KR101433864B1 - Device of moving substrate up and down - Google Patents

Device of moving substrate up and down Download PDF

Info

Publication number
KR101433864B1
KR101433864B1 KR1020070123261A KR20070123261A KR101433864B1 KR 101433864 B1 KR101433864 B1 KR 101433864B1 KR 1020070123261 A KR1020070123261 A KR 1020070123261A KR 20070123261 A KR20070123261 A KR 20070123261A KR 101433864 B1 KR101433864 B1 KR 101433864B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
lift pin
substrate
lift
holder
pin holder
Prior art date
Application number
KR1020070123261A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20090056204A (en
Inventor
이명진
박미영
유만호
강호철
허성민
Original Assignee
주성엔지니어링(주)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주성엔지니어링(주) filed Critical 주성엔지니어링(주)
Priority to KR1020070123261A priority Critical patent/KR101433864B1/en
Publication of KR20090056204A publication Critical patent/KR20090056204A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101433864B1 publication Critical patent/KR101433864B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68742Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a lifting arrangement, e.g. lift pins
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68785Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by the mechanical construction of the susceptor, stage or support

Abstract

본 발명은 반도체소자 또는 평판표시장치를 제조하기 위해 기판을 처리하는 기판처리장치에서 사용되는 기판승강장치를 개시한다. 본 발명의 기판승강장치는 관통부를 가지는 리프트 핀 홀더; 상기 리프트 핀 홀더의 상기 관통부에 삽입 설치되며, 외주면에 수용부를 구비하는 리프트 핀; 상기 리프트 핀과 상기 리프트 핀 홀더의 사이에 설치되되, 일부분이 상기 리프트 핀의 상기 수용부의 내부에 수용되는 마찰저감부재를 포함한다.The present invention discloses a substrate lift apparatus used in a substrate processing apparatus for processing a substrate for manufacturing a semiconductor device or a flat panel display. The substrate lift apparatus of the present invention includes a lift pin holder having a penetration portion; A lift pin inserted into the penetrating portion of the lift pin holder and having a receiving portion on an outer circumferential surface thereof; And a friction reducing member which is provided between the lift pin and the lift pin holder, and a part of which is accommodated in the receiving portion of the lift pin.

본발명에 따르면, 리프트 핀과 리프트 핀 홀더 사이에 설치된 베어링 형태의 마찰저감부재가 리프트 핀과 리프트 핀 홀더 사이의 마찰력을 크게 줄여주기 때문에 리프트 핀의 승강운동이 훨씬 원활해진다. 따라서 리프트 핀이 리프트 핀 홀더에 끼이는 현상이나 리프트 핀 또는 기판이 파손되는 현상을 방지할 수 있다.According to the present invention, since the frictional reducing member in the form of a bearing provided between the lift pin and the lift pin holder greatly reduces the frictional force between the lift pin and the lift pin holder, the lifting movement of the lift pin becomes much smoother. Therefore, it is possible to prevent the lift pin from being caught in the lift pin holder or the lift pin or the substrate being broken.

기판승강장치. 리프트 핀 Substrate lifting device. Lift pin

Description

기판 승강 장치{Device of moving substrate up and down}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001]

본 발명은 반도체소자 또는 액정표시소자의 제조장치에 관한 것으로서, 상세하게는 기판안치대에 결합되어 기판을 승강시키는 리프트 핀을 포함하는 기판승강장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device or an apparatus for manufacturing a liquid crystal display element, and more particularly to a substrate elevating apparatus including a lift pin coupled to a substrate stand to elevate the substrate.

일반적으로 반도체소자 또는 평판표시장치를 제조하기 위해서는 실리콘웨이퍼 또는 글래스 등의 기판에 원료물질을 증착하는 박막증착공정, 감광성물질을 사용하여 이들 박막 중 선택된 영역을 노출 또는 은폐시키는 포토리소그라피 공정, 선택된 영역의 박막을 제거하여 패터닝하는 식각공정 등을 거치게 되며, 이들 각 공정은 해당공정을 위해 최적의 환경을 유지하는 기판처리장치의 내부에서 진행된다.Generally, in order to manufacture a semiconductor device or a flat panel display device, a thin film deposition process for depositing a raw material on a substrate such as a silicon wafer or glass, a photolithography process for exposing or concealing a selected one of the thin films using a photosensitive material, And an etching process for removing the thin film of the substrate and patterning the substrate. Each of these processes proceeds inside a substrate processing apparatus that maintains an optimal environment for the process.

최근에는 원료물질을 플라즈마 상태로 변환하여 증착 또는 식각공정을 진행하는 기판처리장치가 많이 사용되고 있으며, 도 1은 평판표시장치의 제조를 위해 기판을 처리하는 기판처리장치 중에서 플라즈마를 이용하여 박막을 증착하는 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)장치(10)의 개략적인 단면 구성을 도시한 것이다.2. Description of the Related Art [0002] In recent years, a substrate processing apparatus has been widely used in which a raw material is converted into a plasma state to perform a deposition or etching process. FIG. 1 illustrates a process for depositing a thin film Sectional view of a plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) apparatus 10 according to an embodiment of the present invention.

