KR101407377B1 - 밀봉된 셀 구조 - Google Patents

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KR101407377B1
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마크 티. 존슨
델든 마르티누스 에이치. 더블유. 엠. 반
더크 제이. 브로어
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코닌클리케 필립스 엔.브이.
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Abstract

밀봉된 셀(cell) 구조를 형성하기 위한 방법이 개시된다. 밀봉된 셀 구조는 복수의 격벽들(partition walls)(14)에 의해서 이격된 제 1 (10) 및 제 2 (12) 기판들을 포함한다. 격벽들은 제 1 및 제 2 기판들 사이에 복수의 셀들(18, 19)을 한정한다. 기판의 적어도 하나와 격벽들은 그 위에 광-엠보싱 물질의 레이어를 가진다. 잠재(latent) 이미지(112)가 광-엠보싱 물질 상으로 기록되고 다음으로 이미지가 현상되며, 따라서 잠재 이미지의 패턴에 따른 영역들(114)에서 광-엠보싱 물질의 확장을 야기하게 된다. 광-엠보싱 물질의 확장은 세포가 서로 떨어져서 밀봉되게 야기한다.

Description

밀봉된 셀 구조{A SEALED CELL STRUCTURE}
본 발명은 밀봉된 셀 구조를 생성하기 위한 향상된 방법과 관련한 것이다. 본 발명은 다수의 밀봉된 셀들을 포함하는 디바이스들에, 특히 전기 이동식(electrophoretic) 디스플레이들에 적용 가능하다.
본 발명이 고려하는 밀봉된 셀 구조들은 복수의 격벽들에 의해서 이격된 두 개의 기판들을 포함하며, 격벽들은 두 개의 기판들 사이의 부피(volume)를 셀들로 분리시킨다.
이러한 밀봉된 셀 구조들은 전기 이동식 디스플레이들에서 보통 사용된다. 구조의 셀들은, 이동 가능한 대전된 입자들을 포함하는 전기 이동(electrophoretic) 유체로 셀들을 채움에 의해서, 디스플레이 픽셀들을 형성하는데 사용될 수 있다. 다음으로 각 셀 내의 이동 가능한 대전된 입자들은 다양한 상이한 디스플레이 효과들을 주기 위해서, 전기장을 사용하여 이동될 수 있다. 전기 이동식 디스플레이 디바이스의 한 예로, 독자는 출원인의 국제 특허 출원 WO 2004/008238을 참조할 수 있다.
밀봉된 셀 구조들을 형성하는 것과 관련된 주요 문제들 중의 하나는, 구조의 셀들 사이의 적절한 밀봉을 보장하는 어려움이다. 예를 들어, 다수의 격벽들에 의 해서 이격된 제 1 및 제 2 기판들을 가지는 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 알려진 제조 방법은 제 1 기재로부터 시작하여, 제 1 기판 상에 다수의 격벽들을 형성하는 단계와, 다음으로 격벽들 위에 제 2 기판을 깔아놓는 단계를 포함한다. 그러나, 실제에서는 제 2 기판과 몇몇 격벽들의 최상부 사이에 의도되지 않은 갭들이 종종 남아있게 되어, 셀들 사이의 불완전한 밀봉을 야기하게 된다. 전기 이동식 디스플레이들에서, 한 셀로부터 다른 셀로의 대전된 입자들의 이주(migration)은 이러한 갭들을 통해 일어날 수 있으며, 이는 셀들에 의해 디스플레이되는 이미지에 매우 심한 에러들을 야기할 수 있다.
셀들을 서로 이격시켜 밀봉시키기 위한 알려진 방법은 제 1 기판 상에 격벽들을 형성는 단계 다음으로 격벽들에 의해서 한정된 셀들을 전기 이동 유체와 밀봉 유체를 포함하는 유체 혼합물로 채우는 단계를 포함하며, 여기서 밀봉 유체는 전기 이동 유체보다 다 낮은 밀도를 가진다. 다음으로, 제 2 기판 레이어가 격벽들의 최상부 상에 깔려지고, 다음으로 밀봉 유체가 경화되며, 밀봉 유체는, 그 낮은 밀도로 인해, 제 2 기판 레이어와 전기 이동 유체 사이에 레이어를 형성하며, 따라서 셀들을 서로 이격하여 밀봉하게 된다.
이 방법의 문제점들의 하나는 전기 이동 유체가 밀봉 유체로 오염될 수 있으며, 이는 입자들의 응집(agglomeration) 또는 전하 손실, 또는 표면에의 입자들의 원치않는 달라붙음과 같은 원치않는 효과들을 야기하는 것이다. 이러한 효과들은 디스플레이 질의 저하를 야기할 수 있다.
이 방법과 연관된 또 다른 문제점은 전기 이동 입자들의 일부가 밀봉 레이어 내에 갇히게 될 수 있어, 밀봉 레이어의 투명도를, 따라서 디스플레이의 밝기를 감소시킨다는 것이다.
미국 특허 US 6950226는 이 방법의 한 변형을 개시하며, 여기서 밀봉 레이어의 부분이 전기 이동 유체와의 접촉이 일어나기 이전에 경화되며, 따라서 밀봉 레이어 내에 갇히게 되는 전기 이동 입자들의 수를 감소시킨다. 그러나 이는 격벽들과 정렬하는 경화되지 않은 레이어의 부분을 실현하기 위한 추가 프로세싱과 정렬 단계를 요구한다.
따라서 본 발명의 목적은 종래 기술의 해결책들보다 향상된 밀봉 셀 구조를 제공하는 것이다.
본 발명의 제 1 양상에 따라서, 밀봉된 셀 구조를 형성하는 방법이 제공되며, 여기서 밀봉된 셀 구조는 제 1 및 제 2 기판들과 다수의 격벽들을 포함하며, 방법은:
제 1 기판과;
제 2 기판과;
다수의 격벽들의 적어도 하나 상에 광-엠보싱 물질을 형성하는 단계와;
제 1 및 제 2 기판들을 다수의 격벽들에 의해서 이격시켜, 따라서 제 1 및 제 2 기판들 사이에 다수의 셀들을 한정하는 단계와;
광-엠보싱(embossing) 물질 안으로 잠재(latent) 이미지를 기록하는 단계와;
잠재 이미지를 현상하여, 셀들을 서로 이격시켜 밀봉하도록 광-엠보싱 물질이 변위되게 야기하는 단계를 포함한다.
따라서, 셀들 사이에 효과적인 정도의 밀봉을 제공하는 밀봉된 셀 구조가 제공된다. 따라서, 밀봉된 셀 구조는 셀들을 밀봉하기에 앞서 셀들을 전기 이동 유체로 채움에 의해서 전기 이동식 디스플레이의 픽셀들을 형성하는 데 사용될 수 있으며, 여기서 밀봉은 셀들 사이의 전기 이동 유체의 대전된 입자들의 상당한 이주(migration)를 방지하기에 충분하다.
또한, 밀봉된 셀 구조는 대전된 입자의 상당 수가 밀봉 프로세스 동안 갇히게 되는 것을 야기하지 않으며, 따라서 디스플레이의 밝기의 어떠한 감소도 최소화한다.
이점적으로, 밀봉 방법이 밀봉을 형성하기기 위해 필요한 영역들로 광-엠보싱 물질을 변위시키는 단계를 포함하기 때문에, 셀들의 부피(그리고 따라서 이들 내의 유체 압력)는 밀봉 프로세스 이후에도 밀봉 프로세스 이전과 실질적으로 동일하게 될 것이다. 이는 셀들이 밀봉 프로세스 동안 또는 그 이후에 파열되는 확률을 감소시키는 것을 돕는다.
이에 더해, 밀봉 유체가 전기 이동 유체와 혼합되어야 한다는 요구사항이 없어서 전기 이동 유체의 오염이 이 점에서 회피된다.
이점적으로, 잠재 이미지의 기록은 화학선(actinic) 광으로 광-엠보싱 물질의 영역들을 노출시켜, 광-엠보싱 물질의 일부가 잠재 이미지의 현상 동안 변위되어야 하는 광-엠보싱 물질의 영역들을 한정하는 단계를 포함할 수 있다.
또한, 잠재 이미지의 현상은 광-엠보싱 물질을 가열하여, 광-엠보싱 물질의 입자들의 이동성을 높이며, 입자들이 잠재 이미지의 패턴에 따라 확산하도록(변위하도록) 야기하는 단계를 포함한다. 따라서, 입자들이 확산하는 광-엠보싱 물질의 영역들은 셀들을 서로 밀봉하도록 확장할 수 있다.
이점적으로, 광-엠보싱 물질은 폴리머(polymer), 모노머(monomer), 그리고 광-개시제(photo-initiator)를 포함할 수 있다. 잠재 이미지는 화학선 광에 물질의 영역을 노출시킴에 의해서 기록될 수 있으며, 화학선 광은 광-개시제의 광-분리(photo-disassociation)에 의해서 국지적으로 반응적인 입자들을 형성하게 된다. 다음으로 잠재 이미지가 광-엠보싱 물질을 가열하여, 모노머가 광-엠보싱 물질의 노출된 영역들 쪽으로 확산(변위)하여, 따라서 셀들을 서로 이격하여 밀봉하기 위해 노출된 영역들을 확장하게 함으로써 현상될 수 있다.
