KR101355416B1 - 미세패턴 도전성 페이스트 조성물 - Google Patents

미세패턴 도전성 페이스트 조성물 Download PDF

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Abstract

본 발명은 도전성 페이스트 조성물에 관한 것으로, 상기 조성물은 도전성 분말 40 내지 80중량%, 바인더 수지 5 내지 30중량%, 경화제 1 내지 20중량%, 및 용제 5 내지 30중량%를 포함하며, 상기 도전성 분말은 평균입경이 1 내지 5㎛이고 탭밀도가 3 내지 5g/cc이다.
본 발명에 따른 도전성 페이스트 조성물은 전기 전도성이 우수하고 스크린 프린팅 인쇄성이 뛰어나 미세패턴 형성이 용이하여, 터치스크린용 전극, 인쇄 회로용 전극 등 미세패턴 형성이 요구되는 디스플레이 장치의 전극 제조에 특히 유용하다.

Description

미세패턴 도전성 페이스트 조성물{CONDUCTIVE PASTE COMPOSITION FOR FINE PATTERN PRINTING}
본 발명은 전기 전도성이 우수하고 스크린 프린팅 인쇄성이 뛰어나 미세패턴 형성이 용이한 도전성 페이스트 조성물에 관한 것이다.
전세계적으로 IT 분야에서 '내로 베젤(narrow bezel)'이 대세가 되고 있다. '내로 베젤'이란 노트북이나 TV 등과 같은 제품의 LCD 화면 테두리(베젤)의 두께를 줄여 화면의 크기를 더욱 커 보이게 하는 동시에, 제품의 무게도 감소시킬 수 있어 현재 전세계적으로 많은 제품에서 채용되고 있는 기술이다. 현재 정전식 터치 스크린용 센서 패널과 같은 제품에서 전극 소재로 투명성이 확보되는 인듐 틴 옥사이드(indium tin oxide: ITO)가 주로 사용되고 있으나 이물질의 저항이 비교적 높기 때문에, 신호를 처리하는 IC칩까지의 신호 손실을 줄이기 위해서는 저항이 낮은 은, 구리, 알루미늄 등 금속 소재의 배선이 추가적으로 필요하다.
한편, 전자산업에도 환경에 대한 규제가 점차 강화되고, 원가 절감에 대한 요구가 높아지고 있다. 따라서 기존의 구리가 코팅된 기판에서 에칭 및 박리 공정을 통하여 회로 패턴을 형성하는 방식은 많은 폐액을 발생시켜 환경오염을 야기시키고, 복잡한 공정으로 인한 비용문제가 있었다. 하지만 최근에는 도전성 페이스트를 이용하여 스크린 프린팅과 같은 단순한 인쇄공정을 통해 기재에 회로를 형성하는 연구가 진행되고 있으며, 이를 통해 공정비를 낮추고 환경 규제에 대한 대응을 모색하고 있다. 최근에는 그라비아 인쇄, 스크린 인쇄, 나노 임프린트, 잉크제트 기술 등이 활발히 연구 중에 있다. 특히, 인쇄공정의 적용 범위의 확대를 겨냥해 패턴 형성의 미세화가 진행되고 있다.
한국특허공개 제2009-0063265호 (2009.06.17 공개) 한국특허공개 제2009-0037818호 (2009.04.16 공개)
본 발명의 목적은 전기 전도성이 우수하고 스크린 프린팅 인쇄성이 뛰어나 미세패턴 형성이 용이한 도전성 페이스트 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기 도전성 페이스트 조성물을 이용하여 제조된 전극 및 이를 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 구현예에 따른 도전성 페이스트 조성물은 도전성 분말 40 내지 80중량%, 바인더 수지 5 내지 30중량%, 경화제 1 내지 20중량%, 및 용제 5 내지 50중량%를 포함하며, 상기 도전성 분말은 평균입경이 1 내지 5㎛이고 탭밀도가 3 내지 5g/cc이다.
상기 도전성 분말은 평균입경이 1 내지 4㎛이고 탭밀도가 3 내지 5g/cc인 것일 수 있다.
상기 도전성 분말은 은, 니켈, 구리, 알루미늄, 금, 카본나노튜브, 카본블랙, 그래핀 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것일 수 있다.
상기 바인더 수지는 10,000g/mol 초과 100,000g/mol 이하 범위내의 중량평균 분자량을 갖는 고분자 수지와, 500g/mol 이상 10,000g/mol 이하 범위내의 중량평균 분자량을 갖는 저분자 수지를 포함할 수 있다.
