KR101397682B1 - window-integrated touch screen panel having transparent electrode structure and method of manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

일 실시예에 따르는 윈도우 일체형 터치스크린 패널이 제공된다. 상기 터치스크린 패널은 터치 기판, 상기 터치 기판의 윈도우 영역 및 배선 영역에 배치되는 투명 전극 구조물을 포함한다. 상기 투명 전극 구조물은 투명 전도성 산화물층 및 금속층을 포함한다.A window-integrated touch screen panel according to an embodiment is provided. The touch screen panel includes a touch substrate, a window region of the touch substrate, and a transparent electrode structure disposed in the wiring region. The transparent electrode structure includes a transparent conductive oxide layer and a metal layer.

Description

투명 전극 구조물을 가지는 윈도우 일체형 터치스크린 패널 및 그 제조 방법 {window-integrated touch screen panel having transparent electrode structure and method of manufacturing the same}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a window-integrated touch screen panel having a transparent electrode structure and a manufacturing method thereof,

본 발명은 윈도우 일체형 터치스크린 패널 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 투명 전극 구조물을 가지는 윈도우 일체형 터치스크린 패널 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a window-integrated touch screen panel and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a window-integrated touch screen panel having a transparent electrode structure and a method of manufacturing the same.

터치스크린 장치는 디스플레이 화면상의 사용자의 접촉 위치를 감지하고, 감지된 접촉 위치에 관한 정보를 입력 정보로 하여 디스플레이 화면 제어를 수행하는 전자기기의 제어 장치를 일컫는다.The touch screen device refers to a control device of an electronic device that senses a contact position of a user on a display screen and performs display screen control using information about the sensed contact position as input information.

상용화된 대부분의 멀티 터치스크린 패널은 투명 전도층이 일면에 형성되어 있는 투명 기판을 적어도 두 개 이상 포함한다. 투명 전도층은 흔히 인듐 주석 산화물 (ITO, indium tin oxide) 등의 투명 전도성 물질로 이루어지며, 전기 배선을 통해 사용자가 접속한 터치스크린 상의 위치를 계산하기 위하여 패널 외부에 마련된 센서 회로에 연결된다. 터치스크린 패널의 패턴을 구현하기 위한 방법으로 투명기판 위에 투명 전도막을 형성하고 금속을 증착한 다음 식각 처리하는 방법이 사용되고 있다. 최근의 기술 동향으로는 두 장의 투명 전도막의 두께를 줄이고 원가 경쟁력을 확보하기 위해 커버 윈도우 상에 투명 전도막을 직접 형성하는 윈도우 일체형 터치스크린 패널의 제조 방법이 시도되고 있다. Most commercially available multi-touch screen panels include at least two transparent substrates on which a transparent conductive layer is formed. The transparent conductive layer is usually made of a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO), and is connected to a sensor circuit provided outside the panel to calculate the position on the touch screen connected to the user through the electric wiring. As a method for implementing a pattern of a touch screen panel, a method of forming a transparent conductive film on a transparent substrate, depositing a metal, and etching the transparent conductive film is used. In recent technology trends, a manufacturing method of a window-integrated touch screen panel in which a transparent conductive film is directly formed on a cover window in order to reduce the thickness of two transparent conductive films and to secure cost competitiveness has been attempted.

또한, 종래의 터치 스크린에서는 외곽 영역인 베젤 영역(즉, 배선 영역)에 하부의 배선층을 가리기 위해 장식층을 배치하고 있다. 상기 배선 영역에서는 빠른 신호 전달을 위하여 비투광성 금속층을 배선층으로 적용할 수 밖에 없고, 이로 인해, 상기 비투광성 금속층을 가리기 위해 장식층이 필요되어진다. 이와 같이, 장식층은 터치스크린 패널의 윈도우 영역을 제외한 배선 영역에 배치되는데, 이로 인해, 디스플레이 화면의 면적이 감소되는 원인이 될 수 있다. 그뿐만 아니라, 장식층은 상기 윈도우 영역과 상기 배선 영역 사이에서, 장식층의 높이 만큼 단차를 발생시켜 균일한 두께의 투명 전극층 형성을 저해할 수 있다. 또한, 장식층으로 인해, 터치스크린 패널의 두께가 필요 이상으로 두껍게 형성되는 어려움이 야기될 수 있다. 최근에는 휴대용 모바일 기기의 용도가 확대됨에 따라, 얇은 두께 뿐만 아니라 넓은 디스플레이 화면이 요청되고 있다. 따라서, 근래 들어서는 상술한 베젤 영역을 감소시켜 디스플레이 화면의 면적을 증가시키는 기술이 등장하고 있다.In addition, in the conventional touch screen, a decorative layer is disposed in a bezel area (i.e., a wiring area) which is an outer area to cover the wiring layer below. In the wiring region, a non-transmissive metal layer can only be applied as a wiring layer for fast signal transmission, and thus a decorative layer is required to cover the non-transmissive metal layer. As described above, the decorative layer is disposed in the wiring area except for the window area of the touch screen panel, which may cause the area of the display screen to be reduced. In addition, the decorative layer can generate a level difference between the window region and the wiring region by the height of the decorative layer, thereby preventing formation of a transparent electrode layer having a uniform thickness. Further, due to the decorative layer, the thickness of the touch screen panel may be formed to be thicker than necessary. In recent years, as the use of portable mobile devices has expanded, a thin display screen as well as a thin thickness has been demanded. Accordingly, in recent years, techniques for increasing the area of the display screen by reducing the bezel area have emerged.

본 출원은, 윈도우 영역 및 배선 영역에 투광성 도전층을 가지는 터치스크린 패널 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.The present application provides a touch screen panel having a transmissive conductive layer in a window region and a wiring region, and a manufacturing method thereof.

본 출원은, 배선 영역에 형성되는 장식층을 제외시켜 디스플레이 화면의 면적을 증가시키는 윈도우 일체형 터치스크린 패널 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.The present application provides a window-integrated touch screen panel that increases the area of a display screen by excluding a decorative layer formed in a wiring area and a method of manufacturing the same.

본 출원의 일 측면에 따르는 윈도우 일체형 터치스크린 패널이 제공된다. 상기 터치스크린 패널은 터치 기판, 상기 터치 기판의 윈도우 영역 및 배선 영역에 배치되는 투명 전극 구조물을 포함한다. 상기 투명 전극 구조물은 투명 전도성 산화물층 및 금속층을 포함한다.There is provided a window-integrated touch screen panel according to an aspect of the present application. The touch screen panel includes a touch substrate, a window region of the touch substrate, and a transparent electrode structure disposed in the wiring region. The transparent electrode structure includes a transparent conductive oxide layer and a metal layer.

일 실시 예에 있어서, 상기 투명 전극 구조물은 제1 투명 전도성 산화물층, 금속층 및 제2 투명 전도성 산화물층이 순차적으로 적층된 복층 구조물이다.In one embodiment, the transparent electrode structure is a multi-layer structure in which a first transparent conductive oxide layer, a metal layer, and a second transparent conductive oxide layer are sequentially stacked.

