KR101407126B1

KR101407126B1 - 태양광 차단 스택

Info

Publication number: KR101407126B1
Application number: KR1020077028944A
Authority: KR
Inventors: 필리페 로퀴니; 앙드레 에끄
Original assignee: 에이쥐씨 글래스 유럽
Priority date: 2005-05-11
Filing date: 2006-05-10
Publication date: 2014-06-13
Also published as: PL1888476T3; EP1888476A1; RU2406704C2; AU2006248999B2; ZA200709665B; US20080311389A1; HK1123031A1; TR201903641T4; US20120308811A1; CA2607725A1; JP5279123B2; NZ563847A; BRPI0612455A2; HUE043749T2; CN101218185A; US8231977B2; TR200707748T1; JP2008540311A; KR20080018887A; AU2006248999A1

Abstract

본 발명은 적외선을 반사시키는 은 기반의 물질을 함유하는 적어도 하나의 기능성층 및 제1절연코팅은 유리질 물질의 판 상에 직접 침착되고 다른 층은 기능성층 또는 층들과 연결된 바깥에 놓여진 2 이상의 절연코팅을 함유하고, 각 기능성층은 절연코팅에 의해 둘러싸인 유리질 물질의 판 상에 형성된 다중층 태양광차단 적층구조에 관한 것이다. 상기 적층구조는 6mm 두께의 일반적인 투명한 소다 라임(soda-lime) 플로트 유리(float glass)에 침착될 경우, 상기 적층구조의 태양인자 SF가 45% 미만이고, 광투과율 LT가 70%미만이다.

본 발명에 따르면, 상기 적층구조는 기능성층에 직접적으로 근접하여 배열된 또는 상기 기능성층에 포함된, 하기의 원소 중 적어도 하나를 기반으로 한 본질적인 금속 흡수제 물질을 함유하는 것이 특징이다: Pd, Pt, Au, Ir, Rh, R, Os, Co, Ni, Cu, Cr, La, Ce, Pr, Nd, W, Si, Zn, Mo, Mn, Ti, V, Nb, Hf, Ta 및 이들의 합금.

본 발명은 높은 태양인자 및 심미적으로 만족스러운 외관의 선택적 글레이징의 형성에 특히 유리하고, 특히 고온 열처리의 강인화(toughening) 및/또는 굽힘(beding) 형태를 거친 창유리에 특히 유리하다.

적층구조, 창유리, 절연코팅, 흡수제 물질, 기능성층

Description

태양광 차단 스택{SUN BLOCKING STACK}

본 발명은 유리질 물질의 판 상에 형성된 태양광차단 적층구조, 상기 적층구조를 포함하는 유리 판 및 상기 유리판을 포함하는 다중 창유리(multiple glazing)에 관한 것이다.

본 발명에 관한 것인 태양광 차단 적층구조는 적외선을 반사시키는 물질을 기반으로 한 적어도 하나의 기능성층(functional layer) 및 제1절연코팅(dielectric coating)은 유리질 물질의 판 상에 직접 침착되고, 다른 층은 기능성층 또는 층들에 대하여 바깥쪽에 씌워지며, 각각의 기능성층은 절연코팅에 의해 둘러싸이게 되는 적어도 2층 이상의 절연코팅을 포함한다. 이러한 상이한 층들이 자기장, 예컨대 공지된 마그네트론(magnetron)형 장치에 의해서 보조되는 저압 음극 스퍼터링(reduced-pressure sputtering)에 의해 침착된다.

태양광 차단 적층물은 예를 들어, 대형의 창유리(glazing) 표면에 갇힌 공간에서 태양광을 받은 결과 과량의 온도 상승을 감소시켜, 여름에 에어컨디셔닝에 소요되는 전력을 감소시키기 위한 태양광-보호 창유리를 성형하기 위해 이용된다. 이러한 경우에, 창유리는 적어도 가능한 한 작은 양의 태양 에너지 복사가 통과되도록 해야하는데, 즉 창유리는 가능한 최저의 태양인자(Solar factor)(SF 또는 g)를 가져야 한다. 그러나, 창유리는 특정 수준의 광투과율(LT)을 보장하여 건물 내에 충분한 양의 조도를 제공하는 것이 매우 바람직하다. 이러한 다소 모순되는 요구는 광투과율 대 태양인자의 비율로써 정의된 상승된 선택성(S)을 보유한 창유리 유닛을 수득하기 위한 요구를 나타낸다. 이러한 태양광차단 적층물은 또한 복사율이 낮은데, 이는 높은 파장의 적외선을 통한 열손실을 감소하게 한다. 따라서, 이들은 대형의 창유리 표면의 단열성을 개선시키고, 냉한기에 난방비를 감소시킨다.

광투과율(LT)은 창유리를 투과하는 광원 D65의 입사 광속(incident light flux)의 백분율이다. 태양인자(SF 또는 g)는 한편으로는 창유리에 의해 직접 투과된 입사 에너지 복사의 백분율이고, 다른 한편으로는 이에 의해 흡수되고, 이후 창유리에 대하여 에너지 공급원에 대해 반대 방향으로 복사된 에너지 복사의 백분율이다.

이러한 태양광차단 창유리 유닛은 일반적으로 이중 창유리 유닛으로 조립되는데, 이때 적층구조를 포함하는 유리판이 코팅을 보유한 또는 코팅을 보유하지 않은 또 다른 유리판에 결합되어 다중층의 적층구조가 두 유리판 사이의 공간 내부에 위치하게 된다.

몇몇 경우에는, 종종 유리판 또는 유리판들의 열적 강인화(toughening)와 같은 기계적 강화 공정을 거치게 하여 창유리의 기계적 힘에 대한 저항성을 개선시킬 필요성이 있다. 창유리 유닛의 생산 공정 및 성형 공정에서, 미리 처리된 기재를 코팅하는 대신에 미리 코팅된 기재 상에 상기 강인화 공정을 수행하는 것이 다소 유리하다. 이러한 공정은 상대적으로 승온에서, 즉, 예컨대 은-기반의 적외선 반사 층의 품질을 저하시키고 이의 광학적 특성 및 적외선 복사와 관계된 특성을 손실시키는 온도에서 수행된다. 따라서, 코팅된 유리판이 열적 강인화 공정을 거쳐야만 하는 경우에는, 창유리의 광학적 및/또는 에너지-관련 특성의 손실 없이, 창유리가 성형되는 동안 종종 "강인화성(toughenable)"이라는 표현에 의해 언급되는, 열적 인화 또는 굽힘(bending) 처리를 견딜 수 있는 적층구조를 형성할 수 있도록 매우 특별한 예방조치가 취해져야 한다.

창유리 유닛이 광반사(LR), 즉 창유리에 의해 반사된 광원 D65의 입사광 플럭스의 백불율, 및 반사 및 투과된 색상의 견지에서 특정한 심미적인 기준 만족시키는 것이 바람직하다. 창유리에 대하여 시장은 낮은 광반사율을 요구한다. 높은 선택성과 낮은 반사율의 조합은 때때로 자주색의 반사 색조의 형성을 초래하고, 이는 심미적 매력이 거의 없다.

창유리를 통한 위치를 관통하는 열의 양을 줄이기 위하여, 보이지 않는 적외선 열 복사는 반사에 의해 창유리를 통과하지 못한다. 이는 적외선을 반사하는 물질을 기반으로 한 기능성층 또는 층들의 역할이다. 이는 태양광 적층구조에 있어서 필수적인 요소이다. 그러나, 열 복사의 상당 부분은 또한 가시광선에 의해 전달된다. 이러한 부분의 열 복사의 전달을 줄이고, 적외선에 의한 에너지의 공급을 감축하는 범위를 능가하기 위하여, 광 투과율의 수준을 감소할 필요가 있다.

특허 출원 WO0248065 A1에 의해 제안된 해법은 흡수제 층, 예컨대 TiN을 적층구조에 삽입하고, 투명한 절연물질의 두 층 사이에 적층구조의 층을 가두는 것이다. 이러한 방법으로, 상기 문헌은 흡수제 층이 유리와 접촉하지 않고, 이는 특히 유리가 열 처리될 경우에 열 효과 하에서 발생하는 산소 및 알카리성 물질의 확산과 관계된 문제를 제한하며, 또한 은과 직접적으로 접촉하지 않는 층은, 특히 열의 효과 하에 접촉시에 흡수제 층의 산화에 의해 유발되는 은 층의 파괴에 대한 문제를 제한한다고 설명한다.

문제점 중 하나는 상기 방금 기술한 내용에서 직접 유래한 것이고, 이는 특정한 환경, 구체적으로 열처리 동안에 흡수제층이 산화하고, 보다 투명하게 되어, 적층물이 포함되는 이유를 일부 손실한다는 것이다. 게다가, 흡수제층의 산화 수준은 열처리의 조건에 좌우될 것인데, 이는 강인화 이후에 적층물의 특성을 유지하기가 어렵다는 것을 의미한다. 이러한 효과를 제한하기 위하여, 상기 인용된 문헌은 질화규소 또는 질화알루미늄의 두 층 사이에 흡수제층을 가두는 것을 제안한다.

결과가 완전히 만족스럽지 않았다는 사실 이외에도, 상기 문헌에서 제안된 해법은 사실상 이미 복잡한 적층물 구조를 다소 더 복잡하게 해야한다는 단점을 갖는다. 구체적으로, 상기 해법은 흡수제층을 침착하기 위하여 주어진 절연체의 정 중앙에 조절된 환경인 특별한 침착 영역을 이용할 것이 요구될 수 있다. 상기 문헌 WO'065 호에서 제안된 해법의 또 다른 단점은 절연체의 중앙에 삽입된 흡수제층에 의해 제공되는 색조를 중화시키는데 어려움이 있다는 것이다.

