KR101425640B1 - 오폐수 처리 시스템 - Google Patents
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Abstract
본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템은 유입된 오폐수로부터 유기물 또는 무기물을 침전시켜 집수하거나 슬러지를 저류할 수 있는 집수부; 상기 집수부에 저장된 오폐수에 대해 기압차에 의해 발생되는 기포를 이용하여 오폐수 중의 오염물질을 부상분리하는 가압 부상부; 및 상기 가압 부상부에서 처리된 처리수 중의 잔존 유기물질을 광촉매를 이용하여 처리하는 EOR 처리부;를 포함한다.
본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템은 광촉매 코팅층을 구비한 브러쉬모를 다수 포함한 브러쉬형 정화체를 이용하여 오폐수의 유기물질을 효율적으로 제거처리하면서 오폐수를 정화처리할 수 있는 효과가 있다.
본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템은 광촉매 코팅층을 구비한 브러쉬모를 다수 포함한 브러쉬형 정화체를 이용하여 오폐수의 유기물질을 효율적으로 제거처리하면서 오폐수를 정화처리할 수 있는 효과가 있다.
Description
본 발명은 오폐수 처리 시스템에 관한 것으로, 특히 선회류 가압 부상, EOR(Existent Organic Remove) 처리 및 멀티 여과를 이용하여 오폐수를 처리하는 오폐수 처리 시스템에 관한 것이다.
급속한 산업의 발전, 인구증가 및 도시의 인구집중으로 인하여 각종 용수량의 증가와 함께 오폐수에 함유된 무기 및 유기 성분이 차지하는 비율이 점차로 증가하고 있는 실정이다. 이러한 오폐수는 COD(Chemical Oxygen Demand), BOD(Biochemical Oxygen Demand), SS(suspended solid), 질소, 인 등 고농도의 유기물을 다량 함유하고 있어서 하천, 호수 및 강 등에 그대로 흘러들어가 부영양화에 따른 수자원의 오염 및 독성으로 인한 생태계의 파괴 등과 같은 악영향을 끼치게 된다.
따라서, 오폐수는 일정의 기준을 정해놓고 기준치 이하로 정화되고 배출되어야 한다.
특히 종래의 수처리 장치에서는 질소나 인의 제거는 어느 정도 가능하지만 난분해성 오염물질 예를 들어, 대부분의 산업체에서 사용하는 휘발성 유기화합물(Volatile Organic Compounds, 이하 VOC 이라 함)의 완전 제거는 불가능하고, 이와 같은 종래의 수처리 장치는 다량의 슬러지를 유발시키게 되어 이 슬러지의 처리 또한 큰 문제가 되고 있다.
구체적으로, VOC는 탄소와 수소만으로 구성된 탄화수소류, 할로겐화 탄화수소, 질소나 황 함유 탄화수소 등 상온, 상압에서 기체상태로 존재하는 모든 유기성 물질을 통칭하는 의미로 사용되며 넓은 의미로 반휘발성 유기화합물도 여기에 포함될 수 있다. 대기환경보전법 시행령 제28조 제1항에서는 탄화수소류 중 레이트 증기압이 10.3 KPa(1.5 psia) 이상인 석유화학제품 또는 유기용제 기타물질로서 환경부 장관이 정하여 고시하는 물질로 정의하고 있다.
VOC는 하수처리장, 분뇨처리장, 가정 등 다양한 곳에서 발생하며 주로 카페트(carpet), 에어로졸 스프레이(aerosol spray), 절연체(insulation), 시너(thinner), 담배 연기(tobacco smoke), 복사기(copiers), 용제(solvent), 페인트 제거액(paint stripper) 등 주위에 흔히 존재하는 것들이 오염원이다. 이러한 오염물질들은 염소계 탄화수소, 벤젠, 포름알데하이드 및 스타이렌 등이며, 장시간 노출 시에는 이비인후 장애, 마취/현기증세, 두통, 신경장애, 암 등을 유발시키는 것으로 알려져 있다.
이러한 VOC에 관한 규제 근거는 95년 대기환경보전법에 그 관련 근거를 마련하고, 99년부터 대기환경보전법 제8조의 2의 규정에 의한 대기환경규제지역에서 VOC를 규제토록 되어 있으며, 96년 여천 산단지역에 대기보전 특별종합대책고시(환경부고시 제 96-117호, 96. 9.20)와 97년 울산, 온산 대기보전 특별대책고시(환경부고시 제 97-52호, 97. 7.1)에 VOC에 대한 규제를 시작하였다.
이와 같은 일련의 진행사항은 국내만이 아니라 전세계적인 추세로 VOC 처리의 중요성을 나타내는 중요한 지표라 할 수 있다.
이러한 VOC 제거 기술은 선행기술문헌에 기재된 바와 같이 광촉매에 의한 정화 기술이 주로 사용되고 있으나, 시간 경과에 따라 슬러지 또는 오염물질이 광원장치 또는 광촉매의 표면에 부착되므로, 광투과율이 저하되어 분해효율이 저하되는 문제점이 있다.
