KR20070007415A - Substrate supporting device comprising member of going up and down - Google Patents

Substrate supporting device comprising member of going up and down Download PDF

Info

Publication number
KR20070007415A
KR20070007415A KR1020050062006A KR20050062006A KR20070007415A KR 20070007415 A KR20070007415 A KR 20070007415A KR 1020050062006 A KR1020050062006 A KR 1020050062006A KR 20050062006 A KR20050062006 A KR 20050062006A KR 20070007415 A KR20070007415 A KR 20070007415A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
lift pin
susceptor
guide
guide member
substrate support
Prior art date
Application number
KR1020050062006A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101215893B1 (en
Inventor
한승수
한진희
Original Assignee
주성엔지니어링(주)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주성엔지니어링(주) filed Critical 주성엔지니어링(주)
Priority to KR1020050062006A priority Critical patent/KR101215893B1/en
Publication of KR20070007415A publication Critical patent/KR20070007415A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101215893B1 publication Critical patent/KR101215893B1/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68742—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a lifting arrangement, e.g. lift pins

Abstract

A substrate support apparatus including an elevation member is provided to prevent a lift pin from being fixed in a lift pin hole and damage of the lift pin by employing the elevation member for smoothing upward and downward movements of the lift pin. A lift pin is coupled to through units(131a,132a) of a susceptor where a substrate is placed. An elevation member(120) elevates by being inter-worked with upward and downward movements of the lift pin. A guide member(110) is installed around the elevation member to guide an elevation movement thereof. The elevation member includes a body and a connecting unit(122). The body has an inserting hole(121) where the lift pin is inserted. The connecting unit is formed on a periphery unit of the body to be connected to the guide member.

Description

승강부재를 포함하는 기판지지장치{Substrate supporting device comprising member of going up and down} Substrate supporting device comprising member of going up and down}

도 1은 일반적인 액정표시소자 제조장치의 개략 구성도 1 is a schematic configuration diagram of a general liquid crystal display device manufacturing apparatus

도 2는 서셉터와 리프트 핀의 결합상태를 나타낸 단면도 2 is a cross-sectional view showing a coupling state of the susceptor and the lift pin

도 3은 리프트핀의 파손 메카니즘을 나타낸 도면Figure 3 shows the failure mechanism of the lift pin

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 리프트 핀 가이드장치의 사시도4 is a perspective view of a lift pin guide device according to an embodiment of the present invention;

도 5는 본 발명의 실시예에 따른 리프트 핀 가이드장치를 설치한 모습을 나타낸 단면도 Figure 5 is a cross-sectional view showing a state in which the lift pin guide device according to an embodiment of the present invention is installed

도 6은 본 발명의 실시예에 따른 리프트 핀 가이드장치를 서셉터의 내부에 삽입한 모습을 나타낸 단면도 6 is a cross-sectional view showing a state in which the lift pin guide device according to an embodiment of the present invention inserted into the susceptor;

도 7 및 도 8은 승강부재의 다양한 삽입홀 형상을 나타낸 단면도7 and 8 are cross-sectional views showing various insertion hole shapes of the elevating member

도 9a 내지 도 9c는 타원형 기둥형상의 승강부재를 나타낸 사시도,평면도 및 사용상태도9a to 9c is a perspective view showing a elevating columnar elevating member, plan view and use state diagram

도 10a 및 도 10b는 다른 유형의 승강부재를 나타낸 사시도 및 사용상태도10a and 10b is a perspective view and a state of use showing another type of lifting member

도 11a 내지 도 11c는 또 다른 유형의 승강부재를 나타낸 사시도, 평면도 및 사용상태도11a to 11c is a perspective view, a plan view and a state of use showing another type of lifting member

도 12는 돌출부를 가지는 승강부재를 나타낸 평면도12 is a plan view showing a lifting member having a protrusion

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* * Explanation of symbols for main parts of drawings *

100 : 리프트 핀 가이드장치 110 : 가이드부재100: lift pin guide device 110: guide member

112 : 가이드홈 120 : 승강부재112: guide groove 120: elevating member

121 : 삽입홀 122 : 롤러121: insertion hole 122: roller

123 : 원통편 124 : 돌출부123: cylinder 124: protrusion

131,132 : 연결부 131a,132a : 연결부 관통홀131,132: connecting portion 131a, 132a: connecting portion through hole

본 발명은 반도체소자 또는 액정표시소자(Liquid Crystal Display: LCD)의 제조장치에 관한 것으로서 구체적으로는 기판을 안치하는 서셉터에 결합하여 기판을 지지하는 기판지지장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a device for manufacturing a semiconductor device or a liquid crystal display (LCD), and more particularly, to a substrate support device for supporting a substrate by coupling to a susceptor for mounting the substrate.

일반적으로 반도체소자 또는 액정표시소자를 제조하기 위해서는 실리콘웨이퍼 또는 글래스(이하 '기판'이라 함)에 원료물질을 증착하는 박막증착공정, 감광성 물질을 사용하여 이들 박막 중 선택된 영역을 노출 또는 은폐시키는 포토리소그라피 공정, 선택된 영역의 박막을 제거하여 목적하는 대로 패터닝(patterning)하는 식각공정 등을 거치게 되며, 이들 각 공정은 해당공정을 위해 최적의 환경으로 설 계된 공정챔버에서 진행된다. Generally, in order to manufacture a semiconductor device or a liquid crystal display device, a thin film deposition process for depositing a raw material on a silicon wafer or glass (hereinafter referred to as a substrate), or a photo for exposing or hiding selected regions of the thin film using a photosensitive material A lithography process, an etching process that removes the thin film of the selected region and patterning it as desired, is performed, and each of these processes is performed in a process chamber designed in an optimal environment for the process.

