KR101476721B1 - 다기능 로드 포트 장치 - Google Patents

다기능 로드 포트 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101476721B1
KR101476721B1 KR20130005853A KR20130005853A KR101476721B1 KR 101476721 B1 KR101476721 B1 KR 101476721B1 KR 20130005853 A KR20130005853 A KR 20130005853A KR 20130005853 A KR20130005853 A KR 20130005853A KR 101476721 B1 KR101476721 B1 KR 101476721B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
wafer storage
unit
port
gas
wafer
Prior art date
Application number
KR20130005853A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20130125289A (ko
Inventor
김봉호
Original Assignee
주식회사 엘에스테크
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 엘에스테크 filed Critical 주식회사 엘에스테크
Publication of KR20130125289A publication Critical patent/KR20130125289A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101476721B1 publication Critical patent/KR101476721B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67772—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving removal of lid, door, cover
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735—Closed carriers
    • H01L21/67389—Closed carriers characterised by atmosphere control
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67775—Docking arrangements

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

본 발명의 일실시 예에 따른 다기능 로드 포트 장치는, 상기 웨이퍼 수납부를 안착시키거나 상기 웨이퍼 수납부와 분리되면서 안착된 상기 웨이퍼 수납부를 지지하는 포트 스테이지부와; 상기 포트 스테이지부의 하단에 배치되면서 소정의 높이와 면적을 가지면서 상기 포트 스테이지부를 고정하는 포트 본체부와, 상기 포트 본체부의 내부에 배치되면서 상기 포트 스테이지부에 돌출되어 형성되고, 상기 포트 스테이지부에 상기 웨이퍼 수납부가 안착되면 상기 웨이퍼 수납부에 주입가스를 주입하는 가스 주입부와, 상기 포트 본체부의 내부에 배치되면서 상기 포트 스테이지부에 돌출되어 형성되고, 상기 포트 스테이지부에 상기 웨이퍼 수납부가 안착되면 상기 웨이퍼 수납부의 내부에 있는 배출가스를 배출하는 가스 배출부와, 상기 가스 배출부에 배치되어 상기 배출가스에 포함된 불순물을 센싱하는 불순물센싱부, 및 상기 포트 스테이지부의 하단에 배치되어 상기 포트 스테이지부에 상기 웨이퍼 수납부가 안착되면 상기 웨이퍼 수납부에 대한 차압을 센싱하여 상기 웨이퍼 수납부의 상태를 체크할 수 있는 차압센싱부를 포함하는 로드 포트부를 포함하는 통상의 다기능 로드 포트 장치에 있어서, 상기 로드 포트부는 상기 웨이퍼 수납부가 상기 포트 스테이지부에 안착되는 동안 상기 웨이퍼 수납부에 체결되어 상기 배출가스를 배출하는 배출가스관에 소정의 압력으로 펌핑하여 상기 웨이퍼 수납부와 상기 배출가스관 간의 차압을 유지하는 터보펌핑부;를 더 포함하고, 상기 가스 배출부는 상기 웨이퍼 수납부에 상기 주입가스를 지속적으로 주입하는 상태에서 상기 배출가스가 배출되는 배출양을 체크하여 상기 배출가스가 배출되는 상기 배출양이 기준양 이하일 경우, 상기 웨이퍼 수납부의 상태를 점검하도록 하는 제2 점검신호를 출력하는 것을 특징으로 한다.

Description

다기능 로드 포트 장치{MULTIFUNCTIONAL LORD PORT APPARATUS}
본 발명은 다기능 로드 포트 장치에 관한 것으로, 반도체 제조 공정 중에서 공정 진행 전에 반드시 거쳐야 하는 로드 포트(Load Port)에 다양한 기능을 부여하여, 전/후공정의 공정시 발생한 Fume제거 및 개선과 웨이퍼 수납부의 내부의 수분 및 산소 제거 및 세척 기능 등을 부여하여 수율 향상 및 생산성 향상시킬 수 있는 다기능 로드 포트 장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자는 웨이퍼 상에 증착 공정, 연마 공정, 포토리소그래피 공정, 식각 공정, 이온주입 공정, 세정 공정, 검사 공정, 열처리 공정 등이 선택적이면서도 반복적으로 수행되어 제조되며, 이렇게 반도체 소자로 형성되기 위하여 웨이퍼는 각 공정에서 요구되는 특정 위치로 운반되어 진다.