특히, 세차 후에 발생하는 폐수에 대한 VOC 제거 기술은 세차장에서 소량으로 발생하는 폐수를 바로 처리하여 인근 수계로 방류해야하므로, 종래에 고가의 수처리 장치를 이용하기에는 현실적 어려움이 많다. 예를 들어, 지속적인 약품 투입, 복잡한 공정을 관리할 인력의 부족, 및 오존 발생시 배오존 처리 불량에 따른 구성 기기의 부식 등의 여러 문제점이 유발되고 있다.
본 발명은 상기 문제점을 해소하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 세차시 발생하는 폐수에 대해 선회류 가압 부상, EOR(Existent Organic Remove) 처리 및 멀티 여과를 이용하여 오폐수를 처리하는 오폐수 처리 시스템을 제공하는 데 있다.
본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템은 유입된 오폐수로부터 유기물 또는 무기물을 침전시켜 집수하거나 슬러지를 저류할 수 있는 집수부; 상기 집수부에 저장된 오폐수에 대해 기압차에 의해 발생되는 기포를 이용하여 오폐수 중의 오염물질을 부상분리하는 가압 부상부; 및 상기 가압 부상부에서 처리된 처리수에 대해 광촉매를 이용하여 잔존 유기물질을 처리하는 EOR 처리부;를 포함한다.
본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템은 상기 EOR 처리부를 거친 처리수에 대해 미처리된 오염물질을 다층으로 구성된 여과층에 의해 여과하는 멀티 여과부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템에서 상기 집수부는 격벽으로 이루어지고, 상기 유입된 오폐수로부터 상기 유기물 또는 무기물을 침전시키는 스크린조; 상기 스크린조를 거친 오폐수를 집수하는 집수조; 및 상기 시스템에서 발생하는 슬러지를 저류하는 저류조;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템에서 상기 가압 부상부는 상기 집수부에 저장된 오폐수를 흡입하는 가압펌프; 상기 가압펌프로부터 공급받은 가압수를 체류시키는 가압탱크; 상기 가압탱크로부터 공급받은 가압수에 대한 감압과정을 통해 발생되는 기포를 이용하여 상기 오폐수 중의 오염물질을 부상시키는 부상조; 및 상기 부상조의 일측에 구비되어 상기 오염물질을 부상시킨 후의 중간수를 인발하는 처리수조;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템에서 상기 부상조는 일측에 굴곡 형태로 관통 구비된 분사노즐을 더 포함하고, 상기 분사노즐을 통해 상기 가압탱크로부터 상기 가압수를 공급받는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템에서 상기 EOR 처리부는 내부에 정화공간이 구비되며 양측에 유기물질 유입구와 정화유체 배출구가 구비된 정화 하우징; 상기 정화 하우징의 정화공간에 장착되며 전원을 인가받아 점등하는 UV 램프; 상기 UV 램프와 함께 상기 정화공간 내에 장착되며 상기 UV 램프에서 조사되는 자외선에 반응하여 상기 잔존 유기물질을 제거하는 적어도 하나의 브러쉬형 정화체; 및 상기 정화 하우징의 양측에서 상기 UV 램프와 브러쉬형 정화체를 지지하는 지지대;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템에서 상기 브러쉬형 정화체는 중앙의 심봉 및 상기 심봉에서 방사형으로 뻗어 연결된 다수의 브러쉬모를 포함하고, 상기 브러쉬모는 브러쉬 모재의 표면에 광촉매로 이루어진 광촉매 코팅층이 형성된 형태로 구비되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템에서 상기 광촉매는 TiO2, ZnO, Nb2O53, SnO2, ZrO2SrTiO3, KTaO3, Ni-K4Nb6O17CdS, ZnSCdSe, GaP, CdTe, MoSe2, 및 WSe2 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템에서 상기 멀티 여과부는 외형을 형성하는 여과조 하우징; 상기 여과조 하우징의 상부 일측에 관통 구비되어 상기 필터부를 거친 처리수가 유입되는 유입 분배관; 상기 여과조 하우징의 중간에 구비된 여재층 상부 막음판과 여재층 하부 막음판 사이에 다수의 여과재로 이루어진 여재층; 및 상기 여재층 하부 막음판의 아래에 상기 여재층을 통해 여과 및 흡착되어 최종 처리된 최종 여과수를 담는 수조;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템에서 상기 여재층은 활성탄, 여과사 및 여과사리로 구성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 특징 및 이점들은 첨부도면에 의거한 다음의 상세한 설명으로 더욱 명백해질 것이다.
이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고, 사전적인 의미로 해석되어서는 아니 되며, 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템은 세차시 발생되는 오폐수를 효율적으로 정화처리할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템의 구성도.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템을 구성하는 집수부의 단면도.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템을 구성하는 가압부상부의 단면도.
도 4a는 본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템을 구성하는 EOR 처리부의 절단 사시도.
도 4b는 도 4a의 EOR 처리부의 장축 단면도.
도 4c는 도 4a의 EOR 처리부의 단축 단면도.
도 4d는 도 4a의 EOR 처리부에 포함된 브러쉬형 정화체의 사시도.
도 4e는 도 4a의 EOR 처리부에 포함된 브러쉬형 정화체의 측면도.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템을 구성하는 멀티 여과부의 단면도.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템을 구성하는 집수부의 단면도.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템을 구성하는 가압부상부의 단면도.