다른 실시 예에 있어서, 상기 투명 전도성 산화물층은 인듐 주석 산화물 (ITO, indium tin oxide), 비소 주석 산화물 (ATO, antimony tin oxide), 불소 함유 주석 산화물 (FTO, fluorine-doped tin oxide) 및 아연 주석 산화물 (ZTO, zinc tin oxide)을 포함하는 그룹에서 선택된 어느 하나이다.In another embodiment, the transparent conductive oxide layer may comprise at least one of indium tin oxide (ITO), antimony tin oxide (ATO), fluorine-doped tin oxide (FTO) Oxide (ZTO, zinc tin oxide).

다른 실시 예에 있어서, 상기 금속층은 금, 은, 백금, 팔라듐, 알루미늄, 구리, 니켈 및 주석으로 이루어진 그룹에서 선택된 어느 하나를 포함한다.In another embodiment, the metal layer comprises any selected from the group consisting of gold, silver, platinum, palladium, aluminum, copper, nickel and tin.

다른 실시 예에 있어서, 상기 투명 전도성 산화물층 및 상기 금속층은 동일한 길이 및 폭을 가진다.In another embodiment, the transparent conductive oxide layer and the metal layer have the same length and width.

다른 실시 예에 있어서, 상기 투명 전극 구조물은 상기 윈도우 영역 및 상기 배선 영역에서 상기 터치 기판 상에 직접 배치되며, 상기 터치 기판의 상기 배선 영역에는 장식층이 배치되지 않는다.In another embodiment, the transparent electrode structure is disposed directly on the touch substrate in the window region and the wiring region, and the decorative layer is not disposed in the wiring region of the touch substrate.

본 출원의 다른 측면에 따르는 윈도우 일체형 터치스크린 패널의 제조 방법이 제공된다. 상기 터치스크린 패널의 제조 방법에 있어서, 먼저, 터치 기판을 준비한다. 상기 터치 기판의 윈도우 영역 및 배선 영역에 투명 전극 구조물을 형성한다. 상기 투명 전극 구조물을 형성하는 공정은 먼저, 상기 터치 기판 상에 제1 투명 전도성 산화막, 금속막, 및 제2 투명 전도성 산화막을 순차적으로 형성한다. 그리고, 상기 제1 투명 전도성 산화막, 상기 금속막, 및 제2 투명 전도성 산화막을 패터닝하여, 제1 투명 전도성 산화물층, 금속층 및 제2 투명 전도성 산화물층을 상기 터치 기판 상에 형성한다.There is provided a method of manufacturing a window-integrated touch screen panel according to another aspect of the present application. In the method of manufacturing the touch screen panel, first, a touch substrate is prepared. A transparent electrode structure is formed in the window region and the wiring region of the touch substrate. In the process of forming the transparent electrode structure, a first transparent conductive oxide film, a metal film, and a second transparent conductive oxide film are sequentially formed on the touch substrate. The first transparent conductive oxide layer, the metal layer, and the second transparent conductive oxide layer are formed on the touch substrate by patterning the first transparent conductive oxide layer, the metal layer, and the second transparent conductive oxide layer.

일 실시 예에 있어서, 상기 제1 투명 전도성 산화막, 상기 금속막 및 상기 제2 투명 전도성 산화막을 순차적으로 형성하는 과정은 스퍼터링법에 의한 박막 증착법으로 진행된다.In one embodiment, the process of sequentially forming the first transparent conductive oxide film, the metal film, and the second transparent conductive oxide film is performed by a thin film deposition method by a sputtering method.

다른 실시 예에 있어서, 상기 제1 투명 전도성 산화막, 상기 금속막 및 상기 제2 투명 전도성 산화막을 패터닝하는 과정은 먼저, 포토리소그래피법에 의하여 상기 터치 기판 상에 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고, 상기 포토레지스트 패턴을 마스크로 하여, 상기 제1 투명 전도성 산화막, 상기 금속막 및 상기 제2 투명 전도성 산화막을 순차적으로 식각한다.In another embodiment, the process of patterning the first transparent conductive oxide film, the metal film, and the second transparent conductive oxide film includes forming a photoresist pattern on the touch substrate by photolithography. The first transparent conductive oxide film, the metal film, and the second transparent conductive oxide film are sequentially etched using the photoresist pattern as a mask.

본 출원의 일 실시 예에 의하면, 윈도우 일체형 터치스크린 패널은 윈도우 영역 및 배선 영역에 걸쳐 투명 전극 구조물을 가진다. 즉, 윈도우 영역의 투명 전도성 전극 및 배선 영역의 금속 배선층을 동일한 재료의 투명 전극 구조물로 형성한다. 종래의 금속 배선층의 경우, 비투광성 금속층을 적용함으로써 배선 영역인 베젤부에 별도의 장식층이 요구되어지는데, 본 출원의 실시 예에 따르면, 금속 배선층을 투광성 전극 구조물로 형성함으로써, 베젤부에 장식층을 생략할 수 있는 장점이 있다. 따라서, 터치스크린 패널의 화면 면적을 증가시킬 수 있으며, 종래의 장식층에 의해 야기되었던 윈도우 영역과 배선 영역 간의 높이 단차를 해소할 수 있다.According to one embodiment of the present application, a window-integrated touch screen panel has a transparent electrode structure over a window region and a wiring region. That is, the transparent conductive electrode of the window region and the metal wiring layer of the wiring region are formed of a transparent electrode structure of the same material. In the case of the conventional metal wiring layer, a decorative layer is required in the bezel portion as a wiring region by applying a non-light-permeable metal layer. According to the embodiment of the present application, by forming the metal wiring layer as a translucent electrode structure, There is an advantage that the layer can be omitted. Accordingly, the screen area of the touch screen panel can be increased, and the height difference between the window area and the wiring area, which has been caused by the conventional decorative layer, can be eliminated.

본 출원의 일 실시 예에 의하면, 윈도우 영역 및 배선 영역에 동일한 재료의 투명 전극 구조물을 동일 공정 단계에서 형성할 수 있다. 종래의 경우, 윈도우 영역의 투명 전도성 전극과 배선 영역의 비투광성 금속 배선층을 별도의 공정 단계에서 각각 제조하였는데, 본 출원의 실시 예에 의하면, 윈도우 영역 및 배선 영역에서 투명 전극 구조물을 일괄적으로 패터닝함으로써, 공정을 단순화시킬 수 있는 장점이 있다.According to one embodiment of the present application, a transparent electrode structure of the same material can be formed in the same process step in the window region and the wiring region. In the conventional case, the transparent conductive electrode of the window region and the non-transparent metal wiring layer of the wiring region are respectively formed in separate process steps. According to the embodiment of the present application, the transparent electrode structure is collectively patterned Thereby, there is an advantage that the process can be simplified.