본 발명은 적외선을 반사시키는 은-기반의 물질을 함유하는 적어도 하나의 기능성층 및 제1절연코팅은 유리질 물질의 판 상에 직접 침착되고 다른 층은 기능성층 또는 층에 대하여 바깥쪽에 놓여진 2 이상의 절연코팅을 함유하고, 각 기능성층은 절연코팅에 의해 둘러싸인 유리질 물질의 판 상에 형성된 다중층 태양광차단 적층구조로서, 6mm 두께의 일반적인 투명한 소다 라임 플로트 유리(float glass)판에 침착될 경우, 상기 적층구조의 태양인자 SF가 45% 미만이고, 광투과율 LT가 70%미만이며, 상기 적층구조가 기능성 층에 직접적으로 근접하게 배열된 또는 기능성 층에 포함된 하기의 원소 중 적어도 하나를 기반으로 한 본질적 금속 흡수제 물질을 함유하는 것을 특징으로 한다: Pd, Pt, Au, Ir, Rh, Ru, Os, Co, Ni, Cu, Cr, La, Ce, Pr, Nd, W, Si, Zn, Mo, Mn, Ti, V, Nb, Hf, Ta 및 이들의 합금.

"흡수제 물질"이라는 용어는 가시광선 부분을 흡수하는 물질을 의미하는 것으로 이해되어야 하며, 이 물질의 분광흡수지수(spectral absorption index) k(λ)는 평균 1.9보다 높고, 상기 평균은 380, 580 및 780nm에 위치한 가시 스펙트럼의 세 지점에서 계산된 것이다. 분광흡수지수는 문헌["Handbook of Chemistry and Physics", 70th Edition, CRC Press, 1989-1990, E389-E404]에 기술되어 있다.

본 발명에 이용된 흡수제 물질은 본질적으로 금속 형태로 존재한다. 흡수제 물질에는 알루미늄 또는 보론과 같은 상기 열거되지 않은 원소가 도핑될 수 있으며, 이는 다양한 이유, 예컨대 특히 마그네트론 장치에서의 용이한 침착 또는 표적에 대한 용이한 기계적 처리라는 이유 때문이다.

실리콘은 적절하게는 반금속(semimetal)으로서 분류되어야 한다고 알려져있으나, 실리콘은 다양한 측면에서 특정 금속처럼 거동하기 때문에, 실리콘은 본 발명에서는 문제를 단순하게 하기 위하여 "본질적인 금속 흡수제 물질"이라는 용어에 포함하였다.

"직접적으로 근접한"이라는 용어는 흡수제 물질이 기능성층과 직접적으로 접촉하고 있거나, 또는 산소 또는 금속 아산화물(sub-oxide)을 흡수하는 경향이 있는 희생금속의 매우 얇은 층에 의해 기능성층과 가급적 분리되어 배열된 층의 부분을 형성하는 것을 의미한다. 흡수제 물질이 기능성층에 적접적으로 근접하게 위치되어 있거나, 또는 기능성층에 함유되어 있으므로, 이는 적외선의 반사에 양호한 효과를 가질 수 있으며, 적외선을 반사시키는 물질에 의도된 산화에 대항하는 보호적 조치라는 추가적인 이점을 가질 수 있다.

본 발명은 특별하게는 적층구조와 관련되어 있는데, 이 적층구조는 두께가 6mm인 보통의 투명한 소다라임 유리판에 침착될 경우에, 태양인자 SF가 45% 미만, 특히 20 내지 45%이고, 광투과율 LT는 70% 미만, 특히 30 내지 70%이다. 이러한 조건에 있어서, 이들은 바람직하게는 태양인자 SF가 25 내지 40% 사이의 범위이고 광투과율 LT는 35 내지 68% 사이의 범위이다.

놀랍게도, 본 발명에 따라 적층구조를 형성할 경우에, 적층구조의 흡수율 수준이 용이하게 한정될 수 있고, 상기 수준이 적층구조의 열처리와 같은 특히 가혹한 조건에서도 용이하게 유지될 수 있으며, 예를 들어, 이는 또한 중간색 반사의 외관과 같은, 바람직한 광학적 및 심미적 외관을 수득함과 동시에 달성될 수 있다는 것이 밝혀졌다.

선택된 흡수제 물질은 상기 결과를 달성하는데 있어서 필수적인 역할을 수행한다. 이러한 물질 중 적어도 몇몇, 구체적으로 팔라듐 및 플래티늄은 이미 공지되어 있는데, 이는 예를 들어 문서 EP 543077 A1에 적외선 반사층, 특히 은과의 합금으로서, 또는 은 위에 희생금속층(sacrificial metal layer)과의 함금으로서 습도 및 화학적 공격에 대한 적층구조의 저항성을 개선하는 효과에 대한 것이다. 그러나, 이는 가능한 가장 높은 광투과율을 보유한 적층구조의 형성에 관한 것이었다. 가시광선에서 열흡수의 수준을 조절하기 위한 이러한 물질의 용도는 완전히 새로운 것이며 지금까지 주어진 교시와는 다른 것이다. 게다가, 이들은 상대적으로 비싼 물질이며, 이러한 흡수제 물질을 연속적 생산에 이용하는 것은 놀라운 일이다. 우리는 본 발명이 놀랍게도 단일 창유리의 경우 45% 미만의 낮은 태양인자를 보유하도록 창유리의 태양인자를 조절하는 것 및 높은 선택성이라는 상당히 중요한 유리한 효과를 제공한다는 것을 발견하였다. 게다가, 선택된 흡수제 물질은 적외선의 반사를 최저한으로 보조할 수 있다.

절연코팅은 음극 스퍼터링에 의해 침착된 층의 분야에서는 잘 알려져 있다. 다수의 적절한 물질이 존재하고, 여기에서 이들을 열거하는 것은 별로 도움이 되지 않는다. 이들은 일반적으로 금속 산화물, 옥시질화물(oxynitride) 또는 질화물이다. 예시적인 방법으로서, 하기의 물질이 가장 일반적인 것들 중 몇몇 가지로서 언급될 수 있다: TiO₂, SnO₂, ZnO, Si₃N₄, AlN, Al₂O₃, ZrO₂, Nb₂O₅ 및 Bi₂O₃. 외부 코팅에 관하여는, 적층구조가 고온의 열처리를 거치지 않는다면, SnO₂가 특히 매우 적합한 절연물질이다.

적층구조의 외부에 절연코팅은, 바람직하게는 주석을 20% 이상 함유하는 적어도 하나의 아연-주석 혼합 산화물-기반 층 및/또는 하기의 물질 중에서 선택된, 두께가 5nm 이상인 산소 확산에 대한 장벽층을 함유한다: AlN, AlN_xO_y, Si₃N₄, SiO_xN_y, SiO₂, ZrN, SiC, SiO_xC_y, TaC, TiN, TiN_xO_y, TiC, CrC, DLC 및 이들의 합금, 및 합금의 질화물 또는 옥시질화물, 예컨대 SiAlO_xN_y 또는 SiTi_xN_y. 이렇게 한정된 외부 절연층은 적층구조가 외부로부터 상이한 화학적 및 열적 공격에 노출될 경우 및 특히 굽힙(bending) 및/또는 강인화와 같은 고온의 열처리 동안에 흡수제 물질의 안정성에 기여한다.

"DLC"는 잘 알려진 용어 "다이아몬드-유사 탄소" 용어의 약어인데, 이는 다이아몬드와 유사한 정사면체 결합을 보유한 탄소-기반 층과 관련이 있다.

본 발명의 제1양태에 따르면, 바람직하게는 흡수제 물질은 기능성층에 포함되어 있다. 유리하게도, 기능성층은 적외선을 반사시키는 은-기반 물질과 합급된 또는 은-기반 물질에 도핑된 흡수제 물질을 1 내지 30원자%, 바람직하게는 5 내지 20%로 함유한다. 흡수제 물질은 적외선을 반사시키는 물질과의 합금으로 제조된 음극을 이용한 스퍼터링에 의해 침착될 수 있다. 예를 들어, 특정 함량, 예컨대 팔라듐 또는 플래티늄과 같은 흡수제 물질의 1 내지 20% 및 바람직하게는 5 내지 20%가 도핑된 또는 합금된 은의 음극이 이용될 수 있다. 예를 들어, 유리질 물질의 판 상에 공동-스퍼터링 되는 2개의 음극, 예컨대 1개의 은 음극 및 1개의 팔라듐 음극을 이용하는 것이 가능하다. 따라서, 적외선을 반사시키는 물질을 기반으로 한 기능성층은 동시에 흡수제 물질을 함유하도록 형성된다.

기능성층은 바람직하게는 5 내지 10%의 흡수제 물질을 함유한다. 이러한 비율이 흡수제 물질에 기인한 흡수 수준과 기능성층의 기반 금속의 적외선 반사 특성 사이에서 달성되는 양호한 절충을 가능하게 한다는 것이 밝혀졌다.

예를 들어, 기능성층은 적어도 하나의 하기 원소를 함유할 수 있다: Ti, Zn, Mo, Mn, Nb, V 또는 Hf. 이러한 원소는 특히 기능성층에서 발생하는 흡수제 이상(absorbent faults)을 가능하게하고, 이들은 태양인자를 감소시키는 이점을 갖는다.