상기 PECVD장치(10)는 반응공간을 형성하는 챔버(11), 챔버(11)의 내부에서 기판(s)을 안치하는 기판안치대(12), 기판안치대(12)의 상부에서 원료가스를 분사하는 가스분배판(14), 가스분배판(14)에 연결된 가스공급관(15), 잔류가스를 배출하는 배기구(18)를 포함한다. 또한 상기 가스분배판(14)에는 RF전력을 공급하는 RF전원(16)이 연결된다.The PECVD apparatus 10 includes a chamber 11 for forming a reaction space, a substrate table 12 for holding a substrate s inside the chamber 11, A gas distribution plate 14 for injecting gas, a gas supply pipe 15 connected to the gas distribution plate 14, and an exhaust port 18 for discharging the residual gas. The gas distribution plate 14 is connected to an RF power source 16 for supplying RF power.

한편 기판(s)은 로봇암(미도시)에 의해 챔버(11)의 내부로 반입되거나 외부로 반출되며, 따라서 상기 PECVD장치(10)에는 기판(s)을 반출하기 위해 기판안치대(12)로부터 기판(s)을 들어올리거나 로봇암이 반입한 기판(s)을 인계하여 기판안치대(12)에 내려놓는 기판승강장치가 요구된다.On the other hand, the substrate s is carried into or out of the chamber 11 by a robot arm (not shown), and thus the PECVD apparatus 10 is provided with a substrate table 12, And a substrate lift table for lifting the substrate s from the substrate table 12 or taking over the substrate s carried by the robot arm and lowering the substrate s onto the substrate table 12 is required.

이러한 기판승강장치는 기판안치대(12)에 결합된 리프트 핀(20)과 상기 리프트 핀의 승강운동을 가이드하는 리프트 핀 홀더를 포함한다.The substrate lift apparatus includes a lift pin 20 coupled to the substrate table 12 and a lift pin holder for guiding the lift movement of the lift pin.

도 2는 기판승강장치의 상세 단면도로서, 길이방향의 관통부를 가지는 실린더 형상의 리프트 핀 홀더(30)가 기판안치대(12)의 핀홀(12a)의 내부에 설치되며, 리프트 핀(20)은 리프트 핀 홀더(30)의 관통부에 삽입되어 설치된다.2 is a detailed sectional view of the substrate lifting device. A cylindrical lift pin holder 30 having a longitudinal through-hole is provided inside the pin hole 12a of the substrate table 12, And is inserted into the penetration portion of the pin holder 30.

리프트 핀(20)은 막대 형상의 몸체(21)와, 상기 몸체(21)보다 직경이 큰 원반형태로서 몸체(21)의 상단에 형성되는 헤드(22)로 이루어지며, 세라믹 재질로 제조된다. The lift pin 20 is composed of a rod-like body 21 and a head 22 formed on the upper end of the body 21 as a disk having a larger diameter than the body 21 and made of a ceramic material.

리프트 핀 홀더(30)는 리프트 핀(20)이 기판안치대(12)와 직접 접촉하는 것을 방지하기 위하여 설치되는 것으로서 리프트 핀(20)의 승강운동이 원활하게 이루어지도록 하는 역할도 한다. 리프트 핀 홀더(30)도 통상 세라믹 재질로 제조된다.The lift pin holder 30 is installed to prevent the lift pins 20 from coming into direct contact with the substrate table 12 and also serves to smoothly lift and lower the lift pins 20. [ The lift pin holder 30 is also usually made of a ceramic material.

기판안치대(12)의 핀홀(12a)에는 리프트 핀(20)이 아래로 빠지는 것을 방지하기 위하여 내측으로 걸림턱(12b)이 돌출 형성되어 있으며, 따라서 리프트 핀의 헤드(22)는 상기 걸림턱(12b)의 내경보다는 큰 직경을 가진다.The pin hole 12a of the substrate table 12 is formed with a locking protrusion 12b protruding inwardly in order to prevent the lift pin 20 from falling downward so that the head 22 of the lift pin (12b).

이러한 PECVD장치(10)에서 공정을 진행하기 위해서는 먼저 챔버(10)의 내부로 기판(s)을 반입하여 도 3에 도시된 바와 같이 기판안치대(120)의 상부로 돌출된 리프트 핀(20)의 상단부에 기판(s)을 올려 놓아야 한다.In order to carry out the process in the PECVD apparatus 10, the substrate s is first loaded into the chamber 10 and the lift pins 20 protruded to the upper portion of the substrate table 120 as shown in FIG. The substrate s should be placed on the upper end of the substrate.

이와 같이 기판(s)이 리프트 핀(20)의 상단부에 놓여진 후에는 기판안치대(12)를 공정영역으로 상승시킨다. 그러면 리프트 핀(20)이 중력에 의해 하강하기 때문에 도 1에 도시된 바와 같이 리프트 핀(20)의 상단부가 기판안치대(12)의 걸림턱(12b)에 매달린 상태가 되고, 이 과정에서 리프트 핀(20)의 상단부에 놓여진 기판(s)은 기판안치대(12)의 상면에 자연스럽게 안치된다.After the substrate s is thus placed on the upper end of the lift pins 20, the substrate stand 12 is raised to the process region. Since the lift pin 20 is lowered by the gravity, the upper end of the lift pin 20 is in a state of being suspended from the engagement protrusion 12b of the substrate table 12 as shown in FIG. 1, The substrate s placed on the upper end of the pin 20 is naturally laid on the upper surface of the substrate table 12.

공정영역에서 공정을 마친 후 기판안치대(12)가 하강하면 리프트 핀(20)의 하단부가 챔버(11)의 저면에 닿으면서 도 3에 도시된 바와 같이 리프트 핀(20)의 상단부가 기판안치대(12)의 상부로 돌출되면서 기판(s)을 밀어올려 기판안치대(12)로부터 분리시킨다.When the substrate table 12 is lowered after completion of the process in the process region, the lower end of the lift pin 20 contacts the bottom surface of the chamber 11, so that the upper end of the lift pin 20, The substrate s is pushed up and separated from the substrate table 12 while being protruded to the top of the table 12.