반도체 제조 공정 시에, 가공되는 웨이퍼는 고정밀도의 물품으로 보관 및 운반 시 외부의 오염 물질과 충격으로부터 오염되거나 손상되지 않도록 개구 통합형 포드(Front Opening Unified Pod;FOUP)와 같은 웨이퍼 수납 용기에 수납되어 이송하였다.
이와 같이, 웨이퍼 이송 장치 내로 유입되는 공기는 필터링되어 여과되지만, 밀폐된 풉(FOUP) 내는 필터링되지 않은 공기가 존재하였다. 이러한 공기는 산소(O2), 수분(H2O), 그리고 오존(O3)과 같은 분자성 오염물질들을 포함하고 있다.
따라서 밀폐된 풉(FOUP) 내에 존재하는 산소 함유의 가스오염물질들은 밀폐된 풉(FOUP) 내의 웨이퍼 표면을 자연 산화시켜 웨이퍼 상에 자연 산화막(natural oxide)을 형성하였다. 이러한 자연 산화막은 경우에 따라서 양품의 반도체 생산을 저해하는 원인으로 작용하였으며, 밀폐된 풉(FOUP)의 내부 상대 습도가 40%~50%로 놓일 경우, 웨이퍼의 자연 산화막이 활성화됨으로 인해 공정 특성을 변화시켜 반도체 품질을 저하시키는 문제점이 발생하였다.
게다가 반도체 선폭이 작아짐에 따라 패턴과 패턴 사이 혹은 홀의 크기가 작아지고 깊이가 깊어졌다. 이에 따라, 웨이퍼 표면에 Fume등이 흡착 될 수 있는 환경이 급격하게 조성되었고, 공정 전/후 FOUP내에 Fume 농도의 현격한 증가를 야기하여 공정 특성 및 품질을 저하시키는 문제점이 발생하였다.
본 발명은 상술한 바와 같은 종래기술의 문제점들을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 밀폐된 풉(FOUP) 내에 존재하는 산소 및 수분, 가스오염물질들을 로드 포트에서도 효율적으로 제거함으로써, 웨이퍼 표면상의 증착 이물을 효율적으로 제거할 뿐 아니라 웨이퍼 수납부(FOUP) 표면상의 증착 이물을 효율적으로 제거 할 수 있는 다기능 로드 포트 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 일실시 예에 따른 다기능 로드 포트 장치는, 상기 웨이퍼 수납부를 안착시키거나 상기 웨이퍼 수납부와 분리되면서 안착된 상기 웨이퍼 수납부를 지지하는 포트 스테이지부와; 상기 포트 스테이지부의 하단에 배치되면서 소정의 높이와 면적을 가지면서 상기 포트 스테이지부를 고정하는 포트 본체부와, 상기 포트 본체부의 내부에 배치되면서 상기 포트 스테이지부에 돌출되어 형성되고, 상기 포트 스테이지부에 상기 웨이퍼 수납부가 안착되면 상기 웨이퍼 수납부에 상기 주입가스를 주입하는 가스 주입부와, 상기 포트 본체부의 내부에 배치되면서 상기 포트 스테이지부에 돌출되어 형성되고, 상기 포트 스테이지부에 상기 웨이퍼 수납부가 안착되면 상기 웨이퍼 수납부의 내부에 있는 상기 배출가스를 배출하는 가스 배출부와, 상기 가스 배출부에 배치되어 상기 배출가스에 포함된 불순물을 센싱하는 불순물센싱부, 및 상기 포트 스테이지부의 하단에 배치되어 상기 포트 스테이지부에 상기 웨이퍼 수납부가 안착되면 상기 웨이퍼 수납부에 대한 차압을 센싱하여 상기 웨이퍼 수납부의 상태를 체크할 수 있는 차압센싱부를 포함하는 로드 포트부를 포함하는 통상의 다기능 로드 포트 장치에 있어서, 상기 로드 포트부는 상기 웨이퍼 수납부가 상기 포트 스테이지부에 안착되는 동안 상기 웨이퍼 수납부에 체결되어 상기 배출가스를 배출하는 배출가스관에 소정의 압력으로 펌핑하여 상기 웨이퍼 수납부와 상기 배출가스관 간의 차압을 유지하는 터보펌핑부;를 더 포함하고, 상기 가스 배출부는 상기 웨이퍼 수납부에 상기 주입가스를 지속적으로 주입하는 상태에서 상기 배출가스가 배출되는 배출양을 체크하여 상기 배출가스가 배출되는 상기 배출양이 기준양 이하일 경우, 상기 웨이퍼 수납부의 상태를 점검하도록 하는 제2 점검신호를 출력하는 것을 특징으로 한다.
