KR101427132B1

KR101427132B1 - 액정표시장치의 오버코트층용 조성물

Info

Publication number: KR101427132B1
Application number: KR1020070140357A
Authority: KR
Inventors: 신동천; 임재형; 이종회
Original assignee: 엘지디스플레이 주식회사
Priority date: 2007-12-28
Filing date: 2007-12-28
Publication date: 2014-08-06
Also published as: KR20090072291A

Abstract

본 발명은 액정표시장치의 오버코트층에 관한 것으로, 특히 그 조성물 중 바인더로서 폴리에스터계, 폴리아미드계 또는 폴리티오에테르계 고분자를 이용하는 것이다.

본 발명에 의하면, 특히 두께 변화율이 작은 오버코트층을 형성할 수 있기 때문에, 액정층의 두께를 균일하게 유지할 수 있는 등의 장점이 있다. 또한 오버코트층으로부터 액정층으로의 용출을 최소화하여 잔상 또는 얼룩 등의 표시불량을 해결할 수 있다.

오버코트층, 고분자 바인더

Description

액정표시장치의 오버코트층용 조성물 {Composition of overcoat layer for liquid crystal display device}

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 특히 액정표시장치의 오버코트층을 형성하기 위한 물질의 조성물에 관한 것이다.

최근에 액정표시장치는 소비전력이 낮고, 휴대성이 양호한 기술 집약적이며, 부가가치가 높은 차세대 첨단 디스플레이(display)소자로 각광받고 있다.

이러한 액정표시장치 중에서도, 각 화소(pixel)별로 전압의 온(on)/오프(off)를 조절할 수 있는 스위칭 소자인 박막트랜지스터가 구비된 액티브 매트릭스형 액정표시장치가 해상도 및 동영상 구현능력이 뛰어나 가장 주목받고 있다.

일반적으로, 액정표시장치는 박막트랜지스터 및 화소 전극을 형성하는 어레이 기판 제조 공정과 컬러필터 및 공통 전극을 형성하는 컬러필터 기판 제조 공정을 통해, 각각 어레이 기판 및 컬러필터 기판을 형성하고, 이 두 기판 사이에 액정을 개재하는 액정셀 공정을 거쳐 완성된다.

좀더 자세히, 일반적인 액정표시장치의 구성을 설명한다.

일반적인 액정표시장치는 박막트랜지스터(thin film transistor), 화소전극 등이 형성되어 있는 하부기판과, 이와 마주보도록 배치되며 공통전극 등이 형성되어 있는 상부기판과 상기 하부 및 상부 기판 사이에 개재되어 있는 액정층을 포함하여 이루어진다.

상기 하부기판에는 다수의 게이트 배선과 다수의 데이터 배선이 서로 교차하며 형성되어 화소영역이 정의되어 있다. 각 화소영역에는 상기 게이트 및 데이터 배선과 연결되는 박막트랜지스터와, 상기 박막트랜지스터에 연결되는 투명한 화소전극이 형성되어 있다. 여기서, 상기 박막트랜지스터는 게이트 전극, 게이트 절연막, 액티브층과 오믹콘택층을 포함하는 반도체층, 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하여 구성되며, 상기 게이트 전극은 상기 게이트 배선에 그리고 상기 소스 전극은 상기 데이터 배선에 연결된다. 또한, 상기 박막트랜지스터 상부로는 상기 드레인전극을 노출시키는 드레인콘택홀을 포함하는 보호층이 형성되어 있고, 상기 화소전극은 상기 드레인콘택홀을 통해 상기 드레인 전극과 연결되며 상기 보호층 상부에 형성된다.

한편, 상기 상부기판에는 상기 박막트랜지스터, 게이트 및 데이터 배선 등의 비표시영역에 대응하여 불투명한 물질로 이루어지는 블랙매트릭스가 화소영역을 둘러싸며 격자 형태로 형성되어 있고, 화소영역에 대응하여 적색, 녹색, 청색의 컬러필터를 포함하는 컬러필터층이 형성되어 있다. 그리고, 상기 컬러필터층 상에는 상기 화소전극과 전계를 형성하는 투명한 공통전극이 형성된다. 상기 화소 및 공통전 극에 의해 전계가 형성되면, 그 사이에 개재되어 있는 액정층이 구동되어 화상을 표현하게 된다.

이때, 공통전극의 형성 전에 블랙매트릭스와 컬러필터층 위를 평탄화하기 위하여 절연물질로 이루어지는 오버코트층을 전면에 형성하게 된다. 즉, 평탄한 상부면을 갖는 오버코트층 위에 공통전극이 형성되어, 하부의 화소전극과 균일한 전계를 형성하게 되며, 따라서 오버코트층에 요구되는 물성 중 하나는 공정 온도 등에 의해 두께(치수)가 변하지 않아야 하는 것이다. 이는 공통전극이 하부기판에 형성되는 이른바 횡전계 방식의 액정표시장치에 있어서도 마찬가지이며, 이때는 오버코트층 상에 형성되는 배향막 형성에서의 고온 공정에 노출되며 이에 따라 내열성이 요구된다. 또한, 상부 및 하부기판 사이의 셀갭이 일정하게 유지되기 위해서 오버코트층은 두께 변화를 가져서는 안 되므로, 이러한 특성은 더욱 중요하게 된다. 또한, 오버코트층으로부터 이물질이 용출된다면, 이는 액정층의 오염 문제를 야기시킬 수 있기 때문에, 화학적인 안정성을 요구한다.

이러한 특성이 요구되는 오버코트층에 있어서, 종래에는 폴리올레핀계 물질을 고분자 바인더로 이용하고 있는데, 이러한 조성의 오버코트층에서는 몇 가지 문제점이 발생하였다. 즉, 폴리올레핀계 바인더 고분자는 150℃ 이하의 유리전이온도(Tg)를 가지기 때문에 그 내열성이 낮고, 이는 오버코트층의 내열성을 저하시키는 원인이 된다. 그리고 내열성의 저하는 공정 온도에 의한 두께 변화를 초래하기 때문에, 치수 안정성에 있어서도 문제를 발생시킨다. 그리고 위와 같은 공정 조건 하에서 오버코트층 물질이 용출되어, 액정을 오염시키는 문제 역시 발생하고 있다. 또한, 폴 리올레핀계 바인더 고분자에 의해, 컬럼 스페이서의 조성물은 선형 구조(linear structure)를 가지며 이에 의해 낮은 가교 밀도를 갖기 때문에, 부서지기 쉬운 성질을 갖는다. 또한 아로마틱(aromatic, 방향성) 성분이 많은 주재료와의 상용성 부족으로 인해 상용화제의 첨가를 필요로 하게 된다.

본 발명은 액정표시장치의 오버코트층에 있어서, 내열성이 향상되고 이물질 용출 정도가 작은 특성을 갖는 오버코트층의 제공을 목적으로 하고 있다.

위와 같은 특성을 갖는 오버코트층에 의해, 고온 공정이 수행되는 경우라도 그 두께 변화가 최소화되어 셀갭을 일정하게 유지시킬 수 있도록 하며, 또한 공통전극의 평탄도를 향상시켜 전계의 균일도를 향상시키고자 한다.

그리고, 액정층의 오염을 최소화하고자 한다.

