KR101436895B1

KR101436895B1 - Glass deposition apparatus

Info

Publication number: KR101436895B1
Application number: KR1020120062425A
Authority: KR
Inventors: 박민호; 이상문; 정태원; 최성원; 강제민
Original assignee: 주식회사 에스에프에이
Priority date: 2012-06-12
Filing date: 2012-06-12
Publication date: 2014-09-02
Also published as: KR20130138912A

Abstract

박막 증착 장치가 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 증착 장치는, 기판에 대한 증착 공정이 진행되는 챔버; 챔버에 마련되며, 기판과 기판에 증착 패턴을 형성하는 패턴형성부재 간의 얼라인(align)을 위해 기판과 패턴형성부재의 위치 정보를 획득하는 비전유닛; 및 비전유닛과 연결되며, 패턴형성부재의 교체 시 비전유닛과 패턴형성부재가 간섭되는 것을 방지하는 간섭 방지유닛을 포함한다. A thin film deposition apparatus is disclosed. A thin film deposition apparatus according to an embodiment of the present invention includes: a chamber in which a deposition process is performed on a substrate; A vision unit which is provided in the chamber and acquires position information of the substrate and the pattern forming member for aligning the substrate with the pattern forming member forming the deposition pattern on the substrate; And an interference prevention unit connected to the vision unit and preventing the vision unit and the pattern formation member from interfering with each other when the pattern formation member is replaced.

Description

[0001] The present invention relates to a thin film deposition apparatus,

본 발명은, 박막 증착 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 기판의 증착 공정에 사용되어 증착물질에 오염된 패턴형성부재의 교체시간을 단축시켜 생산성을 향상시킬 수 있는 박막 증착 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin film deposition apparatus, and more particularly, to a thin film deposition apparatus which can be used in a substrate deposition process to shorten the replacement time of a pattern formation member contaminated with an evaporation material to improve productivity.

최근들어 반도체 산업 중 전자 디스플레이 산업이 급속도로 발전하면서 평면디스플레이(Flat Panel Display, FPD)가 등장하기 시작하였다.Recently, as the electronic display industry has rapidly developed in the semiconductor industry, a flat panel display (FPD) has begun to emerge.

평면디스플레이(FPD)는, 종전에 TV나 컴퓨터 모니터 등에 디스플레이(Display)로 주로 사용된 음극선관(CRT, Cathode Ray Tube)보다 두께가 얇고 가벼운 영상표시장치로서, 이에는 액정표시장치(LCD, liquid crystal display), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP, Plasma Display Panel), 유기전계발광표시장치(OLED, Organic Light Emitting Diodes) 등이 있다.A flat panel display (FPD) is thinner and lighter image display device than a cathode ray tube (CRT), which was conventionally used as a display in a TV or a computer monitor, and includes a liquid crystal display crystal display, a plasma display panel (PDP), and an organic light emitting diode (OLED).

이러한 평면디스플레이(FPD) 중 하나인 유기전계발광표시장치(OLED)는 애노드와 캐소드 그리고, 애노드와 캐소드 사이에 개재된 유기막들을 포함하고 있다. 여기서 유기막들은 최소한 발광층을 포함하며, 발광층 이외에도 정공 주입층, 정공 수송층, 전자 수송층, 전자 주입층을 더 포함할 수 있다.An organic light emitting display (OLED), which is one of such flat display devices (FPD), includes an anode, a cathode, and organic films interposed between the anode and the cathode. Here, the organic layers include at least a light emitting layer and may further include a hole injecting layer, a hole transporting layer, an electron transporting layer, and an electron injecting layer in addition to the light emitting layer.

또한, 유기전계발광표시장치(OLED)는 유기물의 자체 발광에 의해 컬러 화상을 구현하는 초경박형 표시장치로서, 그 구조가 간단하면서 광효율이 높다는 점에서 차세대의 유망 평면디스플레이로서 주목받고 있다.In addition, an organic light emitting display (OLED) is a cemented carbide type display device that implements a color image by self-emission of organic materials, and has been attracting attention as a promising next-generation flat display because of its simple structure and high optical efficiency.

이러한 유기전계발광표시장치(OLED)를 제조하기 위해서는 유리기판 상에 TFT(Thin Film Transistor)를 형성하기 위한 무기물 증착 공정과 발광층을 패터닝 하는 패터닝 공정이 이루어지고, 이후 발광 Cell을 구성하기 위한 유기물 증착이 이루어진다.In order to manufacture such an OLED, an inorganic material deposition process for forming a TFT (Thin Film Transistor) and a patterning process for patterning a light emitting layer are performed on a glass substrate. Then, an organic material deposition .

유기전계발광표시장치(OLED)에 풀 칼라(full color)를 구현하기 위해서 발광층을 패터닝 하는데, 이러한 패터닝 방법으로는 FMM(Fine Metal Mask)을 이용한 직접 패터닝 방식, LITI(Laser Induced Thermal Imaging) 공법을 적용한 방식, 컬러 필터(color filter)를 이용하는 방식 등이 있다.In order to realize a full color in an organic light emitting display (OLED), a light emitting layer is patterned. As such a patterning method, a direct patterning method using FMM (Fine Metal Mask), a LITI (Laser Induced Thermal Imaging) And a method of using a color filter.

여기서 FMM(Fine Metal Mask)을 이용한 직접 패터닝 방식은, 챔버 내에 유리기판과 패터닝(patterning)된 패턴형성부재, 예컨대 마스크와, 증착물질을 방출하는 소스(source)를 순차적으로 수평방향으로 배치시켜 증착함으로써, 유리기판에 패턴형성부재에 패턴에 따른 유기물 증착 패턴을 형성하는 방법이다.Here, the direct patterning method using FMM (Fine Metal Mask) is a method in which a pattern forming member patterned with a glass substrate in a chamber, for example, a mask and a source for emitting a deposition material are sequentially arranged in a horizontal direction, Thereby forming an organic material vapor deposition pattern on the pattern forming member on the glass substrate.

이러한 FMM(Fine Metal Mask)을 이용한 직접 패터닝 방식은 대형 유리기판의 경우 유리기판 및 패턴형성부재에 처짐이 발생되는 문제점이 있는데, 이러한 문제점을 해결하기 위해 유리기판이 챔버 내에 설치된 복수의 소형 패턴형성부재를 따라 이송되며 증착되는 방법이 주목받고 있다.In a direct patterning method using a fine metal mask (FMM), defects are generated in a glass substrate and a pattern forming member in the case of a large glass substrate. In order to solve such a problem, A method of transferring and being deposited along a member has been attracting attention.

한편, FMM(Fine Metal Mask)을 이용한 직접 패터닝 방식은, 증착 공정이 반복적으로 진행되면 패턴형성부재가 증착물질에 오염되기 때문에 시용된 패턴형성부재를 새로운 패턴형성부재로 교체하는 패턴형성부재 교체작업이 필요하다.On the other hand, a direct patterning method using FMM (Fine Metal Mask) is a pattern forming member replacing operation for replacing a used pattern forming member with a new pattern forming member because the pattern forming member is contaminated with the deposition material when the deposition process is repeatedly performed Is required.

그런데 종래기술에 따른 박막 증착 장치는, 챔버 내부의 공간이 협소하기 때문에 패턴형성부재 교체작업이 용이하지 않다. 특히 패턴형성부재의 상부 영역에 배치되어 얼라인(align)을 위해 패턴형성부재와 기판을 촬상하는 비전유닛에 의해 패턴형성부재 상부 영역의 공간이 더욱 협소해져 패턴형성부재 교체 시 비전유닛과 패턴형성부재가 간섭되어 패턴형성부재 교체가 어려운 문제점이 있다.However, in the thin film deposition apparatus according to the related art, since the space inside the chamber is narrow, the operation of replacing the pattern forming member is not easy. In particular, the space of the upper region of the pattern formation member is narrowed by the vision unit which is disposed in the upper region of the pattern formation member to image the pattern formation member and the substrate for aligning, and the vision unit and the pattern formation There is a problem that it is difficult to replace the pattern forming member.

따라서 패턴형성부재 교체 시 비전유닛의 위치를 가변시켜 패턴형성부재 교체에 필요한 충분한 공간을 확보할 수 있는 박막 증착 장치가 필요한 실정이다.Therefore, there is a need for a thin film deposition apparatus capable of changing the position of the vision unit and securing a sufficient space for replacement of the pattern formation member when the pattern formation member is replaced.

특허공개번호 KR 10-2006-0097185 (세메스 주식회사), 2006.09.14Patent Publication No. KR 10-2006-0097185 (Semes Co., Ltd.), September 14, 2006

따라서 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 챔버에 설치된 패턴형성부재 교체의 교체 시 패턴형성부재가 비전유닛에 간섭되지 않도록 여유 공간을 확보할 수 있는 박막 증착 장치를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a thin film deposition apparatus capable of ensuring a free space so that the pattern forming member is not interfered with the vision unit when the pattern forming member is replaced.

본 발명의 일 측면에 따르면, 기판에 대한 증착 공정이 진행되는 챔버; 상기 챔버에 마련되며, 상기 기판과 상기 기판에 증착 패턴을 형성하는 패턴형성부재 간의 얼라인(align)을 위해 상기 기판과 상기 패턴형성부재의 위치 정보를 획득하는 비전유닛; 및 상기 비전유닛과 연결되며, 상기 패턴형성부재의 교체 시 상기 비전유닛과 상기 패턴형성부재가 간섭되는 것을 방지하는 간섭 방지유닛을 포함하는 박막 증착 장치를 제공할 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a plasma processing apparatus comprising: a chamber in which a deposition process for a substrate proceeds; A vision unit which is provided in the chamber and acquires positional information of the substrate and the pattern formation member for aligning the substrate and the pattern formation member forming the deposition pattern on the substrate; And an interference prevention unit connected to the vision unit, the interference prevention unit preventing interference between the vision unit and the pattern formation member when the pattern formation member is replaced.

상기 간섭 방지유닛은, 길이가 가변되어 상기 비전유닛의 위치를 변경하는 신축형 간섭 방지유닛일 수 있다.The interference preventing unit may be a telescopic interference preventing unit that changes its length and changes the position of the vision unit.