또한, 차압센싱부는 웨이퍼 수납부에 주입가스를 가득 주입한 상태의 제1 압력과 웨이퍼 수납부로부터 배출가스가 배출된 상태의 제2 압력 간의 차이를 비교하여 웨이퍼 수납부의 상태를 체크할 수 있는 것을 포함할 수 있다.
삭제
또한, 불순물센싱부는 배출가스에 포함된 불순물을 센싱하되, 불순물이 기준값 이상으로 센싱되면, 웨이퍼 수납부의 상태를 점검하도록 하는 제1 점검신호를 출력하는 것을 포함할 수 있다.
삭제
또한, 로드 포트부의 외측일면 상단에 배치되어 가스 주입부, 가스 배출부, 불순물 센싱부, 차압센싱부 및 터보펌핑부를 선택하여 턴 온시키거나 턴 오프시킬 수 있는 버튼이 적어도 하나 이상 배치되는 선택버튼부를 포함할 수 있다.
또한, 웨이퍼 수납부의 하단에는 적어도 하나 이상의 장착홀이 형성되고, 포트 스테이지부에는 장착홀과 대응되는 위치에 장착돌기가 형성되는 것을 포함할 수 있다.
또한, 로드 포트부와 연결되어 포트 스테이지부에 웨이퍼 수납부가 안착되는 과정, 포트 스테이지부에 안착된 웨이퍼 수납부에 주입가스가 주입되는 과정, 포트 스테이지부에 안착된 웨이퍼 수납부에 배출가스가 배출되는 과정, 배출가스의 불순물을 센싱하는 과정, 웨이퍼 수납부에 대한 차압을 센싱하는 과정과 웨이퍼 수납부를 펌핑하는 과정을 모니터링할 수 있는 FOUP모니터링부를 포함할 수 있다.
또한, FOUP모니터링부는 모니터링되는 것에 대한 정보를 원거리에 있는 관리센터부와 송수신할 수 있는 관리통신부를 포함하고, 관리센터부에서 제공하는 기준값 또는 기준양에 대한 정보를 제공받아 기준값 또는 기준양을 설정할 수 있는 것을 포함할 수 있다.
또한, FOUP모니터링부는 터치 스크린으로 형성되어 기준값 또는 기준양에 대한 값을 직접 입력하여 기준값 또는 기준양을 설정할 수 있는 것을 포함할 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따른 다기능 로드 포트 장치는 반도체 제조 공정 중에서 공정 진행 전에 반드시 거쳐야 하는 로드 포트(Load Port)에 다양한 기능을 부여함으로써, 전/후공정의 공정 개선과 웨이퍼 수납부의 내부의 수분 및 산소 제거 및 세척 기능을 할 수 있어 수율과 생산성 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일실시 예에 따른 다기능 로드 포트 장치의 블럭도.
도 2는 본 발명의 일실시 예에 따른 다기능 로드 포트 장치에 대한 간략도.
도 3은 본 발명의 일실시 예에 따른 다기능 로드 포트 장치 중 포트 스테이지부에 대한 간략도.
도 4는 본 발명의 일실시 예에 따른 다기능 로드 포트 장치 중 가스주입부, 불순물센싱부와 터보펌핑부에 대한 간략도.
도 5는 본 발명의 일실시 예에 따라 웨이퍼 수납부가 로드 포트부에 장착한 것에 대한 간략도.
도 6은 본 발명의 일실시 예에 따라 FOUP모니터링부가 디스플레이되는 것을 나타낸 도.
이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하되, 본 발명에 따른 동작 및 작용을 이해하는데 필요한 부분을 중심으로 설명한다.
도 1은 본 발명의 일실시 예에 따른 다기능 로드 포트 장치의 블럭도이고, 도 2는 본 발명의 일실시 예에 따른 다기능 로드 포트 장치에 대한 간략도이고, 도 3은 본 발명의 일실시 예에 따른 다기능 로드 포트 장치 중 포트 스테이지부에 대한 간략도이고, 도 4는 본 발명의 일실시 예에 따른 다기능 로드 포트 장치 중 불순물센싱부와 터보펌핑부에 대한 간략도이고, 도 5는 본 발명의 일실시 예에 따라 웨이퍼 수납부가 로드 포트부에 장착한 것에 대한 간략도이고, 도 6은 본 발명의 일실시 예에 따라 FOUP모니터링부가 디스플레이되는 것을 나타낸 도이다.
도 1 내지 6을 살펴보면 본 발명의 일실시 예에 따른 다기능 로드 포트 장치(100)는 웨이퍼 수납부(110)와 로드 포트부(130)를 포함하여 구성될 수 있다.