위와 같은 문제의 해결을 위해, 본 발명은 폴리에스터계, 폴리아미드계 또는 폴리티오에테르계 고분자 바인더 5~10 중량%, 다관능기를 갖는 단량체 1~5 중량%, 무수물 경화제 1~5 중량%, 개시제 0.1~2 중량%, 억제제 0.1~1 중량%, 점착 증진제 0.1~1 중량%, 계면활성제 0.1~1 중량% 및 잔량의 용매를 포함하는 액정표시장치의 오버코트층용 조성물을 제공하고자 한다.

본 발명에 의하면, 특히 오버코트층 형성 후 고온 공정 등이 진행되더라도 두께 변화가 종래기술에 비해 줄어들게 된다. 즉, 내열 특성이 향상되어 두께 변화가 줄어들기 때문에, 액정층의 두께를 균일하게 유지할 수 있고 또한 액정층이 새어나가는 것을 완전히 방지할 수 있다.

또한, 오버코트층으로부터 용출되는 물질의 양이 종래에 비해 절반 정도에 지나지 않기 때문에, 액정의 오염 가능성이 줄어들며 이에 의해 잔상, 얼룩 등의 불량이 해결되어 표시품질이 향상된 액정표시장치의 제공이 가능하다.

본 발명은 향상된 내열 특성 등을 가져 두께 변화 등이 최소화되는 액정표시장치의 오버코트층 조성물을 제공하고자 하며, 특히 폴리에스터계 고분자, 폴리아미드계 고분자 또는 폴리티오에테르계 고분자를 바인더로 이용하는 것이 특징이다.

그리고 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치용 오버코트층의 조성물은 위와 같은 고분자 바인더 5~10 중량%, 다관능기를 갖는 단량체 1~5 중량%, 무수물 경화제 1~5 중량%, 개시제(initiator) 0.1~2 중량%, 억제제(inhibitor) 0.1~1 중량%, 점착 증진제(adhesion promoter) 0.1~1 중량%, 계면활성제 0.1~1 중량% 및 잔량의 용매를 포함하여 이루어진다.

여기서, 다관능기를 갖는 단량체는 3개 이상의 관능기를 갖는 화합물이며 구 체적으로, Trimethylolpropane Triacrylate (TMPTA), pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetracrylate, dipentaerythritol monohydroxy pentacrylate 등의 아크릴레이트계 화합물, YP50 (Kukdo Chemical Co., Ltd., 제조), YF128 (K&C KM사 제조), YDF170 (Toto Chemical Co. 제조) 등의 에폭시계 화합물 중 어느 하나를 포함한다. 그리고, 개시제는 열개시제와 광개시제가 있으며, 열개시제로는 과산화물(peroxide), 과황화물(persulfate), 아조(azo)기를 갖는 화합물 등이 이용되며, 광개시제로는 IG907, IG369, IG184 (이상 시바 가이기(Ciba Geigy)사 제조) 등이 이용된다. 억제제는 아세톤 퍼옥사이드계의 화합물이 이용되며, 점착 증진제로는 글리콜계 화합물이 이용된다. 또한 계면활성제는 BYK333, BYK352 (이상 BYK-Chemie사 제조) 및 실리콘계 화합물이 이용되며, 용매로는 Propylene Glycol Methyl Ether Acetate (PGMEA)가 이용된다.

그리고, 고분자 바인더가 광경화형인 경우 광개시제와 열개시제가 모두 포함되며, 이때 광개시제와 열개시제의 비율은 약 1:2이다.

먼저, 본 발명의 특징인 고분자 바인더를 설명한다.

폴리에스터계 고분자, 폴리아미드계 고분자 또는 폴리티오에테르계 고분자는 모두 하기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 반복단위를 갖는다.

화학식 1

화학식 2

여기서, m과 n의 합은 1 또는 2이고, 0≤m≤1 및 0≤n≤1을 만족시킨다. 화학식 1에서, R₂=R₃, R₄=R₅인 경우가 화학식 2로 표현된다.

상기 화학식 1 및 화학식 2에 있어, R₁은 다음의 화학식 3a 내지 3d 중 어느 하나에서 선택된다.

화학식 3a

화학식 3b

화학식 3c

화학식 3d

또한 상기 화학식 3a에서 X는

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중 어느 하나에서 선택되며, 여기서 0≤m≤10, 0≤n≤10의 조건을 만족한다. 즉, 상기 화학식 3a에서 X는 알콕시알킬, 알킬 또는 알콕시알킬로 치환된 벤젠 화합물, 방향족 에테르 화합물, 아민, 알콕시 아민, 아민기를 갖는 벤젠 화합물 등이다.

또한, 상기 화학식 3a에서 Y는 하기

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로 구성되는 물질군으로부터 선택될 수 있다. 이때, 위에 표시되는 1 내지 9 각각은 하기

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로 구성되는 물질군(이하 'Y-1 물질군'이라한다.)로부터 선택될 수 있으며, 0≤m≤10, 0≤n≤10이고, A 및 B 각각은 H, F, Cl, CN, CF3 또는 CH3 중 선택된 어느 하나이다.

또한, 상기 화학식 3b 및 3c에서 0≤n≤10을 만족시키고, 1 내지 5 각각은 상기 Y-1 물질군의 물질 중 어느 하나에서 선택되며, 여기서 0≤m≤10, 0≤n≤10을 만족하고, A 및 B 각각은 H, F, Cl, CN, CF₃ 또는 CH₃ 중 선택된 어느 하나이다.

또한, 상기 화학식 3d에서 Y는 하기

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로 구성되는 물질군으로부터 선택될 수 있으며, 여기서 0≤n≤10을 만족한다.

그리고, 상기 화학식 3d에서 1 및 2 각각은 하기

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으로 구성되는 물질군으로부터 선택될 수 있으며, 여기서 A는 H, F, CH₃, CF₃, CN 중 선택된 어느 하나이다. 즉, 상기 화학식 3d에서 1 및 2 각각은 H, F, CH₃, CF₃, CN, 사이클로펜탄, 사이클로헥산 중 선택된 어느 하나이다.

상기 화학식 1에서 R₂와 R₄, R₃과 R₅의 연결과, 상기 화학식 2에서 R₂와 R₄의 연결은 다양한 형태에 의해 이루어질 수 있는데, 상기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 바인더가 폴리에스터계 고분자인 경우, 하기 반응식 1과 같이, 알코올과 디카르복시산의 반응에 의해 얻어진다.

반응식 1

구체적으로, 상기 폴리에스터계 고분자의 경우 상기 화학식 1 또는 2의 R₂ 및/또는 R₃는

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으로 구성되는 물질군으로부터 선택될 수 있으며, 이때 0≤m≤10, 0≤n≤10을 만족하고, A와 1 내지 8 각각은 H, F, Cl, CN, CF₃ 또는 CH₃ 중 어느 하나이다. 즉, 상기 화학식 1 또는 2의 R2 및/또는 R3는 탄수소 1~30인 지방족 알콜 화합물, 지환족 알콜 화합물 또는 방향족 알콜 화합물이다.