상기 고분자 수지는 페녹시계, 폴리에스터계, 우레탄계, 에폭시계 수지 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것일 수 있다.
상기 저분자 수지는 반응기의 당량가가 100 내지 1500g/eq인 에폭시계 수지, 에스터계 수지, 폴리올계 수지, 페놀계 수지 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택될 수 있다.
상기 바인더 수지는 고분자 수지와 저분자 수지를 9:1 내지 3:7의 중량비로 포함할 수 있다.
상기 경화제는 잠재성 경화제일 수 있다.
상기 용제는 비점이 200℃ 미만인 저비점 용제와 200℃ 이상인 고비점 용제의 혼합물일 수 있다.
상기 도전성 페이스트 조성물은 흑색 전도성 안료, 실리카 미립자, 소포제, 레벨링제, 접착증진제, 커플링제, 분산제 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 첨가제를 더 포함할 수 있다.
상기 도전성 페이스트 조성물은 요변성 지수(thixotropic index: T.I)가 3 내지 10일 수 있다.
본 발명의 다른 일 구현예에 따르면 상기 도전성 페이스트 조성물을 이용하여 제조된 전극을 제공한다.
본 발명의 또 다른 일 구현예에 따르면 상기 도전성 페이스트 조성물을 이용하여 제조된 전극을 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.
기타 본 발명의 구현예들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.
본 발명에 따른 도전성 페이스트 조성물은 전기 전도성이 우수하고 스크린 프린팅 인쇄성이 뛰어나 미세패턴 형성이 용이하다. 그 결과, 터치스크린용 전극, 인쇄 회로용 전극 등 미세패턴 형성이 요구되는 디스플레이 장치의 전극 제조에 특히 유용하다.
이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
본 발명은 터치스크린용 전극, 인쇄회로용 전극 등의 전극 형성시 최적화된 입자크기 및 탭밀도를 갖는 도전성 분말을 포함하는 도전성 페이스트 조성물을 사용함으로써 전기전도성을 향상시키고 미세패턴 구현을 가능하게 하는 것을 일 특징으로 한다.
즉, 본 발명의 일 구현예에 따른 도전성 페이스트 조성물은 도전성 분말, 바인더 수지, 경화제 및 용제를 포함하며, 상기 도전성 분말은 평균입경이 1 내지 5㎛이고 탭밀도(tap density)가 3 내지 5g/cc이다.
바람직하게는 상기 도전성 분말은 평균입경이 1 내지 4㎛이고 탭밀도가 3 내지 5g/cc이다. 도전성 분말이 상기 입자크기와 탭밀도의 조건을 동시에 충족함으로써, 상기 도전성 분말을 포함하는 도전성 페이스트 조성물이 우수한 칙소성과 함께 개선된 전기적 특성 및 인쇄성을 나타낼 수 있다.
상기 도전성 분말의 형태는 특별히 한정되는 것은 아니며, 요구되는 전도성에 따라 구형, 침상형, 막대형, 판상 또는 편상(片狀)을 가질 수 있으며, 이들 중 1종 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 도전성 분말로는 통상 도전성을 가져 전극 형성에 이용되는 것이라면 특별한 한정없이 사용가능하며, 구체적으로는 은, 니켈, 구리, 알루미늄, 금 등의 금속 분말; 카본나노튜브, 카본블랙, 그래핀 등의 탄소계 분말; 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것을 사용할 수 있다.
바람직하게는 보다 개선된 전기전도성과 미세패턴 구현 면에서 상기 도전성 분말로 평균입경이 1 내지 5 ㎛이고, 탭 밀도가 3 내지 5g/cc인 편상의 은 분말을 사용하는 것이 좋다.
상기와 같은 도전성 분말은 도전성 페이스트 조성물 총 중량에 대하여 40 내지 80중량%의 양으로 포함되는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 60 내지 80중량%의 양으로 포함될 수 있다. 도전성 분말의 함량이 40중량% 미만이면 도전성 페이스트 조성물의 전기전도성이 낮고, 80중량%를 초과하는 경우 기재와의 밀착 불량이 발생할 우려가 있다.
본 발명은 또한, 상기 최적화된 입경 및 탭빌도를 갖는 도전성 분말과 함께 스크린 인쇄 타입의 미세전극 패턴 형성시 적합한 요변성, 구체적으로 T.I가 3 내지 10을 갖도록 최적화된 바인더 수지를 사용하는 것을 일 특징으로 한다.
