KR101360079B1 - 무격막 전해조 - Google Patents

무격막 전해조 Download PDF

Info

Publication number
KR101360079B1
KR101360079B1 KR1020130026349A KR20130026349A KR101360079B1 KR 101360079 B1 KR101360079 B1 KR 101360079B1 KR 1020130026349 A KR1020130026349 A KR 1020130026349A KR 20130026349 A KR20130026349 A KR 20130026349A KR 101360079 B1 KR101360079 B1 KR 101360079B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
space
dilution
electrode plates
hydrochloric acid
water
Prior art date
Application number
KR1020130026349A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20130105466A (ko
Inventor
박시춘
Original Assignee
(주)미라클린
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)미라클린 filed Critical (주)미라클린
Publication of KR20130105466A publication Critical patent/KR20130105466A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101360079B1 publication Critical patent/KR101360079B1/ko

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B1/00Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
    • C25B1/01Products
    • C25B1/24Halogens or compounds thereof
    • C25B1/26Chlorine; Compounds thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/46Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
    • C02F1/461Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
    • C02F1/46104Devices therefor; Their operating or servicing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/46Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
    • C02F1/461Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
    • C02F1/467Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction
    • C02F1/4672Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction by electrooxydation
    • C02F1/4674Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction by electrooxydation with halogen or compound of halogens, e.g. chlorine, bromine
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B1/00Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
    • C25B1/01Products
    • C25B1/22Inorganic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B11/00Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
    • C25B11/02Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by shape or form
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B15/00Operating or servicing cells
    • C25B15/08Supplying or removing reactants or electrolytes; Regeneration of electrolytes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B9/00Cells or assemblies of cells; Constructional parts of cells; Assemblies of constructional parts, e.g. electrode-diaphragm assemblies; Process-related cell features
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B9/00Cells or assemblies of cells; Constructional parts of cells; Assemblies of constructional parts, e.g. electrode-diaphragm assemblies; Process-related cell features
    • C25B9/17Cells comprising dimensionally-stable non-movable electrodes; Assemblies of constructional parts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/46Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
    • C02F1/461Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
    • C02F1/46104Devices therefor; Their operating or servicing
    • C02F1/4618Devices therefor; Their operating or servicing for producing "ionised" acidic or basic water
    • C02F2001/46185Devices therefor; Their operating or servicing for producing "ionised" acidic or basic water only anodic or acidic water, e.g. for oxidizing or sterilizing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/46Apparatus for electrochemical processes
    • C02F2201/461Electrolysis apparatus
    • C02F2201/46105Details relating to the electrolytic devices
    • C02F2201/46155Heating or cooling
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/46Apparatus for electrochemical processes
    • C02F2201/461Electrolysis apparatus
    • C02F2201/46105Details relating to the electrolytic devices
    • C02F2201/4618Supplying or removing reactants or electrolyte

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
  • Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)

Abstract

본 발명은 희석염산을 전기분해하여 미산성 차아염소산수 제조용 염소가스를 생산하는 무격막 전해조에 관한 것으로, 특히 염산의 전기분해반응이 일어나는 전극을 희석수의 공급에 의하여 냉각시키는 무격막 전해조에 관한 것이다.

