KR101366811B1 - Specimen polishing machine - Google Patents

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KR101366811B1
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Abstract

본 발명은 시편 표면 연마 작업 시 시편이 장착된 폴리싱 헤드를 연마하고자 하는 연마 휠 측으로 살짝 밀어 하강시키면 폴리싱 헤드의 하강작동에 의해 자동으로 폴리싱 헤드 및 시편이 연마위치로 이동되게 함으로써, 작업자가 무거운 폴리싱 헤드를 직접 연마위치까지 안내해야만 하는 번거로움을 해결할 수 있는 시편 연마장치에 관한 것으로, 수평한 원판 형상을 가지며 나란하게 배치되는 제 1, 제 2 연마 휠; 제 1, 및 제 2 연마 휠 사이에 배치되고, 표면을 연마할 시편을 제 1, 및 제 2 연마 휠에 연속되게 번갈아 가압 회전시켜 시편의 표면 연마를 수행하는 폴리싱 헤드; 및 연마 작업을 위해 제 1 연마 휠 또는 제 2 연마 휠 측으로 회전된 폴리싱 헤드의 하강 작동 시 폴리싱 헤드를 제 1, 또는 제 2 연마 휠의 연마위치로 안내하는 연마위치 안내수단;을 포함한다. According to the present invention, when the polishing surface on which the specimen is mounted is gently pushed down toward the polishing wheel to be polished during the polishing of the specimen surface, the polishing head and the specimen are automatically moved to the polishing position by the lowering operation of the polishing head, thereby making the operator heavy polishing. It relates to a specimen polishing apparatus that can solve the need to guide the head directly to the polishing position, the first and second polishing wheel having a horizontal disk shape and arranged side by side; A polishing head disposed between the first and second polishing wheels, the polishing head performing surface polishing of the specimens by continuously rotating and rotating the specimens to be polished on the first and second polishing wheels in succession; And polishing position guide means for guiding the polishing head to the polishing position of the first or second polishing wheel during the lowering operation of the polishing head rotated to the first polishing wheel or the second polishing wheel side for the polishing operation.

Description

시편 연마장치{SPECIMEN POLISHING MACHINE}Specimen Polishing Machine {SPECIMEN POLISHING MACHINE}

본 발명은 시편 표면 연마 작업에 따른 장치의 조작성을 향상시킨 시편 연마장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a specimen polishing apparatus that improves the operability of the apparatus according to the specimen surface polishing operation.

일반적으로, 금속조직학(Metallography)이란 재료의 절단(sectioning), 마운팅(mounting), 연마(grinding), 연삭(polishing), 부식(etching)을 통해 해당 재료의 미세조직을 채취하는 전 과정을 말한다.In general, metallography refers to the entire process of collecting the microstructure of a material through sectioning, mounting, grinding, polishing, and etching of the material.

금속의 특성을 관찰하기 위해서는 시편을 제작하고, 제작되는 시편의 표면은 거칠게 긁힌 자국이 없는 완전한 평면이 되도록 가공한 후, 현미경으로 관찰하게 된다. In order to observe the characteristics of the metal, the specimen is prepared, and the surface of the specimen is processed to be a perfect plane without rough scratches, and then observed under a microscope.

한편, 종래 시편의 표면을 가공하는 방법으로는, 여러 단계 즉, 표면 거칠기가 점층적으로 조밀한 샌드페이퍼를 이용해 표면을 연마한 후, 연마된 표면을 연마천을 이용해 경연마(광택작업) 하는 방법이 이용되고 있다. 이러한 시편 표면 가공은 수작업을 통해 이루어져 왔지만 최근에는 자동 시편 연마장치를 이용해 시편의 표면을 가공하고 있다. On the other hand, the conventional method of processing the surface of the specimen, a method of grinding the surface using a sandpaper having a step roughly dense surface roughness, and then polishing the polished surface using a polishing cloth (gloss work) It is used. Such specimen surface processing has been done by hand, but recently, the surface of the specimen has been processed using an automatic specimen polishing device.

도 1은 종래 시편 연마장치를 나타낸 것으로, 종래 시편 연마장치(10)는 통상의 샌드페이퍼, 또는 연마천 중 어느 하나로 이루어진 연마 툴(22)이 장착되는 두 개의 연마 휠(20), 및 연마 휠(20) 사이에 배치됨과 아울러 표면 가공할 시편(S)이 장착되고, 장착된 시편(S)을 연마 휠(20)의 연마 툴(22)에 가압 회전시켜 시편(S) 표면이 연마되게 하는 폴리싱 헤드(30)로 이루어진다. 1 shows a conventional specimen polishing apparatus, which comprises two polishing wheels 20, and a polishing wheel (20) on which an abrasive tool 22 made of either conventional sandpaper or polishing cloth is mounted. 20) and the specimen S to be surface-processed is mounted, and the mounted specimen S is pressed and rotated to the polishing tool 22 of the polishing wheel 20 so that the surface of the specimen S is polished. Head 30.

두 개의 연마 휠(20)에는 누구나 알 수 있듯이 점층적으로 조밀한 조도(거칠기)를 가지는 연마 툴(22)이 선택적으로 장착된다. 그리고 시편(S)이 장착된 폴리싱 헤드(30)는 서로 다른 조도를 가지는 연마 툴(22)이 장착된 연마 휠(20) 측으로 번갈아 회전 및 승하강하면서 시편(S)을 연마 툴(22)에 접촉시켜 시편(S) 표면에 대한 연마작업을 수행하게 한다.The two polishing wheels 20 are optionally equipped with an abrasive tool 22 having a progressively dense roughness (roughness), as anyone can see. In addition, the polishing head 30 to which the specimen S is mounted alternately rotates and descends to the polishing wheel 20 on which the polishing tool 22 having different roughness is mounted, thereby transferring the specimen S to the polishing tool 22. Contact to allow polishing of the surface of the specimen (S).