이에 더해, 광-엠보싱 물질은 또한 열 개시제(thermal initiator)를 포함할 수 있다. 열 개시제는 광-엠보싱 물질이 특정 온도 위로 가열된 후 광-엠보싱 물질의 폴리머화를 야기할 수 있다. 이 폴리머화는, 광-엠보싱 물질이 셀들을 서로 이격시켜 밀봉하기에 충분한 정도로 변위된 후 광-엠보싱 물질의 추가 이동을 멈추게 하기위해, 광-엠보싱 물질의 현상의 일부로서 수행될 수 있다. 이는 완전히 경화된, 따라서 기계적으로 그리고 화학적으로 안정된 혼합 물질의 결과를 가져온다.
이에 더해, 광-엠보싱 물질은 또한 폴리머화를 반응 입자들의 임계(critical) 농도 아래로 늦추는 억제제를 포함한다. 따라서 낮은 세기의 빗나간 화학선 광에 의도치않게 노출되어, 반응 입자들의 상대적으로 낮은 농도를 야기하게 되는, 광-엠보싱 물질의 영역들은 폴리머화로부터 억제된다. 이는 이미지 물질의 기록 동안 노출되는 광-엠보싱 물질의 영역들과 노출되지 않는 광-엠보싱 물질의 영역들 사이의 대비(contrast)를 향상시킬 수 있다. 이점적으로, 잠재 이미지는 제 1 및 제 2 기판들이 격벽들에 의해서 이격된 후에 광-엠보싱 물질 상에 기록될 수 있다. 따라서, 기판들과 격벽들은 이전에 기록된 잠재 이미지에 대해서 정렬되어 이격될 필요가 없고, 따라서 격벽들에 의해서 기판들을 이격시키는 단계를 단순화 시켜준다.
또한, 셀들은 화학선 광을 흡수하기 위한 입자들을 포함하는 유체로 채워질 수 있다. 이들 광 흡수 입자들은 광-엠보싱 물질 상에 기록되는 잠재 이미지의 패턴을 적어도 부분적으로 한정하는 매스크(mask)로서 작용할 수 있다. 따라서, 잠재 이미지는 셀 구조에 대해서 자가-정렬(self-aligning) 및 자가-패터닝(self-patterning) 성질을 효과적으로 가진다.
대안적으로, 잠재 이미지는 제 1 및 제 2 기판들이 격벽들에 의해서 이격되기 이전에 광-엠보싱 물질 상에 기록될 수 있다. 이는, 광-엠보싱 물질이 보다 용이하게 액세스될 수 있으므로, 잠재 이미지를 기록하는 프로세스를 단순화 시킬 수 있다.
이점적으로, 다수의 격벽에 의해서 제 1 및 제 2 기판들을 이격시키는 단계는 제 1 기판 상에 격벽들을 형성하고, 격벽들 상에 제 2 기판을 깔아놓는 단계를 포함할 수 있다. 이는 격벽들이 제 1 기판으로부터의 배치되는 것을 가능하게 해주어, 기판들 사이에 격벽들의 생성 및/또는 설치를 단순화시켜 줄 수 있다.
이점적으로, 광-엠보싱 물질은 제 1 및 제 2 기판들의 적어도 하나 상에 (실질적으로 균일한) 레이어로서 형성될 수 있다. 이는 기판(들) 상에 광-엠보싱 물질의 배치가 격벽들에 대해서 정렬될 필요가 없다는 이점을 가진다.
대안적으로, 광-엠보싱 물질은 격벽들과 제 1 및 제 2 기판들의 적어도 하나 사이의 경계면들 지역들 내에서, 제 1 및 제 2 기판들의 적어도 하나 상에 형성될 수 있다. 이는 격벽들과의 경계면들의 지역들 밖에 있는 기판(들)의 영역들이광-엠보싱 물질을 실질적으로 가지지 않는 것을 가능하게 해주어, 가능하게 셀의 투명성을 향상시켜 주거나 및/또는 기판들과 광-엠보싱 레이어 사이에 경계면들로 인해 발생할 수 있는 원치 않는 반사들을 감소시켜준다. 이는 또한 입자들이 광-엠보싱 물질에 달라붙을 확률을 감소시키는 것을 돕는다.
이점적으로, 광-엠보싱 물질은 격벽들과 제 1 및 제 2 기판들의 적어도 하나 사이의 경계면들의 지역들 내에서, 격벽들 상에 형성될 수 있다. 이는 다시 격벽들과의 경계면들의 지역들 밖에 있는 기판(들)의 영역들이 실질적으로 광-엠보싱 물질을 가지지 않는 것을 가능하게 하여, 방금 위에서 개요된 것과 동일한 이점을 가지게 된다.
또한, 광-엠보싱 물질이 격벽들 상에 그리고 제 1 및 제 2 기판들의 적어도 하나 상에 모두에 놓일 수 있다. 따라서, 기판과 격벽 사이의 경계면에서, 기판과 격별들 상의 광-엠보싱 물질들이 모두 서로를 향해 확장하며, 서로 접촉하게 될 수 있어, 따라서 경계면을 밀봉하게 된다. 이는, 이 경우 광-엠보싱 물질이 광-엠보싱 물질에 상이한 물질로 된 기판 또는 격벽을 접촉시키기 보다는, 다른 광-엠보싱 물질을 접촉시킴에 의해서 밀봉을 형성하기 때문에, 보다 강한 밀봉이 형성되는 것이 가능하게 될 수 있다. 이에 더해, 모두 서로를 향해 확장하는 광-엠보싱 물질의 두 개의 영역들을 가지는 것은 격벽들과 기판들 사이의 보다 넓은 갭들(gaps)이 채워지는 것을 가능하게 해 줄 수 있다.
이점적으로, 다수의 격벽들이 제 1 기판 상에 형성되는 경우에, 광-엠보싱 물질이, 게 2 기판을 격벽들 상에 깔기 이전에, 제 2 기판 상에 형성될 수 있다. 다음으로, 잠재 이미지의 기록 및 현상이, 제 2 기판 상의 광-엠보싱 물질이 다수의 격벽들 쪽으로 확장하여 다수의 격벽들과 접촉하게 변위되게 야기할 수 있어, 따라서 셀들이 서로 이겨되어 밀봉되게 한다.
또한, 다수의 격벽들이 제 1 기판 상에 형성되는 경우, 광-엠보싱 물질이, 제 1 기판 상의 격벽들의 형성에 앞서, 제 1 기판 상에 형성될 수 있다. 다음으로, 잠재 이미지의 기록 및 현상이, 제 1 기판 상의 광-엠보싱 물질이 다수의 격벽들에 대해 압착되도록 이동되게 야기할 수 있어, 따라서 다수의 격벽들을 제 2 기판과 접촉하도록 이동시켜서 셀들을 서로 이격시켜 밀봉시킬 수 있게 해준다. 이는 제 2 기판이 광-엠보싱 물질로 프로세스될 필요가 없다는 이점을 가진다.
이점적으로, 다수의 격벽들이 제 1 기판 상에 형성되는 경우, 광-엠보싱 물질이 격벽들과 제 2 기판 사이에 경계면을 형성할 지역들 내에서, 격벽 상에 형성될 수 있다. 다음으로, 잠재 이미지의 기록 및 현상이, 격벽들 상의 광-엠보싱 물질이 제 2 기판 쪽으로 확장하여 제 2 기판과 접촉하게 야기할 수 있어, 따라서 셀들을 서로 이격하여 밀봉시킨다. 이는 격벽들과의 경계면들의 지역들 밖에 있는 제 2 기판의 영역들이 광-엠보싱 물질을 실질적으로 가지지 않는 것을 가능하게 만들어 줄 수 있어, 가능하게 셀의 투명도를 향상시키거나 및/또는 기판과 광-엠보싱 레이어 사이의 경계면들로 인해 발생할 수 있는 원치않는 반사를 감소시켜 주게된다. 이는 또한 입자들이 광-엠보싱 물질에 달라붙을 확률을 감소시키는 것을 도울 수 있다.
잠재 이미지를 기록하고 현상하는 단계들은 겹치는 시간 기간동안 일어날 수 있다. 이는 프로세스를 간소화 시켜줄 수 있으며, 잠재 이미지의 기록 및 현상이 단일 제조 단계로 수행되는 것을 효과적으로 가능하게 해준다.
이점적으로, 광-엠보싱 물질은 잠재 물질이 기록되고 현상되는 내부 광-엠보싱 물질과, 내부 물질의 표면에서의 외부 보호 레이어를 포함할 수 있다. 외부 보호 레이어는 잠재 이미지의 현상 동안 내부 물질에 따라 변형되는 성질을 가진다. 외부 보호 레이어는 내부 물질과 셀들의 내용물들 사이의 접촉을 방지할 수 있으며, 이는 내부 물질과 셀 내용물이 이렇지 않을 경우 서로 반응을 시작하게 되는 경우 유용할 수 있다. 바람직하게, 이 외부 보호 레이어의 두께는 작고, 예를 들어 0.1에서 10 마이크로미터(micrometers)이다. 바람직하게 레이어의 계수(modulus)는 현상시의 온도에서 낮으며, 예를 들어 200Mpa보다 작다.