상기 신축형 간섭 방지유닛은, 상기 비전유닛을 상기 챔버의 내부와 격리하며, 길이가 신축 가능한 신축 격리부와, 상기 신축 격리부와 연결되어 상기 신축 격리부의 길이를 신축시키는 신축 구동부를 포함할 수 있다.The stretchable type interference preventing unit may include a stretch separating unit that separates the vision unit from the inside of the chamber and is capable of expanding and contracting in length and a stretching and driving unit connected to the stretch isolating unit to stretch the stretch retention unit have.

상기 신축 격리부는, 상기 비전유닛이 결합되는 비전유닛 거치대와, 일단부는 상기 비전유닛 거치대에 연결되고, 타단부는 상기 챔버의 내벽에 연결되는 벨로우즈(bellows)를 포함할 수 있다.The expansion and contraction part may include a vision unit holder to which the vision unit is coupled, and bellows having one end connected to the vision unit holder and the other end connected to the inner wall of the chamber.

상기 신축 구동부는, 상기 비전유닛 거치대와 연결되는 구동 바아와, 상기 구동 바아를 업/다운(up/down)하는 구동 바아 업/다운(up/down)부를 포함할 수 있다.The expansion and contraction driving unit may include a driving bar connected to the vision unit cradle and a driving bar up / down unit for up / down the driving bar.

상기 구동 바아 업/다운부는, 상기 구동 바아가 결합되는 엘엠 블록(LM block);The driving bar up / down unit includes an LM block to which the driving bar is coupled;

상기 엘엠 블록의 이동을 안내하는 엘엠 가이드(LM guide)와, 상기 엘엠 블록을 이동시키는 서보 모터(servo motor)를 포함할 수 있다.An LM guide for guiding the movement of the LM block, and a servo motor for moving the LM block.

상기 챔버에 마련되며, 상기 기판이 이송될 때 상기 기판에 대한 상기 패턴형성부재의 얼라인(align) 작업을 진행하는 얼라인유닛; 및 상기 비전유닛의 위치 정보에 따라 상기 얼라인유닛을 제어하는 제어부를 더 포함할 수 있다.An alignment unit provided in the chamber and configured to align the pattern forming member with respect to the substrate when the substrate is transferred; And a control unit for controlling the alignment unit according to position information of the vision unit.

상기 챔버에 인접하게 배치되며, 상기 패턴형성부재의 교체를 위해 상기 패턴형성부재를 보관하는 보관유닛과, 상기 보관유닛과 상기 챔버에 인접하게 마련되며, 상기 보관유닛에 보관된 패턴형성부재를 상기 챔버의 내부로 전달하는 전달유닛을 더 포함할 수 있다.A pattern forming member disposed adjacent to the chamber and configured to store the pattern forming member for replacement of the pattern forming member; and a pattern forming member provided adjacent to the storing unit and the chamber, To the inside of the chamber.

상기 보관유닛은, 상기 패턴형성부재를 파지하여 지지하는 파지형 보관유닛일 수 있다.The storage unit may be a holding type storage unit for holding and supporting the pattern forming member.

상기 파지형 보관유닛은, 상기 전달유닛의 상부 영역에 마련되어 상기 패턴형성부재를 업/다운(up/down)시켜 상기 패턴형성부재를 보관하고 상기 전달유닛에 적재하는 보관용 리프터일 수 있다.The grip type storage unit may be a storage lifter provided in an upper area of the transfer unit and storing the pattern forming member by up / down the pattern forming member to load the pattern forming member on the transfer unit.

상기 보관용 리프터는, 상기 패턴형성부재를 파지하는 그립퍼(gripper)와, 상기 그립퍼를 업/다운(up/down)시키는 그립퍼 업/다운(up/down) 구동부를 포함할 수 있다.The storage lifter may include a gripper for gripping the pattern forming member and a gripper up / down driving unit for up / down the gripper.

상기 전달유닛은, 상기 패턴형성부재를 지지하는 지지 플레이트와, 상기 지지 플레이트를 왕복 이동시키는 수평 구동부를 포함할 수 있다.The transfer unit may include a support plate for supporting the pattern formation member and a horizontal drive unit for reciprocating the support plate.

상기 수평 구동부는, 상호 상대이동 가능하게 적층되며, 슬라이딩 이동에 의해 상기 지지 플레이트를 상기 챔버의 내부 및 외부로 인입 및 인출하는 복수의 슬라이딩 플레이트와, 상기 슬라이딩 플레이트를 지지하는 지지 블록을 포함할 수 있다.The horizontal driving unit may include a plurality of sliding plates stacked so as to be movable relative to each other and for pulling and pulling the support plate into and out of the chamber by sliding movement and a support block for supporting the sliding plate have.

상기 비전유닛은, 상기 기판의 마련된 기판 정렬 마크와 상기 패턴형성부재에 마련된 패턴형성부재 정렬 마크를 촬상하는 비전 카메라일 수 있다.할 수 있다.The vision unit may be a vision camera for picking up a substrate alignment mark provided on the substrate and a pattern formation member alignment mark provided on the pattern formation member.

상기 기판은 OLED용 유리기판이고, 상기 패턴형성부재는 복수 개로 마련되어 상호 이격되어 상기 챔버에 설치되며, 상기 챔버에는 상기 기판을 상기 패턴형성부재들을 따라 이송하는 기판 캐리어가 마련될 수 있으며, 상기 패턴형성부재는 마스크(mask)일 수 있다.The substrate may be a glass substrate for an OLED, and the pattern forming members may be provided in plural and spaced apart from each other. The chamber may be provided with a substrate carrier for transferring the substrate along the pattern forming members, The forming member may be a mask.

본 발명의 실시예들은, 간섭 방지유닛이 챔버에 설치된 패턴형성부재의 교체 시 상기 비전유닛과 상기 패턴형성부재가 간섭되는 것을 방지함으로써, 패턴형성부재를 용이하게 교체할 수 있고, 패턴형성부재의 교체시간을 단축하여 생산성을 향상시킬 수 있다.Embodiments of the present invention can prevent the interference prevention unit from interfering with the vision unit and the pattern formation member when the pattern formation member provided in the chamber is replaced, so that the pattern formation member can be easily replaced, The replacement time can be shortened and the productivity can be improved.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 증착 장치에서 챔버가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 2는 도 1의 간섭 방지유닛의 구조가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 3 및 도 4는 도 1의 얼라인유닛이 도시된 분해사시도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 증착 장치의 개략적인 구조가 도시된 구조도이다.
도 6은 보관용 리프터가 도시된 도면이다.
도 7은 수평 구동부의 작동이 도시된 도면이다.
도 8은 도 7의 슬라이딩 플레이트의 개략적인 구조가 도시된 사시도이다.
도 9는 공급유닛이 도시된 도면이다.1 is a schematic view of a chamber in a thin film deposition apparatus according to an embodiment of the present invention.
Fig. 2 is a view schematically showing the structure of the interference preventing unit of Fig. 1. Fig.
Figs. 3 and 4 are exploded perspective views showing the alignment unit of Fig.
5 is a structural view illustrating a schematic structure of a thin film deposition apparatus according to an embodiment of the present invention.
6 is a view showing a storage lifter.
7 is a view showing the operation of the horizontal driving section.
Fig. 8 is a perspective view showing the schematic structure of the sliding plate of Fig. 7;
9 is a view showing a supply unit.

본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다.In order to fully understand the present invention, operational advantages of the present invention, and objects achieved by the practice of the present invention, reference should be made to the accompanying drawings and the accompanying drawings which illustrate preferred embodiments of the present invention.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Like reference symbols in the drawings denote like elements.

도면 대비 설명에 앞서, 이하에서 설명될 기판은 평면디스플레이에 사용된다. 평면디스플레이란 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel) 및 OLED(Organic Light Emitting Diodes) 중 어떠한 것이 적용되어도 좋다. 다만, 본 실시예에서는 OLED(Organic Light Emitting Diodes)용 유리기판을 OLED(Organic Light Emitting Diodes)용 유리기판을 단순히 기판이라 하여 설명하기로 한다.Prior to describing the drawings, the substrate to be described below is used in a flat display. The flat display may be applied to any one of an LCD (Liquid Crystal Display), a PDP (Plasma Display Panel), and an OLED (Organic Light Emitting Diodes). However, in this embodiment, a glass substrate for OLED (Organic Light Emitting Diodes) is referred to as a substrate, and a glass substrate for OLED (Organic Light Emitting Diodes) is simply referred to as a substrate.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 증착 장치에서 챔버가 개략적으로 도시된 도면, 도 2는 도 1의 간섭 방지유닛의 구조가 개략적으로 도시된 도면, 도 3 및 도 4는 도 1의 얼라인유닛이 도시된 분해사시도, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 증착 장치의 개략적인 구조가 도시된 구조도, 도 6은 보관용 리프터가 도시된 도면, 도 7은 수평 구동부의 작동이 도시된 도면, 도 8은 도 7의 슬라이딩 플레이트의 개략적인 구조가 도시된 사시도, 그리고 도 9는 공급유닛이 도시된 도면이다.FIG. 1 is a view schematically showing a chamber in a thin film deposition apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a view schematically showing the structure of the interference preventing unit of FIG. 1, and FIG. 3 and FIG. FIG. 5 is a structural view illustrating a schematic structure of a thin film deposition apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 6 is a view showing a storage lifter, and FIG. 7 is a cross- Fig. 8 is a perspective view showing the schematic structure of the sliding plate of Fig. 7, and Fig. 9 is a view showing the supply unit.

이들 도면에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 박막 증착 장치는, 기판(미도시)에 대한 증착 공정이 진행되는 챔버(100)와, 챔버(100)의 내부에 설치되어 기판에 증착 패턴을 형성하는, 마스크라 불리기도 하는 패턴형성부재(M)와, 챔버(100)에 마련되어 기판과 패턴형성부재(M)의 얼라인(align)을 위해 기판과 패턴형성부재(M)의 위치 정보를 획득하는 비전유닛(K)과, 비전유닛(K)과 연결되며, 패턴형성부재(M)의 교체 시 비전유닛(K)과 패턴형성부재(M)가 간섭되는 것을 방지하는 간섭 방지유닛(600)을 포함한다.As shown in these drawings, the thin film deposition apparatus according to the first embodiment of the present invention includes a chamber 100 in which a deposition process is performed on a substrate (not shown) And a pattern forming member M provided in the chamber 100 for aligning the substrate with the pattern forming member M. The pattern forming member M may be referred to as a mask, (K) for preventing interference between the vision unit (K) and the pattern forming member (M) when the pattern forming member (M) is replaced, Prevention unit 600 shown in Fig.