구체적으로, 상기 바인더 수지는 10,000g/mol 초과 100,000g/mol 이하 범위내의 중량평균 분자량을 갖는 고분자 수지와, 500g/mol 이상 10,000g/mol 이하 범위내의 중량평균 분자량을 갖는 저분자 수지를 포함한다. 상기와 같이 최적화된 중량평균 분자량을 갖는 고분자 수지와 저분자 수지를 혼합사용를 함으로써 도전성 페이스트 조성물의 점도, 칙소성, 유연성 및 신뢰성을 개선시킬 수 있다.
바람직하게는 상기 고분자 수지로는 상기 중량평균 분자량 범위를 충족하는 동시에 유리전이온도가 5 내지 100℃인 고분자 수지를 사용하는 것이 도전성 페이스트 조성물의 전기전도성, 칙소성 및 인쇄성에 대해 보다 우수한 개선효과를 얻을 수 있어서 좋다.
또한, 상기 고분자 수지로는 구조적으로 유연한 분자 구조를 갖는 것을 사용하는 것이 바람직한데, 구체적으로는 페녹시계, 폴리에스터계, 에폭시계 및 우레탄계 수지로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 고분자 수지를 사용할 수 있으며, 이들 수지의 관능기를 3관능 이상의 반응성 물질로 치환시킨 것을 사용할 수도 있다. 상기 3관능 이상의 반응성 물질로는 아크릴계, 실란계, 티탄계, 에폭시계, 티올계, 아민계, 및 이소시아네이트계로 이루어진 군에서 선택되는 화합물을 사용할 수 있으며, 구체적으로는 트리아세톡시(메틸)실란(triacetoxy(methyl)silane), 트리클로로(3-클로로프로필)실란(trichloro(3-chloropropyl)silane), 트리클로로(헥실)실란(trichloro(hexyl)silane), 트리에톡시(에틸)실란(triethoxy(ethyl)silane), 트리에톡시(옥틸)실란(triethoxy(octyl)silane), 비닐트리메톡시실란(vinyltrimethoxysilane), 트리스(2-메톡시에톡시)(비닐)실란(tris(2-methoxyethoxy)(vinyl)silane), (3-아미노프로필)트리스(트리메틸실록시)실란(3-aminopropyl)tris(trimethylsiloxy)silane), γ-글리시독시프로필-트리메톡시실란(γ-glycidoxypropyl-trimethoxysilane), γ-머캅토프로필-트리메톡시실란(γ-mercaptopropyl-trimethoxysilane) 등의 실란계 화합물; 이소프로필 트리(디옥틸포스페이트)티타네이트(isopropyl tri(dioctylphosphate) titanate), 이소프로필 트리스테아릴 티타네이트(isopropyl tristearyl titanate), 이소프로필 트리(도데실벤젠술포네이트) 티타네이트(isopropyl tri(dodecylbenzenesulfonate) titanate), 티타늄(IV) 부톡사이드(titanium (IV) butoxide) 등의 티타네이트계; 트리글리시딜 이소시아누레이트(triglycidyl isocyanurate), 트리글리시딜 트리멜리테이트(triglycidyl trimellitate) 등의 에폭시계; 트리에탄올아민(triethanol amine), 헥사메틸롤멜라민(hexamethylolmelamine) 등의 아민계; 트리메틸롤프로판 트리아크릴레이트(trimethylol propane triacrylate), 펜타에리쓰리톨 트리아크릴레이트(pentaerythritol triacrylate), 디펜타에리쓰리톨 헥사아크릴레이트(dipentaerythritol hexacrylate) 등의 아크릴계 화합물을 들 수 있으며, 이들 중 1종 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 저분자 수지로는 중량평균 분자량이 500g/mol 이상 10,000g/mol 이하 범위 내의 것을 사용할 수 있으며, 보다 우수한 전기전도성, 칙소성 및 인쇄성을 갖는 도전성 페이스트 조성물의 제조가 가능하도록 500g/mol 이상 5,000g/mol이하 범위 내의 중량평균 분자량을 갖는 저분자 수지를 사용하는 것이 바람직하다.