바람직하게는, 본 발명의 제1양태의 바람직한 구체예에 따라, 기능성층에 함유된 흡수제 물질은 하기의 물질 중에서 선택된다: Ni, Cr, NiCr, CoCr, W, Si 및 NiV. 사실상 우리는 본 발명의 제1양태에 있어서, 이러한 물질이 적외선을 반사시키는 은-기반 물질과 특히 유리한 공동작용(association)을 형성한다는 것을 밝혀냈다. 구체적으로 이러한 공동작용은 심미적으로 만족스러운 외관을 보유한 중간색 내지 청색 범위의 반사 색조 및 투과 색조를 보유하며 태양인자가 낮은 비-강인화성/굽힘성 태양광차단 적층구조를 형성한다. 원소 Ni, Cr, NiCr, CoCr, W, Si 및 NiV, 특히 NiCr 및 CoCr은 유리하게도 청-회색을 투과 및 반사하는 태양광차단 적층구조를 형성하는데 이용되며, 상기 적층구조는 고온의 열처리를 거치지 않는다.

바람직하게는, 본 발명의 제1양태의 또 다른 바람직한 구체예에서, 기능성층에 함유된 흡수제 물질은 하기의 물질 중에서 선택된다: Os, Co, Pd, Pt, Ir, Ru 및 Rh. 이러한 물질은 유리하게도 열처리되는 태양광차단 적층구조를 형성하는데 이용된다. 상기 적층구조가 이들의 흡수제 성질을 용이하게 보유하고 창유리의 열처리 후에도 투과 및 반사시에 만족할 만한 색조를 보유한 적층구조를 제공한다.

구체적으로 니켈 및 코발트는 마그네트론 스퍼터링 장치에 있어서의 침착에 다소의 문제점을 보유하는 자성 물질이다. 그러나, 이들은 적외선 반사 물질에 도핑하기 위해 이용되는 경우, 예컨대 은에 5%의 비율로 이용될 경우에는 아무런 문제가 없다.

바람직하게는 본 발명의 제1양태에 따르면, 기능성층은 Pd, Pt, Au, Ir, Rh, Ru, Os, Co, La, Ce, Pr, Nd 중에서 선택된 흡수제 물질의 1 내지 30원자%, 유리하게는 5 내지 20%를 함유하고, 외부 절연코팅은 적어도 20%의 주석을 보유한 적어도 하나의 아연-주석 혼합 산화물-기반 층 및/또는 하기의 물질 중에서 선택된 5nm 두께의 산소 확산에 대한 장벽층을 보유한다: AlN, AlN_xO_y, Si₃N₄, SiO_xN_y, SiO₂, ZrN, SiC, SiO_xC_y, TaC, TiN, TiN_xO_y, TiC, CrC, DLC 및 이들의 합금, 및 SiAlO_xN_y 또는 SiTi_xN_y와 같은 합금의 질화물 또는 옥시질화물. 이러한 특징은 태양광차단 적층구조가 고온의 열처리를 거치기에 적절하고 열처리 후에도 이들의 흡수제 특성을 보유할 수 있게 한다.

본 발명의 제2양태에 따르면, 흡수제 물질은 바람직하게는 적어도 부분적으로 기능성층의 아래에 또는 그 위에 직접적으로 접촉하는 별도의 층의 일부를 형성한다. 이러한 배열로써, 특히 흡수제 물질의 비율이 높은 경우에는, 기능성층의 적외선의 반사를 위한 특성이 감소될 위험을 줄이게 된다.

본 발명의 상기 제2양태의 제1의 바람직한 구체예에 따르면, 흡수제 물질이 도핑 또는 합금에 의해서, 기능성층을 화학적 공격 및 특히 산화로부터 의도적으로 보호하기 위해서 희생금속층과 혼합되는데, 예를 들어 약 5원자%의 팔라듐을 함유한 티타늄 층을 함유한다. 다시 한번, 상기 층은 희생금속과 흡수제 물질의 합금의 음극으로부터 또는 2개의 별도의 음극 유래의 공동-스퍼터링에 의해 형성될 수 있다.

본 발명의 제2양태의 제2의 바람직한 구체예에 따르면, 흡수제 물질은 바람직하게는 기능성층 아래 또는 위에 침착되고, 기능성층과 직접적으로 접촉하는 별도의 층의 주요부분을 구성한다. 따라서, 기능성층은 흡수제층 위에 직접 침착될 수 있거나, 또는 흡수제층이 기능성층 위에 직접 침착될 수 있다. 이러한 배열은 적층구조에 주어지는 특성이라는 관점 및 산업상 이용의 용이성이라는 관점 모두에 대하여 유리하다는 것이 밝혀졌다. 사실상, 금속 형태로 침착된 흡수제 물질은 침착 공정을 복잡하게 하지 않고 기능성 층의 본질적 금속 침착 영역으로 용이하게 통합된다. 다른 한편으로는, 본 발명의 구성에 인용된 흡수제 물질의 경우에는, 적외선 반사에 이용되는 은-기반 물질과 양립가능한 물질을 찾는 것이 용이하다.

예를 들어, 기능성층 위에 침착된 별도의 흡수제층의 형태로 CoCr 합금을 이용한 경우, 심미적으로 용인가능한 일반적 외관, 구체적으로 투과 및 반사시에 청회색을 나타내고, 특히 시장의 요구를 만족시킬 수 있는, 태양인자가 낮은 비-강인화성 태양광차단 적층구조를 용이하게 수득할 수 있다는 것이 밝혀졌다.

본 발명의 제2양태의 제2의 바람직한 구체예에 있어서, 흡수제 물질은 Pd, Pt, Au, Ir, Rh, Ru, Os, Co, La, Pr, Nd 및 이들의 합금에서 선택되고, 외부 절연코팅은 적어도 20%의 주석을 함유하는 아연-주석 혼합 산화물-기반 층 및/또는 하기의 물질에서 선택된 5nm 이상의 두께를 가진 산소 확산에 대한 장벽층을 포함한다: AlN, AlN_xO_y, Si₃N₄, SiO_xN_y, SiO₂, ZrN, SiC, SiO_xC_y, TaC, TiN, TiN_xO_y, TiC, CrC, DLC 및 이들의 산화물 및 SiAlO_xN_y 또는 SiTi_xN_y와 같은 합금의 질화물 또는 옥시질화물. 따라서, 이러한 흡수제 물질과 이로써 한정된 외부 절연코팅의 조합은 고온의 열처리 후에 한정될 태양광 적층구조의 원하는 흡수 수준을 수득할 수 있게 한다.

바람직하게는, 이러한 흡수제 물질의 별도의 층의 물리적 두께는 0.3 내지 10nm 사이의 범위, 유리하게는 0.4 내지 5nm 사이의 범위, 이상적으로는 0.8 내지 3nm 사이의 범위이다. 이러한 두께 범위는 시장의 요구에 부응하는 만족스러운 심미적 외관을 보유하고 낮은 태양인자 및 높은 선택성을 보유한 태양광 창유리 유닛의 형성을 가능하게 한다.

유리하게는, 흡수제 물질은 하기의 원소 중 적어도 하나에서 선택된다: Pt, Pd, Co, Ir, Ru, Rh, Os, CoCr, Ti 및 NiCr 및 이들의 합금. 이러한 흡수제 물질은 특히 기능성층의 별도의 층으로 배열된 경우에, 요구에 부응하는 심미적 외관을 만족시키는 효율적인 태양광 적층구조의 형성을 가능하게 한다. 상기 언급된 마지막 세개의 원소, 즉 CoCr, Ti 및 NiCr은 고온의 열처리를 거칠 필요가 없는 적층구조의 형성에 이용된다.

본 발명의 2가지 양태 중 하나 및 본 발명의 상기 양태들의 임의의 구체예에 따르면, 흡수제 물질은 바람직하게는 팔라듐이다. 본 발명의 구성 내에는, 은-기반 기능성층과의 공동작용이 흡수 특성을 유지하면서 내부식성이 높은 선택적 태양광차단 적층구조의 형성을 가능하게 한다.

바람직하게는 적층구조의 광흡수율의 4 내지 35%, 유리하게는 8 내지 22%가 흡수제 물질에 의한 것이다. 따라서, 시장의 요구에 부응하는 제품을 형성하기에 충분한 태양인자가 수득된다.

바람직하게는, 제1의 절연코팅 및 외부 절연코팅은 주석을 20% 이상 함유한 적어도 하나의 아연-주석 혼합 산화물-기반 층을 함유한다. 이러한 구조는 열처리에 대한 적층구조의 저항성을 강화시키는 것으로 밝혀졌다.

유리하게도, 적층구조는 유리질 물질의 판에서 시작하여 적어도 하기의 순서의 층들을 포함한다:

a) 제1절연코팅,

b) 은-기반 기능성층,

c) 흡수제 층,

d) 선택적으로, 하기의 물질중 하나 또는 몇몇에서 선택된, 가급적 아산화된 1 또는 2층의 희생금속층: Ti, Ni, Cr, Nb, Zn, Zr, Al, Ta 및 이들의 합금, 및

e) 외부 절연층.

상기 특정 순서의 층이, 특히 열처리 동안에 적층구조의 흡수 특성을 보유하는데 유리하다는 것이 밝혀졌다.

선택적인 희생 금속층은, 예를 들어 NiCr/Ti와 같은 이중 층에서 형성될 수 있다. 그러한 이중 층은 본 출원인의 이름으로 출원되고 2003년 12월 24일에 공개된, 그 전부가 본원에 참고 인용된 특허출원 WO 03/106363호의 주제이다.

고성능의 선택적 태양광차단 적층구조를 수득하기 위하여, 상기 적층구조는 적어도 하나의 중간 절연코팅에 의해 분리된 적어도 2층의 기능성층을 포함한다.