본 발명의 제 2 양상에 따라서, 다수의 격벽들에 의해서 이격되는 제 1 및 제 2 기판들을 포함하는 밀봉된 셀 구조가 제공되고, 다수의 격벽들은 제 1 및 제 2 기판들 사이의 다수의 셀들을 한정하며,
제 1 기판과;
제 2 기판과;
다수의 격벽들의 적어도 하나 상에 광-엠보싱 물질이 있게 되며,
광-엠보싱 물질은, 셀들이 서로 이격되어 밀봉되도록, 잠재 이미지의 기록 및 현상에 의해서, 변위된다.
이제 본 발명의 실시예들이, 예시로서만, 그리고 수반하는 도면들에 참조하여 기술될 것이다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 방법의 개략적 도면.
도 2는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 방법의 개략적 도면.
도 3은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 방법의 개략적 도면.
도 4는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 방법의 개략적 도면.
도 5는 본 발명의 제 5 실시예에 따른 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 방법의 개략적 도면.
도 6은 본 발명에 따른 방법을 사용하여 밀봉된 픽셀 셀들을 포함하는, 전기 이동식 디스플레이의 부분의 개략적 평면도.
동일한 또는 유사한 참조 번호는 도면에서 동일하거나 유사한 특징부들을 표시한다.
이제 본 발명의 제 1 실시예가 도 1에 참조하여 기술될 것이다. 도 1은 밀봉된 셀 구조의 생성의 3개의 단면도들을 도시하며, 각 단면도는 생성 프로세스의 단계를 도시한다.
단계 A에서, 다수의 격벽들(14)을 가진 제 1 기판(10)이 형성된다. 격벽들 사이의 셀 영역들은 다수의 대전된 착색된 입자들(110)을 포함하는 전기 이동식 유체(17)로 채워지며, 입자들은 다양한 디스플레이 효과들을 생성해 내기위해 전기장의 영향 하에 이동될 수 있다.
광-엠보싱 물질로 된 레이어(16)를 가진 제 2 기판(12)이 또한 형성된다.
제 1 및 제 2 기판들은, 유리(glass)로 형성되지만, 당업자에게 자명한 것으로서, 플래스틱과 같은 대안적 물질이 또한 기판들의 적어도 하나를 형성하기 위해 사용될 수 있다. 전기 이동식 디스플레이 응용들에 대해서, 기판들의 적어도 하나가 디스플레이 효과를 얻기 위해서 투명/반투명해야만 한다. 투과 디스플레이를 형성하기 위해서, 기판들의 둘 모두가 광이 셀들을 통해 이동하며 대전된 착색된 전기 이동 입자들에 의해서 변조될 수 있도록 투명/반투명해야만 한다. 트랜스플렉티브(transflective) 디스플레이를 형성하기 위해서, 광이 제 2 기판을 통해 셀 로 들어와서 제 1 기판으로부터 반사될 수 있게, 제 1 기판은 반사 코팅을 가질 수 있으며, 제 2 기판은 투명/반투명할 수 있다. 그러나, 화학 패키징과 같은, 다른 응용들에 대해서, 기판들 둘 모두가 불투명할 수 있다. 화학 패키징 응용들의 예들은 약품 배달 시스템, 향수(fragrance) 배달 시스템, 화학 시약 배달 시스템, 바이오칩 또는 다른 마이크로-유체 디바이스들이다.
격벽들은, SU-8과 같은, 광-레지스트 물질로 형성되며, SU-8은, 노출되지 않은 영역들이 용매(solvent)에 의해서 제거되는, 양이온 폴리머화 메커니즘을 따르는 매스크 광경화에(masked photocuring) 의해서 형성될 수 있는 다기능 에폭사이드(epxide)이다. 격벽들을 형성하기 위한 다수의 다른 방법들이 또한 당업자들에게 자명할 것이다. 예를 들어, 벽들은 제 1 기판으로부터 별도로 제조되어, 제 1 기판에 이후에 부착(예를 들어 접착)될 수 있다. 벽들은 또 이들을 기판 안으로 엠보싱함에 의해서 형성될 수 있으며, 예를 들어, 만일 제 1 기판이 변형 가능한 물질로 형성될 경우, 스탬프가 격벽들을 형성하기 위해 기판 물질들을 변위시키는데 사용될 수 있다.
광-엠보싱 물질은 폴리머{폴리벤질타크릴레이트(polybenzylmethacrylate)}, 모노머{펜타에리트리톨테트라크릴레이트(pentaerythritoltetracrylate)}, 광개시제{벤질 디메틸케탈(benzil dimethylketal)}, 및 열 억제제{벤조일페록사이드(benzoylperoxide)}의 혼합물로 형성된다. 다수의 가능한 대안물질들이 광-엠보싱 물질의 조성을 위해 존재한다. 기본적인 성분은 폴리머 물질, 모노머 또는 모노머 혼합물, 그리고 광개시제이다. 잘-연구된 폴리머들은 폴리메틸메타크릴레이 트(polymethylmetahcrylate), 폴리메틸아크릴레이트(polymethylacrylate), 폴리스티렌(polystyrene), 폴리에틸메타크릴레이트(polyethylmethacrylate) 폴리벤질메타크릴레이트(polybenzylmethacrylate), 및 폴리이소보르닐메타크릴레이트 (polyisobornylmethacrylate)이며, 많은 다른 폴리머들 또한 사용될 수 있다.
물질은 또한, 상대적으로 낮은 분자량, 예를 들어 1500 미만인 화합물인, 모노머 화합물을 포함하며, 이는 반응 입자들, 예를 들어, 자유 래디컬들(radicals) 또는 양이온 입자들과 접촉시 폴리머화된다. 바람직한 실시예에서, 모노머 또는 모노머 혼합물의 모노머들의 하나는 2 이상의 폴리머화 기를 포함하여, 폴리머화시 폴리머 네트웍이 형성되게 한다. 또한, 바람직한 실시예에서, 모노머들은 다음 클래스들의 반응 기를 포함하는 분자들이다: 비닐(vinyl), 아크릴레이트(acrylate), 메타크릴레이트(methacrylate), 에폭사이드(epoxide), 비닐에테르 (vinylether) 또는 티올-렌(thiol-ene). 물질은 또한 광감지 컴포넌트를 포함하며, 이는 화학선 방사선에 노출 시 반응 입자들, 예를 들어 자유-래디컬들(free-radicals) 또는 양이온 입자들을 생성한다.
폴리머화 성분으로서 사용에 적합하며 분자당 적어도 두 개의 교차결합 가능한 기들을 가지는 모노머들의 예들은 트리메틸롤프로판 트리(메틸)아크릴레이트{trimethylolpropane tri(meth)acrylate}, 펜타에리트리톨 트리(메틸)아크릴레이트{pentaerythritol tri(meth)acrylate}, 디펜타에리크릴톨 헥사 (메틸)아크릴레이트 에틸렌 글리콜 디(메틸)아크릴레이트 {dipentaerythritol hexa (meth)acrylate ethylene glycol di(meth)acrylte}, 테트라에틸렌 글리콜 디(메틸)아크릴레이 트{tetraethylene glycol di(meth)acrylate}, 폴리에틸렌 글리콜 디(메틸)아크릴레이트{polyethylene di(meth)acrylate} 1,4-부탄디올 디(메틸)아크릴레이트 {1,4-butanediol di(meth)acrylate}, 1,6-헥산디올 디(메틸)아크릴레이트 {1,6-hexanediol di(meth)acrylate}, 네오펜틸 글리콜 디(메틸)아크릴레이트{neopentyle glycol di(meth)acrylate}, 폴리부탄디올 디(메틸)아크릴레이트 {polybutaediol di(meth)acrylte}, 트리프로필렌글리콜 디(메틸)아크릴레이트 {tripropyleneglycol di(meth)acrylte}, 글리세롤 트리(메틸)아크릴레이트 {glycerol tri(meth)acrylate}, 인산 단일- 및 디-(메틸)아크릴레이트 {phosphoric acid mono- and di(meth)acryltes}, C7-C20 알킬 디(메틸)아크릴레이트 {C7-C20 alkyl di(meth)acryltes}, 트리메틸롤프로판트리옥시에틸 (메틸)아크릴레이트 {trimethylolpropanetrioxyethyl (meth)acryltes}, 트리스(2-하이드록시에틸)이아소시아누레이트 트리(메틸)이크릴레이트{tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate tri(meth)acrylate}, 트리스(2-하드록시에틸)아이소시아누레이트 디(메틸)아크릴레이트 {tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate di(meth)acryltes}, 펜타에리트리톨 트리(메틸)아크릴레이트 {pentaerythritol tri(meth)acryltes}, 펜타에리트리톨 테트라(메틸)아크릴레이트 {pentaerythiritol tetra(meth)acryltes}, 디펜틸데리트리올 모노하이드록시 펜타크릴레이트(dipentaerythritol monohydroxy pentacrylate), 디펜타에리트리톨 헥사크릴레이트(dipentaeythritol hexacrylate), 트리사이클로데칸 디일 디메틸 디(메틸)아크릴레이트 {tricyclodecane diyl dimethyl di(meth)acryltes} 와 같은 -(메틸)아크릴로일 {(meth)acryloyl} 기들을 포함하는 모노머들, 그리고 알콕시화된(alkoxylated) 버전들, 바람직하게 앞의 모노머들의 에톡시화(ethoxylated) 및/또는 프로폭시화(propoxylated), 그리고 또한 비스페놀 A(bisphenol A)의 에틸렌(ethylene) 산화물 또는 프로필렌(propylene) 산화물 부가물(adduct)인 디올(diol)의 디-(메틸)아크릴레이트{di(meth)acryltes}, 디글리시딜 에테르(diglycidyl ether)의 비스페놀 A(bisphenol A)의 (메틸)아크릴레이트{(meth)acrylate} 부가물인 에폭시(메틸)아크릴레이트{epoxy(meth)acrylate}, 폴리옥실알킬화 비스페놀 A(polyoxyalkylated bisphenol A)의 디아크릴레이트(diacrylate), 그리고 트리에틸렌 글리콜 디비닐 에테르 (triethylene glycol divinyl ether), 하이드록시에틸 아크릴레이트(hydroxyethyl acrylate), 아이소포론 디아이소시아네이트(isophorone diisocyanate) 및 하이트록시에틸 아크릴레이트(hydroxyethyl acrylate)(HIH)의 부가물, 하이드록시에틸 아크릴레이트(hydroxyethyl acrylate), 톨루엔 디아이소시아네이트(toluene diisocynate) 및 하이드록시에틸 아크릴레이트(hydroxyethyl acrylate)(HTH)의 부가물 및 아마이드 에스테르 아크릴레이트(amide ester acrylate)를 포함한다.