웨이퍼 수납부(110)는 적어도 하나 이상의 웨이퍼(미도시)를 수납한다. 즉, 웨이퍼 수납부(110)는 적어도 하나 이상의 웨이퍼(미도시)를 수납하고, 하단에는 주입가스가 주입될 수 있는 수납주입홀(미도시)과 내부에 형성되어 있는 배출가스를 배출하는 수납배출홀(미도시)이 형성된다.
이러한 웨이퍼 수납부(110)는 적어도 하나 이상의 웨이퍼를 수납할 수 있도록 실질적으로 직육면체 형상으로 형성될 수 있다. 또한, 웨이퍼 수납부(110)는 도어(미도시)를 포함함으로써, 웨이퍼 수납부(110)에 유입되는 불순물 기체를 차단하는 동시에 웨이퍼(미도시)를 용이하게 반입하거나 반출할 수 있다.
로드 포트부(130)는 웨이퍼 수납부(110)를 안착시키거나 웨이퍼 수납부(110)와 분리되면서 안착된 웨이퍼 수납부(110)를 지지하고 적어도 하나 이상의 주입가스를 웨이퍼 수납부(110)에 주입하거나 웨이퍼 수납부(110)의 내부에 형성된 다양한 배출가스를 배출시킨다. 이러한 로드 포트부(130)는 포트 스테이지부(131), 포트 본체부(133), 가스 주입부(135), 가스 배출부(137), 불순물센싱부(139) 및 차압센싱부(141)를 포함하여 구성된다.
포트 스테이지부(131)는 웨이퍼 수납부(110)를 안착시키거나 웨이퍼 수납부(110)와 분리되면서 안착된 웨이퍼 수납부(110)를 지지한다. 이러한 포트 스테이지부(131)는 웨이퍼 수납부(110)가 안정적으로 안착되도록 웨이퍼 수납부(110)의 하단보다 더 넓은 면적으로 형성될 수 있다.
또한, 포트 스테이지부(131)에는 웨이퍼 수납부(110)가 안착되는 영역과 중첩되는 영역에 가스 주입부(135), 가스 배출부(137) 및 장착돌기(147b)가 형성될 수 있다. 차압센싱부(141), 가스 주입부(135), 가스 배출부(137)에 대한 자세한 설명은 후술하기로 한다.
장착돌기(147b)는 포트 스테이지부(131)에 일정한 높이로 돌출되어 형성되며, 웨이퍼 수납부(110)의 하단에 형성된 적어도 하나 이상의 장착홀(147a)에 삽입되어 체결될 수 있다. 즉, 장착돌기(147b)는 장착홀(147a)과 대응되는 위치에 형성될 수 있다.
이와 같이, 장착돌기(147b)와 장착홀(147a)이 형성됨으로써, 포트 스테이지부(131)에 안착된 웨이퍼 수납부(110)가 움직이거나 미끄러지는 것을 미연에 방지할 수 있다. 따라서 포트 스테이지부(131)에 웨이퍼 수납부(110)가 더욱 안정적으로 안착될 수 있다.
포트 본체부(133)는 포트 스테이지부(131)의 하단에 배치되면서 소정의 높이와 면적을 가지면서 포트 스테이지부(131)를 고정한다. 이러한 포트 본체부(133)는 실질적으로 직육면체 형상으로 형성될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니며, 포트 스테이지부(131)의 하단에 배치되어 포트 스테이지부(131)를 고정하고, 후술한 가스 주입부(135), 가스 배출부(137), 불순물센싱부(139) 및 차압센싱부(141)를 내/외부에 배치할 수 있다면 어떠한 형상이라도 무관할 수 있다.
가스 주입부(135)는 포트 본체부(133)의 내부에 배치되면서 포트 스테이지부(131)로부터 돌출되어 형성되고, 포트 스테이지부(131)에 웨이퍼 수납부(110)가 안착되면 웨이퍼 수납부(110)에 주입가스를 주입한다. 이러한 가스 주입부(135)의 일단은 포트 스테이지부(131)로부터 일정한 높이로 돌출되어 형성되며, 타단은 포트 스테이지부(131)의 내부에 형성되되, 주입가스관(135a)과 물리적으로 연결될 수 있다. 이때 가스 주입부(135)는 돌출된 부분이 웨이퍼 수납부(110)에 삽입될 수 있다. 이에 따라, 가스 주입부(135)는 주입가스 공급부(미도시)에서 공급되는 주입가스를 주입가스관(135a)을 통해 제공받아 웨이퍼 수납부(110)에 주입할 수 있다.
