KR101456225B1 - 인공치아 재료 전처리 시스템 - Google Patents

인공치아 재료 전처리 시스템 Download PDF

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KR101456225B1 KR1020130093780A KR20130093780A KR101456225B1 KR 101456225 B1 KR101456225 B1 KR 101456225B1 KR 1020130093780 A KR1020130093780 A KR 1020130093780A KR 20130093780 A KR20130093780 A KR 20130093780A KR 101456225 B1 KR101456225 B1 KR 101456225B1
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Abstract

인공치아 재료 전처리 시스템이 개시된다. 본 발명의 인공치아 재료 전처리 시스템은, 인공치아 재료와 접촉하는 통전부 및 통전부를 둘러싸는 절연부를 포함하는 분자쇄 활성부; 통전부에 전원을 공급하는 전원공급부; 및 전원공급부의 동작 및 분자쇄 활성부에 대한 항온항습 환경을 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 인공치아 재료와 접촉하는 통전부 및 통전부를 둘러싸는 절연부를 포함하는 분자쇄 활성부와 통전부에 전원을 공급하는 전원공급부 및 전원공급부의 동작 및 분자쇄 활성부에 대한 항온항습 환경을 제어하는 제어부를 포함하여 이루어짐으로써 항온항습 환경에서 인공치아 재료에 저전류·고전압 조건의 전기적 자극을 주어 결정도를 증가시킴으로써 불량발생률을 감소시키고 가공정밀도를 향상시키며, 이에 따라 생산성이 향상되도록 이루어지는 인공치아 재료 전처리 시스템을 제공할 수 있게 된다.