그런데, 전술한 종래의 시편 연마장치(10)에서는 작업자가 직접 무거운 폴리싱 헤드(30)를 표면 가공 위치까지 회전시켜야 하는 번거로움이 있었다. However, in the above-described conventional specimen polishing apparatus 10, the operator has to manually rotate the heavy polishing head 30 to the surface processing position.

즉, 어느 하나의 연마 휠(20)에 의한 시편(S)의 표면 연마가 완료되면, 좀 더 조밀한 연마 툴(22)이 장착된 또 다른 연마 휠(20) 측으로 무거운 폴리싱 헤드(30)를 회전시켜 연마 작업을 수행해야 하는데, 이러한 폴리싱 헤드(30)의 회전은 작업자의 수작업을 통해 이루어짐으로 인해 시편(S)의 표면 연마작업이 용이하지 못하고 번거로운 문제점이 있었다. That is, when surface polishing of the specimen S by any one of the polishing wheels 20 is completed, the heavy polishing head 30 is moved to the side of another polishing wheel 20 on which the more compact polishing tool 22 is mounted. Polishing operation should be performed by rotating, the polishing of the polishing head 30 is made by the operator's manual work, the surface polishing of the specimen (S) was not easy and there was a troublesome problem.

관련 선행기술로는 한국등록특허공보 제 1015417 호(등록일자 : 2011년 02월 10일, 명칭:"공-자전 병행형 연마 시험기")가 있다.
Related prior art is Korean Patent Publication No. 1015417 (Registration Date: February 10, 2011, name: "Co-rotating parallel polishing tester").

본 발명은 시편 표면 연마 작업 시 시편이 장착된 폴리싱 헤드를 연마하고자 하는 연마 휠 측으로 살짝 밀어 하강시키면 폴리싱 헤드의 하강작동에 의해 자동으로 폴리싱 헤드 및 시편이 연마위치로 이동되게 함으로써, 작업자가 무거운 폴리싱 헤드를 직접 연마위치까지 안내해야만 하는 번거로움을 해결할 수 있는 시편 연마장치를 제공하기 위한 것이다. According to the present invention, when the polishing surface on which the specimen is mounted is gently pushed down toward the polishing wheel to be polished during the polishing of the specimen surface, the polishing head and the specimen are automatically moved to the polishing position by the lowering operation of the polishing head, thereby making the operator heavy polishing. An object of the present invention is to provide a specimen polishing apparatus that can solve the inconvenience of having to guide the head directly to the polishing position.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않는다.
The technical objects to be achieved by the present invention are not limited to the above-mentioned technical problems.

상기 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 시편 연마장치는, 수평한 원판 형상을 가지며 나란하게 배치되는 제 1, 제 2 연마 휠; 제 1, 및 제 2 연마 휠 사이에 배치되고, 표면을 연마할 시편을 제 1, 및 제 2 연마 휠에 연속되게 번갈아 가압 회전시켜 시편의 표면 연마를 수행하는 폴리싱 헤드; 및 연마 작업을 위해 제 1 연마 휠 또는 제 2 연마 휠 측으로 회전된 폴리싱 헤드의 하강 작동 시 폴리싱 헤드를 제 1, 또는 제 2 연마 휠의 연마위치로 안내하는 연마위치 안내수단;을 포함할 수 있다. Specimen polishing apparatus according to the present invention for achieving the above object, the first and second abrasive wheels having a horizontal disk shape and arranged side by side; A polishing head disposed between the first and second polishing wheels, the polishing head performing surface polishing of the specimens by continuously rotating and rotating the specimens to be polished on the first and second polishing wheels in succession; And polishing position guide means for guiding the polishing head to the polishing position of the first or second polishing wheel during the lowering operation of the polishing head rotated to the first polishing wheel or the second polishing wheel for the polishing operation. .

구체적으로 연마위치 안내수단은, 제 1, 및 제 2 연마 휠 사이에 수직하게 고정 배치되는 지지축에 회전 및 승강 가능하게 끼워짐과 아울러 상단부는 폴리싱 헤드의 바닥면 하부에 고정 장착되는 가이드 축; 및 가이드 축의 외측 전면을 감쌀 수 있도록 수직한 반원형의 링 형상을 가지면서 하강하는 가이드 축을 제 1 연마 휠의 연마위치, 또는 제 2 연마 휠의 연마위치로 안내하는 가이드 블록;을 포함할 수 있다. Specifically, the polishing position guide means includes: a guide shaft that is rotatably fitted and rotatably mounted on a support shaft vertically disposed between the first and second polishing wheels, and the upper end portion is fixedly mounted to the bottom surface of the polishing head; And a guide block for guiding the descending guide shaft to the polishing position of the first polishing wheel or the polishing position of the second polishing wheel so as to have a vertical semi-circular ring shape to surround the outer front surface of the guide shaft.

가이드 블록에는, 연마 작업을 위해 상기 폴리싱 헤드와 함께 하강하는 가이드 축을 상기 제 1 연마 휠의 연마위치, 또는 상기 제 2 연마 휠의 연마위치로 안내하는 제 1 경사면 및 제 2 경사면이 제공될 수 있다. The guide block may be provided with a first inclined surface and a second inclined surface for guiding the guide shaft descending together with the polishing head for the polishing operation to the polishing position of the first polishing wheel or the polishing position of the second polishing wheel. .