가스 배출부(137)는 포트 본체부(133)의 내부에 배치되면서 포트 스테이지부(131)에 돌출되어 형성되고, 포트 스테이지부(131)에 웨이퍼 수납부(110)가 안착되면 웨이퍼 수납부(110)의 내부에 있는 배출가스를 배출한다. 이러한 가스 배출부(137)의 일단은 포트 스테이지부(131)에 일정한 높이로 돌출되어 형성되며, 타단은 포트 스테이지부(131)의 내부에 형성되되, 배출가스관(137b)과 물리적으로 연결될 수 있다. 가스 배출부(137)는 웨이퍼 수납부(110)의 내부에 형성된 배출가스를 배출가스관(137b)을 통해 터보펌핑부(143)에 제공할 수 있다.
또한, 가스 배출부(137)는 웨이퍼 수납부(110)에 주입가스를 지속적으로 주입하는 상태에서 배출가스가 배출되는 배출양을 체크하여 배출가스가 배출되는 배출양이 기준양 이하일 경우, 웨이퍼 수납부(110)의 상태를 점검하도록 하는 제2 점검신호를 출력할 수 있다. 즉, 배출가스가 가스 배출부(137)를 통해 배출되는 배출양이 기준양 이하이면, 노후된 웨이퍼 수납부(110)이거나, 패킹 파손의 의한 Sealing 불량에 의해 웨이퍼 수납부(110)가 불량일 확률이 높을 수 있다. 이에 따라 제2 점검신호를 출력함으로써, 웨이퍼 수납부(110)의 불량여부를 용이하게 판별할 수 있다.
불순물센싱부(139)는 가스 배출부(137)에 배치되어 배출가스에 포함된 불순물을 센싱한다. 이러한 불순물센싱부(139)는 배출가스에 포함된 불순물을 센싱하되, 불순물이 기준값 이상으로 센싱되면, 불순물이 기준값 이하로 센싱될 때까지 가스 주입과 가스 배출을 유지토록 하는 제1 점검신호를 출력할 수 있다. 즉, 배출가스에 포함된 불순물이 기준값 이상이 센싱되면, 웨이퍼 혹은 수납부 내에 불순물이 파손의 의한 Sealing 불량에 의해 웨이퍼 수납부(110)에 불순물이 유입되었다고 판단될 수 있다. 또는 전 공정에서 과다하게 발생한 불순물이 제거되는 과정에 있다고 판단할 수도 있다. 다시 말해, 웨이퍼 수납부(110)가 불량일 수 있거나,전 공정이 불안정한 확률이 높을 수 있다. 이에 따라 제1 점검신호를 출력함으로써, 웨이퍼 수납부(110)의 불량여부 혹은 전 공정 불안정 등을 용이하게 판별할 수 있다.
또한, 불순물센싱부(139)를 이용하여 불순물을 용이하게 센싱함으로써, Dry Cleaning Cycle 횟수를 효율적으로 확인할 수 있을 뿐만 아니라 센싱된 불순물을 분석하여 각 Step의 공정 시간을 최적화할 수 있다.
차압센싱부(141)는 포트 스테이지부(131)의 하단에 배치되어 포트 스테이지부(131)에 웨이퍼 수납부(110)가 안착되면 웨이퍼 수납부(110)에 대한 압력을 센싱하여 웨이퍼 수납부(110)의 상태를 체크할 수 있다.
또한, 로드 포트부(130)는 웨이퍼 수납부(110)가 포트 스테이지부(131)에 안착되는 동안 웨이퍼 수납부(110)에 체결되어 배출가스를 배출하는 배출가스관(137b)에 소정의 압력으로 펌핑하여 웨이퍼 수납부(110)와 배출가스관(137b) 간의 차압을 통해 웨이퍼 수납부(110)의 내부표면에 흡착되는 습기와 산소, Fume과 잔존가스를 제거하는 터보펌핑부를 포함할 수 있다.
이러한 터보펌핑부(143)는 가스 배출부(137)에 연결되어 배출가스관(137b)에 소정의 압력으로 펌핑하여 빠르게 배출가스를 배기함으로써, 웨이퍼 수납부(110)와 배출가스관(137b) 간에 상대적으로 압력의 차이가 발생될 수 있다.
즉, 터보펌핑부(143)는 배출가스관(137b)에 소정의 압력으로 펌핑하여 배출가스를 다른 장치 또는 외부로 배기함으로써, 배출가스관(137b)의 내부 압력이 웨이퍼 수납부(110)의 내부 압력보다 상대적으로 낮아질 수 있다. 이에 따라, 웨이퍼 수납부(110)의 내부 압력이 배출가스관(137b)의 내부 압력보다 높은 압력을 유지할 수 있다.