Description

무격막 전해조 {NON-DIAPHRAGM ELECTROLYTIC CELL}
본 발명은 희석염산을 전기분해하여 미산성 차아염소산수 제조용 염소가스를 생산하는 무격막 전해조에 관한 것으로, 특히 염산의 전기분해반응이 일어나는 전극을 희석수의 공급에 의하여 냉각시키며, 미산성 차아염소산수를 효과적으로 생산할 수 있는 무격막 전해조에 관한 것이다.
일반적으로 미산성 차아염소산수는 희석염산(2~6%)을 전기분해장치(즉, 무격막 전해조)로 전기분해하여 염소가스를 생성한 후, 이를 물과 희석하여 제조된다.
이러한 미산성 차아염소산수의 제조를 위하여 사용되는 일반적으로 잘 알려진 전해조는 2개의 전극과 사각형의 전해공간을 형성하는 사각 프레임으로 구성된다. 관련된 국내 선행기술로는 예를 들어 국내특허 제0592331호(2006. 6. 15 등록), 국내특허 제0634889호(2006. 10. 10 등록) 등이 개시되어 있다.
이러한 전해조의 상기 사각프레임 하부에는 염산이 투입되는 투입구가 형성되고, 상부에는 염산이 전기분해되어 생성되는 염소가스를 포함하는 전해물질이 배출되는 배출구가 형성된다. 그리고, 상기 전해조에서 배출되는 전해물질(즉, 염소가스, 수소가스, 염산기체 등)은 후처리과정에서 공급되는 물에 희석되고, 이때 염소가스가 물에 용해되어 미산성 차아염소산수가 제조된다.
한편, 전술한 바와 같이, 미산성 차아염소산의 제조시에 2~6% 정도의 희석염산을 사용하기 때문에, 염산을 효과적으로 전기분해하기 위해서는 전극에 높은 전류를 인가시켜야 한다. 그런데, 전극에 높은 전류가 인가되면, 전극이 과열되어 전극의 수명이 단축된다.
뿐만 아니라 발생되는 염소가스의 온도가 높기 때문에 전극과 더불어 염소가스의 의해 전해조가 가열된다. 그런데 일반적으로 전해조의 케이스는 가격이 저렴하고 가공성도 용이하다는 이유로 내열성이 낮은 PVC로 제조된다. 따라서 전해조의 케이스가 염소가스와 전극의 열에 의해 쉽게 변형되고, 이에 따라 염소가스가 외부로 누출되는 안전사고가 발생된다.
본 발명에 있어서는 종래의 이와 같은 점을 감안하여 창안한 것으로, 미산성 차아염소산을 제조하기 위한 무격막 전해조의 전극이 희석수에 의해 냉각되기 때문에 전해조의 전극을 비롯한 구성부품들의 손상을 방지할 수 있고, 미산성의 차아염소산수를 효과적으로 생산할 수 있는 무격막 전해조를 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 일 특징에 따르면, 염산을 전기분해하기 위한 무격막 전해조에 있어서,
밀폐된 내부공간을 가지는 외장케이스(22);
상기 외장케이스(22)의 내부에 서로 대향되도록 이격배치되는 한 쌍의 전극판(10,10');
상기 한 쌍의 전극판(10,10') 사이에 배치되어 상기 외장케이스(22)의 내부공간을 전해공간(16)과, 희석공간(24)으로 구획하는 구획부재(12);를 포함하여 이루어지며,
상기 전해공간(16)의 일측에는 염산이 투입되는 염산투입구(18)가 형성되고;
상기 구획부재(12)에는 상기 염산이 전해분해되어 발생되는 염소가스를 포함하는 전해물질을 상기 희석공간(24)으로 배출시키는 통공(20)이 형성되고;
상기 희석공간(24)의 일측에는 상기 염소가스를 포함하는 전해물질을 용해 및 희석시키기 위한 희석수가 공급되는 희석수공급구(26)가 형성되고. 타측에는 상기 염소가스가 희석수에 용해되어 생성된 차아염소산수를 외부로 배출시키는 차아염소산수배출구(28)가 형성되;,
상기 전극판(10,10')에는 상기 희석공간(24)으로 연장되는 연장부(10a,10'a)가 형성되어,
상기 희석공간(24)으로 유입되는 희석수가 상기 전극판(10,10')의 연장부(10a,10'a)와 접촉되어 전극판(10,10')이 냉각되는 것을 특징으로 하는 무격막 전해조가 제공된다.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 전극판(10,10')의 연장부(10a,10'a)는 상기 외장케이스(22)의 내측면에서 이격되게 형성된 것을 특징으로 하는 무격막 전해조가 제공된다.