구체적으로 제 1 경사면은, 가이드 블록의 상부에서 제 1 연마 휠 측으로 낮아지는 경사로 제공되며, 제 2 경사면은, 가이드 블록의 상부에서 제 2 연마 휠 측으로 낮아지는 경사로 제공될 수 있다. Specifically, the first inclined surface may be provided at an inclination lowering from the top of the guide block to the first polishing wheel side, and the second inclined surface may be provided at an inclination lowering from the top of the guide block to the second polishing wheel side.

한편 가이드 축의 하부에 인접한 전면 외측에는, 연마 작업 시 하강하는 가이드 축이 상기 제 1 경사면, 또는 상기 제 2 경사면을 따라 안내될 수 있도록 가이드 롤러가 장착될 수 있다. Meanwhile, a guide roller may be mounted on the outside of the front surface adjacent to the lower portion of the guide shaft so that the guide shaft that is lowered during the polishing operation may be guided along the first inclined surface or the second inclined surface.

그리고 제 1 연마 휠에 인접한 제 1 경사면의 연장단에는 제 1 경사면을 따라 안내되는 가이드 롤러가 끼워지는 제 1 연마위치 결정홈이 제공되며, 제 2 연마 휠에 인접한 제 2 경사면의 연장단에는 제 2 경사면을 따라 안내되는 가이드 롤러가 끼워지는 제 2 연마위치 결정홈이 제공될 수 있다.
An extension end of the first inclined surface adjacent to the first polishing wheel is provided with a first polishing positioning groove into which a guide roller guided along the first inclined surface is fitted, and an extension end of the second inclined surface adjacent to the second polishing wheel is provided. A second polishing positioning groove into which the guide roller guided along the second inclined surface is fitted may be provided.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 시편 연마장치는, 시편이 장착된 폴리싱 헤드를 연마하고자하는 제 1, 또는 제 2 연마 휠의 연마 위치로 자동 안내되게 하는 연마위치 안내수단을 포함함으로써, 종래와 같이 작업자가 무거운 폴리싱 헤드를 연마위치로 회전시켜야만 하는 번거움을 해결할 수 있을 뿐만 아니라 폴리싱 헤드의 하강 작동으로 폴리싱 헤드 및 시편을 제 1, 및 제 2 연마 휠의 연마위치로 안내할 수 있기 때문에 숙련된 작업자가 아니라도 누구나 쉽게 시편의 연마작업을 수행할 수 있는 이점이 있다.
As described above, the specimen polishing apparatus according to the present invention includes polishing position guide means for automatically guiding the polishing head on which the specimen is mounted to the polishing position of the first or second polishing wheel. Likewise, the operator can not only solve the trouble of having to rotate the heavy polishing head to the polishing position, but also because the lowering operation of the polishing head can guide the polishing head and the specimen to the polishing positions of the first and second polishing wheels. It is an advantage that anyone can easily carry out the grinding work of the specimen even if the operator is not.

도 1은 종래 시편 연마장치를 나타낸 사시도이고,
도 2는 본 발명에 따른 시편 연마장치를 개략적으로 나타낸 정면도이며,
도 3은 본 발명에 따른 시편 연마장치를 개략적으로 나타낸 측면도이고,
도 4는 도 3에 도시된 연마위치 안내수단을 나타낸 사시도이며, 그리고
도 5a 및 도 5b는 도 4에 도시된 안내위치 안내수단의 작동상태를 나타낸 도면이다. 1 is a perspective view showing a conventional specimen polishing apparatus,
2 is a front view schematically showing a specimen polishing apparatus according to the present invention,
Figure 3 is a side view schematically showing a specimen polishing apparatus according to the present invention,
4 is a perspective view showing the polishing position guide means shown in FIG.
5a and 5b are views showing the operating state of the guide position guide means shown in FIG.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다. 도면들 중 동일한 구성요소들은 가능한 어느 곳에서든지 동일한 부호로 표시한다. 또한 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 공지 기능 및 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the same components are denoted by the same reference symbols whenever possible. In the following description, well-known functions or constructions are not described in detail since they would obscure the invention in unnecessary detail.

도 2는 본 발명에 따른 시편 연마장치를 나타낸 것으로, 본 발명에 따른 시편 연마장치(100)는, 수평한 원판 형상을 가지며 나란하게 배치되는 제 1, 제 2 연마 휠(110a, 110b)과, 제 1, 및 제 2 연마 휠(110a, 110b) 사이에 배치되고, 표면을 연마할 시편(S)을 제 1, 및 제 2 연마 휠(110a, 110b)에 연속되게 번갈아 가압 회전시켜 시편(S)의 표면 연마를 수행하는 폴리싱 헤드(120), 및 연마 작업을 위해 제 1, 또는 제 2 연마 휠(110a, 110b) 측으로 회전된 폴리싱 헤드(120)의 하강 작동 시 폴리싱 헤드(120)를 제 1, 및 제 2 연마 휠(110a, 110b)의 연마위치로 안내하는 연마위치 안내수단(150)을 포함한다. 2 shows a specimen polishing apparatus according to the present invention, the specimen polishing apparatus 100 according to the present invention includes a first and second polishing wheels 110a and 110b arranged side by side with a horizontal disc shape, A specimen S disposed between the first and second polishing wheels 110a and 110b and continuously pressed alternately to the first and second polishing wheels 110a and 110b to pressurize and rotate the specimen S to polish the surface. Removing the polishing head 120 during the lowering operation of the polishing head 120 performing surface polishing of the polishing head 120 and the polishing head 120 rotated to the first or second polishing wheels 110a and 110b for polishing operations. And a polishing position guide means 150 for guiding the polishing positions of the first and second polishing wheels 110a and 110b.