이와 같이, 웨이퍼 수납부(110)의 내부 압력이 배출가스관(137b)의 내부 압력보다 상대적으로 높은 압력을 유지함으로써, 높은 압력에서 낮은 압력으로 배출가스가 빠르게 이동할 수 있다. 따라서, 웨이퍼 수납부(110)에서 배출가스관(137b)으로 배출가스가 빠르게 유입할 수 있다.
이러한 압력의 차이로 인해 웨이퍼 수납부(110)의 내부에 잔존하는 배출가스가 빠르게 가스 배출부(137)로 유입되어 배기될 수 있다. 이에 따라, 웨이퍼 수납부(110)의 내부표면에 흡착되는 습기와 산소, Fume과 잔존가스가 효율적으로 제거될 수 있다.
또한, 로드 포트부(130)의 외측일면 상단에 배치되어 가스 주입부(135), 가스 배출부(137), 불순물센싱부(139), 차압센싱부(141) 및 터보펌핑부(143)를 선택하여 턴 온(turn on)시키거나 턴 오프(turn off)시킬 수 있는 버튼(145a)이 적어도 하나 이상 배치되는 선택버튼부(145)를 포함할 수 있다. 이러한 선택버튼부(145)는 반도체 공정 시스템에 따라 다르게 배치될 수 있으며, 전원버튼, 리셋버튼, 시작버튼, 정지버튼 등등 다양한 버튼(145a)을 포함하여 배치될 수 있다.
또한, 선택버튼부(145)는 가스 주입부(135)를 통해 주입가스가 주입되는 시간, 가스 배출부(137)를 통해 배출가스가 배출되는 시간 등을 디스플레이할 수 있는 타이머(145b)를 적어도 하나 이상 배치할 수 있다.
또한, 로드 포트부(130)와 연결되어 웨이퍼 수납부(110)가 포트 스테이지부(131)에 안착되어 동작하는 모든 과정을 모니터링할 수 있는 FOUP모니터링부(210)를 포함할 수 있다. 이러한 FOUP모니터링부(210)는 로드 포트부(130)와 전기적으로 연결되어 포트 스테이지부(131)에 웨이퍼 수납부(110)가 안착되는 과정, 포트 스테이지부(131)에 안착된 웨이퍼 수납부(110)에 주입가스가 주입되는 과정, 포트 스테이지부(131)에 안착된 웨이퍼 수납부(110)에 배출가스가 배출되는 과정, 배출가스의 불순물을 센싱하는 과정, 웨이퍼 수납부(110)에 대한 차압을 센싱하는 과정 및 웨이퍼 수납부(110)에 펌핑하는 과정을 모니터링할 수 있다. 도 6에 도시된 바와 같이, FOUP모니터링부(210)는 포트 스테이지부(131)에 안착된 웨이퍼 수납부(110)에 주입가스가 주입되는 과정과 포트 스테이지부(131)에 안착된 웨이퍼 수납부(110)에 배출가스가 배출되는 과정을 그래프를 통해 용이하게 디스플레이할 수 있다.
또한, FOUP모니터링부(210)는 모니터링되는 것에 대한 정보를 원거리에 있는 관리센터부(230)와 송수신할 수 있는 관리통신부(211)를 포함하고, 관리센터부(230)에서 제공하는 기준값 또는 기준양에 대한 정보를 제공받아 기준값 또는 기준양을 설정할 수 있는 것을 포함할 수 있다. 즉, 관리센터부(230)에서 웨이퍼 수납부(110)가 포트 스테이지에 안착되어 동작하는 모든 과정을 모니터링하면서 주변 환경 또는 제품에 알맞도록 기준값 또는 기준양을 다르게 설정할 수 있다.
또한, FOUP모니터링부(210)는 터치스크린으로 형성되어 기준값 또는 기준양에 대한 값을 직접 입력하여 기준값 또는 기준양을 설정할 수 있다. 이때, 도시되지 않았지만 FOUP모니터링부(210)는 입력장치를 따로 형성할 수 있다. 즉, 입력장치를 통해 기준값 또는 기준양에 대한 값을 직접 입력하여 기준값 또는 기준양을 설정할 수도 있다.
여기서 기준값과 기준양은 관리센터부(230)를 통해 원거리통신 또는 네트워크 통신, 수동입력 등등 다양한 방법으로 설정할 수 있다.