또한, 상기 폴리에스터 고분자의 경우 상기 화학식 1 또는 2의 R₄ 및/또는 R₅는,

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로 구성되는 물질군(이하 "Y-2물질군"이라 함)으로부터 선택될 수 있고, 여기서 0≤m≤10, 0≤n≤10을 만족한다. 즉, 폴리아미드계 광고분자로서 상기 화학식 1 또는 2의 R₄ 및/또는 R₅는 지환족 또는 방향족 화합물을 포함하는 카르복시산 화합물 중 하나이며, 이때 탄소수는 1~30이다.

실시예 1 : 광경화형 트리아진계 폴리에스터 고분자를 포함하는 오버코트층 의 형성

위와 같은 폴리에스터계 고분자 중 광경화형 트리아진계 폴리에스터 고분자를 다음과 같은 합성 과정에 의해 얻었고, 이를 이용하여 오버코트층을 형성하였다.

(1) 알코올 관능기의 도입

4-(2-테트라히드로피라닐옥시)브로모벤젠 90g을 질소가 충진된 3구 플라스크에 500ml의 테트라히드로푸란으로 용해시킨 후 마그네슘 9.6g과 함께 3시간동안 반응시켰다. 이 용액을 시아누릭 클로라이드 18.4g을 테트라히드로퓨란 200ml를 넣어 용해시킨 용액에 적하시키면서 약 6시간동안 용매가 리플럭스되는 온도에서 반응을 시켰다. 반응을 종료시킨 후 반응용액에 피리디늄파라톨루엔설포네이트 3g을 넣고 6시간동안 반응을 더 진행하였다. 반응을 종결시킨 다음 감압증류하여 테트라히드로퓨란을 제거시킨후 메틸렌클로라이드에 녹여 실리카젤로 충진된 필터를 통과시킨 후 다시 감압증류하여 용매를 제거시켰다. 마지막으로 메틸렌클로라이드와 노르말헥산의 1:1 혼합용매에서 재결정한 후, 감압여과하였다. 얻어진 고체상의 물질을 진공건조하여 2,4,6-트리히드록시페닐-1,3,5-트리아진을 제조하였으며 수율은 71%로 25.3g을 얻었다.

(2) 신나모일 관능기를 갖는 디올 단량체의 합성

신나믹산 14.8g을 질소가 충진된 둥근바닥 플라스크에 넣고 티오닐클로라이드(SOCl2) 17.8g을 첨가하여 교반시켰다. 그리고 플라스크안에 디메틸포름아미드(DMF) 0.5ml를 추가로 첨가한 후 상온에서 24시간 반응시켰다. 반응을 종료시킨 후 감압증류하여 신나모일클로라이드 16g을 얻었다. 앞서 얻은 2,4,6-트리히드록시페닐-1,3,5-트리아진 35.7g을 둥근바닥플라스크에 넣고 클로로포름 400ml에 녹였다.

이 용액에 트리에틸아민 15.2g을 첨가한 후 온도를 -5℃로 낮춘 후 앞서 얻은 신나모일클로라이드 16g에 수분을 제거시킨 테트라히드로퓨란 20ml를 넣에 희석시킨 신나믹클로라이드 용액을 천천히 적하시키면서 격렬하게 12시간 교반시켜 반응시켰다. 반응을 종료시킨 후 반응용액을 감압증류하여 테트라히드로퓨란을 제거시킨후 메틸렌클로라이드에 녹이고 실리카젤로 충진된 필터를 통과시킨 후 다시 감압증류하여 용매를 제거시켰다. 마지막으로 메틸렌클로라이드와 노르말헥산의 1:1 혼합용매에서 재결정을 한 후, 감압여과하였다. 얻어진 고체상의 물질을 진공건조 하여 신나모일 관능기를 갖는 디올 단량체를 제조하였으며 수율은 61%로서 29.7g을 얻었다.

(3) 시나메이트 감광성 관능기를 갖는 폴리에스터 감광성 고분자의 중합

앞선 (2)의 방법으로 얻은 디올 단량체 48.7g을 질소가 충진된 둥근바닥플라스크에 넣고 수분이 제거된 톨루엔 400ml에 녹이고, 트리에틸아민 20.238g을 첨가하였다. 테레프탈로일 클로라이드 20.3g을 톨루엔 100ml에 용해시킨 후 앞의 트리아진 단량체와 트리에틸 아민이 녹아있는 용액에 천천히 적하시키면서 격렬하게 교반시켜 12시간 반응시켰다. 반응종결 후 메탄올에 반응용액을 천천히 흘려주에 침전을 시키고 여과하여 침전물을 진공건조시켰다. 얻어진 침전물을 다시 테트라히드로퓨란에 용해시킨 후 메탄올에 침전시키는 과정을 2회 반복 후 진공건조시켜 최종적으로 트리아진 고리를 이용하여 신나메이트 감광성 관능기를 갖는 폴리에스터계 고분자를 제조하였다.

(4) 오버코트층의 형성

앞서 언급한 오버코트층의 조성물 중 바인더가 혼합되어 있지 않은 조성물 100 g 중량 기준으로, (3)에서 제조한 폴리에스터 고분자 8g을 혼합하였고, 혼합 용액을 기판 상에 코팅하고 150℃에서 10분간 소성한 후 UV (365nm의 파장 기준으로 1.5J/㎠의 에너지 밀도) 조사를 실시하였다. UV 조사 완료후 다시 230℃에서 1시간 소성하여 오버코트층을 기판 상에 형성하였다.

실시예 2 : 열경화형 트리아진계 폴리에스터 고분자를 포함하는 오버코트층 의 형성

폴리에스터계 고분자 중 열경화형 트리아진계 폴리에스터 고분자를 다음과 같은 합성 과정에 의해 얻었고, 이를 이용하여 오버코트층을 형성하였다.

(1) N-히드록시말레이미드의 제조

N-(페닐옥시카보닐옥시)말레이미드(Ⅱ) 42.26g을 500ml의 메탄올에 녹이고 3시간 환류시킨다. 반응후 메탄올을 증발시켜 제거한 다음 잔류액체를 벤젠에 부어 고체를 얻는다. 이 고체를 테트라히드로퓨란(THF)와 헥산의 혼합용매를 사용하여 재결정하여 N-히드록시말레이미드 12.60g을 62%의 수율로 얻었다. 결정융점은 125℃로 측정되어 문헌에서(Akiyama, M., et al., J. Chem. Soc., Perkin 1 1980, 2122) 보고된 값(125-126℃)과 일치하였다.

(2) 말레이미드가 치환된 트리아진 제조

N-히드록시말레이미드 11.3g을 THF 100ml에 녹였다. 여기에 NaH 3g을 첨가한 후 2시간동안 반응을 보낸 후 반응 용액을 트리아진 18.4g을 THF에 용해시킨 용액에 -20℃에서 천천히 적하시키면서 반응을 진행하여 적하가 완료된 후 1시간 가량 반응을 더 진행시켰다. 반응이 종료되 용액에서 THF를 제거한 후 고체 상의 반응물중 염 성분을 제거하고 메틸렌클로라이드와 노르말헥산의 혼합용액에서 재결정하여 말레이미드가 치환된 트리아진 화합물을 제조하였으며 수율은 60%로서 15.7g을 얻었다.