삭제
삭제
삭제
삭제
삭제
삭제
삭제
삭제
삭제
삭제
도 1은 본 발명의 제1실시예를 보인 정단면도
도 2는 본 발명의 제1실시예의 측단면도
도 3은 본 발명의 제2실시예를 보인 정면도
도 4는 본 발명의 제3실시예를 보이 정면도
도 5는 본 발명의 제4실시예를 보인 정면도
도 6은 본 발명의 제5실시예를 보인 정면도
도 7은 본 발명의 제5실시예의 측단면도
도 8은 본 발명의 제5실시예의 평단면도
도 9는 본 발명의 제6실시예의 정면도
도 10은 본 발명의 제6실시예의 측단면도
이하에서, 첨부된 도면을 참고하여, 본 발명을 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
도 1 내지 2는 본 발명의 제1실시예를 보인 것이다.
도 1과 2를 참조하면, 내부에 밀폐된 공간을 가지는 외장케이스(22)와, 외장케이스(22) 내부에 서로 대향되도록 이격배치되는 한 쌍의 전극판(10,10')과, 이들 전극판(10,10') 사이에 배치되어 상기 케이스(22)의 내부공간을 전해공간(16)과, 희석공간(24)으로 구획하는 구획부재(12)를 포함하여 이루어진다.
상기 외장케이스(22)는 상하로 긴 직사각형상으로 되어 내부에 밀폐된 공간을 가진다. 이러한 외장케이스(22)의 하단부에는 전기분해할 염산이 투입되는 염산투입구(18)가 형성되고, 외장케이스(22)의 상단부에는 희석수가 공급되는 희석수공급구(26)와 희석수에 의해 생성된 차아염소산수가 배출되는 차아염소산수배출구(28)가 서로 대향되는 측면에 형성된다.
상기 전극판(10,10')은 상기 외장케이스(22)의 서로 대향되는 내측면에 배치된다. 바람직하게는 전극판(10,10')은 상기 희석수공급구(26)와 차아염소산수배출구(28)가 형성된 면에 이웃되는 내측면에 각각 밀착되게 고정된다, 이들 전극판(10, 10')에는 통상적인 방식으로 외부전원이 연결된다.
그리고 상기 구획부재(12)는 전극판(10,10') 사이에 수평방향으로 배치되며, 외장케이스(22)의 내부공간은 상하로 구획한다. 외장케이스(22)의 상하로 구획된 공간 중 상기 염산투입구(18)가 형성된 하부공간은 투입되는 염산이 전기분해되는 전해공간(16)을 이룬다. 그리고 상부공간은 희석수공급구(26)와 차아염소산수배출구(28)가 형성되어 희석수가 공급되는 희석공간(24)을 이룬다.
이러한 구획부재(12)에는 통공(20)이 형성되는데, 이 통공(20)은 전해공간(16)에서 생성된 염산가스를 포함하는 전해물질을 상기 희석공간(24)으로 배출시키기 위한 것이다.
한편, 상기 전극판(10,10')의 상단부에는 상기 희석공간(24)으로 위치되도록 연장된 연장부(10a,10'a)가 형성된다.
삭제
이러한 구성을 가지는 본 발명은 다음과 같이 작동된다. 상기 전극판(10,10')에 전류를 인가시키고, 상기 염산주입구(18)를 통해 전해공간(16)에 염산을 주입한다. 그리고 상기 희석공간(24)에는 희석수를 공급한다. 상기 희석수는 희석수공급구(26)로 투입되기 이전에 공지된 필터로 여과되거나 이에 미네랄 원소 등이 첨가될 수도 있다.
이와 같이 하면, 상기 전해공간(16)에서는 주입된 염산이 전기분해되어 염소가스를 포함하는 전해물질이 생성된다. 이때 생성되는 전해물질은 염소가스를 비롯하여 수소가스, 비 전해된 염산기체 등을 포함한다.
이와 같이 전해공간(16)에서 생성된 전해물질은 상기 구획부재(12)의 통공(20)을 통해 상측의 희석공간(24)으로 배출된다. 희석공간(24)으로 배출된 전해물질은 희석수에 희석되며, 전해물질 중의 염소가스가 물에 용해되어 미산성 차아염소산수가 생성된다. 생성된 차아염소산수는 차아염소산수배출구(28)를 통해 외부로 배출된다.
한편, 상기 전극판(10,10')의 연장부(10a,10'a)가 전해공간(16)에 위치되기 때문에, 전극판(10,10')의 연장부(10a,10'a)가 희석수와 접촉된다. 따라서 전극판(10,10')이 희석수에 의해 냉각되고, 전극판(10,10')의 손상이 방지된다. 전극판(10,10') 뿐만 아니라 외장케이스(22)를 비롯한 다른 부품들의 냉각효과도 얻을 수 있어서 전해조의 전체적인 손상이 방지된다.