도 1은 본 출원의 일 실시 예에 따르는 윈도우 일체형 터치스크린 패널을 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 2는 본 출원의 다른 실시 예에 따르는 윈도우 일체형 터치스크린 패널을 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 출원의 다른 실시 예에 따르는 윈도우 일체형 터치스크린?패널을 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 4 내지 도 6은 본 출원의 일 실시 예에 따르는 윈도우 일체형 터치스크린 패널의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 7 내지 도 9는 본 출원의 다른 실시 예에 따르는 윈도우 일체형 터치스크린 패널의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 도면이다.1 is a cross-sectional view schematically illustrating a window-integrated touch screen panel according to an embodiment of the present application.
2 is a cross-sectional view schematically illustrating a window-integrated touch screen panel according to another embodiment of the present application.
3 is a cross-sectional view schematically illustrating a window-integrated touch screen panel according to another embodiment of the present application.
4 to 6 are views schematically showing a method of manufacturing a window-integrated touch screen panel according to an embodiment of the present application.
7 to 9 are views schematically showing a method of manufacturing a window-integrated touch screen panel according to another embodiment of the present application.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 출원의 실시 예들을 보다 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 본 출원에 개시된 기술은 여기서 설명되는 실시 예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 단지, 여기서 소개되는 실시 예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 출원의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다. 도면에서 각 장치의 구성요소를 명확하게 표현하기 위하여 상기 구성요소의 폭이나 두께 등의 크기를 다소 확대하여 나타내었다. 또한, 설명의 편의를 위하여 구성요소의 일부만을 도시하기도 하였으나, 당업자라면 구성요소의 나머지 부분에 대하여도 용이하게 파악할 수 있을 것이다. 전체적으로 도면 설명시 관찰자 시점에서 설명하였고, 일 요소가 다른 요소 위 또는 아래에 위치하는 것으로 언급되는 경우, 이는 상기 일 요소가 다른 요소 위 또는 아래에 바로 위치하거나 또는 그들 요소들 사이에 추가적인 요소가 개재될 수 있다는 의미를 모두 포함한다. 또한, 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 출원의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 출원의 사상을 다양한 다른 형태로 구현할 수 있을 것이다. 그리고, 복수의 도면들 상에서 동일 부호는 실질적으로 서로 동일한 요소를 지칭한다. Embodiments of the present application will now be described in more detail with reference to the accompanying drawings. However, the techniques disclosed in this application are not limited to the embodiments described herein but may be embodied in other forms. It should be understood, however, that the embodiments disclosed herein are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. In the drawings, the width, thickness, and the like of the components are enlarged in order to clearly illustrate the components of each device. In addition, although only a part of the components is shown for convenience of explanation, those skilled in the art can easily grasp the rest of the components. It is to be understood that when an element is described above as being located above or below another element, it is to be understood that the element may be directly on or under another element, It means that it can be done. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the invention. In the drawings, the same reference numerals denote substantially the same elements.

한편, 본 출원에서 서술되는 용어의 의미는 다음과 같이 이해되어야 할 것이다. “제1 ” 또는 “제2 ” 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위한 것으로 이들 용어들에 의해 권리범위가 한정되어서는 아니 된다. 예를 들어, 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수도 있다.Meanwhile, the meaning of the terms described in the present application should be understood as follows. The terms " first " or " second " and the like are intended to distinguish one element from another and should not be limited by these terms. For example, the first component may be referred to as a second component, and similarly, the second component may also be referred to as a first component.

또, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함하는 것으로 이해되어야 하고, “포함하다” 또는 “가지다”등의 용어는 기술되는 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.Also, the singular " include " should be understood to include plural representations unless the context clearly dictates otherwise, and the terms " comprises " Parts or combinations thereof, and does not preclude the presence or addition of one or more other features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

또, 방법 또는 제조 방법을 수행함에 있어서, 상기 방법을 이루는 각 과정들은 문맥상 명백하게 특정 순서를 기재하지 않은 이상 명기된 순서와 다르게 일어날 수 있다. 즉, 각 과정들은 명기된 순서와 동일하게 일어날 수도 있고 실질적으로 동시에 수행될 수도 있으며 반대의 순서대로 수행될 수도 있다.Further, in carrying out the method or the manufacturing method, each of the steps constituting the above method may occur differently from the stated order unless clearly specified in the context. That is, each process may occur in the same order as described, may be performed substantially concurrently, or may be performed in the opposite order.

본 명세서에서 기술하고 있는 "윈도우 영역"은 터치스크린 패널에서 사용자가 특정 기능의 구현을 위해 터치하는 영역을 의미한다. "배선 영역"은 "윈도우 영역"에서 감지된 전하 등의 정전 신호를 외부의 칩으로 전달하는 영역으로서, 일반적으로 비투광성 금속 배선이 위치하는 영역을 의미한다.
As used herein, the term "window area" refers to an area that the user touches to implement a specific function in the touch screen panel. The "wiring region" refers to a region where an electrostatic signal such as a charge sensed in the "window region " is transmitted to an external chip, and generally refers to a region where a non-conductive metal wiring is located.

도 1은 본 출원의 일 실시 예에 따르는 윈도우 일체형 터치스크린 패널을 개략적으로 나타내는 단면도이다. 구체적으로 도 1의 (a)는 윈도우 일체형 터치스크린 패널의 단면도이며, 도 1의 (b)는 윈도우 일체형 터치스크린 패널의 개략적인 단면도이다. 도 1의 (a) 및 (b)를 참조하면, 윈도우 일체형 터치스크린 패널(100)은 터치 기판(110) 및 터치 기판(110) 상에 배치되는 투명 전극 구조물(120)을 포함한다. 터치 기판(110)은 사용자의 터치를 위한 윈도우 영역(10)과 윈도우 영역(10)의 외곽부의 베젤부에 해당되는 배선 영역(20)을 포함한다. 터치 기판(110)은 일 예로서, 알루미노 규산염 (alumino silicate) 또는 소다 석회 (soda lime)를 포함하는 글라스 기판일 수 있다.1 is a cross-sectional view schematically illustrating a window-integrated touch screen panel according to an embodiment of the present application. 1 (a) is a cross-sectional view of a window-integrated touchscreen panel, and FIG. 1 (b) is a schematic cross-sectional view of a window-integrated touchscreen panel. 1 (a) and 1 (b), a window-integrated touch screen panel 100 includes a touch substrate 110 and a transparent electrode structure 120 disposed on the touch substrate 110. The touch substrate 110 includes a window region 10 for a user's touch and a wiring region 20 corresponding to a bezel portion of an outer frame portion of the window region 10. The touch substrate 110 may be, for example, a glass substrate including alumino silicate or soda lime.

