KR101407774B1 - 감방사선성 조성물, 컬러 필터 및 액정 표시 소자 - Google Patents

감방사선성 조성물, 컬러 필터 및 액정 표시 소자 Download PDF

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Abstract

(A) 착색제, (B) 알칼리 가용성 수지, (C) 다관능성 단량체, 및 (D) 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-아세테이트와 같은 옥심과, 비이미다졸 화합물, 벤조페논 화합물, 티오크산톤 화합물 및 케토쿠마린 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 성분을 포함하는 광 라디칼 발생제를 함유하고, 또한 착색층 형성에 이용되는 감방사선성 조성물. 이 조성물은 저노광량 및 가혹한 현상 조건하에서도 패턴 단부의 결손 및 언더 컷트가 생기지 않고, 또한 현상시에 미용해물이 잔존하거나 패턴 단부에 스컴이 생기지 않는 화소 및 블랙 매트릭스를 제공한다.
감방사선성 조성물, 컬러 필터, 액정 표시 소자, 블랙 매트릭스, 착색제, 알칼리 가용성 수지, 다관능성 단량체, 광 라디칼 발생제

Description

감방사선성 조성물, 컬러 필터 및 액정 표시 소자{RADIOSENSITIVE COMPOSITIONS, COLOR FILTERS AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICES}
[문헌 1] 일본 특허 공개 (평)2-144502호 공보
[문헌 2] 일본 특허 공개 (평)3-53201호 공보
본 발명은 감방사선성 조성물, 컬러 필터 및 액정 표시 소자에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 투과형 또는 반사형 컬러 액정 표시 장치, 컬러 촬상관 소자 등에 이용되는 컬러 필터에 유용한 착색층의 형성에 이용되는 감방사선성 조성물, 해당 감방사선성 조성물로 형성된 착색층을 갖는 컬러 필터, 및 해당 컬러 필터를 구비하는 액정 표시 소자에 관한 것이다.
종래, 착색 감방사선성 조성물을 이용하여 컬러 필터를 제조함에 있어서는, 기판 상 또는 미리 원하는 패턴의 차광층을 형성한 기판 상에 착색 감방사선성 조성물을 도포하여 건조한 후, 건조 도막을 원하는 패턴 형상으로 방사선을 조사(이하, "노광"이라 함)하고 현상함으로써 각 색의 화소를 얻는 방법(일본 특허 공개 (평)2-144502호 공보 및 일본 특허 공개 (평)3-53201호 공보 참조)이 알려져 있다.
그리고, 최근의 컬러 필터 기술 분야에서는 노광량을 저하시키거나, 현상 공정에서의 기판 반송 속도를 빠르게 함으로써 택트 타임을 단축하는 움직임이 주류로 되어 있다. 그러나, 노광량의 저하나 기판 반송 속도 상승에 의해 현상 조건이 가혹해지기 때문에, 종래의 착색 감방사선성 조성물에서는 현상시에 패턴 단부의 결손이나 언더 컷트가 발생하기 쉬워, 택트 타임을 단축하면서 양호한 패턴 형상의 화소 및 블랙 매트릭스를 얻는 것이 곤란하였다.
본 발명의 목적은 첫째로, 우수한 현상성을 나타내는 감방사선성 조성물, 보다 구체적으로는, 저노광량 및 가혹한 현상 조건하에서도 패턴 단부의 결손 및 언더 컷트가 발생하지 않고, 또한 현상시에 미용해물이 잔존하거나 패턴 단부에 스컴이 발생하지 않는 화소 및 블랙 매트릭스를 제공하는 감방사선성 조성물을 제공하는 데에 있다.
본 발명의 다른 목적은 본 발명의 감방사선성 조성물로 형성된 착색층을 갖는 컬러 필터를 제공하는 데에 있다.
본 발명의 또 다른 목적은 본 발명의 컬러 필터를 구비한 액정 표시 소자를 제공하는 데에 있다.
본 발명의 또 다른 목적 및 이점은 이하의 설명으로부터 명백해질 것이다.
본 발명에 따르면, 본 발명의 상기 목적 및 이점은 첫째로,
(A) 착색제, (B) 알칼리 가용성 수지, (C) 다관능성 단량체, 및 (D) 하기 화 학식 1로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 2로 표시되는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 성분과, 비이미다졸 화합물, 벤조페논 화합물, 티오크산톤 화합물 및 케토쿠마린 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 성분을 포함하는 광 라디칼 발생제를 함유하고, 또한 착색층 형성에 이용되는 것을 특징으로 하는 감방사선성 조성물에 의해 달성된다.
Figure 112007009014971-pat00001
Figure 112007009014971-pat00002
화학식 1 및 화학식 2에서, 각 R1은 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, 각 R2는 서로 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 내지 12의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, 각 R3은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 12의 직쇄상, 분 지상 또는 환상 알킬기를 나타내고, 각 R4, 각 R5 및 각 R6은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알킬기를 나타내되, 단, R1, R2, R3, R4, R5 및 R6의 알킬기는 각각, 탄소수 1 내지 6의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알콕실기, 페닐기 및 할로겐 원자의 군에서 선택되는 치환기로 치환될 수 있고, R1 및 R2의 페닐기는 각각 탄소수 1 내지 6의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알킬기, 탄소수 1 내지 6의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알콕실기, 페닐기 및 할로겐 원자의 군에서 선택되는 치환기로 치환될 수 있다.
본 발명에서 말하는 "착색층"이란 컬러 필터에 이용되는 화소 및/또는 블랙 매트릭스를 포함하는 층을 의미한다.
본 발명에 따르면, 본 발명의 상기 목적 및 이점은 둘째로,
본 발명의 감방사선성 조성물로 형성된 착색층을 갖는 컬러 필터에 의해 달성된다.
본 발명에 따르면, 본 발명의 상기 목적 및 이점은 세째로,
본 발명의 컬러 필터를 구비하는 액정 표시 소자에 의해 달성된다.
이하, 본 발명에 대하여 상세히 설명한다.
감방사선성 조성물
-(A) 착색제-
본 발명에서의 착색제는 색조가 특별히 한정되는 것은 아니며, 얻어지는 컬러 필터의 용도에 따라 적절하게 선정되며, 안료, 염료 또는 천연 색소 중 어느 하 나일 수 있다.
컬러 필터에는 고정밀한 발색과 내열성이 요구되기 때문에, 본 발명에서의 착색제로는 발색성이 높으면서 내열성이 높은 착색제, 특히 내열분해성이 높은 착색제가 바람직하고, 통상적으로 안료가 이용되며, 특히 바람직하게는 유기 안료, 카본 블랙이 이용된다.
상기 유기 안료로는, 예를 들면 컬러 인덱스(C.I.; The Society of Dyers and Colourists사 발행)에서 피그먼트(Pigment)로 분류되어 있는 화합물, 구체적으로는 하기와 같은 컬러 인덱스(C.I.) 번호가 부여되어 있는 것을 들 수 있다.