이 과정에서 리프트 핀(20)의 헤드는 기판(s)에 의해 힘을 받게 되며, 따라 서 리프트 핀(20)이 안정적인 승강운동을 하기 위해서는 기판(s)이 가하는 힘이 수직방향이어야 한다.In this process, the head of the lift pin 20 is subjected to a force by the substrate s, so that the force applied by the substrate s is required to be vertical in order for the lift pin 20 to move up and down stably.

그러나 LCD 제조용 기판(s)은 면적이 크고 두께가 얇기 때문에 리프트 핀(20)에 의해 지지되지 않는 부분이 아래로 처지게 되고, 이로 인해 도 4에 도시된 바와 같이 리프트 핀(20)에 대하여 측방향(도면상으로는 좌측)으로도 어느 정도의 힘이 가해지므로 리프트 핀(20)이 일측으로 기울어지는 현상이 빈번하게 발생한다.However, since the LCD manufacturing substrate (s) is large in area and thin in thickness, a portion that is not supported by the lift pins 20 is sagged downward, so that the lift pins 20 A certain amount of force is exerted even in the direction (left side in the figure), so that the lift pin 20 tilts to one side frequently.

이러한 현상은 기판안치대(12)의 주변부가 자중에 의해 하부로 처지거나 고온으로 인해 변형되는 경우에도 발생하게 된다.This phenomenon also occurs when the peripheral portion of the substrate bench 12 is deformed due to its own weight or deformed due to high temperature.

이와 같이 리프트 핀(20)이 기울어지면, 리프트 핀(20)과 리프트 핀 홀더(30)의 사이에 마찰이 발생하게 되어 리프트 핀(20)의 승강운동이 원활하지 못하게 된다.When the lift pins 20 are inclined as described above, friction occurs between the lift pins 20 and the lift pin holders 30, so that the lift pins 20 can not move smoothly.

즉, 리프트 핀(20)이 리프트 핀 홀더(30)에 끼어서 기판안치대(12)가 하강하여도 리프트 핀(20)이 상승하지 못하고 기판안치대(12)로부터 힘을 받아서 리프트 핀 홀더(30)에 접촉하는 부분에서 리프트 핀(20)이 파손되는 경우가발생한다.That is, even if the lift pin 20 is caught by the lift pin holder 30 and the substrate table 12 descends, the lift pin 20 does not rise and receives a force from the substrate table 12 to lift the lift pin holder 30 The lift pin 20 may be broken.

또한, 기판안치대(12)가 상승하여도 리프트 핀(20)이 하강하지 못하고 기판안치대(12)의 상부로 계속 돌출되어 있는 현상이 발생하며, 이로 인해 기판(s)이 오염되거나 파손되는 경우도 발생한다.Also, even if the substrate table 12 rises, the lift pins 20 can not be lowered and continue to protrude upward from the substrate table 12, thereby causing the substrate s to be contaminated or damaged It also happens.

본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 기판안치대의 승강에 연동하여 리프트 핀이 리프트 핀 홀더의 내부에서 원활하게 승강할 수 있도록 하고, 나아가 리프트 핀 또는 기판이 파손되는 현상을 방지하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems and it is an object of the present invention to prevent a lift pin from moving smoothly in a lift pin holder in conjunction with lifting and lowering of a substrate bench, have.

본 발명은 상기 목적을 달성하기 위하여, 관통부를 가지는 리프트 핀 홀더; 상기 리프트 핀 홀더의 상기 관통부에 삽입 설치되며, 외주면에 수용부를 구비하는 리프트 핀; 상기 리프트 핀과 상기 리프트 핀 홀더의 사이에 설치되되, 일부분이 상기 리프트 핀의 상기 수용부의 내부에 수용되는 마찰저감부재를 포함하는 기판승강장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a lift pin holder comprising: a lift pin holder having a penetrating portion; A lift pin inserted into the penetrating portion of the lift pin holder and having a receiving portion on an outer circumferential surface thereof; And a friction reducing member which is provided between the lift pin and the lift pin holder and in which a part is received in the receiving portion of the lift pin.

상기 기판승강장치에서 상기 마찰저감부재는 볼 베어링 또는 원판형 베어링인 것을 특징으로 할 수 있다.In the above substrate elevating apparatus, the friction reducing member may be a ball bearing or a disc-shaped bearing.

또한 상기 리프트 핀 홀더는 상기 관통부의 내측으로 돌출되는 돌출부를 구비하는 것을 특징으로 할 수 있다.Further, the lift pin holder may have a protrusion protruding inward of the through-hole.

또한 상기 수용부는 다수 개가 상기 리프트 핀의 중심축에 대하여 동일한 각도로 이격되어 형성되며, 상기 수용부마다 상기 마찰저감부재가 하나씩 수용되는 것을 특징으로 할 수 있다.Further, a plurality of the receiving portions may be formed so as to be spaced apart from each other by the same angle with respect to the center axis of the lift pins, and each of the receiving portions may receive the friction reducing members one by one.

또한 상기 다수의 수용부 중에서 적어도 하나는 나머지와 다른 높이에 형성되는 것을 특징으로 할 수 있다.At least one of the plurality of receiving portions may be formed at a different height from the others.