분자당 오직 하나의 교차결합 가능한 기를 가지는 적합한 모노머들의 예들은 N-비닐 피롤리돈(N-vinyl pyrrolidone), N-비닐 카프로락탐(N-vinyl caprolactam), 비닐 이미다졸 (vynyl imidazole), 비닐 피리딘(vinyl pyridine)과 같은 비닐기; 아이소보닐 (메틸)아크릴레이트{isobornyl (meth)acryltes}, 보닐 (메틸)아크릴레이트{bornyl (meth)acryltes}, 트리시클로데카닐 (메틸)아크릴레이 트{tricyclodecanyl (meth)acryltes}, 디사이클로펜타닐 (메틸)아크릴레이트{dicyclopentanyl (meth)acryltes}, 디사이클로펜테닐 (메틸)아크릴레이트{dicyclopentenyl (meth)acryltes}, 사이클로헥실 (메틸)아크릴레이트 {cyclohexyl (meth)acryltes}, 벤질 (메틸)아크릴레이트{benzyl (meth)acryltes}, 4-부틸사이클로헥실 (메틸)아크릴레이트{4-butylcyclohexyl (meth)acryltes}, 아크릴로일 몰폴린{acryloyl morpholine}, (메틸)아크릴레이트 산{(meth)acrylates acid}, 2-하이드록시에틸 (메틸)아크릴레이트{2-hydroxyethyl (meth)acryltes}, 2-하이드록시프로필 (메틸)아크릴레이트{2-hydroxypropyl (meth)acryltes}, 2-하이드록시부틸 (메틸)아크릴레이트{2-hydroxybutyl (meth)acryltes}, 메틸 (메틸)아크릴레이트{methyl (meth)acryltes}, 에틸 (메틸)아크릴레이트{ethyl (meth)acryltes}, 프로필 -(메틸)아크릴레이트{propyl (meth)acryltes}, 아이소프로필 (메틸)아크릴레이트 {isopropyl (meth)acryltes}, 부틸 (메틸)아크릴레이트{butyl (meth)acryltes}, 아밀 (메틸)아크릴레이트{amyl (meth)acryltes}, 아이소부틸 (메틸)아크릴레이트 {isobutyl (meth)acryltes}, t-부틸 (메틸)아크릴레이트{t-butyl (meth)acryltes}, 펜틸 (메틸)아크릴레이트{pentyl (meth)acryltes}, 카프로락톤 아크릴레이트 {caprolactone acrylate}, 아이소아밀 (메틸)아크릴레이트{isoamyl (meth)acryltes}, 헥실 (메틸)아크릴레이트{hexyl (meth)acryltes}, 헵틸 (메틸)아크릴레이트{heptyl (meth)acryltes}, 옥틸 (메틸)아크릴레이트{octyl (meth)acryltes}, 아이소옥틸 (메틸)아크릴레이트{isooctyl (meth)acryltes}, 2-에틸헥실 (메틸)아크릴레이트{2-ethylhexyl (meth)acryltes}, 노닐 (메틸)아크릴레이 트{nonyl (meth)acryltes}, 데실 (메틸)아크릴레이트{decyl (meth)acryltes}, 아이소데실 (메틸)아크릴레이트{isodecyl (meth)acryltes}, 트리데실 (메틸)아크릴레이트{tridecyl (meth)acryltes}, 운데실 (메틸)아크릴레이트{undecyl (meth)acryltes}, 라우릴 (메틸)아크릴레이트{lauryl (meth)acryltes}, 스테아릴 (메틸)아크릴레이트{stearyl (meth)acryltes}, 아이소스테아릴 (메틸)아크릴레이트{isostearyl (meth)acryltes}, 테트라하이드로푸르푸릴 (메틸)아크릴레이트{tetrahydrofurfuryl (meth)acryltes}, 부톡시에틸 (메틸)아크릴레이트{butoxyethyl (meth)acryltes}, 에톡시디에틸렌 글리콜 (메틸)아크릴레이트{ethoxydiethylene glycol (meth)acryltes}, 벤질 (메틸)아크릴레이트{benzyl (meth)acryltes}, 페녹시에틸 (메틸)아크릴레이트{phenoxyethyl (meth)acryltes}, 폴리에틸렌 글리콜 모노(메틸)아크릴레이트{polyethylene glycol mono(meth)acryltes}, 폴리프로필렌 글리콜 모노(메틸)아크릴레이트{polypropylene glycol mono(meth)acryltes}, 메톡시에틸렌 글리콜 (메틸)아크릴레이트{methoxyethylene glycol (meth)acryltes}, 에톡시에틸 (메틸)아크릴레이트{ethoxyethyl (meth)acryltes}, 메톡시폴리에틸렌 글리콜 (메틸)아크릴레이트 {methoxypolyethylene glycol (meth)acryltes}, 메톡시프로필렌 글리콜 (메틸)아크릴레이트{methoxypolyproylene glycol (meth)acryltes}, 디아세톤 (메틸)아크릴레이트{diacetone (meth)acryltes}, 베타-카르복시에틸 (메틸)아크릴레이트{beta-carboxyethyl (meth)acryltes}, 프탈 산 (메틸)아크릴레이트{phthalic acid (meth)acryltes}, 아이소부톡시메틸 (메틸)아크릴레이트{isobutoxymethyl (meth)acryltes}, N,N-디메틸 (메틸)아크릴아미드{N,N-dimethyl (meth)acrylamide}, t-옥틸 (메틸)아크릴아미드{t-octyl (meth)acrylamide}, 디메틸아미노에틸 (메틸)아크릴레이트{dimethylaminoethyl (meth)acrylate}, 디에틸아미노에틸 (메틸)아크릴레이트{diethylaminoethyl (meth)acrylate}, 부틸카바밀에틸 (메틸)아크릴레이트{butylcarbamylethyl (meth)acrylate}, n-아이소프로필 (메틸)아크릴아미드 플루오르화 (메틸)아크릴레이트{n-isopropyl (meth)acrylamide fluorinated (meth)acrylate}, 7-아미노-3,7-디메틸옥틸 (메틸)아크릴레이트{7-amino-3,7-dimethyloctyl (meth)acrylate}, N,N-디에틸 -(메틸)아크릴아미드{N,N-diethyl (meth)acrylamide}, N,N-디메틸아미노프로필 (메틸)아크릴아미드, 하이드록시부틸 비닐 에테르(hydroxybutyl vinyl ether), 라우릴 비닐 에테르(lauryl vinyl ether), 세틸 비닐 에테르(cetyl vinyl ether), 2-에틸헥실 비닐 에테르{2-ethylhexyl vinyl ether}; 그리고 다음의 화학식(I)으로 표시되는 화합물을 포함하는 모노머들을 포함한다:
CH2=C(R6)-COO(R7O)m-R8 (I)
여기서 R6은 수소 원자 또는 메틸 기이고; R7은 2 내지 8, 바람직하게 2 내지 5 탄소 원자들을 포함하는 알킬렌(alkylene) 기이며; m은 0 내지 12 그리고 바람직하게 1 내지 8인 정수; R8은 수소 원자 또는 1 내지 12, 바람직하게 1 내지 9, 탄소 원자들을 포함하는 알킬 기이고; 또는 R8은, 선택사항으로 1-2 탄소 원자들을 가진 알킬기로 치환된, 4-20 탄소 원자들을 가진 알킬기를 포함하는 - 테트라하이드로푸란 (tetrahydrofuran) 기이고; 또는 R8은 선택사항으로 메틸 기로 치환된, 4-20 탄소 원자들을 가진 알킬 기를 포함하는-디옥산(dioxane) 기이고; 또는 R8은, 선택사항으로 C1-C12 알킬 기, 바람직하게 C8-C9 알킬 기, 및, 에톡시화 아이소데실 (메틸)아크릴레이트{ethoxylated isodecyl (meth)acrylate}, 에톡시화 라우릴 (메틸)아크릴레이트{ethoxylated lauryl (meth)acrylate} 등과 같은, 알콕시화(alkoxylated) 지방족 단기능성(monofunctional) 모노머들로 치환된 방향족 기이다.