먼저, 제 1, 및 제 2 연마 휠(110a, 110b)은 도시된 바와 같이 수평한 원판 형상을 가지면서 서로 간섭되지 않게 상부면이 노출되도록 하우징(114) 내에 나란히 한정된다. 이렇게 하우징(114)에 배치되는 연마 휠(110a, 110b)들은 통상의 모터와 같은 구동수단(도시되지 않음)과 연결되어 회전 가능하게 배치되거나, 또는 고정된 상태로 배치된다. 도 2 및 도 3에서는 구동수단(도시되지 않음)에 의해 회전 가능하게 배치된 연마 휠(110a, 110b)들이 도시되어 있다. First, the first and second polishing wheels 110a and 110b have a horizontal disc shape as shown, and are defined side by side in the housing 114 such that the top surfaces are exposed so as not to interfere with each other. The polishing wheels 110a and 110b disposed in the housing 114 are rotatably disposed in connection with a driving means (not shown), such as a conventional motor, or are disposed in a fixed state. 2 and 3 show polishing wheels 110a and 110b rotatably arranged by a drive means (not shown).

그리고 하우징(114)의 외부로 노출된 연마 휠(110a, 110b)들의 상부면에는 통상의 샌드페이퍼, 또는 통상의 폴리싱 연마천 중 어느 하나로 이루어진 연마 툴(112a, 112b)이 장착됨을 누구나 알 수 있을 것이다. 여기서 연마 휠(110a, 110b)들에 장착되는 연마 툴(112a, 112b)의 결합관계는 공지의 기술이므로 상세한 설명은 생략한다. 또한 연마 휠(110a, 110b)에 인접한 하우징(114)에는 연마 작업 시 연마 툴(112a, 112b)에 연마액을 공급하는 연마액 분사노즐(도시되지 않음)이 배치될 수 있다. 이와 같이 형성된 제 1, 및 제 2 연마 휠(110a, 110b)들 사이에는 폴리싱 헤드(120)가 배치된다.And it will be appreciated by anyone that the top surfaces of the polishing wheels 110a, 110b exposed to the outside of the housing 114 are equipped with abrasive tools 112a, 112b made of either conventional sandpaper or conventional polishing abrasive cloth. . Since the coupling relationship between the polishing tools 112a and 112b mounted on the polishing wheels 110a and 110b is a well-known technique, detailed description thereof will be omitted. In addition, a polishing liquid injection nozzle (not shown) may be disposed in the housing 114 adjacent to the polishing wheels 110a and 110b to supply the polishing liquid to the polishing tools 112a and 112b during the polishing operation. The polishing head 120 is disposed between the first and second polishing wheels 110a and 110b thus formed.

폴리싱 헤드(120)는 수직한 지지축(122)과, 지지축(122)의 상부에 승강 가능하게 배치되는 헤드 케이스(124), 및 헤드 케이스(124)에 장착되고 표면을 연마할 시편(S)이 끼워지는 시편홀더(136)를 포함한다. The polishing head 120 includes a vertical support shaft 122, a head case 124 disposed on the support shaft 122 so as to be elevated, and a specimen S mounted on the head case 124 to polish the surface. It includes a specimen holder 136 is fitted.

지지축(122)은 제 1, 및 제 2 연마 휠(110a, 110b)에 간섭되지 않게 연마 휠(110a, 110b) 사이에 배치됨과 아울러 하우징(114)의 배면에 인접하게 배치된다. 즉 지지축(122)은 제 1, 및 제 2 연마 휠(110a, 110b) 사이에 배치되고 제 1, 및 제 2 연마 휠(110a, 110b)의 회전 중심에서 일측으로 치우치도록 배치된다. 이러한 지지축(122)의 하단부는 하우징(114)의 바닥면 상에 고정되며, 지지축(122)의 상단부는 하우징(114)의 상부면을 관통하여 수직하게 연장된다. 이와 같은 지지축(122)에는 헤드 케이스(124)가 승강 가능하게 배치된다. The support shaft 122 is disposed between the polishing wheels 110a and 110b so as not to interfere with the first and second polishing wheels 110a and 110b and adjacent to the rear surface of the housing 114. That is, the support shaft 122 is disposed between the first and second polishing wheels 110a and 110b and is disposed to be biased to one side from the rotation center of the first and second polishing wheels 110a and 110b. The lower end of the support shaft 122 is fixed on the bottom surface of the housing 114, and the upper end of the support shaft 122 extends vertically through the upper surface of the housing 114. The head case 124 is disposed on the support shaft 122 so as to be lifted and lowered.

헤드 케이스(124)는 도시된 바와 같이 내부가 빈 함체 형상을 가진다. 헤드 케이스(124)에는 연마 작업 시 헤드 케이스(124)를 승강 시키는 승강 실린더(126), 및 후술하는 시편홀더(136)가 장착되는 연마 구동축(130)이 배치된다. Head case 124 has a hollow housing shape as shown. The head case 124 is provided with a lifting cylinder 126 for elevating the head case 124 during a polishing operation, and a polishing drive shaft 130 to which the specimen holder 136 described later is mounted.