한편, 염소가스가 희석수에 용해되어 차아염소산수가 생성되지만, 아래의 화학식과 같이, 염소가스의 일부는 염산으로 재생성되기 때문에, 생성되는 차염소산수의 pH가 낮아진다.
H2O + Cl2 → HOCl + HCl
그러나 차아염소산수는 pH 5~6.5 의 미산성 수준에서 가장 우수한 살균력을 갖기 때문에, 살균력이 우수한 미산성의 차아염소산수를 제조하기 위해서는 차아염소산수의 pH를 상승시킬 필요가 있다. 그런데 종래에는 희석수의 공급량을 증가시켜서 차아염소산수의 pH를 상승시켰으나, 희석수의 공급량을 증가시키면, 차아염소산수의 차아염소산 농도가 저하되는 문제가 발생된다.
한편, 본 발명에서는 전극판(10,10')의 연장부(10a,10'a)에 의해 희석공간(24)에서도 전류가 인가된다. 전술한 바와 같이, 희석공간(24)으로 유입되는 염소가스의 일부가 염산으로 재 생성되는데, 상기 연장부(10a,10'a)에 의해 희석공간(24)에 전류가 인가되면, 희석공간(24)에서 재 생성된 염산이 전기분해되어 염소가스가 생성되며, 이 염소가스가 희석수에 용해되어 차아염소산이 생성된다. 이와 같이 희석공간(24)에서 염산이 전기분해됨에 따라 희석수의 차아염소산수의 농도는 증가되고, pH도 상승되어 pH 5~6.5 정도의 미산성 차아염소산이 생성된다.
이하에서는 본 발명의 다른 실시예를 설명한다, 제1실시예와 동일한 구성요 소와 효과에 대해서는 설명을 생략한다.
도 3은 본 발명의 제2실시예를 보인 것이다. 본 실시예에서는 상기 구획부재(12)의 중앙부에 통공(20)들이 집중되고, 구획부재(12)의 저면 둘레부는 단부로 갈수록 하향으로 돌출되는 경사면(30)이 형성된다.
따라서 전해공간(16)의 상단부는 상향으로 갈수록 폭이 좁아지는 꼬깔형태를 가진다. 이는 전해공간(16)에서 발생된 염소가스를 포함하는 전해물질이 상기 통공(20)을 통해 희석공간(24)으로 원활히 배출되도록 가이드하기 위한 것이다.
도 4는 본 발명의 제3실시예를 보인 것이다. 본 실시예에서는 구획부재(12)의 일측에 통공(20)이 형성되고, 구획부재(12)의 저면에는 통공(20)으로 전해물질이 원할하게 배출되도록 가이드하기 위한 경사면(30)이 형성된다.
도 5는 본 발명의 제4실시예를 보인 것이다. 도 5를 참조하면, 전극판 (10, 10')의 연장부(10a,10'a)가 좌우, 전극판 (10, 10')의 폭방향으로 확장된다. 이와 같이 연장부(10a,10'a)가 확장됨에 따라 전극판(10, 10')의 연장부(10a, 10a')와 희석수가 접촉되는 면적이 확대되므로 냉각효과가 향상된다.
도 6은 본 발명의 제5실시예를 보인 것이다.
도 6 내지 8을 참조하면, 외장케이스(22)의 희석공간(24)을 이루는 상단부가 전극판(10,10')의 연장부(10a, 10a')보다 전후좌우로 확장형성되고, 외장케이스(22)의 상면도 연장부(10a, 10a')의 상단보다 높게 형성된다. 따라서 전극판(10,10')의 연장부(10a, 10a')가 외장케이스(22)의 내측면에서 이격된다.
이러한 본 실시예는 상기 연장부(10a, 10a')의 전후면이 모두 희석수에 노출되기 때문에 다른 실시예에 비해 냉각효율이 높다.
도 9와 10은 본 발명의 제6실시예를 보인 것이다. 도시된 바와 같이, 본 실시예에서는 외장케이스(22)의 좌우폭이 전극판(10,10')의 좌우폭 보다 넓게 형성되고, 전극판(10,10')은 외장케이스(22)의 전후내측면에서 이격되도록 배치된다. 그리고 구획부재(12)가 사각테형상으로 되어, 이 구획부재(12)의 내측면과 전극판(10,10')의 내측면에 의해 전해공간(16)이 구획형성된다.
또한, 희석수공급구(26)와 차아염소산수배출구(28)가 외장케이스(22)의 하단부에 형성된다.
이러한 구성을 갖는 본 실시예는 전해공간(16)을 이루는 전극판(10,10')의 외측면이 희석공간(24)으로 노출되기 때문에 전극판(10,10')의 효과적으로 냉각된다.