개시제는 교차결합 반응을 개시하기 위해 물질 내에 존재할 수 있다 개시제의 양은 넓은 범위사이로 변할 수 있다. 개시제의 적합한 양은 예를 들어 교차결합 반응에 쓰이는 화합물의 전체 중량에 대해서 0 이상 5 wt% 사이일 수 있다.
UV-교차결합이 교차결합을 개시하기 위해 사용될 때, 물질은 바람직하게 UV-광-개시제를 포함한다. 광-개시제는 광의 흡수시 교차결합 반응을 개시할 수 있다; 따라서, UV-광-개시제는 스펙트럼의 자외선 영역에서 광을 흡수한다. 우수한 결과를 제공하는 UV-광-개시제의 일부 잘 알려진 예들은 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온(2,2-Dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one) (IRGACUREⓡ651 - Ciba Specialty Chemicals), 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1 {2-Benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone-1} (IRGACUREⓡ369 - Ciba Specialty Chemicals), 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스파이네옥사이드 {Bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphineoxide} (Irgacureⓡ651 - Ciba Specialty Chemicals) 이다.
바람직하게, 폴리머화 개시제는 광 개시제와 열 개시제의 혼합물을 포함한다. 열 개시제의 예들은 벤조일 페록사이드(benzoyl peroxide), 디쿠밀 페록사이드(dicumyl peroxide), 2,5-디메틸-2,5-디(터트-부틸 페록사이드)헥산 페록사이드 {2,5-dimethyl-2,5-di(tert-butyl peroxide)hexane peroxide}, 디라우로일 페록사이드 (dilauroyl peroxide), 및 2,2'-아조비스아이소부티로나이트릴( 2,2'-azobisisobutyronitrile) 이다.
바람직하게, 물질은 노출되지 않은 영역들에서 폴리머화를 지연시키는 억제제를 포함한다. 연구되어온 억제제들의 예는 하이드로퀴논(hydroquinone) 및 하이트로퀴논(hydroyquinone) 모노 메틸 에테르이다. 바람직한 실시예에서, 억제제의 양은 0.001에서 0.5 wt% 사이 이다.
물질은 유기 용매의 용액으로부터 생성될 수 있다. 폴리머와 모노머 또는 모노머 혼합물 사이의 비는, 용액의 증발 후에 형성된 필름이 고체이며 바람직하게 끈적임없게(tack free) 선택된다. P/(P+M)으로 정의되는 폴리머(P)와 모노머(M) 사이의 비는 바람직하게 0.3 보다 더 크며 보다 더 바람직하게 0.5 보다 더 크거나 같다.
바람직하게, 사용된 용매는 기판들 또는 격벽들의 적어도 하나에 용액의 코팅을 도포한 후에 증발된다. 코팅은 선택사항으로 용매의 증발을 돕기 위해 진공 상에서 가열되거나 처리될 수 있다.
적합한 용제들의 예는 1,4-다옥산(1,4-dioxane), 아세톤(acetone), 아세토나이트릴(acetonitrile), 클로로포름(chloroform), 클로로페놀(chlorophenol), 사이클로헥산(cyclohexane), 사이클로헥사논(cyclohexanone), 사이클로펜타논(cyclopentanone), 디클로로메탄(dichloromethane), 디에틸 아세테이트(diethyl acetate), 디에틸 케톤(diethyl ketone), 디메틸 카보네이트(dimethyl carbonate), 디메틸포름아미드(dimethylformamide), 디메틸술폭사이드(dimethylsulphoxide), 에탄올(ethanol), 에틸 아세테이트(ethyl acetate), m-크레졸(m-cresol), 모노(mono-) 및 디-알킬(di-alkyl) 치환된 글리콜(glycols), N,N-디메틸아세트아미드(N,N-dimethylacetamide), p-클로로페놀(p-chlorophenol), 1,2-프로판디올(1,2-propanediol), 1-펜타놀(1-pentanol), 1-프로판올(1-propanol), 2-헥사논 (2-hexanone), 2-메톡시에탄올(2-methoxyethanol), 2-메틸-2-프로판올(2-methyl-2-propanol), 2-옥타논(2-octanone), 2-프로판올(2-propanol), 3-펜타논(3-pentanone), 4-메틸-2-펜타논(4-methyl-2-pentanone), 헥사플루오로아이소프로판올(hexafluoroisopropanol), 메탄올(methanol), 메틸 아세톤(methyl acetate), 부틸 아세테이트(butyl acetate), 메틸 아세토아세테이트(methyl acetoacetate), 메틸 에틸 케톤(methyl ethyl ketone), 메틸 프로필 케톤(methyl propyl ketone), n-메틸피롤리돈-2(n-methylpyrrolidone-2), n-펜틸 아세테이트(n-pentyl acetate), 페놀(phenol), 테트라플루오로-n-프로판올(tetrafluoro-n-propanol), 테트라플루오로아이소프로판올(tetrafluoroisopropanol), 테트라하이드로푸란(tetrahydrofuran), 톨루엔(toluene), 자일린(xylene) 및 물이다. 비록 아크릴 레이트 (acrylate) 용해성이 고 분자 중량(high molecular weight) 알콜에서 문제가 될 수 있지만, 알콜, 케톤(ketone), 및 에스테르 주성분의 용매들이 또한 사용될 수 있다. {디클로로메탄(dichloromethane) 및 클로로포름(chloroform)과 같은} 할로겐화 용매들이 또한 적합할 수 있다.
광-엠보싱 물질이, 제 2 기판 상에 약 10um 두께의 실질적으로 균일한 레이어(16)를 형성하기 위해, 주조(casting)에 의해서 용액으로부터 제 2 기판에 도포될 수 있다. 대안적으로, 광-엠보싱 물질의 레이어(16)의 두께는 물질의 성질에 따라서 그리고 잠재 이미지가 기록되고 현상될 때 요구되는 확장의 정도에 따라서 변할 수 있다. 또한, 닥터 블레이딩 또는 프린팅과 같은 다른 기술들이 광-엠보싱 물질을 제 2 기판에 도포하기 위해 사용될 수 있다.
B 단계에서, 제 1 및 제 2 기판들이 격벽들(14)의 최상부 상에 제 2 기판(12)을 고정시킴에 의해서 격벽에 의해서 이격되며, 셀들(18 및 19)을 형성하는 것을 돕는다. 제 2 기판(12)이 격벽들(14) 상에 적절하게 고정되지 않을 때 의도 되지 않은 갭들(13)이 제 2 기판과 일부 격벽들의 최상부들 사이에 보통 나타나게 된다. 이들 갭들은 예를 들어 상이한 격벽 높이에 기인할 수 있거나, 또는 격벽들의 최상부들과 제 2 기판 사이에서 얇은 레이어를 형성하는 셀들 내의 초과 유체 또는 물질에 기인할 수 있다. 도면들에 도시된 갭들(13)의 크기는 축척대로 도시되지 않고, 사실상 도시된 것보다 훨씬 더 작을 수 있다. 기판들(10 및 12)은, 밀봉 물질(120)과 함께 기판들의 에지들을 밀봉함에 의해서, 서로 정렬하여 고정된다. 대안적으로, 기판들은 예를 들어 이들 둘 모두를 격벽들에 압착함에 의해서, 또는 (즉 마찰에 의해) 기판들을 적소에 유지시키기 위해 지그(jig)를 사용함에 의해서 정렬하여 고정될 수 있다.
C 단계에서, 잠재 이미지가 셀들을 서로 이격시켜 밀봉하기 위해 광-엠보싱 물질에 기록되고 현상된다. 잠재 이미지의 현상은 광-엠보싱 물질이 화살표 방향으로(118) 변위되게 야기하여, 따라서 광-엠보싱 물질의 영역들(114)이 확장하고 광-엠보싱의 영역들(116)이 줄어들게 한다. 영역들(114)이 격벽들(14)과 제 2 기판(12) 사이의 경계면들에 있으므로, 영역들(114)에서 광-엠보싱 물질(16)의 확장은 광-엠보싱 물질이 격벽들(14)의 최상부와 접촉하게 야기하여, 갭들(13)을 닫아 따라서 셀들을 서로 이격시켜 밀봉하게 된다.
잠재 이미지의 기록은, 확장하여 서로 이격된 셀들을 밀봉할 광-엠보싱 물질의 영역들(114)을 자외 광에 노출시키는 단계(112)를 포함한다. 이 노출은 광-개시제의 광-분해로 인한 반응 입자들(예를 들어 자유 래디컬들)의 형성을 야기한다. 자외 광은 매스크(mask)를 통해 광-엠보싱 물질에 노출되어, 확장하도록 요구되지 않는 광-엠보싱 물질의 영역들(116)은 노출되지 않게 된다. 대안적으로, 광-엠보싱 물질은 다른 타입의 광-엠보싱 물질 성질 변경 (화학선) 광에 노출될 수 있다. 예를 들어, 351nm 파장으로 방출하는 아르곤 레이저 광이 잠재 이미지를 기록하기 위해 사용될 수 있으며, 이 경우 레이저의 방향이 정확하게 제어될 수 있기 때문에 어떠한 매스크도 요구되지 않을 수 있다.