본 실시예에 따른 챔버(100)는, 기판을 이송하는 기판 캐리어(110)와, 챔버(100)의 내부에 마련되며 증착물질을 발생시키는 소스(S, source)가 배치되고 상단부에 패턴형성부재(M)가 설치되는 증착부(120)를 더 포함한다.The chamber 100 according to the present embodiment includes a substrate carrier 110 for transferring a substrate and a source S which is provided inside the chamber 100 and generates a deposition material, And a deposition unit 120 in which the deposition mask M is installed.

기판 캐리어(110)는, 기판을 파지 및 파지 해제할 수 있으며, 챔버(100) 내부에서 이동된다. 기판 캐리어(110)는 기판의 증착면이 패턴형성부재(M)를 향하게 함으로써, 기판의 증착면에 증착 패턴이 형성되도록 한다. 기판 캐리어(110)의 이송은 리니어 모터(Linear Motor) 방식, 롤러나 컨베이어 방식 등 다양할 수 있으나 여기에서는 구체적인 도시를 생략한다.The substrate carrier 110 can grasp and release the substrate and is moved within the chamber 100. The substrate carrier 110 directs the deposition surface of the substrate to the pattern formation member M so that the deposition pattern is formed on the deposition surface of the substrate. The substrate carrier 110 may be conveyed by a linear motor method, a roller, a conveyor method, or the like, but a specific illustration thereof is omitted herein.

증착부(120)는, 챔버(100)의 내부에 마련되며, 증착물질을 발생시키는 소스(source)가 배치되고 상단부에 패턴형성부재(M)가 설치된다.The deposition unit 120 is provided inside the chamber 100 and includes a source for generating a deposition material and a pattern forming member M at an upper end.

한편, 본 실시예에 따른 챔버(100)는, 챔버(100)의 상부 또는 하부에 마련되어 기판 캐리어(110)가 반송되는 반송챔버(미도시)와, 챔버(100)의 입구측과 출구측에 각각 배치되어 기판 캐리어(110)를 승강 및 회전시키는 리프트/플립 유닛(미도시)을 더 포함할 수 있다. 참고로, 기판 캐리어(110)의 리턴은 캠팔로워 레일이 사용될 수 있다.The chamber 100 according to the present embodiment includes a transfer chamber (not shown) provided at an upper portion or a lower portion of the chamber 100 to convey the substrate carrier 110 and a transfer chamber And a lift / flip unit (not shown) arranged to lift and rotate the substrate carrier 110, respectively. For reference, the return of the substrate carrier 110 may be performed using a cam follower rail.

반송챔버는 증착이 완료되어 기판이 언로딩(unloading)된 기판 캐리어(110)를 다시 챔버(100)의 입구측으로 이송하기 위한 것으로서 챔버(100)의 하부에 마련될 수 있으나 경우에 따라서는 챔버(100)의 상부에 마련될 수도 있다.The transfer chamber may be provided at the lower portion of the chamber 100 for transferring the unloaded substrate carrier 110 to the inlet side of the chamber 100 after the deposition is completed, 100).

한편, 본 실시예의 경우, 기판 캐리어(110)를 세정하기 위한 세정유닛(미도시)을 더 구비할 수 있다. 세정유닛은 클린 롤(clean roll)을 사용하여 기판 캐리어(110)로부터의 이물질을 떼어내는 방식으로 적용될 수 있다.On the other hand, in the case of this embodiment, a cleaning unit (not shown) for cleaning the substrate carrier 110 may further be provided. The cleaning unit can be applied in such a manner that foreign matter is removed from the substrate carrier 110 using a clean roll.

도시하지 않았으나 리프트/플립 유닛은 챔버(100)의 입구측과 출구측에 각각 배치되어 기판 캐리어(110)를 승강 및 회전시킬 수 있다. 이러한 리프트/플립 유닛(미도시)은 챔버(100)의 입구측과 출구측에 각각 마련되는데, 챔버(100)의 입구측은 반송챔버 기준으로 반송챔버의 출구측을 의미한다.Although not shown, the lift / flip units may be respectively disposed at the inlet side and the outlet side of the chamber 100 to lift and rotate the substrate carrier 110. These lift / flip units (not shown) are provided on the inlet side and the outlet side of the chamber 100, respectively, and the inlet side of the chamber 100 means the outlet side of the transfer chamber on the basis of the transfer chamber.

챔버(100)의 입구측에 배치된 리프트/플립 유닛(미도시)은, 반송챔버로부터 반송되는 기판 캐리어(110)를 받아 이를 챔버(100) 위치까지 상승시키는 동시에, 기판 캐리어(110)에 로딩(loading)된 기판의 증착면이 지면을 향하도록 기판 캐리어(110)를 반전시키는 것이다. 물론, 반송챔버가 상부에 배치될 때는 리프트/플립 유닛의 동작이 반대가 될 수 있다.The lift / flip unit (not shown) disposed at the inlet side of the chamber 100 receives the substrate carrier 110 conveyed from the conveyance chamber and lifts the substrate carrier 110 to the position of the chamber 100, the substrate carrier 110 is reversed such that the deposited surface of the loaded substrate faces the ground. Of course, the operation of the lift / flip unit can be reversed when the transfer chamber is disposed at the top.

챔버(100)의 출구측에 배치된 리프트/플립 유닛(미도시)은, 증착 공정이 완료된 기판이 언로딩될 수 있도록 기판이 다시 기판 캐리어(110)의 상부면에 위치하도록 기판 캐리어(110)를 반전시키고, 기판이 언로딩된 기판 캐리어(110)를 반송챔버 위치까지 하강시킨다.A lift / flip unit (not shown) disposed on the outlet side of the chamber 100 is mounted on the substrate carrier 110 so that the substrate is again placed on the upper surface of the substrate carrier 110 so that the substrate on which the deposition process is completed can be unloaded. And the substrate carrier 110 on which the substrate is unloaded is lowered to the transfer chamber position.

비전유닛(K)은, 챔버(100)에 마련되어 기판과 패턴형성부재(M)의 얼라인(align)을 위해 기판과 패턴형성부재(M)의 위치 정보를 획득한다.The vision unit K is provided in the chamber 100 to acquire positional information of the substrate and the pattern forming member M for aligning the pattern forming member M with the substrate.

본 실시예에서 비전유닛(K)은, 기판의 마련된 기판 정렬 마크와 패턴형성부재(M)에 마련된 패턴형성부재 정렬 마크를 촬상하는 비전 카메라이다. 본 실시예에서 비전 카메라는 CCD 카메라(charge-coupled device camera, CCD camera)로 마련된다.In the present embodiment, the vision unit K is a vision camera for picking up a substrate alignment mark provided on a substrate and a pattern formation member alignment mark provided on the pattern formation member M. [ In the present embodiment, the vision camera is provided with a charge-coupled device camera (CCD camera).

또한 본 실시예에서 패턴형성부재 정렬 마크는 패턴형성부재(M)의 모서리 영역에 마련되며, 이러한 패턴형성부재(M)의 모서리 영역을 한 번에 촬상하기 위해 비전 카메라는 복수로 마련된다.Further, in this embodiment, the pattern formation member alignment marks are provided in the corner areas of the pattern formation member M, and a plurality of vision cameras are provided in order to image the corner areas of the pattern formation member M at one time.

간섭 방지유닛(600)은, 비전유닛(K)과 연결되며, 패턴형성부재(M)의 교체 시 비전유닛(K)과 패턴형성부재(M)가 간섭되는 것을 방지한다. 이러한 간섭 방지유닛(600)은, 길이가 가변되어 비전유닛(K)의 위치를 변경하는 신축형 간섭 방지유닛(600)이다.The interference preventing unit 600 is connected to the vision unit K and prevents the vision unit K and the pattern forming member M from interfering with each other when the pattern forming member M is replaced. The interference preventing unit 600 is a telescopic interference preventing unit 600 whose length is changed to change the position of the vision unit K.

본 실시예에 따른 신축형 간섭 방지유닛(600)은, 비전유닛(K)을 챔버(100)의 내부와 격리하며, 길이가 신축 가능한 신축 격리부(610)와, 신축 격리부(610)와 연결되어 신축 격리부(610)의 길이를 신축시키는 신축 구동부(620,630)를 포함한다.The expansion and contraction type interference prevention unit 600 according to the present embodiment includes an expansion and contraction portion 610 that separates the vision unit K from the interior of the chamber 100 and is capable of expanding and contracting in length, And extend and retract to extend and retract the length of the elasticity isolating part 610.

신축 격리부(610)는, 비전유닛(K)을 챔버(100)의 내부와 격리하며, 길이가 신축 가능하다. 이러한 신축 격리부(610)는, 비전유닛(K)이 결합되는 비전유닛 거치대(611)와, 일단부는 비전유닛 거치대(611)에 연결되고, 타단부는 챔버의 내벽에 연결되는 벨로우즈(bellows, 612)를 포함한다.The expansion and contraction portion 610 isolates the vision unit K from the interior of the chamber 100 and is capable of expanding and contracting in length. The expansion joint 610 includes a vision unit holder 611 to which the vision unit K is coupled and a bellows portion 611 having one end connected to the vision unit holder 611 and the other end connected to the inner wall of the chamber. 612).

비전유닛 거치대(611)는 컵(cup) 형태를 갖으며, 내부에 비전 카메라가 설치된다. 본 실시예에서 비전유닛 거치대(611)의 비전 카메라에 의한 촬상을 위해 투명재질로 마련된다.The vision unit holder 611 has a cup shape and a vision camera is installed therein. And is made of a transparent material for imaging by the vision camera of the vision unit holder 611 in this embodiment.

벨로우즈(bellows, 612)는, 하단부는 비전유닛 거치대(611)에 연결되고, 상단부는 챔버(100)의 내벽에 연결된다. 이러한 벨로우즈(612)에 의해 신축형 간섭 방지유닛(600)은, 비전유닛(K)을 챔버(100)의 내부와 격리하는 동시에 길이가 신축될 수 있다.The lower end of the bellows 612 is connected to the vision unit holder 611, and the upper end of the bellows 612 is connected to the inner wall of the chamber 100. With this bellows 612, the stretchable type interference preventing unit 600 can isolate the vision unit K from the inside of the chamber 100 and can be stretched in length.

