값을 구하여, 이것을 백그라운드 값으로 하고, 입자라고 인식된 범위 내의 각각의 화소의 그레이 스케일 값으로부터 백그라운드 값을 뺌으로써 하나의 폴리스티렌 입자당 형광 강도를 보정했다. 또한, 복수의 폴리스티렌 입자의 응집체가 1 입자라고 인식된 경우는, 명시야 화상에 기초하여 입자수를 판별하고, 입자 응집체의 형광 강도를 입자수로 나눠, 하나의 폴리스티렌 입자당 평균 형광 강도를 구했다. 하나의 미생물당 형광 강도도 같은 수법에 의해 구했다.
파장이 405 nm 부근인 여기광을 이용한 경우의, 폴리스티렌 입자 및 미생물의 형광 강도 분포를 도 3, 도 4 및 도 5에 도시한다. 또한, 형번 PS05N/7508, 형번 PS06N/5623, 형번4203A 및 형번 4205A의 폴리스티렌 입자에 대해서 형광 강도의 분포로부터 산출한 95% 신뢰 구간의 그래프를 도 6에 도시한다. 도 3, 도 4 및 도 5에 도시한 것과 같이, 형번 5100A의 입자, 형번 4203A의 입자, 형번 PS04N/5749, 형번 PS06N/5623의 입자, 형번 PS05N/7508, 형번 SS-053-P 및 형번 64060-15의 입자는 미생물과 같은 강도의 형광을 발했다. 형번 5100A의 입자가 발한 형광의 강도는 코리네박테리움, 마이크로코커스 및 대장균이 발한 형광의 강도에 특히 가까웠다. 형번 PS04N/5749의 입자가 발한 형광의 강도는 대장균이 발한 형광의 강도에 특히 가까웠다. 형번 PS05N/7508의 입자가 발한 형광의 강도는 코리네박테리움, 마이크로코커스, 포도구균, 고초균 및 아스페르길루스의 각각이 발한 형광의 강도에 특히 가까웠다. 형번 PS06N/5623의 입자 및 형번 4203A의 입자의 각각이 발한 형광의 강도는 고초균 및 아스페르길루스의 각각이 발한 형광의 강도에 특히 가까웠다. 형번 SS-053-P의 입자가 발한 형광의 강도는 코리네박테리움, 마이크로코커스, 포도구균, 고초균 및 아스페르길루스의 각각이 발한 형광의 강도에 특히 가까웠다. 형번 64060-15의 입자가 발한 형광의 강도는 아스페르길루스가 발한 형광의 강도에 특히 가까웠다.
형번 3500A의 입자가 발한 형광의 강도는 미생물이 발한 형광의 강도보다 약했다. 형번 SS-104-P의 입자가 발한 형광의 강도는 미생물이 발한 형광의 강도보다 약간 강했다. 형번 4205A의 입자가 발한 형광의 강도는 미생물이 발한 형광의 강도보다 강했다.
또한, 파장이 405 nm 부근인 여기광 및 파장이 340 nm 부근인 여기광의 각각을 이용한 경우의 폴리스티렌 입자 및 미생물의 형광 강도의 분포를 도 7에 도시한다. 도 7에 도시하는 것과 같이, 여기광의 파장을 바꾸더라도 폴리스티렌 입자 및 미생물의 각각이 발하는 형광의 강도 변화는 현저하지 않았다.
(형광 현미경에 의한 형광 강도의 액 중 측정)
폴리스티렌 입자(형번 PS05N/7508, 형번 PS06N/5623, 형번 4203A, 형번 4205A)의 현탁액을 슬라이드 유리에 적하하고, 현탁액 상에 커버 유리를 씌워 현탁액을 건조시키지 않고서 형광 현미경(올림푸스주식회사 BX51)으로 관찰했다. 파장 405 nm 부근의 빛에 의한 여기에는 U-MNV2 미러 유닛을 사용했다. 대물 렌즈에는 UMPlanFL x100을 사용하여, 커버 유리를 씌운 채로 폴리스티렌 입자를 관찰했다. 암시야 광로로부터의 미광은 DIC 슬라이더를 이용하여 컷트했다. 폴리스티렌 입자의 형광 화상 및 동 시야의 명시야 화상은 현미경에 접속된 DP-70 CCD 카메라(올림푸스주식회사)로 촬영했다.