한편 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시 예에 관해 설명하였으나, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 물론이다. 그러므로 본 발명의 범위는 설명된 실시 예에 국한되어 정해져서는 안되며 후술하는 특허청구의 범위뿐만 아니라 이 특허청구의 범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
110: 웨이퍼 수납부 130: 로드 포트부
131: 포트 스테이지부 133: 포트 본체부
135: 가스 주입부 137: 가스 배출부
139: 불순물센싱부 141: 차압센싱부
143: 터보펌핑부 145: 선택버튼부
147a: 장착홀 147b: 장착돌기
210: FOUP모니터링부 211: 관리통신부
230: 관리센터부

Claims (10)

  1. 적어도 하나 이상의 웨이퍼를 수납하는 웨이퍼 수납부와;
    상기 웨이퍼 수납부를 안착시키거나 상기 웨이퍼 수납부와 분리되면서 안착된 상기 웨이퍼 수납부를 지지하는 포트 스테이지부와, 상기 포트 스테이지부의 하단에 배치되면서 소정의 높이와 면적을 가지면서 상기 포트 스테이지부를 고정하는 포트 본체부와, 상기 포트 본체부의 내부에 배치되면서 상기 포트 스테이지부에 돌출되어 형성되고, 상기 포트 스테이지부에 상기 웨이퍼 수납부가 안착되면 상기 웨이퍼 수납부에 주입가스를 주입하는 가스 주입부와, 상기 포트 본체부의 내부에 배치되면서 상기 포트 스테이지부에 돌출되어 형성되고, 상기 포트 스테이지부에 상기 웨이퍼 수납부가 안착되면 상기 웨이퍼 수납부의 내부에 있는 배출가스를 배출하는 가스 배출부와, 상기 가스 배출부에 배치되어 상기 배출가스에 포함된 불순물을 센싱하는 불순물센싱부, 및 상기 포트 스테이지부의 하단에 배치되어 상기 포트 스테이지부에 상기 웨이퍼 수납부가 안착되면 상기 웨이퍼 수납부에 대한 차압을 센싱하여 상기 웨이퍼 수납부의 상태를 체크할 수 있는 차압센싱부를 포함하는 로드 포트부를 포함하는 통상의 다기능 로드 포트 장치에 있어서,
    상기 로드 포트부는 상기 웨이퍼 수납부가 상기 포트 스테이지부에 안착되는 동안 상기 웨이퍼 수납부에 체결되어 상기 배출가스를 배출하는 배출가스관에 소정의 압력으로 펌핑하여 상기 웨이퍼 수납부와 상기 배출가스관 간의 차압을 유지하는 터보펌핑부를 더 포함하고,
    상기 가스 배출부는 상기 웨이퍼 수납부에 상기 주입가스를 지속적으로 주입하는 상태에서 상기 배출가스가 배출되는 배출양을 체크하여 상기 배출가스가 배출되는 상기 배출양이 기준양 이하일 경우, 상기 웨이퍼 수납부의 상태를 점검하도록 하는 제2 점검신호를 출력하는 다기능 로드 포트 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 차압센싱부는
    상기 웨이퍼 수납부에 상기 주입가스를 가득 주입한 상태의 제1 압력과 상기 웨이퍼 수납부로부터 상기 배출가스가 배출된 상태의 제2 압력 간의 차이를 비교하여 상기 웨이퍼 수납부의 상태를 체크할 수 있는 다기능 로드 포트 장치.
  3. 삭제
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 불순물센싱부는 상기 배출가스에 포함된 불순물을 센싱하되, 상기 불순물이 기준값 이상으로 센싱되면, 상기 웨이퍼 수납부의 상태를 점검하도록 하는 제1 점검신호를 출력하는 다기능 로드 포트 장치.
  5. 삭제
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 로드 포트부의 외측일면 상단에 배치되어 상기 가스 주입부, 상기 가스 배출부, 상기 불순물 센싱부, 상기 차압센싱부 및 상기 터보펌핑부를 선택하여 턴 온시키거나 턴 오프시킬 수 있는 버튼이 적어도 하나 이상 배치되는 다기능 로드 포트 장치.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 웨이퍼 수납부의 하단에는 적어도 하나 이상의 장착홀이 형성되고,
    상기 포트 스테이지부에는 상기 장착홀과 대응되는 위치에 장착돌기가 형성되는 다기능 로드 포트 장치.