신축 구동부(620,630)는, 신축 격리부(610)와 연결되어 신축 격리부(610)의 길이를 신축시킨다. 신축 구동부(620,630)는, 비전유닛 거치대(611)와 연결되는 구동 바아(620)와, 구동 바아(620)를 업/다운(up/down)하는 구동 바아 업/다운부(630)를 포함한다.The stretchable and contractible drive units 620 and 630 are connected to the stretch shrinkage isolator 610 to extend and contract the length of the stretch shrinkage isolator 610. The stretching and driving units 620 and 630 include a driving bar 620 connected to the vision unit rest 611 and a driving bar up / down unit 630 for up / down the driving bar 620 .

구동 바아(620)는, 일측이 비전유닛 거치대(611)와 연결되고 타측이 구동 바아 업/다운부(630)와 연결되어 구동 바아 업/다운부(630)의 동작에 의해 비전유닛(K)이 결합된 비전유닛 거치대(611)를 업/다운(up/down)시킨다.The driving bar 620 has one side connected to the vision unit rest 611 and the other side connected to the driving bar up / down part 630 so that the vision unit K can be operated by the operation of the driving bar up / down part 630. [ And up / down the combined vision unit holder 611.

구동 바아 업/다운부(630)는, 챔버(100) 상부 외벽에 마련되어 구동 바아(620)를 업/다운(up/down)시킨다. 이러한 구동 바아 업/다운부(630)는, 구동 바아(620)가 결합되는 엘엠 블록(LM block, 631)과, 엘엠 블록(631)의 이동을 안내하는 엘엠 가이드(LM guide, 632)와, 엘엠 블록(631)을 이동시키는 서보 모터(servo motor, 미도시)를 포함한다.The driving bar up / down part 630 is provided on the outer wall of the upper part of the chamber 100 to up / down the driving bar 620. The drive bar up / down unit 630 includes an LM block 631 to which the drive bar 620 is coupled, an LM guide 632 to guide the movement of the LM block 631, And a servo motor (not shown) for moving the LBL block 631.

이와 같이 본 실시예에 따른 박막 증착 장치는, 간섭 방지유닛(600)이 비전유닛(K)을 업/다운(up/down)함으로써, 패턴형성부재(M)의 교체 시 비전유닛(K)과 패턴형성부재(M)가 간섭되는 것을 방지할 수 있다.As described above, in the thin film deposition apparatus according to the present embodiment, since the interference prevention unit 600 up / down the vision unit K, when the pattern formation member M is replaced, The pattern forming member M can be prevented from being interfered with.

한편 본 실시예에 따른 박막 증착 장치는, 챔버(100)에 마련되어 기판과 패턴형성부재(M)의 얼라인(align)을 위해 패턴형성부재(M)의 위치를 변경하는 얼라인유닛(700)과, 비전유닛(K)의 위치 정보에 따라 얼라인유닛(700)을 제어하는 제어부(미도시)를 더 포함한다.The thin film deposition apparatus according to the present embodiment includes an alignment unit 700 which is provided in the chamber 100 and changes the position of the pattern forming member M to align the pattern forming member M with the substrate, And a control unit (not shown) for controlling the alignment unit 700 according to the position information of the vision unit K. [

이때, 얼라인유닛(700)은 기판이 이송될 때 기판에 대한 패턴형성부재(M)의 얼라인 작업을 진행할 수 있다.At this time, the alignment unit 700 can proceed to align the pattern forming member M with respect to the substrate when the substrate is transferred.

얼라인유닛(700)은, 비전유닛(K)에 의해 촬상된 기판 정렬 마크(미도시)와 패턴형성부재 정렬 마크(미도시)가 정확하게 일치되도록 기판과 패턴형성부재(M)를 최종적으로 얼라인(align)한다.The alignment unit 700 finally aligns the substrate and the pattern formation member M so that the substrate alignment marks (not shown) captured by the vision unit K and the pattern formation member alignment marks Align.

본 실시예에서는 얼라인유닛(700)은 6축의 자유도를 갖는 6축 얼라인유닛(700)으로 이루어진다.In this embodiment, the alignment unit 700 is composed of a six-axis alignment unit 700 having six degrees of freedom.

6축 얼라인유닛(700)은, 평면방향의 X축 ,Y축, 회전각(θ)을 갖는 요우(yaw)작동의 3개의 자유도와, 수직방향의 Z축, 피치 (pitch)작동, 롤(roll)작동의 3개의 자유도를 가진다.The six-axis aligning unit 700 has three degrees of freedom of yaw operation with the X-axis, the Y-axis and the rotation angle? In the planar direction, the Z-axis in the vertical direction, the pitch operation, and three roll degrees of freedom.

이러한 6축 얼라인유닛(700)은, 진공 챔버 내부에 마련되어 증착부(120)가 장착되는 상부 판넬(710)과, 상부 판넬(710)의 하부에 마련되며 상부 판넬(710)을 지지하는 중부 판넬(720)과, 중부 판넬(720)의 하부에 마련되어 중부 판넬(720)을 지지하는 하부 판넬(730)과, 중부 판넬(720) 상에 마련되어 상부 판넬(710)의 높이 방향의 위치와 각도를 조절하는 적어도 하나의 Z축 모듈(740)과, 하부 판넬(730) 상에 마련되어 중부 판넬(720)의 길이 방향의 위치를 조절하는 적어도 하나의 X축 모듈(750)과, 하부 판넬(730) 상에 마련되어 중부 판넬(720)의 길이 방향과 교차하는 방향의 위치와 각도를 조절하는 적어도 하나의 Y축 모듈(760)을 포함한다.The six-axis alignment unit 700 includes an upper panel 710 provided inside the vacuum chamber and on which the deposition unit 120 is mounted, a central portion 710 provided below the upper panel 710 and supporting the upper panel 710, A lower panel 730 provided on the lower portion of the central panel 720 and supporting the central panel 720 and a lower panel 730 provided on the central panel 720 to adjust the position of the upper panel 710 in the height direction, At least one Z axis module 740 for adjusting the longitudinal position of the central panel 720 and at least one X axis module 750 provided on the lower panel 730 for adjusting the longitudinal position of the central panel 720, Axis module 760 for adjusting the position and angle of the central panel 720 in the direction transverse to the longitudinal direction of the central panel 720. [

상부 판넬(710)은 상면에 증착부(120)가 장착되며, 중부 판넬(720)은 상부 판넬(710)의 하부에서 상부 판넬(710)을 지지고, 하부 판넬(730)은 중부 판넬(720)의 하부에 마련되어 중부 판넬(720)을 지지한다.The central panel 720 supports the upper panel 710 at the lower part of the upper panel 710 and the lower panel 730 supports the central panel 720 at the lower part of the upper panel 710. [ And supports the central panel 720. [0054]

하부 판넬(730)에는 중부 판넬(720)을 중부 판넬(720)의 길이방향(X축 방향)과 중부 판넬(720)의 길이방향과 교차하는 방향(Y축 방향)으로 이동시키는 X축 모듈(750)과 Y축 모듈(760)이 배치된다. X축 모듈(750)은 1개가 마련되고 Y축 모듈(760)은 한 쌍이 마련된다. 따라서 중부 판넬(720)은 평면상에서의 X축 방향, Y축 방향, 그리고 그 사이의 각도, 즉 요(yaw) 동작에 대하여 자유도를 가진다.Axis module 720 for moving the center panel 720 in the longitudinal direction (X-axis direction) of the central panel 720 and in the direction (Y-axis direction) crossing the longitudinal direction of the central panel 720, 750 and a Y-axis module 760 are disposed. One X-axis module 750 is provided and a pair of Y-axis modules 760 are provided. Thus, the central panel 720 has degrees of freedom with respect to the X-axis direction, the Y-axis direction, and the angle therebetween, that is, the yaw operation on the plane.

중부 판넬(720)에는 상부 판넬(710)을 상부 판넬(710)의 높이방향(Z축 방향)으로 이동시키는 Z축 모듈(740)이 배치된다. Z축 모듈(740)은 3개가 마련되는데, 이에 의하여 Z축 방향, 피치 (pitch) 동작, 롤(roll) 동작의 3개의 자유도를 가진다.A Z-axis module 740 for moving the upper panel 710 in the height direction (Z-axis direction) of the upper panel 710 is disposed in the central panel 720. Three Z-axis modules 740 are provided, thereby having three degrees of freedom of Z-axis direction, pitch operation, and roll operation.

이상과 같은 X축, Y축, Z축 모듈(740, 750, 760)의 작동에 의하여 최종적으로 증착부(120)에 설치되는 패턴형성부재(M)가 기판에 정밀하게 얼라인(align)된다. The pattern forming member M finally installed on the evaporated portion 120 is precisely aligned on the substrate by the operation of the X axis, Y axis and Z axis modules 740, 750 and 760 as described above .

이와 같이 본 실시예에 따른 박막 증착 장치는, 제어부가 비전유닛(K)의 위치 정보에 따라 얼라인유닛(700)을 제어함으로써, 패턴형성부재(M)를 기판에 정밀하게 얼라인(align)시켜 증착 품질을 향상시킬 수 있다. As described above, in the thin film deposition apparatus according to the present embodiment, the control unit controls the alignment unit 700 according to the position information of the vision unit K to precisely align the pattern formation member M on the substrate. Thereby improving the quality of the deposition.