또한 상기 수용부는 세로로 길게 형성되어 상기 마찰저감부재보다 큰 높이를 가지는 것을 특징으로 할 수 있다.Further, the accommodating portion may be formed to be longer than the friction-reducing member and have a greater height than the friction reducing member.

또한 본 발명은, 관통부를 가지는 리프트 핀 홀더; 상기 리프트 핀 홀더의 상기 관통부에 삽입 설치되는 리프트 핀; 상기 리프트 핀과 상기 리프트 핀 홀더의 마찰을 방지하기 위해 설치되며, 상기 리프트 핀에 결합되어 상기 리프트 핀과 함께 승강하는 마찰저감부재를 포함하는 기판승강장치를 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided an elevator comprising: a lift pin holder having a penetrating portion; A lift pin inserted into the penetration portion of the lift pin holder; And a friction reducing member installed to prevent friction between the lift pin and the lift pin holder and coupled to the lift pin and moving up and down together with the lift pin.

상기 마찰저감부재는, 상기 리프트핀에 결합되는 롤러장착부재; 상기 롤러장착부재의 단부에 회전가능하게 결합된 롤러를 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.Wherein the friction reducing member includes: a roller mounting member coupled to the lift pin; And a roller rotatably coupled to an end of the roller mounting member.

또한 상기 롤러장착부재는 상하로 이격되어 2개 이상 설치되는 것을 특징으로 할 수 있다.The roller mounting member may be vertically spaced apart from the roller mounting member.

또한 상기 롤로장착부재의 단부에는 오목한 형태의 롤러수용부가 구비되고, 상기 롤러는 상기 롤러수용부에 일부가 삽입된 채 상기 롤러장착부재에 결합되는 것을 특징으로 할 수 있다.The end of the roller mounting member may be provided with a roller receiving portion having a concave shape, and the roller may be coupled to the roller mounting member while a part of the roller receiving portion is inserted.

본 발명에 따르면, 리프트 핀과 리프트 핀 홀더 사이에 설치된 베어링 형태의 마찰저감부재가 리프트 핀과 리프트 핀 홀더 사이의 마찰력을 크게 줄여주기 때문에 리프트 핀의 승강운동이 훨씬 원활해진다.According to the present invention, since the frictional reducing member in the form of a bearing provided between the lift pin and the lift pin holder greatly reduces the frictional force between the lift pin and the lift pin holder, the lifting movement of the lift pin becomes much smoother.

따라서 리프트 핀이 리프트 핀 홀더에 끼이는 현상이나 리프트 핀 또는 기판이 파손되는 현상을 방지할 수 있다.Therefore, it is possible to prevent the lift pin from being caught in the lift pin holder or the lift pin or the substrate being broken.

제1실시예First Embodiment

본 발명의 제1실시예에 따른 기판승강장치는 도 5의 단면도에 도시된 바와 같이, 기판안치대에 장착되며 상하가 개구된 관통부(202)를 가지는 리프트 핀 홀더(200)와, 상기 리프트 핀 홀더(200)의 관통부(202)에 삽입되어 설치되는 리프트 핀(100)을 포함한다.As shown in the cross-sectional view of FIG. 5, the substrate lift apparatus according to the first embodiment of the present invention includes a lift pin holder 200 mounted on the substrate holder and having a through hole 202 opened up and down, And a lift pin 100 inserted into the penetration portion 202 of the holder 200.

리프트 핀(100)은 막대 형태의 몸체(120)와, 상기 몸체(120)의 상단부에 형성되고 상기 몸체(120)보다 큰 직경을 가지는 헤드(110)를 포함한다.The lift pin 100 includes a rod-shaped body 120 and a head 110 formed at an upper end of the body 120 and having a larger diameter than the body 120.

특히 본 발명의 제1 실시예에서는 리프트 핀(100)과 리프트 핀 홀더200) 사이의 마찰력을 줄이기 위하여 리프트 핀(100)과 리프트 핀 홀더(200) 사이에 볼 베어링(300)을 설치하되, 상기 볼 베어링(300)를 삽입할 수 있는 오목한 수용부(140)를 리프트 핀(100)의 몸체(120)에 형성한 점에 특징이 있다.Particularly, in the first embodiment of the present invention, a ball bearing 300 is installed between the lift pin 100 and the lift pin holder 200 to reduce the frictional force between the lift pin 100 and the lift pin holder 200, The present invention is characterized in that a concave receiving portion 140 into which the ball bearing 300 can be inserted is formed in the body 120 of the lift pin 100.

이러한 볼 베어링(300)은 상기 수용부(140)의 내벽과 리프트 핀 홀더(300)의 내벽 사이에서 회전운동을 함으로써 리프트 핀(100)과 리프트 핀 홀더(200) 사이의 마찰력을 줄여주며, 이로 인해 리프트 핀(100)은 리프트 핀 홀더(200)의 내부에서 원활한 승강운동을 할 수 있게 된다.The ball bearing 300 rotates between the inner wall of the receiving portion 140 and the inner wall of the lift pin holder 300 to reduce the frictional force between the lift pin 100 and the lift pin holder 200, The lift pin 100 can move smoothly in the lift pin holder 200.

단면도인 도 5에는 1개의 볼 베어링(300)만이 도시되었으나, 리프트 핀(100)의 몸체(120)와 리프트 핀 홀더(200)의 내벽이 직접 접하지 않도록 리프트 핀(100)의 몸체(120)의 원주방향을 따라 다수 개의 볼 베어링(300)을 대칭적으로 설치하는 것이 바람직하다.The body 120 of the lift pin 100 and the inner wall of the lift pin holder 200 are not directly contacted with the body 120 of the lift pin 100. However, It is preferable that a plurality of ball bearings 300 are symmetrically disposed along the circumferential direction.