Claims (4)

  1. 염산을 전기분해하기 위한 무격막 전해조에 있어서,
    밀폐된 내부공간을 가지는 외장케이스(22);
    상기 외장케이스(22)의 내부에 서로 대향되도록 이격배치되는 한 쌍의 전극판(10,10');
    상기 한 쌍의 전극판(10,10') 사이에 배치되어 상기 외장케이스(22)의 내부공간을 전해공간(16)과, 희석공간(24)으로 구획하는 구획부재(12);를 포함하여 이루어지며,
    상기 전해공간(16)의 일측에는 염산이 투입되는 염산투입구(18)가 형성되고;
    상기 구획부재(12)에는 상기 염산이 전해분해되어 발생되는 염소가스를 포함하는 전해질을 상기 희석공간(24)으로 배출시키는 통공(20)이 형성되고;
    상기 희석공간(24)의 일측에는 상기 염소가스를 용해 및 희석시키기 위한 희석수가 공급되는 희석수공급구(26)가 형성되고 타측에는 상기 염소가스가 희석수에 용해되어 생성된 차아염소산수를 외부로 배출시키는 차아염소산수배출구(28)가 형성되며;
    상기 전극판(10,10')에는 상기 희석공간(24)으로 연장되는 연장부(10a,10'a)가 형성되어;
    상기 희석공간(24)으로 유입되는 희석수가 상기 전극판(10,10')의 연장부(10a,10'a)와 접촉되어 전극판(10,10')이 냉각되는 것을 특징으로 하는 무격막 전해조.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서, 상기 전극판(10,10')의 연장부(10a,10'a)는 상기 외장케이스(22)의 내측면에서 이격되게 형성된 것을 특징으로 하는 무격막 전해조.
  4. 삭제
KR1020130026349A 2012-03-12 2013-03-12 무격막 전해조 KR101360079B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120024844 2012-03-12
KR20120024844 2012-03-12

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020130109743A Division KR101363346B1 (ko) 2012-03-12 2013-09-12 무격막 전해조

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130105466A KR20130105466A (ko) 2013-09-25
KR101360079B1 true KR101360079B1 (ko) 2014-02-21

Family

ID=49161459

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020130026349A KR101360079B1 (ko) 2012-03-12 2013-03-12 무격막 전해조
KR1020130109743A KR101363346B1 (ko) 2012-03-12 2013-09-12 무격막 전해조

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020130109743A KR101363346B1 (ko) 2012-03-12 2013-09-12 무격막 전해조

Country Status (10)

Country Link
US (1) US20150027880A1 (ko)
EP (1) EP2826888B8 (ko)
JP (1) JP5817071B2 (ko)
KR (2) KR101360079B1 (ko)
CN (1) CN104080954B (ko)
AU (1) AU2013232938B2 (ko)
DK (1) DK2826888T3 (ko)
ES (1) ES2641370T3 (ko)
SG (1) SG11201405653TA (ko)
WO (1) WO2013137624A1 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016163800A1 (ko) * 2015-04-08 2016-10-13 박시춘 전해조가 구비된 급수펌프
KR101965212B1 (ko) * 2019-01-23 2019-04-03 농업회사법인 주식회사 대율시스템 전기분해 장치