추가 대안으로서, 전기 이동 유체가 잠재 이미지를 기록하기 위해 사용되는 광을 흡수하기 위한 입자들을 포함할 수 있다. 다음으로, 화학선 광이 제 2 기 판(12)의 방향으로부터가 아니라 제 1기판(10)의 방향으로부터 광-엠보싱 물질로 향하게 될 경우, 전기 이동 유체 자체가 화학선 광을 패터닝하기 위한 매스크로서 작용할 수 있다. 예를 들어, 화학선 광은 제 1 기판과 격벽들을 관통함에 의해서 격벽들(14) 바로 위에 있는 광-엠보싱 물질의 영역들에 도달할 수 있으나, 전기 이동 유체 안의 흡수 입자들에 의해서 흡수됨에 의해서 광-엠보싱 물질의 다른 영역들에 도달하는 것이 차단될 수 있다. 따라서, 잠재 이미지는 격벽들에 대해서 효과적으로 자체-정렬하게 된다.
잠재 이미지의 기록은, 제 1 및 제 2 기판들이 B 단계에서 다수의 격벽들에 의해서 이격된 후, C 단계 동안 일어난다. 따라서, 제 1 기판 또는 제 2 기판 그리고 격벽들은, 잠재 이미지가 이들을 통해 광-엠보싱 물질 안으로 기록되는 것을 허용하도록 UV 광에 충분히 반투명해야 한다.
대안적으로, 잠재 이미지는 제 1 및 제 2 기판들이 격벽들에 의해서 이격되기 이전에, 예를 들어 광-엠보싱 물질이 A 단계에서 제 2 기판 상에 형성된 바로 직후에 기록될 수 있다.
기판들이 격벽에 의해서 이격되기 이전에 잠재 이미지를 기록하는 것의 장점은, 잠재 이미지가 제 1 또는 제 2 기판들을 통해 노출될 필요가 없게 되며, 이는 요구되는 광의 세기를 감소시킬 수 있으며 및/또는 기록되는 영역들의 정확성을 향상시킬 수 있다는 것이다. 제 1 및 제 2 기판들이 격벽들에 의해서 이격되기 이전에 잠재 이미지를 기록하는 것의 이점은 제 1 및 제 2 기판들이 이전에 기록된 잠재 이미지에 상관없이 이격될 수 있다는 것이다.
잠재 이미지의 현상은 적외 광에 노출함에 의해서 광-엠보싱 물질을 가열하는 단계를 포함한다. 이 가열 단계는 광-엠보싱 물질 안의 모노머의 확산 이동성을 향상시켜, 모노머의 폴리머화 및 확산을 잠재 이미지의 노출된 영역들 안으로 유도한다. 이는 노출된 영역들(114)이 셀들을 서로 이격시켜 밀봉하도록 확장하게 야기하며, 노출되지 않은 영역들(116)이 모노머가 이들로부터 멀리 확산함에 따라 수축하게 한다. 잠재 이미지의 현상은 다른 방법들을 사용하여, 예를 들어 셀 구조를 오븐에 놓음에 의해서, 광-엠보싱 물질을 가열하는 단계를 포함할 수 있다.
광-엠보싱 물질의 온도는, 열 개시제의 분해 온도 위로 올라갈 때까지 계속하여 올라가며, 이후에 광-엠보싱 물질의 노출된 및 노출되지 않은 영역들 모두에 남아있는 모노머가 폴리머화된다. 이는 광-엠보싱 물질이 현상 단계가 완료된 이후에 그 형태를 변경하는 것을 방지하는 것을 돕는다. 대안적으로, 광-엠보싱 물질의 제조를 단순화하기 위해서, 열 개시제가 포함되지 않을 수 있다.
잠재 이미지의 기록 및 현상은 광-엠보싱 물질을 UV 광(이미지 기록을 위해) 및 IR 광(이미지를 현상하기 위해 물질을 가열하기 위해) 모두에 동시에 노출시킴에 의해서 일어날 수 있다. 따라서, 이미지의 현상은 이미지가 기록되는 동시에 시작될 수 있다. 이는 이미지의 기록 및 현상을 수행하는 데 요구되는 시간의 길이를 최소화해준다.
광-엠보싱은 당업자에게 잘 알려진 기술이며, 이 명세서에 주어진 것보다 완전한 설명을 위해, 독자는 다음을 참조할 수 있다:
C. WITZ, C. SANCHEZ, C BASTIAANSEN, D.J. BROER, HANDBOOK OF POLYMER REACTION ENGINEERING, VOL. 2 (EDS. T. MEYER, J. KEURENTJES), WILEY-VCH, WEINHEIM, GERMANY 2005, CH19.
이제 본 발명의 제 2 실시예가 도 2에 참조하여 기술될 것이다. 제 1 실시예에 관련한 설명의 대부분이 동일하게 제 2 실시예에 적용될 수 있으며, 따라서 다시 반복 설명되지 않는다. 도 2는, 밀봉된 셀 구조의 생성의 3개의 단면을 도시하고, 각 단면도가 생성 프로세스의 단계를 도시한다.
A 단계에서, 다수의 격벽들(14)을 가지는 제 1 기판(10)이 형성된다. 격벽들 사이의 셀 영역들은 다수의 대전된 착색된 입자들(110)을 포함하는 전기 이동 유체(17)로 채워진다. 광-엠보싱 물질의 영역들(22)를 가지는 제 2 기판(12)이 또한 형성된다. 광-엠보싱 물질의 영역들(22)은 제 2 기판(12)과 격벽들(14) 사이의 의도된 경계면들의 지역들 내에 형성된다. 광-엠보싱 물질의 영역들(22)은 기판 상에 광-엠보싱 물질의 실질적으로 균일한 레이어를 형성하고, 다음으로 오직 영역들(22)만이 남을 때까지 영역들(20)을 에칭으로 제거함에 의해서 형성되지만 프린팅과 같은 다른 대안들이 당업자들에겐 자명할 것이다.
B 단계에서, 제 2 기판이 광-엠보싱 물질의 영역들(22)이 격벽들의 경계면들의 지역들에 있도록 격벽들 위로 정렬된다. 의도되지 않은 갭들(13)이 일부 격벽들과 제 2 기판 사이에 존재한다.
C 단계에서, 잠재 이미지가 기록되고 현상되어, 화살표 방향(118)으로 광-엠보싱 물질의 확산을 야기하며, 이에 의해 영역들(114)이 격벽들(14)과 접촉하도록 확장시키며 영역들(116)을 축소시키고, 따라서 셀들을 서로 이격시켜 밀봉하게 된 다.
이제 본 발명의 제 3 실시예가 도 3에 참조하여 설명될 것이다. 제 1 실시예에 관련한 설명의 대부분이 동일하게 제 3 실시예에 적용될 수 있으며, 따라서 다시 반복 설명되지 않는다. 도 3은, 밀봉된 셀 구조의 생성의 3개의 단면을 도시하고, 각 단면도가 생성 프로세스의 단계를 도시한다.
A 단계에서, 다수의 격벽들(14)을 가지는 제 1 기판(10)이 형성된다. 격벽들 사이의 셀 영역들은 다수의 대전된 착색된 입자들(110)을 포함하는 전기 이동 유체(17)로 채워진다. 제 2 기판(12)이 또한 형성된다. 광-엠보싱 물질의 영역들(30)이 격벽들 상에, 그리고 격벽들과 제 2 기판 사이의 경계면들을 형성하도록 의도된 격벽들의 지역들 내에 형성된다. 이 실시예에서, 영역들(30)이 전사(transfer) 프린팅 또는 플렉서프린팅(flexorprinting)에 상응하는 프로세스에 의해서 형성된다. 바스(bath)에는 폴리머, 모노머(들), 개시제, 억제제 및 용매(들)를 포함하는 광-엠보싱 용액이 담기며 하나 이상의 롤러들이 바스로부터 용액을 모아서 용액의 레이어를 격벽들의 최상부들 상에 증착시킨다. 섭씨 70도에서의 건조 단계가 용매(들)를 제거한다.
B 단계에서, 제 2 기판이 격벽들 위에 놓여서, 셀들(18 및 19)을 형성하는 것을 돕는다. 의도되지 않은 갭들(13)이 일부 격벽들과 제 2 기판 사이에 존재하게 된다.
C 단계에서, 잠재 이미지가 기록되고 현상되어, 영역들(116)로부터 영역들(114)까지 광-엠보싱 물질의 확산을 야기하여, 이로 인해 영역들(114)이 제 2 기 판(12)과 접촉하도록 확장시키며, 영역들(116)을 축소시켜, 따라서 셀들을 서로 이격시켜 밀봉시킨다. 광-엠보싱 물질이 광-엠보싱 물질의 노출된 영역들 안으로 확산될 수 있는 광-엠보싱 물질의 노출되지 않은 영역들이 존재하도록, 광-엠보싱 물질(30)의 부분이 화학선 광에 노출되지 않는 다는 것이 자명하게 중요하다.
이제 본 발명의 제 4 실시예가 도 4에 참조하여 설명될 것이다. 제 1 실시예에 관련한 설명의 대부분이 동일하게 제 4 실시예에 적용될 수 있으며, 따라서 다시 반복 설명되지 않는다. 도 4는, 밀봉된 셀 구조의 생성의 3개의 단면 도면을 도시하고, 각 단면도가 생성 프로세스의 단계를 도시한다.