바람직하게는, 흡수제 물질은 유리질 물질의 판에서 가장 멀리 떨어진 기능성층에 직접적으로 근접하게 배열되거나 또는 포함되며, 동일한 수준의 흡수율을 제공하는 또 다른 흡수제 물질에 의해 한 물질이 대체될 경우 색조는 유의적으로 변화되지는 않는다. 특히 흡수제 물질이 제2기능성층의 상부에 위치되어 있거나, 상기 기능성층에 포함되어 있는 경우에, 절연구조의 정상적인 선택과 함께 흡수제 물질의 특정한 배열은 흡수제 물질을 형성하는 원소에 좌우되지 않는 적층구조의 형성을 가능하게 한다. 결과적으로, 음극 스퍼터링에 의해 침착되기 용이한 물질 또는 저비용의 물질이 시각적 관찰에 의한 색조의 변화를 신속하게 검출할 수 있는 숙련된 관찰자 없이, 태양인자를 1% 이상 변형시키지 않으면서도 용이하게 선택될 수 있다. 예를 들어, 이러한 경우에는, 적층구조가 열처리를 거치지 않을 때, 적층구조의 색조에 대한 임의의 유의적인 변화 없이 팔라듐이 티타늄 또는 NiCr에 의해 대체될 수 있다. 그러나, 동일한 수준의 흡수율을 수득하기 위해서 흡수제 물질의 특성에 따른 기능성층 또는 희생층(sacrificial layer)과 흡수제 물질의 합금에 있어서 흡수제층의 두께 또는 흡수제 물질의 백분율을 조화시키는 것이 물론 필요하다. 비용적인 이유, 생산적 고려 또는 기타 이유때문에 한 흡수제 물질을 다른 흡수제 물질로 대체하는 것이 권장되는데, 외냐하면 흡수율의 수준에 두께를 조화시키는 것이 충분하고 적층물의 보정된 색조가 직접적으로 달성될 것이기 때문이다.

바람직하게는, 적층구조는 유리질 물질의 판에서 시작하여 적어도 하기의 순서의 층을 포함한다:

a) 제1절연코팅,

b) 제1의 은-기반 기능성층,

c) 하기의 물질중 하나 또는 몇몇에서 선택된, 가급적 아산화된 1 또는 2개의 희생금속: Ti, Ni, Cr, Nb, Zn, Zr, Al, Ta 및 이들의 합금.

d) 중간 절연코팅,

e) 제2의 은-기반 기능성층,

f) 흡수제 층

g) 선택적으로 하기의 물질중 하나 또는 몇몇에서 선택된, 가급적 아산화된 1 또는 2층의 희생금속층: Ti, Ni, Cr, Nb, Zn, Zr, Al, Ta 및 이들의 합금,

h) 외부 절연층.

예를 들어, 팔라듐 흡수제 층, NiCrO_x의 형태로 아산화된 희생금속층 및 Si₃N₄의 외부 절연체층을 사용함으로써, 적층구조가 용이하게 형성될 수 있고, 이때 광학적 특성은 강인화 및/또는 굽힘과 같은 고온의 열처리 작업에 의해 손상되지 않는데, 다시 말해서 코팅된 후 강인화된 유리판은 동일한 적층구조를 보유하나 동일한 심미적 외관을 보유하기 때문에 열처리를 거치지 않은 유리판 다음에 위치될 수 있다. 팔라듐에서 유래한 적층구조의 흡수 용량은 열처리에 의해 손상되지 않는다.

유리하게는, 은이 적외선 반사 물질로서 이용될 경우에, 가급적 예컨대 알루미늄이 도핑될 수 있는 아연 산화아연-기반 또는 아산화아연-기반층 합금은 각각의 은 층 아래에 은 층과 직접 접촉하도록 배열된다. 이러한 관계는 은의 내부식성과 관련하여 특히 유리하다.

바람직하게는, 적층구조는 유리질 물질의 판에서 시작하여 적어도 하기 순서의 층을 포함한다:

a) 적어도 하나의 아연-주석 혼합 산화물-기반의 층을 포함하는 제1절연코팅,

b) 제1의 은-기반 기능성층,

c) 하기의 물질중 하나 또는 몇몇에서 선택된, 가급적 아산화된 1층 또는 2층의 희생금속층: Ti, Ni, Cr, Nb, Zn, Zr, Al, Ta 및 이들의 합금,

d) 중간 절연코팅,

e) 제2의 은-기반 기능성층,

f) 팔라듐-기반 흡수제 층,

g) 선택적으로, 하기의 물질중 하나 또는 몇몇에서 선택된, 가급적 아산화된 1 또는 2층의 희생금속층: Ti, Ni, Cr, Nb, Zn, Zr, Al, Ta 및 이들의 합금,

h) 적어도 하나의 아연-주석 혼합 산화물-기반 층을 함유하는 외부 절연 층.

유리하게는 모든 절연코팅은 대략 50%의 주석 및 아연을 함유하는 아연-주석 혼합 산화물-기반 층 및 약 10% 이하의 주석 및 약 90% 이상의 아연을 함유하는 아연-주석 혼합 산화물-기반 층을 포함하는데, 상기 후자의 층은 대략 50%의 주석을 함유한 혼합산화물 층보다 항상 후속의 기능성 층에 더 근접하게 배열된다. 이러한 배열이 탁월한 내부식성을 보유하고, 흡수제 특성의 손실 또는 적외선 반사 특성의 손실 없이 고온의 열처리에 용이하게 견디는, 낮은 태양인자 및 고선택성을 보유한 태양광 적층구조의 형성을 가능하게 한다는 것이 밝혀졌다. 이러한 구조는 또한 용이하게 수득되는 중간색의 반사 색조를 보유한 적층구조를 가능하게 한다.

상기 적층구조는 유리하게도 두께가 1.5 내지 10nm인 SiO₂ 또는 SiC의 최종적인 얇은 필름을 함유하는 보호층에 의해 마감된다. 고온의 열처리를 거치기에 적절한 적층구조의 경우에는, 상기 보호층은 유리하게도, 열처리 중에 산화하여 TiO₂를 형성한 후 SiO₂ 또는 SiC의 최종 필름을 형성하는 TiN을 함유한다.

바람직하게는, 상기 적층구조는 두께가 1.5 내지 10nm인 얇은 탄소-기반 보호층에 의해 마감된다. 중성 대기에서 탄소 표적 유래의 음극 스퍼터링에 의해 침착되는 이러한 보호층은 열처리 이전의 작업, 이송 및 저장 중에 적층구조를 보호하는데 매우 적합하다. 탄소의 이용과 관련하여, 상기 보호층은 고온의 열처리 동안에 연소되어 완제품에서 완전히 소멸된다.

본 발명은 상기 정의된 바와 같은 적층구조를 포함하는 유리판에도 확장된다.

바람직하게는, 이러한 유리판은 유리면에 반사시, 30 내지 55 사이의 범위, 유리하게는 40 내지 50 사이의 범위의 L^*, -4 내지 +3 사이의 범위, 유리하게는 -2.5 내지 +1.5 사이의 범위의 a^*, 및 -4 내지 -16 사이의 범위, 유리하게는 -6 내지 -13 사이의 범위의 b^*로 표현되는 측정된 반사 색조를 보유한다.

바람직하게는, 이러한 유리판은 다중층의 적층구조의 침착 후에 강인화(toughening) 및/또는 굽힘(bending) 열처리를 거친다.

바람직하게는 열처리 후에 4 내지 35%, 바람직하게는 8 내지 22%의 적층구조의 광흡수율은 흡수제 물질에 의한 것이다. 본 발명은 특히 심미적으로 만족스러운 외관을 보유하고 상대적으로 상승된 흡수 수준을 보유한 열처리 후의 창유리의 형성을 가능하게 한다.

본 발명은 또한 열처리를 거치는 본 발명에 따른 적어도 하나의 유리판을 포함하는 제1그룹 및 열처리를 거치지 않는 본 발명에 따른 적어도 하나의 유리판을 포함하는 제2그룹으로 형성된 구조물(assembly)에도 확장되는데, 이때, 상기 2개의 그룹은 임의의 유의적인 시각적 변화 없이 함께 배열될 수 있도록, 유리면에 반사시 유사한 시각적 외관을 보유하는 것을 특징으로 한다.

본 발명은 또한, 다중층 적층구조의 침착 후에 강인화 및/또는 굽힘 열처리를 거친 또는 거치지 않은 상기 정의된 바와 같은 적층구조를 보유한 다중 창유리, 구체적으로 이중 창유리에도 확장된다.

바람직하게는 본 발명에 따른 다중 창유리는 15 내지 40% 사이의 범위의 태양인자 SF, 30% 이상의 광투과율 및 투과시에 상대적으로 중간색을 보유하고, 적층구조를 보유한 유리판 면에 반사시 중간색 내지 약한 청색의 색조를 보유한다. 바람직하게는, 본 발명에 따른 다중 창유리는 20 내지 35% 사이의 범위, 유리하게는 25 내지 35% 사이의 범위의 태양인자 SF, 45% 이상, 유리하게는 50% 이상 및 이상적으로는 55% 이상의 광투과율을 보유한다. 이러한 다중 창유리는 상대적으로 높은 광투과율에 관계된 특히 유리한 태양광차단 특성을 보유하면서, 동시에 건축 구조물에 용이하게 통합될 수 있는 심미적인 외관을 여전히 보유한다.

바람직하게는, 다중 창유리는 적층구조를 보유하는 유리판의 면에 반사되는 색조를 보유하는데, 상기 적층구조는 다중 판 유리의 내부 공간을 향하여 배치되며, 상기 색조는 40 내지 55 사이의 범위, 바람직하게는 45 내지 52 사이의 범위의 L^*, 1.5 내지 -6 사이의 범위, 바람직하게는 0.5 내지 -4 사이의 범위의 a^*, 및, -3 내지 -15 사이의 범위, 바람직하게는 -5 내지 -12 사이의 범위의 b^*로 표현된다.

본 발명은 하기의 바람직한 예시적 구체예를 수단으로 하여 비제한적인 방법으로 보다 구체적으로 설명될 것이다.

실시예 1.