C.I. 피그먼트 옐로우 1, C.I. 피그먼트 옐로우 3, C.I. 피그먼트 옐로우 12, C.I. 피그먼트 옐로우 13, C.I. 피그먼트 옐로우 14, C.I. 피그먼트 옐로우 15, C.I. 피그먼트 옐로우 16, C.I. 피그먼트 옐로우 17, C.I. 피그먼트 옐로우 20, C.I. 피그먼트 옐로우 24, C.I. 피그먼트 옐로우 31, C.I. 피그먼트 옐로우55, C.I. 피그먼트 옐로우 60, C.I. 피그먼트 옐로우 61, C.I. 피그먼트 옐로우 65, C.I. 피그먼트 옐로우 71, C.I. 피그먼트 옐로우 73, C.I. 피그먼트 옐로우 74, C.I. 피그먼트 옐로우 81, C.I. 피그먼트 옐로우 83, C.I. 피그먼트 옐로우 93, C.I. 피그먼트 옐로우 95, C.I. 피그먼트 옐로우 97, C.I. 피그먼트 옐로우 98, C.I. 피그먼트 옐로우 100, C.I. 피그먼트 옐로우 101, C.I. 피그먼트 옐로우 104, C.I. 피그먼트 옐로우 106, C.I. 피그먼트 옐로우 108, C.I. 피그먼트 옐로우 109, C.I. 피그먼트 옐로우 110, C.I. 피그먼트 옐로우 113, C.I. 피그먼트 옐로우 114, C.I. 피그먼트 옐로우 116, C.I. 피그먼트 옐로우 117, C.I. 피그먼트 옐로우 119, C.I. 피그먼트 옐로우 120, C.I. 피그먼트 옐로우 126, C.I. 피그먼트 옐로우 127, C.I. 피그먼트 옐로우 128, C.I. 피그먼트 옐로우 129, C.I. 피그먼트 옐로우 138, C.I. 피그먼트 옐로우 139, C.I. 피그먼트 옐로우 150, C.I. 피그먼트 옐로우 151, C.I. 피그먼트 옐로우 152, C.I. 피그먼트 옐로우 153, C.I. 피그먼트 옐로우 154, C.I. 피그먼트 옐로우 155, C.I. 피그먼트 옐로우 156, C.I. 피그먼트 옐로우 166, C.I. 피그먼트 옐로우 168, C.I. 피그먼트 옐로우 175, C.I. 피그먼트 옐로우 180, C.I. 피그먼트 옐로우 185,
C.I. 피그먼트 오렌지 1, C.I. 피그먼트 오렌지 5, C.I. 피그먼트 오렌지 13, C.I. 피그먼트 오렌지 14, C.I. 피그먼트 오렌지 16, C.I. 피그먼트 오렌지 17, C.I. 피그먼트 오렌지 24, C.I. 피그먼트 오렌지 34, C.I. 피그먼트 오렌지 36, C.I. 피그먼트 오렌지 38, C.I. 피그먼트 오렌지 40, C.I. 피그먼트 오렌지 43, C.I. 피그먼트 오렌지 46, C.I. 피그먼트 오렌지 49, C.I. 피그먼트 오렌지 51, C.I. 피그먼트 오렌지 61, C.I. 피그먼트 오렌지 63, C.I. 피그먼트 오렌지 64, C.I. 피그먼트 오렌지 71, C.I. 피그먼트 오렌지 73,
C.I. 피그먼트 바이올렛 1, C.I. 피그먼트 바이올렛 19, C.I. 피그먼트 바이올렛 23, C.I. 피그먼트 바이올렛 29, C.I. 피그먼트 바이올렛 32, C.I. 피그먼트 바이올렛 36, C.I. 피그먼트 바이올렛 38,
C.I. 피그먼트 레드 1, C.I. 피그먼트 레드 2, C.I. 피그먼트 레드 3, C.I. 피그먼트 레드 4, C.I. 피그먼트 레드 5, C.I. 피그먼트 레드 6, C.I. 피그먼트 레드 7, C.I. 피그먼트 레드 8, C.I. 피그먼트 레드 9, C.I. 피그먼트 레드 10, C.I. 피그먼트 레드 11, C.I. 피그먼트 레드 12, C.I. 피그먼트 레드 14, C.I. 피그먼트 레드 15, C.I. 피그먼트 레드 16, C.I. 피그먼트 레드 17, C.I. 피그먼트 레드 18, C.I. 피그먼트 레드 19, C.I. 피그먼트 레드 21, C.I. 피그먼트 레드 22, C.I. 피그먼트 레드 23, C.I. 피그먼트 레드 30, C.I. 피그먼트 레드 31, C.I. 피그먼트 레드 32, C.I. 피그먼트 레드 37, C.I. 피그먼트 레드 38, C.I. 피그먼트 레드 40, C.I. 피그먼트 레드 41, C.I. 피그먼트 레드 42, C.I. 피그먼트 레드 48:1, C.I. 피그먼트 레드 48:2, C.I. 피그먼트 레드 48:3, C.I. 피그먼트 레드 48:4, C.I. 피그먼트 레드 49:1, C.I. 피그먼트 레드 49:2, C.I. 피그먼트 레드 50:1, C.I. 피그먼트 레드 52:1, C.I. 피그먼트 레드 53:1, C.I. 피그먼트 레드 57, C.I. 피그먼트 레드 57:1, C.I. 피그먼트 레드 57:2, C.I. 피그먼트 레드 58:2, C.I. 피그먼트 레드 58:4, C.I. 피그먼트 레드 60:1, C.I. 피그먼트 레드 63:1, C.I. 피그먼트 레드 63:2, C.I. 피그먼트 레드 64:1, C.I. 피그먼트 레드 81:1, C.I. 피그먼트 레드 83, C.I. 피그먼트 레드 88, C.I. 피그먼트 레드 90:1, C.I. 피그먼트 레드 97,
C.I. 피그먼트 레드 101, C.I. 피그먼트 레드 102, C.I. 피그먼트 레드 104, C.I. 피그먼트 레드 105, C.I. 피그먼트 레드 106, C.I. 피그먼트 레드 108, C.I. 피그먼트 레드 112, C.I. 피그먼트 레드 113, C.I. 피그먼트 레드 114, C.I. 피그먼트 레드 122, C.I. 피그먼트 레드 123, C.I. 피그먼트 레드 144, C.I. 피그먼트 레드 146, C.I. 피그먼트 레드 149, C.I. 피그먼트 레드 150, C.I. 피그먼트 레드 151, C.I. 피그먼트 레드 166, C.I. 피그먼트 레드 168, C.I. 피그먼트 레드 170, C.I. 피그먼트 레드 171, C.I. 피그먼트 레드 172, C.I. 피그먼트 레드 174, C.I. 피그먼트 레드 175, C.I. 피그먼트 레드 176, C.I. 피그먼트 레드 177, C.I. 피그먼트 레드 178, C.I. 피그먼트 레드 179, C.I. 피그먼트 레드 180, C.I. 피그먼트 레드 185, C.I. 피그먼트 레드 187, C.I. 피그먼트 레드 188, C.I. 피그먼트 레드 190, C.I. 피그먼트 레드 193, C.I. 피그먼트 레드 194, C.I. 피그먼트 레드 202, C.I. 피그먼트 레드 206, C.I. 피그먼트 레드 207, C.I. 피그먼트 레드 208, C.I. 피그먼트 레드 209, C.I. 피그먼트 레드 215, C.I. 피그먼트 레드 216, C.I. 피그먼트 레드 220, C.I. 피그먼트 레드 224, C.I. 피그먼트 레드 226, C.I. 피그먼트 레드 242, C.I. 피그먼트 레드 243, C.I. 피그먼트 레드 245, C.I. 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 레드 255, C.I. 피그먼트 레드 264, C.I. 피그먼트 레드 265,
C.I. 피그먼트 블루 15, C.I. 피그먼트 블루 15:3, C.I. 피그먼트 블루 15:4, C.I. 피그먼트 블루 15:6, C.I. 피그먼트 블루 60,
C.I. 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36,
C.I. 피그먼트 브라운 23, C.I. 피그먼트 브라운 25,
C.I. 피그먼트 블랙 1, C.I. 피그먼트 블랙 7.
이들 유기 안료는, 예를 들면 황산 재결정법 및 용제 세정법이나, 이들의 조합 등에 의해 정제하여 사용할 수 있다.
또한, 무기 안료로는, 예를 들면 산화티탄, 황산바륨, 탄산칼슘, 아연화, 황산납, 황색납, 아연황, 철단(적색 산화철(III)), 카드뮴적, 군청, 감청, 산화크롬녹, 코발트녹, 엄버, 티탄 블랙, 합성 철흑, 카본 블랙 등을 들 수 있다.
본 발명에서, 상기 유기 안료 및 무기 안료는 각각 단독으로 또는 2종 이상 을 혼합하여 사용할 수 있다. 예를 들면, 또한 유기 안료와 무기 안료를 병용할 수 있다. 화소를 형성할 때에는 바람직하게는 1종 이상의 유기 안료가 사용되고, 또한 블랙 매트릭스를 형성할 때에는 바람직하게는 2종 이상의 유기 안료 및/또는 카본 블랙이 사용된다.
본 발명에서는 상기 각 안료는 필요할 경우 그의 입자 표면을 중합체로 개질하여 사용할 수 있다. 안료의 입자 표면을 개질하는 중합체로는 일본 특허 공개 (평)8-259876호 공보 등에 기재된 중합체나, 시판되는 각종 안료 분산용 중합체 또는 올리고머 등을 들 수 있다.
또한, 본 발명에서, 착색제는 필요할 경우 분산제와 함께 사용할 수 있다.
상기 분산제로는, 예를 들면 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양쪽성, 실리콘계, 불소계 등의 계면활성제를 들 수 있다.
상기 계면활성제로서는, 예를 들면 폴리옥시에틸렌 라우릴에테르, 폴리옥시에틸렌 스테아릴에테르, 폴리옥시에틸렌 올레일에테르 등의 폴리옥시에틸렌 알킬에테르; 폴리옥시에틸렌 n-옥틸페닐에테르, 폴리옥시에틸렌 n-노닐페닐에테르 등의 폴리옥시에틸렌 알킬페닐에테르; 폴리에틸렌글리콜 디라우레이트, 폴리에틸렌글리콜 디스테아레이트 등의 폴리에틸렌글리콜 디에스테르; 소르비탄 지방산 에스테르; 지방산 변성 폴리에스테르; 3급 아민 변성 폴리우레탄; 폴리에틸렌이민류 등 외에, 이하 상품명으로 KP(신에쓰 가가꾸 고교(주) 제조), 폴리플로우(교에이샤 가가꾸(주) 제조), 에프톱(토켐 프로덕츠사 제조), 메가팩(다이닛본 잉크 가가꾸 고교(주) 제조), 플로라드(스미또모 쓰리엠(주) 제조), 아사히 가드, 서프론(이상, 아사히 가라스(주) 제조), 디스퍼빅(Disperbyk)(빅케미 재팬(주) 제조), 솔스파스(제네카(주) 제조) 등을 들 수 있다.
이들 계면활성제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
계면활성제의 사용량은 착색제 100 중량부에 대하여 바람직하게는 50 중량부 이하, 보다 바람직하게는 0 내지 30 중량부이다.
-(B) 알칼리 가용성 수지-
본 발명에서의 알칼리 가용성 수지로는 (A) 착색제에 대하여 결합제로서 작용하면서 컬러 필터를 제조할 때에 그의 현상 처리 공정에서 이용되는 현상액, 특히 바람직하게는 알칼리 현상액에 대하여 가용성을 갖는 것이면, 특별히 한정되지 않는다. 이들 중 카르복실기를 갖는 알칼리 가용성 수지가 바람직하고, 특히, 1개 이상의 카르복실기를 갖는 에틸렌계 불포화 단량체(이하, "카르복실기 함유 불포화 단량체"라 함)와 다른 공중합 가능한 에틸렌계 불포화 단량체(이하, "공중합성 불포화 단량체"라 함)와의 공중합체(이하, "카르복실기 함유 공중합체"라 함)가 바람직하다.