도 4a는 본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템을 구성하는 EOR 처리부의 절단 사시도.
도 4b는 도 4a의 EOR 처리부의 장축 단면도.
도 4c는 도 4a의 EOR 처리부의 단축 단면도.
도 4d는 도 4a의 EOR 처리부에 포함된 브러쉬형 정화체의 사시도.
도 4e는 도 4a의 EOR 처리부에 포함된 브러쉬형 정화체의 측면도.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템을 구성하는 멀티 여과부의 단면도.
본 발명의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되는 이하의 상세한 설명과 바람직한 실시예로부터 더욱 명백해질 것이다. 본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다. 또한, 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 도 1은 본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템의 구성도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템은 유입된 오폐수로부터 무거운 이물질인 협착물 및 토사 등과 같은 유기물 또는 무기물을 침전시키는 스크린조(110), 오폐수를 집수하는 집수조(120) 및 시스템에서 발생되는 슬러지를 저류할 수 있는 저류조(130)를 포함한 집수부(100); 집수부에 저장된 오폐수를 펌프로 흡입, 가압, 감압과정을 통해 기압차에 의해 발생되는 기포를 이용하여 오폐수 중의 오염물질을 부상분리하는 가압부상부(200); 가압부상부(200)에서 처리된 처리수 중의 잔존 유기물질을 광촉매를 이용하여 처리하는 EOR(Existent Organic Remove) 처리부(300); 및 처리과정 중 미처리된 오염물질을 최종적으로 여러 층으로 구성된 여과재에 의해 여과하는 멀티 여과부(400)를 포함한다.
집수부(100)는 도 2에 도시된 바와 같이 내부에 구비된 스크린(111)을 이용하여 유입된 오폐수로부터 무거운 이물질인 협착물 및 토사 등과 같은 유기물 또는 무기물을 침전시키는 스크린조(110), 침전처리된 오폐수를 집수하는 집수조(120) 및 시스템에서 발생되는 슬러지를 저류할 수 있는 저류조(130)를 포함한다.
특히, 스크린조(110)는 집수조(120) 내부에 위치하여, 외부로 돌출되지 않는 구조로 구성되어 현장 되메우기시 지반 침하 등의 하자를 방지할 수 있다.
집수조(120)는 격벽(121)으로 구성되어 유입되는 오폐수의 유분과 침강성 슬러지를 분리하고, 이류관(122)을 구비하여 다음 집수조 칸으로 이동시 효율적으로 고액분리를 달성할 수 있다. 이러한 집수조(120)는 유입되는 오폐수 용량에 따라 격벽(121)의 개수를 조정하여 고액분리의 수준을 조정할 수 있다.
슬러지 저류조(130)는 오폐수 처리시스템에서 발생되는 슬러지를 저류하고, 침전 슬러지와 부상 슬러지를 배제하며, 중간 상등수 만을 이송관(131)을 통해 집수조(120)로 다시 이송하여 슬러지를 농축할 수 있다.
가압부상부(200)는 도 3에 도시된 바와 같이 집수조(120)로부터 고액분리된 오폐수를 흡입하는 가압펌프(210), 가압펌프(210)로부터 공급받은 가압수를 체류시키는 가압탱크(220), 가압탱크(220)에서 공급받은 가압수에 대한 감압과정을 통해 발생되는 기포를 이용하여 오폐수 중의 오염물질을 부상시키는 부상조(230), 및 부상조(230)의 일측에 구비되어 부상 후 중간수를 인발할 수 있는 처리수조(240)를 포함한다.
구체적으로, 가압펌프(210)는 인젝터(211)에 충분한 압력을 공급할 수 있도록, 예를 들어 2kgf/㎠ 이상의 가압력을 가지는 자흡식 가압펌프를 사용할 수 있다.
가압탱크(220)는 가압펌프(210)로부터 공급받은 가압수를 최소 2분 이상 체류하면서, 인젝터(211)로부터 유입된 공기를 충분히 용해할 수 있는 용량을 구비한다. 이러한 가압탱크(220)의 하부에는 주기적인 청소작업시 슬러지를 배출할 수 있는 슬러지 배출구(221)를 구비할 수 있다.
부상조(230)는 가압탱크(220)에서 공급받은 가압수의 공기 용존율을 극대화하기 위해 가압수가 최소 5분 이상 체류할 수 있는 용량으로 구비될 수 있다. 특히, 부상조(230)는 부상조(230)의 일측에 굴곡 형태로 관통 구비된 분사노즐(231)을 구비하여, 가압수가 분사노즐(231)을 통해 부상조(230)에 유입되어 나선형 와류를 형성할 수 있다.
이때, 분사노즐(231)을 통해 유입된 가압수는 감압에 따른 미세 기포를 생성함과 동시에, 오폐수 중의 오염물질을 흡착하여 상부로 부상하고, 특히 분사노즐(231)의 토출 압력과 방향에 의해 부상조(230) 내에서 와류를 형성하며 회전한다.