두께가 6mm인 2m×1m 규격의 표준 투명 소다-라임 플로트 유리판을 감압에서(약 0.3 Pa) 자기장의 도움으로 작동하는 마그네트론-형 스퍼터링 장치에 위치시켰다. 다중층 태양광차단 적층구조를 하기의 순서대로 유리판 상에 침착했다:

a) 아르곤 및 산소의 혼합물로 형성된 반응성 대기에서, 상이한 조성의 아연-주석 합금 음극으로부터 침착된 2층의 산화물층으로 형성된 제1절연코팅. 두께가 약 30nm인 제1의 아연-주석 혼합 산화물은 주석산염아연(zinc stannate) Zn₂SnO₄의 스피넬(spinel) 구조를 형성하기 위한 아연 52중량% 및 주석 48중량%을 함유하는 아연-주석 합금의 음극으로부터 형성했다. 두께가 약 10nm인 제2의 아연-주석 혼합 산화물 ZnSnO_x는 아연 90중량% 및 주석 10중량%의 표적으로부터 침착시켰다.

b) 아르곤의 중성 대기에서 특히 순수한 은의 표적 유래의 은 약 11nm로 형성된 제1의 적외선 반사 기능성층.

c) Ni 80% 및 Cr 20%를 함유한 합금의 표적으로부터 침착된 1nm 두께의 NiCr 제1층, 및 티타늄 표적으로부터 침착된 2.5nm 두께의 Ti 제2층으로 형성된 제1의 이중 희생금속층. 상기 층들은 모두 조절된 챔버 유래의 산소로 약간 오염된 아르곤의 플럭스에서 침착했다. 제2의 절연층의 침착 공정의 마지막에 티타늄이 실질적으로 완전히 산화하여 TiO₂의 조밀한 층을 형성하도록, 하기에 기술된 후속의 층의 침착 동안에 플라즈마의 산화성 대기가 티타늄의 층을 완전히 산화시킨다는 것은 이해되어야 한다. 변형으로서, 부분적으로 산화된 TiO_x의 형태로 상기 층이 침착되는 것도 또한 가능하다. 이러한 층은 또한, 예를 들어 층이 투명할 수 있도록 TiO_x의 충분한 산화 수준을 유지하기 위하여 의도된 적은 비율의 산소를 함유한 Ar의 대기에서 TiO_x 세라믹 표적으로부터 침착될 수 있다. 상기 층은 후속의 층을 침착하는데 이용되는 플라즈마에 의해 산화될 수도 있다.

d) 산소 및 아르곤의 혼합물에서 형성된 반응성 대기에서 상이한 조성의 아 연-주석 합금의 음극으로부터 침착된 아연-주석 혼합 산화물의 2층으로 형성된 제2절연코팅. 두께가 약 77nm인 제1의 아연-주석 혼합 산화물은 주석산염아연 Zn₂SnO₄의 스피넬 구조를 형성하기 위한 Zn 52중량% 및 Sn 48중량%를 함유한 ZnSn의 합금의 금속 표적으로부터 침착했다. 두께가 약 13nm인 제2의 아연-주석 혼합 산화물 ZnSnO_x는 Zn 90중량% 및 Sn 10중량%를 함유한 ZnSn의 합금의 표적으로부터 침착했다.

e) 아르곤의 중성 대기에서 실질적으로 순수한 은의 표적으로부터 약 18nm의 은에 의해 형성된 제2의 적외선 반사 기능성층.

f) e) 층과 동일한 아르곤의 중성 대기에서 팔라듐 표적 유래의 팔라듐 약 1nm에 의해 형성된 흡수제 물질의 층.

g) 상기 기술된 바와 같은 제1의 이중 희생금속층에 대한 것과 동일한 방법으로, 2.5nm의 Ti의 제2층에 의해 덮힌 1nm의 NiCr의 제1층으로 형성된 제2의 이중 희생금속층.

h) 산소 및 아르곤의 혼합물에 의해 형성된 반응성 대기에서, 상이한 조성의 아연-주석 합금의 음극으로부터 침착된 2개의 산화물 층에서 형성된, 외부 절연코팅인 제3절연코팅. 두께가 약 7nm인 제1의 아연-주석 혼합 산화물 ZnSnO_x은 Zn 90중량% 및 Sn 10중량%를 함유한 ZnSn의 합금의 금속 표적으로부터 침착했다. 두께가 약 17nm인 제2의 아연-주석 혼합 산화물은 주석산염아연 Zn₂SnO₄의 스피넬 구조를 형성하기 위한 Zn 52중량% 및 Sn 48중량%를 함유하는 ZnSn의 합금의 표적으로부터 침착했다.

i) 이후, 적층구조는 질소 대기에서 티타늄 표적으로부터 침착된 5nm 두께의 TiN의 상부보호층의 침착에 의해 마감했다.

모든 ZnSnO_x의 층이 가능한 한 투명하도록 충분히 산화되어야한다는 것은 이해되어야 한다. 또한 Ti, TiO_x 및 TiN의 두께가 TiO₂(즉, Ti, TiOx 또는 TiN의 산화의 결과)와 동등한 두께로서 주어져야하며, 이는 열처리 후에 마감된 제품에서의 상태이며, Ti에 대한 열처리에 적합한 중간 창유리에서 이미 구축된 상태였다.

다중층 태양광차단 적층물에 의해 깨끗하게 코팅된 유리판을 층 침착 장치에서 꺼냈을 때, 유리판은 하기의 특성을 보유하였다: LT = 51.1%; SF = 32.5%, ε(복사율) = 0.025; 흡수율 = 34.5%(흡수율의 약 10%는 흡수제 물질의 팔라듐 층에 의한 것이다); 하기의 수치로 표현되는 투과 색조:

L^* = 71.5; a^* = -3.9; b^* = +3.5;

하기의 수치로 표현되는 유리면 상의 반사 색조:

LR = 14.5%; L^* = 45.5; a^* = -10.0; b^* = -15.8; λ_d = 478nm; 순도 30.7%.

본 발명에 있어서, 하기의 집합적 용어는 측정 또는 계산된 수치를 위해 이용했다. 광투과율(LT), 광반사율(LR), 광흡수율(LA)(창유리에 의해 흡수된 광원 D65의 광 플럭스의 백분율) 및 투과 색조(1976 CIELAB 값 L^*a^*b^*)를 광원 D65/2°로 측정했다. 반사 색조와 관련하여 1976 CIELAB 값(L^*a^*b^*)뿐만 아니라 주파장(λ_d) 및 순도(p)도 광원 D65/10°로 측정했다. 태양인자(SF 또는 g)는 표준 EN410에 따라 계산했다. U(상수 k) 값 및 복사율(ε)은 표준 EN673 및 ISO 10292에 따라 계산하였다.

이후, 유리판 상에 형성된 다중층 태양광차단 적층물로 코팅된 창유리는 열적 강인화 공정을 거치게 되고, 이러한 공정 동안에 창유리는 6분 동안 690℃의 온도에 노출된 후, 저온 공기의 제트로 급속하게 냉각된다. 이러한 열처리 동안에, 장벽 층의 NiCr의 얇은 필름은 은 층을 유지하기 위한 효율적이고 안정한 스크린을 형성함과 동시에 충분히 투명하도록 산화된다. 상부의 TiN 보호층은 그 자체로 산화하여 TiO₂를 형성한다.

이러한 처리 후에, 코팅 및 강인화된 창유리는 하기의 특성을 나타냈다:

LT = 68.1%; ε(복사율) = 0.023; Rs = 1.6Ω/sq.; 흡수율 = 21.2%(흡수율의 약 10%는 흡수제 물질의 팔라듐 층에 의한 것이다); 하기의 값으로 표현되는 투과 색조:

L^* = 86.1; a^* = -2.0; b^* = +1.2; 헤이즈(haze)= 0.09%;

및 하기의 값으로 표현되는 유리면 상의 반사 색조:

LR = 10.6%; L^* = 39.3; a^* = -2.1; b^* = -12.1; λ_D=474nm; p=22.1%.

헤이즈 값은 산란 광투과율 대 총 광투과율의 비에 100을 곱한 %값으로 정의 된다. 상기 값은 표준 ASTM D1003에 따라 측정했다.

흡수제 층에 기인한 흡수율 값은 고온 열처리 후에는 증가하지 않았다는 것을 밝혀냈다.

이후, 상기와 같이 코팅된 창유리는 또 다른 6mm의 투명 유리판과 함께 이중 창유리로서 구조화시켰고, 상기 코팅은 이중 창유리의 내부 공간의 면에 배열했다. 상기 두 판 사이의 공간은 15mm였고 상기 공안 안의 공기는 아르곤으로 대체시켰다. 2번 위치에 위치된 적층구조로 코팅된 창유리의 유리면 상에 이중 판 유리를 관찰할 경우, 즉 유리면에서 볼 경우, 적층구조가 제공된 창유리가 먼저 보이고, 그 다음 층이 없는 투명한 유리판이 보이게 되는데, 이때 하기의 특성을 관찰하였다:

LT = 61.7%; LR = 14.4%; SF = 36.5%; S = 1.7; U값 = 1.05W/(m².K); 하기의 값으로 표현되는 투과 색조:

L^* = 82.8; a^* = -2.9; b^*= +1.4;

하기의 값으로 표현되는 반사 색조:

L^* = 45.0; a^* = -2.5; b^* = -9.9; λ_D 475nm; p = 17.1%.

이중 창유리의 반사에 관한 시각적 조사를 한 결과, 전체 표면에 걸친 균일한 색조 및 외관이 나타났다. 본 발명은 낮은 태양인자를 보유한 이중 창유리의 형성을 가능하게 하는데, 이중 창유리는 적절한 광투과율을 유지하고, 매우 높은 심 미적 매력을 보유했다.