카르복실기 함유 불포화 단량체로는, 예를 들면
(메트)아크릴산, 크로톤산, α-클로로아크릴산, 신남산 등의 불포화 모노카르복실산,
말레산, 무수 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 무수 이타콘산, 시트라콘산, 무수 시트라콘산, 메사콘산 등의 불포화 디카르복실산 또는 그의 무수물,
3가 이상의 불포화 다가 카르복실산 또는 그의 무수물,
숙신산 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸], 프탈산 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸] 등의 2가 이상의 다가 카르복실산의 모노[(메트)아크릴로일옥시알킬]에스테르,
ω-카르복시폴리카프로락톤 모노(메트)아크릴레이트 등의 양쪽 말단에 카르복실기와 수산기를 갖는 중합체의 모노(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
이들 카르복실기 함유 불포화 단량체 중, 숙신산 모노(2-아크릴로일옥시에틸) 및 프탈산 모노(2-아크릴로일옥시에틸)은 각각 M-5300 및 M-5400(도아 고세이(주) 제조)의 상품명으로 시판되고 있다.
상기 카르복실기 함유 불포화 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
또한, 공중합성 불포화 단량체로는, 예를 들면
스티렌, α-메틸스티렌, o-비닐톨루엔, m-비닐톨루엔, p-비닐톨루엔, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르 등의 방향족 비닐 화합물,
인덴, 1-메틸인덴 등의 인덴,
말레이미드, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드 등의 불포화 이미드,
메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, n-프로필(메트)아크릴레이트, i-프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, i-부틸(메트)아크 릴레이트, sec-부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 3-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 3-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 알릴(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 페닐(메트)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타디에닐(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 글리세롤모노(메트)아크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 에스테르,
2-아미노에틸(메트)아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 2-아미노프로필(메트)아크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필(메트)아크릴레이트, 3-아미노프로필(메트)아크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필(메트)아크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 아미노알킬에스테르,
글리시딜(메트)아크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 글리시딜 에스테르,
(메트)아크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴, 시안화 비닐리덴 등의 시안화 비닐 화합물,
(메트)아크릴아미드, α-클로로아크릴아미드, N-2-히드록시에틸(메트)아크릴아미드 등의 불포화 아미드,
아세트산비닐, 프로피온산비닐, 부티르산비닐, 벤조산비닐 등의 카르복실산비닐 에스테르,
비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르, 알릴글리시딜에테르 등의 불포화 에테르,
1,3-부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 지방족 공액 디엔,
폴리스티렌, 폴리메틸(메트)아크릴레이트, 폴리-n-부틸(메트)아크릴레이트, 폴리실록산 등의 중합체 분자쇄의 말단에 모노(메트)아크릴로일기를 갖는 거대 단량체 등을 들 수 있다.
이들 공중합성 불포화 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
본 발명에서의 카르복실기 함유 공중합체로는, (b1) (메트)아크릴산을 필수 성분으로 하고, 경우에 따라, 숙신산 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸] 및 ω-카르복시폴리카프로락톤 모노(메트)아크릴레이트의 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물을 추가로 함유하는 카르복실기 함유 불포화 단량체 성분과, (b2) 스티렌, N-페닐말레이미드, 메틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 알릴(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 글리세롤 모노(메트)아크릴레이트, 폴리스티렌 거대 단량체 및 폴리메틸메타크릴레이트 거대 단량체의 군에서 선택되는 1종 이상의 공중합성 불포화 단량체와의 공중합체(이하, "카르복실기 함유 공중합체(B1)"라 함)가 바람직하다.
카르복실기 함유 공중합체(B1)의 구체예로는,
(메트)아크릴산/메틸(메트)아크릴레이트 공중합체,
(메트)아크릴산/벤질(메트)아크릴레이트 공중합체,
(메트)아크릴산/2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트 공중합체,
(메트)아크릴산/2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트 공중합체,
(메트)아크릴산/메틸(메트)아크릴레이트/폴리스티렌 거대 단량체 공중합체,
(메트)아크릴산/메틸(메트)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 거대 단량체 공중합체, (메트)아크릴산/벤질(메트)아크릴레이트/폴리스티렌 거대 단량체 공중합체,
(메트)아크릴산/벤질(메트)아크릴레이트/폴리메틸(메트)아크릴레이트 거대 단량체 공중합체,
(메트)아크릴산/벤질(메트)아크릴레이트/글리세롤모노(메트)아크릴레이트 공중합체, (메트)아크릴산/스티렌/2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트 공중합체, (메트)아크릴산/2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트 공중합체,
(메트)아크릴산/2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트/페닐(메트)아크릴레이트 공중합체,
(메트)아크릴산/스티렌/N-페닐말레이미드/벤질(메트)아크릴레이트 공중합체,
(메트)아크릴산/2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트/폴리스티렌 거대 단량체 공중합체,
(메트)아크릴산/2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트/폴리메틸(메트)아크릴레이트 거대 단량체 공중합체,
(메트)아크릴산/스티렌/N-페닐말레이미드/벤질(메트)아크릴레이트/글리세롤 모노(메트)아크릴레이트 공중합체,
(메트)아크릴산/2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트/스티렌/N-페닐말레이미드/페닐(메트)아크릴레이트/폴리스티렌 거대 단량체 공중합체,
(메트)아크릴산/2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트/스티렌/N-페닐말레이미드/페닐(메트)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 거대 단량체 공중합체,
(메트)아크릴산/숙신산 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]/벤질(메트)아크릴레이트/글리세롤 모노(메트)아크릴레이트 공중합체,
(메트)아크릴산/숙신산 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]/스티렌/N-페닐말레이미드/알릴(메트)아크릴레이트 공중합체,
(메트)아크릴산/숙신산 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]/스티렌/N-페닐말레이미드/벤질(메트)아크릴레이트 공중합체,
(메트)아크릴산/숙신산 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]/스티렌/N-시클로헥실말레이미드/알릴(메트)아크릴레이트 공중합체,
(메트)아크릴산/숙신산 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]/스티렌/N-시클로헥실말레이미드/벤질(메트)아크릴레이트 공중합체,
(메트)아크릴산/ω-카르복시폴리카프로락톤 모노(메트)아크릴레이트/스티렌/N-페닐말레이미드/벤질(메트)아크릴레이트/글리세롤 모노(메트)아크릴레이트 공중합체 등을 들 수 있다.
카르복실기 함유 공중합체에서의 카르복실기 함유 불포화 단량체의 공중합 비율은 바람직하게는 5 내지 50 중량％, 보다 바람직하게는 10 내지 40 중량％이다. 공중합 비율이 5 중량％ 미만이면, 얻어지는 감방사선성 조성물의 알칼리 현상액에 대한 용해성이 저하되는 경향이 있고, 한편 50 중량％를 초과하면, 알칼리 현상액에 대한 용해성이 과대해져, 알칼리 현상액으로 현상할 때에 착색층이 기판으로부터 탈락되거나 착색층 표면의 막 요철을 초래하기 쉬워지는 경향이 있다.
본 발명에서의 알칼리 가용성 수지의 겔 투과 크로마토그래피(GPC, 용출 용매: 테트라히드로푸란)로 측정한 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량(이하, "Mw"라 함)은 바람직하게는 3,000 내지 300,000, 보다 바람직하게는 5,000 내지 100,000이다.
또한, 본 발명에서의 알칼리 가용성 수지의 겔 투과 크로마토그래피(GPC, 용출 용매: 테트라히드로푸란)로 측정한 폴리스티렌 환산 수 평균 분자량(이하, "Mn"이라 함)은 바람직하게는 3,000 내지 60,000, 보다 바람직하게는 5,000 내지 25,000이다.
본 발명에서는 이러한 특정 Mw 및 Mn을 갖는 알칼리 가용성 수지를 사용함으로써, 현상성이 우수한 감방사선성 조성물이 얻어지고, 이에 따라, 샤프한 패턴 단부를 갖는 화소 및 블랙 매트릭스를 형성할 수 있는 동시에, 현상시에 미노광부의 기판 상 및 차광층 상에 잔사, 바탕 오염, 막 잔여 등이 발생하기 어려워진다.
또한, 본 발명에서의 알칼리 가용성 수지의 Mw와 Mn의 비(Mw/Mn)는 바람직하게는 1 내지 5, 더욱 바람직하게는 1 내지 4이다.
본 발명에서, 알칼리 가용성 수지는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사 용할 수 있다.
본 발명에서의 알칼리 가용성 수지의 사용량은 (A) 착색제 100 중량부에 대하여 바람직하게는 10 내지 1,000 중량부, 보다 바람직하게는 20 내지 500 중량부이다. 알칼리 가용성 수지의 사용량이 10 중량부 미만이면, 예를 들면, 알칼리 현상성이 저하되거나, 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에 바탕 오염이나 막 잔여가 발생할 우려가 있고, 한편 1,000 중량부를 초과하면, 상대적으로 착색제 농도가 저하되기 때문에, 박막으로서 목적으로 하는 색 농도를 달성하는 것이 곤란해질 우려가 있다.
-(C) 다관능성 단량체-
본 발명에서의 다관능성 단량체는 분자 내에 2개 이상의 중합성 불포화 결합을 갖는 단량체를 포함한다.
다관능성 단량체로는, 예를 들면
에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 알킬렌글리콜의 디(메트)아크릴레이트,
폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 등의 폴리알킬렌글리콜의 디(메트)아크릴레이트,
글리세린, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨 등의 3가 이상의 다가 알코올의 폴리(메트)아크릴레이트나, 이들의 디카르복실산 변성물,
폴리에스테르, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 알키드 수지, 실리콘 수지, 스피란 수지 등의 올리고(메트)아크릴레이트,
양쪽 말단 히드록시폴리-1,3-부타디엔, 양쪽 말단 히드록시폴리이소프렌, 양 쪽 말단 히드록시폴리카프로락톤 등의 양쪽 말단 히드록실화 중합체의 디(메트)아크릴레이트, 및
트리스[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]포스페이트 등을 들 수 있다.