도 1은 액정표시소자의 제조장치 중에서 원료물질을 플라즈마 상태로 변환시킨 후 이를 이용하여 박막을 증착하는 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 장치의 개략적인 구성을 나타낸 것이다. FIG. 1 illustrates a schematic configuration of a PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) apparatus for converting a raw material into a plasma state and then depositing a thin film using the same.

이를 살펴보면, 일정한 반응영역을 정의하는 챔버(11)와, 상기 챔버(11)의 내부에 위치하며 상면에 기판(s)을 안치하는 서셉터(12)와, 상기 서셉터(12)의 상부로 원료가스를 분사하는 샤워헤드(13)와, 상기 샤워헤드(13)로 원료가스를 유입하는 가스유입관(14)을 포함한다. Looking at this, a chamber 11 defining a constant reaction region, a susceptor 12 positioned inside the chamber 11 and placing a substrate s on the upper surface thereof, and an upper portion of the susceptor 12. Shower head 13 for injecting the raw material gas, and the gas inlet pipe 14 for introducing the raw material gas into the shower head (13).

가스유입관(14)에는 RF전원(16)이 연결되는데, RF전원(16)으로부터 공급되는 RF전력은 샤워헤드(13)와 접지된 서셉터(12) 사이에 RF전기장을 형성하며, RF전기장의 내부에서 전자가 가속되어 중성기체와 충돌함으로써 반응성이 강한 활성종(radical)이 생성된다. 이렇게 생성된 활성종이 기판(s)으로 입사하여 박막을 증착한다.An RF power source 16 is connected to the gas inlet pipe 14, and the RF power supplied from the RF power source 16 forms an RF electric field between the showerhead 13 and the grounded susceptor 12, and the RF electric field. The electrons are accelerated inside and collide with the neutral gas to generate highly reactive radicals. The active species thus produced is incident on the substrate s to deposit a thin film.

서셉터(12)에는 챔버 내부로 반입된 기판(s)을 거치하는 리프트 핀(15)이 관통하여 결합되는데, 도 1에서는 서셉터(12)가 하강하면서 리프트 핀(15)의 하단이 챔버 저면(11a)에 닿았을 때 리프트 핀(15)의 상단이 서셉터(12)의 상부로 돌출된 모습을 나타낸 것이다. The lift pin 15 is mounted to the susceptor 12 through the substrate s loaded into the chamber. In FIG. 1, the lower end of the lift pin 15 is lowered from the bottom of the chamber while the susceptor 12 descends. The upper end of the lift pin 15 is projected to the upper portion of the susceptor 12 when it reaches (11a).

도 2는 리프트 핀(15)과 서셉터(12)의 결합관계를 보다 상세히 나타낸 것인데, 서셉터(12)는 리프트 핀(15)이 관통하는 리프트 핀 홀(12a)을 구비하며, 리프 트 핀 홀(12a)의 내벽에는 걸림턱(12b)이 형성된다. 또한 리프트 핀 홀(12a)에는 리프트 핀(15)의 승강운동을 가이드하는 리프트 핀 홀더(16)가 삽입된다. 2 illustrates the coupling relationship between the lift pin 15 and the susceptor 12 in more detail. The susceptor 12 includes a lift pin hole 12a through which the lift pin 15 penetrates. A locking step 12b is formed on the inner wall of the hole 12a. In addition, a lift pin holder 16 for guiding the lifting motion of the lift pin 15 is inserted into the lift pin hole 12a.

리프트 핀 홀더(16)는 리프트 핀(15)이 삽입되는 관통홀을 가지는 한편, 상단과 하단 부근의 내주면에 제1,2 돌출부(16a,16b)를 구비하며, 상기 제1,2 돌출부(16a,16b)는 리프트 핀(15)과 접점을 최소화한 상태에서 리프트 핀(15)의 승강운동을 가이드하게 된다. The lift pin holder 16 has a through hole into which the lift pin 15 is inserted, and has first and second protrusions 16a and 16b on inner circumferential surfaces near the top and bottom thereof, and the first and second protrusions 16a. 16b guides the lifting motion of the lift pin 15 in a state in which the contact with the lift pin 15 is minimized.

리프트 핀(15)은 통상 세라믹으로 제조되며, 상단에는 기판(s)의 손상을 방지하고 서셉터의 걸림턱(12b)에 걸릴 수 있도록 하기 위하여 상대적으로 큰 직경의 리프트 핀 헤드(15a)가 형성된다. The lift pin 15 is usually made of ceramic, and a lift pin head 15a having a relatively large diameter is formed at the top to prevent damage to the substrate s and to be caught by the suspending member 12b of the susceptor. do.

리프트 핀(15)은 이와 같이 별도의 구동수단 없이 단순히 서셉터(12)를 관통하여 설치되므로, 도 1과 같이 서셉터(12)가 하강하면 리프트 핀(15)의 하단이 챔버 하부에 닿음으로써 리프트 핀(15)의 상단이 서셉터(12)의 상부로 돌출하고, 서셉터(12)가 공정영역으로 상승하면 리프트 핀 헤드(15a)가 걸림턱(12b)에 걸림으로써 서셉터(12)와 함께 상승한다. 서셉터(12)가 상승함에 따라 리프트 핀(15) 위에 놓여진 기판은 자연히 서셉터(12)의 상면에 안치된다. Since the lift pin 15 is simply installed through the susceptor 12 without a separate driving means as described above, when the susceptor 12 descends as shown in FIG. 1, the lower end of the lift pin 15 touches the lower part of the chamber. When the upper end of the lift pin 15 protrudes to the upper part of the susceptor 12, and the susceptor 12 rises to the process area, the lift pin head 15a is caught by the latching jaw 12b so that the susceptor 12 is closed. Rises with. As the susceptor 12 rises, the substrate placed on the lift pin 15 naturally sits on the top surface of the susceptor 12.