투명 전극 구조물(120)은 윈도우 영역(10) 및 배선 영역(20) 모두에 배치되며, 윈도우 영역(10)에서는 투명 전극층으로서 기능하고, 배선 영역(20)에서는 상기 투명 전극에서 발생한 전기적 신호를 외부의 칩으로 전달하는 배선층으로 기능한다. 투명 전극 구조물(120)은 제1 투명 전도성 산화물층(122), 금속층(124) 및 제2 투명 전도성 산화물층(126)을 포함할 수 있다. 일 실시 예에 의하면, 제1 투명 전도성 산화물층(122), 금속층(124) 및 제2 투명 전도성 산화물층(126)은 동일한 길이 및 폭을 가지도록 패터닝될 수 있다. 투광성을 가지는 제1 투명 전도성 산화물층(122) 또는 제2 투명 전도성 산화물층(126)은 인듐 주석 산화물 (ITO, indium tin oxide), 비소 주석 산화물 (ATO, antimony tin oxide), 불소 함유 주석 산화물 (FTO, fluorine-doped tin oxide) 또는 아연 주석 산화물 (ZTO, zinc tin oxide)을 포함할 수 있다. 제1 투명 전도성 산화물층(122) 또는 제2 투명 전도성 산화물층은 약 150 내지 450 Å의 두께를 가질 수 있다. The transparent electrode structure 120 is disposed in both the window region 10 and the wiring region 20 and functions as a transparent electrode layer in the window region 10 and an electrical signal generated in the transparent electrode in the wiring region 20 As shown in Fig. The transparent electrode structure 120 may include a first transparent conductive oxide layer 122, a metal layer 124, and a second transparent conductive oxide layer 126. According to one embodiment, the first transparent conductive oxide layer 122, the metal layer 124, and the second transparent conductive oxide layer 126 may be patterned to have the same length and width. The first transparent conductive oxide layer 122 or the second transparent conductive oxide layer 126 having light transparency may be formed of indium tin oxide (ITO), antimony tin oxide (ATO), fluorine-containing tin oxide Fluorine-doped tin oxide (FTO), or zinc tin oxide (ZTO). The first transparent conductive oxide layer 122 or the second transparent conductive oxide layer may have a thickness of about 150 to 450 ANGSTROM.

금속층(124)는 제1 투명 전도성 산화물층(122) 및 제2 투명 전도성 산화물층(126) 사이에 배치될 수 있다. 금속층(124)은 일 예로서, 금, 은, 백금, 팔라듐, 알루미늄, 구리, 니켈, 또는 주석을 포함하는 박막층일 수 있다. 금속층(124)은 일 예로서, 50 내지 150 Å의 얇은 두께를 가짐으로써, 투광성을 가질 수 있다. The metal layer 124 may be disposed between the first transparent conductive oxide layer 122 and the second transparent conductive oxide layer 126. The metal layer 124 may be, for example, a thin film layer containing gold, silver, platinum, palladium, aluminum, copper, nickel, or tin. The metal layer 124 may have a light transmittance, for example, by having a thin thickness of 50 to 150 ANGSTROM.

투명 전극 구조물(120)은 상술한 바와 같이, 투광성을 가지는 제1 투명 전도성 산화물층(122), 금속층(124) 및 제2 투명 전도성 산화물층(126)의 적층 구조를 가지며, 일 예로서, 350 내지 1050Å의 두께에서 10 ohm/□ 이하의 낮은 면저항을 가질 수 있다. 투명 전극 구조물(120)이 소정의 두께에서 낮은 면저항과 투광성을 가짐으로써, 투명 전극 구조물(120)은 터치스크린 패널(100)의 윈도우 영역(10)의 투명 전극층과 배선 영역(20)의 상기 배선층으로서 기능할 수 있다. 또한, 투명 전극 구조물(120)이 상기 배선층으로 기능할 때 투광성을 가짐으로써, 배선 영역(20)에서 터치 기판(110)과 투명 전극 구조물(120) 사이에 장식층을 배치하지 않을 수 있다. The transparent electrode structure 120 has a laminated structure of the first transparent conductive oxide layer 122, the metal layer 124, and the second transparent conductive oxide layer 126 having light transmissivity as described above. For example, 350 / RTI > to 10 < RTI ID = 0.0 > ohms / square. ≪ / RTI > The transparent electrode structure 120 is formed on the transparent electrode layer of the window region 10 of the touch screen panel 100 and the wiring layer 20 of the wiring region 20 by the transparent electrode structure 120 having a low thickness and transparency at a predetermined thickness, As shown in Fig. In addition, when the transparent electrode structure 120 functions as the wiring layer, the decorative layer may not be disposed between the touch substrate 110 and the transparent electrode structure 120 in the wiring region 20.

상술한 바와 같이, 본 출원의 일 실시 예에 의하면, 윈도우 일체형 터치스크린 패널은 윈도우 영역 및 배선 영역에 걸쳐 투명 전극 구조물을 가진다. 즉, 윈도우 영역의 투명 전도성 전극 및 배선 영역의 금속 배선층을 동일한 재료의 투명 전극 구조물로 형성한다. 종래의 금속 배선층의 경우, 비투광성 금속층을 적용함으로써 배선 영역인 베젤부에 별도의 장식층이 요구되어지는데, 본 출원의 실시 예에 따르면, 금속 배선층을 투광성 전극 구조물로 형성함으로써, 베젤부에 장식층을 생략할 수 있는 장점이 있다. 따라서, 터치스크린 패널의 화면 면적을 증가시킬 수 있으며, 종래의 장식층에 의해 야기되었던 윈도우 영역과 배선 영역 간의 높이 단차를 해소할 수 있다.As described above, according to one embodiment of the present application, a window-integrated touch screen panel has a transparent electrode structure over a window region and a wiring region. That is, the transparent conductive electrode of the window region and the metal wiring layer of the wiring region are formed of a transparent electrode structure of the same material. In the case of the conventional metal wiring layer, a decorative layer is required in the bezel portion as a wiring region by applying a non-light-permeable metal layer. According to the embodiment of the present application, by forming the metal wiring layer as a translucent electrode structure, There is an advantage that the layer can be omitted. Accordingly, the screen area of the touch screen panel can be increased, and the height difference between the window area and the wiring area, which has been caused by the conventional decorative layer, can be eliminated.

도 2는 본 출원의 다른 실시 예에 따르는 윈도우 일체형 터치스크린 패널을 개략적으로 나타내는 단면도이다. 구체적으로 도 2의 (a)는 윈도우 일체형 터치스크린 패널의 단면도이며, 도 2의 (b)는 윈도우 일체형 터치스크린 패널의 개략적인 단면도이다. 도 2의 (a) 및 (b)를 참조하면, 윈도우 일체형 터치스크린 패널(200)은 터치 기판(210) 및 터치 기판(210) 상에 배치되는 투명 전극 구조물(220)을 포함한다. 투명 전극 구조물(220)은 제1 투명 전도성 산화물층(222), 금속층(224) 및 제2 투명 전도성 산화물층(226)을 포함할 수 있다. 도 2의 윈도우 일체형 터치스크린 패널(200)은 배선 영역(20)에서 터치 기판(210)과 투명 전극 구조물(220) 사이에 장식층(230)이 배치되는 구성을 제외하고는 도 1의 윈도우 일체형 터치스크린 패널(100)의 구성과 실질적으로 동일하다. 즉, 터치 기판(210) 및 투명 전극 구조물(220)의 구성은 터치 기판(110) 및 투명 전극 구조물(120)의 구성과 실질적으로 동일하며 따라서, 중복을 배제하기 위해 상세한 설명은 생략하기로 한다.2 is a cross-sectional view schematically illustrating a window-integrated touch screen panel according to another embodiment of the present application. 2 (a) is a cross-sectional view of a window-integrated touch screen panel, and FIG. 2 (b) is a schematic cross-sectional view of a window-integrated touch screen panel. 2A and 2B, a window-integrated touch screen panel 200 includes a touch substrate 210 and a transparent electrode structure 220 disposed on the touch substrate 210. The transparent electrode structure 220 may include a first transparent conductive oxide layer 222, a metal layer 224, and a second transparent conductive oxide layer 226. The window-integrated touch screen panel 200 of FIG. 2 is similar to the window integral type display of FIG. 1 except that the decorative layer 230 is disposed between the touch substrate 210 and the transparent electrode structure 220 in the wiring region 20. FIG. Which is substantially the same as the configuration of the touch screen panel 100. That is, the structures of the touch substrate 210 and the transparent electrode structure 220 are substantially the same as those of the touch substrate 110 and the transparent electrode structure 120, and therefore, a detailed description thereof will be omitted .