이들 다관능성 단량체 중, 3가 이상의 다가 알코올의 폴리(메트)아크릴레이트나 이들의 디카르복실산 변성물, 구체적으로는 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리메타크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리메타크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사메타크릴레이트,
하기 화학식 3으로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 4로 표시되는 화합물 등이 바람직하다.
Figure 112007009014971-pat00003
Figure 112007009014971-pat00004
특히, 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트 및 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트가, 착색층의 강도가 높고, 착색층의 표면 평활성이 우수하며, 또한 미노광부의 기판 상 및 차광층 상에 바탕 오염 및 막 잔여 등을 잘 발생시키지 않는다는 점에서 바람직하다.
상기 다관능성 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
본 발명에서의 다관능성 단량체의 사용량은 (B) 알칼리 가용성 수지 100 중량부에 대하여 바람직하게는 5 내지 500 중량부, 보다 바람직하게는 20 내지 300 중량부이다. 다관능성 단량체의 사용량이 5 중량부 미만이면, 착색층의 강도나 표면 평활성이 저하되는 경향이 있고, 한편 500 중량부를 초과하면, 예를 들면, 알칼리 현상성이 저하되거나, 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에 바탕 오염, 막 잔여 등이 발생하기 쉬워지는 경향이 있다.
또한, 본 발명에서는 다관능성 단량체와 함께 중합성 불포화 결합을 1개갖는 단관능성 단량체를 함께 사용할 수도 있다.
상기 단관능성 단량체로는, 예를 들면 (B) 알칼리 가용성 수지에 대해서 예시한 상기 카르복실기 함유 불포화 단량체나 공중합성 불포화 단량체와 동일한 화합물이나, N-(메트)아크릴로일모르폴린, N-비닐피롤리돈, N-비닐-ε-카프로락탐 외에 시판품으로서 M-5600(상품명, 도아 고세이(주) 제조) 등을 들 수 있다.
이들 단관능성 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 단관능성 단량체의 사용 비율은 다관능성 단량체와 단관능성 단량체의 합계에 대하여, 바람직하게는 90 중량％ 이하, 보다 바람직하게는 50 중량％ 이하이다. 단관능성 단량체의 사용 비율이 90 중량％를 초과하면, 얻어지는 착색층의 강도나 표면 평활성이 불충분해질 우려가 있다.
본 발명에서의 다관능성 단량체와 단관능성 단량체의 합계 사용량은 (B) 알칼리 가용성 수지 100 중량부에 대하여, 바람직하게는 5 내지 500 중량부, 보다 바람직하게는 20 내지 300 중량부이다. 상기 합계 사용량이 5 중량부 미만이면, 착색층의 강도나 표면 평활성이 저하되는 경향이 있고, 한편 500 중량부를 초과하면, 예를 들면, 알칼리 현상성이 저하되거나, 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에 바탕 오염, 막 잔여 등이 발생하기 쉬워지는 경향이 있다.
-(D) 광 라디칼 발생제-
본 발명에서의 광 라디칼 발생제는 상기 화학식 1로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 2로 표시되는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 성분(이하, "광 라디칼 발생제(D1)"라 함)과, 비이미다졸 화합물, 벤조페논 화합물, 티오크산톤 화합물 및 케토쿠마린 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 성분(이하, "광 라디칼 발생제(D2)"라 함)을 포함한다. 이러한 광 라디칼 발생제는, 예를 들면 가시광선, 자외선, 원자외선, 하전 입자선, X선 등의 방사선에 의한 노광에 의해, (C) 다관능성 단량체 및 경우에 따라 사용되는 단관능성 단량체의 중합을 개시할 수 있는 라디칼을 발생한다.
화학식 1 및 화학식 2에서, R1, R2 및 R3의 탄소수 1 내지 12의 직쇄상, 분지 상 또는 환상 알킬기로는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, i-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기, n-운데실기, n-도데실기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등을 들 수 있다.
또한, R4, R5 및 R6의 탄소수 1 내지 6의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알킬기로는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, i-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등을 들 수 있다.
R1, R2, R3, R4, R5 및 R6의 각 알킬기에 대한 치환기, 및 R1 및 R2의 각 페닐기에 대한 치환기 중, 탄소수 1 내지 6의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알콕실기로는, 예를 들면 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, i-프로폭시기, n-부톡시기, t-부톡시기 등을 들 수 있고, 할로겐 원자로는, 예를 들면 불소 원자, 염소 원자 등을 들 수 있다.
또한, R1 및 R2의 각 페닐기에 대한 치환기 중, 탄소수 1 내지 6의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알킬기로는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, t-부틸기 등을 들 수 있다.
이들 치환기는 각 알킬기 및 각 페닐기에 1개 이상 또는 1종 이상 존재할 수 있다.
화학식 1 및 화학식 2에서, R1로서는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, 페닐기 등이 바람직하고, R2로서는 수소 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기 등이 바람직하고, R3으로서는 수소 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기 등이 바람직하고, 또한 R4, R5 및 R6으로서는 수소 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기 등이 바람직하다.
본 발명에서의 바람직한 광 라디칼 발생제(D1)의 구체예로서는, 1-[9-에틸-6-벤조일-9.H.-카르바졸-3-일]-노난-1,2-노난-2-옥심-O-벤조에이트, 1-[9-에틸-6-벤조일-9.H.-카르바졸-3-일]-노난-1,2-노난-2-옥심-O-아세테이트, 1-[9-에틸-6-벤조일-9.H.-카르바졸-3-일]-펜탄-1,2-펜탄-2-옥심-O-아세테이트, 1-[9-에틸-6-벤조일-9.H.-카르바졸-3-일]-옥탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-벤조에이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1-[9-에틸-6-(1,3,5-트리메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-벤조에이트, 1-[9-n-부틸-6-(2-에틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-벤조에이트 등을 들 수 있다.
이들 광 라디칼 발생제(D1) 중, 특히 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-아세테이트가 바람직하다.
상기 광 라디칼 발생제(D1)는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
다음으로, 광 라디칼 발생제(D2) 중 비이미다졸 화합물로는, 예를 들면 하기 화학식 5a, 화학식 5b 또는 화학식 5c로 표시되는 주요 골격을 1종 이상 갖는 화합물 등을 들 수 있고, 비이미다졸 화합물의 구체예로서는
2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸,
2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸,
2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸,
2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸,
2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸,
2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸,
2,2'-비스(2,4-디브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸,
2,2'-비스(2,4,6-트리브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 등을 들 수 있다.
Figure 112007009014971-pat00005
Figure 112007009014971-pat00006
Figure 112007009014971-pat00007
이들 비이미다졸 화합물 중, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 및 2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸이 바람직하고, 특히 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸이 바람직하다.
상기 비이미다졸 화합물은 용제에 대한 용해성이 우수하여 미용해물, 석출물 등의 이물질이 생기지 않고, 게다가 감도가 높아, 적은 에너지량의 노광에 의해 경화 반응을 충분히 진행시키는 동시에, 콘트라스트가 높아, 미노광부에서 경화 반응이 생기지 않기 때문에, 노광 후의 도막은 현상액에 대하여 불용성인 경화 부분과 현상액에 대하여 높은 용해성을 갖는 미경화 부분으로 명확히 구분되며, 이에 따라, 언더 컷트가 없는 화소 패턴 및 블랙 매트릭스 패턴이 소정 배열에 따라서 배치된 고정밀한 패턴 어레이를 형성할 수 있다.
-수소 공여체-
또한, 본 발명에서는 비이미다졸 화합물을 이용하는 경우, 하기 수소 공여체를 병용하는 것이 감도를 더욱 개량할 수 있다는 점에서 바람직하다.
여기서 말하는 "수소 공여체"란, 노광에 의해 비이미다졸계 화합물로부터 발생한 라디칼에 수소 원자를 공여할 수 있는 화합물을 의미한다.
이러한 수소 공여체로서는 하기에서 정의하는 머캅탄 화합물, 하기에서 정의하는 아민 화합물 등이 바람직하다.
상기 머캅탄 화합물은 벤젠환 또는 복소환을 모핵으로 하고, 상기 모핵에 직접 결합한 머캅토기를 1개 이상, 바람직하게는 1 내지 3개, 더욱 바람직하게는 1 내지 2개 갖는 화합물(이하 "머캅탄 수소 공여체"라 함)을 포함한다.
또한, 상기 아민 화합물은 벤젠환 또는 복소환을 모핵으로 하고, 상기 모핵에 직접 결합한 아미노기를 1개 이상, 바람직하게는 1 내지 3개, 더욱 바람직하게는 1 내지 2개 갖는 화합물(이하 "아민 수소 공여체"라 함)을 포함한다.
한편, 이들 수소 공여체는 머캅토기와 아미노기를 동시에 가질 수도 있다.
이하, 수소 공여체에 대하여 보다 구체적으로 설명한다.
머캅탄 수소 공여체는 벤젠환 또는 복소환을 각각 1개 이상 가질 수 있고, 또한 벤젠환과 복소환 모두를 가질 수 있으며, 이들 환을 2개 이상 갖는 경우, 축합환을 형성할 수도 있고, 형성하지 않을 수도 있다.
또한, 머캅탄 수소 공여체는 머캅토기를 2개 이상 갖는 경우, 1개 이상의 유리 머캅토기가 잔존하는 한, 나머지 머캅토기 중 1개 이상이 알킬기, 아르알킬기 또는 아릴기로 치환될 수도 있고, 나아가 1개 이상의 유리 머캅토기가 잔존하는 한 , 2개의 황 원자가 알킬렌기 등의 2가 유기기를 개재하여 결합된 구조 단위, 또는 2개의 황 원자가 디술피드의 형태로 결합된 구조 단위를 가질 수 있다.