A 단계에서, 다수의 격벽들(14)을 가지는 제 1 기판(10)이 형성된다. 격벽들 사이의 셀 영역들은 다수의 대전된 착색된 입자들(110)을 포함하는 전기 이동 유체(17)로 채워진다. 광-엠보싱 물질(16)의 레이어를 가지는 제 2 기판(12)이 또한 형성된다. 광-엠보싱 물질의 영역들(30)이 격벽들 상에, 그리고 격벽들과 제 2 기판 사이의 경계면들을 형성하도록 의도된 격벽들의 지역들 내에 형성된다.
B 단계에서, 제 2 기판이 격벽들 위에 놓여서, 셀들(18 및 19)을 형성하는 것을 돕는다. 의도되지 않은 갭들(13)이 일부 격벽들과 제 2 기판 사이에 존재하게 된다.
C 단계에서, 잠재 이미지가 제 2 기판 상의 그리고 격벽들 상의 광-엠보싱 물질 둘 모두 상에 기록되고 현상되어, 영역들(116)로부터 영역들(114)까지 광-엠보싱 물질의 확산을 야기하여, 이로 인해 영역들(114)을 확장시키며, 영역들(116)을 축소시켜, 따라서 셀들을 서로 이격시켜 밀봉시킨다. 제 2 기판 상의 광-엠보 싱 물질 및 격벽들 상의 광-엠보싱 물질 둘 모두가 서로를 향해 확장하므로, 격벽들과 제 2 기판 사이의 보다 큰 갭이 채워질 수 있다. 또한, 광-엠보심 물질이 광-엠보싱 물질과 상이한 물질로 된 기판 또는 격벽과 접촉함에 의해서가 아니라 다른 광-엠보싱 물질과 접촉함에 의해서 밀봉을 형성하기 때문에, 보다 강한 밀봉이 형성될 수 있다.
이제 본 발명의 제 5 실시예가 도 5에 참조하여 설명될 것이다. 제 1 실시예에 관련한 설명의 대부분이 동일하게 제 5 실시예에 적용될 수 있으며, 따라서 다시 반복 설명되지 않는다. 도 5는, 밀봉된 셀 구조의 생성의 대개의 단면 도면을 도시하고, 각 단면도가 생성 프로세스의 단계를 도시한다.
A 단계에서, 광-엠보싱 물질(50)의 레이어를 가지는 제 1 기판(10)과 다수의 격벽들(14)이 형성된다. 격벽들 사이의 셀 영역들은 다수의 대전된 착색된 입자들(110)을 포함하는 전기 이동 유체(17)로 채워진다. 제 2 기판 또한 형성된다.
B 단계에서, 제 2 기판이 격벽들 위에 놓여서, 셀들(18 및 19)을 형성하는 것을 돕는다. 의도되지 않은 갭들(13)이 일부 격벽들과 제 2 기판 사이에 존재하게 된다.
C 단계에서, 잠재 이미지가 제 1 기판 상의 광-엠보싱 물질 상에 기록되고 현상되어, 화살표 방향(118)으로 광-엠보싱 물질의 확산을 야기하며, 이로 인해 영역들(114)을 확장시키고 영역들(116)을 축소시킨다. 영역들(114)의 확장은 격벽들이 제 2 기판(12) 쪽으로 이동되어 제 2 기판과 접촉하게 야기하여, 이로 인해 경계면들(52)에서 셀들을 서로 이격시켜 밀봉하게 된다. 이는 광-엠보싱 물질과 격 벽들 둘 모두의 형성이, 제 2 기판이 프로세스될 필요가 없도록, 제 1 기판 상에서 수행된다는 이점을 가진다.
도 6은 4개의 각 셀들(21, 22, 23, 및 24)로부터 형성된 4 개의 평면-내(in-plane) 디스플레이 픽셀들을 포함하는, 평면-내 전기 이동 디스플레이의 부분의 개략적 도면을 도시한다. 셀들은 격벽들(14)에 의해서 이격된 두 개의 기판들(명료성을 위해 도시되지 않음)에 의해서 형성되며, 셀들은 노출되지 않은 영역들로부터 노출된 영역으로의 광-엠보싱 물질의 변위에 의해서 서로 이격되어 밀봉된다. 디스플레이 디바이스는 각 픽셀 셀 내에서 대전된 입자들(110)의 이동들을 제어하기 위한 다수의 열 (RE) 및 행 (CE) 전극들을 포함한다.
본 발명의 밀봉된 셀 구조는 전기 이동 디스플레이들과 관련하여 설명되었으나, 또한 광범위한 다양한 시스템들에서 그 응용들을 찾을 수 있다. 예를 들어:
- 분자 진단(diagnostics)을 위해 사용되는 바이오센서들; 예를 들어 혈액 또는 타액과 같은, 복합 생물학적 혼합물들에서 단백질 및 핵산의 신속하고 감도가 좋은 검출;
-세포 분해 또는 단백질 조작을 위한 로컬(local) PH 변이를 생성하기 위한 전기 분해;
-화학, 제약(pharmaceutical) 또는 분자 생물학을 위한 고 처리량 스크리닝(screening) 디바이스들;
-DNA 또는 단백질 검사용, 또는 (병원에서) 현장(on-site) 검사용, 또는 중앙(centralized) 실험실들에서 또는 과학 연구에서 진단용, 검사 디바이스들;
심장병, 전염 질병 및 종양, 음식 및 환경 진단을 위한 DNA 및 단백질 진단을 위한 도구들;
- 조합 화학용 툴들; 또는
-분석 디바이스들.
당업자들이 주지할 바와 같이, 밀봉된 세포들 안의 물질은 광범위한 다양한 물질들, 예를 들어, 거의 모든 생물의 신체 분비액 (예를 들어, 혈액, 소변, 정액등); 환경 샘플들 (예를 들어, 대기, 농업, 물, 토양 샘플들); 생물학 작용제 샘플들; 그리고 연구 샘플들 (예를 들어 핵산)을 포함한다. 본 발명의 응용은 유체 샘플 내의 하나 이상의 타깃 분자들의 검출을 위한 디바이스들을 포함하며, 특히 수성 용액 내의 유생분자(biomolecules)의 검출을 위한 디바이스들의 분야에 관련한다. 타깃 분자(들)는 예를 들어, 타깃과 시그널 증폭 모두를 포함하는, 증폭 반응의 산물(들); 정화된 게놈 DNA, RNA, 단백질등과 같은, 정화된 샘플들; 원시(raw) 샘플 (박테리아, 바이러스, 게놈 DNA등); 핵산 및 관련된 화합물(compounds) (예를 들어 DNA, RNA, 올리고뉴클레이티드, 이들의 유사체, PCR 산물들, 게놈 DNA, 박테리아 인조 염색체, 플라스미드), 단백질 및 관련된 화합물들 {예를 들어 폴리펩타이드, 펩타이드, 단일 클론성 또는 다중 클론성 항체, 용해성 또는 결합 수용기들, 전사 팩터들(transcription factors)}, 항원들, 리간드(ligands), 부착소(haptens), 탄수화물 및 관련된 화합물 (예를 들어 다당류, 올리고당류), 멤브레인 단편, 세포 소기관(cellular organelles), 완전한(intact) 세포, 박테리아, 바이러스, 원생동물과 같은 세포 단편과 같은, 그러나 이에 한정되 지 않는 생물학 화합물 일 수 있다.
요약하면, 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 방법이 제공된다. 밀봉된 셀 구조는 다수의 격벽들에 의해서 이격된 제 1 및 제 2 기판들을 포함한다. 격벽들은 제 1 및 제 2 기판들 사이에서 복수의 셀들을 한정한다. 기판들의 그리고 격벽들의 적어도 하나는 이들 상의 광-엠보싱 물질의 레이어를 가진다. 잠재 이미지가 광-엠보싱 물질 상으로 기록되고 다음으로 이미지가 현상되며, 이로 인해 잠재 이미지의 패턴에 따른 영역들에서 광-엠보싱 물질의 확장이 야기된다. 광-엠보싱 물질의 확장은 셀들이 서로 이격되어 밀봉되게 야기한다.
첨부된 청구항들의 범위 내에 놓이는 다수의 다른 실시예들 또한 당업자들에게 자명할 것이다. 광-엠보싱 물질이 놓일 수 있는 기판들 및/또는 격벽들의 영역들에 대한 다수의 가능한 변형예들이 존재하며, 이는 당업자에게 자명할 것이다. 예를 들어, 광-엠보싱 물질이 제 1 및 제 2 기판들 둘 모두 상에 형성될 수 있다. 청구항들에 설명되는 방법 단계들의 순서는 상이한 실시모드들에 대해서 상이할 수 있다. 청구항들의 참조 번호들은 청구항들의 범위를 한정하는 것으로서 이해되어서는 않된다.
밀봉된 셀 구조를 생성하기 위한 향상된 방법과 관련한 것으로서 다수의 밀봉된 세포들을 포함하는 디바이스들에, 특히 전기 이동식(electrophoretic) 디스플레이들에 적용 가능함으로써 산업 상 이용 가능하다.