이러한 부상조(230)는 상부 중심부에 슬러지를 수집할 수 있는 깔대기 형태의 슬러지 수집기(232)를 설치하여, 별도의 동력없이 생성된 와류에 의해 가압수의 상부에 모인 슬러지를 수집할 수 있다. 특히, 슬러지 수집기(232)의 계면 접촉부는 라운딩 처리되어 슬러지를 수집하는 과정의 저항을 최소화할 수 있다.
부상조(230)의 일측에는 슬러지가 부상된 후의 중간수를 인발할 수 있는 처리수조(240)를 구비한다. 이러한 처리수조(240)는 부상조(230)의 하부 일측에 구비된 관통구를 통해 연결 구비되고, 내부에는 별도의 펌프 배관(241)을 포함한다.
이와 같이 구성된 가압부상부(200)는 다수의 슬러지 배출배관을 구비할 수 있다. 이러한 다수의 슬러지 배출배관은 부상조(230)의 하단, 슬러지 수집기(232)의 하단, 및 처리수조(240)의 하단에 각각 설치되어, 주기적인 청소작업의 편의를 제공한다.
EOR 처리부(300)는 처리수조(240)로부터 유입된 처리수 중의 잔존 유기물질을 광촉매를 이용하여 처리하는 휘발성 유기물질 제거 장치로서, 도 4a와 도 4b에 도시된 바와 같이 내부에 정화공간이 구비되고, 유기물질 유입구(311)와 정화유체 배출구(312)가 구비된 정화 하우징(313), 정화 하우징(313)의 정화공간에 장착되며 전원을 인가받아 점등하는 광원으로서 UV 램프(320), 정화 하우징(313)의 정화공간 내에 장착되며 UV 램프(320)에서 조사되는 자외선에 의해 반응하여 유기물질을 제거하는 브러쉬형 정화체(330), 및 UV 램프(320)와 브러쉬형 정화체(330)를 지지하는 지지대(340)를 포함하여 구성된다.
정화 하우징(313)은 내부의 정화공간, 유기물질 유입구(311) 및 정화유체 배출구(312)가 형성될 수 있는 모든 구조가 가능하여, 바람직하게 양측이 개방된 통구조로서 유기물질 유입구(311)가 구비된 유입 포트(314) 및 정화유체 배출구(312)가 구비된 배출 포트(315)가 양측에 각각 결합되는 구조로 구비될 수 있다.
이와 같은 EOR 처리부(300)의 구성에 따르면, UV 램프(320)와 브러쉬형 정화체(330)의 조립과 유지보수가 용이하고, 유기물질 유입구(311) 및 정화유체 배출구(312)를 다양한 크기로 교체할 수 있는 이점이 있다.
UV 램프(320)는 광촉매 반응을 위하여 자외선을 조사하는 공지의 UV 램프를 사용하여 정화 하우징(313) 내부에 길이방향을 따라, 유기물질 유입구(311)와 정화유체 배출구(312) 사이에 배열 장착되고 외부로부터 전원을 인가받을 수 있는 배선이 연결된다.
브러쉬형 정화체(330)는 도 4d와 도 4e에 도시된 바와 같이 중앙의 심봉(333) 및 심봉(333)에 방사형으로 뻗어 연결된 다수의 브러쉬모(331)를 포함한다.
특히, 브러쉬모(331) 각각은 SUS 등의 금속 재질로 형성된 브러쉬 모재(331-1)의 표면에 광촉매로 이루어진 광촉매 코팅층(331-2)이 형성된 형태로 구비되고, 광촉매는 예를 들어 TiO2, ZnO, Nb2O53, SnO2, ZrO2SrTiO3, KTaO3, Ni-K4Nb6O17CdS, ZnSCdSe, GaP, CdTe, MoSe2, 및 WSe2 을 포함한다.
광촉매 코팅층(331-2)은 공지의 코팅 방법을 이용하여 형성될 수 있으므로 구체적인 코팅 방법에 대해서는 생략하며, 또한 광촉매 코팅층(331-2)의 두께도 다양하게 달라질 수 있으므로 특별히 한정되지 않는다.
이와 같이 구성된 브러쉬형 정화체(330)는 유기물질 유입구(311)로부터 정화유체 배출구(312)로 흐르는 유기물질에 대해 수많은 광촉매 반응을 일으킴으로써 높은 효율로 유기물질을 정화시킬 수 있다.
즉, 브러쉬형 정화체(330)의 브러쉬모(331)는 각각 다수의 요철형상을 갖는 구조로 벤딩되어 유기물질과의 접촉면적을 증대시킬 수 있으므로, 유기물질에 대한 정화율을 높일 수 있다.
또한, 브러쉬형 정화체(330)는 정화 하우징(313)의 크기에 맞게 개수를 선택 구비할 수 있고, 도 4c에 도시된 바와 같이 UV 램프(320)를 중심으로 다수개, 바람직하게 4개로 둘러싸도록 설치되어 정화 하우징(313) 내부에 유입되는 유기물질을 정화할 수 있다.
지지대(340)는 EOR 처리부(300)의 내부 양측에서 UV 램프(320) 및 다수의 브러쉬형 정화체(330)를 지지하여, UV 램프(320)를 정화 하우징(313)의 내부 중앙에 배치하고 다수의 브러쉬형 정화체(330)를 UV 램프(320)로부터 동일한 간격을 두고 설치되도록 한다.