이러한 리프트 핀(15)은 항상 수직상태를 유지하는 것이 바람직하지만, 서셉터(12)가 자중 또는 열에 의하여 변형되어 리프트 핀(15)과 리프트 핀 홀더(16)가 서셉터와 함께 미세하게 기울어질 수 있다. 또한, 상기 서셉터(12)의 변형이 없더 라도 리프트 핀 홀더(16)의 내경은 리프트 핀(15)이 상하로 움직이도록 리프트 핀의 직경보다 크도록 되어 있으므로, 리프트 핀(15)이 지면이나 챔버 바닥면을 기준으로 완벽한 수직상태를 유지하기는 어렵다.It is preferable that the lift pin 15 always remain vertical, but the susceptor 12 is deformed by its own weight or heat so that the lift pin 15 and the lift pin holder 16 can be tilted finely with the susceptor. Can be. In addition, even if the susceptor 12 is not deformed, the inner diameter of the lift pin holder 16 is larger than the diameter of the lift pin so that the lift pin 15 moves up and down. It is difficult to maintain a perfect vertical position with respect to the chamber bottom.

도 3은 리프트 핀(15)의 상부에 안치된 기판(s)으로 인해 리프트 핀(15)이 기울어진 모습을 나타낸 단면도이다. 3 is a cross-sectional view illustrating a state in which the lift pin 15 is inclined due to the substrate s placed on the lift pin 15.

이와 같이 리프트 핀(15)이 기울어지는 현상은 공정을 마친 서셉터(12)가 하강하면서 리프트 핀(15)이 상부로 돌출되고 기판(s)이 서셉터(12)로부터 분리되기 시작하는 시점에서 주로 발생한다. As such, the lift pin 15 is inclined at the time when the susceptor 12 is finished and the lift pin 15 protrudes upward and the substrate s starts to separate from the susceptor 12. It occurs mainly.

기울어진 기판(s)으로 인해 리프트 핀 헤드(15a)가 임의 방향으로 힘을 받게 되면 리프트 핀(15)도 기울어지게 되고, 이 상태에서 서셉터(12)가 하강하면 리프트 핀 홀더(16)의 제2 돌출부(16b)가 리프트 핀(15)에 대하여 리프트 핀(15)의 상승을 저지하는 방향으로 힘 F를 가하게 된다.When the lift pin head 15a is forced in any direction due to the inclined substrate s, the lift pin 15 is also inclined. When the susceptor 12 descends in this state, the lift pin holder 16 The second protrusion 16b exerts a force F on the lift pin 15 in a direction of preventing the lift pin 15 from rising.

이때 리프트 핀(15)의 하단이 힘을 받는 방향으로 밀리면 문제가 없으나, 기판(s)의 하중을 지탱하는 리프트 핀(15) 하단과 챔버 저면(11a) 사이의 마찰력으로 인해 리프트 핀(15)이 잘 밀리지 않기 때문에, 이 상태에서 서셉터(12)가 계속 하강하면 리프트 핀 홀더(16)의 제1,2 돌출부(16a,16b) 부근에서 리프트 핀이 부러지는 현상이 종종 발생한다. At this time, if the lower end of the lift pin 15 is pushed in the direction of receiving force, there is no problem, but the lift pin 15 due to the friction force between the lower end of the lift pin 15 and the chamber bottom 11a supporting the load of the substrate s. Since the susceptor 12 is continuously lowered in this state, the lift pin is often broken in the vicinity of the first and second protrusions 16a and 16b of the lift pin holder 16.

한편, 서셉터(12)가 상승하는 경우에는 리프트핀(15)의 자중과 기판(s)의 하중때문에 리프트 핀(15)이 자연스럽게 하강하여야 하는데, 리프트 핀(15)과 리프트 핀 홀더(16) 사이의 마찰 때문에 하강하지 못하고 리프트핀 홀더(16)에 끼인 상태로 매달리는 경우도 종종 발생한다.On the other hand, when the susceptor 12 rises, the lift pin 15 should naturally fall due to the weight of the lift pin 15 and the load of the substrate s. The lift pin 15 and the lift pin holder 16 are naturally lowered. Due to the friction between them, sometimes the suspension can not be lowered and suspended in the lift pin holder (16).

이러한 상태에서 공정이 진행되면 기판(s)의 배면으로 플라즈마 리크(leak)가 발생하여 얼룩발생 등 제품불량을 초래하게 된다.If the process proceeds in this state, plasma leakage occurs on the back surface of the substrate s, resulting in product defects such as staining.

본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 리프트 핀이 리프트핀 홀더와의 마찰로 인해 파손되거나, 리프트 핀 홀더에 끼는 현상을 막을 수 있는 새로운 형태의 기판지지장치를 제공하는데 목적이 있다. An object of the present invention is to provide a substrate support apparatus of a new type that can prevent a lift pin from being damaged due to friction with the lift pin holder or being caught in the lift pin holder.

본 발명은 이러한 목적을 달성하기 위해서, 기판을 안치하는 서셉터의 관통부에 결합하는 리프트핀; 상기 리프트핀의 상하운동에 연동하여 승강하는 승강부재; 상기 승강부재에 인접 설치되어 상기 승강부재의 승강운동을 가이드하는 가이드부재를 포함하는 기판 지지 장치를 제공한다.The present invention, in order to achieve this object, the lift pin coupled to the through portion of the susceptor for placing the substrate; An elevating member for elevating in conjunction with the up and down movement of the lift pin; It is provided adjacent to the elevating member to provide a substrate supporting device comprising a guide member for guiding the lifting movement of the elevating member.