(3) 트리아진 단량체의 제조

말레이미드가 치환된 트리아진 화합물 26.1g을 THF 200ml에 녹였다. 4-(2-테 트라히드로피라닐옥시)브로모벤젠 90g을 질소가 충진된 3구 플라스크에 500ml의 테트라히드로푸란으로 용해시킨 후 마그네슘 9.6g과 3시간동안 반응시켰다. 이 용액을 말레이미드가 치환된 THF 용액에 적하시키면서 약 6시간동안 용매가 리플럭스되는 온도에서 반응을 시켰다. 반응을 종료시킨 후 반응용액에 피리디늄파라톨루엔설포네이트 3g을 넣고 6시간동안 반응을 더 진행하였다. 반응을 종결시킨 다음 감압증류하여 테트라히드로퓨란을 제거시킨후 메틸렌클로라이드에 녹여 실리카젤로 충진된 필터를 통과시키고 다시 감압증류하여 용매를 제거시켰다. 마지막으로 메틸렌클로라이드와 노르말헥산의 1:1 혼합용매에서 재결정을 한 후, 감압여과하였다. 얻어진 고체상의 물질을 진공건조하여 트리아진 단량체를 제조하였으며, 수율은 65%로서 24.4g을 얻었다.

(4) 말레이미드기를 갖는 폴리에스터 고분자의 중합

앞선 (3)의 방법으로 얻은 트리아진 단량체 37.5g을 질소가 충진된 둥근바닥플라스크에 넣고 수분이 제거된 톨루엔 400ml에 녹인다. 이 용액에 트리에틸아민 20.238g을 첨가한다. 테레프탈로일 클로라이드 20.3g을 톨루엔 100ml에 용해시킨 후 앞의 트리아진 단량체와 트리에틸 아민이 녹아있는 용액에 천천히 적하시키면서 격렬하게 교반시켜 12시간 반응을 시켰다. 반응종결 후 메탄올에 반응용액을 천천히 흘려주에 침전을 시키고 여과하여 침전물을 진공건조시켰다. 얻어진 침전물을 다시 테트라히드로퓨란에 용해시킨 후 메탄올에 침전시키는 과정을 2회 반복 후 진공건조시켜 최종적으로 트리아진 고리를 이용하여 말레이미드 관능기를 갖는 폴리에스터계 고분자를 제조하였다.

(5) 오버코트층의 형성

앞서 언급한 오버코트층의 조성물 중 바인더가 혼합되어 있지 않은 조성물 100 g 중량 기준으로, (4)에서 제조한 폴리에스터 고분자 8g을 혼합하였고, 혼합 용액을 기판 상에 코팅하고 150℃에서 10분간 소성한 후, 230℃에서 1시간 재소성하여 오버코트층을 기판 상에 형성하였다.

다음, 폴리아미드계 고분자에 대하여 설명한다.

폴리아미드계 고분자의 경우, 앞서 설명한 폴리에스터계 고분자와 동일하게 상기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 반복단위를 가지며, R1 역시 동일하다. 반면, R2, R3, R4, R5는 폴리에스터계 고분자와 다르며, 이에 의해 특징이 나타난다. 즉, 상기 화학식 1의 R₂-R₄, R₃-R₅의 연결과, 상기 화학식 2에서 R₂-R₄의 연결은, 아민과 카르복시산의 반응에 의해 얻어진다.

이때, 상기 화학식 1에서 R₂와 R₃와, 상기 화학식 2에서 R₂는 위와 같은 아민과 카르복시산 반응의 아민이며, 구체적으로 상기 화학식 1 또는 2의 R₂및/또는 R₃는

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로 구성되는 물질군으로부터 선택될 수 있고, 여기서 0≤m≤10, 0≤n≤10을 만족한다. 즉, 폴리아미드계 광고분자를 포함하는 경우, 상기 화학식 1 또는 2의 R₂ 및/또는 R₃는 알킬아민화합물, 알콕시아민화합물, 알킬벤질 또는 알콕시벤질 화합물을 포함하는 아민화합물 중 하나이며, 이때 탄소수는 1~30이다.

한편, 폴리아미드계 광고분자인 경우, 상기 화학식 1 또는 2의 R₄ 및/또는 R₅는 카르복시산이며, 상기 Y-2 물질군으로부터 선택될 수 있고, 여기서 0≤m≤10, 0≤n≤10을 만족한다. 즉, 폴리아미드계 광고분자로서 상기 화학식 1 또는 2의 R₄ 및/또는 R₅는 지환족 또는 방향족 화합물을 포함하는 카르복시산 화합물 중 하나이며, 이때 탄소수는 1~30이다.

실시예 3 : 신나메이트 관능기를 갖는 폴리아미드계 고분자를 포함하는 오버코트층의 형성

신나메이트 관능기를 갖는 폴리아미드계 고분자는 아래 공정에 의해 얻어지며, 이는 상기 화학식 1 또는 화학식 2에서 R₁이 화학식 3a인 경우이다.

(1) 신나메이트 관능기의 도입

먼저, 신나믹산 14.8g을 질소가 충진된 둥근바닥 플라스크에 넣고 티오닐클로라이드(SOCl2) 17.8g을 첨가하여 교반을 시켰다. 그리고 플라스크안에 디메틸포름아미드(DMF) 0.5ml를 추가로 첨가한 후 상온에서 24시간 반응시켰다. 반응을 종료시킨 후 감압증류하여 신나모일클로라이드 16g을 얻었다.

(2) 측쇄를 갖는 트리아진 고리의 합성

다음, 시아누릭 클로라이드 18.4g을 질소가 충진된 둥근바닥플라스크에 넣고 수분을 제거한 테트라히드로퓨란 200ml를 넣어 용해시켰다. 이 용액에 트리에틸아 민 15.2g을 첨가한 후 온도를 -5C로 낮춘 후, 앞서 얻은 신나모일클로라이드에 수분을 제거시킨 테트라히드로퓨란 20ml를 넣어 희석시킨 신나믹클로라이드 용액을 천천히 적하시키면서 격렬하게 12시간 교반시켜 반응시켰다. 반응 종료 후 반응용액을 감압증류하여 테트라히드로퓨란을 제거시킨후 메틸렌클로라이드에 녹이고 실리카젤로 충진된 필터를 통과시킨 후 다시 감압증류하여 용매를 제거시켰다. 마지막으로 메틸렌클로라이드와 노르말헥산의 1:1 혼합용매에서 재결정을 한 후, 감압여과하였다. 얻어진 고체상의 물질을 진공건조하여 2-신나모일-4,6-디클로로-1,3,5-트리아진을 얻었다.

(3) 두 개의 아민 관능기를 갖는 트리아진 단량체의 합성

다음으로, 앞서 얻은 2-신나모일-4,6-디클로로-1,3,5-트리아진 29.6g을 둥근바닥플라스크에 넣고 클로로포름 300ml에 녹여 트리아진 용액을 얻었다. 4-아미노페놀 32.8g과 수산화나트륨 12g을 브롬화세틸트리메틸암모늄 3g을 녹인 증류수 300ml에 녹여서 상기 트리아진 용액과 섞어서 격렬하게 24시간 반응시켰다. 반응을 종결시킨 후 유기용액 상을 분리하여 분별깔대기에 옮겨 놓고 증류수로 3회 씻어 불순물을 추출한 후 칼슘클로라이드로 수분을 제거하였다. 수분이 제거된 용액을 감압증류하여 유기용매인 클로로포름을 제거한 후 메틸렌클로라이드와 노르말헥산의 혼합용매에서 재결정을 하였다. 석출된 결정을 감압여과한 후 진공건조하여 트리아진 단량체를 얻었다.