이러한 지지대(340)는 UV 램프(320)가 지지되는 링 형상의 광원 지지대(341), 및 광원 지지대(341)의 둘레에 원주방향을 따라 일정 간격을 두고 방사형으로 연결되며 단부가 정화 하우징(300)의 내벽에 지지되어 브러쉬형 정화체(330)를 지지하는 다수의 지지살(342)을 포함하여 구성된다.
특히, 지지살(342)은 광원 지지대(341)의 둘레에 방사형으로 돌출 형성되어 브러쉬형 정화체(330)의 심봉(333)을 받쳐 지지하도록, 심봉(333)이 안착되는 홈이 구비될 수도 있다.
따라서, UV 램프(320)의 둘레에 배치되는 다수의 브러쉬형 정화체(330)는 움직이지 않고 안정적으로 지지될 수 있다.
이러한 지지대(340)는 유기물질의 흐름을 간섭하지 않도록 최소의 면적으로 구비되어, 예를 들어 곡선형(유선형) 단면을 갖고 구비되는 것이 바람직하다.
선택적으로, 유기물질의 정화율을 극대화하기 위해서, 광촉매 코팅층(331-2)과 동일한 광촉매 코팅층이 정화 하우징(313)의 내벽과 지지대(340)의 표면에도 형성될 수도 있다.
이와 같이 구성된 EOR 처리부(300)에 의한 오폐수의 휘발성 유기물질 제거 과정은 정화 하우징(313)의 유기물질 유입구(311)를 통해 정화 하우징(313)의 내부에 유입되고 정화유체 배출구(312) 쪽으로 흐르면서 이루어진다.
이 과정에서 유기물질은 브러쉬형 정화체(330)의 브러쉬모(331)를 거치게 되고, 브러쉬모(331)의 광촉매 코팅층(331-2)과 광촉매 반응하여 제거된다.
정화 하우징(313)의 유기물질 유입부(311)로부터 정화유체 배출부(312)에 걸쳐 많은 수의 브러쉬모(331)가 배치되어 있기 때문에, 오폐수의 유기물질은 다수의 광촉매 코팅층(331-2)과 광촉매 반응을 하게 되며, 이에 따라 정화유체 배출부(312)를 통해서는 정화된 처리수가 배출된다.
이하, 본 발명에 의한 EOR 처리부(300)의 구조에 따른 유기물질의 정화율은 다음과 같은 실시예들을 통해 구체화될 수 있다.
<실시예 1> 브러쉬 길이에 따른 제거실험
실시예 1은 EOR 처리부(300)의 구조에서 (ⅰ) UV 램프(320)를 360nm 파장의 UV 램프로 사용하고, (ⅱ) 가로, 세로 1mm의 정화 하우징(313)의 내부 공간에 요철 모양으로 밴딩된 브러쉬모(331)가 100개 삽입하며, (ⅲ) 브러쉬형 정화체(330)의 길이를 각각 200mm, 400mm, 600mm, 800mm 및 1000mm로 구비하여 벤젠 및 에틸렌 각각의 유기물질을 정화한다.
이러한 실시예 1에서 각각의 브러쉬형 정화체(330)의 길이에 따른 유기물질의 정화율은 아래의 [표 1]에 기재된 바와 같이 브러쉬형 정화체(330)의 길이가 길수록 높아진다.
| 구분 | 유입농도 | 200mm | 400mm | 600mm | 800mm | 1000mm |
| 벤젠 | 200ppm | 97ppm | 32ppm | 8ppm | 1ppm | 0ppm |
| 에틸렌 | 200ppm | 102ppm | 43ppm | 7ppm | 0ppm | 0ppm |
<실시예 2> 브러쉬모의 밀도에 따른 제거실험
실시예 2는 EOR 처리부(300)의 구조에서 (ⅰ) UV 램프(320)를 360nm 파장의 UV 램프로 사용하고, (ⅱ) 브러쉬모(331)의 길이를 400mm로 고정하며, (ⅲ) 세로 1mm의 공간에 삽입된 브러쉬모(331)의 개수를 각각 40개, 60개, 80개, 100개 및 120개로 구비하여 벤젠 및 에틸렌 각각의 유기물질을 정화한다.
이러한 실시예 2에서 각각의 브러쉬모(331) 개수에 따른 유기물질의 정화율은 아래의 [표 2]에 기재된 바와 같이 브러쉬모(331)의 개수가 많을수록 높아진다.
| 구분 | 유입농도 | 40개 | 60개 | 80개 | 100개 | 120개 |
| 벤젠 | 200ppm | 116ppm | 74ppm | 49ppm | 38ppm | 22ppm |
| 에틸렌 | 200ppm | 102ppm | 54ppm | 43ppm | 35ppm | 17ppm |
<실시예 3> UV 램프(320)의 파장에 따른 제거실험
실시예 3은 EOR 처리부(300)의 구조에서 (ⅰ) 브러쉬모(331)의 길이는 400mm로 고정하고, (ⅱ) 세로 1mm의 공간에 삽입된 브러쉬모(331)의 개수를 100개로 고정하며, (ⅲ) UV 램프(320)는 파장 별로 UV-A, UV-B 및 UV-C로 구비하여 벤젠 및 에틸렌 각각의 유기물질을 정화한다.