상기 승강부재는 상기 리프트 핀이 삽입되는 삽입홀을 가지는 몸체; 상기 몸체의 주연부에 형성되어 상기 가이드부재와 접하는 접촉수단을 포함할 수 있다.The elevating member includes a body having an insertion hole into which the lift pin is inserted; It is formed on the periphery of the body may include a contact means in contact with the guide member.

이때 상기 접촉수단은 회전체인 것이 바람직하고, 특히 롤러인 것이 바람직하다.In this case, it is preferable that the contact means is a rotating body, and in particular, it is a roller.

상기 롤러 및 상기 롤러와 접하는 가이드부재는 각각 2 이상 설치될 수 있으 며, 이때 상기 가이드부재 중 적어도 하나는 2개 이상의 롤러를 함께 가이드할 수 있으며, 상기 롤러 중 적어도 하나는 2개 이상의 가이드부재에 의해서 가이드될 수 있다.The roller and the guide member in contact with the roller may be installed in each of two or more, wherein at least one of the guide member may guide two or more rollers together, at least one of the rollers to the two or more guide members Can be guided by.

또한 상기 접촉수단은 곡면을 가진 돌출부일 수도 있다.The contact means may also be a protrusion having a curved surface.

상기 삽입홀은 아래로 갈수록 직경이 좁아지는 것이 바람직하며, 상기 가이드부재는 내측에 상기 승강부재와 접하는 하나 이상의 길이방향의 가이드홈을 구비하는 것이 바람직하다.The insertion hole is preferably narrower in diameter toward the bottom, the guide member is preferably provided with at least one guide groove in the longitudinal direction in contact with the lifting member.

상기 가이드부재는 상기 서셉터 관통부의 내측에 설치될 수 있고, 상기 가이드부재는 상기 서셉터 관통부의 내측벽일 수도 있으며, 내주면이 상기 승강부재와 접하는 원통체일 수도 있다.The guide member may be installed inside the susceptor through part, the guide member may be an inner wall of the susceptor through part, or an inner circumferential surface thereof may be a cylindrical body in contact with the lifting member.

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명은 서셉터에서 종래의 리프트핀 홀더를 생략하고, 리프트핀과 결합하는 승강부재 및 상기 승강부재의 승강운동을 가이드하는 가이드부재를 설치한 점에 특징이 있다.The present invention is characterized in that the conventional lift pin holder is omitted from the susceptor, and a lifting member coupled to the lift pin and a guide member for guiding the lifting movement of the lifting member are installed.

도 4는 이러한 승강부재 및 가이드부재를 이용한 리프트핀 가이드장치(100)의 모습을 예시한 사시도이다.4 is a perspective view illustrating a state of the lift pin guide device 100 using the elevating member and the guide member.

상기 리프트핀 가이드장치(100)의 형상을 살펴보면, 수직으로 세워진 4개의 막대로 이루어지는 가이드부재(110)와, 가이드부재(110)의 내측에 위치하여 리프트 핀(15)과의 마찰에 의해 승강하는 승강부재(120)를 포함한다.Looking at the shape of the lift pin guide device 100, the guide member 110 consisting of four rods vertically erect, and is located inside the guide member 110 to be elevated by friction with the lift pin 15 It includes a lifting member 120.

각 가이드부재(110)는 내측에 길이방향으로 형성된 가이드홈(112)을 가지며, 상단과 하단은 각각 십자형상의 연결부(131,132)에 의해 서로 연결되고, 상기 연결부(131,132)의 중앙에는 리프트 핀(15)이 삽입되는 관통부(131a,132a)가 구비된다.Each guide member 110 has a guide groove 112 formed in the longitudinal direction on the inside, the upper and lower ends are connected to each other by cross-shaped connecting portion (131, 132), respectively, the lift pin 15 in the center of the connecting portion (131, 132) ) Are provided with through parts 131a and 132a into which the holes are inserted.

여기서 연결부(131,132)는 가이드부재(110)의 형태를 유지하여 내측의 승강부재(120)가 이탈되지 않도록 하는 역할을 하는 것이므로, 그 형상이 십자형태에 한정되는 것은 아니며, 모든 가이드부재(110)가 반드시 연결부(131, 132)에 연결되어야 하는 것도 아니다.Here, the connecting parts 131 and 132 serve to prevent the inner elevating member 120 from being separated by maintaining the shape of the guide member 110, and thus the shape of the connecting parts 131 and 132 is not limited to the cross shape, and all the guide members 110 are used. Is not necessarily to be connected to the connecting portion (131, 132).

즉, 가이드부재(110)를 서셉터(12)에 직접 결합하는 경우에는 연결부(131,132)를 생략하고 가이드부재(110)의 하단에 승강부재(120)의 이탈을 방지하는 걸림턱 정도만을 형성하여도 무방하다.That is, when the guide member 110 is directly coupled to the susceptor 12, the connection parts 131 and 132 are omitted, and only the locking jaw is formed at the bottom of the guide member 110 to prevent the lifting member 120 from being separated. It is okay.

한편, 상기 가이드부재(110)는 내측에 위치하는 승강부재(120)의 승강운동을 가이드하는 것이므로 막대개수가 4개에 한정되지 않음은 물론이고, 굳이 막대형상에 한정되는 것도 아니어서 승강부재(120)를 에워싸는 원통 형태일 수도 있다.On the other hand, the guide member 110 is to guide the lifting motion of the elevating member 120 located inside, so that the number of bars is not limited to four, of course, it is not limited to the shape of the rod elevating member ( It may be in the form of a cylinder enclosing 120).

가이드부재(110)의 내벽에 형성된 가이드홈(112)에는 승강부재(120)의 일부가 삽입되어 승강부재(120)의 상하운동을 가이드하게 된다.A part of the elevating member 120 is inserted into the guide groove 112 formed on the inner wall of the guide member 110 to guide the vertical movement of the elevating member 120.