또한, 머캅탄 수소 공여체는 머캅토기 이외의 부분에서, 카르복실기, 치환 또는 비치환된 알콕시카르보닐기, 치환 또는 비치환된 페녹시카르보닐기, 니트릴기 등에 의해 치환될 수도 있다.
이러한 머캅탄 수소 공여체의 구체예로는, 2-머캅토벤조티아졸, 2-머캅토벤조옥사졸, 2-머캅토벤조이미다졸, 2,5-디머캅토-1,3,4-티아디아졸, 2-머캅토-2,5-디메틸아미노피리딘 등을 들 수 있다.
이들 머캅탄 수소 공여체 중 2-머캅토벤조티아졸, 2-머캅토벤조옥사졸 등이 바람직하고, 특히 2-머캅토벤조티아졸이 바람직하다.
다음으로, 아민 수소 공여체는 벤젠환 또는 복소환을 각각 1개 이상 가질 수 있고, 또한 벤젠환과 복소환 모두를 가질 수 있으며, 이들 환을 2개 이상 갖는 경우, 축합환을 형성할 수도 있고, 형성하지 않을 수도 있다.
또한, 아민 수소 공여체는 아미노기 중 1개 이상이 알킬기 또는 치환 알킬기로 치환될 수도 있고, 아미노기 이외의 부분에서 카르복실기, 치환 또는 비치환된 알콕시카르보닐기, 치환 또는 비치환된 페녹시카르보닐기, 니트릴기 등에 의해 치환될 수도 있다.
이러한 아민 수소 공여체의 구체예로서는 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4-디에틸아미노아세토페논, 4-디메틸아미노프로피오페논, 4-디메틸아미노벤조산 에틸, 4-디메틸아미노벤조산 i-아밀, 4-디메틸아 미노벤조산, 4-디메틸아미노벤조니트릴 등을 들 수 있다.
이들 아민 수소 공여체 중, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이 바람직하고, 특히, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이 바람직하다.
본 발명에서, 수소 공여체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있지만, 1종 이상의 머캅탄 수소 공여체와 1종 이상의 아민 수소 공여체를 조합하여 사용하는 것이, 형성된 착색층이 현상시에 기판으로부터 잘 탈락되지 않고, 또한 착색층의 강도 및 감도도 높은 점에서 바람직하다.
머캅탄 수소 공여체와 아민 수소 공여체의 바람직한 조합의 구체예로는, 2-머캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 2-머캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2-머캅토벤조옥사졸/4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 2-머캅토벤조옥사졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있고, 더욱 바람직한 조합은 2-머캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2-머캅토벤조옥사졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이고, 특히 바람직한 조합은 2-머캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이다.
머캅탄 수소 공여체와 아민 수소 공여체의 조합에서 머캅탄 수소 공여체와 아민 수소 공여체의 중량비는 바람직하게는 1:1 내지 1:4, 보다 바람직하게는 1:1 내지 1:3이다.
또한, 상기 벤조페논 화합물로는, 예를 들면 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있다.
또한, 상기 티오크산톤 화합물로는, 예를 들면 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 2-i-프로필티오크산톤 등을 들 수 있다.
또한, 상기 케토쿠마린 화합물로는, 예를 들면 3-케토쿠마린 등을 들 수 있다.
본 발명에서, 광 라디칼 발생제(D2)로서는 2,4-디에틸티오크산톤, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2-머캅토벤조티아졸 등이 바람직하다.
상기 광 라디칼 발생제(D2)는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
본 발명에서의 광 라디칼 발생제는 추가로, 광 라디칼 발생제(D1) 및 광 라디칼 발생제(D2) 이외의 성분(이하, "다른 광 라디칼 발생제"라 함)을 포함할 수 있다.
다른 광 라디칼 발생제로는, 예를 들면 다른 O-아실옥심 화합물, 벤조인 화합물, 아세토페논 화합물, α-디케톤 화합물, 다핵 퀴논 화합물, 포스핀 화합물, 트리아진 화합물 등을 들 수 있다.
상기 다른 O-아실옥심 화합물로는,예를 들면 1,2-옥타디온-1-[4-(페닐티오)페닐]-2-(O-벤조일옥심), 1,2-부탄디온-1-[4-(페닐티오)페닐]-2-(O-벤조일옥심), 1,2-부탄디온-1-[4-(페닐티오)페닐]-2-(O-아세틸옥심), 1,2-옥타디온-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-(O-벤조일옥심), 1,2-옥타디온-1-[4-(페닐티오)페닐]-2-[O-(4-메틸벤조 일옥심)] 등을 들 수 있다.
또한, 상기 벤조인 화합물로는, 예를 들면 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 2-벤조일벤조산메틸 등을 들 수 있다.
또한, 상기 아세토페논 화합물로는, 예를 들면 2,2-디메톡시아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-(4-i-프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2-메틸-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노-1-프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 등을 들 수 있다.
또한, 상기 α-디케톤 화합물로는, 예를 들면 디아세틸, 디벤조일, 메틸벤조일포르메이트 등을 들 수 있다.
또한, 상기 다핵 퀴논 화합물로는, 예를 들면 안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 1,4-나프토퀴논 등을 들 수 있다.
또한, 상기 포스핀 화합물로는, 예를 들면 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥시드, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드 등을 들 수 있다.
또한, 상기 트리아진 화합물로는, 예를 들면 2,4,6-트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-메틸-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-4,6-비 스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-n-부톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 하기 화학식 6으로 표시되는 화합물, 하기 화학식 7로 표시되는 화합물 등의 할로메틸기를 갖는 화합물 등을 들 수 있다.
Figure 112007009014971-pat00008
Figure 112007009014971-pat00009
본 발명에서, 다른 광 라디칼 발생제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
본 발명에서, 광 라디칼 발생제의 합계 사용량은 (C) 다관능성 단량체와 경우에 따라 사용되는 단관능성 단량체의 합계 100 중량부에 대하여, 바람직하게는 0.01 내지 200 중량부, 보다 바람직하게는 1 내지 120 중량부, 특히 바람직하게는 1 내지 100 중량부이다. 광 라디칼 발생제의 합계 사용량이 0.01 중량부 미만이면, 노광에 의한 경화가 불충분해지고, 화소 패턴 또는 블랙 매트릭스 패턴이 소정 배열에 따라서 배치된 패턴 어레이를 얻는 것이 곤란해질 우려가 있고, 한편 200 중량부를 초과하면, 형성된 착색층이 현상시에 기판으로부터 탈락되기 쉬워지고, 또한 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에 바탕 오염, 막 잔여 등이 생기기 쉬워진다.
또한, 광 라디칼 발생제(D2)의 사용 비율은 광 라디칼 발생제(D1)와 광 라디칼 발생제(D2)의 합계에 대하여, 바람직하게는 10 내지 50 중량％, 더욱 바람직하게는 10 내지 30 중량％이다. 광 라디칼 발생제(D2)의 사용 비율이 10 중량％ 미만이면, 화소 패턴을 얻는 것이 곤란해질 우려가 있고, 한편 50 중량％를 초과하면, 본 발명의 소기의 효과가 손상될 우려가 있다.
또한, 다른 광 라디칼 발생제의 사용 비율은 광 라디칼 발생제의 합계에 대하여 바람직하게는 50 중량％ 이하, 보다 바람직하게는 30 중량％ 이하이다. 다른 광 라디칼 발생제의 사용 비율이 50 중량％를 초과하면, 본 발명의 소기의 효과가 손상될 우려가 있다.
본 발명에서는 상기 광 라디칼 발생제와 함께, 필요에 따라 증감제, 경화 촉진제 또는 고분자 광가교·증감제 중 1종 이상을 병용할 수도 있다.
-첨가제-
본 발명의 감방사선성 조성물은 필요에 따라 다양한 첨가제를 함유할 수도 있다.
상기 첨가제로는 감방사선성 조성물의 알칼리 현상액에 대한 용해성을 보다 개선하면서, 현상 후의 미용해물의 잔존을 보다 억제하는 작용 등을 나타내는, 유 기산 또는 유기 아미노 화합물(단, 상기 수소 공여체를 제외함) 등을 들 수 있다.
상기 유기산으로는 분자 중에 1개 이상의 카르복실기를 갖는, 지방족 카르복실산 또는 페닐기 함유 카르복실산이 바람직하다.
상기 지방족 카르복실산으로는, 예를 들면
포름산, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 발레르산, 피발산, 카프로산, 디에틸아세트산, 에난트산, 카프릴산 등의 모노카르복실산,
옥살산, 말론산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 아젤라산, 세박산, 브라실산, 메틸말론산, 에틸말론산, 디메틸말론산, 메틸숙신산, 테트라메틸숙신산, 시클로헥산디카르복실산, 이타콘산, 시트라콘산, 말레산, 푸마르산, 메사콘산 등의 디카르복실산,
트리카르발릴산, 아코니트산, 캄포르산 등의 트리카르복실산 등을 들 수 있다.
또한, 상기 페닐기 함유 카르복실산으로는, 예를 들면 카르복실기가 직접페닐기에 결합된 화합물, 카르복실기가 탄소쇄를 통해 페닐기에 결합된 카르복실산 등을 들 수 있다.
페닐기 함유 카르복실산으로는, 예를 들면
벤조산, 톨루일산, 쿠민산, 헤멜리트산, 메시틸렌산 등의 방향족 모노카르복실산,
프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산 등의 방향족 디카르복실산,
트리멜리트산, 트리메스산, 멜로판산, 피로멜리트산 등의 3가 이상의 방향족 폴리카르복실산, 및
페닐아세트산, 히드라트로프산, 히드로신남산, 만델산, 페닐숙신산, 아트로프산, 신남산, 신나밀리덴산, 쿠마르산, 움벨산 등을 들 수 있다.