승강 실린더(126)는 도시된 바와 같이, 지지축(122)의 상부와 마주보는 헤드 케이스(124)의 내부 배면측에 고정 장착된다. 그리고 승강 실린더(126)의 작동에 의해서 신장 또는 수축된 승강 실린더 로드(128)는 헤드 케이스(124)의 바닥면을 관통하여 지지축(122)의 상단부에 나사 결합된다. 이를 위해서 지지축(122)의 상단부에는 암나사가 형성된 체결홈(122a)이 형성되고, 승강 실린더 로드(128)의 연장단에 인접한 외주면 상에는 체결홈(122a)의 암나사에 맞물리는 수나사가 형성된다. 이와 같이 지지축(122)과 연결된 승강 실린더(126)에 의해서 헤드 케이스(124)는 승강하게 된다. The lifting cylinder 126 is fixedly mounted on the inner rear side of the head case 124 facing the top of the support shaft 122 as shown. In addition, the lifting cylinder rod 128 extended or contracted by the operation of the lifting cylinder 126 penetrates the bottom surface of the head case 124 and is screwed to the upper end of the support shaft 122. To this end, a fastening groove 122a having a female thread is formed at an upper end of the support shaft 122, and a male screw is formed on an outer circumferential surface adjacent to the extension end of the lifting cylinder rod 128 to engage the female screw of the fastening groove 122a. As such, the head case 124 is moved up and down by the lifting cylinder 126 connected to the support shaft 122.

연마 구동축(130)은 승강 실린더(126)와 마주보는 헤드 케이스(124)의 내부 전면측에 회전 가능하게 배치된다. 도시된 바와 같이 연마 구동축(130)의 상단부는 헤드 케이스(124) 내부에 배치되고, 연마 구동축(130)의 하단부는 헤드 케이스(124)의 바닥면을 관통하여 수직하게 연장된다. 이렇게 헤드 케이스(124)에 배치된 연마 구동축(130)은 승강 실린더(126)에 간섭되지 않게 헤드 케이스(124)의 내부에 배치된 연마 구동모터(132)와 연결되어 회전된다. 누구나 알 수 있듯이 연마 구동축(130)과 연마 구동모터(132)는 통상의 동력전달수단(도시되지 않음)에 의해 연결되며, 도 2 및 도 3에서는 통상의 기어(gear)에 의해 연마 구동모터(132)의 회전력이 전달되는 연마 구동축(130)이 도시되어 있다. 그리고 연마 구동축(130)의 상단부에는 연마 구동축(130)의 회전에 간섭되지 않게 로딩 실린더(134)가 배치된다. 로딩 실린더(134)는 연마 작업 시 후술하는 시편홀더(136)에 장착된 시편(S)이 제 1, 및 제 2 연마 휠(110a, 110b)의 연마 툴(112a, 112b)에 근접하거나 멀어지게 하는 기능을 수행함을 누구나 알 수 있을 것이다. 이와 같이 형성된 연마 구동축(130)에는 시편홀더(136)가 장착된다.The abrasive drive shaft 130 is rotatably disposed on the inner front side of the head case 124 facing the lifting cylinder 126. As shown, the upper end of the polishing drive shaft 130 is disposed inside the head case 124, and the lower end of the polishing drive shaft 130 extends vertically through the bottom surface of the head case 124. The polishing drive shaft 130 disposed in the head case 124 is rotated in connection with the polishing drive motor 132 disposed inside the head case 124 so as not to interfere with the lifting cylinder 126. As will be appreciated by anyone, the abrasive drive shaft 130 and the abrasive drive motor 132 are connected by conventional power transmission means (not shown), and in FIG. 2 and FIG. 3, the abrasive drive motor ( A grinding drive shaft 130 is shown to which the rotational force of 132 is transmitted. In addition, a loading cylinder 134 is disposed at an upper end of the polishing drive shaft 130 so as not to interfere with the rotation of the polishing drive shaft 130. The loading cylinder 134 is such that the specimen (S) mounted on the specimen holder 136, which will be described later, during the polishing operation, approaches or moves away from the polishing tools 112a and 112b of the first and second polishing wheels 110a and 110b. Anyone will know how to do that. A specimen holder 136 is mounted to the polishing drive shaft 130 formed as described above.

시편홀더(136)는 연마 구동축(130)의 하단부에 끼워지는 수직한 원통형상의 고정링(138)과, 수평한 원판형상을 가지면서 고정링(138)의 하부에 장착되는 홀더 디스크(140)를 포함한다. 도시된 바와 같이 연마 구동축(130)에 끼워진 고정링(138)은 외부에서 고정링(138)을 관통하여 연마 구동축(130)을 가압하는 고정볼트(142)에 의해 고정된다. 그리고 홀더 디스크(140)에는 표면을 연마할 시편(S)이 장착되는 다수의 시편 장착공(144)이 형성된다. The specimen holder 136 has a vertical cylindrical fixing ring 138 fitted to the lower end of the polishing drive shaft 130, and a holder disk 140 mounted on the lower portion of the fixing ring 138 while having a horizontal disc shape. Include. As shown, the fixing ring 138 fitted to the polishing drive shaft 130 is fixed by a fixing bolt 142 that presses the polishing drive shaft 130 through the fixing ring 138 from the outside. And the holder disk 140 is formed with a plurality of specimen mounting holes 144 on which the specimen (S) for polishing the surface is mounted.