예를 들어 도 5의 A-A방향에 따른 단면도인 도 6에 도시된 바와 같이 적어도 3개의 볼 베어링(300)을 서로 동일한 각도로 이격시켜 설치하는 것이 바람직하다.For example, as shown in FIG. 6, which is a cross-sectional view taken along a direction A-A of FIG. 5, it is preferable to dispose at least three ball bearings 300 at the same angle.

수용부(140)는 볼 베어링(300)의 윤곽과 대응하는 형태로 형성될 수도 있고, 볼 베어링(300)이 상하 또는 좌우 방향으로 유동할 수 있는 여지를 주기 위해서 볼 베어링(300)의 직경보다 큰 길이나 폭을 가지도록 형성될 수도 있다.The receiving portion 140 may be formed in a shape corresponding to the contour of the ball bearing 300 and may be formed to have a diameter larger than the diameter of the ball bearing 300 in order to allow the ball bearing 300 to flow in the up, It may be formed to have a large length or width.

예를 들어 도 7에 도시된 바와 같이 세로로 긴 형태의 수용부(140)를 형성할 수도 있는데, 이 경우 볼 베어링(300)은 리프트 핀(100)이승강할 때 상기 수용부(140)의 내부에서 상하 방향으로 이동하게 된다. 7, the longitudinally long receiving portion 140 may be formed. In this case, when the lift pin 100 is strong, the ball bearing 300 may be inserted into the receiving portion 140 In the vertical direction.

한편 볼 베어링(140)을 리프트 핀(100)과 리프트 핀 홀더(200)의 사이에 설치한 후에 볼 베어링(300)이 밖으로 빠져나오는 것을 방지하기 위해서는 도 5에 도시된 바와 같이 리프트 핀 홀더(200)의 일 단부에 내측으로 돌출되는 돌출부(210)를 형성하는 것이 바람직하다.5, in order to prevent the ball bearing 300 from coming out after the ball bearing 140 is installed between the lift pin 100 and the lift pin holder 200, the lift pin holder 200 A protruding portion 210 protruding inward is formed at one end of the protruding portion.

볼 베어링(300)은 리프트 핀(100)과 리프트 핀 홀더(200) 사이의 마찰력을 줄여주기 위해 사용되는 것이므로 다른 형태의 베어링이 대신 사용될 수도 있다.The ball bearing 300 is used to reduce the frictional force between the lift pin 100 and the lift pin holder 200, so other types of bearings may be used instead.

예를 들어 도 8의 단면도에 도시된 바와 같이 원판형 베어링(320)이 사용될 수도 있다. 상기 원판형 베어링(320)은 일부분이 리프트 핀(100)의 몸체(120)에 형성된 수용부(140)의 내부에 삽입된 상태에서 리프트 핀(100)의 승강운동에 따라 회전운동을 하게 된다.For example, a disk-shaped bearing 320 may be used as shown in the sectional view of FIG. The disk-shaped bearing 320 is rotated in accordance with the lifting movement of the lift pin 100 in a state where a part of the disk-shaped bearing 320 is inserted into the receiving portion 140 formed in the body 120 of the lift pin 100.

이때 리프트 핀(100)의 몸체(120)에 형성되는 수용부(140)는 원판형 베어링(320)이 삽입될 수 있도록 세로로 긴 형태가 되어야 함은 물론이다.In this case, it is needless to say that the receiving portion 140 formed in the body 120 of the lift pin 100 should be vertically long so that the disk-shaped bearing 320 can be inserted.

또한 볼 베어링(300)의 경우와 마찬가지로 원판형 베어링(320)이 상하로 유동할 수 있는 여지를 주기 위하여 수용부(140)를 원판형 베어링(320)의 직경보다 길게 형성할 수도 있다.The receiving portion 140 may be longer than the diameter of the disc-shaped bearing 320 in order to allow the disc-shaped bearing 320 to move up and down as in the case of the ball bearing 300.

한편, 다수의 볼 베어링(300) 또는 원판형 베어링(320)을 사용하는 경우에, 각 베어링의 높이를 반드시 일치시켜야 하는 것은 아니므로 수용부(140) 중 적어도 하나를 나머지와 다른 높이에 형성할 수도 있다.In the case of using a plurality of ball bearings 300 or disc-shaped bearings 320, since the height of each bearing is not necessarily the same, at least one of the receiving portions 140 is formed at a height different from the rest It is possible.

리프트 핀(100)의 직경이나 베어링(300,320)의 크기에 따라 승강동작에 영향을 주지 않는 범위내에서는 각 베어링(300,320)이 설치되는 높이를 달리하는 것이 제작상 유리할 수도 있기 때문이다.This is because it is advantageous from a manufacturing viewpoint to vary the height at which the bearings 300 and 320 are installed within a range that does not affect the lifting operation depending on the diameter of the lift pin 100 or the size of the bearings 300 and 320.

전술한 볼 베어링(300) 및 원판형 베어링(320)은 세라믹 재질인 리프트 핀(100)이나 리프트 핀 홀더(200) 보다는 마찰계수가 작은 엔지니어링 플라스틱 재 질을 사용하는 것이 바람직하다.It is preferable that the ball bearing 300 and the disk-shaped bearing 320 use engineering plastic materials having a smaller coefficient of friction than those of the lift pins 100 and the lift pin holders 200 made of a ceramic material.