이들 유기산 중, 알칼리 용해성, 후술하는 용매에 대한 용해성, 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에 있어서의 바탕 오염이나 막 잔여 방지 등의 측면에서, 지방족 카르복실산으로는 지방족 디카르복실산이 바람직하고, 특히, 말론산, 아디프산, 이타콘산, 시트라콘산, 푸마르산, 메사콘산 등이 바람직하다. 또한, 페닐기 함유 카르복실산으로는 방향족 디카르복실산이 바람직하고, 특히, 프탈산이 바람직하다.
상기 유기산은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
유기산의 사용량은 감방사선성 조성물 전체에 대하여 바람직하게는 15 중량％ 이하, 보다 바람직하게는 10 중량％ 이하이다. 유기산의 사용량이 15 중량％를 초과하면, 형성된 착색층의 기판에 대한 밀착성이 저하되는 경향이 있다.
또한, 상기 유기 아미노 화합물로는 분자 중에 1개 이상의 아미노기를 갖는, 지방족 아민 또는 페닐기 함유 아민이 바람직하다.
상기 지방족 아민으로는, 예를 들면
n-프로필아민, i-프로필아민, n-부틸아민, i-부틸아민, sec-부틸아민, t-부틸아민, n-펜틸아민, n-헥실아민, n-헵틸아민, n-옥틸아민, n-노닐아민, n-데실아민, n-운데실아민, n-도데실아민, 시클로헥실아민, 2-메틸시클로헥실아민, 3-메틸시클로헥실아민, 4-메틸시클로헥실아민, 2-에틸시클로헥실아민, 3-에틸시클로헥실 아민, 4-에틸시클로헥실아민 등의 모노(시클로)알킬아민,
메틸에틸아민, 디에틸아민, 메틸 n-프로필아민, 에틸 n-프로필아민, 디-n-프로필아민, 디-i-프로필아민, 디-n-부틸아민, 디-i-부틸아민, 디-sec-부틸아민, 디-t-부틸아민, 디-n-펜틸아민, 디-n-헥실아민, 메틸시클로헥실아민, 에틸시클로헥실아민, 디시클로헥실아민 등의 디(시클로)알킬아민,
디메틸에틸아민, 메틸디에틸아민, 트리에틸아민, 디메틸 n-프로필아민, 디에틸 n-프로필아민, 메틸 디-n-프로필아민, 에틸 디-n-프로필아민, 트리-n-프로필아민, 트리-i-프로필아민, 트리-n-부틸아민, 트리-i-부틸아민, 트리-sec-부틸아민, 트리-t-부틸아민, 트리-n-펜틸아민, 트리-n-헥실아민, 디메틸시클로헥실아민, 디에틸시클로헥실아민, 메틸디시클로헥실아민, 에틸디시클로헥실아민, 트리시클로헥실아민 등의 트리(시클로)알킬아민,
2-아미노에탄올, 3-아미노-1-프로판올, 1-아미노-2-프로판올, 4-아미노-1-부탄올, 5-아미노-1-펜탄올, 6-아미노-1-헥산올, 4-아미노-1-시클로헥산올 등의 모노(시클로)알칸올아민,
디에탄올아민, 디-n-프로판올아민, 디-i-프로판올아민, 디-n-부탄올아민, 디-i-부탄올아민, 디-n-펜탄올아민, 디-n-헥산올아민, 디(4-시클로헥산올)아민 등의 디(시클로)알칸올아민,
트리에탄올아민, 트리-n-프로판올아민, 트리-i-프로판올아민, 트리-n-부탄올아민, 트리-i-부탄올아민, 트리-n-펜탄올아민, 트리-n-헥산올아민, 트리(4-시클로헥산올)아민 등의 트리(시클로)알칸올아민,
3-아미노-1,2-프로판디올, 2-아미노-1,3-프로판디올, 4-아미노-1,2-부탄디올, 4-아미노-1,3-부탄디올, 4-아미노-1,2-시클로헥산디올, 4-아미노-1,3-시클로헥산디올, 3-디메틸아미노-1,2-프로판디올, 3-디에틸아미노-1,2-프로판디올, 2-디메틸아미노-1,3-프로판디올, 2-디에틸아미노-1,3-프로판디올 등의 아미노(시클로)알칸디올,
1-아미노시클로펜탄메탄올, 4-아미노시클로펜탄메탄올, 1-아미노시클로헥산메탄올, 4-아미노시클로헥산메탄올, 4-디메틸아미노시클로펜탄메탄올, 4-디에틸아미노시클로펜탄메탄올, 4-디메틸아미노시클로헥산메탄올, 4-디에틸아미노시클로헥산메탄올 등의 아미노기 함유 시클로알칸메탄올,
β-알라닌, 2-아미노부티르산, 3-아미노부티르산, 4-아미노부티르산, 2-아미노이소부티르산, 3-아미노이소부티르산, 2-아미노발레르산, 5-아미노발레르산, 6-아미노카프로산, 1-아미노시클로프로판카르복실산, 1-아미노시클로헥산카르복실산, 4-아미노시클로헥산카르복실산 등의 아미노카르복실산 등을 들 수 있다.
또한, 상기 페닐기 함유 아민으로는, 예를 들면 아미노기가 직접 페닐기에 결합된 화합물, 아미노기가 탄소쇄를 통해 페닐기에 결합된 화합물 등을 들 수 있다.
페닐기 함유 아민으로는, 예를 들면
아닐린, 2-메틸아닐린, 3-메틸아닐린, 4-메틸아닐린, 4-에틸아닐린, 4-n-프로필아닐린, 4-i-프로필아닐린, 4-n-부틸아닐린, 4-t-부틸아닐린, 1-나프틸아민, 2-나프틸아민, N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린, 4-메틸-N,N-디메틸아닐린 등 의 방향족 아민,
2-아미노벤질알코올, 3-아미노벤질알코올, 4-아미노벤질알코올, 4-디메틸아미노벤질알코올, 4-디에틸아미노벤질알코올 등의 아미노벤질알코올,
2-아미노페놀, 3-아미노페놀, 4-아미노페놀, 4-디메틸아미노페놀, 4-디에틸아미노페놀 등의 아미노페놀 등을 들 수 있다.
후술하는 용매에 대한 용해성, 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상의 바탕 오염이나 막 잔여 방지 등의 측면에서, 이들 유기 아미노 화합물 중, 지방족 아민으로서는 모노(시클로)알칸올아민, 아미노(시클로)알칸디올이 바람직하고, 특히, 2-아미노에탄올, 3-아미노-1-프로판올, 5-아미노-1-펜탄올, 3-아미노-1,2-프로판디올, 2-아미노-1,3-프로판디올, 4-아미노-1,2-부탄디올 등이 바람직하다. 또한, 페닐기 함유 아민으로는 아미노페놀류가 바람직하고, 특히, 2-아미노페놀, 3-아미노페놀, 4-아미노페놀 등이 바람직하다.
상기 유기 아미노 화합물은 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
유기 아미노 화합물의 사용량은 감방사선성 조성물 전체에 대하여 바람직하게는 15 중량％ 이하, 보다 바람직하게는 10 중량％ 이하이다. 유기 아미노 화합물의 사용량이 15 중량％를 초과하면, 형성된 착색층의 기판에 대한 밀착성이 저하되는 경향이 있다.
또한, 상기 유기산 및 유기 아미노 화합물 이외의 첨가제로는, 예를 들면 구리 프탈로시아닌 유도체 등의 청색 안료 유도체나 황색 안료 유도체 등의 분산 보 조제,
유리, 알루미나 등의 충전제,
폴리비닐알코올, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리(플루오로알킬아크릴레이트) 등의 고분자 화합물,
비이온계, 양이온계, 음이온계 등의 계면활성제,
비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등의 밀착 촉진제,
2,2'-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸페놀 등의 산화 방지제,
2-(3-t-부틸-5-메틸-2-히드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 알콕시벤조페논류 등의 자외선 흡수제,
폴리아크릴산나트륨 등의 응집 방지제,
1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴), 2-페닐아조-4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴 등의 열 라디칼 발생제 등을 들 수 있다.
용매
본 발명의 감방사선성 조성물은 상기 (A) 내지 (D) 성분을 필수 성분으로 하 며, 필요에 따라 상기 첨가제 성분을 함유하지만, 바람직하게는 용매를 배합하여 액상 조성물로서 제조된다.
상기 용매로는 감방사선성 조성물을 구성하는 (A) 내지 (D) 성분이나 첨가제 성분을 분산 또는 용해시키면서, 이들 성분과 반응하지 않고, 적절한 휘발성을 갖는 것인 한, 적절히 선택하여 사용할 수 있다.
이러한 용매로는, 예를 들면
에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 디에틸렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 프로필렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 디프로필렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 트리프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜 모노에틸에테르 등의 (폴리)알킬렌글리콜 모노알킬에테르,
에틸렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트 등의 (폴리)알킬렌글리콜 모노알킬에테르아세테이트,
디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 테트라히드로푸란 등의 다른 에테르,
메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논 등의 케톤,
락트산메틸, 락트산에틸 등의 락트산알킬 에스테르,
2-히드록시-2-메틸프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸, 3-메톡시프로피온산 에틸, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 에톡시아세트산 에틸, 히드록시아세트산 에틸, 2-히드록시-3-메틸부탄산 메틸, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산 에틸, 아세트산 n-프로필, 아세트산 i-프로필, 아세트산 n-부틸, 아세트산 i-부틸, 포름산 n-아밀, 아세트산 i-아밀, 프로피온산 n-부틸, 부티르산 에틸, 부티르산 n-프로필, 부티르산 i-프로필, 부티르산 n-부틸, 피루브산 메틸, 피루브산 에틸, 피루브산 n-프로필, 아세토아세트산 메틸, 아세토아세트산 에틸, 2-옥소부탄산 에틸 등의 다른 에스테르,
톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소,
N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드 또는 락탐 등을 들 수 있다.