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101268040B1 (ko) * 2012-08-01 2013-06-03 한국코스믹라운드(주) 미산성 차아염소산수 생성장치
CN103771636B (zh) * 2014-01-17 2015-04-15 浙江大学 基于微酸性电解处理养殖水的处理方法
WO2015152611A1 (ko) * 2014-03-31 2015-10-08 (주)미라클인 용수배관 직결형 차아염소산 제조장치
CN105749308B (zh) * 2016-03-03 2018-08-07 中国农业科学院农产品加工研究所 一种食用菌菌种液体培养基的灭菌方法
ZA201707084B (en) * 2016-10-21 2018-11-28 Ultrapure Hocl Pty Ltd Hypochlorous acid
CN107439589A (zh) * 2017-07-21 2017-12-08 天津瑞艾化工贸易有限公司 无隔膜式电解槽制备的环保抗菌液
CN109423661A (zh) * 2017-09-04 2019-03-05 株式会社北越 高浓度微酸性电解水生成方法及装置
CN108265313A (zh) * 2018-03-27 2018-07-10 浙江长控电气科技有限公司 电解装置及用其电解稀食盐水制取酸性和碱性溶液的方法
JP7093541B2 (ja) * 2018-04-18 2022-06-30 株式会社微酸研 微酸性次亜塩素酸水の生成方法
KR101964791B1 (ko) * 2018-12-10 2019-04-02 황순환 차아염소산 생성장치
KR102300757B1 (ko) 2019-09-24 2021-09-10 박시춘 격벽이 구비된 차아염소산수 제조용 무격막 전해장치
JP7483481B2 (ja) * 2020-04-27 2024-05-15 森永乳業株式会社 電解水製造装置及び電解水の製造方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007313489A (ja) * 2006-05-23 2007-12-06 Hokuetsu:Kk 殺菌用水製造装置

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3856642A (en) * 1973-06-21 1974-12-24 Diamond Shamrock Corp Method for electrosanitizing waste water
JP2587731B2 (ja) * 1991-03-29 1997-03-05 株式会社オムコ 殺菌水製造用電解反応ユニット
US5534120A (en) * 1995-07-03 1996-07-09 Toto Ltd. Membraneless water electrolyzer
JP3437127B2 (ja) * 1999-07-07 2003-08-18 東亞合成株式会社 塩化アルカリ電解槽の運転方法
KR200251390Y1 (ko) * 2001-07-12 2001-11-17 임철규 해수 전해용 전해조
DE10216944A1 (de) * 2002-04-17 2003-11-06 Starck H C Gmbh Verfahren zur elektrochemischen Auflösung von Pulvern und dafür geeignete Elektrolysezellen
US7238272B2 (en) * 2004-02-27 2007-07-03 Yoichi Sano Production of electrolytic water
KR100592331B1 (ko) 2006-03-03 2006-06-21 (주) 테크윈 차아염소산나트륨 발생용 전기분해조
KR100634889B1 (ko) 2006-04-27 2006-10-16 (주) 시온텍 차아염소산나트륨 발생장치
JP2007301540A (ja) 2006-05-09 2007-11-22 Hokuetsu:Kk 微酸性電解水生成装置
JP2008055400A (ja) 2006-09-01 2008-03-13 Hokuetsu:Kk 二重電解による殺菌用水生成法
WO2009011841A1 (en) * 2007-07-13 2009-01-22 Ceramatec, Inc. Cleansing agent generator and dispenser
HK1129527A2 (en) * 2009-05-18 2009-11-27 Kuan Yu Wen The electrolytic apparatus for producing hclo solution
KR101031906B1 (ko) * 2009-07-21 2011-05-02 주식회사 욱영전해씨스템 해수 전해용 모노폴라형 전해조
KR101191480B1 (ko) * 2010-08-25 2012-10-15 주식회사 동양 세퍼레이터를 포함한 무격막 전해조 및 이를 포함하는 전해수 시스템
JP5758099B2 (ja) * 2010-09-24 2015-08-05 株式会社デイリーテクノ 次亜塩素酸水の製造装置及び製造方法
KR101027538B1 (ko) * 2010-09-28 2011-04-07 (주) 시온텍 살균 전해수 제조 장치, 이를 포함하는 살균 전해수 제조 시스템 및 방법
CN102217649B (zh) * 2011-03-24 2013-10-09 刘新志 无隔膜电解法制取弱酸性消毒水的方法及装置
JP5877031B2 (ja) * 2011-10-13 2016-03-02 株式会社デイリーテクノ 次亜塩素酸水の製造装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007313489A (ja) * 2006-05-23 2007-12-06 Hokuetsu:Kk 殺菌用水製造装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016163800A1 (ko) * 2015-04-08 2016-10-13 박시춘 전해조가 구비된 급수펌프
KR101965212B1 (ko) * 2019-01-23 2019-04-03 농업회사법인 주식회사 대율시스템 전기분해 장치