Description

인공치아 재료 전처리 시스템{SYSTEM FOR PRETREATMENT OF ARTIFICIAL TOOTH MATERIALS}
본 발명은 인공치아 재료 전처리 시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 인공치아 재료에 전기적인 자극을 주어 결정도를 증가시키고 가공정밀도가 향상되도록 이루어지는 인공치아 재료 전처리 시스템에 관한 것이다.
인공치아는 사기나 합성수지 따위를 재료로 하여 인공적으로 제작한 이를 가리키는 것으로, 인공적으로 치아의 일부 또는 모든 치아를 보충하는 틀니, 치아의 제거된 부위에 씌우는 크라운, 치아의 겉면을 얇게 삭제하고 붙이는 라미네이트, 치아가 상실된 부위에 인공스크류를 심어 치아로서 기능하는 임플란트 등이 있다.
근래에 들어서는 CAD/CAM 시스템의 보급이 활발히 진행되면서 기존의 수가공 방식에 의존하던 인공치아 제작분야에도 이용이 확대되고 있다.
이와 관련하여 대한민국 공개특허공보 제10-2013-0029848호에는 '모형 및 구강 스캔을 이용한 캐드, 캠 치과 보철물 제작 교육방법'이 개시되어 있으며, 제10-2013-0029848호는 치과에서 온 인상체에 석고를 부어 양형에 형상을 만들고 그 모형을 Dental 전용 스캐너에 넣어 모형을 3차원 디지털 형상으로 변환시키는 덴탈 스캐닝 단계 교육, 덴탈 스캐닝 단계에서 변환시킨 디지털 형상을 가지고 Dental 전용 CAD Software를 이용하여 코핑 디자인을 하는 덴탈 코핑디자인 단계 교육, 3차원 CAD 디자인 작업이 끝난 디지털 형상을 CAM 신호 변환 작업을 통해 NC코드로 변화된 자료가 Dental 전용 밀링머신(Milling Machine)로 전송되고 밀링머신은 전송받은 NC코드의 명령에 맞게 절,연삭 가공을 하여 코핑을 제작하는 덴탈 코핑 제작 단계 교육, 절,연삭 가공된 코핑을 소결로에 넣어 소결하여 최종 코핑을 완성하는 덴탈 코핑 소결 단계 교육, 최종 소결과정을 거친 최종 코핑을 수작업으로 치아의 형태나 광택 등을 수정해주어 최종 보철물을 완성하는 코핑 교정 단계 교육을 포함하여 이루어진다.
제10-2013-0029848호는 작업이 간편하며, 작업효율이 뛰어나고 또한 치과 보철물을 정밀하게 가공할 수 있는 모형 및 구강 스캔을 이용한 캐드, 캠 치과 보철물 제작방법을 체계적이며 단계적으로 교육할 수 있는 이점이 있다.
그러나, 제10-2013-0029848호를 포함한 종래의 인공치아 제작장치 및 제작방법에 있어서는, CAD/CAM 시스템 가공 전의 피가공물의 보관방법이나 취급에 있어서는 특별한 주의를 기울이지 않고 있으며, 치아재료를 사용하여 인공치아를 가공하는 도중 불량품이 발생하거나 설령 불량품으로 판정받지 않았더라도 소비자의 사용도중 소비자에게 맞지 않아 불편을 초래하고 인공치아의 수명이 단축되는 문제가 있었다.
(0001) 대한민국 공개특허공보 제10-2013-0029848호 (공개일: 2013.03.26)
본 발명의 목적은, 인공치아 재료의 결정도를 증가시킴으로써 불량발생률을 감소시키고 가공정밀도를 향상시키며, 이에 따라 생산성이 향상되도록 이루어지는 인공치아 재료 전처리 시스템에 관한 것이다.
상기 목적은, 본 발명에 따라, 인공치아 재료와 접촉하는 통전부 및 상기 통전부를 둘러싸는 절연부를 포함하는 분자쇄 활성부; 상기 통전부에 전원을 공급하는 전원공급부; 및 상기 전원공급부의 동작 및 상기 분자쇄 활성부에 대한 항온항습 환경을 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 인공치아 재료 전처리 시스템에 의하여 달성된다.
상기 통전부는 금속플레이트로 이루어지고, 상기 절연부는, 상기 금속플레이트의 일측면과 접촉하는 절연플레이트; 상기 금속플레이트 및 절연플레이트를 내부에 수용하는 항온항습장치; 및 상기 항온항습장치를 지면으로부터 이격시키는 절연지지대를 포함할 수 있다.
상기 항온항습장치의 내부는 절연체(絶緣體)로 이루어지고, 상기 절연플레이트 및 절연지지대는 테프론(teflon) 재질로 이루어질 수 있다.
상기 제어부는, 항온항습조건을 입력하는 입력부; 상기 항온항습조건에 따라 항온항습제어를 수행하는 처리부; 상기 항온항습장치의 내부에 설치되어 온도 및 습도를 감지하는 감지부; 상기 입력부 및 감지부의 값을 표시하는 디스플레이부; 및 상기 입력부 및 감지부의 값을 실시간으로 저장하는 저장부를 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 전원공급부는, 상기 통전부에 0.1㎂ 이상 0.5㎂이하의 전류 및 1001V 이상 7000V 이하의 전압을 공급하도록 이루어질 수 있다.
본 발명에 의하면, 인공치아 재료와 접촉하는 통전부 및 통전부를 둘러싸는 절연부를 포함하는 분자쇄 활성부와 통전부에 전원을 공급하는 전원공급부 및 전원공급부의 동작 및 분자쇄 활성부에 대한 항온항습 환경을 제어하는 제어부를 포함하여 이루어짐으로써 항온항습 환경에서 인공치아 재료에 저전류·고전압 조건의 전기적 자극을 주어 결정도를 증가시킴으로써 불량발생률을 감소시키고 가공정밀도를 향상시키며, 이에 따라 생산성이 향상되도록 이루어지는 인공치아 재료 전처리 시스템을 제공할 수 있게 된다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 인공치아 재료 전처리 시스템의 전체구성을 나타내는 도면이다.
도 2는 도 1의 인공치아 재료 전처리 시스템의 분자쇄 활성부를 나타내는 도면이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세하게 설명하면 다음과 같다. 다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 이미 공지된 기능 혹은 구성에 대한 설명은, 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하기로 한다.
본 발명의 인공치아 재료 전처리 시스템은, 인공치아 재료의 결정도를 증가시킴으로써 불량발생률을 감소시키고 가공정밀도를 향상시키며, 이에 따라 생산성이 향상되도록 이루어진다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 인공치아 재료 전처리 시스템의 전체구성을 나타내는 도면이고, 도 2는 도 1의 인공치아 재료 전처리 시스템의 분자쇄 활성부를 나타내는 도면이다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 의한 인공치아 재료 전처리 시스템(1)은 인공치아 재료(2)에 전기적인 자극을 주어 결정도를 증가시키고 가공정밀도를 향상시키기 위한 것으로서, 분자쇄 활성부(10), 전원공급부(20) 및 제어부(30)를 포함하여 구성된다. 전원공급부(20)는 분자쇄 활성부(10)에 전원을 공급하고, 제어부(30)는 분자쇄 활성부(10)와 전원공급부(20)의 동작을 제어한다.