승강부재(120)는 원판형상으로서, 중앙부에 리프트 핀(15)이 삽입되는 삽입홀(121)을 구비하는 한편 주연부에 다수의 롤러(122)가 결합되어 있다. The elevating member 120 has a disc shape, and includes an insertion hole 121 into which a lift pin 15 is inserted in a central portion thereof, and a plurality of rollers 122 are coupled to a peripheral portion thereof.

따라서 리프트핀(15)이 승강함에 따라 삽입홀(121)의 내벽과 리프트핀(15)의 마찰력으로 인해 승강부재(120)도 연동하여 함께 승강하게 되며, 롤러(122)가 가이드홈(112)을 따라 회전하면서 이동하므로 승강부재(120)가 직선 왕복운동을 할 수 있게 된다.Accordingly, as the lift pin 15 moves up and down, the lifting member 120 also moves up and down due to the frictional force between the inner wall of the insertion hole 121 and the lift pin 15, and the roller 122 guides 112. Since it moves along the rotation, the elevating member 120 is capable of linear reciprocating motion.

삽입홀(121)에는 내주면에서 상부로 돌출된 원통편(123)이 형성될 수도 있는데, 상기 원통편(123)으로 인해 리프트 핀(15)이 약간만 기울어져도 원통편(123)의 내벽과 리프트 핀(15)이 접하게 되므로 리프트핀(15)과 승강부재(130)의 연동운동이 보다 원활해진다.The insertion hole 121 may be provided with a cylindrical piece 123 protruding upward from the inner circumferential surface, even if the lift pin 15 is slightly inclined due to the cylindrical piece 123, the inner wall of the cylindrical piece 123 and the lift pin may be formed. Since 15 is in contact with each other, the interlocking motion of the lift pin 15 and the elevating member 130 becomes smoother.

한편, 리프트 핀(15)과 승강부재(120) 사이에 연결 수단을 추가하여 리프트 핀(15)이 승강하는 만큼 동일한 변위로 승강부재(120)가 가이드홈(112)을 따라 이동할 수도 있다.On the other hand, by adding a connection means between the lift pin 15 and the elevating member 120, the elevating member 120 may move along the guide groove 112 with the same displacement as the lift pin 15 is elevated.

도 5는 본 발명의 실시예에 따른 리프트핀 가이드장치(100)를 서셉터(12)의 하부에 설치한 모습을 도시한 단면도로서, 가이드부재(110)의 상단을 서셉터(12)의 저면에 결합하고, 서셉터(12)의 상부로부터 리프트 핀 홀(12a), 연결부 관통홀(131a,132a), 승강부재 삽입홀(121)을 거쳐 리프트 핀(15)이 삽입된 모습을 나타낸 것이다.5 is a cross-sectional view showing a state in which the lift pin guide device 100 according to an embodiment of the present invention is installed in the lower portion of the susceptor 12, the upper end of the guide member 110 to the bottom surface of the susceptor 12 The lift pin 15 is inserted through the lift pin hole 12a, the connection part through holes 131a and 132a, and the elevating member insertion hole 121 from the upper portion of the susceptor 12.

가이드부재(110)의 길이는 리프트핀이 서셉터(12)의 상부표면으로 올라가는 높이만큼 승강부재(120)가 승하강할수 있는 길이이면 적당하나, 필요에 따라서 가이드부재(110)의 길이가 짧거나 길수도 있다.The length of the guide member 110 is suitable if the length of the elevating member 120 can be raised and lowered by the height of the lift pin to the upper surface of the susceptor 12, but the length of the guide member 110 is short as necessary. It can be long.

그런데 이와 같이 서셉터(12)의 하부에 리프트핀 가이드장치(100)를 설치하게 되면, 서셉터(12) 하부 공간의 용적이 증가하여 챔버의 배기효율을 저하시키는 문제점이 발생할 수 있다. However, when the lift pin guide device 100 is installed below the susceptor 12, a volume of the lower space of the susceptor 12 may increase, thereby lowering the exhaust efficiency of the chamber.

따라서 도시된 바와 같이 챔버 저면(11a)에 소정 깊이의 요부(11b)를 형성하면 챔버의 용적을 크게 증가시키지 않고도 본 발명에 따른 리프트 핀 가이드장치(100)를 설치할 수 있다.Therefore, as shown in the figure, if the recess 11b having a predetermined depth is formed on the bottom 11a of the chamber, the lift pin guide device 100 according to the present invention can be installed without greatly increasing the volume of the chamber.

한편, 본 발명의 실시예에 따른 리프트 핀 가이드장치(100)는 도 6에 도시된 바와 같이 서셉터(12)의 내부에 삽입될 수도 있다.On the other hand, the lift pin guide device 100 according to an embodiment of the present invention may be inserted into the susceptor 12 as shown in FIG.

즉, 서셉터(12)에 결합홈(12c)을 형성한 후, 내벽에 가이드부재(110)를 고정하고, 상기 가이드부재(110)에 승강부재(120)가 이탈하지 않도록 설치함으로써 서셉터(12)의 하부로 돌출되는 부분을 최소화하거나 없앨 수 있는 장점이 있다.That is, after the coupling groove 12c is formed in the susceptor 12, the guide member 110 is fixed to the inner wall, and the susceptor is installed by installing the lifting member 120 on the guide member 110 so as not to be separated. There is an advantage that can minimize or eliminate the portion protruding to the bottom of 12).

이때 상기 가이드부재(110)는 볼트 등에 의해 서셉터의 결합홈(12c)의 내벽에 고정될 수도 있고, 탄성을 가진 재질로 제조되어 억지끼움식으로 결합홈에 삽입될 수도 있다.In this case, the guide member 110 may be fixed to the inner wall of the coupling groove 12c of the susceptor by a bolt or the like, or may be made of an elastic material and inserted into the coupling groove by interference fit.