또한 본 발명의 실시예가 전술한 볼 베어링(300) 또는 원판형 베어링(320)에 한정되는 것은 아니므로 리프트 핀(100)의 승강운동에 의해 회전할 수 있는 것이라면 어떠한 형태의 베어링도 사용 가능함은 당연하다.In addition, since the embodiment of the present invention is not limited to the above-described ball bearing 300 or disk-shaped bearing 320, any type of bearing can be used as long as it can rotate by lifting and lowering the lift pin 100 Do.

제2실시예Second Embodiment

본 발명의 제 2실시예에 따른 기판승강장치는 도 9의 부분 절개 사시도에 도시된 바와 같이, 리프트 핀 홀더(200)의 내부에 위치하는 리프트 핀(100)의 몸체(120)에 롤러장착부재(400)를 결합하고, 상기 롤러장착부재(400)의 주변 단부에 롤러(420)를 장착한 점에 특징이 있다.The substrate lift apparatus according to the second embodiment of the present invention includes a roller mounting member (not shown) mounted on the body 120 of the lift pin 100 positioned inside the lift pin holder 200, as shown in a partial cutaway perspective view of FIG. 400 and a roller 420 is attached to the peripheral end of the roller mounting member 400. [

리프트 핀(100)의 몸체(120)는 롤러장착부재(400)의 중앙부에 형성된 관통부(410)에 삽입되며, 볼트나 결합핀(미도시) 등을 이용하여 리프트 핀(100)에 롤러장착부재(400)를 고정한다.The body 120 of the lift pin 100 is inserted into the penetration portion 410 formed at the center of the roller mounting member 400 and is mounted on the lift pin 100 using bolts or engagement pins Thereby fixing the member 400.

롤러장착부재(400)는 롤러(420)를 설치하기 위한 것이므로 그 형상은 제한되지 않으며, 다만 롤러장착부재(400)의 단부에는 롤러(420)를 회전가능하게 결합할 수 있는 결합수단이 구비되어야 한다.Since the roller mounting member 400 is for mounting the roller 420, the shape of the roller mounting member 400 is not limited, but the roller mounting member 400 is provided at its end with a coupling means for rotatably coupling the roller 420 do.

예를 들어, 롤러장착부재(400)의 단부에 오목한 형태의 롤러수용부(412)를 형성하고, 상기 롤러수용부(412)에 롤러(420)를 삽입한 후 결합핀(미도시) 등을 이용하여 롤러(420)가 회전할 수 있게 결합한다For example, a roller receiving portion 412 having a concave shape is formed at an end of the roller mounting member 400, a roller 420 is inserted into the roller receiving portion 412, and a coupling pin (not shown) To allow the roller 420 to rotate

롤러(420)는 리프트 핀(100)의 승강방향으로 회전하도록 결합되어야 하며, 리프트 핀(100)이 승강 중에도 수직상태를 유지하기 위해서는 도 10에 도시된 바와 같이 적어도 3개의 롤러(420)를 대칭적으로 배치하는 것이 바람직하다. 물론 도 11에 도시된 바와 같이 4개의 롤러(420)를 서로 등간격으로 배치할 수도 있다.The roller 420 must be coupled to rotate in the direction of elevation of the lift pin 100. In order to maintain the vertical state of the lift pin 100 even when the lift pin 100 is lifted, at least three rollers 420 are symmetric It is preferable to arrange it as a unit. Of course, as shown in FIG. 11, the four rollers 420 may be arranged at equal intervals.

리프트 핀(100)이 보다 안정적으로 수직 운동을 하기 위해서는 상하로 이격된 2개 이상의 롤러장착부재(400)를 리프트 핀(100)에 결합할 수도 있다.Two or more roller mounting members 400 spaced up and down may be coupled to the lift pins 100 in order for the lift pins 100 to perform a more stable vertical motion.

한편 롤러장착부재(400)를 내부에 수용하기 위해 리프트 핀 홀더(200)의 내부에는 상대적으로 넓은 공간부(250)가 형성되어야 하며, 리프트 핀(100)이 아래로 빠지는 것을 방지하기 위해서 리프트 핀 홀더(200)의 상단부에 헤드(100)의 직경보다 작은 직경의 개구(272)를 가지는 홀더커버(270)를 결합할 수도 있다.Meanwhile, in order to accommodate the roller mounting member 400, a relatively large space 250 should be formed inside the lift pin holder 200, and in order to prevent the lift pin 100 from falling down, A holder cover 270 having an opening 272 with a diameter smaller than the diameter of the head 100 may be coupled to the upper end of the holder 200. [

다만 도 2에 도시된 바와 같이 기판안치대(12)의 핀홀(12a)에 별도의 걸림턱(12b)이 형성되어 있는 경우에는 전술한 홀더커버(270)는 생략될 수도 있다.2, the holder cover 270 may be omitted if a separate stopping protrusion 12b is formed in the pinhole 12a of the substrate mounting table 12.

도 12 및 도 13은 본 발명의 제2실시예에 따른 기판승강장치가 설치된 경우에 기판안치대(12)가 승강하는 모습을 나타낸 도면으로서, 각각 기판안치대(12)가 상승한 경우와 하강한 경우를 나타내고 있다.12 and 13 are views showing a state in which the substrate table 12 is lifted and lowered when the substrate lifting device according to the second embodiment of the present invention is installed, Respectively.