(4) 신나메이트 관능기를 갖는 폴리아미드계 고분자의 중합

다음으로, 상기 트리아진 단량체 44.144g을 질소가 충진된 둥근바닥플라스크 에 넣고 수분이 제거된 테트라히드로퓨란 400ml에 녹인다. 이 용액에 트리에틸아민 20.238g을 첨가한다. 테레프탈로일 클로라이드 20.3g을 수분을 제거한 테트라히드로퓨란 100ml에 용해시킨 후 앞의 트리아진 단량체와 트리에틸 아민이 녹아있는 용액에 천천히 적하시키면서 격렬하게 교반시켜 12시간 반응을 시켰다. 반응종결 후 메탄올에 반응용액을 천천히 흘려주어 침전을 시키고 여과하여 침전물을 진공건조시켰다. 얻어진 침전물을 다시 테트라히드로퓨란에 용해시킨 후 메탄올에 침전시키는 과정을 2회 반복 후 진공건조시켜 최종적으로 트리아진 고리를 이용하여 신나메이트 관능기를 갖는 폴리아미드계 고분자를 합성하였다.

(5) 오버코트층의 형성

앞서 언급한 오버코트층의 조성물 중 바인더가 혼합되어 있지 않은 조성물 100 g 중량 기준으로, (4)에서 제조한 폴리아미드 고분자 8g을 혼합하였고, 혼합 용액을 기판 상에 코팅하고 150℃에서 10분간 소성한 후 UV(365nm 기준 1.5J/cm₂ 에너지 밀도)를 조사하였다. 다음, 230℃에서 1시간 재소성하여 오버코트층을 기판 상에 형성하였다.

실시예 4 : 말레이미드 관능기를 갖는 폴리아미드계 고분자의 합성

본 발명의 실시예 4에 의한 말레이미드 관능기를 갖는 폴리아미드계 고분자는 다음과 같은 공정에 의해 합성되며, 이는 상기 화학식 1 또는 화학식 2에 있어 R₁이 상기 화학식 3d인 경우에 해당된다.

(1) N-히드록시말레이미드의 제조

N-(페닐옥시카보닐옥시)말레이미드(Ⅱ) 42.26g을 500ml의 메탄올에 녹이고 3시간 환류시킨다. 반응후 메탄올을 증발시켜 제거한 다음 잔류액체를 벤젠에 부어 고체를 얻는다. 이 고체를 테트라히드로퓨란(THF)과 헥산의 혼합용매를 사용하여 재결정하여 N-히드록시말레이미드 12.60g을 62%의 수율로 얻었다. 결정융점은 125℃로 측정되어 문헌(Akiyama, M., et al., J. Chem. Soc., Perkin 1 1980, 2122)에서 보고된 값(125-126℃)과 일치하였다.

(2) 말레이미드가 치환된 트리아진 제조

다음으로, 상기 N-히드록시말레이미드 11.3g을 테트라히드로퓨란(THF) 100ml에 녹였다. 여기에 NaH 3g을 첨가한 후 2시간동안 반응을 보낸 후 반응 용액을 트리아진 18.4g을 THF에 용해시킨 용액에 -20℃에서 천천히 적하시키면서 반응을 진행하여 적하가 완료된후 1시간 가량 반응을 더 진행시켰다. 반응이 종료된 용액에서 테트라히드로퓨란(THF)을 제거한 후 고체 상의 반응물중 염 성분을 제거한 후 메틸렌클로라이드와 노르말헥산의 혼합용액에서 재결정하여 말레이미드가 치환된 트리아진 화합물을 제조하였으며 수율은 60%로서 15.7g을 얻었다.

(3) 트리아진 단량체의 제조

다음, 상기 공정에서 얻은 말레이미드가 치환된 트리아진 화합물 26.1g을 클로로포름 200ml에 녹여 트리아진 용액을 얻었다. 4-아미노페놀 32.8g과 수산화나트륨 12g을 브롬화세틸트리메틸암모늄 3g을 녹인 증류수 300ml에 녹인 후 상기 트리아진 용액과 섞어서 격렬하게 24시간 반응시켰다. 반응을 종결시킨 후 유기용액 상 을 분리하여 분별깔대기에 옮겨 놓고 증류수로 3회 씻어 불순물을 추출한 후 칼슘클로라이드로 수분을 제거하였다. 수분이 제거된 용액을 감압증류하여 유기용매인 클로로포름을 제거한 후 메틸렌클로라이드와 노르말헥산의 혼합용매에서 재결정을 하였다. 석출된 결정을 감압여과한 후 진공건조하여 트리아진 단량체를 얻었다.

(4) 말레이미드기 관능기를 갖는 폴리아미드계 고분자의 중합

다음으로, 앞서 얻은 트리아진 단량체 40.24g을 질소가 충진된 둥근바닥플라스크에 넣고 수분이 제거된 톨루엔 400ml에 녹이고 트리에틸아민 20.238g을 첨가한다. 테레프탈로일 클로라이드 20.3g을 톨루엔 100ml에 용해시킨 후 앞의 트리아진 단량체와 트리에틸아민이 녹아있는 용액에 천천히 적하시키면서 격렬하게 교반시켜 12시간 반응을 시켰다. 반응종결 후 메탄올에 반응용액을 천천히 흘려주어 침전시키고 여과하여 침전물을 진공건조시켰다. 얻어진 침전물을 다시 테트라히드로퓨란에 용해시킨 후 메탄올에 침전시키는 과정을 2회 반복 후 진공건조시켜 최종적으로 트리아진 고리를 이용하여 말레이미드 관능기를 갖는 폴리아미드계 고분자를 합성하였다.

(5) 오버코트층의 형성

앞서 언급한 오버코트층의 조성물 중 바인더가 혼합되어 있지 않은 조성물 100 g 중량 기준으로, (4)에서 제조한 폴리아미드 고분자 8g을 혼합하였고, 혼합 용액을 기판 상에 코팅하고 230℃에서 1시간 소성하여 오버코트층을 기판 상에 형성하였다.

한편, 폴리티오에테르계 고분자의 경우, 앞서 설명한 폴리에스터계 고분자 및 폴리아미드계 고분자와 동일하게 상기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 반복단위를 가지며, R₁ 역시 동일하다. 반면, R₂, R₃, R₄, R₅는 폴리에스터계 고분자 및 폴리아미드계와 다르며, 이에 의해 특징이 나타난다. 즉, 상기 화학식 1의 R₂-R₄, R₃-R₅의 연결과, 상기 화학식 2에서 R₂-R₄의 연결은, 티올과 할라이드의 반응에 의해 얻어지며, 그 일반적인 형태는 하기 반응식 2와 같다.