먼저, 분자쇄 활성부(10)는 항온항습 조건에서 외부와는 절연되고 인공치아 재료(2)와는 전기적 접촉점을 형성하는 구성으로서, 통전부(11) 및 절연부(13)를 포함하여 구성된다.
도 2에 도시된 바와 같이, 통전부(11)는 인공치아재료와 물리적 및 전기적 접촉점을 형성하는 구성으로서, 인공치아재료가 상면에 놓인 상태에서 일측이 접촉하는 금속플레이트(M)로 이루어진다. 물론, 금속 이외에도 높은 통전성(通電性)을 가지는 다양한 재질의 선정도 가능하며, 형태적인 측면에서는 그 내부에서 전기적 접촉점을 형성하는 오목한 곡면형, 원통형 또는 반구형 등 다양한 형태로서 제작이 가능하다.
절연부(13)는 통전부(11)에 공급되는 전기에너지가 외부환경으로 누설되지 않는 전기적 절연환경을 조성하기 위한 구성으로서, 절연플레이트(I), 항온항습장치(C) 및 절연지지대(S)를 포함하여 이루어진다.
절연플레이트(I)는 테프론과 같은 전기적 절연재질로 이루어지며, 금속플레이트(M)의 일측면과 접촉하여 금속플레이트(M)를 외부로부터 절연시키게 된다. 절연플레이트(I)와 접촉하는 금속플레이트(M)는 전원공급부(20)와의 전기적 연결점을 제외하고는 외부와 전기적으로 절연된다.
도 2에 도시된 바와 같이, 항온항습장치(C)는 금속플레이트(M)의 상면에 놓이는 인공치아 재료(2)에 항온항습환경을 조성하기 위한 구성으로서, 인공치아 재료(2)와 물리적으로 접촉하는 금속플레이트(M) 및 금속플레이트(M)와 물리적으로 접촉하는 절연플레이트(I)를 그 내부에 수용하게 된다.
항온항습장치(C)는 전면에 개폐도어(D)가 마련되어 개폐도어(D)가 닫힌 상태에서는 그 내부가 밀폐된다. 개폐도어(D)에는 그 내부를 관찰할 수 있는 투명 또는 반투명의 관찰창(W)이 구비되며, 인공치아 재료(2)에 전기적 자극이 가해지는 상태에서 개폐도어(D)가 인위적으로 열리지 않도록 손잡이의 내부에 자동잠금장치(미도시)가 마련된다. 자동잠금장치는 제어부(30)에 의해 자동으로 잠기거나 열리게 된다.
항온항습장치(C)의 내부는, 금속플레이트(M)와 인공치아 재료(2)의 전기적 접촉시 전류의 누설이 완전히 방지될 수 있도록, 테프론 등 전기적 절연성질을 갖는 절연재료(絶緣材料)로 코팅처리된다.
항온항습장치(C)는 제어부(30)의 제어에 의해 인공치아 재료(2)에 전기적 자극이 가해지는 동안에 그 내부가 항온항습제어된다. 항온항습제어란, 온도와 습도의 조건이 반드시 일정하게 유지하지 않으면 안 되는 장소를 제어하는 것으로서, 밀폐된 공간에 히터, 냉각장치, 송풍장치 등을 설치하여 규정된 온도 및 습도 조건을 일정시간 이상 안정되게 유지하는 제어방법을 가리킨다.
인공치아 재료(2)에 저전류·고전압의 전기적 자극이 가해지는 환경은 주위 환경의 온도 및 습도 변화에 따라 인공치아 재료(2)의 분자쇄 활성화 속도에 차이가 발생할 수 있으며, 또한 습도가 높은 환경에서는 고전압 상태에서 전류누설현상이 발생할 수 있으므로 정밀한 온도 및 습도제어가 요구된다.
항온항습장치(C)의 제어는 제어부(30)에 의해 수행된다. 제어부(30)에 대한 자세한 설명은 전원공급부(20)와 함께 후술하기로 한다.
도 2를 참조하면, 절연지지대(S)는 절연플레이트(I)를 내부에 수용하는 항온항습장치(C)를 지면으로부터 이격시키기 위한 구성으로서, 항온항습장치(C)의 저면에 지면으로부터 지지하는 다리형태로 결합된다. 절연지지대(S)는 테프론 등 절연체로 이루어지거나, 또는 항온항습장치(C)를 지지하는 경질 재료의 표면에 테프론 등에 의한 절연 코팅된다.
도 1에 도시된 바와 같이, 전원공급부(20)는 통전부(11)에 전원을 공급하기 위한 것으로, 인공치아 재료(2)의 분자쇄를 활성화할 수 있는 저전류·고전압 장치로 이루어진다. 전원공급부(20)는 통전부(11)에 0.1㎂ 이상 0.5㎂이하의 저전류 및 1001V 이상 7000V 이하의 고전압을 공급하도록 이루어진다.
자세히 도시되지는 않았으나, 전원공급부(20)는 금속플레이트(M)와 전선에 의해 전기적으로 연결된다. 전선은 항온항습장치(C)의 일측을 통해 그 내부에 설치된 금속플레이트(M)와 전기적 접촉점을 형성하게 된다.
도 1을 참조하면, 제어부(30)는 전원공급부(20) 및 분자쇄 활성부(10)와 연결되어 전원공급부(20)의 동작 및 분자쇄 활성부(10)의 항온항습 환경을 제어한다. 인공치아 재료(2)에 대한 전기적 자극이 실행되는 동안 항온항습장치(C)의 내부는 일정한 온도 및 습도로 항온항습처리된다. 인공치아 재료(2)에 대한 전기적 자극은 인공치아 재료(2)에 대한 충분한 분자쇄 활성화가 이루어지도록 72시간 이상 유지되는 것이 바람직하다.
제어부(30)는 항온항습조건을 입력하는 입력부(31), 입력된 항온항습조건에 따라 항온항습제어를 수행하는 처리부(32), 항온항습장치(C) 내부의 온도 및 습도를 감지하는 감지부(33), 입력된 항온항습조건 및 감지된 항온항습장치(C) 내부의 온도 및 습도를 표시하는 디스플레이부(34), 항온항습조건 및 감지부(33)의 데이터를 실시간으로 저장하는 저장부(35)를 포함하여 구성된다.
감지부(33)는 항온항습장치(C)의 내부에 설치되는 온도센서와 습도센서로 이루어진다.
감지부(33)는 분자쇄 활성화 도중 온도 및 습도가 정상값을 벗어난 것을 감지하면 경보를 발생시키거나 경고등(L)을 동작시키고, 모니터를 통해 이상부위의 위치 및 그 값을 표시한다. 항온항습장치(C) 또는 제어부(30)의 일측에는 경보기(미도시) 또는 경고등(L)이 설치된다.
본 발명에 의하면, 인공치아 재료(2)와 접촉하는 통전부(11) 및 통전부(11)를 둘러싸는 절연부(13)를 포함하는 분자쇄 활성부(10)와 통전부(11)에 전원을 공급하는 전원공급부(20) 및 전원공급부(20)의 동작 및 분자쇄 활성부(10)에 대한 항온항습 환경을 제어하는 제어부(30)를 포함하여 이루어짐으로써 항온항습 환경에서 인공치아 재료(2)에 저전류·고전압 조건의 전기적 자극을 주어 결정도를 증가시킴으로써 불량발생률을 감소시키고 가공정밀도를 향상시키며, 이에 따라 생산성이 향상되도록 이루어지는 인공치아 재료 전처리 시스템(1)을 제공할 수 있게 된다.
앞에서, 본 발명의 특정한 실시예가 설명되고 도시되었지만 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 일이다. 따라서, 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 기술적 사상이나 관점으로부터 개별적으로 이해되어서는 안되며, 변형된 실시예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.
1 : 전처리 시스템 2 : 인공치아 재료
11 : 통전부 10 : 분자쇄 활성부
M : 금속플레이트 20 : 전원공급부
13 : 절연부 30 : 제어부
I : 절연플레이트
C : 항온항습장치
S : 절연지지대