Claims (21)

  1. 밀봉된 셀 구조는 제 1 기판(10) 및 제 2 기판(12)과 복수의 격벽들(14)을 포함하는, 밀봉된 셀(cell) 구조를 형성하기 위한 방법으로서,
    제 1 기판과;
    제 2 기판과;
    복수의 격벽중의 적어도 하나 상에 광-엠보싱 물질을 형성하는 단계와;
    복수의 격벽들에 의해서 제 1 및 제 2 기판들을 이격시켜, 제 1 및 제 2 기판들 사이에 복수의 셀들(18, 19)를 한정하는 단계와;
    잠재 이미지를 광-엠보싱 물질 안으로 기록하는 단계(112)와;
    잠재 이미지를 현상하여, 광-엠보싱 물질이 셀들을 서로 이겨되게 밀봉시키도록 변위시키게(118) 야기하는 단계를 포함하는, 밀봉된 셀 구조를 형성하기위한 방법.
  2. 제 1항에 있어서, 셀들을 서로 이격시켜 밀봉하기 이전에 셀들을 유체로 채우는 단계를 더 포함하는, 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 방법.
  3. 제 2항에 있어서, 유체가 전기 이동 유체이며, 셀들이 전기 이동 디스플레이의 픽셀들을 형성하는, 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 방법.
  4. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 잠재 이미지를 기록하는 단계가 광-엠보싱 물질의 영역들을 화학선 광으로 노출시키는 단계(112)를 포함하는, 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 방법.
  5. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 잠재 이미지를 현상시키는 단계가 광-엠보싱 물질을 가열하는 단계를 포함하는, 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 방법.
  6. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 광-엠보싱 물질이 폴리머, 모노머, 그리고 광-개시제를 포함하는, 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 방법.
  7. 제 6항에 있어서, 잠재 이미지를 기록하는 단계가 광-엠보싱 물질의 영역들을 화학선(actinic) 광에 노출시키는 단계(112)를 포함하며, 잠재 이미지를 현상시키는 단계가 광-엠보싱 물질을 가열하여, 모노머를 노출된 영역들로 변위시키며, 따라서 노출된 영역들이 서로 셀들을 이격되게 밀봉시키도록 확장시키는 단계를 포함하는, 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 방법.
  8. 제 6항에 있어서, 광-엠보싱 물질이 열 개시제(thermal initiator)를 더 포함하며, 광-엠보싱 물질을 현상시키는 단계가 열 개시제의 분해 온도 위로 광-엠보싱 물질을 가열하여, 따라서 모노머를 중합시키는 단계를 포함하는, 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 방법.
  9. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 잠재 이미지를 기록하는 단계가 격벽들에 의해서 제 1 및 제 2 기판들을 서로 이격시키는 단계 후에 수행되는, 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 방법.
  10. 제 9항에 있어서, 잠재 이미지가 화학선(actinic) 광에 광-엠보싱 물질의 영역들을 노출시킴에 의해서 기록되며, 셀들은 화학선 광을 흡수하는 입자들을 포함하는 유체로 채워지며, 흡수 입자들은 광-엠보싱 물질 상으로 기록되는 잠재 이미지의 패턴을 적어도 부분적으로 한정하는 매스크(mask)로서 작용하는, 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 방법.
  11. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 다수의 격벽들에 의해서 제 1 및 제 2 기판들을 이격시키는 단계가
    제 1 기판 상에 격벽들을 형성하는 단계와
    격벽들 상에 제 2 기판을 깔아놓는 단계를 포함하는, 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 방법.
  12. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 광-엠보싱 물질이 제 1 및 제 2 가판들의 적어도 하나 상에 레이어(16, 22)로서 형성되며, 잠재 이미지를 기록 및 현상하는 단계는 광-엠보싱 물질이 격벽들과 접촉하도록 변위되도록 하여, 이로 인해 셀들을 서로 이격시켜 밀봉시키게 야기하는, 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 방법.
  13. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 광-엠보싱 물질이
    제 1 및 제 2 기판중의 적어도 하나 상에 그리고
    격벽들과 제 1 및 제 2 기판중의 적어도 하나 사이의 경계면들의 지역들 내에 형성되며,
    잠재 이미지의 기록 및 현상 단계는 광-엠보싱 물질(22)을 격벽들과 접촉하도록 변위시켜, 이로 인해 셀들을 서로 이격시켜 밀봉시키게 야기하는, 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 방법.
  14. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 광-엠보싱 물질이
    격벽들 상에 그리고
    격벽들과 제 1 및 제 2 기판들의 적어도 하나 사이의 경계면들의 지역들 내에 형성되며,
    잠재 이미지의 기록 및 현상 단계는 광-엠보싱 물질(30)이 제 1 및 제 2 기판들의 적어도 하나와 접촉하도록 변위되도록 하여, 이로 인해 셀들을 서로 이격시켜 밀봉시키게 야기하는, 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 방법.
  15. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 복수의 격벽들에 의해서 제 1 및 제 2 기판들을 이격시키는 단계가
    제 1 기판 상에 격벽들을 형성시키는 단계와
    격벽들 상에 제 2 기판을 깔아놓는 단계를 포함하며,
    격벽들 상에 제 2 기판을 깔아 놓는 단계 이전에, 광 엠보싱 물질이
    제 2 기판 상에 그리고
    격벽들과 제 2 기판 사이의 경계면들을 형성할 격벽들의 지역들 내의, 격벽들 상에 형성되며, 잠재 이미지의 기록 및 현상 단계가
    제 2 기판 상의 광-엠보싱 물질(16)이 격벽들을 향해 변위되게 야기하고;
    격벽들 상의 광-엠보싱 물질(30)이 제 2 기판을 향해 변위되게 야기하며;
    제 2 기판 상의 광-엠보싱 물질이 격벽들 상의 광-엠보싱 물질과 접촉하여, 이로 인해 셀들을 서로 이격시켜 밀봉하게 하는 식으로 형성되는, 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 방법.
  16. 제 12항에 있어서, 다수의 격벽들에 의해서 제 1 및 제 2 기판들을 이격시키는 단계가
    제 1 기판 상에 격벽들을 형성시키는 단계와
    격벽들 상에 제 2 기판을 깔아 놓는 단계를 포함하며,
    광-엠보싱 물질이 격벽들 위로 제 2 기판을 깔아놓기에 앞서 제 2 기판 상에 형성되며, 잠재 이미지의 기록 및 현상 단계가 제 2 기판 상의 광-엠보싱 물질이 다수의 격벽들 쪽으로 확장되어 다수의 격벽들과 접촉하도록 변위되도록 하여, 이로 인해 셀들을 서로 이격되게 밀봉시키는, 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 방법.
  17. 제 12항에 있어서, 다수의 격벽들에 의해서 제 1 및 2 기판들을 이격시키는 단계가,
    제 1 기판 상에 격벽들을 형성하는 단계와
    격벽들 상에 제 2 기판을 깔아놓는 단계를 포함하며,
    광-엠보싱 물질이 제 1 기판 상에 격벽들을 형성하기에 앞서 제 1 기판 상에 형성되며, 잠재 이미지의 기록 및 현상 단계가 제 1 기판 상의 광-엠보싱 물질이 다수의 격벽들을 압착하도록 변위되게(118) 함으로써 다수의 격벽들(52)이 제 2 기판에 대해 접촉하도록 다수의 격벽들을 변위시켜(52), 셀들을 서로 이격시켜 밀봉시키는, 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 방법.
  18. 제 14항에 있어서, 다수의 격벽들에 의해서 제 1 및 제 2 기판들을 이격시키는 단계가,
    제 1 기판 상에 격벽들을 형성시키는 단계와
    격벽들 상에 제 2 기판을 깔아 놓는 단계를 포함하며;
    광-엠보싱 물질이:
    격벽 상에 제 2 기판을 깔아 놓기에 앞서, 복수의 격벽들 상에 그리고
    격벽들과 제 2 기판 사이의 경계면들을 형성할 격벽들의 지역들 내에
    형성되며;
    잠재 이미지의 기록 및 현상 단계가 격벽들 상의 광-엠보싱 물질이 제 2 기판 쪽으로 확장하여 제 2 기판과 접촉하도록 변위되게 야기되어, 이로 인해 셀들을 서로 이격시켜 밀봉시키는, 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 방법.
  19. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 밀봉된 셀 구조의 셀들이 전기 이동식(electrophoretic) 디스플레이의 픽셀들(21, 22, 23, 24)을 형성하는, 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 방법.
  20. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 광-엠보싱 물질은
    잠재 이미지가 기록되고 현상되는 내부 물질과,
    내부 물질의 표면의 외부 보호 레이어로서, 외부 보호 레이어는 잠재 이미지의 현상 동안 내부 물질에 따라 변형할 수 있는 외부 보호 레이어를 포함하는, 밀봉된 셀 구조를 형성하기 위한 방법.
  21. 제 1 기판(10) 및 제 2 기판(12)과, 복수의 격벽들(14)을 포함하는 밀봉된 셀 구조로서,
    광-엠보싱 물질은
    제 1 기판과
    제 2 기판과
    복수의 격벽들 중
    적어도 하나 상에 존재하고,
    제 1 기판 및 제 2 기판은 복수의 격벽들에 의해서 이격되어, 제 1 및 제 2 기판들 사이에 복수의 셀들(18, 19)를 한정하고,
    광-엠보싱 물질은 셀들을 서로 이격시켜 밀봉시키기 위해, 잠재 이미지의 기록 및 현상 단계에 의해서, 변위된(118), 복수의 격벽들에 의해서 이격되는 제 1 및 제 2 기판들을 포함하는 밀봉된 셀 구조.
KR1020097003401A 2006-08-21 2007-08-17 밀봉된 셀 구조 KR101407377B1 (ko)

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