한편, 연마위치 안내수단(150)은 폴리싱 헤드(120)에 장착되는 가이드 축(152), 및 연마 작업을 위해 폴리싱 헤드(120)와 함께 하강하는 가이드 축(152)과 접촉하여 폴리싱 헤드(120)를 연마하고자 하는 제 1 연마 휠(110a), 또는 제 2 연마 휠(110b)의 연마 위치로 자동 안내하는 가이드 블록(156)을 포함한다. On the other hand, the polishing position guide means 150 is in contact with the guide shaft 152 mounted to the polishing head 120, and the guide shaft 152 descending together with the polishing head 120 for the polishing operation polishing head 120 ) And a guide block 156 for automatically guiding the polishing position of the first polishing wheel 110a or the second polishing wheel 110b to be polished.

가이드 축(152)은 도시된 바와 같이 지지축(122)에 회전 및 승강 가능하게 끼워질 수 있도록 양단이 개방되고 내부가 빈 수직한 관 형상을 가진다. 이렇게 지지축(122)에 끼워진 가이드 축(152)은 폴리싱 헤드(120)를 따라 승강 및 회전되는데, 이를 위해서 가이드 축(152)의 상단부는 폴리싱 헤드(120)의 바닥면 하부에 고정 장착된다. 그리고 가이드 축(152)의 하부에 인접한 전면에는 가이드 롤러(154)가 회전 가능하게 장착된다.Guide shaft 152 has a vertical tubular shape is open at both ends and empty inside so as to be rotatably and elevable to the support shaft 122 as shown. The guide shaft 152 fitted to the support shaft 122 is elevated and rotated along the polishing head 120. For this purpose, the upper end of the guide shaft 152 is fixedly mounted to the bottom surface of the polishing head 120. And the guide roller 154 is rotatably mounted on the front surface adjacent to the lower part of the guide shaft 152.

가이드 블록(156)은 수직한 반원형의 링 형상을 가지면서 지지축(122)에 끼워진 가이드 축(152)의 방사상 전면 하부를 감쌀 수 있도록 하우징(114)의 바닥면 내부에 고정 장착된다. 그리고 가이드 블록(156)에는 제 1, 및 제 2 연마 휠(110a, 110b) 측으로 낮아지게 연장되는 제 1, 및 제 2 경사면(158a, 158b)과, 제 1, 및 제 2 경사면(158a, 158b)의 연장단에서 형성되는 제 1, 및 제 2 연마위치 결정홈(160a, 160b)이 제공된다. The guide block 156 has a vertical semi-circular ring shape and is fixedly mounted inside the bottom surface of the housing 114 so as to surround the radial front lower portion of the guide shaft 152 fitted to the support shaft 122. In addition, the guide block 156 includes first and second inclined surfaces 158a and 158b extending downward toward the first and second polishing wheels 110a and 110b, and first and second inclined surfaces 158a and 158b. The first and second polishing positioning grooves 160a and 160b are formed at the extended ends of the < RTI ID = 0.0 >

즉 도시된 바와 같이, 제 1 경사면(158a)은 가이드 블록(156)의 상부에서 제 1 연마 휠(110a) 측으로 낮아지는 경사로 제공되고, 제 2 경사면(158b)은 가이드 블록(156)의 상부에서 제 2 연마 휠(110b) 측으로 낮아지는 경사로 제공된다. 그리고 제 1 연마위치 결정홈(160a), 및 제 2 연마위치 결정홈(160b)에는 제 1 경사면(158a) 또는 제 2 경사면(158b)을 따라 안내되는 가이드 롤러(154)가 끼워지는데, 이를 위해서 제 1, 및 제 2 연마위치 결정홈(160a, 160b)은 하부로 오목하게 침강된 형상을 가진다.That is, as shown, the first inclined surface 158a is provided at an inclination lowering from the top of the guide block 156 toward the first polishing wheel 110a, and the second inclined surface 158b is provided at the top of the guide block 156. It is provided with an inclination lowering toward the second polishing wheel 110b. A guide roller 154 guided along the first inclined surface 158a or the second inclined surface 158b is fitted into the first polishing positioning groove 160a and the second polishing positioning groove 160b. The first and second polishing positioning grooves 160a and 160b have a shape recessed downwardly.

하기에는 도 5a 및 도 5b를 참조하면서 연마위치 안내수단(150)의 작동상태를 간략하게 설명한다. Hereinafter, the operation state of the polishing position guide means 150 will be briefly described with reference to FIGS. 5A and 5B.