도 2를 참조하면, 투광성을 가지는 투명 전극 구조물(220)은 윈도우 영역(10)의 투명 전도성 전극 및 배선 영역(20)의 금속 배선층으로 적용될 수 있으며, 따라서, 전극 형성 공정에 있어서 공정 단순화를 이룰 수 있는 장점이 있다.2, the transparent electrode structure 220 having a light-transmitting property can be applied to the transparent conductive electrode of the window region 10 and the metal wiring layer of the wiring region 20. Accordingly, in the electrode forming process, There are advantages to be able to.

도 3은 본 출원의 다른 실시 예에 따르는 윈도우 일체형 터치스크린 패널을 개략적으로 나타내는 단면도이다. 구체적으로 도 3의 (a)는 윈도우 일체형 터치스크린 패널의 단면도이며, 도 3의 (b)는 윈도우 일체형 터치스크린 패널의 개략적인 단면도이다. 도 3의 (a) 및 (b)를 참조하면, 윈도우 일체형 터치스크린 패널(300)은 터치 기판(310) 및 터치 기판(310) 상에 배치되는 투명 전극 구조물(320)을 포함한다. 투명 전극 구조물(320)은 제1 투명 전도성 산화물층(322), 금속층(324) 및 제2 투명 전도성 산화물층(326)을 포함할 수 있다. 도 3의 윈도우 일체형 터치스크린 패널(300)은 터치 기판(310)이 불투광성 재질로 이루어진 것을 제외하고는 도 1의 윈도우 일체형 터치스크린 패널(100)의 구성과 실질적으로 동일하다. 즉, 투명 전극 구조물(320)의 구성은 투명 전극 구조물(120)의 구성과 실질적으로 동일하며 따라서, 중복을 배제하기 위해 상세한 설명은 생략하기로 한다. 도 3을 참조하면, 불투광성의 터치 기판(310) 상에 다양한 형태의 기능키를 배치할 수 있으며, 사용자의 터치에 따라, 투명 전극 구조물(320)이 윈도우 영역(10)에서 정전 신호를 발생시키고, 배선 영역(20)에서 발생된 정전 신호를 전달할 수 있다.3 is a cross-sectional view schematically illustrating a window-integrated touch screen panel according to another embodiment of the present application. 3 (a) is a cross-sectional view of a window-integrated touchscreen panel, and FIG. 3 (b) is a schematic cross-sectional view of a window-integrated touchscreen panel. Referring to FIGS. 3A and 3B, the window-integrated touch screen panel 300 includes a touch substrate 310 and a transparent electrode structure 320 disposed on the touch substrate 310. The transparent electrode structure 320 may include a first transparent conductive oxide layer 322, a metal layer 324, and a second transparent conductive oxide layer 326. The window-integrated touch screen panel 300 of FIG. 3 is substantially the same as the configuration of the window-integrated touch screen panel 100 of FIG. 1 except that the touch substrate 310 is made of an opaque material. That is, the structure of the transparent electrode structure 320 is substantially the same as the structure of the transparent electrode structure 120, and therefore, a detailed description thereof will be omitted in order to avoid overlapping. 3, various types of function keys can be disposed on the opaque touch substrate 310, and the transparent electrode structure 320 generates an electrostatic signal in the window region 10 according to a user's touch And can transmit the electrostatic signal generated in the wiring region 20.

도 4 내지 도 6은 본 출원의 일 실시 예에 따르는 윈도우 일체형 터치스크린 패널의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 도면이다. 도 4를 참조하면, 터치 기판(110)을 준비한다. 터치 기판(110)은 투광성을 가질 수 있으며, 일 예로서, 알루미노 규산염 (alumino silicate) 또는 소다 석회 (soda lime)를 포함하는 글라스 기판일 수 있다. 다르게는 터치 기판(110)은 불투광성을 가질 수 있다. 터치 기판(110)에는 일 예로서, 인쇄 패턴이 형성될 수 있다.4 to 6 are views schematically showing a method of manufacturing a window-integrated touch screen panel according to an embodiment of the present application. Referring to FIG. 4, a touch substrate 110 is prepared. The touch substrate 110 may have a light transmitting property, and may be, for example, a glass substrate including alumino silicate or soda lime. Alternatively, the touch substrate 110 may be opaque. As an example, a print pattern may be formed on the touch substrate 110.

도 5를 참조하면, 터치 기판(110) 상에 제1 투명 전도성 산화막(121), 금속막(123) 및 제2 투명 전도성 산화막(125)를 순차적으로 형성한다. 제1 투명 전도성 산화막(121), 금속막(123) 및 제2 투명 전도성 산화막(125)은 스퍼터링법에 의한 박막 증착법으로 진행될 수 있다. 상기 스퍼터링법은 충분한 저온 공정으로 진행될 수 있어서, 터치 기판(110)의 열적 변형을 방지할 수 있다. 일 예로서, 터치 기판(110)이 불투광성 폴리머 성분이거나, 터치 기판(110)에 인쇄 패턴이 형성된 경우에도, 터치 기판(110)의 열적 변형 또는 터치 기판(110) 상에 형성된 유기 인쇄 패턴의 아웃 개싱(outgassing)없이, 상기 스퍼터링법에 의하여 제1 투명 전도성 산화막(121), 금속막(123) 및 제2 투명 전도성 산화막(125)를 형성할 수 있다. Referring to FIG. 5, a first transparent conductive oxide film 121, a metal film 123, and a second transparent conductive oxide film 125 are sequentially formed on a touch substrate 110. The first transparent conductive oxide film 121, the metal film 123, and the second transparent conductive oxide film 125 may be formed by a thin film deposition method by a sputtering method. The sputtering process can be performed at a sufficiently low temperature so that thermal deformation of the touch substrate 110 can be prevented. For example, even if the touch substrate 110 is an opaque polymer component or a printed pattern is formed on the touch substrate 110, the thermal deformation of the touch substrate 110 or the thermal deformation of the organic print pattern formed on the touch substrate 110 The first transparent conductive oxide film 121, the metal film 123 and the second transparent conductive oxide film 125 can be formed by the sputtering method without outgassing.