구체적으로 상기 저분자 수지로는 반응기의 당량가가 100 내지 1500g/eq인 에폭시계 수지, 에스터계 수지, 폴리올계 수지, 페놀계 수지 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 분자 사슬에 우레탄, 부타디엔, 아크릴로니트릴, 에테르와 같은 유연성을 부여하는 작용기를 포함하고, 수산기, 아민기, 이소시아네이트기, 카르복실기, 에폭시기와 같은 반응성 및 기재 밀착력을 갖는 작용기를 적어도 1종 이상 포함하는 것이 좋다.
상기 바인더 수지는 도전성 페이스트 조성물의 점도, 칙소성, 유연성 및 신뢰성 개선 효과면에서 상기 고분자 수지와 저분자 수지를 9:1 내지 3:7의 중량비로 포함하는 것이 바람직하다.
상기와 같은 바인더 수지는 도전성 페이스트 조성물 총 중량에 대하여 5 내지 30중량%로 포함되는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 20 내지 30중량%로 포함되는 것이 좋다. 바인더 수지의 함량이 5중량% 미만일 경우 기재에 대한 밀착 불량이 발생할 우려가 있고, 30중량%를 초과하는 경우 전도성의 저하 및 인쇄점도가 높아져 인쇄성이 저하될 우려가 있어 바람직하지 않다.
상기 경화제로는 일액형 페이스트의 저장 안정성을 고려하여 잠재성 경화제를 사용하는 것이 바람직하다. 잠재성 경화제로는 통상 도전성 페이스트 조성물에 사용되는 것이라면 특별한 제한없이 사용가능하며, 구체적으로는 에틸렌디아민, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌 테트라민, 테트라에틸렌펜타아민 등의 지방족 아민계; 메타페닐렌디아민, 디아미노디페닐메탄, 4,4-디아미노디페닐설폰 등의 방향족 아민계; 지방족 폴리아민; 우레아변성 폴리아민, 알킬변성 디시안디아마이드, 알킬변성 이미다졸 등의 변성 폴리아민계; 이미다졸 또는 그 유도체; 디시안디아마이드 등의 디시안디아마이드(dicyandiamide, DICY)계; 블록이소시아네이트계; 이소프탈산디하이드라지드 등의 디하이드라지드계; N,N'-디알킬우레아 유도체, N,N'-디알킬티오우레아유도체 등의 우레아계; 또는 멜라민 유도체 등을 사용할 수 있다. 이들 중에서 요구되는 경화온도에 따라 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.
상기 경화제는 수지 조성물의 당량을 고려하여 그 함량을 적절히 조절할 수 있는데, 바람직하게는 도전성 페이스트 조성물 총 중량에 대하여 1 내지 20중량%로 포함되는 것이 좋고, 보다 바람직하게는 1 내지 5중량%로 포함되는 것이 좋다. 경화제의 함량이 1중량% 미만이면 미경화에 따른 전도성 저하, 경화막의 표면경도 저하 등의 우려가 있고, 20중량%를 초과하면 전도성 저하 및 경화도막이 부러지기 쉬워(brittle) 바람직하지 않다.
상기 용제로는 통상 도전성 페이스트 조성물에 사용되는 것이라면 특별한 제한없이 사용가능하며, 구체적으로는 에탄올, 이소프로판올, 테르피네올과 같은 알코올류; 에틸렌글리콜, 글리세린과 같은 글리콜류; 에틸아세테이트, 부틸아세테이트, 카비톨아세테이트, 에틸카비톨아세테이트, 2-(2-에톡시에톡시)에틸 아세테이트와 같은 아세테이트류; 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 디에틸에테르, 테트라히드로푸란과 같은 에테르류; 메틸에틸케톤, 아세톤, 1-메틸-2-피롤리돈과 같은 케톤류; 헥산, 헵탄, 파라핀오일과 같은 탄화수소계; 벤젠, 톨루엔, 자일렌과 같은 방향족 탄화수소계; 클로로포름, 메틸렌클로라이드와 같은 할로겐 치환 용제 등을 사용할 수 있다.
이들 중에서도 인쇄 작업성, 유동성, 점도 등을 고려하여 200℃ 미만의 저비점 용제와 200℃ 이상의 고비점 용제를 2종 이상 혼합하여 사용하는 것이 보다 바람직하다.
상기 용제는 도전성 페이스트 조성물 총 중량에 대하여 5 내지 50중량%로 포함될 수 있으며, 보다 바람직하게는 30 내지 50중량%로 포함되는 것이 좋다. 용제의 함량이 상기 범위를 벗어날 경우 인쇄성이 저하될 우려가 있다.