실시예 2

실시예 2를 실시예 1과 동일한 방법으로 수행했으나, 상이한 적층구조를 이용했다. 본 실시예에서는 하기의 순서를 이용했다:

a) 아르곤 및 산소의 혼합물로 형성된 반응성 대기에서, 상이한 조성의 아연-주석 합금 음극으로부터 침착된 2층의 산화물층으로 형성된 제1절연코팅. 두께가 약 24nm인 제1의 아연-주석 혼합 산화물은 주석산염아연 Zn₂SnO₄의 스피넬 구조를 형성하기 위한 아연 52중량% 및 주석 48중량%을 함유하는 아연-주석 합금의 음극으로부터 형성했다. 두께가 약 8nm인 제2의 아연-주석 혼합 산화물 ZnSnO_x는 아연 90중량% 및 주석 10중량%의 표적으로부터 침착시켰다.

b) 아르곤의 중성 대기에서 특히 순수한 은의 표적 유래의 은 약 9nm로 형성된 제1의 적외선 반사 기능성층.

c) 티타늄 표적으로부터 침착된 5nm 두께의 Ti 층으로 형성된 제1의 희생금속층. 이 층은 조절된 챔버 유래의 산소로 약간 오염된 아르곤의 플럭스 내에서 침착된다. 하기에 기술된, 후속의 층을 침착하는 동안에 플라즈마의 산화성 대기가 상기 티타늄 층을 오직 부분적으로 산화시킨다는 것은 이해되어야 한다.

d) 산소 및 아르곤의 혼합물에서 형성된 반응성 대기에서 상이한 조성의 아연-주석 합금의 음극으로부터 침착된 아연-주석 혼합 산화물의 2층으로 형성된 제2절연코팅. 두께가 약 65nm인 제1의 아연-주석 혼합 산화물은 주석산염아연 Zn₂SnO₄ 의 스피넬 구조를 형성하기 위한 Zn 52중량% 및 Sn 48중량%를 함유한 ZnSn의 합금의 금속 표적으로부터 침착했다. 두께가 약 10nm인 제2의 아연-주석 혼합 산화물 ZnSnO_x는 Zn 90중량% 및 Sn 10중량%를 함유한 ZnSn의 합금의 표적으로부터 침착했다.

e) 아르곤의 중성 대기에서 실질적으로 순수한 은의 표적으로부터 약 15nm의 은에 의해 형성된 제2의 적외선 반사 기능성층.

f) e) 층과 동일한 아르곤의 중성 대기에서 팔라듐 표적 유래의 팔라듐 약 1.8nm에 의해 형성된 흡수제 물질의 층.

g) 후속의 절연층의 침착을 위한 플라즈마의 대기에 의해 산화될 것인, 상기 기슬된 제1의 희생금속층에 대한 방법과 동일한 방법을 이용하여 2.5nm의 Ti 층으로 형성된 제2의 희생금속층.

h) 산소 및 아르곤의 혼합물에 의해 형성된 반응성 대기에서, 상이한 조성의 아연-주석 합금의 음극으로부터 침착된 2개의 산화물 층에서 형성된, 외부 절연코팅인 제3절연코팅. 두께가 약 7nm인 제1의 아연-주석 혼합 산화물 ZnSnO_x은 Zn 90중량% 및 Sn 10중량%를 함유한 ZnSn의 합금의 금속 표적으로부터 침착했다. 두께가 약 15nm인 제2의 아연-주석 혼합 산화물은 주석산염아연 Zn₂SnO₄의 스피넬 구조를 형성하기 위한 Zn 52중량% 및 Sn 48중량%를 함유하는 ZnSn의 합금의 표적으로부터 침착했다.

Ti, TiO_x 및 TiN의 두께가 TiO₂(즉, Ti, TiOx 또는 TiN의 산화의 결과)와 동등한 두께로서 주어져야하며, 이는 열처리 후에 마감된 제품에서의 상태라는 것은 이해되어야 한다. 게다가, g) 층에 대하여 Ti는 이미 열처리를 거치기에 적합한 중간 창유리에 산화된 상태로 존재했다.

다중층 태양광차단 적층물에 의해 깨끗하게 코팅된 유리판을 층 침착 장치에서 꺼냈을 때, 유리판은 하기의 특성을 보유하였다:

LT = 19.7%; SF = 26.4%, ε(복사율) = 0.030; 흡수율 = 67.4%(흡수율의 약 20%는 흡수제 물질의 팔라듐 층에 의한 것이다); 하기의 수치로 표현되는 투과 색조:

L^* = 51.4; a^* = -6.1; b^* = -6.8;

하기의 수치로 표현되는 유리면 상의 반사 색조:

LR = 12.9%; L^* = 42.7; a^* = -5.8; b^* = -31.9; λ_d = 480nm; 순도 49.9%.

이후, 유리판 상에 형성된 다중층 태양광차단 적층물로 코팅된 창유리는 열적 강인화 공정을 거치게 되고, 이러한 공정 동안에 창유리는 6분 동안 690℃의 온도에 노출된 후, 저온 공기의 제트로 급속하게 냉각된다. 이러한 열처리 동안에, 티타늄은 특히 제1의 희생금속층 c) 내에서 여전히 금속의 형태로 존재하며, 밑에 깔려있는 은 층을 보호하는 효율적이고 안정한 스크린을 형성하면서 투명하도록 충 분히 산화된다. 상부의 Ti 보호층은 그 자체로 산화하여 TiO₂를 형성한다.

LT = 59.1%; ε(복사율) = 0.026; Rs = 1.8Ω/sq.; 흡수율 = 31.0%(흡수율의 약 20%는 흡수제 물질의 팔라듐 층에 의한 것이다); 하기의 값으로 표현되는 투과 색조:

L^* = 81.3; a^* = -3.0; b^* = -5.0; 헤이즈(haze)= 0.12%;

및 하기의 값으로 표현되는 유리면 상의 반사 색조:

LR = 9.9%; L^* = 37.6; a^* = -0.1; b^* = -5.6; λ_D=474nm; p=9.6%.

LT = 53.0%; LR = 12.7%; SF = 29.9%; S = 1.78 U값 = 1.1W/(m².K); 하기의 값으로 표현되는 투과 색조:

L^* = 77.9; a^* = -4.1; b^* = -4.0;

하기의 값으로 표현되는 반사 색조:

L^* = 42.3; a^* = -0.9; b^* = -6.1; λ_D=480nm; p = 15.6%.

이중 창유리의 반사에 관한 시각적 조사를 한 결과, 전체 표면에 걸친 균일한 색조 및 외관이 나타났다. 본 발명은 매우 낮은 태양인자를 보유한 이중 창유리의 형성을 가능하게 하는데, 이중 창유리는 적절한 광투과율을 유지하고, 매우 높은 심미적 매력을 보유했다.

실시예 3 내지 15

달리 나타내지 않으면, 하기의 실시예 3 내지 15는 상기 실시예 1과 유사한 방법으로 수행되나 구조는 상이하다. 상응하는 적층물의 구조는 하기에 설명한 약어를 수단으로 하여 하기의 표 1에 나타냈다.

● D1 = 2 또는 3층의 산화물 또는 질화물 또는 가급적 옥시질화물로 형성된 제1절연코팅. 질화물 층은 질소 및 아르곤의 반응성 혼합물에서 금속 표적으로부터 침착된다. 이는 다른 적층구조 절연물질에 적용된다. 본 실시예에 이용되는 Si3N4 층은 SiO_xN_y의 형태로 약간 산화될 수 있다. Si₃N₄ 및 ZnO 층에는 잘 알려진 방법으로 알루미늄이 도핑될 수 있다.

● D2 = 본 실시예에 존재한다면, D1과 유사한 산화물 또는 질화물 또는 가 급적 옥시질화물 층으로 형성되는 중간 절연코팅.

● D3 = D1과 유사하게 1 또는 2층의 산화물 또는 질화물 또는 가급적 옥시질화물에서 형성된 외부 절연코팅.

● IR1 및 IR2 = 제1 및 제2의 적외선 반사 기능성층.

● P1 및 P2 = 금속 또는 가급적 아-산화 형태의 금속 또는 금속 합금의 1 또는 2층에서 각각 형성된 제1 및 제2의 희생금속층. 이러한 층은 은과 같은 적외선 반사 물질(IR1 및 IR2)를 그 자리에서 산화함에 의한 산화로부터 보호하기 위한 것인데, 특히 만약 후속의 층의 침착 동안 또는 일어난다면, 층의 열처리 동안에 산화를 예방한다. 최종 제품에서, 바람직하게는 이들은 실질적으로 완전히 산화될 것이다.

표1은 임의의 열처리 전에 층들을 스퍼터링 장치에서 꺼낼 때, 층들의 상태를 나타내는데, 다시말하면, 상기 경우라면 희생금속층이 후속 층의 침착을 위한 플라즈마에 의해 이미 산화되었는지를 나타낸다. 이러한 경우에, 이들은 이들의 산화 상태로서 표현했고, 침착된 상태로 표현하지는 않았다. 예를 들어, 실시예 3 ㄴ내지 7 및 실시예 11 내지 15의 컬럼 P1 및/또는 P2의 TiO₂, ZAlO₅ 및 Nb₂O₅는 금속의 형태로 침착시켰고, 하기의 산화물의 침착 동안에 산화되었으며, 임의의 후속 처리에 대한 산화를 위해 남은 것이 없었다. 반면에, 실시예 9, 10 및 13의 NiCrO_x 및 TiO_x는 아산화된 형태로 침착했으며, 임의의 후속 처리를 위한 잔류물을 구성하도록 침착 공정의 마지막까지 아-산화된 채로 잔존했다. NiCrO_x(실시예 9 및 13)은 산화 상 태의 조절 루프(loop)를 수단으로 약간 산화 반응성 대기에서 NiCr의 음극으로부터 침착되며, 반면에 TiO_x(실시예 10)은 실질적으로 아르곤으로 채워진 대기에서 세라믹 TiO_x 음극으로부터 침착된다. 본 발명의 구성 내에서는, NiCrO_x와 동일한 방법으로 TiO_x를 침착하는 것이 가능할 수도 있다. 실시예 15(P1)에서는, TiO_x가 또한 실질적으로 아르곤으로 채워져 있고, 적은 비율의 산소가 존재하는 대기에서 세라믹 TiO_x 음극으로부터 침착되며, 이는 후속의 산화물(ZSO₅)의 참착 이후에 강하게 산화된 상태로 존재한다.