표면을 연마할 시편(S)을 시편홀더(136)에 장착한 상태 하에서, 제 1 연마 휠(110a)의 연마 툴(112a)을 이용해 표면을 연마하기 위해서는, 우선 시편홀더(136)가 장착된 폴리싱 헤드(120)를 제 1 연마 휠(110a) 측으로 살짝 회전시킨 후, 승강 실린더(126)를 이용해 폴리싱 헤드(120)를 하강시킨다. 폴리싱 헤드(120)를 하강시키면, 폴리싱 헤드(120)와 함께 가이드 축(152)이 하강하게 되는데, 하강하는 가이드 축(152)의 가이드 롤러(154)는 제 1 연마 휠(110a)에 인접한 제 1 경사면(158a)을 따라 안내된다. 이렇게 가이드 롤러(154)가 제 1 경사면(158a)을 따라 안내됨에 따라 가이드 축(152) 및 폴리싱 헤드(120)는 제 1 연마 휠(110a) 측으로 회전되면서 하강하게 된다. 그리고, 제 1 경사면(158a)을 따라 안내되는 가이드 롤러(154)는 제 1 연마위치 결정홈(160a)에 끼워지는데, 이렇게 가이드 롤러(154)가 제 1 연마위치 결정홈(160a)에 끼워지면 시편(S)은 제 1 연마 휠(110a)의 연마 툴(112a)에 접촉되면서 표면이 연마된다. In order to polish the surface using the polishing tool 112a of the first polishing wheel 110a under the state in which the specimen S for polishing the surface is mounted on the specimen holder 136, the specimen holder 136 is first mounted. After slightly rotating the polishing head 120 toward the first polishing wheel 110a, the polishing head 120 is lowered using the lifting cylinder 126. When the polishing head 120 is lowered, the guide shaft 152 along with the polishing head 120 is lowered, and the guide roller 154 of the descending guide shaft 152 is formed of the first adjoining wheel 110a. 1 is guided along the inclined surface 158a. As the guide roller 154 is guided along the first inclined surface 158a, the guide shaft 152 and the polishing head 120 are lowered while being rotated toward the first polishing wheel 110a. The guide roller 154 guided along the first inclined surface 158a is fitted into the first polishing positioning groove 160a. When the guide roller 154 is fitted into the first polishing positioning groove 160a, The specimen S is polished while contacting the polishing tool 112a of the first polishing wheel 110a.

반대로 제 1 연마 휠(110a)의 연마 툴(112a)에 의한 연마작업이 완료되어 제 2 연마 휠(110b)의 연마 툴(112b)을 이용해 표면을 연마하기 위해서는, 우선 제 1 연마 휠(110a) 측으로 회전된 폴리싱 헤드(120)를 상승시킨다. 그리고 폴리싱 헤드(120)를 제 2 연마 휠(110b) 측으로 살짝 회전시킨 후, 폴리싱 헤드(120)를 하강시킨다. 이렇게 폴리싱 헤드(120)를 하강시키면, 마찬가지로 폴리싱 헤드(120)와 함께 가이드 축(152)이 하강하게 된다. 이때 하강하는 가이드 축(152)의 가이드 롤러(154)는 제 2 연마 휠(110b)에 인접한 제 2 경사면(158a)을 따라 안내되는데, 이렇게 가이드롤러(154)가 제 2 경사면(158b)을 따라 안내됨에 따라 가이드 축(152) 및 폴리싱 헤드(120)는 제 2 연마 휠(110b) 측으로 회전되면서 하강하게 된다. 그리고 제 2 경사면(158b)을 따라 안내되는 가이드 롤러(154)는 제 2 연마위치 결정홈(160b)에 끼워지는데, 이렇게 가이드 롤러(154)가 제 2 연마위치 결정홈(160b)에 끼워지면 시편(S)은 제 2 연마 휠(110B)의 연마 툴(112B)에 접촉되면서 표면이 연마된다. On the contrary, in order to complete the polishing operation by the polishing tool 112a of the first polishing wheel 110a and to polish the surface by using the polishing tool 112b of the second polishing wheel 110b, the first polishing wheel 110a is first used. The polishing head 120 rotated to the side is raised. Then, the polishing head 120 is slightly rotated toward the second polishing wheel 110b, and then the polishing head 120 is lowered. As such, when the polishing head 120 is lowered, the guide shaft 152 together with the polishing head 120 is lowered. At this time, the guide roller 154 of the descending guide shaft 152 is guided along the second inclined surface 158a adjacent to the second polishing wheel 110b, and thus the guide roller 154 is along the second inclined surface 158b. As guided, the guide shaft 152 and the polishing head 120 are lowered while rotating toward the second polishing wheel 110b. The guide roller 154 guided along the second inclined surface 158b is fitted into the second polishing positioning groove 160b. When the guide roller 154 is fitted into the second polishing positioning groove 160b, the specimen The surface is polished while S comes in contact with the polishing tool 112B of the second polishing wheel 110B.

이와 같이 형성된 시편 연마장치(100)는, 시편(S)의 표면 연마 작업을 위해 제 1, 또는 제 2 연마 휠(110a, 110b) 측으로 회전된 폴리싱 헤드(120)의 하강 작동 시 자동으로 폴리싱 헤드(120) 및 시편(S)을 제 1, 및 제 2 연마 휠(110a, 110b)의 연마위치로 안내하는 연마위치 안내수단(150)을 포함함으로써, 작업자가 무거운 폴리싱 헤드를 직접 회전 이동시켜야 하는 번거로움을 해결할 수 있다. The specimen polishing apparatus 100 formed as described above is automatically polished when the polishing head 120 rotates to the first or second polishing wheels 110a and 110b for the surface polishing operation of the specimen S. By including the polishing position guide means 150 for guiding the 120 and the specimen S to the polishing positions of the first and second polishing wheels 110a and 110b, the operator has to directly rotate the heavy polishing head. Can solve the trouble.

상기와 같은 시편 연마장치(100)는 위에서 설명된 실시예들의 구성과 작동 방식에 한정되는 것이 아니다. 상기 실시예들은 각 실시예들의 전부 또는 일부가 선택적으로 조합되어 다양한 변형이 이루어질 수 있도록 구성될 수도 있다.
Specimen polishing device 100 as described above is not limited to the configuration and operation of the embodiments described above. The above embodiments may be configured such that various modifications may be made by selectively combining all or part of the embodiments.