한편 본 실시예에 따른 박막 증착 장치는, 챔버(100)에 인접하게 배치되며, 패턴형성부재(M)의 교체를 위해 패턴형성부재(M)를 보관하는 보관유닛(200)과, 보관유닛(200)과 챔버(100)에 인접하게 마련되며, 보관유닛(200)에 보관된 패턴형성부재(M)를 챔버(100)의 내부로 전달하는 전달유닛(300)과, 챔버(100)에 마련되어 패턴형성부재(M)를 교체하는 교체유닛(400)을 더 포함한다. The thin film deposition apparatus according to the present embodiment includes a storage unit 200 disposed adjacent to the chamber 100 for storing the pattern forming member M for replacement of the pattern forming member M, A transfer unit 300 provided adjacent to the chamber 100 for transferring the pattern forming member M stored in the storage unit 200 to the interior of the chamber 100, And a replacing unit 400 for replacing the pattern forming member M. [

보관유닛(200)은, 챔버(100)에 인접하게 배치되며, 패턴형성부재(M)의 교체를 위해 패턴형성부재(M)를 보관한다. 이러한 보관유닛(200)은 챔버(100)의 외측벽과 연결되는 보관 챔버(C)에 배치된다. 챔버(100)와 보관 챔버(C)에는, 전달유닛(300)에 의한 패턴형성부재(M)의 이동을 위해 패턴형성부재 출입구(E)가 마련된다. The storage unit 200 is disposed adjacent to the chamber 100 and stores the pattern forming member M for replacement of the pattern forming member M. [ This storage unit 200 is disposed in a storage chamber C which is connected to the outer wall of the chamber 100. A pattern forming member entrance E is provided in the chamber 100 and the storage chamber C for movement of the pattern forming member M by the transfer unit 300. [

보관 챔버(C)는 패턴형성부재(M)에 이물질이 부착되는 것을 방지하기 위해 진공 상태를 유지하며, 보관 챔버(C)의 내부에는 패턴형성부재 이송부(510)가 배치된다.The storage chamber C maintains a vacuum state to prevent foreign matter from adhering to the pattern forming member M. The pattern forming member transferring unit 510 is disposed inside the storage chamber C.

본 실시예에서 보관유닛(200)은, 패턴형성부재(M)를 파지하여 지지하는 파지형 보관유닛(200)이다. In this embodiment, the storage unit 200 is a holding type storage unit 200 that holds and supports the pattern forming member M.

이러한 파지형 보관유닛(200)은, 전달유닛(300)의 상부 영역에 마련되어 패턴형성부재(M)를 업/다운(up/down)시켜 패턴형성부재(M)를 보관하고 전달유닛(300)에 적재하는 보관용 리프터(200)이다.Such a phage-type storage unit 200 is provided in an upper region of the transfer unit 300 and holds up the pattern formation member M by up / down the pattern formation member M, And the lifter 200 is a storage lifter 200 for lifting the lifter 200.

본 실시예에서 보관용 리프터(200)는, 패턴형성부재(M)를 파지하는 보관용 그립퍼(gripper, 210)와, 보관용 그립퍼(210)를 업/다운(up/down)시키는 보관용 그립퍼 업/다운(up/down) 구동부(220)를 포함한다.In this embodiment, the storage lifter 200 includes a gripper 210 for holding the pattern forming member M, a storage gripper 210 for up / down the storage gripper 210, And an up / down driving unit 220.

보관용 그립퍼(210)는 패턴형성부재(M)의 측면부를 파지하며, 보관용 그립퍼 업/다운(up/down) 구동부(220)에 의해 업/다운(up/down)된다. 보관용 그립퍼 업/다운(up/down) 구동부(220)는 보관 챔버(C)의 상부 외벽에 지지된다.The storage gripper 210 holds the side surface of the pattern forming member M and is up / down by the gripper up / down driving unit 220 for storage. The storage gripper up / down driving unit 220 is supported on the upper outer wall of the storage chamber C.

보관용 그립퍼 업/다운(up/down) 구동부(220)는 LM 방식으로 보관용 그립퍼(210)를 업/다운(up/down)시킨다. 즉 보관용 그립퍼 업/다운(up/down) 구동부(220)는, 보관용 그립퍼(210)가 결합되는 엘엠 블록(LM block, 221)과, 엘엠 블록(221)의 이동을 안내하는 엘엠 가이드(LM guide, 222)와, 엘엠 블록(221)을 이동시키는 서보 모터(servo motor, 미도시)를 포함한다.The gripper up / down driving unit 220 up / down the gripper 210 for storage in the LM mode. That is, the storage gripper up / down driving unit 220 includes an LM block 221 to which the storage gripper 210 is coupled, an LM block 221 for guiding the movement of the LM block 221 An LM guide 222, and a servo motor (not shown) for moving the LM block 221.

보관용 그립퍼(210)는 보관 챔버(C)의 상부벽에 형성된 관통홀(미도시)을 관통하여 엘엠 블록(221)과 결합되는데, 이러한 관통홀이 보관 챔버(C)의 진공 상태에 영향을 주지 않도록 보관용 리프터(200)에는, 보관 챔버(C)의 내부와 관통홀을 격리하는 격리부재(P)가 마련된다. The storage gripper 210 is coupled with the L-shaped block 221 through a through hole (not shown) formed in the upper wall of the storage chamber C so that the through hole can affect the vacuum state of the storage chamber C. The storage lifter 200 is provided with an isolating member P for isolating the inside of the storage chamber C from the through hole.

격리부재(P)는, 상단부는 관통홀 주위의 감싸며 보관 챔버(C) 상부 내벽과 결합되고 하단부는 보관용 그립퍼(210)의 일측에 결합되는, 리프터용 벨로우즈(bellows)로 이루어진다.The isolating member P is made up of bellows for a lifter, the upper end of which is wrapped around the through hole and is engaged with the upper inner wall of the storage chamber C and the lower end is coupled to one side of the storage gripper 210.

이러한 보관용 리프터(200)는, 패턴형성부재(M)의 교체를 준비하기 위해 패턴형성부재(M)를 미리 보관용 그립퍼(210)로 파지하여 보관한다. 또한 보관용 리프터(200)는, 패턴형성부재(M) 교체 시 패턴형성부재(M)를 파지한 보관용 그립퍼(210)를 하강시켜 전달유닛(300)에 패턴형성부재(M)를 적재 후 패턴형성부재(M)를 파지 해제하고 전달유닛(300)의 작동에 의한 간섭을 피하기 위해 보관용 그립퍼(210)를 상승시킨다. In this storage lifter 200, the pattern forming member M is held in advance by the gripper 210 for storage in order to prepare for replacement of the pattern forming member M. The storage lifter 200 also has a function of lowering the storage gripper 210 gripping the pattern forming member M when the pattern forming member M is replaced and loading the pattern forming member M in the transfer unit 300 The holding gripper 210 is lifted to grasp the pattern forming member M and to avoid interference by the operation of the transmitting unit 300. [

한편, 보관용 리프터(200)는 증착부(120)의 수량에 대응하여 복수로 마련될 수 있다. 즉 보관유닛(200)들은, 보관 챔버(C) 내부에서 복수의 챔버(100)의 증착부(120) 각각에 대응하는 위치에 각각 배치됨으로써, 패턴형성부재(M) 교체 시 보관된 패턴형성부재(M)들이 동시에 챔버(100)에 투입되는 것을 대비할 수 있다.Meanwhile, a plurality of storage lifters 200 may be provided corresponding to the number of evaporation units 120. That is, the storage units 200 are respectively disposed at positions corresponding to the deposition portions 120 of the plurality of chambers 100 in the storage chamber C, (M) to be injected into the chamber 100 at the same time.

이와 같이 본 실시예에 따른 박막 증착 장치는, 보관용 리프터(200)가 패턴형성부재(M)를 미리 보관함으로써, 패턴형성부재(M)의 교체 시 보관된 패턴형성부재(M)를 즉시 챔버(100)에 투입할 수 있어 패턴형성부재(M) 교체시간을 단축시킨다.As described above, in the thin film deposition apparatus according to the present embodiment, the storage lifter 200 stores the pattern forming member M in advance, so that the pattern forming member M stored at the time of replacing the pattern forming member M is immediately transferred (100), thereby shortening the replacement time of the pattern forming member (M).

한편 전달유닛(300)은, 보관유닛(200)에 보관된 패턴형성부재(M)를 챔버(100)의 내부로 전달하도록 보관유닛(200)과 챔버(100)에 인접하게 마련된다.The transfer unit 300 is provided adjacent to the storage unit 200 and the chamber 100 to transfer the pattern forming member M stored in the storage unit 200 into the interior of the chamber 100. [

이러한 전달유닛(300)은 보관 챔버(C)에 마련되어 보관용 리프터(200)에 하부 영역에 배치된다. 따라서 보관용 리프터(200)가 적재한 패턴형성부재(M)를 즉시 패턴형성부재 출입구(E)를 통해 챔버(100)의 내부로 전달할 수 있다.This transfer unit 300 is provided in the storage chamber C and is disposed in the lower region of the storage lifter 200. Therefore, the pattern forming member M loaded with the storage lifter 200 can be immediately transferred to the inside of the chamber 100 through the pattern forming member entrance E.

본 실시예에 따른 전달유닛(300)은, 패턴형성부재(M)를 지지하는 지지 플레이트(310)와, 지지 플레이트(310)를 왕복 이동시키는 수평 구동부(320)를 포함한다. The transfer unit 300 according to the present embodiment includes a support plate 310 for supporting the pattern forming member M and a horizontal drive unit 320 for reciprocating the support plate 310.

지지 플레이트(310)는, 패턴형성부재(M)의 교체를 위해 보관용 리프터(200)가 적재한 패턴형성부재(M)를 지지한다.The support plate 310 supports the pattern forming member M loaded with the storage lifter 200 for replacement of the pattern forming member M. [

수평 구동부(320)는, 상호 상대이동 가능하게 적층되며, 슬라이딩 이동에 의해 지지 플레이트(310)를 챔버(100)의 내부 및 외부로 인입 및 인출하는 복수의 슬라이딩 플레이트(321)와, 슬라이딩 플레이트(321)를 지지하는 지지 블록(322)을 포함한다. The horizontal driving unit 320 includes a plurality of sliding plates 321 stacked to be movable relative to each other and to draw the support plate 310 into and out of the chamber 100 by sliding movement, And a support block 322 for supporting the support frame 321.

복수의 슬라이딩 플레이트(321) 각각은 도 8에 도시된 바와 같이 랙(R) 기어와 피니언(P) 기어의 조합에 의해 구동될 수 있다. 하지만, 랙(R) 기어와 피니언(P) 기어 외의 다른 구동 수단이 적용될 수도 있다.Each of the plurality of sliding plates 321 may be driven by a combination of a rack (R) gear and a pinion (P) gear as shown in Fig. However, other driving means other than the rack (R) gear and the pinion (P) gear may be applied.