이와 같이 본 발명의 실시예에 따른 리프트 핀 가이드장치(100)에는 리프트 핀(15)과 연동하는 승강부재(120)에 회전운동을 하는 롤러(122)가 결합되기 때문에, 결합된 리프트 핀(15)이 다소 기울어지더라도 이와 연동하는 승강부재(120)의 상하이동이 가능하다.As described above, the lift pin guide device 100 according to the embodiment of the present invention is coupled to the lifting member 120 that interlocks with the lift pin 15, so that the roller 122 that rotates is coupled to the lift pin 15. ), Even if the angle is slightly inclined, it is possible to move the lifting member 120 in conjunction with this.

따라서 종래처럼 서셉터(12)가 상승하는데도 리프트 핀(15)이 리프트핀 홀더에 끼여서 하강하지 못함으로써 서셉터(12)의 상부로 계속 돌출되는 현상이 방지될 수 있다.Therefore, even when the susceptor 12 rises as in the related art, the lift pin 15 may be prevented from being protruded to the top of the susceptor 12 by being caught by the lift pin holder and not lowered.

또한 서셉터(12)의 하강으로 인해 리프트 핀(15)에 가해지는 외력이 롤러(134)의 회전에 의해 분산 또는 해소되므로 리프트 핀(15)의 파손을 방지할 수 있게 된다.In addition, since the external force applied to the lift pin 15 due to the lowering of the susceptor 12 is dispersed or resolved by the rotation of the roller 134, the breakage of the lift pin 15 can be prevented.

한편, 리프트 핀(15)은 승강부재 삽입홀(121)과 서셉터 상단의 리프트핀 홀(12a)에 의해 수직상태로 유지되므로, 승강부재 삽입홀(121)의 직경은 리프트 핀(15)의 직경보다 근소하게 큰 것이 바람직하다.On the other hand, since the lift pin 15 is maintained in a vertical state by the elevating member insertion hole 121 and the lift pin hole 12a at the upper end of the susceptor, the diameter of the elevating member insertion hole 121 is determined by the lift pin 15. It is desirable to be slightly larger than the diameter.

그런데 리프트 핀(15)을 서셉터(12)에 결합할 때에는 상부에서부터 리프트 핀 홀(12a), 연결부 관통홀(131a,), 승강부재 삽입홀(121), 연결부 관통홀(132a)을 순차적으로 관통시켜야 하는데, 승강부재 삽입홀(121)의 직경이 그리 크지 않기 때문에 리프트 핀(15)을 삽입하기가 용이하지 않을 수도 있다.However, when the lift pin 15 is coupled to the susceptor 12, the lift pin hole 12a, the connection part through hole 131a, the elevating member insertion hole 121, and the connection part through hole 132a are sequentially formed from the top. To penetrate, the lifting member insertion hole 121 may not be easy to insert the lift pin 15 because the diameter is not so large.

따라서 도 7에 도시된 바와 같이 승강부재의 삽입홀(121)을 하부로 갈수록 직경이 작아지도록 가공하면 리프트 핀(15)을 원활하게 삽입할 수 있다. 도 8은 도 7에서 삽입홀(121)의 중심에서 상부로 돌출된 원통편(123)을 생략한 도면이다.Therefore, as illustrated in FIG. 7, when the insertion hole 121 of the elevating member is processed to have a smaller diameter, the lift pin 15 may be smoothly inserted. FIG. 8 is a view of omitting the cylindrical piece 123 protruding upward from the center of the insertion hole 121 in FIG. 7.

한편, 이상에서는 원반형상의 승강부재(120)를 포함하는 리프트핀 가이드장치(100)에 대하여 설명하였으나, 승강부재(120)는 리프트핀(15)과의 마찰로 인해 상하로 연동하는 구조물이므로 굳이 그 형상이 원반형상에 한정되는 것은 아니다.On the other hand, the lift pin guide device 100 including a disc-shaped lifting member 120 has been described above, but the lifting member 120 is a structure that is interlocked up and down due to friction with the lift pin 15, so The shape is not limited to the disk shape.

다양한 형태의 승강부재(120)를 예상할 수 있는데, 도 9a 및 도 9b는 중앙에 리프트핀 삽입홀(121)을 가지는 타원형 기둥 형상의 몸체에 2개의 롤러(122)로 구성된 롤러 쌍 2개가 대칭적으로 결합된 모습을 각각 도시한 사시도 및 평면도이고, 도 9c는 이러한 승강부재(120)와 가이드부재(110)가 결합한 모습을 개략적으로 도시한 구성도이다.Various types of lifting members 120 can be expected. In FIGS. 9A and 9B, two roller pairs consisting of two rollers 122 are symmetrical in an elliptical column-shaped body having a lift pin insertion hole 121 in the center thereof. A perspective view and a plan view respectively showing a combined state, and FIG. 9C is a schematic view illustrating a state in which the elevating member 120 and the guide member 110 are combined.

각 롤러 쌍은 상하로 배열된 2개의 롤러(122)를 포함하며, 각 롤러쌍마다 하나의 가이드부재(110)가 대응 설치된다. 따라서 하나의 가이드부재(110)가 상하로 배열된 2개의 롤러(122)를 동시에 가이드하게 된다.Each roller pair includes two rollers 122 arranged up and down, and one guide member 110 is correspondingly installed for each roller pair. Therefore, one guide member 110 guides two rollers 122 arranged up and down at the same time.