도면을 통해 상하로 이격된 2개의 롤러장착부재(400)에 의해 리프트 핀(100)이 수직상태를 유지할 수 있고 롤러(420)에 의해 마찰이 저감되기 때문에 원활한 상하운동이 가능함을 알 수 있다.It can be seen that the lift pin 100 can be maintained in a vertical state by the two roller mounting members 400 spaced up and down through the drawing and the friction can be reduced by the roller 420 so that smooth upward and downward movement is possible.

한편 안정적인 동작을 위해서는 기판안치대(12)가 하강하여 리프트 핀(100)이 상승할 때 롤러(420)가 홀더커버(270)에 부딪치지 않도록 롤러장착부재(400)를 리프트핀(100)에 결합하는 것이 바람직하다.In order to ensure stable operation, the roller mounting member 400 is coupled to the lift pin 100 so that the roller 420 does not hit the holder cover 270 when the substrate table 12 is lowered and the lift pin 100 is lifted .

또한 기판안치대(12)가 상승하여 리프트 핀(100)이 하강할 때 롤러(420)가 기판안치대(12)의 하부로 노출되지 않도록 리프트핀(100)에 결합하는 것이 바람직하다.It is also preferable that the lift pin 100 is coupled so that the roller 420 is not exposed to the lower portion of the substrate table 12 when the substrate table 12 rises and the lift pin 100 descends.

본 발명의 제2실시예에서 사용되는 롤러(420)는 마찰을 줄이기 위한 것이므로 굳이 도시된 형태에 한정되는 것은 아니며, 구형의 베어링 형태의 롤러가 사용될 수도 있다.Since the roller 420 used in the second embodiment of the present invention is for reducing friction, it is not limited to the illustrated embodiment, and a spherical bearing type roller may be used.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였으나, 본 발명은 다양하게 변형되어 실시될 수 있으므로 본 발명의 변형된 실시예게 후술하는 특허청구범위에 기재된 기술적 사상을 포함하는 것이라면 본 발명의 권리범위에 속함은 당연하다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be the most practical and preferred embodiment, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims. Of course.

도 1은 일반적인 액정표시소자 제조장치의 개략적인 구성도1 is a schematic diagram of a general liquid crystal display device manufacturing apparatus

도 2는 기판승강장치의 구조를 나타낸 단면도2 is a cross-sectional view showing a structure of a substrate lifting device

도 3은 도 1에서 기판안치대가 상승한 상태를 나타낸 도면Fig. 3 is a view showing a state in which the substrate bench is raised in Fig. 1

도 4는 리프트 핀이 기울어진 상태를 나타낸 도면4 is a view showing a state in which the lift pins are inclined

도 5는 본 발명의 제1실시예에 의한 기판승강장치의 종단면도5 is a longitudinal sectional view of the substrate lifting device according to the first embodiment of the present invention

도 6은 도 5의 A-A선에 따른 단면도6 is a sectional view taken along the line A-A in Fig. 5

도 7은 수용부가 세로로 길게 형성된 모습을 나타낸 도면7 is a view showing a state in which the storage portion is formed in a longitudinally elongated shape

도 8은 원판형의 볼베어링이 설치된 모습을 나타낸 단면도8 is a cross-sectional view showing a disk-type ball bearing

도 9는 본 발명의 제2실시예에 의한 기판승강장치의 부분절개 단면도9 is a partial cutaway cross-sectional view of the substrate lift apparatus according to the second embodiment of the present invention

도 10 및 도 11은 기판승강장치에 사용된 롤러의 개수가 각각 3개 및 4개인 경우의 단면도Figs. 10 and 11 are cross-sectional views when the number of rollers used in the substrate elevating apparatus is three and four, respectively

도 12 및 도 13은 각각 기판안치대가 상승한 경우와 하강한 경우에 있어서 본 발명의 제2실시예에 의한 기판승강장치를 나타낸 사용상태도Figs. 12 and 13 are diagrams showing the state of use of the substrate lifting device according to the second embodiment of the present invention,

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*Description of the Related Art [0002]

100: 리프트 핀 110: 헤드100: lift pin 110: head

120: 몸체 140: 수용부120: body 140:

200: 리프트 핀 홀더 210: 돌출부200: Lift pin holder 210: Projection

300: 볼베어링 320: 원판형 베어링300: Ball bearing 320: Disk bearing

400: 롤러장착부재 412: 롤러수용부400: roller mounting member 412: roller receiving portion

420: 롤러420: roller

Claims (11)