본 실시예에 따른 전달유닛(300)은, 보관용 리프터(200)에 보관된 패턴형성부재(M)를 챔버(100)로 전달하는 역할에 더불어 교체를 위해 증착부(120)에서 설치 해제된 패턴형성부재(M)를 챔버(100)의 외부로 인출하는 역할도 수행한다. 설명의 편의를 위해 전달유닛(300)이 패턴형성부재(M)를 챔버(100)의 외부로 인출하는 과정에 대한 설명은 후술한다.The transfer unit 300 according to the present embodiment has a function of transferring the pattern forming member M stored in the storage lifter 200 to the chamber 100, And also takes out the pattern forming member M to the outside of the chamber 100. A description will be given of the process of the delivery unit 300 taking the pattern forming member M out of the chamber 100 for convenience of explanation.

한편 교체유닛(400)은, 챔버(100)에 마련되어 패턴형성부재(M)를 교체한다. 이러한 교체유닛(400)은 챔버(100)의 상부벽에 마련되어 증착부(120)의 상부 영역에 배치된다.On the other hand, the replacement unit 400 is provided in the chamber 100 to replace the pattern forming member M. This replacement unit 400 is provided on the upper wall of the chamber 100 and is disposed in the upper region of the deposition unit 120.

본 실시예에서 교체유닛(400)은, 패턴형성부재(M)를 파지하고 패턴형성부재(M)를 업/다운(up/down)시켜 패턴형성부재(M)를 챔버(100)에 설치 및 설치 해제하는 교체용 리프터(400)이다.In this embodiment, the replacement unit 400 is provided with the pattern forming member M held in the chamber 100 by up / down the pattern forming member M, And the replacement lifter 400 to be uninstalled.

비전유닛(K)은 패턴형성부재(M)의 모서리 영역을 촬상하며 교체용 리프터(400)의 교체용 그립퍼(410)는 패턴형성부재(M)의 모서리 영역을 피하여 패턴형성부재(M)를 파지하므로 비전유닛(K)과 교체용 리프터(400)는 간섭되지 않는다.The vision unit K picks up an edge area of the pattern forming member M and the replacement gripper 410 of the replacement lifter 400 is moved in the direction in which the pattern forming member M The vision unit K and the replacement lifter 400 are not interfered.

이러한 교체용 리프터(400)는, 패턴형성부재(M)를 파지하는 교체용 그립퍼(gripper, 410)와, 교체용 그립퍼(410)를 업/다운(up/down)시키는 교체용 그립퍼 업/다운(up/down) 구동부(420)를 포함한다.The replacement lifter 400 includes a replacement gripper 410 for gripping the pattern forming member M and a replacement gripper up / down member for up / down the replacement gripper 410. [ (up / down) driver 420.

교체용 그립퍼(410)는 패턴형성부재(M)의 측면부를 파지하며, 교체용 그립퍼 업/다운(up/down) 구동부(420)에 의해 업/다운(up/down)된다. 교체용 그립퍼 업/다운(up/down) 구동부(420)는 챔버(100)의 상부 외벽에 지지된다.The replacement gripper 410 grips the side portion of the pattern forming member M and is up / down by the replacement gripper up / down driver 420. The replacement gripper up / down driver 420 is supported on the upper outer wall of the chamber 100.

교체용 그립퍼 업/다운(up/down) 구동부(420)는, 보관용 그립퍼 업/다운(up/down) 구동부와 마찬가지로, LM 방식으로 교체용 그립퍼(410)를 업/다운(up/down)시킨다. 따라서 설명의 편의를 위해 교체용 그립퍼 업/다운(up/down) 구동부(420)에 대한 자세한 설명은 생략한다.The replacement gripper up / down driver 420 may up / down the replacement gripper 410 in an LM manner, like the gripper up / down driver for storage. . Therefore, the detailed description of the replacement gripper up / down driver 420 will be omitted for convenience of explanation.

한편 본 실시예에 따른 박막 증착 장치는, 보관유닛(200)과 인접하게 배치되며, 보관유닛(200)에 패턴형성부재(M)를 공급하는 공급유닛(510,520,530)을 더 포함한다.The thin film deposition apparatus according to the present embodiment further includes a supply unit 510, 520, 530 disposed adjacent to the storage unit 200 and supplying the pattern formation member M to the storage unit 200.

공급유닛(510,520,530)은, 보관유닛(200)에 보관될 패턴형성부재(M)를 이송하는 패턴형성부재 이송부(510)와, 패턴형성부재 이송부(510)에 의해 이송되는 패턴형성부재(M)를 보관유닛(200)에 전달하는 보관유닛용 전달부(520, 530)를 포함한다.The supply units 510, 520 and 530 include a pattern formation member transfer unit 510 for transferring the pattern formation member M to be stored in the storage unit 200 and a pattern formation member M transferred by the pattern formation member transfer unit 510. [ (520, 530) for transferring the storage unit (200) to the storage unit (200).

패턴형성부재 이송부(510)는 보관유닛(200)에 보관될 패턴형성부재(M)를 보관 챔버(C)로 이송한다. 본 실시예에 따른 패턴형성부재 이송부(510)는, 패턴형성부재(M)를 적재하는 트레이(511)와, 트레이(511)를 구동시키는 트레이 구동부(512)를 포함한다.The pattern forming member transferring unit 510 transfers the pattern forming member M to be stored in the storage unit 200 to the storage chamber C. The pattern forming member transferring portion 510 according to the present embodiment includes a tray 511 for loading the pattern forming member M and a tray driving portion 512 for driving the tray 511. [

트레이(511)는 패턴형성부재 저장소(미도시)에서 별도의 적재장치(미도시)를 통해 패턴형성부재(M)를 공급받아 보관 챔버(C)로 이송된다. 또한 트레이(511)는 증착부(120)에서 설치 해제되어 챔버(100)의 외부로 인출된 패턴형성부재(M)를 별도의 패턴형성부재 처리장소(패턴형성부재(M)를 세척하거나 폐기하는 장소, 미도시)로 이송하는 역할도 수행한다. 설명의 편의를 위해 챔버(100)의 외부로 인출된 패턴형성부재(M)가 트레이(511)에 적재되는 과정에 대한 설명은 후술한다.The tray 511 receives the pattern forming member M from a pattern forming member storage (not shown) via a separate loading device (not shown) and is transferred to the holding chamber C. The tray 511 is removed from the deposition unit 120 and the pattern formation member M drawn out of the chamber 100 is cleaned or discarded at a separate pattern formation member processing location Place, not shown). For convenience of explanation, a process of loading the pattern forming member M drawn out of the chamber 100 onto the tray 511 will be described later.

본 실시예에서 트레이 구동부(512)는, 트레이(511)는 지지하며, 상호 이격공간(Y)을 두고 이격되어 마련되는 한 쌍의 컨베이어 벨트(512)를 포함한다. 컨베이어 벨트(512)는 보관 챔버(C)의 내부를 통과하게 마련되며, 컨베이어 벨트(512)의 이격공간(Y)은 패턴형성부재(M)가 이격공간(Y)을 통해 업/다운(up/down)될 수 있도록 패턴형성부재(M)의 길이보다 긴 길이를 가진다.In this embodiment, the tray driving unit 512 includes a pair of conveyor belts 512 that support the trays 511 and are spaced apart from each other by a spacing space Y. The conveying belt 512 is provided so as to pass through the inside of the storage chamber C and the spacing space Y of the conveyor belt 512 is set such that the pattern forming member M is up / / down "). < / RTI >

이러한 컨베이어 벨트(512)는 트레이(511)가 패턴형성부재 저장소(미도시)와 패턴형성부재 처리장소(미도시)로 이동될 수 있도록 보관 챔버(C)를 통과하여 패턴형성부재 저장소(미도시)와 패턴형성부재 처리장소(미도시)로 연장되며, 별도의 반송 컨베이어 벨트(미도시)와 연결되어 트레이(511)를 트레이(511)를 순환시킬 수 있다. This conveyor belt 512 passes through the storage chamber C so that the tray 511 can be moved to the pattern forming member storage (not shown) and the pattern forming member treating place (not shown) And a pattern forming member processing unit (not shown), and is connected to a separate conveying belt (not shown) to circulate the tray 511 through the tray 511.

보관유닛용 전달부(520,530)는 패턴형성부재 이송부(510)에 의해 보관 챔버(C)에 이송된 패턴형성부재(M)를 보관유닛(200)에 전달한다. 본 실시예에서 보관유닛용 전달부(520,530)는, 전달유닛(300)을 컨베이어 벨트(512)의 하부 영역으로 이동시키는 전달유닛 이동부(520)와, 컨베이어 벨트(512)의 상부 영역에 마련되어 트레이(511)에 적재된 패턴형성부재(M)를 파지하여 이격공간(Y)을 통해 전달유닛(300)에 적재하는 전달용 리프터(530)를 포함한다.The transfer units 520 and 530 for the storage unit transfer the pattern formation member M transferred to the storage chamber C by the pattern formation member transfer unit 510 to the storage unit 200. In this embodiment, the transfer units 520 and 530 for the storage unit include a transfer unit transfer unit 520 for transferring the transfer unit 300 to the lower area of the conveyor belt 512, And a conveying lifter 530 for holding the pattern forming member M loaded on the tray 511 and loading the pattern forming member M on the conveying unit 300 through the spacing space Y. [

전달유닛 이동부(520)는 전달유닛(300)을 컨베이어 벨트(512)의 하부 영역 및 보관용 리프터(200)의 하부 영역으로 이동시킨다. 이러한 전달유닛 이동부(520)는, 전달유닛(300)이 결합되는 엘엠 블록(LM block, 미도시)과, 엘엠 블록(미도시)의 이동을 안내하는 엘엠 가이드(LM guide, 522)와, 엘엠 블록(미도시)을 이동시키는 서보 모터(servo motor, 미도시)를 포함한다.The transfer unit moving unit 520 moves the transfer unit 300 to the lower area of the conveyor belt 512 and the lower area of the storage lifter 200. [ The transfer unit moving unit 520 includes an LM block (not shown) to which the transfer unit 300 is coupled, an LM guide 522 that guides the movement of the LM block (not shown) And a servo motor (not shown) for moving an L-block (not shown).