반응식 2

또한, 상기 화학식 1에서 R₂와 R₃와, 상기 화학식 2에서 R₂는 상기 반응식 2의 알킬 할라이드 또는 아릴 할라이드이며,

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으로 구성되는 물질군으로부터 선택되고, 0≤m≤10, 0≤n≤10을 만족하며, A 및 1 내지 8 각각은 H, F, CN, CF₃ 또는 CH₃ 중 어느 하나에서 선택된다.

즉, R₂ 및/또는 R₃ 치환되지 않거나 또는 할로겐원소로 치환된 알킬 화합물과, 치환되지 않거나 시안 또는 할로겐원소로 치환된 아릴 화합물과, 알킬 또는 할로겐화 알킬로 치환된 지환족 화합물과, 알킬, 할로겐화알킬 또는 알콕시알킬로 치환된 방향족 화합물 중 하나이며, 이때 탄소 수는 1~30이다.

또한, 상기 화학식 1에서 R₄와 R₅, 상기 화학식 2에서 R₄는 티올이며, 각각

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,

,

,

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으로 이루어지는 물질군으로부터 선택되며, 0≤m≤10, 0≤n≤10의 조건을 만족하고, A와 1 내지 8 각각은 H, F, CN, CF₃ 또는 CH₃ 중 어느 하나에서 선택된다.

즉, R₄와 R₅ 각각은 치환되지 않거나 시안 또는 할로겐원소로 치환된 알킬 화합물을 포함하는 티올과, 치환되지 않거나 시안 또는 할로겐원소로 치환된 알콕시알킬 화합물을 포함하는 티올과, 치환되지 않거나 시안 또는 할로겐원소로 치환된 알킬 화합물로 치환된 지환족 화합물을 포함하는 티올과, 또는 알킬, 할로겐화알킬 또는 알콕시알킬로 치환된 방향족 화합물을 포함하는 티올 중 하나이며, 이때 탄소 수는 1~30이다.

위와 같은 폴리티오에테르계 고분자를 포함하는 오버코트층의 실시예를 살펴본다.

실시예 5 : 칼콘 관능기를 갖는 폴리티오에테르계 고분자를 포함하는 오버코트층의 형성

본 실시예에 의한 칼콘(chalcone) 관능기를 갖는 폴리티오에테르계 고분자는 다음과 같은 공정에 의해 합성되며, 이는 상기한 화학식 1에서 R₁이 상기 화학식 3b인 경우에 해당된다.

(1) 칼콘 감광성 관능기의 합성

먼저, 4-메톡시칼콘(methoxychalcone) 10g과 시안화나트륨(sodium cyanide) 2.05g을 디메틸설폭시드(dimethylsulfoxide) 100ml에 용해시킨 후 24시간동안 반응을 시켰다. 반응종결 후 반응용액을 클로로포름(chloroform)에 혼합한 후 증류수와 교반시켜 불순물을 추출을 하였다. 다음, 수용액상을 제거한 후 상온에서 감압시켜 클로로포름을 제거하고, 남아있는 고체상을 메탄올(methanol)에서 재결정한 후 40℃에서 진공 건조하여 광반응을 위한 측쇄 4-히드록시칼콘(hydroxychalcone)을 얻었다.

(2) 트리아진 고리에 칼콘 관능기의 도입

다음, 상기 4-히드록시칼콘 23.8g을 질소가 충진된 둥근바닥 플라스크에 넣고 수분을 제거한 테트라히드로퓨란(tetrahydrofuran) 240ml에 녹인다. 여기에 수소화나트륨(sodium hydroxide, NaOH) 2.4g을 넣고 상온에서 6시간동안 반응시킨다. 이 용액을 트리아진 18.4g을 둥근바닥플라스크에 넣고 수분이 제거된 테트라히드로퓨란 200ml에 녹인 용액에 -5C에서 천천히 적하시키면서, 격렬하게 교반하며 24시간 반응시켰다. 반응을 종결시킨 후 감압증류하여, 테트라히드로퓨란을 제거하였으며 얻어진 고체를 다시 클로로포름에 용해시켰다. 이 용액을 분별깔대기에서 증류수로 3회 씻어 불순물을 추출한 후 칼슘 크로라이드로 수분을 제거하였다. 이 용액을 다시 감압증류하여 클로로포름을 제거한 후 메틸렌클로라이드와 노르말핵산의 혼합용매로 재결정을 하였다. 얻어진 물질을 감압여과한 후 진공건조하여 칼콘 관능기를 갖는 트리아진을 얻었다.

(3) 두 개의 할라이드 관능기를 갖는 트리아진 단량체의 합성

다음, 상기한 바에 의해 얻어진 칼콘 관능기를 갖는 트리아진 38.6g을 400ml의 클로로포름에 녹여 트리아진용액을 얻었다. 4-클로로페놀 25.6g과 수산화나트륨 8g을 브롬화세틸트리메틸암모늄 3g을 녹인 증류수 300ml에 녹여서 상기 트리아진용액과 섞어서 격렬하게 24시간 반응시켰다. 반응을 종결시킨 후 유기용액 상을 분리하여 분별깔대기에 옮겨 놓고 증류수로 3회 씻어 불순물을 추출한 후 칼슘클로라이드로 수분을 제거하였다. 수분이 제거된 용액을 감압증류하여 유기용매인 클로로포름을 제거한 후 메틸렌클로라이드와 노르말헥산의 혼합용매에서 재결정을 한 후, 석출된 결정을 감압여과한 후 진공건조하여 두 개의 할라이드 관능기를 갖는 트리아진 단량체를 얻었다.

(4) 칼콘 관능기를 갖는 폴리티오에테르 고분자의 합성

다음으로, 위에서 얻은 두 개의 할라이드 관능기를 갖는 트리아진 단량체 56.7g을 둥근바닥플라스크에 넣고 니트로벤젠 600ml에 녹인다. 1,4-페닐디티올 14.2g 과 수산화나트륨 8g, 그리고 세틸트리메틸암모늄브로미드 0.3g을 물 100ml에 녹여 앞의 트리아진 단량체가 녹아있는 니트로벤젠 용액과 혼합한 후 격렬하게 교반하여 24시간 반응을 시키고, 메탄올에 천천히 흘려주면서 침전시키고 여과한 후 침전물을 진공건조시켰다. 이에 의해 얻어진 침전물을 다시 테트라히드로퓨란에 용해시킨 후 메탄올에 침전시키는 과정을 2회 반복하고 진공건조시켜 최종적으로 트리아진 고리를 이용하여 칼콘 감광성 관능기를 갖는 폴리티오에테르 고분자를 합성하였다.

(5) 오버코트층의 형성

실시예 6 : 쿠마린 관능기를 갖는 폴리티오에테르계 고분자를 포함하는 오버코트층의 형성

본 실시예의 의한 쿠마린(coumarin) 관능기를 갖는 폴리티오에테르계 고분자는 다음과 같은 공정에 의해 합성되며, 이는 상기한 화학식 1에서 R₁이 상기 화학식 3c인 경우에 해당된다.