이러한 실시예 3에서 각각의 UV-A, UV-B 및 UV-C의 UV 램프(320) 파장에 따른 유기물질의 정화율은 아래의 [표 3]에 기재된 바와 같이 UV-A가 가장 효과적이다.
| 구분 | 유입농도 | UV-A | UV-B | UV-C |
| 벤젠 | 200ppm | 34ppm | 165ppm | 178ppm |
| 에틸렌 | 200ppm | 43ppm | 158ppm | 164ppm |
따라서, 실시예들을 통해 알 수 있듯이, UV 램프(320)는 UV-A가 바람직하고, 브러쉬모(331)의 길이는 길수록 처리효과가 증대되고, 브러쉬모(331)의 밀도는 세로 1mm 내부 공간에 100개 이상으로 설치하는 것이 바람직하다는 것을 알 수 있다.
이와 같은 유기물질의 정화율을 가질 수 있는 EOR 처리부(300)를 거친 처리수는 도 5에 도시된 멀티 여과부(400)에서 여과처리된다.
멀티 여과부(400)는 부식성과 내구성을 고려하여 STS 304와 같은 내부식성의 금속 재질로 형성된 여과조 하우징(410)으로 외형을 형성하고, 여과조 하우징(410)의 상부 일측에 관통 구비되어 EOR 처리부(300)를 거친 처리수가 유입되는 유입 분배관(401), 여재층 상부 막음판(402)과 여재층 하부 막음판(403) 사이에 다수의 여과재로 이루어진 여재층(406), 및 여재층 하부 막음판(403)의 아래에 여재층(406)을 통해 여과 및 흡착되어 최종 처리된 최종 여과수를 담는 수조(405)를 포함하여 구성한다.
여과조 하우징(410)은 오폐수 중에 포함된 염소이온, OH- 라디칼 등의 영향을 고려하여 예컨대 에폭시 등으로 내부가 표면 처리되어 내구성을 확보할 수 있다.
이러한 멀티 여과부(400)는 필터부(300)에서 처리된 처리수를 분배관(401)을 통해 유입하고, 여과조 상부에서 처리수를 골고루 분산시켜 중력에 의해 하부로 이송하며, 여러층으로 구성된 여재층(406)을 통해 여과, 흡착하여 최종 처리수를 하부의 수조(405)에 집수한다.
이렇게 수조(405)에 집수된 최종 처리수는 처리수 펌프(450)에 의해 재이용탱크로 이송된다. 이때 제1자동밸브(421)와 제2자동밸브(422)는 개방되고 제3자동밸브(423)와 제4자동밸브(424)는 닫혀 집수된 최종 처리수가 재이용탱크로 이송된다.
또한, 처리수 펌프(450)는 여재층(406)의 수명연장을 위한 역세 공정에도 사용되어, 역세 공정을 위한 용수는 처리수를 일정량 저장해둔 재이용탱크에서 취수할 수 있다.
역세 처리공정을 위해, 제3자동밸브(423)와 제4자동밸브(424)는 개방되고 제1자동밸브(421)와 제2자동밸브(422)는 닫혀, 재이용탱크의 처리수를 하부의 수조(405)에 주입하면, 여재층(406)에 흡착된 오염물질이 처리수와 함께 멀티 여과부(400)의 상단으로 부상하게 된다.
이렇게 부상된 오염물질과 처리수의 역세수는 멀티 여과부(400)의 상부에 별도 설치된 월류관을 통해 슬러지 저류조(130)로 이송된다.
이때, 처리수 펌프(450)에 의해 공급되는 처리수의 유속에 의해 여재층(406)의 여재가 유실될 우려가 있으므로, 여재층 하부 막음판(403)과 여재층 상부 막음판(402)을 이용하여 역세 공정시에도 여재 유실을 방지할 수 있다.
구체적으로, 여재층 상부 막음판(402)은 위쪽부터 STS 타공판, STS 메쉬망, PE 지지망 및 STS 타공판으로 구성되며, 여재층 하부 막음판(403)은 위쪽부터 STS 메쉬망, PE 지지망, 및 STS 타공판으로 구성될 수 있다.
여재층(406)은 유입수의 성상에 따라 여재의 종류와 구성비율을 조정하여 최적의 처리효율을 구현할 수 있으며, 바람직하게는 70중량%의 활성탄, 20중량%의 여과사 및 10중량%의 여과사리로 구성한다.
이와 같이 구성된 본 발명의 실시예에 따른 오폐수 처리 시스템은 세차시 발생되는 오폐수를 선회류 가압 부상, EOR 처리부 및 멀티 여과부를 이용하여 정화처리할 수 있다.
본 발명의 기술사상은 상기 바람직한 실시예에 따라 구체적으로 기술되었으나, 전술한 실시예들은 그 설명을 위한 것이며, 그 제한을 위한 것이 아님을 주의하여야 한다.
또한, 본 발명의 기술분야의 통상의 전문가라면 본 발명의 기술사상의 범위 내에서 다양한 실시가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.