또한 본 실시예에 따른 전달유닛 이동부(520)는, 보관용 리프터(200)에 패턴형성부재(M)를 보급하는 역할에 더불어 교체를 위해 챔버(100)의 외부로 인출된 패턴형성부재(M)를 전달용 리프터(530)에 전달하는 역할도 수행한다. 즉 전달유닛 이동부(520)는, 전달유닛(300)을 컨베이어 벨트(512)의 하부 영역과 보관용 리프터(200)의 하부 영역으로 왕복 이동시킴으로써, 패턴형성부재(M)를 보관용 리프터(200) 및 패턴형성부재(M)를 전달용 리프터(530)에 전달할 수 있다.The transfer unit moving unit 520 according to the present embodiment is also capable of supplying the pattern forming member M to the storage lifter 200 as well as the pattern forming member drawn out to the outside of the chamber 100 for replacement M to the delivering lifter 530. As shown in FIG. That is, the transfer unit moving unit 520 reciprocates the transfer unit 300 to the lower area of the conveyor belt 512 and the lower area of the storage lifter 200, thereby moving the pattern forming member M to the storage lifter 200 and the pattern forming member M to the transfer lifter 530. [

전달용 리프터(530)는, 컨베이어 벨트(512)의 상부 영역에 마련되어 트레이(511)에 적재된 패턴형성부재(M)를 파지하여 이격공간(Y)을 통해 컨베이어 벨트(512)의 하부 영역으로 이동된 전달유닛(300)에 적재한다. The transfer lifter 530 is provided in the upper region of the conveyor belt 512 and grasps the pattern forming member M placed on the tray 511 to be transferred to the lower region of the conveyor belt 512 through the spacing space Y And is loaded on the transferred transfer unit 300.

이러한 전달용 리프터(530)는, 패턴형성부재(M)를 파지하는 전달용 그립퍼(gripper, 531)와, 전달용 그립퍼(531)를 업/다운(up/down)시키는 전달용 그립퍼 업/다운(up/down) 구동부(532)를 포함한다.The transfer lifter 530 includes a gripper 531 for gripping the pattern forming member M and a gripper up / down member for transferring up / down the transfer gripper 531. [ (up / down) driver 532.

전달용 그립퍼 업/다운(up/down) 구동부(532)는, 보관용 그립퍼 업/다운(up/down) 구동부(220)와 마찬가지로, LM 방식으로 보관용 그립퍼(210)를 업/다운(up/down)시킨다. 즉 보관용 그립퍼 업/다운(up/down) 구동부(220)는, 보관용 그립퍼(210)가 결합되는 엘엠 블록(LM block, 532a)과, 엘엠 블록(532a)의 이동을 안내하는 엘엠 가이드(LM guide, 532b)와, 엘엠 블록을 이동시키는 서보 모터(servo motor, 미도시)를 포함한다.The delivering gripper up / down driving unit 532 drives up and down the storage gripper 210 by the LM method in the same manner as the storage gripper up / down driving unit 220 / down. That is, the storage gripper up / down driving unit 220 includes an LM block 532a to which the storage gripper 210 is coupled, an LM block 532a to guide the movement of the LM block 532a, An LM guide 532b, and a servo motor (not shown) for moving the LM block.

전달용 그립퍼(531)는 보관 챔버(C)의 상부벽에 형성된 관통홀(미도시)을 관통하여 엘엠 블록(532a)과 결합되는데, 이러한 관통홀(미도시)이 보관 챔버(C)의 진공 상태에 영향을 주지 않도록 보관용 리프터(200)에는, 보관 챔버(C)의 내부와 관통홀(미도시)을 격리하는 격리부재(P)가 마련된다. The delivery gripper 531 penetrates through a through hole (not shown) formed in the upper wall of the storage chamber C and is coupled with the EL block 532a. This through hole (not shown) The storage lifter 200 is provided with the isolation member P for isolating the inside of the storage chamber C from the through hole (not shown) so as not to affect the state.

격리부재(P)는, 상단부는 관통홀 주위의 감싸며 보관 챔버(C) 상부 내벽과 결합되고 하단부는 전달용 그립퍼(531)의 일측에 결합되는 리프터용 벨로우즈(bellows)로 이루어진다.The isolation member P is composed of a bellows for a lifter that is wrapped around the through hole and is coupled to the inner wall of the upper portion of the storage chamber C and the lower end is coupled to one side of the transfer gripper 531.

이하에서 본 실시예에 따른 박막 증착 장치의 작동에 대해 설명한다.Hereinafter, the operation of the thin film deposition apparatus according to the present embodiment will be described.

본 실시예에 따른 박막 증착 장치는 소정 횟수의 증착 공정을 진행 후 증착물질에 오염된 패턴형성부재(M)를 새로운 패턴형성부재(M)로 교체한다. The thin film deposition apparatus according to the present embodiment replaces the pattern formation member M contaminating the deposition material with a new pattern formation member M after a predetermined number of deposition processes.

먼저 챔버(100)에 설치되어 증착물질에 오염된 패턴형성부재(M)를 설치 해제한다. 이를 위해 교체용 리프터(400)가 작동된다. 교체용 리프터(400)는 교체용 그립퍼(410)를 하강시켜 오염된 패턴형성부재(M)를 파지 한 후 교체용 그립퍼(410)를 상승시켜 원위치로 오염된 패턴형성부재(M)를 설치 해제한다.First, the pattern forming member M, which is provided in the chamber 100 and is contaminated with the deposition material, is uninstalled. To this end, the replacement lifter 400 is operated. The replacement lifter 400 descends the replacement gripper 410 to grip the contaminated pattern forming member M and then raises the replacement gripper 410 to uninstall the pattern forming member M contaminated at the original position do.

다음 오염된 패턴형성부재(M)를 수거하기 위해 전달유닛(300)이 작동된다. 전달유닛(300)의 슬라이딩 플레이트(321)의 슬라이딩 이동에 의해 지지 플레이트(310)가 챔버(100) 내부로 인입된다. 이때 간섭 방지유닛(600)의 작동에 의해 비전유닛 거치대(611)가 상승됨으로써 챔버(100)에 인입된 지지 플레이트(310)에 놓인 패턴형성부재(M)와 비전유닛(K)의 간섭이 방지된다.The transfer unit 300 is operated to collect the next contaminated pattern forming member M. [ The sliding movement of the sliding plate 321 of the transmitting unit 300 causes the supporting plate 310 to be drawn into the chamber 100. [ The interference between the pattern forming member M placed on the support plate 310 and the vision unit K placed in the chamber 100 is prevented by the elevation of the vision unit holder 611 by the operation of the interference prevention unit 600 do.

이후, 교체용 리프터(400)는 오염된 패턴형성부재(M)를 지지 플레이트(310) 적재하고, 지지 플레이트(310)는 슬라이딩 플레이트(321)의 동작에 의해 챔버(100)에서 인출된다.Thereafter, the replacement lifter 400 loads the contaminated pattern forming member M onto the support plate 310, and the support plate 310 is drawn out of the chamber 100 by the operation of the sliding plate 321. [

지지 플레이트(310)가 챔버(100)의 외부로 인출된 후 전달유닛(300)은 오염된 패턴형성부재(M)를 적재한 채로 컨베이어 벨트(512)의 하부 영역으로 이동된다. After the support plate 310 is drawn out of the chamber 100, the transfer unit 300 is moved to the lower area of the conveyor belt 512 while the contaminated pattern forming member M is loaded.

다음 전달용 리프터(530)는, 전달용 그립퍼(531)를 컨베이어 벨트(512)의 이격공간(Y) 사이로 하강시켜 오염된 패턴형성부재(M)를 파지한 후 전달용 그립퍼(531)를 원위치로 상승시킨다.Next, the transfer lifter 530 moves the transfer gripper 531 to the original position (Y) after gripping the contaminated pattern forming member M by lowering the transfer gripper 531 between the spacing spaces Y of the conveyor belt 512, .

전달용 그립퍼(531)의 상승 후 트레이(511)가 컨베이어 벨트(512)를 따라 이송되어 전달용 리프터(530)의 하부 영역에 정지하며, 전달용 리프터(530)는 오염된 패턴형성부재(M)를 트레이(511)에 적재한다. 이후 트레이(511)는 컨베이어 벨트(512)를 따라 이송되어 별도의 패턴형성부재 처리장소(미도시)로 이동한다.The tray 511 is conveyed along the conveyor belt 512 to stop at the lower region of the transfer lifter 530 and the transfer lifter 530 is moved to the position where the contaminated pattern forming member M Is loaded on the tray 511. Thereafter, the tray 511 is conveyed along the conveyor belt 512 and moved to a separate pattern forming member processing place (not shown).

한편, 전달용 리프터(530)에 오염된 패턴형성부재(M)를 전달한 전달유닛(300)은 보관용 리프터(200)에 보관된 패턴형성부재(M)를 챔버(100)의 내부로 전달하기 위해 보관용 리프터(200)의 하부 영역으로 이동된다.The transfer unit 300 that transfers the contaminated pattern forming member M to the transfer lifter 530 transfers the pattern forming member M stored in the storage lifter 200 to the inside of the chamber 100 And is moved to the lower region of the to-be-stored lifter 200.

보관용 리프터(200)는, 보관용 그립퍼(210)를 하강시켜 보관된 패턴형성부재(M)를 지지 플레이트(310)에 적재한다.The storage lifter 200 lowers the storage gripper 210 and loads the stored pattern forming member M on the support plate 310. [

다음 전달유닛(300)의 슬라이딩 플레이트(321)의 슬라이딩 이동에 의해 지지 플레이트(310)가 챔버(100) 내부로 인입된다. 이때 앞서 설명한 바와 같이 간섭 방지유닛(600)의 작동에 의해 비전유닛 거치대(611)가 상승된 상태이므로 챔버(100)에 인입된 지지 플레이트(310)에 놓인 패턴형성부재(M)와 비전유닛(K)의 간섭이 방지된다. The sliding movement of the sliding plate 321 of the next transfer unit 300 causes the support plate 310 to be drawn into the chamber 100. As described above, since the vision unit holder 611 is raised by the operation of the interference preventing unit 600, the pattern forming member M placed on the support plate 310, which is drawn into the chamber 100, K is prevented.