제1 투명 전도성 산화막(121) 및 제2 투명 전도성 산화막(125)은 인듐 주석 산화물 (ITO, indium tin oxide), 비소 주석 산화물 (ATO, antimony tin oxide), 불소 함유 주석 산화물 (FTO, fluorine-doped tin oxide) 또는 아연 주석 산화물 (ZTO, zinc tin oxide)을 포함할 수 있다. 제1 투명 전도성 산화물층(122) 및 제2 투명 전도성 산화물층은 약 150 내지 450 Å의 두께를 가지도록 형성할 수 있다. The first transparent conductive oxide layer 121 and the second transparent conductive oxide layer 125 may be formed of indium tin oxide (ITO), antimony tin oxide (ATO), fluorine-doped oxide (FTO) tin oxide, or zinc tin oxide (ZTO). The first transparent conductive oxide layer 122 and the second transparent conductive oxide layer may be formed to have a thickness of about 150 to 450 ANGSTROM.

금속막(123)은 일 예로서, 금, 은, 백금, 팔라듐, 알루미늄, 구리, 니켈, 또는 주석을 포함하는 박막일 수 있다. 금속막(123)은 일 예로서, 50 내지 150 Å의 얇은 두께를 가짐으로써, 투광성을 가지도록 형성할 수 있다. The metal film 123 may be, for example, a thin film containing gold, silver, platinum, palladium, aluminum, copper, nickel, or tin. The metal film 123 may be formed to have a light transmittance, for example, by having a thin thickness of 50 to 150 ANGSTROM.

도 6을 참조하면, 제1 투명 전도성 산화막(121), 금속막(123) 및 제2 투명 전도성 산화막(125)을 패터닝하여, 제1 투명 전도성 산화물층(122), 금속층(124) 및 제2 투명전도성 산화막층(126)을 터치 기판(110) 상에 형성한다. 구체적으로, 일 실시 예에 있어서, 먼저, 포토리소그래피법에 의하여 터치 기판(110) 상에 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고, 상기 포토레지스트 패턴을 마스크로 사용하여, 제1 투명 전도성 산화막(121), 금속막(123) 및 제2 투명 전도성 산화막(125)을 순차적으로 식각한다. 이에 의하여, 윈도우 영역(10)에 투명 전극층으로 기능하고, 배선 영역(20)에는 배선층으로 기능하는 제1 투명 전도성 산화물층(122), 금속층(124) 및 제2 투명전도성 산화막층(126)을 포함하는 투명 전극 구조물(120)을 형성할 수 있다.6, the first transparent conductive oxide layer 121, the metal layer 123 and the second transparent conductive oxide layer 125 are patterned to form the first transparent conductive oxide layer 122, the metal layer 124, A transparent conductive oxide layer 126 is formed on the touch substrate 110. Specifically, in one embodiment, first, a photoresist pattern is formed on the touch substrate 110 by photolithography. Then, the first transparent conductive oxide film 121, the metal film 123, and the second transparent conductive oxide film 125 are sequentially etched using the photoresist pattern as a mask. A first transparent conductive oxide layer 122, a metal layer 124, and a second transparent conductive oxide layer 126 functioning as a wiring layer function as a transparent electrode layer in the window region 10, The transparent electrode structure 120 may be formed.

상술한 바와 같이, 본 출원의 일 실시 예에 의하면, 윈도우 영역 및 배선 영역에 동일한 재료의 투명 전극 구조물을 동일 공정 단계에서 형성할 수 있다. 종래의 경우, 윈도우 영역의 투명 전도성 전극과 배선 영역의 비투광성 금속 배선층을 별도의 공정 단계에서 각각 제조하였는데, 본 출원의 실시 예에 의하면, 윈도우 영역 및 배선 영역에서 투명 전극 구조물을 일괄적으로 패터닝함으로써, 공정을 단순화시킬 수 있는 장점이 있다. 또한, 본 출원의 일 실시 예에서는 배선 영역에서 터치 기판과 배선층 사이에 장식층을 형성하는 것을 생략할 수 있어서, 윈도우 영역과 배선 영역 사이의 높이 단차를 발생시키지 않을 수 있으며, 디스플레이 화면의 면적을 증가시킬 수 있는 장점이 있다.As described above, according to one embodiment of the present application, a transparent electrode structure of the same material can be formed in the same process step in the window region and the wiring region. In the conventional case, the transparent conductive electrode of the window region and the non-transparent metal wiring layer of the wiring region are respectively formed in separate process steps. According to the embodiment of the present application, the transparent electrode structure is collectively patterned Thereby, there is an advantage that the process can be simplified. In addition, in the embodiment of the present application, it is possible to omit the formation of the decorative layer between the touch substrate and the wiring layer in the wiring region, so that the height difference between the window region and the wiring region can be avoided, There is an advantage that it can be increased.

도 7 내지 도 9는 본 출원의 다른 실시 예에 따르는 윈도우 일체형 터치스크린 패널의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 도면이다. 도 7을 참조하면, 터치 기판(210)을 준비한다. 터치 기판(210)은 투광성을 가질 수 있으며, 일 예로서, 글라스 기판일 수 있다. 다르게는 터치 기판(210)은 불투광성을 가질 수 있다. 터치 기판(210)에는 일 예로서, 인쇄 패턴이 형성될 수 있다.7 to 9 are views schematically showing a method of manufacturing a window-integrated touch screen panel according to another embodiment of the present application. Referring to FIG. 7, a touch substrate 210 is prepared. The touch substrate 210 may have a light-transmitting property, and may be, for example, a glass substrate. Alternatively, the touch substrate 210 may be opaque. A print pattern may be formed on the touch substrate 210 as an example.

도 7을 다시 참조하면, 터치 기판(210)의 배선 영역(20)에 장식층(230)을 형성한다. 장식층(230)은 일 예로서, 인쇄법에 의하여 패턴 형태로 형성될 수 있다. 다르게는 장식층(230)은 일 예로서, 코팅법 또는 증착법에 의하여 박막 형태로 증착되고, 리소그래피법 및 식각법을 적용하여 패터닝되어 형성될 수 있다. 장식층(230)은 일 예로서, 폴리에스터 또는 에폭시 수지와 특정 색상 구현을 위한 안료 (pigment)의 혼합물일 수 있다. 일반적으로 데코레이션 층은 검은색을 많이 사용하였으나, 최근 다양한 색상을 이용하는 제품이 출시되고 있고, 본 발명 또한 특정의 색상에 한정되는 것은 아니다.Referring again to FIG. 7, a decorative layer 230 is formed on the wiring region 20 of the touch substrate 210. The decorative layer 230 may be formed in the form of a pattern by a printing method as an example. Alternatively, the decorative layer 230 may be formed as a thin film by a coating method or a vapor deposition method, and may be formed by patterning using a lithography method and an etching method. The decorative layer 230 may be, for example, a mixture of polyester or epoxy resin and a pigment for a particular color implementation. In general, the decoration layer has used a lot of black, but recently, a product using various colors has been released, and the present invention is not limited to a particular color.