이들 용매 중, 용해성, 안료 분산성, 도포성 등의 측면에서, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타 논, 락트산 에틸, 3-메톡시프로피온산 에틸, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산 n-부틸, 아세트산 i-부틸, 포름산 n-아밀, 아세트산 i-아밀, 프로피온산 n-부틸, 부티르산 에틸, 부티르산 i-프로필, 부티르산 n-부틸, 피루브산 에틸 등이 바람직하다.
상기 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
또한, 상기 용매와 함께, 벤질에틸에테르, 디-n-헥실에테르, 아세토닐아세톤, 이소포론, 카프로산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 아세트산 벤질, 벤조산 에틸, 옥살산 디에틸, 말레산 디에틸, γ-부티로락톤, 탄산에틸렌, 탄산프로필렌, 에틸렌글리콜 모노페닐에테르아세테이트 등의 고비점 용매를 병용할 수도 있다.
이들 고비점 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
용매의 사용량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 얻어지는 감방사선성 조성물의 도포성, 안정성 등의 측면에서, 해당 조성물의 용매를 제외한 각 성분의 합계 농도가 바람직하게는 5 내지 50 중량％, 보다 바람직하게는 10 내지 40 중량％가 되는 양이 바람직하다.
컬러 필터
본 발명의 컬러 필터는 본 발명의 감방사선성 조성물로 형성된 착색층을 갖는다.
이하에, 본 발명의 컬러 필터를 형성하는 방법에 대하여 설명한다.
우선, 기판의 표면 상에 필요에 따라 화소를 형성하는 부분을 구획하도록 차 광층을 형성하고, 이 기판 상에, 예를 들면 적색 안료가 분산된 감방사선성 조성물의 액상 조성물을 도포한 후, 프리베이킹을 행하여 용매를 증발시켜서 도막을 형성한다.
이어서, 이 도막을 포토마스크를 통해 노광한 후, 알칼리 현상액을 이용하여 현상하여 도막의 미노광부를 용해 제거하고, 그 후 포스트베이킹함으로써, 적색의 화소 패턴이 소정 배열로 배치된 화소 어레이를 형성한다.
그 후, 녹색 또는 청색의 안료가 분산된 각 감방사선성 조성물의 액상 조성물을 이용하여, 상기와 동일하게 각 액상 조성물의 도포, 프리베이킹, 노광, 현상 및 포스트베이킹을 행하여, 녹색의 화소 어레이 및 청색의 화소 어레이를 동일 기판 상에 차례로 형성함으로써, 적색, 녹색 및 청색의 3원색의 화소 어레이가 기판 상에 배치된 컬러 필터를 얻는다. 단, 본 발명에서는 각 색의 화소를 형성하는 순서는 상기한 것에 한정되지 않는다.
또한, 블랙 매트릭스는 본 발명의 감방사선성 조성물을 이용하여 상기 화소 형성의 경우와 동일하게 하여 형성할 수 있다.
화소 및/또는 블랙 매트릭스를 형성할 때에 사용되는 기판으로는, 예를 들면 유리, 실리콘, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 방향족 폴리아미드, 폴리 아미드이미드, 폴리이미드 등을 들 수 있다.
또한, 이들 기판에는 원한다면 실란 커플링제 등에 의한 약품 처리, 플라즈마 처리, 이온 플레이팅, 스퍼터링, 기상 반응법, 진공 증착 등의 적절한 전처리를 실시해 둘 수도 있다.
감방사선성 조성물의 액상 조성물을 기판에 도포할 때에는, 예를 들면 분무법, 롤 코팅법, 회전 도포법(스핀 코팅법), 슬릿 다이 도포법, 바 도포법, 잉크젯법 등의 적절한 도포법을 채용할 수 있다. 특히, 스핀 코팅법, 슬릿 다이 도포법이 바람직하다.
도포 두께는 건조 후의 막 두께로서, 바람직하게는 0.1 내지 10 ㎛, 보다 바람직하게는 0.2 내지 8.0 ㎛, 특히 바람직하게는 0.2 내지 6.0 ㎛이다.
화소 및/또는 블랙 매트릭스를 형성할 때에 사용되는 방사선으로는, 예를 들면 가시광선, 자외선, 원자외선, 전자선, X선 등을 사용할 수 있다. 파장이 190 내지 450 ㎚의 범위에 있는 방사선이 바람직하다.
방사선의 노광량은 바람직하게는 10 내지 10,000 J/㎡이다.
또한, 상기 알칼리 현상액으로는, 예를 들면 탄산나트륨, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 테트라메틸암모늄히드록시드, 콜린, 1,8-디아자비시클로-[5.4.0]-7-운데센, 1,5-디아자비시클로-[4.3.0]-5-노넨 등의 수용액이 바람직하다.
상기 알칼리 현상액에는, 예를 들면 메탄올, 에탄올 등의 수용성 유기 용제나 계면활성제 등을 적량 첨가할 수도 있다. 한편, 알칼리 현상 후에는 바람직하게는 수세한다.
현상 처리법으로는, 예를 들면 샤워 현상법, 분무 현상법, 딥(침지) 현상법, 퍼들(액 담금) 현상법 등을 적용할 수 있다. 현상 조건은 상온에서 5 내지 300초가 바람직하다.
이와 같이 하여 얻어지는 본 발명의 컬러 필터는, 예를 들면 투과형 또는 반 사형 컬러 액정 표시 소자, 컬러 촬상관 소자, 컬러 센서 등에 매우 유용하다.
액정 표시 소자
본 발명의 액정 표시 소자는 본 발명의 컬러 필터를 구비하는 것이다.
또한, 본 발명의 액정 표시 소자의 일 실시 형태로서, 본 발명의 감방사선성 조성물을 이용하여, 박막 트랜지스터 기판 어레이 상에, 상술한 바와 같이 하여 화소 및/또는 블랙 매트릭스를 형성함으로써, 특히 우수한 특성을 갖는 액정 표시 소자를 제조할 수 있다.
본 발명의 감방사선성 조성물은 상기 (A) 내지 (D) 성분을 필수 성분으로서 함유하는 것이지만, 특히 바람직한 조성물을 구체적으로 예시하면, 하기 (가) 내지 (다)와 같다.
(가) (B) 알칼리 가용성 수지가 카르복실기 함유 공중합체(B1)를 포함하는 감방사선성 조성물.
(나) (C) 다관능성 단량체가 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트 및 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트의 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 상기 (가)의 감방사선성 조성물.
(다) 광 라디칼 발생제(D1)가 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-아세테이트를 포함하는 상기 (가) 또는 (나)의 감방사선성 조성물.
또한, 본 발명의 바람직한 컬러 필터는
(라) 상기 (가), (나) 또는 (다)의 감방사선성 조성물로 형성된 화소 및/또 는 블랙 매트릭스를 갖는다.
또한, 본 발명의 바람직한 액정 표시 소자는
(마) 상기 (라)의 컬러 필터를 구비하고,
본 발명의 보다 바람직한 액정 표시 소자는
(바) 박막 트랜지스터 기판 어레이 상에 상기 (라)의 컬러 필터를 구비하고 있다.
이상과 같이, 본 발명의 감방사선성 조성물은 특히 방사선에 대한 감도가 높은 광 라디칼 발생제(D1)와, 비이미다졸 화합물, 벤조페논 화합물, 티오크산톤 화합물 및 케토쿠마린 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 광 라디칼 발생제(D2)를 포함하는 광 라디칼 발생제를 이용함으로써, 저노광량, 예를 들면, 설정 노광량 400 J/㎡, 및 가혹한 현상 조건, 예를 들면, 현상 온도 30 ℃, 샤워 압력 110 kPa, 현상액 유량 1.2 리터/분 하에서도 패턴 단부의 결손 및 언더 컷트가 생기지 않고, 또한 현상시에 미용해물이 잔존하거나, 패턴 단부에 스컴이 생기지 않는 양호한 화소 패턴 및 블랙 매트릭스 패턴을 형성할 수 있다.
또한, 본 발명의 감방사선성 조성물을 이용하여 형성된 화소 및 블랙 매트릭스는 표면 평활성이 높고, 또한 기판과의 밀착성도 우수하다.
따라서, 본 발명의 감방사선성 조성물은 전자 공업 분야에서의 액정 표시 소자용 컬러 필터를 비롯한 각종 컬러 필터의 제조에 매우 바람직하게 사용할 수 있다.
실시예
이하, 실시예를 들어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 본 발명은 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.
여기서, 부 및 ％는 중량 기준이다.
<(B) 알칼리 가용성 수지의 제조>
합성예 1
냉각관 및 교반기를 구비한 플라스크에, 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 3부 및 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트 200부를 넣고, 계속해서 메타크릴산 15부, 스티렌 15부, N-페닐말레이미드 25부, 벤질메타크릴레이트35부, 글리세롤 모노메타크릴레이트 10부 및 연쇄 이동제인 α-메틸스티렌 이량체 5부를 투입하여 질소 치환한 후, 서서히 교반하여 반응 용액을 80 ℃로 승온시키고, 이 온도를 유지하여 3 시간 중합하였다. 그 후, 반응 용액을 100 ℃로 승온시키고, 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 0.5부를 가하고, 추가로 1 시간 중합함으로써 수지 용액(고형분 농도＝33.0％)을 얻었다.
얻어진 수지는 Mw＝10,000, Mn＝5,900이었다. 이 수지를 "수지(B-1)"로 한다.