본 발명에 따른 도전성 페이스트 조성물은 상기 성분들과 함께 목적 및 용도에 따라 다양한 첨가제를 더 포함할 수 있다.
구체적으로는, 카본블랙, 흑연, 탄소나노튜브, 그래핀 등 난반사와 명암비를 높이기 위한 흑색의 전도성 안료; 요변성을 높이기 위한 다양한 종류의 실리카 미립자; 인쇄특성을 향상시키기 위한 실리콘계, 아크릴계 소포제 또는 레벨링제; 기재 밀착력을 보강하기 위해 에폭시계, 아크릴계 또는 우레탄계 접착증진제; 도전성 분말과 고분자 수지와의 상용성을 높이기 위한 실란계 또는 티탄계 커플링제; 또는 도전성 분말의 분산 효율을 높이기 위한 분산제 등이 사용될 수 있으며, 이들 중 1종 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기와 같은 첨가제는 도전성 페이스트 조성물의 물성을 저해하지 않는 범위에서 그 용도에 따라 적절한 함량으로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 도전성 페이스트 조성물 총 중량에 대하여 0.1 내지 5중량%로 포함될 수 있다.
상기와 같은 구성을 갖는 도전성 페이스트 조성물은 전기 전도성이 우수하고 스크린 프린팅 인쇄성이 뛰어나 미세패턴 형성이 용이하다. 구체적으로 상기 도전성 페이스트 조성물은 요변성 지수(thixotropic index: T.I)가 3 내지 10이다. 그 결과, 본 발명에 따른 도전성 페이스트 조성물은 전자 장치, 또는 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 액정 표시 장치(LCD), 발광 다이오드(LED) 등을 포함하는 디스플레이 장치에서의 전자파 장애(Electromagnetic Interference: EMI) 차폐용 조성물, 인쇄회로기판(printed circuit board: PCB) 회로 접점용 조성물, 반도체 칩 본딩용 접착제 조성물이나, 인쇄 회로용 전극 형성용 조성물로 사용될 수 있으며, 이중에서도 터치스크린용 전극, 인쇄 회로용 전극 등 미세패턴 형성이 요구되는 디스플레이 장치에서의 전극 형성용 조성물로 특히 유용하다.
이에 따라 본 발명의 다른 일 구현예에 따르면 상기 도전성 페이스트 조성물에 의해 제조된 전극 및 상기 전극을 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.
상기 디스플레이 장치로는 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 액정 표시 장치(LCD), 발광 다이오드(LED) 등을 들 수 있다.
본 발명에 따른 도전성 페이스트 조성물을 이용한 전극의 제조방법, 및 상기 제조방법에 의해 제조된 전극을 포함하는 것을 제외하고는 상기 디스플레이 장치에서의 각 구성부는 통상의 구성에 의하므로 그 구체적인 기재는 생략한다.
이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
실시예 1
페녹시계 수지(PKHM-301™, InChem Industry사제) 70g과 용제로서 2-(2-에톡시에톡시)에틸아세테이트(2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate) 120g을 넣고 60℃에서 수지가 완전히 녹을 때까지 교반하였다. 결과로 수득된 혼합용액 26.4g 에, 에폭시계 수지(KR-818™, kokdo chemical사제) 6g, 은 분말(평균입경: 1.0 내지 4.5㎛, 탭밀도: 3 내지 4.5g/cc) 66.5g 및 경화제로서 아미큐어™ PN-31(Ajinomoto사제) 1.1g을 칭량하여 첨가한 후 교반하고, 3-롤-밀에 3회간 통과시켜 도전성 페이스트 조성물을 제조하였다.
실시예 2
폴리에스터계 수지(ES-100™, SK chemical사제) 70g과 용제로서 2-(2-에톡시에톡시)에틸아세테이트 120g을 넣고 60℃에서 수지가 완전히 녹을 때까지 교반하였다. 결과로 수득된 혼합용액 24.7g에, 에폭시계 수지(KR-818™, kokdo chemical사제) 7.2g, 은 분말(평균입경: 1.0 내지 4.5㎛, 탭밀도: 3 내지 4.5g/cc) 66.7g, 및 경화제로서 아미큐어™ PN-31(Ajinomoto사제) 1.4g을 칭량하여 첨가한 후 교반하고, 3-롤-밀에 3회간 통과시켜 도전성 페이스트 조성물을 제조하였다.