도 8을 참조하면, 장식층(230)이 형성된 터치 기판(210) 상에 제1 투명 전도성 산화막(221), 금속막(223) 및 제2 투명 전도성 산화막(225)를 순차적으로 형성한다. 제1 투명 전도성 산화막(221), 금속막(223) 및 제2 투명 전도성 산화막(225)은 스퍼터링법에 의한 박막 증착법으로 진행될 수 있다. 제1 투명 전도성 산화막(221), 금속막(223) 및 제2 투명 전도성 산화막(225)은 도 4 내지 도 6과 관련되어 상술한 제1 투명 전도성 산화막(121), 금속막(123) 및 제2 투명 전도성 산화막(125)과 실질적으로 동일하므로 중복을 배제하기 위하여 상세한 설명을 생략한다.Referring to FIG. 8, a first transparent conductive oxide film 221, a metal film 223, and a second transparent conductive oxide film 225 are sequentially formed on a touch substrate 210 having a decorative layer 230 formed thereon. The first transparent conductive oxide film 221, the metal film 223, and the second transparent conductive oxide film 225 may be formed by a thin film deposition method by a sputtering method. The first transparent conductive oxide film 221, the metal film 223 and the second transparent conductive oxide film 225 are formed on the first transparent conductive oxide film 121, the metal film 123, 2 transparent conductive oxide film 125, detailed description thereof will be omitted in order to avoid duplication.

도 9를 참조하면, 제1 투명 전도성 산화막(221), 금속막(223) 및 제2 투명 전도성 산화막(225)를 패터닝하여, 제1 투명 전도성 산화물층(222), 금속층(224) 및 제2 투명전도성 산화막층(226)을 터치 기판(210) 상에 형성할 수 있다.9, the first transparent conductive oxide layer 221, the metal layer 223, and the second transparent conductive oxide layer 225 are patterned to form the first transparent conductive oxide layer 222, the metal layer 224, The transparent conductive oxide film layer 226 can be formed on the touch substrate 210.

상술한 바와 같이, 본 출원의 일 실시 예에 의하면, 윈도우 영역 및 배선 영역에 동일한 재료의 투명 전극 구조물을 동일 공정 단계에서 형성할 수 있다. 종래의 경우, 윈도우 영역의 투명 전도성 전극과 배선 영역의 비투광성 금속 배선층을 별도의 공정 단계에서 각각 제조하였는데, 본 출원의 실시 예에 의하면, 윈도우 영역 및 배선 영역에서 투명 전극 구조물을 일괄적으로 패터닝함으로써, 공정을 단순화시킬 수 있는 장점이 있다.As described above, according to one embodiment of the present application, a transparent electrode structure of the same material can be formed in the same process step in the window region and the wiring region. In the conventional case, the transparent conductive electrode of the window region and the non-transparent metal wiring layer of the wiring region are respectively formed in separate process steps. According to the embodiment of the present application, the transparent electrode structure is collectively patterned Thereby, there is an advantage that the process can be simplified.

이상에서는 도면 및 실시 예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 출원의 기술적 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 출원에 개시된 실시예들을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. It can be understood that

100: 터치스크린 패널, 10: 윈도우 영역, 20: 배선 영역,
110: 터치 기판, 120: 투명 전극 구조물,
121: 제1 투명 전도성 산화막, 122: 제1 투명 전도성 산화물층,
123: 금속막, 124: 금속층, 125: 제2 투명 전도성 산화막,
126: 제2 투명 전도성 산화물층, 200: 터치스크린 패널,
210: 터치 기판, 220: 투명 전극 구조물,
230: 장식층,221: 제1 투명 전도성 산화막, 222: 제1 투명 전도성 산화물층,
223: 금속막, 224: 금속층,225: 제2 투명 전도성 산화막,
226: 제2 투명 전도성 산화물층, 300: 터치스크린 패널,
310: 터치 기판, 320: 투명 전극 구조물, 322: 제1 투명 전도성 산화물층,
324: 금속층, 326: 제2 투명 전도성 산화물층.100: touch screen panel, 10: window area, 20: wiring area,
110: touch substrate, 120: transparent electrode structure,
121: first transparent conductive oxide film, 122: first transparent conductive oxide layer,
123: metal film, 124: metal layer, 125: second transparent conductive oxide film,
126: second transparent conductive oxide layer, 200: touch screen panel,
210: touch substrate, 220: transparent electrode structure,
230: decorative layer, 221: first transparent conductive oxide film, 222: first transparent conductive oxide layer,
223: metal film, 224: metal layer, 225: second transparent conductive oxide film,
226: second transparent conductive oxide layer, 300: touch screen panel,
310: touch substrate, 320: transparent electrode structure, 322: first transparent conductive oxide layer,
324: metal layer, 326: second transparent conductive oxide layer.

Claims (17)