NiCr(P1, 실시예 4)는 니켈 80중량% 및 크롬 20중량%를 함유한 희생금속으로서 이용되는 함금이다. NiV(P1 및 P2, 실시예 6)는 니켈 93중량% 및 바나듐 7중량%를 함유한 금속 합금으로서 역시 희생금속으로 이용된다. 이들 실시예에 있어서, 상기 두 합금(NiCr 및 NiV)은 모두 후속의 고온 열처리 작업을 위한 산화를 위한 잔류물을 형성할 수 있다. 이들은 열처리 후에 산화된다. 실시에 8의 TiRu ₁₅의 경우에는, Ti가 후속의 열처리를 작업을 위해 산화를 위한 잔류물을 형성하고, 반면에 Ru는 열처리 후에 흡수제 물질의 형태로 잔존하는 흡수제 물질이 된다.

●CS = 가급적 2층으로 형성되는 상부 보호층.

●AB = 흡수제 물질이 별도의 층의 형태로 침착될 경우의 흡수제층.

흡수제 물질이 별도의 층의 형태로 침착되지 않으면, 흡수제 물질은 적외선 반사 물질 및/또는 희생금속과 합금의 형태, 또는 도핑된 형태로 존재한다. 표 1에 서, 흡수제 물질은 볼드체로 나타냈다. 흡수제 물질의 측면에 나타낸 숫자는 기능성층 또는 희생금속의 물질과의 합금에서 흡수제 물질의 원자%를 나타낸다. 예컨대 Ag:Pd ₃는 3원자%의 흡수제 팔라듐이 은에 함유되어 있다는 것을 나타내며, 같은 원칙이 Ag:Pd ₂, Ag:Pd ₃₀, AgCo ₅, Ag:Os ₅, AgOs ₁₁ 및 Ag:Au ₈에 적용된다. 또한, TiRu ₁₅는 희생금속 Ti과의 합금에서 흡수제 루테늄이 15원자%만큼 존재한다는 것을 나타내며, 이하 동일하다. Ag:NiCr ₁₀은 은 내에 합금 NiCr(Ni 80중량% 및 Cr 20중량%의 합금)이 10원자% 존재한다는 것을 나타낸다. 흡수제 물질을 함유하는 기능성층은 은 음극 및 NiCr 음극으로부터 공동-스퍼터링에 의해 침착될 수 있고, 또는 AgNiCr 합금의 단일 음극으로부터 수득될 수 있다.

실시예 12의 변형으로서, Ag:NiV ₁₀은 은 내에 10원자%의 NiV(Ni 93중량% 및 바나듐 7중량%의 합금)를 이용했으며, 상기 열거된 것들과 동일한 결과를 수득했다.

CoCr은 Co 80중량% 및 Cr 20중량%의 합금이다. 순수한 Co 및 순수한 Ni로 이루어진 상기 합금은, 상기 언급된 NiCr 또는 NiV의 경우와는 대조적으로, CoCr이 강자성체가 아니라는 사실과 관련된 임의의 문제 없이 마그네트론에 의해 침착될 수 있었다.

● ZSO₅ = 산화성 대기에서 Zn 52% 및 Sn 48%를 함유한 ZnSn의 합금의 금속 표적으로부터 음극 스퍼터링에 의해 수득된 아연-주석 혼합 산화물;

● ZSO₉ = 산화성 대기에서 Zn 90% 및 Sn 10%를 함유한 ZnSn의 합금의 금속 표적으로부터 음극 스퍼터링에 의해 수득된 아연-주석 혼합 산화물;

● ZAlO₂ 또는 ZAlO₅ = 각각 알루미늄 Al를 2원자% 또는 5원자%를 함유하는 산화아연 ZnO.

실시예 3 내지 15의 유리판의 두께는 6mm였다.

실시예 3 내지 10 및 실시예 13-14에 따른 적층물로 코팅된 창유리를, 이후 열적 강인화 작업을 거치게 했으며, 열적 강인화 동안 창유리는 6분간 690℃의 온도에 노출시키고, 이후 냉각 공기의 제트에 의해 급속하게 냉각시켰다.

열적 강인화가 일어난 경우(실시예 3 내지 10 및 실시예 13-14), 강인화 이후의 코팅된 창유리, 또는 창유리가 열적 처리되지 않은 경우(실시에 11, 12 및 15)에 코팅 후의 창유리의 광학적 및 에너지-관련 특성은 표 2에 나타냈다.

실시예 3 내지 8 및 실시예 13-14에 대한 주어진 값은 열처리 이후의 값이다.

실시에 9 및 10에 대하여, 열처리 이전의 값이 또한 이탤릭체 BT(강인과 이전에)로 나타낸 라인에 나타냈다(표 2 및 3). 이러한 두 실시예에 대하여 강인화 처리 후에도 특성이 유의적으로 변화하지 않았다는 것 및 따라서 강인화된 창유리가 이들과 동질의 비-강인화된 창유리와 함께 위치될 수 있다는 것을 밝혀냈다.

실시예 3 내지 10 및 실시예 13-14에 있어서, 코팅된 창유리는 강인화 이후의 흡수제를 함유하고 복사율이 낮다는 것이 나타나 있다.

실시예 11, 12 및 15는 비-강인화성 적층물, 즉 이들은 열처리르 거치지 않고 이용되는 것이다. 따라서, 실시예 11, 12 및 15에 대하여 표 2에 주어진 값은 열처리 없이 층 침착 장치를 이탈할 시에 또는 저장 후에 측정된 값이다.

● L_RV ^*, a_RV ^*, b_RV ^*는 유리면 상의 반사 색조의 1976 CIELAB 값을 나타낸다.

● λ_d(RV) 및 P_(RV)는 주파장 및 유리면 상의 반사 색조의 순도를 나타낸다.

●

는 열처리 동안에 색조의 변화를 나타낸다.

상이한 실시예에서 흡수제 물질에 기인한 광흡수율의 양은 각각, 실시예 3에 대하여 약 4%, 실시예 4에 대하여 약 30%, 실시예 5에 대하여 약 11%, 실시예 6에 대하여 약 10%, 실시예 7에 대하여 약 32%, 실시예 8에 대하여 약 18%, 실시예 9에 대하여 약 28%, 실시예 10에 대하여 약 22%, 실시예 12에 대하여 약 8%, 실시예 13에 대하여 약 21%, 실시예 14에 대하여 약 20% 및 실시예 15에 대하여 약 17%이다. 적층구조 내에 흡수제 물질에 기인한 상기 광흡수율 값은 고온의 열처리에 의해서도 변형되지 않았으며, 고온의 열처리를 거친 적층구조는 실시예 3 내지 10 및 13-14이다.

실시예 12의 변형으로서, 제2기능성층의 은 내에 NiCr를 10원자% 함유하는 합금으로 존재하는 흡수제 물질 NiCr을 기능성층(IR2)의 두께를 변화시키지 않고 은 내에 Ti 10원자 % 또는 은 내에 Pd 4원자%로 대체시켰고, 실시에 12에 대한 표2에서 나타낸 값과 같이 색조를 포함하여 동일한 광학적 특성을 수득했다.강인화성 적층구조가 고려될 경우에는, 치환된 흡수제 물질은 강인화성 적층구조의 형성을 위해 바람직한 상기 열거된 흡수제 물질, 즉, 하기의 물질에서 선택되어야만 한다: Pd, Pt, Au, Ir, Rh, Ru, Os, Co, La, Ce, Pr, Nd 및 이들의 합금.

실시예 1에서와 동일한 방법으로 투명한 6mm의 유리판과 이중 창유리로서 구조화되고, 그 사이의 15mm의 공간을 100% 아르곤으로 채운 코팅된 창유리의 광학적 및 에너지-관련 특성을 표 3에 나타냈다. 이중 창유리의 내부에 바같쪽 판 상의 2번 위치, 즉 유리면에서 볼 경우에, 적층구조가 제공된 창유리가 먼저 보이고, 이후 층이 없는 투명한 유리판이 보이는 위치에 위치된 적층물을 이용하여 창유리를 관찰했다. 강인화된 적층구조로 구조화된 실시예 9 및 실시에 10의 이중 창유리는 비-강인화성 적층구조와 균질한 구조물과 함께 심미적으로 위치될 수 있는데, 이는 ΔE^*가 매우 낮기 때문이었다.