촬영한 형광 화상은 화상 해석 소프트웨어 Image-Pro Plus 6.3J(Media Cybernetics, Inc.)를 사용하여, 8 비트 그레이 스케일 화상으로 변환하여, 형광 화상 내의 폴리스티렌 입자를 검출했다. 하나의 폴리스티렌 입자당 형광 강도는 화상 해석 소프트웨어가 입자라고 인식한 범위에 있는 화소의 그레이 스케일 값을 합계함으로써 산출했다. 이 때, 화상 내의, 입자를 포함하지 않는 임의 범위의 화소의 평균 그레이 스케일 값을 구하여 이것을 백그라운드 값으로 하고, 입자라고 인식된 범위 내의 각각의 화소의 그레이 스케일 값으로부터 백그라운드 값을 뺌으로써 하나의 폴리스티렌 입자당 형광 강도를 보정했다. 또한, 복수의 폴리스티렌 입자의 응집체가 1 입자라고 인식된 경우는, 명시야 화상에 기초하여 입자수를 판별하고, 입자 응집체의 형광 강도를 입자수로 나눠, 하나의 폴리스티렌 입자당 평균 형광 강도를 구했다.
파장이 405 nm 부근인 여기광을 이용한 경우의 폴리스티렌 입자의 형광 강도의 분포를 도 8에 도시한다. 또한, 형광 강도의 분포로부터 산출한 95% 신뢰 구간의 그래프를 도 9에 도시한다. 액 중에서 관찰하면, 폴리스티렌 입자가 발하는 형광의 강도는 건조 조건 하일 때와 비교하여 전체적으로 낮아졌다. 그러나, 입자의 종류에 따른 형광 강도의 대소 관계는 건조 조건 하에서도 액 중 조건 하에서도 거의 일치했다. 예컨대, 도 6에 도시한 것과 같이, 건조 조건 하에서는 형번 PS05N/7508, 형번 PS06N/5623, 형번 4203A, 형번 4205A의 순으로 형광 강도가 강해지는 경향이 있었다. 이에 대하여, 도 9에 도시하는 것과 같이, 액 중에 있어서도 형번 PS05N/7508, 형번 PS06N/5623, 형번 4203A, 형번 4205A의 순으로 형광 강도가 강해지는 경향이 있었다. 미생물이 발하는 형광의 강도도 건조 조건 하와 비교하여 액 중에서는 전체적으로 저하된다. 따라서, 액 중에서도 폴리스티렌 입자의 형광 강도는 미생물의 형광 강도에 가깝게 된다.
(미생물 검출 장치에 의한 형광 강도의 측정)
미생물 검출 장치에 의한 형광 강도의 측정은 문헌(Journal of Aerosol Science, Vol. 42, 397-407, 2011)에 따랐다. 즉, HEPA 필터 유닛을 설치한 3 ㎥ 용량의 밀폐된 챔버 내에서, HEPA 필터 유닛을 운전하여, 챔버 내부의 공기를 청정 화했다. 그 후, 폴리스티렌 입자 혹은 미생물의 현탁액을 네블라이저(Salter Labs 제조 Ref8900)를 이용하여 5 L/min의 유량으로 20초 분무하여, 챔버 내의 공중에 부유시켰다. 그 후, 30초간 내부의 공기를 교반하여, 수적을 건조시키는 동시에 폴리스티렌 입자 혹은 미생물을 균일하게 확산시켰다. 그 후 60초간 미생물 검출 장치로서 공중 부유균 검출기(Azbil BioVigilant사 제조 IMD-A 300)로 챔버 내의 공기를 측정하여, 공기에 포함되는 폴리스티렌 입자 혹은 미생물을 검출했다. 검출한 폴리스티렌 입자 혹은 미생물의 형광 강도는 공중 부유균 검출기의 형광 검출기의 검지 전압치로서 얻어졌다.
공중 부유균 검출기로 측정한, 폴리스티렌 입자 및 미생물의 형광 강도의 분포를 도 10에 도시한다. 공중 부유균 검출기로 측정한 경우도 폴리스티렌 입자의 형광 강도가 미생물의 형광 강도에 가깝다는 것이 드러났다.
1 : 시험실 2 : 분무 장치
6 : 에어 클리너 10A, 10B, 10C, 10D : 교반 팬
11A, 11B : 급기 장치 20 : 미생물 검출 장치
21 : 케이스 22 : 제1 흡인 장치
23 : 노즐 24 : 제2 흡인 장치
25 : 광원 26 : 레이저광
27 : 형광 검출기

Claims (28)

  1. 클린 룸 또는 챔버의 내부 환경을 평가하는 미생물 검출 장치의 교정 방법으로서,
    빛이 조사되면 미생물이 발하는 자가 형광의 강도와 거의 동일한 강도의 자가 형광을 발하는 폴리스티렌 입자를 미생물 검출 장치에 넣는 것과,
    상기 미생물 검출 장치의 광원으로부터 상기 폴리스티렌 입자에 빛을 조사하여, 상기 폴리스티렌 입자로부터 발생한 자가 형광을 상기 미생물 검출 장치의 형광 검출기로 검출하는 것과,
    상기 검출한 자가 형광의 강도에 기초하여 상기 미생물 검출 장치를 교정하는 것을 포함하는 미생물 검출 장치의 교정 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 폴리스티렌 입자가 폴리스티렌으로 이루어지는 미생물 검출 장치의 교정 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 폴리스티렌 입자가 폴리스티렌과 디비닐벤젠으로 이루어지는 미생물 검출 장치의 교정 방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 폴리스티렌 입자가 98 질량%의 폴리스티렌과 2질량%의 디비닐벤젠으로 이루어지는 미생물 검출 장치의 교정 방법.