100: 집수부 110: 스크린조
111: 스크린 120: 집수조
121: 격벽 122:이류관
130: 슬러리 저류조 131: 이송관
200: 가압 부상부 210: 가압 펌프
220: 가압 탱크 230: 부상조
240: 처리수조 300: EOR 처리부
311: 유입구 312: 배출구
313: 하우징 320: UV 램프
330: 정화체 331: 브러쉬모
331-1: 브러쉬 모재 331-2: 광촉매 코팅층
333: 심봉 340: 지지대
400: 멀티 여과부 406: 여재층
410: 여과조 하우징
111: 스크린 120: 집수조
121: 격벽 122:이류관
130: 슬러리 저류조 131: 이송관
200: 가압 부상부 210: 가압 펌프
220: 가압 탱크 230: 부상조
240: 처리수조 300: EOR 처리부
311: 유입구 312: 배출구
313: 하우징 320: UV 램프
330: 정화체 331: 브러쉬모
331-1: 브러쉬 모재 331-2: 광촉매 코팅층
333: 심봉 340: 지지대
400: 멀티 여과부 406: 여재층
410: 여과조 하우징
Claims (10)
- 유입된 오폐수로부터 유기물 또는 무기물을 침전시켜 집수하거나 슬러지를 저류할 수 있는 집수부;
상기 집수부에 저장된 오폐수에 대해 기압차에 의해 발생되는 기포를 이용하여 오폐수 중의 오염물질을 부상분리하는 가압 부상부; 및
상기 가압 부상부에서 처리된 처리수에 대해 광촉매를 이용하여 잔존 유기물질을 처리하는 EOR 처리부;
를 포함하고,
상기 EOR 처리부는 내부에 정화공간이 구비되며 양측에 유기물질 유입구와 정화유체 배출구가 구비된 정화 하우징; 상기 정화 하우징의 정화공간에 장착되며 전원을 인가받아 점등하는 UV 램프; 상기 UV 램프와 함께 상기 정화공간 내에 장착되며 상기 UV 램프에서 조사되는 자외선에 반응하여 상기 잔존 유기물질을 제거하는 적어도 하나의 브러쉬형 정화체; 및 상기 정화 하우징의 양측에서 상기 UV 램프와 브러쉬형 정화체를 지지하는 지지대;를 포함하며,
상기 브러쉬형 정화체는 중앙의 심봉 및 상기 심봉에서 방사형으로 뻗어 연결된 다수의 브러쉬모를 포함하며,
상기 브러쉬모는 금속 재질로서 다수의 요철형상을 갖는 구조로 벤딩된 브러쉬 모재의 표면에 광촉매로 이루어진 광촉매 코팅층이 형성된 형태로 구비되는 것을 특징으로 하는 오폐수 처리 시스템.
- 제 1 항에 있어서,
상기 EOR 처리부를 거친 처리수에 대해 미처리된 오염물질을 다층으로 구성된 여과층에 의해 여과하는 멀티 여과부;
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 오폐수 처리 시스템.
- 제 1 항에 있어서,
상기 집수부는 격벽으로 이루어지고,
상기 유입된 오폐수로부터 상기 유기물 또는 무기물을 침전시키는 스크린조;
상기 스크린조를 거친 오폐수를 집수하는 집수조; 및
상기 시스템에서 발생하는 슬러지를 저류하는 저류조;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 오폐수 처리 시스템.
- 제 1 항에 있어서,
상기 가압 부상부는
상기 집수부에 저장된 오폐수를 흡입하는 가압펌프;
상기 가압펌프로부터 공급받은 가압수를 체류시키는 가압탱크;
상기 가압탱크로부터 공급받은 가압수에 대한 감압과정을 통해 발생되는 기포를 이용하여 상기 오폐수 중의 오염물질을 부상시키는 부상조; 및
상기 부상조의 일측에 구비되어 상기 오염물질을 부상시킨 후의 중간수를 인발하는 처리수조;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 오폐수 처리 시스템.
- 제 4 항에 있어서,
상기 부상조는 일측에 굴곡 형태로 관통 구비된 분사노즐을 더 포함하고,
상기 분사노즐을 통해 상기 가압탱크로부터 상기 가압수를 공급받는 것을 특징으로 하는 오폐수 처리 시스템.
- 삭제
- 삭제
- 제 1 항에 있어서,
상기 광촉매는 TiO2, ZnO, Nb2O53, SnO2, ZrO2SrTiO3, KTaO3, Ni-K4Nb6O17CdS, ZnSCdSe, GaP, CdTe, MoSe2, 및 WSe2 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 오폐수 처리 시스템.
- 제 2 항에 있어서,
상기 멀티 여과부는
외형을 형성하는 여과조 하우징;
상기 여과조 하우징의 상부 일측에 관통 구비되어 상기 EOR 처리부를 거친 처리수가 유입되는 유입 분배관;
상기 여과조 하우징의 중간에 구비된 여재층 상부 막음판과 여재층 하부 막음판 사이에 다수의 여과재로 이루어진 여재층; 및
상기 여재층 하부 막음판의 아래에 상기 여재층을 통해 여과 및 흡착되어 최종 처리된 최종 여과수를 담는 수조;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 오폐수 처리 시스템.