100 : 시편 연마장치 110a : 제 1 연마 휠
110b : 제 2 연마 휠 120 : 폴리싱 헤드
122 : 지지축 124 : 헤드 케이스
136 : 시편홀더 150 : 연마위치 안내수단
152 : 가이드 축 154 : 가이드 롤러
156 : 가이드 블록 158a : 제 1 경사면
158b : 제 2 경사면 160a : 제 1 연마위치 결정홈
160b : 제 2 연마위치 결정홈100: specimen polishing apparatus 110a: first polishing wheel
110b: second polishing wheel 120: polishing head
122: support shaft 124: head case
136: specimen holder 150: grinding position guide means
152: guide shaft 154: guide roller
156: guide block 158a: first inclined surface
158b: second inclined surface 160a: first polishing positioning groove
160b: second polishing positioning groove

Claims (6)

수평한 원판 형상을 가지며 나란하게 배치되는 제 1, 제 2 연마 휠;
상기 제 1, 및 제 2 연마 휠 사이에 배치되고, 표면을 연마할 시편을 상기 제 1, 및 제 2 연마 휠에 연속되게 번갈아 가압 회전시켜 상기 시편의 표면 연마를 수행하는 폴리싱 헤드; 및
연마 작업을 위해 상기 제 1 연마 휠 또는 상기 제 2 연마 휠 측으로 회전된 상기 폴리싱 헤드의 하강 작동 시 상기 폴리싱 헤드를 상기 제 1, 또는 제 2 연마 휠의 연마위치로 안내하는 연마위치 안내수단;을 포함하는 시편 연마장치.
First and second abrasive wheels having a horizontal disk shape and arranged side by side;
A polishing head disposed between the first and second polishing wheels, the polishing head performing surface polishing of the specimens by continuously rotating the specimens to be polished on the first and second polishing wheels in succession; And
Polishing position guide means for guiding the polishing head to a polishing position of the first or second polishing wheel during the lowering operation of the polishing head rotated to the first polishing wheel or the second polishing wheel for a polishing operation; Specimen polishing device comprising.
청구항 1에 있어서,
상기 연마위치 안내수단은,
상기 제 1, 및 제 2 연마 휠 사이에 수직하게 고정 배치되는 지지축에 회전 및 승강 가능하게 끼워짐과 아울러 상단부는 상기 폴리싱 헤드의 바닥면 하부에 고정 장착되는 가이드 축; 및
상기 가이드 축의 외측 전면을 감쌀 수 있도록 수직한 반원형의 링 형상을 가지면서 하강하는 상기 가이드 축을 상기 제 1 연마 휠의 연마위치, 또는 상기 제 2 연마 휠의 연마위치로 안내하는 가이드 블록;을 포함하는 시편 연마장치.
The method according to claim 1,
The polishing position guide means,
A guide shaft, which is rotatably and elevably fitted to a support shaft vertically fixedly disposed between the first and second polishing wheels, and a top end of which is fixedly mounted to a bottom surface of the polishing head; And
And a guide block for guiding the descending guide shaft to the polishing position of the first polishing wheel or the polishing position of the second polishing wheel so as to have a semi-circular ring shape perpendicular to the outer front surface of the guide shaft. Specimen grinding machine.
청구항 2에 있어서,
상기 가이드 블록에는,
연마 작업을 위해 상기 폴리싱 헤드와 함께 하강하는 가이드 축을 상기 제 1 연마 휠의 연마위치, 또는 상기 제 2 연마 휠의 연마위치로 안내하는 제 1 경사면 및 제 2 경사면이 제공되는 시편 연마장치.
The method according to claim 2,
In the guide block,
And a first inclined surface and a second inclined surface for guiding the guide shaft descending together with the polishing head for the polishing operation to the polishing position of the first polishing wheel or the polishing position of the second polishing wheel.
청구항 3에 있어서,
상기 제 1 경사면은,
상기 가이드 블록의 상부에서 상기 제 1 연마 휠 측으로 낮아지는 경사로 제공되며,
상기 제 2 경사면은,
상기 가이드 블록의 상부에서 상기 제 2 연마 휠 측으로 낮아지는 경사로 제공되는 시편 연마장치.
The method according to claim 3,
The first inclined surface,
A slope that is lowered from the top of the guide block toward the first polishing wheel,
The second inclined surface,
Specimen polishing device provided at an inclination lowering toward the second polishing wheel from the top of the guide block.
청구항 3에 있어서,
상기 가이드 축의 하부에 인접한 전면 외측에는,
연마 작업 시 하강하는 상기 가이드 축이 상기 제 1 경사면, 또는 상기 제 2 경사면을 따라 안내될 수 있도록 가이드 롤러가 장착되는 시편 연마장치.
The method according to claim 3,
Outside the front surface adjacent the lower part of the guide shaft,
And a guide roller is mounted so that the guide shaft which is lowered during the polishing operation can be guided along the first inclined surface or the second inclined surface.
청구항 5에 있어서,
상기 제 1 연마 휠에 인접한 상기 제 1 경사면의 연장단에는 상기 제 1 경사면을 따라 안내되는 상기 가이드 롤러가 끼워지는 제 1 연마위치 결정홈이 제공되며,
상기 제 2 연마 휠에 인접한 상기 제 2 경사면의 연장단에는 상기 제 2 경사면을 따라 안내되는 상기 가이드 롤러가 끼워지는 제 2 연마위치 결정홈이 제공되는 시편 연마장치.
The method according to claim 5,
An extended end of the first inclined surface adjacent to the first polishing wheel is provided with a first polishing positioning groove into which the guide roller guided along the first inclined surface is fitted.
And an extension end of the second inclined surface adjacent to the second polishing wheel is provided with a second polishing positioning groove into which the guide roller guided along the second inclined surface is fitted.
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