상기 승강부재(120)와 가이드부재(110)는 서셉터의 관통부 내부에 설치될 수도 있으므로, 이들이 차지하는 공간은 가급적 작은 것이 바람직하다. 따라서 승강부재(120)를 도 9b에 도시된 바와 같이 슬림한 타원형상의 단면을 가지도록 함으로써 원형 단면의 경우보다 차지하는 공간을 크게 줄일 수 있다.Since the elevating member 120 and the guide member 110 may be installed inside the through part of the susceptor, the space occupied by them is preferably as small as possible. Accordingly, the elevating member 120 may have a slim elliptical cross section as shown in FIG. 9B, thereby significantly reducing the space occupied by the circular cross section.

도 10a 는 평면형상은 타원형이면서도 측벽 높이가 비대칭적인 승강부재의 사시도이고, 도 10b는 이러한 승강부재(120)와 가이드부재(110)가 결합한 모습을 개략적으로 도시한 구성도이다.FIG. 10A is a perspective view of a elevating member having an elliptical shape and asymmetrical side wall height, and FIG. 10B is a diagram schematically illustrating a state in which the elevating member 120 and the guide member 110 are coupled to each other.

여기서 몸체의 일 측벽에는 1개의 롤러(122)를 설치하고, 반대편의 측벽에는 2개의 롤러(122)를 상하로 설치하였는데, 도 9a 및 도 9b와 마찬가지로 2개의 가이드부재(110)를 설치하여 하나의 가이드부재(110)는 1 개의 롤러(122)를 가이드하고, 다른 가이드부재(110)는 상하로 배열된 2개의 롤러(122)를 동시에 가이드한다. 롤러(122)의 개수는 필요에 따라 더 많아질 수도 있으며. 바람직하게는 2이상 6개 이하를 사용한다.Here, one roller 122 is installed on one side wall of the body, and two rollers 122 are installed up and down on the side wall of the opposite side, and as shown in FIGS. 9A and 9B, two guide members 110 are installed. The guide member 110 guides one roller 122, and the other guide member 110 simultaneously guides two rollers 122 arranged up and down. The number of rollers 122 may be larger as needed. Preferably, 2 or more and 6 or less are used.

도 11a 및 도 11b는 타원형 원반형상을 가지는 몸체에 타원의 장축과 직각방향으로 회전하는 롤러(122)를 장축의 양단부에 결합한 승강부재의 사시도 및 평면도이고, 도 11c는 이러한 승강부재(120)와 가이드부재(110)가 결합한 모습을 개략적으로 도시한 구성도이다.11a and 11b are a perspective view and a plan view of the elevating member coupled to both ends of the long axis of the roller 122 rotating in a direction perpendicular to the long axis of the ellipse in the body having an elliptical disc shape, Figure 11c is such a lifting member 120 and It is a schematic diagram showing a state in which the guide member 110 is coupled.

롤러(122)가 장축과 직각방향으로 회전하는 경우에는, 가이드부재(110)가 도 11c에 도시된 바와 같이 롤러(122)의 양측을 동시에 가이드하는 것이 바람직하다.When the roller 122 rotates in a direction perpendicular to the long axis, it is preferable that the guide member 110 simultaneously guide both sides of the roller 122 as shown in FIG. 11C.

이상에서는 승강부재(120)의 주연부에 롤러(122)를 결합하고, 롤러(122)가 가이드홈(112)을 따라 승강하는 구성에 대하여 설명하였으나, 승강부재(120)는 리프트핀(15)의 상하운동에 연동하여 승강함으로써 리프트핀(15)에 미치는 힘을 완화시키는 수단이므로, 롤러 대신에 도 12에 도시된 바와 같이 승강부재(120)의 외주에 가이드홈(112)과 점접촉하는 돌출부(124)를 형성할 수도 있다.In the above description, a configuration in which the roller 122 is coupled to the periphery of the elevating member 120 and the roller 122 is elevated along the guide groove 112 has been described. However, the elevating member 120 includes the lift pin 15. Since it is a means for relieving the force on the lift pin 15 by lifting in conjunction with the vertical movement, as shown in Figure 12 instead of the roller projections (point contact with the guide groove 112 on the outer periphery of the elevating member 120 ( 124 may be formed.

본 발명에 따르면, 승강부재에 의하여 리프트 핀의 상하운동이 원활해지므로 서셉터가 상승할 때 리프트 핀이 리프트핀 홀에 끼는 현상이 방지될 수 있고, 서셉터가 하강할 때도 리프트 핀에 가해지는 힘이 승강부재에 의해 분산 또는 해소되므로 리프트 핀의 파손이 방지된다.According to the present invention, since the vertical movement of the lift pins is facilitated by the elevating member, the phenomenon that the lift pins are caught in the lift pin holes when the susceptor is raised can be prevented, and even when the susceptor is lowered, Since the force is dispersed or released by the elevating member, breakage of the lift pin is prevented.

Claims (13)