Claims

i) 적외선을 반사시키는 은 기반의 물질을 함유하는 적어도 하나의 기능성층(functional layer), 및

ii) 2 이상의 절연코팅으로서, 그 중 하나의 절연코팅은 유리질 물질의 판 상에 직접 침착되는 제1 절연코팅이고, 나머지 절연코팅은 기능성층에 대해 바깥쪽에 놓여진 2 이상의 절연코팅

을 함유하는, 유리질 물질의 판 상에 형성된 다중층 태양광차단 적층구조로서,

상기 각 기능성층은 절연코팅에 의해 둘러싸여 있고,

상기 적층 구조는

6mm 두께의 일반적인 투명한 소다 라임(soda-lime) 플로트 유리(float glass)판에 침착시, 상기 적층구조의 태양인자 SF가 45% 미만 및 광투과율 LT가 70%미만이고,

Pd, Pt, Au, Ir, Rh, Ru, Os, Co, Cu, La, Ce, Pr, Nd, Si, Mo, Mn, V, Hf 원소 및 이의 합금 중 1 이상을 기반으로 한 본질적 금속 흡수제 물질이 상기 기능성층에 직접적으로 근접하여 배열되거나, 또는

Pd, Pt, Au, Ir, Rh, Ru, Os, Co, Ni, Cu, Cr, La, Ce, Pr, Nd, W, Si, Zn, Mo, Mn, Ti, V, Nb, Hf, Ta 원소 및 이의 합금 중 1 이상을 기반으로 한 본질적 금속 흡수제 물질 상기 기능성층에 1원자% 이상의 양으로 함유된,

다중층 태양광차단 적층구조.
제1항에 있어서, 적층구조의 외부에 절연코팅이

i) 주석을 20% 이상 함유하는 적어도 하나의 아연-주석 혼합 산화물-기반 층, 또는

ii) AlN, AlN_xO_y, Si₃N₄, SiO_xN_y, SiO₂, ZrN, SiC, SiO_xC_y, TaC, TiN, TiN_xO_y, TiC, CrC, DLC, 및 이들의 합금, 상기 합금의 질화물(nitride) 또는 옥시질화물(oxynitride), SiAlO_xN_y 및 SiTi_xN_y.로 이루어진 그룹에서 선택된, 두께가 5nm 이상인 산소 확산에 대한 장벽층, 또는

iii) 상기 아연-주석 혼합 산화물-기반 층 및 상기 산소 확산에 대한 장벽층

을 포함하는 것이 특징인 적층구조.
제1항에 있어서, 상기 흡수제 물질이 기능성층에 포함된 것이 특징인 적층구조.
제3항에 있어서, 기능성층이 적외선을 반사하는 은-기반 물질과 합금으로서 또는 상기 은-기반 물질에 도핑된 물질로서 흡수제 물질을 1 내지 30원자% 함유하는 것이 특징인 적층구조.
제4항에 있어서, 기능성층이 적외선을 반사하는 은-기반 물질과 합금으로서 또는 상기 은-기반 물질에 도핑된 물질로서 흡수제 물질을 5 내지 20원자% 함유하는 것이 특징인 적층구조.
제4항 또는 제5항에 있어서, 기능성층에 함유된 흡수제 물질이 CoCr, Si 및 NiV 중에서 선택되는 것이 특징인, 적층구조.
제4항 또는 제5항에 있어서, 기능성층에 함유된 상기 흡수제 물질이 Os, Co, Pd, Pt, Ir, Ru 및 Rh에서 선택된 것이 특징인, 적층구조.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 흡수제 물질이 기능성층의 아래 또는 위에 침착되고 기능성층과 직접 접촉하는, 기능성층과는 별도의 층의 부분을 적어도 부분적으로 형성하는 것이 특징인, 적층구조.
제8항에 있어서, 상기 흡수제 물질이 기능성층의 보호를 위해 의도된 희생금속(sacrificial metal)층과 합금을 형성하는 것이 특징인, 적층구조.
제8항에 있어서, 상기 흡수제 물질이 기능성층의 아래 또는 위에 침착되고, 기능성층과 직접적으로 접촉하는 상기 별도의 층의 주요 부분을 구성하는 것이 특징인, 적층구조.
제10항에 있어서, 상기 흡수제 물질의 별도의 층의 물리적인 두께가 0.3 내지 10nm 사이의 범위인 것이 특징인, 적층구조.
제10항에 있어서, 상기 흡수제 물질의 별도의 층의 물리적인 두께가 0.8 내지 3nm 사이의 범위인 것이 특징인, 적층구조.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 흡수제 물질이 Pt, Pd, Co, Ir, Ru, Rh, Os, CoCr, 및 이들의 합금 중 적어도 하나에서 선택되는 것이 특징인, 적층구조.
제13항에 있어서, 상기 흡수제 물질이 팔라듐인 것이 특징인, 적층구조.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적층구조의 광흡수율 중 4 내지 35%가 흡수제 물질에 기인한 것이 특징인, 적층구조.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 제1 절연코팅은 유리질의 판상에 직접적으로 침착되고, 및

상기 나머지 절연코팅은 주석을 20% 이상 함유하는 적어도 하나의 아연-주석 혼합 산화물-기반 층을 포함하는 기능성층에 대해 바깥쪽에 놓여진 것이 특징인, 적층구조.
제10항에 있어서, 유리질 물질의 판에서 시작하여 적어도 하기 순서의 층들을 포함하는 것이 특징인, 적층구조:

a) 제1절연코팅,

b) 은-기반 기능성층,

c) 흡수제 층,

d) Ti, Ni, Cr, Nb, Zn, Zr, Al, Ta 및 이들의 합금 중 1 또는 수개에서 선택되고, 아산화(sub-oxidized)되거나 되지 않은 1 또는 2층의 희생금속층, 및

e) 외부 절연층.
제1항 또는 제2항에 있어서, 적어도 하나의 중간 절연코팅에 의해 분리된 적어도 2개의 기능성층을 포함하는 것이 특징인, 적층구조.
제4항 또는 제5항에 있어서, 기능성층이 5 내지 10원자%의 흡수제 물질을 함유하는 것이 특징인, 적층구조.
제18항에 있어서, 유리질 물질의 판에서 시작하여 적어도 하기 순서의 층들을 포함하는 것이 특징인, 적층구조:

a) 제1절연코팅,

b) 제1의 은-기반 기능성층,

c) Ti, Ni, Cr, Nb, Zn, Zr, Al, Ta 및 이들의 합금 중 1개 또는 수 개에서 선택되고, 아산화되거나 되지 않은 1 또는 2층의 희생금속층,

d) 중간 절연코팅,

e) 제2의 은-기반 기능성층,

f) 흡수제 층,

g) Ti, Ni, Cr, Nb, Zn, Zr, Al, Ta 및 이들의 합금 중 1개 또는 수 개에서 선택되고, 아산화되거나 되지 않은 1 또는 2층의 희생금속층, 및

h) 적어도 하나의 아연-주석 혼합 산화물 기반 층을 포함하는 외부 절연층.
제18항에 있어서, 유리질 물질의 판에서 시작하여 적어도 하기 순서의 층을 포함하는 것이 특징인, 적층구조:

a) 적어도 하나의 아연-주석 혼합 산화물-기반 층을 포함하는 제1절연코팅,

b) 제1의 은-기반 기능성층,

c) Ti, Ni, Cr, Nb, Zn, Zr, Al, Ta 및 이들의 합금 중 1개 또는 수 개에서 선택되고, 아산화되거나 되지 않은 1 또는 2층의 희생금속층,

d) 중간 절연코팅,

e) 제2의 은-기반 기능성층,

f) 팔라듐-기반 흡수제층,

g) Ti, Ni, Cr, Nb, Zn, Zr, Al, Ta 및 이들의 합금 중 1개 또는 수 개에서 선택되고, 아산화되거나 되지 않은 1 또는 2층의 희생금속층, 및

h) 외부 절연층.
제15항에 있어서, 상기 적층구조의 광흡수율 중 8 내지 22%가 흡수제 물질에 기인한 것이 특징인, 적층구조.
제1항 또는 제2항에 있어서, 두께가 1.5 내지 10nm인 탄소-기반의 얇은 보호층에 의해 마감되는 것이 특징인, 적층구조.
제1항 또는 제2항에 기재된 적층구조를 포함하는 유리판.
제24항에 있어서, 30 내지 55 사이의 범위의 L^*, -4 내지 +3 사이의 범위의 a^*, 및 -4 내지 -16 사이의 범위의 b^*에 의해 표현되는, 유리면 상의 측정된 반사 색조를 보유하는 것이 특징인 유리판.
제24항에 있어서, 다중층 적층구조의 침착 후에 강인화(toughening) 열처리, 또는 굽힘(bending) 열처리, 또는 강인화 및 굽힘 열처리를 거치는 것이 특징인 유리판.
제26항에 있어서, 열처리 후에 적층구조의 광흡수율 중 4 내지 35%가 흡수제 물질에 기인하는 것이 특징인 유리판.
다중층 적층구조의 침착 후에 강인화(toughening) 열처리, 또는 굽힘(bending) 열처리, 또는 강인화 및 굽힘 열처리를 거친 제24항에 기재된 유리판을 1개 이상 포함하는 제1그룹, 및

열처리를 거치지 않은 제24항에 기재된 유리판을 1개 이상 포함하는 제2그룹

으로 형성되되,

상기 2개의 그룹이 유의적인 시각적 변화없이 함께 위치될 수 있도록, 유리면 상의 반사시 시각적 외관이 유사한 것이 특징인, 구조물(assembly).
제24항에 기재된 유리판을 포함하는 다중 창유리(glazing).
제29항에 있어서, 태양인자 SF가 15 내지 40% 사이의 범위이고, 광투과율이 30% 이상이며, 적층구조를 포함한 유리판 면에서 반사시 주파장(dominant wavelength) λ_d가 472 내지 480nm이고 반사 색조의 순도가 최대 20.5%인 것이 특징인 다중 창유리.
제30항에 있어서, 태양인자 SF가 20 내지 35% 범위이며, 광투과율이 45% 이상인 것이 특징인 다중 창유리.
제29항에 있어서, 적층구조를 보유한 유리판 면에서 반사 색조가, 상기 적층구조가 다중 창유리의 내부 공간을 향하여 배열된 경우, 40 내지 55 사이의 범위의 L^*, 1.5 내지 -6 사이의 범위의 a^*, 및 -3 내지 -15 사이의 범위의 b^*로 표현되는 것이 특징인 다중 창유리.