  5. 제2항에 있어서, 상기 폴리스티렌 입자의 직경이 0.75 ㎛ 이상 10 ㎛ 미만인 미생물 검출 장치의 교정 방법.
  6. 제3항 또는 제4항에 있어서, 상기 폴리스티렌 입자의 직경이 0.75 ㎛ 이상 7.5 ㎛ 이하인 미생물 검출 장치의 교정 방법.
  7. 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 빛이 가시광인 미생물 검출 장치의 교정 방법.
  8. 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 빛의 파장이 400 내지 410 nm인 미생물 검출 장치의 교정 방법.
  9. 제1항 내지 제5항 중의 어느 하나의 항에 있어서, 상기 빛이 자외광인 미생물 검출 장치의 교정 방법.
  10. 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 빛의 파장이 310 내지 380 nm의 범위 내인 미생물 검출 장치의 교정 방법.
  11. 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 미생물이 세균을 포함하는 미생물 검출 장치의 교정 방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 세균이, 대장균을 포함하는 그램 음성균과, 표피포도구균, 고초균 아포, 마이크로코커스 및 코리네박테리움을 포함하는 그램 양성균과, 곰팡이 포자를 포함하는 진균으로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상인 미생물 검출 장치의 교정 방법.
  13. 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 미생물 검출 장치의 광원으로부터 상기 폴리스티렌 입자에 빛을 조사함에 있어서, 상기 폴리스티렌 입자가 건조되어 있는 미생물 검출 장치의 교정 방법.
  14. 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 미생물 검출 장치의 광원으로부터 상기 폴리스티렌 입자에 빛을 조사함에 있어서, 상기 폴리스티렌 입자가 액체 중에 존재하는 미생물 검출 장치의 교정 방법.
  15. 빛이 조사되면 미생물이 발하는 자가 형광의 강도와 거의 동일한 강도의 자가 형광을 발하는 폴리스티렌 입자를 구비한, 클린 룸 또는 챔버의 내부 환경을 평가하는 미생물 검출 장치의 교정 키트.
  16. 제15항에 있어서, 상기 폴리스티렌 입자가 폴리스티렌으로 이루어지는 미생물 검출 장치의 교정 키트.
  17. 제15항에 있어서, 상기 폴리스티렌 입자가 폴리스티렌과 디비닐벤젠으로 이루어지는 미생물 검출 장치의 교정 키트.
  18. 제15항에 있어서, 상기 폴리스티렌 입자가 98 질량%의 폴리스티렌과 2 질량%의 디비닐벤젠으로 이루어지는 미생물 검출 장치의 교정 키트.
  19. 제16항에 있어서, 상기 폴리스티렌 입자의 직경이 0.75 ㎛ 이상 10 ㎛ 미만인 미생물 검출 장치의 교정 키트.
  20. 제17항 또는 제18항에 있어서, 상기 폴리스티렌 입자의 직경이 0.75 ㎛ 이상 7.5 ㎛ 이하인 미생물 검출 장치의 교정 키트.
  21. 제15항 내지 제19항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 빛이 가시광인 미생물 검출 장치의 교정 키트.
  22. 제15항 내지 제19항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 빛의 파장이 400 내지 410 nm인 미생물 검출 장치의 교정 키트.
  23. 제15항 내지 제19항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 빛이 자외광인 미생물 검출 장치의 교정 키트.
  24. 제15항 내지 제19항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 빛의 파장이 310 내지 380 nm의 범위 내인 미생물 검출 장치의 교정 키트.
  25. 제15항 내지 제19항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 미생물이 세균을 포함하는 미생물 검출 장치의 교정 키트.
  26. 제25항에 있어서, 상기 세균이, 대장균을 포함하는 그램 음성균과, 표피포도구균, 고초균 아포, 마이크로코커스 및 코리네박테리움을 포함하는 그램 양성균과, 곰팡이 포자를 포함하는 진균으로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상인 미생물 검출 장치의 교정 키트.
  27. 제15항 내지 제19항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리스티렌 입자가, 건조되어 있는 상태에서 빛이 조사되면, 건조되어 있는 상태의 미생물이 발하는 자가 형광의 강도와 거의 동일한 강도의 자가 형광을 발하는 미생물 검출 장치의 교정 키트.
  28. 제15항 내지 제19항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리스티렌 입자가, 액체 중에서 빛이 조사되면, 액 중의 미생물이 발하는 자가 형광의 강도와 거의 동일한 강도의 자가 형광을 발하는 미생물 검출 장치의 교정 키트.
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