- 제 9 항에 있어서,
상기 여재층은 활성탄, 여과사 및 여과사리로 구성되는 것을 특징으로 하는 오폐수 처리 시스템.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020140025032A KR101425640B1 (ko) | 2014-03-03 | 2014-03-03 | 오폐수 처리 시스템 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020140025032A KR101425640B1 (ko) | 2014-03-03 | 2014-03-03 | 오폐수 처리 시스템 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR101425640B1 true KR101425640B1 (ko) | 2014-08-01 |
Family
ID=51749274
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020140025032A KR101425640B1 (ko) | 2014-03-03 | 2014-03-03 | 오폐수 처리 시스템 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101425640B1 (ko) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105819539A (zh) * | 2015-01-08 | 2016-08-03 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种有机污染废水的处理方法 |
| EP3177570A1 (en) * | 2014-08-06 | 2017-06-14 | Greenthread Limited | Apparatus and methods for water treatment |
| CN109647439A (zh) * | 2019-01-07 | 2019-04-19 | 福州大学 | 一种用于光解水产氢的钙钛矿-固溶体复合光催化剂 |
| CN110104846A (zh) * | 2019-06-12 | 2019-08-09 | 北京中环膜材料科技有限公司 | 一种膜化学反应器、使用其的水处理系统和水处理方法 |
| CN110330161A (zh) * | 2019-07-25 | 2019-10-15 | 刘衡 | 一种用于对刷丝或单丝生产中的废水进行处理的设备 |
| KR20200031792A (ko) | 2018-09-17 | 2020-03-25 | 주식회사 그레넥스 | 하·폐수용 침전 탱크 부착형 여과기 |
| KR102221571B1 (ko) * | 2020-09-23 | 2021-03-02 | 주식회사 케이디 | 역세척 효율이 향상된 수처리용 여과장치 |
| WO2021134875A1 (zh) * | 2019-12-30 | 2021-07-08 | 北京高能时代环境技术股份有限公司 | 一种有机污染场地污水处理装置及处理工艺 |
| CN114671576A (zh) * | 2022-05-05 | 2022-06-28 | 哈尔滨工业大学 | 一种有机污水处理装置 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006068639A (ja) * | 2004-09-02 | 2006-03-16 | Toshiba Home Technology Corp | 触媒反応装置 |
| KR100629935B1 (ko) * | 2005-02-07 | 2006-09-28 | 최문규 | 처리된 오,폐수의 방류수 무소독, 무균처리장치 및 그제조방법 |
| KR100848117B1 (ko) * | 2007-04-25 | 2008-07-24 | (주)미시간기술 | 복합 고도정수처리 장치 |
| KR101189912B1 (ko) * | 2009-12-21 | 2012-10-11 | 서울대학교산학협력단 | 오폐수 처리장치 |
-
2014
- 2014-03-03 KR KR1020140025032A patent/KR101425640B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006068639A (ja) * | 2004-09-02 | 2006-03-16 | Toshiba Home Technology Corp | 触媒反応装置 |
| KR100629935B1 (ko) * | 2005-02-07 | 2006-09-28 | 최문규 | 처리된 오,폐수의 방류수 무소독, 무균처리장치 및 그제조방법 |
| KR100848117B1 (ko) * | 2007-04-25 | 2008-07-24 | (주)미시간기술 | 복합 고도정수처리 장치 |
| KR101189912B1 (ko) * | 2009-12-21 | 2012-10-11 | 서울대학교산학협력단 | 오폐수 처리장치 |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3177570A1 (en) * | 2014-08-06 | 2017-06-14 | Greenthread Limited | Apparatus and methods for water treatment |
| EP3177570B1 (en) * | 2014-08-06 | 2023-10-11 | Greenthread Limited | Apparatus and methods for water treatment |
| CN105819539A (zh) * | 2015-01-08 | 2016-08-03 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种有机污染废水的处理方法 |
| CN105819539B (zh) * | 2015-01-08 | 2018-12-28 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种有机污染废水的处理方法 |
| KR20200031792A (ko) | 2018-09-17 | 2020-03-25 | 주식회사 그레넥스 | 하·폐수용 침전 탱크 부착형 여과기 |
| CN109647439A (zh) * | 2019-01-07 | 2019-04-19 | 福州大学 | 一种用于光解水产氢的钙钛矿-固溶体复合光催化剂 |
| CN110104846A (zh) * | 2019-06-12 | 2019-08-09 | 北京中环膜材料科技有限公司 | 一种膜化学反应器、使用其的水处理系统和水处理方法 |
| CN110330161A (zh) * | 2019-07-25 | 2019-10-15 | 刘衡 | 一种用于对刷丝或单丝生产中的废水进行处理的设备 |
| WO2021134875A1 (zh) * | 2019-12-30 | 2021-07-08 | 北京高能时代环境技术股份有限公司 | 一种有机污染场地污水处理装置及处理工艺 |
| KR102221571B1 (ko) * | 2020-09-23 | 2021-03-02 | 주식회사 케이디 | 역세척 효율이 향상된 수처리용 여과장치 |
| CN114671576A (zh) * | 2022-05-05 | 2022-06-28 | 哈尔滨工业大学 | 一种有机污水处理装置 |
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