실시예 1
<액상 조성물의 제조>
(A) 착색제로서 C.I. 피그먼트 블루 15:6과 C.I. 피그먼트 바이올렛 23과의 95/5(중량비) 혼합물 78부, (B) 알칼리 가용성 수지로서 수지(B-1) 60부, (C) 다관능성 단량체로서 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트 90부, 광 라디칼 발생제(D1) 로서 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-아세테이트(상품명 CGI-242, 시바 스페셜티 케미컬즈사 제조. 이하 동일) 10부와 광 라디칼 발생제(D2)로서 2,4-디에틸티오크산톤(상품명 KAYACUREDETX-S, 닛본 가야꾸(주) 제조) 15부, 및 용매로서 시클로헥사논과 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트와의 80/20(중량비) 혼합물 1,000 중량부를 혼합하여 감방사선성 조성물의 액상 조성물(B1)을 제조하였다.
<착색층의 형성>
액상 조성물(B1)을, 표면에 나트륨 이온의 용출을 방지하는 SiO2막이 형성된 소다 유리 기판에 스핀 코터를 이용하여 도포한 후, 80 ℃의 핫 플레이트 상에서 100초간 프리베이킹을 행하여 막 두께 2.5 ㎛의 도막을 형성하였다.
이어서, 기판을 실온으로 냉각한 후, 고압 수은 램프를 이용하여 포토마스크(슬릿 폭 90 ㎛)를 통해 도막에 365 ㎚, 405 ㎚ 및 436 ㎚의 각 파장을 포함하는 자외선을 노광하였다. 이 때의 노광량은 400 J/㎡으로 낮은 값으로 설정하였다. 그 후, 기판을 0.04％ 수산화칼륨 수용액을 이용하여 현상 온도 30 ℃, 샤워 압력 110 kPa, 현상액 유량 1.2 리터/분의 조건으로 샤워 현상하였다. 그 후, 기판을 초순수로 세정하고, 풍건한 후, 220 ℃의 클린 오븐 내에서 30분간 포스트베이킹을 행하여 기판 상에 청색 줄무늬형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다.
<평가>
기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상 에 현상 잔사는 보이지 않았고, 또한 화소 패턴의 단부에 스컴 및 결손은 보이지 않았다.
또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트는 보이지 않았다.
비교예 1
<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성>
광 라디칼 발생제로서, 광 라디칼 발생제(D1)인 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-아세테이트 10부만을 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 감방사선성 조성물(b1)을 제조하였다.
이어서, 액상 조성물(B1) 대신에 액상 조성물(b1)을 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 청색 줄무늬형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다.
<평가>
기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔사는 보이지 않았지만, 화소 패턴의 단부의 결손 및 패턴 자체의 박리가 보였다.
또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트가 보였다.
실시예 2
<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성>
(A) 착색제로서 C.I. 피그먼트 블루 15:6과 C.I. 피그먼트 바이올렛 23의 95/5(중량비) 혼합물 80부, (B) 알칼리 가용성 수지로서 수지(B-1) 60부, (C) 다관능성 단량체로서 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트 90부, 광 라디칼 발생제(D1)로서 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-아세테이트 5부와, 광 라디칼 발생제(D2)로서 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸 2부, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 6부 및 2-머캅토벤조티아졸 2부, 및 용매로서 시클로헥사논과 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트의 80/20(중량비) 혼합물 1,000 중량부를 혼합하여 감방사선성 조성물의 액상 조성물(B2)을 제조하였다.
이어서, 액상 조성물(B1) 대신에 액상 조성물(B2)을 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 청색 줄무늬형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다.
<평가>
기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔사는 보이지 않았고, 또한 화소 패턴의 단부에 스컴 및 결손은 보이지 않았다.
또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트는 보이지 않았다.
비교예 2
<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성>
광 라디칼 발생제로서, 광 라디칼 발생제(D1)인 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-아세테이트 5부만을 이용한 것 이외에는, 실시예 2와 동일하게 하여 감방사선성 조성물(b2)을 제조하였다.
이어서, 액상 조성물(B2) 대신에 액상 조성물(b2)을 이용한 것 이외에는, 실시예 2와 동일하게 하여 기판 상에 청색 줄무늬형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다.
<평가>
기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔사는 보이지 않았지만, 화소 패턴의 단부의 결손 및 패턴 자체의 박리가 보였다.
또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트가 보였다.
본 발명에 따르면, 우수한 현상성을 나타내는 감방사선성 조성물, 보다 구체적으로는, 저노광량 및 가혹한 현상 조건하에서도 패턴 단부의 결손 및 언더 컷트가 발생하지 않고, 또한 현상시에 미용해물이 잔존하거나 패턴 단부에 스컴이 발생하지 않는 화소 및 블랙 매트릭스를 제공하는 감방사선성 조성물을 제공할 수 있다.
또한 본 발명에 따르면, 본 발명의 감방사선성 조성물로 형성된 착색층을 갖는 컬러 필터 및 이를 구비한 액정 표시 소자를 제공할 수 있다.

Claims (7)

  1. (A) 착색제, (B) 알칼리 가용성 수지, (C) 다관능성 단량체, 및 (D) 하기 화학식 1로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 2로 표시되는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 성분과, 2,4-디에틸티오크산톤 및 케토쿠마린 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 성분을 포함하는 광 라디칼 발생제를 함유하고, 상기 2,4-디에틸티오크산톤 및 케토쿠마린 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 사용 비율이 하기 화학식 1로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 2로 표시되는 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상과, 2,4-디에틸티오크산톤 및 케토쿠마린 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 합계에 대하여 10 내지 60 중량%이며, 또한 착색층 형성에 이용되는 것을 특징으로 하는 감방사선성 조성물.
    <화학식 1>
    Figure 712014001180410-pat00010
    <화학식 2>
    Figure 712014001180410-pat00011
    화학식 1 및 화학식 2에서, 각 R1은 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, 각 R2는 서로 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 내지 12의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, 각 R3은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 12의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알킬기를 나타내고, 각 R4, 각 R5 및 각 R6은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알킬기를 나타내되, 단, R1, R2, R3, R4, R5 및 R6의 알킬기는 각각, 탄소수 1 내지 6의 직쇄상, 분지상 또는 환상의 알콕실기, 페닐기 및 할로겐 원자의 군에서 선택되는 치환기로 치환될 수 있고, R1 및 R2의 페닐기는 각각 탄소수 1 내지 6의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알킬기, 탄소수 1 내지 6의 직쇄상, 분지상 또는 환상의 알콕실기, 페닐기 및 할로겐 원자의 군에서 선택되는 치환기로 치환될 수 있다.
  2. 제1항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 2로 표시되는 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 성분이 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-아세테이트인 감방사선성 조성물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 (B) 알칼리 가용성 수지가 1개 이상의 카르복실기를 갖는 에틸렌계 불포화 단량체와 다른 공중합 가능한 에틸렌계 불포화 단량체와의 공중합체인 감방사선성 조성물.
  4. 제1항 또는 제2항에 기재된 감방사선성 조성물로 형성된 착색층을 갖는 컬러 필터.
  5. 제3항에 기재된 감방사선성 조성물로 형성된 착색층을 갖는 컬러 필터.
  6. 제4항에 기재된 컬러 필터를 구비하여 이루어지는 액정 표시 소자.
  7. 제5항에 기재된 컬러 필터를 구비하여 이루어지는 액정 표시 소자.
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5546801B2 (ja) * 2008-06-10 2014-07-09 富士フイルム株式会社 紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物、パターン形成方法、その方法を用いて製造したカラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法および液晶表示装置
JP2010175878A (ja) * 2009-01-30 2010-08-12 Fujifilm Corp 着色感光性組成物、カラーフィルタ、および液晶表示装置
JP5317809B2 (ja) * 2009-04-20 2013-10-16 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、着色パターンの形成方法、カラーフィルタ、および液晶表示装置
JP5554223B2 (ja) * 2009-12-14 2014-07-23 富士フイルム株式会社 着色感光性組成物、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示装置
JP6252001B2 (ja) * 2012-07-25 2017-12-27 東レ株式会社 着色剤組成物、カラーフィルター基板及び液晶表示装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004534797A (ja) 2001-06-11 2004-11-18 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド 組み合わされた構造を有するオキシムエステルの光開始剤
JP2005099488A (ja) * 2003-09-25 2005-04-14 Toyo Ink Mfg Co Ltd 感光性着色組成物およびカラーフィルタ
JP2005300994A (ja) * 2004-04-13 2005-10-27 Jsr Corp 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示パネル

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005202252A (ja) * 2004-01-16 2005-07-28 Dainippon Printing Co Ltd 固体撮像素子カラーフィルター用感光性着色組成物、固体撮像素子カラーフィルター、固体撮像素子、及び固体撮像素子カラーフィルターの製造方法
JP4448381B2 (ja) * 2004-05-26 2010-04-07 東京応化工業株式会社 感光性組成物
JP4428151B2 (ja) * 2004-06-23 2010-03-10 Ｊｓｒ株式会社 着色層形成用感放射線性組成物およびカラーフィルタ
JP5140903B2 (ja) * 2004-07-02 2013-02-13 三菱化学株式会社 着色樹脂組成物、カラーフィルタ及び液晶表示装置
JP2007041493A (ja) * 2004-10-20 2007-02-15 Mitsubishi Chemicals Corp 感光性組成物、及び青紫色レーザー用感光性組成物並びにそれを用いた画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004534797A (ja) 2001-06-11 2004-11-18 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド 組み合わされた構造を有するオキシムエステルの光開始剤
JP2005099488A (ja) * 2003-09-25 2005-04-14 Toyo Ink Mfg Co Ltd 感光性着色組成物およびカラーフィルタ
JP2005300994A (ja) * 2004-04-13 2005-10-27 Jsr Corp 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示パネル

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