(1) 쿠마린 관능기의 도입

먼저, 7-히드록시쿠마린 16.2g과 수소화나트륨(NaH) 2.4g을 질소로 충진되어 있는 둥근바닥플라스크에 넣고 수분을 제거시킨 테트라히드로퓨란 160ml에 용해시킨 후 격렬하게 교반하여 6시간동안 반응시킨다. 이와 같이 얻어진 용액을 트리아진 18.4g을 둥근바닥플라스크에 넣고 수분이 제거된 테트라히드로퓨란 200ml에 녹인 용액에 -5℃에서 천천히 적하시키면서 격렬하게 교반하며 24시간 반응시켰다. 반응을 종결시킨 후 감압증류하여 테트라히드로퓨란을 제거하였으며 얻어진 고체를 다시 클로로포름에 용해시켰다. 이를 분별깔대기에서 증류수로 3회 씻어 불순물을 추출한 후 칼슘 클로라이드로 수분을 제거한 후, 다시 감압증류하여 클로로포름을 제거하고 메틸렌클로라이드와 노르말핵산의 혼합용매로 재결정을 하였다. 이와 같은 과정을 통해 얻어진 물질을 감압여과한 후 진공건조하여 쿠마린 감광성 관능기를 갖는 트리아진을 얻었다.

(2) 트리아진(triazine) 고리(ring)에 쿠마린 감광성 관능기의 도입

다음, 상기 쿠마린 감광성 관능기를 갖는 트리아진 31.1g을 400ml의 클로로포름에 용해하여, 트리아진 용액을 얻었다. 4-클로로페놀 25.6g과 수산화나트륨 8g을 브롬화세틸트리메틸암모늄 3g을 녹인 증류수 300ml에 용해시킨 후, 상기 트리아진 용액과 섞어서 격렬하게 24시간 반응시켰다. 반응을 종결시킨 후 유기용액 상을 분리하여 분별깔대기에 옮겨 놓고 증류수로 3회 씻어 불순물을 추출한 후 칼슘클로라이드로 수분을 제거하였다. 수분이 제거된 용액을 감압증류하여 유기용매인 클로로포름을 제거한 후 메틸렌클로라이드와 노르말헥산의 혼합용매에서 재결정을 하였다. 석출된 결정을 감압여과한 후 진공건조하여 두 개의 할라이드 관능기를 갖는 트리아진 단량체를 얻었다.

그리고, 상기 두 개의 할라이드 관능기를 갖는 트리아진 단량체 49.1g을 둥근바닥플라스크에 넣고 니트로벤젠 600ml에 녹인다. 1,4-페닐디티올 14.2g 과 수산화나트륨 8g, 그리고 세틸트리메틸암모늄브로미드 0.3g을 물 100ml에 녹여 상기 트리아진 단량체가 녹아있는 니트로벤젠 용액에 혼합한 후 격렬하게 교반하여 24시간 반응을 시켰다. 반응종결 후 메탄올에 반응용액을 천천히 흘려주어 침전시키고 여과하여 침전물을 진공건조시켰다. 진공건조 후, 얻어진 침전물을 다시 테트라히드로퓨란에 용해시킨 후 메탄올에 침전시키는 과정을 2회 반복하고 진공건조시켜 최종적으로 트리아진 고리를 이용하여 쿠마린 관능기를 갖는 폴리티오에테르계 고분자를 합성하였다.

(4) 오버코트층의 형성

앞서 언급한 오버코트층의 조성물 중 바인더가 혼합되어 있지 않은 조성물 100 g 중량 기준으로, (3)에서 제조한 폴리아미드 고분자 8g을 혼합하였고, 혼합 용액을 기판 상에 코팅하고 150℃에서 10분간 소성한 후, 230℃에서 1시간 재소성하여 오버코트층을 기판 상에 형성하였다.

실험예

본 실험예에서는 앞선 실시예 1 내지 6을 통해 얻은 오버코트층과 종래의 오버코트층(비교예)에 대하여, 오버코트층의 요구 물성에 대하여 측정하였다.

실시예 1 내지 6과 비교예에 있어서의 오버코트층 조성물의 구체적 조성은 표 1과 같으며, 이에 의해 얻은 실시예 1 내지 6과 비교예의 물성 측정 결과는 표 2에 나타내었다.

표 1

		실시예1	실시예2	실시예3	실시예4	실시예5	실시예6	비교예
바 인 더	폴리에스터계	7.3%	7.3%	-	-	-	-	-
	폴리아미드계	-	-	7.3%	7.3%	-	-	-
	폴리티오에테르계	-	-	-	-	7.3%	7.3%	-
	폴리올레핀계	-	-	-	-	-	-	7.3%
단량체		5%	5%	5%	5%	5%	5%	5%
경화제		3%	3%	3%	3%	3%	3%	3%
개시제		2%	2%	2%	2%	2%	2%	2%
점착 증진제		1%	1%	1%	1%	1%	1%	1%
억제제		1%	1%	1%	1%	1%	1%	1%
계면활성제		1%	1%	1%	1%	1%	1%	1%
용매		잔량	잔량	잔량	잔량	잔량	잔량	잔량

표 2

	실시예1	실시예2	실시예3	실시예4	실시예5	실시예6	비교예
fume 생성	1.2mg	1.1mg	1.2mg	1.1mg	1.1mg	1.2mg	2mg
두께 변화율	-1.4%	-1.1%	-1.3%	-1.1%	-1.2%	-1.3%	-6.1%

상기 표 2를 통해 알 수 있는 바와 같이, 폴리올레핀계 고분자를 이용하는 비교예와 본 발명의 실시예 1 내지 6을 살펴보면 기포(fume)의 생성 정도는 약 50%정도로 줄었다. 이는 오버코트층 위로 형성되는 액정으로 오버코트층 물질이 확산될 가능성이, 본 발명의 실시예 1 내지 6에서 비교예에 비해 절반 정도에 지나지 않음을 의미한다. 따라서 액정층의 오염을 막게 되고, 이로 인해 잔상, 얼룩 등 종래의 불량을 해결하여 표시품질의 향상이 가능하다.

또한, 두께 변화율은 오버코트층의 형성 시와 고온 공정의 진행 후 두께 변화를 측정한 것이며, 비교예의 경우 고온 공정 진행 후 약 6%의 두께 감소가 있는데 반해, 본 발명의 실시예 1 내지 6은 1.1~1.4%의 두께 감소가 있었다. 즉, 본 발명의 실시예에 있어서의 두께 감소는 종래의 비교예와 비교해서 1/6 내지 1/5 정도에 지나지 않는다. 이는 상부면의 평탄화를 위한 오버코트층의 형성 목적에 적합한 특성을 보여주는 것이다. 특히, 오버코트층의 두께 변화가 큰 경우에는 액정 물질이 새는 것을 막을 수 없고 또한 액정층의 두께를 균일하게 유지할 수 없는데, 본 발명의 실시예의 경우 종래의 비교예에 비해 약 80% 정도 작은 두께 변화를 보이며 이에 의해 액정층의 보호 및 그 두께 균일도가 향상되는 효과를 갖는다.

Claims

하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 갖는 고분자 바인더 5~10 중량%, 다관능기를 갖는 단량체 1~5 중량%, 무수물 경화제 1~5 중량%, 개시제 0.1~2 중량%, 억제제 0.1~1 중량%, 점착 증진제 0.1~1 중량%, 계면활성제 0.1~1 중량% 및 잔량의 용매를 포함하는 액정표시장치의 오버코트층용 조성물.