기판을 안치하는 서셉터의 관통부에 결합하는 리프트핀;A lift pin coupled to the through part of the susceptor for placing the substrate; 상기 리프트핀의 상하운동에 연동하여 승강하는 승강부재;An elevating member for elevating in conjunction with the up and down movement of the lift pin; 상기 승강부재에 인접 설치되어 상기 승강부재의 승강운동을 가이드하는 가이드부재A guide member installed adjacent to the elevating member to guide the elevating motion of the elevating member 를 포함하는 기판 지지 장치Substrate support device comprising a 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 승강부재는,The lifting member, 상기 리프트 핀이 삽입되는 삽입홀을 가지는 몸체;A body having an insertion hole into which the lift pin is inserted; 상기 몸체의 주연부에 형성되어 상기 가이드부재와 접하는 접촉수단Contact means formed in the peripheral portion of the body in contact with the guide member 을 포함하는 기판 지지 장치Substrate support device comprising a 제2항에 있어서, The method of claim 2, 상기 접촉수단은 회전체인 기판 지지 장치The contact means is a rotating substrate support device 제3항에 있어서, The method of claim 3, 상기 접촉수단은 롤러인 기판 지지 장치The contact means is a roller substrate support device 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 롤러 및 상기 롤러와 접하는 가이드부재는 각각 2 이상 설치되는 기판 지지 장치Substrate support device is provided with two or more guide members in contact with the roller and the roller 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 가이드부재 중 적어도 하나는 2개 이상의 롤러를 함께 가이드하는 기판 지지 장치At least one of the guide member is a substrate support device for guiding two or more rollers together 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 롤러 중 적어도 하나는 2개 이상의 가이드부재에 의해서 가이드되는 기판 지지 장치At least one of the rollers is a substrate support device guided by two or more guide members 제2항에 있어서, The method of claim 2, 상기 접촉수단은 곡면을 가진 돌출부인 기판 지지 장치The contact means is a substrate supporting device which is a protrusion having a curved surface 제2항에 있어서, The method of claim 2, 상기 삽입홀은 아래로 갈수록 직경이 좁아지는 기판 지지 장치Substrate support device that the insertion hole is narrower toward the bottom 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가이드부재는 내측에 상기 승강부재와 접하는 하나 이상의 길이방향의 가이드홈을 구비하는 기판 지지 장치The guide member is provided with a substrate support device having at least one guide groove in the longitudinal direction in contact with the elevating member 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가이드부재는 상기 서셉터 관통부의 내측에 설치되는 기판 지지 장치The guide member is a substrate support device installed inside the susceptor through 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가이드부재는 상기 서셉터 관통부의 내측벽인 것을 특징으로 하는 기판 지지 장치And the guide member is an inner wall of the susceptor through part. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가이드부재는 내주면이 상기 승강부재와 접하는 원통체인 기판 지지 장치The guide member is a substrate supporting device whose inner peripheral surface is a cylindrical body in contact with the elevating member
KR1020050062006A 2005-07-11 2005-07-11 Substrate supporting device comprising member of going up and down KR101215893B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050062006A KR101215893B1 (en) 2005-07-11 2005-07-11 Substrate supporting device comprising member of going up and down

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050062006A KR101215893B1 (en) 2005-07-11 2005-07-11 Substrate supporting device comprising member of going up and down

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20070007415A true KR20070007415A (en) 2007-01-16
KR101215893B1 KR101215893B1 (en) 2012-12-27

Family

ID=38010005

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050062006A KR101215893B1 (en) 2005-07-11 2005-07-11 Substrate supporting device comprising member of going up and down

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101215893B1 (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011009007A3 (en) * 2009-07-15 2011-07-28 Applied Materials, Inc. Improved lift pin guides
KR101381207B1 (en) * 2007-05-31 2014-04-04 주성엔지니어링(주) Substrate support pin holder having movable part and substrate processing apparatus comprising the same
KR101433864B1 (en) * 2007-11-30 2014-09-01 주성엔지니어링(주) Device of moving substrate up and down
KR101507736B1 (en) * 2008-07-22 2015-04-08 위순임 Substrate aligning device and method therefor
KR20150114227A (en) * 2014-04-01 2015-10-12 주식회사 원익아이피에스 Substrate processing apparatus

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4111703B2 (en) 2001-10-19 2008-07-02 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド Wafer lift mechanism

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101381207B1 (en) * 2007-05-31 2014-04-04 주성엔지니어링(주) Substrate support pin holder having movable part and substrate processing apparatus comprising the same
KR101433864B1 (en) * 2007-11-30 2014-09-01 주성엔지니어링(주) Device of moving substrate up and down
KR101507736B1 (en) * 2008-07-22 2015-04-08 위순임 Substrate aligning device and method therefor
WO2011009007A3 (en) * 2009-07-15 2011-07-28 Applied Materials, Inc. Improved lift pin guides
KR20150114227A (en) * 2014-04-01 2015-10-12 주식회사 원익아이피에스 Substrate processing apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
KR101215893B1 (en) 2012-12-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101215893B1 (en) Substrate supporting device comprising member of going up and down
TWI541891B (en) A plasma reactor and a method for fabricating a semiconductor substrate
TWI384581B (en) Device for supporting substrate
KR101203377B1 (en) device for leveling heater
KR20060121569A (en) Lift pin assembly
KR100970113B1 (en) Assembly for lifting substrate
KR100843107B1 (en) Vacuum processing apparatus
KR102071497B1 (en) Substrate processing apparatus
KR101433864B1 (en) Device of moving substrate up and down
JP2015532001A (en) Apparatus and method for handling workpieces of different sizes
KR20100081285A (en) Lift pin assembly
KR102215641B1 (en) Lift pin assembly and substrate processing apparatus having the same
KR100303155B1 (en) Up-down holder for dry etching apparatus
KR20050019413A (en) Apparatus for cleaning a semiconductor substrate
KR101207771B1 (en) Lift pin holder reducing friction force
KR20070048866A (en) Lift pin assembly
KR100843106B1 (en) Vacuum processing apparatus
KR100596328B1 (en) Lift pin module of fpd manufacturing machine
KR101144587B1 (en) Lift-pin holder
KR20120072563A (en) Vacuum processing apparatus
KR101256485B1 (en) Processing chamber for substrate processing apparatus
KR101232754B1 (en) Susceptor and apparatus for processing substrate having the same
KR102645361B1 (en) Plasma processing apparatus and method of adjusting the same
KR101147907B1 (en) Substrate separation device
KR101381207B1 (en) Substrate support pin holder having movable part and substrate processing apparatus comprising the same

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150825

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160912

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180817

Year of fee payment: 7