Claims (5)

  1. 인공치아 재료와 접촉하는 통전부 및 상기 통전부를 둘러싸는 절연부를 포함하는 분자쇄 활성부;
    상기 통전부에 전원을 공급하는 전원공급부; 및
    상기 전원공급부의 동작 및 상기 분자쇄 활성부에 대한 항온항습 환경을 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 인공치아 재료 전처리 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 통전부는 금속플레이트로 이루어지고,
    상기 절연부는,
    상기 금속플레이트의 일측면과 접촉하는 절연플레이트;
    상기 금속플레이트 및 절연플레이트를 내부에 수용하는 항온항습장치; 및
    상기 항온항습장치를 지면으로부터 이격시키는 절연지지대를 포함하는 것을 특징으로 하는 인공치아 재료 전처리 시스템.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 항온항습장치의 내부는 절연체(絶緣體)로 이루어지고,
    상기 절연플레이트 및 절연지지대는 테프론(teflon) 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 인공치아 재료 전처리 시스템.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 제어부는,
    항온항습조건을 입력하는 입력부;
    상기 항온항습조건에 따라 항온항습제어를 수행하는 처리부;
    상기 항온항습장치의 내부에 설치되어 온도 및 습도를 감지하는 감지부;
    상기 입력부 및 감지부의 값을 표시하는 디스플레이부; 및
    상기 입력부 및 감지부의 값을 실시간으로 저장하는 저장부를 포함하는 것을 특징으로 하는 인공치아 재료 전처리 시스템.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 전원공급부는,
    상기 통전부에 0.1㎂ 이상 0.5㎂이하의 전류 및 1001V 이상 7000V 이하의 전압을 공급하는 것을 특징으로 하는 인공치아 재료 전처리 시스템.
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