터치 기판; 및
상기 터치 기판의 윈도우 영역에 배치되는 투명 전도성 전극 및 배선 영역에 배치되는 금속 배선층으로서 기능하는, 동일 구조의 투명 전극 구조물을 포함하고,
상기 투명 전극 구조물은 투명 전도성 산화물층 및 투광성을 가지도록 두께가 제어되는 금속층을 포함하는
윈도우 일체형 터치스크린 패널.A touch substrate; And
And a transparent electrode structure having the same structure and functioning as a metal wiring layer disposed in a wiring region and a transparent conductive electrode disposed in a window region of the touch substrate,
Wherein the transparent electrode structure includes a transparent conductive oxide layer and a metal layer whose thickness is controlled to have transparency
Windows integrated touch screen panel. 제1 항에 있어서,
상기 투명 전극 구조물은 제1 투명 전도성 산화물층, 금속층 및 제2 투명 전도성 산화물층이 순차적으로 적층된 복층 구조물인
윈도우 일체형 터치스크린 패널.The method according to claim 1,
The transparent electrode structure is a multi-layer structure in which a first transparent conductive oxide layer, a metal layer, and a second transparent conductive oxide layer are sequentially stacked
Windows integrated touch screen panel. 제1 항에 있어서,
상기 투명 전도성 산화물층은 인듐 주석 산화물 (ITO, indium tin oxide), 비소 주석 산화물 (ATO, antimony tin oxide), 불소 함유 주석 산화물 (FTO, fluorine-doped tin oxide) 및 아연 주석 산화물 (ZTO, zinc tin oxide)을 포함하는 그룹에서 선택된 어느 하나인
윈도우 일체형 터치스크린 패널.The method according to claim 1,
The transparent conductive oxide layer may include at least one of indium tin oxide (ITO), antimony tin oxide (ATO), fluorine-doped tin oxide (FTO), and zinc tin oxide oxide). < RTI ID = 0.0 >
Windows integrated touch screen panel. 제1 항에 있어서,
상기 금속층은 금, 은, 백금, 팔라듐, 알루미늄, 구리, 니켈 및 주석으로 이루어진 그룹에서 선택된 어느 하나를 포함하는
윈도우 일체형 터치스크린 패널.The method according to claim 1,
Wherein the metal layer comprises any one selected from the group consisting of gold, silver, platinum, palladium, aluminum, copper, nickel and tin
Windows integrated touch screen panel. 제1 항에 있어서,
상기 투명 전도성 산화물층 및 상기 금속층은 동일한 길이 및 폭을 가지는
윈도우 일체형 터치스크린 패널.The method according to claim 1,
Wherein the transparent conductive oxide layer and the metal layer have the same length and width
Windows integrated touch screen panel. 제1 항에 있어서,
상기 투명 전도성 산화물층은 150 내지 450 Å의 두께를 가지는
윈도우 일체형 터치스크린 패널.The method according to claim 1,
Wherein the transparent conductive oxide layer has a thickness of 150 to 450 ANGSTROM
Windows integrated touch screen panel. 제1 항에 있어서,
상기 금속층은 50 내지 150 Å의 두께를 가지는
윈도우 일체형 터치스크린 패널.The method according to claim 1,
The metal layer has a thickness of 50 to 150 angstroms
Windows integrated touch screen panel. 제1 항에 있어서,
상기 터치 기판은 알루미노 규산염 (alumino silicate) 또는 소다 석회 (soda lime)를 포함하는 글라스 기판인
윈도우 일체형 터치스크린 패널.The method according to claim 1,
The touch substrate may be a glass substrate containing alumino silicate or soda lime.
Windows integrated touch screen panel. 제1 항에 있어서,
상기 터치 기판은 불투광성 기판인
윈도우 일체형 터치스크린 패널The method according to claim 1,
The touch substrate is an opaque substrate
Windows All-in-One Touch Screen Panel 제1 항에 있어서,
상기 투명 전극 구조물은 상기 윈도우 영역 및 상기 배선 영역에서 상기 터치 기판 상에 직접 배치되며,
상기 터치 기판의 베젤부에는 장식층이 배치되지 않는
윈도우 일체형 터치스크린 패널.The method according to claim 1,
Wherein the transparent electrode structure is disposed directly on the touch substrate in the window region and the wiring region,
The decorative layer is not disposed on the bezel portion of the touch substrate
Windows integrated touch screen panel. 터치 기판을 준비하는 단계; 및
상기 터치 기판의 윈도우 영역에 배치되는 투명 전도성 전극 및 배선 영역에 배치되는 금속 배선층으로서, 동일 구조의 투명 전극 구조물을 형성하는 단계를 포함하고,
상기 투명 전극 구조물을 형성하는 단계는
상기 터치 기판 상에 제1 투명 전도성 산화막, 투광성을 가지도록 두께가 제어되는 금속막, 및 제2 투명 전도성 산화막을 순차적으로 형성하는 과정; 및
상기 제1 투명 전도성 산화막, 상기 금속막, 및 제2 투명 전도성 산화막을 패터닝하여, 제1 투명 전도성 산화물층, 금속층 및 제2 투명 전도성 산화물층을 상기 터치 기판 상에 형성하는 과정을 포함하는
윈도우 일체형 터치스크린 패널의 제조 방법.Preparing a touch substrate; And
Forming a transparent electrode structure having the same structure as a metal wiring layer disposed in a transparent conductive electrode and a wiring region disposed in a window region of the touch substrate,
The step of forming the transparent electrode structure
Sequentially forming a first transparent conductive oxide film on the touch substrate, a metal film whose thickness is controlled to have a light transmitting property, and a second transparent conductive oxide film on the touch substrate; And
And forming a first transparent conductive oxide layer, a metal layer, and a second transparent conductive oxide layer on the touch substrate by patterning the first transparent conductive oxide layer, the metal layer, and the second transparent conductive oxide layer,
A method of manufacturing a touch screen panel with a window. 제11 항에 있어서,
상기 제1 투명 전도성 산화막, 상기 금속막 및 상기 제2 투명 전도성 산화막을 순차적으로 형성하는 과정은
스퍼터링법에 의한 박막 증착법으로 진행되는
윈도우 일체형 터치스크린 패널의 제조 방법.12. The method of claim 11,
The process of sequentially forming the first transparent conductive oxide film, the metal film, and the second transparent conductive oxide film
The thin film deposition method by the sputtering method
A method of manufacturing a touch screen panel with a window. 제11 항에 있어서,
상기 제1 투명 전도성 산화막, 상기 금속막 및 상기 제2 투명 전도성 산화막을 패터닝하는 과정은
포토리소그래피법에 의하여 상기 터치 기판 상에 포토레지스트 패턴을 형성하는 과정 및
상기 포토레지스트 패턴을 마스크로 하여, 상기 제1 투명 전도성 산화막, 상기 금속막 및 상기 제2 투명 전도성 산화막을 순차적으로 식각하는 과정을 포함하는
윈도우 일체형 터치스크린 패널의 제조 방법.12. The method of claim 11,
The process of patterning the first transparent conductive oxide film, the metal film, and the second transparent conductive oxide film
Forming a photoresist pattern on the touch substrate by photolithography; and
And sequentially etching the first transparent conductive oxide film, the metal film, and the second transparent conductive oxide film using the photoresist pattern as a mask
A method of manufacturing a touch screen panel with a window. 제11 항에 있어서,
상기 제1 및 제2 투명 전도성 산화막은 인듐 주석 산화물 (ITO, indium tin oxide), 비소 주석 산화물 (ATO, antimony tin oxide), 불소 함유 주석 산화물 (FTO, fluorine-doped tin oxide) 및 아연 주석 산화물 (ZTO, zinc tin oxide)을 포함하는 그룹에서 선택된 어느 하나인
윈도우 일체형 터치스크린 패널의 제조 방법.12. The method of claim 11,
The first and second transparent conductive oxide layers may be formed of at least one of indium tin oxide (ITO), antimony tin oxide (ATO), fluorine-doped tin oxide (FTO), and zinc tin oxide ZTO, zinc tin oxide).
A method of manufacturing a touch screen panel with a window. 제11 항에 있어서,
상기 금속막은 금, 은, 백금, 팔라듐, 알루미늄, 구리, 니켈 및 주석으로 이루어진 그룹에서 선택된 어느 하나를 포함하는
윈도우 일체형 터치스크린 패널의 제조 방법12. The method of claim 11,
Wherein the metal film comprises any one selected from the group consisting of gold, silver, platinum, palladium, aluminum, copper, nickel and tin
Manufacturing Method of Window-Integrated Touch Screen Panel 제11 항에 있어서,
상기 투명 전도성 산화물층은 150 내지 450 Å의 두께를 가지는
윈도우 일체형 터치스크린 패널의 제조 방법.12. The method of claim 11,
Wherein the transparent conductive oxide layer has a thickness of 150 to 450 ANGSTROM
A method of manufacturing a touch screen panel with a window. 제11 항에 있어서,
상기 금속층은 50 내지 150 Å의 두께를 가지는
윈도우 일체형 터치스크린 패널의 제조 방법.
12. The method of claim 11,
The metal layer has a thickness of 50 to 150 angstroms
A method of manufacturing a touch screen panel with a window.
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