교체용 리프터(400)는 교체용 그립퍼(410)를 하강시켜 지지 플레이트(310) 적재된 패턴형성부재(M)를 파지하며, 패턴형성부재(M)를 교체용 리프터(400)에 전달한 지지 플레이트(310)는 슬라이딩 플레이트(321)의 동작에 의해 챔버(100) 외부로 인출된다.The replacement lifter 400 descends the replacement gripper 410 to grip the pattern forming member M loaded on the support plate 310 and transfers the pattern forming member M to the replacement lifter 400, (310) is drawn out of the chamber (100) by the operation of the sliding plate (321).

다음 교체용 리프터(400)는, 교체용 그립퍼(410)를 하강시켜 파지된 패턴형성부재(M)를 증착부(120)에 설치한 후 원래 위치로 교체용 그립퍼(410)를 상승시킨다.Next, the replacement lifter 400 lowers the replacement gripper 410 to install the pattern forming member M held on the vapor deposition unit 120, and raises the replacement gripper 410 to the original position.

이후 간섭 방지유닛(600)이 비전유닛 거치대(611)를 기판과 패턴형성부재(M)를 촬상하는 위치로 하강시키고, 얼라인유닛(700)은 제어부의 제어신호에 의해 패턴형성부재(M)를 기판에 얼라인한다.Thereafter, the interference preventing unit 600 descends the vision unit rest 611 to a position where the substrate and the pattern forming member M are picked up, and the aligning unit 700 moves the pattern forming member M by the control signal of the control unit, To the substrate.

한편, 보관용 리프터(200)에 보관된 패턴형성부재(M)를 챔버(100)의 내부로 전달한 전달유닛(300)은 보관용 리프터(200)에 새로운 패턴형성부재(M)를 보급하기 위해 컨베이어 벨트(512)의 하부 영역으로 이동된다.The transfer unit 300 that transfers the pattern forming member M stored in the storage lifter 200 to the inside of the chamber 100 is used to supply a new pattern forming member M to the storage lifter 200 And is moved to the lower region of the conveyor belt 512.

보관용 리프터(200)에 새로운 패턴형성부재(M)를 보급하기 위해 트레이(511)는, 패턴형성부재 저장소(미도시)에서 새로운 패턴형성부재(M)를 적재한 후 보관 챔버(C)로 이송되어 전달용 리프터(530)의 하부 영역에 정지한다.In order to supply the new pattern formation member M to the storage lifter 200, the tray 511 is moved to the storage chamber C after the new pattern formation member M is loaded in the pattern formation member storage (not shown) And stops at the lower region of the transfer lifter 530. [

전달용 리프터(530)는 전달용 그립퍼(531)를 하강시켜 트레이(511)에 적재된 패턴형성부재(M)를 파지하며, 전달용 리프터(530)에 패턴형성부재(M)를 전달한 트레이(511)는 다음 작업을 위해 컨베이어 벨트(512)를 따라 이송된다.The transfer lifter 530 descends the transfer gripper 531 to grip the pattern forming member M placed on the tray 511 and transfers the pattern forming member M to the transfer lifter 530 511 are conveyed along the conveyor belt 512 for the next operation.

트레이(511)의 이동 후 전달용 리프터(530)는, 컨베이어 벨트(512)의 이격공간(Y) 사이로 전달용 그립퍼(531)를 하강시켜 파지된 패턴형성부재(M)를 지지 플레이트(310)에 적재한 후 전달용 그립퍼(531)를 원위치로 상승시킨다.The transporting lifter 530 after the movement of the tray 511 descends the transfer gripper 531 between the spacing spaces Y of the conveyor belt 512 to move the pattern formation member M held by the support plate 310, And then raises the delivery gripper 531 to the original position.

지지 플레이트(310)에 패턴형성부재(M)가 적재된 전달유닛(300)은 보관용 리프터(200)의 하부 영역으로 이동된다.The transfer unit 300 in which the pattern forming member M is mounted on the support plate 310 is moved to the lower region of the storage lifter 200. [

이후 패턴형성부재 보관용 리프터는, 보관용 그립퍼(210)를 하강시켜 지지 플레이트(310)에 적재된 마스를 파지한 후 보관용 그립퍼(210)를 원위치로 상승시켜 패턴형성부재(M)를 보관한다.Thereafter, the pattern forming member storage lifter descends the storage gripper 210 to grasp the masks loaded on the support plate 310 and then raises the storage gripper 210 to the original position to store the pattern forming member M do.

이와 같이 본 실시예에 따른 박막 증착 장치는, 보관유닛(200)이 챔버(100)에 인접하게 배치되어 패턴형성부재(M)의 교체를 위해 미리 패턴형성부재(M)를 보관하며, 전달유닛(300)이 보관유닛(200)에 보관된 패턴형성부재(M)를 챔버(100) 내부로 전달함으로써, 패턴형성부재(M)의 교체시간을 단축하여 생산성을 향상시킬 수 있다.Thus, the thin film deposition apparatus according to the present embodiment is configured such that the storage unit 200 is disposed adjacent to the chamber 100 to store the pattern formation member M in advance for replacement of the pattern formation member M, The pattern formation member M stored in the storage unit 200 is transferred to the interior of the chamber 100, thereby shortening the replacement time of the pattern formation member M and improving the productivity.

이상 도면을 참조하여 본 실시예에 대해 상세히 설명하였지만 본 실시예의 권리범위가 전술한 도면 및 설명에 국한되지는 않는다.Although the present invention has been described in detail with reference to the above drawings, the scope of the scope of the present invention is not limited to the above-described drawings and description.

이와 같이 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Accordingly, such modifications or variations are intended to fall within the scope of the appended claims.

100: 챔버 110: 기판 캐리어
200: 보관용 리프터 210: 보관용 그립퍼
221, 532a, 631: 엘엠 블록 222, 522, 532b, 632: 엘엠 가이드
300: 전달유닛 310: 지지 플레이트
320: 수평 구동부 321: 슬라이딩 플레이트
322: 지지 블록 400: 교체용 리프터
410: 교체용 그립퍼 420: 교체용 그립퍼 업/다운 구동부
510: 패턴형성부재 이송부 511: 트레이
512: 컨베이어 벨트 520: 전달유닛 이동부
530: 전달용 리프터 531: 전달용 그립퍼
600: 신축형 간섭 방지유닛 610: 신축 격리부
611: 비전유닛 거치대 612: 벨로우즈
620: 구동 바아 630: 구동 바아 업/다운부
700: 얼라인유닛 710: 상부 판넬
720: 중부 판넬 730: 하부 판넬
740: Z축 모듈 750: X축 모듈
760: Y축 모듈 K: 비전유닛
M: 패턴형성부재 C: 보관 챔버100: chamber 110: substrate carrier
200: storage lifter 210: storage gripper
221, 532a, 631: an L blocks 222, 522, 532b, 632:
300: transmitting unit 310: supporting plate
320: horizontal driving part 321: sliding plate
322: Support block 400: Replacement lifter
410: Replacement gripper 420: Replacement gripper up / down driving part
510: pattern forming member transferring unit 511:
512: conveyor belt 520: transfer unit moving part
530: delivery lifter 531: delivery gripper
600: stretch-type interference preventing unit 610: stretch-
611: vision unit holder 612: bellows
620: Drive bar 630: Drive bar up / down part
700: alignment unit 710: upper panel
720: Central panel 730: Lower panel
740: Z axis module 750: X axis module
760: Y axis module K: Vision unit
M: pattern forming member C: storage chamber

Claims

A chamber in which a deposition process for the substrate proceeds;
A vision unit which is provided in the chamber and acquires positional information of the substrate and the pattern formation member for aligning the substrate and the pattern formation member forming the deposition pattern on the substrate; And
And an interference prevention unit connected to the vision unit and preventing interference between the vision unit and the pattern formation member when the pattern formation member is replaced,
Wherein the interference preventing unit is a telescopic interference preventing unit that is variable in length to change the position of the vision unit,
Wherein the expansion joint prevention unit includes:
A stretch retention part that separates the vision unit from the inside of the chamber and is stretchable;
And an elongating and contracting driving unit connected to the elongating and contracting separating unit for elongating and contracting the length of the elongating and contracting separating unit.

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The method according to claim 1,
The elastic shaving unit
A vision unit holder to which the vision unit is coupled; And
Wherein one end portion is connected to the vision unit holder and the other end portion is connected to an inner wall of the chamber.

5. The method of claim 4,
The expansion /
A drive bar coupled to the vision unit cradle; And
And a driving bar up / down unit for up / down the driving bar.

6. The method of claim 5,
The drive bar up /
An LM block to which the driving bar is coupled;
An LM guide for guiding the movement of the LM block; And
And a servo motor for moving the EL block.

The method according to claim 1,
An alignment unit provided in the chamber and configured to align the pattern forming member with respect to the substrate when the substrate is transferred; And
And a control unit controlling the align unit according to position information of the vision unit.

The method according to claim 1,
A storage unit disposed adjacent to the chamber and storing the pattern forming member for replacement of the pattern forming member;
And a transfer unit provided adjacent to the storage unit and the chamber, for transferring the pattern forming member stored in the storage unit to the inside of the chamber.

9. The method of claim 8,
The storage unit
Wherein the pattern forming member is a holding type holding unit for holding and supporting the pattern forming member.

10. The method of claim 9,
The grip type storage unit includes:
Wherein the pattern forming member is a storage lifter provided in an upper region of the transfer unit and storing the pattern forming member by up / down the pattern forming member to load the pattern forming member on the transfer unit.

11. The method of claim 10,
The storage lifter includes:
A gripper for holding the pattern forming member; And
And a gripper up / down driving unit for up / down the gripper.

9. The method of claim 8,
The transmission unit includes:
A support plate for supporting the pattern formation member; And
And a horizontal driving unit for reciprocating the support plate.

13. The method of claim 12,
Wherein the horizontal driver comprises:
A plurality of sliding plates stacked relative to each other and movable in and out of the chamber by sliding movement; And
And a support block for supporting the sliding plate.

The method according to claim 1,
The vision unit includes:
And a vision camera for picking up a substrate alignment mark provided on the substrate and a pattern formation member alignment mark provided on the pattern formation member.

The method according to claim 1,
Wherein the substrate is a glass substrate for an OLED,
Wherein the pattern forming members are provided in a plurality of locations and are spaced apart from each other and installed in the chamber,
Wherein the chamber is provided with a substrate carrier for transporting the substrate along the pattern forming members,
Wherein the pattern forming member is a mask.