화학식 1

(상기 화학식 1에서, m과 n의 합은 1 또는 2이며, 0≤m≤1 및 0≤n≤1을 만족시키고, R1은 하기 화학식 2a 내지 2d에서 선택되며, R₂ 및 R₃ 각각은 탄소 수 1~30의 지방족 알콜 화합물, 지환족 알콜 화합물 또는 방향족 알콜 화합물 중 하나이며, R₄ 및 R₅ 각각은 탄소수 1~30의 지환족 또는 방향족 화합물을 포함하는 카르복시산 화합물 중 하나이다.)

화학식 2a

화학식 2b

화학식 2c

화학식 2d

(상기 화학식 2a에서 X는
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,
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,
,
로 구성되는 물질군에서 선택되는 어느 하나이고(여기서 0≤m≤10, 0≤n≤10을 만족한다.), 상기 화학식 2a에서 Y는
,
,
,
,
로 구성되는 물질군으로부터 선택되는 어느 하나이고, 여기서 1 내지 9 각각은
,
,
,
,
,
,
,
,
,
,
,
로 구성되는 물질군(이하 'Y물질군'이라 함)으로부터 선택되는 어느 하나이고, 여기서 0≤m≤10, 0≤n≤10을 만족하며, A와 B 각각은 H, F, CL, CN, CF₃ 또는 CH₃ 중 어느 하나이고,

상기 화학식 2b 및 2c에서 0≤n≤10이며, 1 내지 5 각각은 상기 Y물질군(Y물질군에서 0≤m≤10, 0≤n≤10을 만족하고, A 및 B 각각은 H, F, Cl, CN, CF3 또는 CH3 중 선택된다)으로부터 선택되는 어느 하나이며, 상기 화학식 2d에서 Y는
,
,
,
로 구성되는 물질군으로부터 선택되는 어느 하나이며, 0≤n≤10을 만족하고, 1 및 2는 각각 H, F, CH3, CF3, CN, 사이클로펜탄, 사이클로헥산 중 하나이다.
하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 갖는 고분자 바인더 5~10 중량%, 다관능기를 갖는 단량체 1~5 중량%, 무수물 경화제 1~5 중량%, 개시제 0.1~2 중량%, 억제제 0.1~1 중량%, 점착 증진제 0.1~1 중량%, 계면활성제 0.1~1 중량% 및 잔량의 용매를 포함하는 액정표시장치의 오버코트층용 조성물.

화학식 1

(상기 화학식 1에서, m과 n의 합은 1 또는 2이며, 0≤m≤1 및 0≤n≤1을 만족시키고, R1은 하기 화학식 2a 내지 2d에서 선택되며, R₂ 및 R₃ 각각은 탄소 수 1~30의 알킬아민화합물, 알콕시아민화합물, 알킬벤질 또는 알콕시벤질 화합물을 포함하는 아민화합물 중 하나이며, R₄ 및 R₅ 각각은 탄소수 1~30의 지환족 또는 방향족 화합물을 포함하는 카르복시산 화합물 중 하나이다.)

화학식 2a

화학식 2b

화학식 2c

화학식 2d

(상기 화학식 2a에서 X는
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로 구성되는 물질군에서 선택되는 어느 하나이고(여기서 0≤m≤10, 0≤n≤10을 만족한다.), 상기 화학식 2a에서 Y는
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로 구성되는 물질군으로부터 선택되는 어느 하나이고, 여기서 1 내지 9 각각은
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로 구성되는 물질군(이하 'Y물질군'이라 함)으로부터 선택되는 어느 하나이고, 여기서 0≤m≤10, 0≤n≤10을 만족하며, A와 B 각각은 H, F, Cl, CN, CF₃ 또는 CH₃ 중 어느 하나이고,

상기 화학식 2b 및 2c에서 0≤n≤10이며, 1 내지 5 각각은 상기 Y물질군으로부터 선택되는 어느 하나이며, 상기 화학식 2d에서 Y는
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로 구성되는 물질군으로부터 선택되는 어느 하나이며, 0≤n≤10을 만족하며, 1 및 2는 각각 H, F, CH3, CF3, CN, 사이클로펜탄, 사이클로헥산 중 하나이다.
하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 갖는 고분자 바인더 5~10 중량%, 다관능기를 갖는 단량체 1~5 중량%, 무수물 경화제 1~5 중량%, 개시제 0.1~2 중량%, 억제제 0.1~1 중량%, 점착 증진제 0.1~1 중량%, 계면활성제 0.1~1 중량% 및 잔량의 용매를 포함하는 액정표시장치의 오버코트층용 조성물.

화학식 1

(상기 화학식 1에서, m과 n의 합은 1 또는 2이며, 0≤m≤1 및 0≤n≤1을 만족시키고, R1은 하기 화학식 2a 내지 2d에서 선택되며, R₂ 및 R₃ 각각은 탄소 수 1~30의 치환되지 않거나 또는 할로겐원소로 치환된 알킬 화합물과, 치환되지 않거나 시안 또는 할로겐원소로 치환된 아릴 화합물과, 알킬 또는 할로겐화 알킬로 치환된 지환족 화합물과, 알킬, 할로겐화알킬 또는 알콕시알킬로 치환된 방향족 화합물 중 하나이며, R₄ 및 R₅ 각각은 탄소수 1~30의 치환되지 않거나 시안 또는 할로겐원소로 치환된 알킬 화합물을 포함하는 티올과, 치환되지 않거나 시안 또는 할로겐원소로 치환된 알콕시알킬 화합물을 포함하는 티올과, 치환되지 않거나 시안 또는 할로겐원소로 치환된 알킬 화합물로 치환된 지환족 화합물을 포함하는 티올과, 또는 알킬, 할로겐화알킬 또는 알콕시알킬로 치환된 방향족 화합물을 포함하는 티올 중 하나이다.)

화학식 2a

화학식 2b

화학식 2c

화학식 2d

(상기 화학식 2a에서 X는
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로 구성되는 물질군에서 선택되는 어느 하나이고(여기서 0≤m≤10, 0≤n≤10을 만족한다.), 상기 화학식 2a에서 Y는
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로 구성되는 물질군으로부터 선택되는 어느 하나이고, 여기서 1 내지 9 각각은
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로 구성되는 물질군(이하 'Y물질군'이라 함)으로부터 선택되는 어느 하나이고, 여기서 0≤m≤10, 0≤n≤10을 만족하며, A와 B 각각은 H, F, Cl, CN, CF₃ 또는 CH₃ 중 어느 하나이고,

상기 화학식 2b 및 2c에서 0≤n≤10이며, 1 내지 5 각각은 상기 Y물질군(Y물질군에서 0≤m≤10, 0≤n≤10을 만족하고, A 및 B 각각은 H, F, Cl, CN, CF3 또는 CH3 중 선택된다)으로부터 선택되는 어느 하나이며, 상기 화학식 2d에서 Y는
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로 구성되는 물질군으로부터 선택되는 어느 하나이며, 0≤n≤10을 만족하고, 1 및 2는 각각 H, F, CH3, CF3, CN, 사이클로펜탄, 사이클로헥산 중 하나이다.
제 1항에 있어서,

상기 개시제는 광개시제와 열개시제를 포함하며, 그 상대 비율은 1:2인 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 오버코트층용 조성물.