관통부를 가지는 리프트 핀 홀더;A lift pin holder having a penetrating portion; 상기 리프트 핀 홀더의 상기 관통부에 삽입 설치되며, 외주면에 수용부를 구비하는 리프트 핀;A lift pin inserted into the penetrating portion of the lift pin holder and having a receiving portion on an outer circumferential surface thereof; 상기 리프트 핀과 상기 리프트 핀 홀더의 사이에 설치되고, 일부분이 상기 리프트 핀의 상기 수용부의 내부에 수용되는 마찰저감부재;A friction reducing member installed between the lift pin and the lift pin holder, and a part of which is accommodated in the receiving portion of the lift pin; 를 포함하는 기판승강장치A substrate lifting device 제1항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 마찰저감부재는 볼 베어링 또는 원판형 베어링인 것을 특징으로 하는 기판승강장치Wherein the friction reducing member is a ball bearing or a disc-shaped bearing. 제1항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 리프트 핀 홀더는 상기 관통부의 내측으로 돌출되는 돌출부를 구비하는 것을 특징으로 하는 기판승강장치Wherein the lift pin holder has a protruding portion protruding inward of the penetrating portion. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 수용부는 다수 개가 상기 리프트 핀의 중심축에 대하여 동일한 각도로 이격되어 형성되며, 상기 수용부마다 상기 마찰저감부재가 하나씩 수용되는 것을 특징으로 하는 기판승강장치Wherein the plurality of accommodating portions are spaced apart from each other by the same angle with respect to the center axis of the lift pins, and each of the accommodating portions is provided with one of the friction reducing members, 제 4 항에 있어서,5. The method of claim 4, 상기 다수의 수용부 중에서 적어도 하나는 나머지와 다른 높이에 형성되는 것을 특징으로 하는 기판승강장치Wherein at least one of the plurality of accommodating portions is formed at a height different from the rest. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 수용부는 세로로 길게 형성되어 상기 마찰저감부재보다 큰 높이를 가지는 것을 특징으로 하는 기판승강장치Wherein the accommodating portion is formed to be longer than the friction reducing member and has a height greater than that of the friction reducing member. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
KR1020070123261A 2007-11-30 2007-11-30 Device of moving substrate up and down KR101433864B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070123261A KR101433864B1 (en) 2007-11-30 2007-11-30 Device of moving substrate up and down

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070123261A KR101433864B1 (en) 2007-11-30 2007-11-30 Device of moving substrate up and down

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20090056204A KR20090056204A (en) 2009-06-03
KR101433864B1 true KR101433864B1 (en) 2014-09-01

Family

ID=40987633

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020070123261A KR101433864B1 (en) 2007-11-30 2007-11-30 Device of moving substrate up and down

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101433864B1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020101808A1 (en) * 2018-11-15 2020-05-22 Applied Materials, Inc. Lift pin holder assemblies and bodies including lift pin holder assemblies
WO2021173685A1 (en) * 2020-02-28 2021-09-02 Mattson Technology, Inc. Support structure for thermal processing systems

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011009007A2 (en) * 2009-07-15 2011-01-20 Applied Materials, Inc. Improved lift pin guides
CN103247711B (en) * 2012-02-14 2016-03-30 理想能源设备(上海)有限公司 A kind of push rod component for lifting substrate
KR101882902B1 (en) * 2017-02-10 2018-07-30 피에스케이 주식회사 Substrate treating apparatus and substrate treating method

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050081839A (en) * 2004-02-12 2005-08-19 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 Substrate support bushing
JP2006250322A (en) 2005-03-14 2006-09-21 Jtekt Corp Axial device
KR20060121569A (en) * 2005-05-24 2006-11-29 주성엔지니어링(주) Lift pin assembly
KR20070007415A (en) * 2005-07-11 2007-01-16 주성엔지니어링(주) Substrate supporting device comprising member of going up and down

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050081839A (en) * 2004-02-12 2005-08-19 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 Substrate support bushing
JP2006250322A (en) 2005-03-14 2006-09-21 Jtekt Corp Axial device
KR20060121569A (en) * 2005-05-24 2006-11-29 주성엔지니어링(주) Lift pin assembly
KR20070007415A (en) * 2005-07-11 2007-01-16 주성엔지니어링(주) Substrate supporting device comprising member of going up and down

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020101808A1 (en) * 2018-11-15 2020-05-22 Applied Materials, Inc. Lift pin holder assemblies and bodies including lift pin holder assemblies
TWI822892B (en) * 2018-11-15 2023-11-21 美商應用材料股份有限公司 Lift pin holder assemblies and bodies including lift pin holder assemblies
WO2021173685A1 (en) * 2020-02-28 2021-09-02 Mattson Technology, Inc. Support structure for thermal processing systems

Also Published As

Publication number Publication date
KR20090056204A (en) 2009-06-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101433864B1 (en) Device of moving substrate up and down
JP5878441B2 (en) Substrate cleaning apparatus and substrate processing apparatus
TWI260064B (en) Substrate support bushing
CN100536104C (en) Substrate carrying mechanism and connecting method
KR100862912B1 (en) Device for processing substrate
JPH1092916A (en) Lift pin and support pin apparatus for process chamber
TW201110257A (en) Processing chamber with translating wear plate for lift pin
CN106971961B (en) Substrate processing apparatus having lift pin assembly
US20120227666A1 (en) Processing chamber and method for centering a substrate therein
KR100773072B1 (en) Chemical Vapor Deposition Apparatus for Flat Display
CN110739252B (en) Semiconductor processing equipment
KR20060121569A (en) Lift pin assembly
KR100843107B1 (en) Vacuum processing apparatus
JP2000237983A (en) Board chuck device
KR101215893B1 (en) Substrate supporting device comprising member of going up and down
KR20160042281A (en) Apparatus for rotatable restricting and apparatus for transferring substrate
CN206710743U (en) A kind of stage structure
KR101207771B1 (en) Lift pin holder reducing friction force
KR101433865B1 (en) Substrate processing apparatus comprising fixed lift pin, and method of loading and unloading substrate using the same
KR100843106B1 (en) Vacuum processing apparatus
CN115233192A (en) Self-leveling plasma enhanced chemical vapor deposition device
KR101381207B1 (en) Substrate support pin holder having movable part and substrate processing apparatus comprising the same
KR102511875B1 (en) Support unit for lift fins and substrate processing apparatus using the same
JPH1092757A (en) Workpiece supporting structure
KR20070071418A (en) Lift pin assembly

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170526

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180518

Year of fee payment: 5