  8. 청구항 1 또는 청구항 6에 있어서,
    상기 로드 포트부와 연결되어 상기 포트 스테이지부에 상기 웨이퍼 수납부가 안착되는 과정, 상기 포트 스테이지부에 안착된 상기 웨이퍼 수납부에 상기 주입가스가 주입되는 과정, 상기 포트 스테이지부에 안착된 상기 웨이퍼 수납부에 상기 배출가스가 배출되는 과정, 상기 배출가스의 불순물을 센싱하는 과정, 상기 웨이퍼 수납부에 대한 차압을 센싱하는 과정 및 상기 웨이퍼 수납부를 펌핑하는 과정을 모니터링할 수 있는 FOUP모니터링부;를 포함하는 다기능 로드 포트 장치.
  9. 청구항 8항에 있어서,
    상기 FOUP모니터링부는 상기 모니터링되는 것에 대한 정보를 원거리에 있는 관리센터부와 송수신할 수 있는 관리통신부를 포함하고, 상기 관리센터부에서 제공하는 기준값 또는 기준양에 대한 정보를 제공받아 상기 기준값 또는 상기 기준양을 설정할 수 있는 것을 포함하는 다기능 로드 포트 장치.
  10. 청구항 9항에 있어서,
    상기 FOUP모니터링부는 터치스크린으로 형성되어 상기 기준값 또는 상기 기준양에 대한 값을 직접 입력하여 상기 기준값 또는 상기 기준양을 설정할 수 있는 것을 포함하는 다기능 로드 포트 장치.
KR20130005853A 2012-05-08 2013-01-18 다기능 로드 포트 장치 KR101476721B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20120048542 2012-05-08
KR1020120048542 2012-05-08

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130125289A KR20130125289A (ko) 2013-11-18
KR101476721B1 true KR101476721B1 (ko) 2015-01-06

Family

ID=49853784

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR20130005853A KR101476721B1 (ko) 2012-05-08 2013-01-18 다기능 로드 포트 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101476721B1 (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101608831B1 (ko) 2014-06-13 2016-04-05 우범제 배출가속기 및 이를 구비한 로드 포트
US10861692B2 (en) 2017-10-26 2020-12-08 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Substrate carrier deterioration detection and repair
KR102201151B1 (ko) * 2020-08-07 2021-01-12 주식회사 테라베니어 습도감지를 이용한 퍼프용 공정가스 공급장치

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101002950B1 (ko) * 2010-04-07 2010-12-22 주식회사 위드텍 운송 인클로저 내부의 가스 모니터링 시스템 및 방법

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101002950B1 (ko) * 2010-04-07 2010-12-22 주식회사 위드텍 운송 인클로저 내부의 가스 모니터링 시스템 및 방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR20130125289A (ko) 2013-11-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101476721B1 (ko) 다기능 로드 포트 장치
US10566227B2 (en) Controlling method for a wafer transportation part and a load port part on an EFEM
JP5155848B2 (ja) Ｆｏｕｐ用ｎ２パージ装置
US11199528B2 (en) Sensor built-in filter structure and wafer accommodation container
KR101674454B1 (ko) 풉 퍼징용 사이드 트랙 버퍼
KR101131147B1 (ko) 웨이퍼 저장 장치
CN107924861A (zh) 气体注入装置
KR101860980B1 (ko) 기판 처리 장치의 이상 검출 장치 및 기판 처리 장치
KR20060048151A (ko) 반도체기판의 보관고, 보관방법 및 이를 이용한반도체기판의 제조방법
KR101335669B1 (ko) 로드 포트 모듈
KR102367124B1 (ko) 로드 포트 장치, 반도체 제조 장치 및 포드 내 분위기의 제어 방법
JP2017017291A (ja) フープロードポート装置
KR101040540B1 (ko) 웨이퍼 저장 장치
KR101691607B1 (ko) 퍼지 기능을 갖는 웨이퍼 용기 이송 장치
JP2011114319A (ja) 気体置換装置および気体置換方法
KR102577608B1 (ko) 노즐 유닛
CN210647622U (zh) 载具自动清洁及检测装置
CN112170411B (zh) 载具自动清洁及检测装置、方法
KR101619379B1 (ko) 반도체 제조공정용 로드포트 어셈블리
KR20060129880A (ko) 반도체 소자용 제조설비
US7207340B2 (en) Method and system for removal of gas and plasma processing apparatus
KR20060117621A (ko) 반도체 제조설비 및 그의 제어방법
KR20070029455A (ko) 반도체 플라즈마 처리설비용 건식세정장치
KR101754996B1 (ko) 로드 포트의 질소 퍼지 제어시스템 및 로드 포트의 질소 퍼지 제어방법
JP2007258564A (ja) 基板処理装置及びその方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181113

Year of fee payment: 5