Also Published As

Publication number Publication date
AU2013232938B2 (en) 2015-09-17
AU2013232938A1 (en) 2014-10-02
JP2015510029A (ja) 2015-04-02
WO2013137624A1 (ko) 2013-09-19
EP2826888B1 (en) 2017-07-12
KR20130105466A (ko) 2013-09-25
CN104080954A (zh) 2014-10-01
KR20130108234A (ko) 2013-10-02
SG11201405653TA (en) 2014-11-27
US20150027880A1 (en) 2015-01-29
DK2826888T3 (en) 2017-10-16
JP5817071B2 (ja) 2015-11-18
KR101363346B1 (ko) 2014-02-14
EP2826888A1 (en) 2015-01-21
EP2826888A4 (en) 2015-11-25
CN104080954B (zh) 2016-07-20
ES2641370T3 (es) 2017-11-08
EP2826888B8 (en) 2017-08-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101360079B1 (ko) 무격막 전해조
TWI439570B (zh) 用於製備次氯酸水的電解裝置
BR112017026680B1 (pt) Sistema de eletrolisação de água de alto volume e método de uso
KR101934222B1 (ko) 전기분해수 생성장치
KR101198630B1 (ko) 차아염소산나트륨 제조용 전해조의 전극판 지지구조
US7785453B2 (en) Electrode for electrolytic cell
KR102231413B1 (ko) 전기분해조 내에 구비된 티타늄 재질의 냉각관을 포함하는 무격막식 차아염소산나트륨 생성장치
KR101436139B1 (ko) 차아염소산용액 생성용 염수의 전기분해장치
KR20140129815A (ko) 고농도 차아염소산나트륨 생산용 나트륨 해수전해장치
WO2008090367A1 (en) Electro-chlorinator
KR101762065B1 (ko) 고효율 전기분해 장치 및 방법
KR101031906B1 (ko) 해수 전해용 모노폴라형 전해조
JP2008119578A (ja) 電解装置
CN210262026U (zh) 一种离子膜电解用槽具
JP5253483B2 (ja) 電解装置
KR101339051B1 (ko) 튜브형 전해조의 보호 및 지지장치
WO2008128302A1 (en) Improved electrolytic cell
IT201800011022A1 (it) Cella elettrolitica per la produzione di liquidi disinfettanti
CN203782247U (zh) 单极式离子膜电解槽
JP6121221B2 (ja) 次亜塩素酸水の生成用電解槽
KR100532006B1 (ko) 전해수 생성장치를 갖는 세탁기
KR20130103867A (ko) 무격막 전해조
KR20070010100A (ko) 전해수 생성장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
AMND Amendment
AMND Amendment
A302 Request for accelerated examination
E902 Notification of reason for refusal
A107 Divisional application of patent
AMND Amendment
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170125

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200213

Year of fee payment: 7