실시예 3
폴리우레탄계 수지(Elasthane-75D™, DSM사제) 70g과 용제로서 2-(2-에톡시에톡시)에틸아세테이트 120g을 넣고 60℃에서 수지가 완전히 녹을 때까지 교반하였다. 결과로 수득된 혼합용액 25.8g에, 에폭시계 수지(KR-818™, kokdo chemical사제) 6g, 은 분말(평균입경: 1 내지 4.5㎛, 탭밀도: 3 내지 4.5g/cc) 67g 및 경화제로서 아미큐어™ PN-31(Ajinomoto사제) 1.2g을 칭량하여 첨가한 후 교반하고, 3-롤-밀에 3회간 통과시켜 도전성 페이스트 조성물을 제조하였다.
비교예 1
페녹시계 수지(PKHM-301™, Inchem Industry사제) 70g과 용제로서 2-(2-에톡시에톡시)에틸아세테이트 120g을 넣고 60℃에서 수지가 완전히 녹을 때까지 교반하였다. 결과로 수득된 혼합용액 26.4g에, 에폭시계 수지(KR-818™, kokdo chemical사제) 6g, 은 분말 (평균입경: 11 내지 16㎛, 탭밀도: 1.0 내지 2.0g/cc) 66.5g 및 경화제로서 아미큐어™ PN-31(Ajinomoto사제) 1.1g을 칭량하여 첨가한 후 교반하고, 3-롤-밀에 3회간 통과시켜 도전성 페이스트 조성물을 제조하였다.
비교예 2
폴리에스터계 수지(ES-100™, SK chemical사제) 70g과 용제로서 2-(2-에톡시에톡시)에틸아세테이트 120g을 혼합하고 60℃에서 수지가 완전히 녹을 때까지 교반하였다. 결과로 수득된 혼합용액 24.7g에, 에폭시계 수지(KR-818™, kokdo chemical사제) 7.2g, 은 분말(평균입경: 11 내지 16㎛, 탭밀도: 1.0 내지 2.0g/cc) 66.7g, 및 경화제로서 아미큐어™ PN-31(Ajinomoto사제) 1.4g을 칭량하여 첨가한 후 교반하고, 3-롤-밀에 3회간 통과시켜 도전성 페이스트 조성물을 제조하였다.
비교예 3
폴리우레탄계 수지(Elasthane-75D™, DSM사제) 70g과 용제로서 2-(2-에톡시에톡시)에틸아세테이트 120g을 혼합하고 60℃에서 수지가 완전히 녹을 때까지 교반하였다. 결과로 수득된 혼합용액 25.8g에, 에폭시계 수지(KR-818™, kokdo chemical사제) 6g, 은 분말 (평균입경: 6 내지 10㎛, 탭밀도: 1.0 내지 2.5g/cc) 67g 및 경화제로서 아미큐어™ PN-31(Ajinomoto사제) 1.2g을 칭량하여 첨가한 후 교반하고, 3-롤-밀에 3회간 통과시켜 도전성 페이스트 조성물을 제조하였다.
시험예 : 물성 평가
상기 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 3에서 제조된 도전성 페이스트 조성물을 점도계에 각각 일정량씩 넣은 후, 1rpm 및 10rpm에서 점도를 측정하고 이로부터 칙소성(thixotropic)을 평가하였다. 이때 칙소값은 1rpm점도/10rpm점도로 계산할 수 있다.
또한, 상기 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 3에서 제조된 도전성 페이스트 조성물을 패턴이 형성되어 있는 500메쉬 스테인레스 스크린 망[선폭/간격=60㎛/60㎛]을 통하여 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethylenetelephtalate: PET) 필름 위에 각각 인쇄한 후, 인쇄된 도막을 130℃ 열풍건조기에서 30분간 열경화시겼다. 이어 경화된 도막에 대해 하기와 같은 방법으로 체적저항 및 인쇄성을 평가하였다.
1) 체적저항: 너비 1cm, 길이 5cm, 두께 10㎛의 도막을 PET 필름 위에 인쇄, 경화시킨 후, 양쪽 말단에 단자를 찍어 저항을 측정하고, 이를 체적저항으로 환산하였다.
2) 인쇄성: 선폭/간격=60㎛/60㎛ 도막을 PET 필름 위에 인쇄, 경화시킨 후 광학현미경으로 촬영, 선폭과 간격을 측정하였다. 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
칙소성 체적저항 [Ω·㎝] 인쇄성
[선폭/간격]
실시예 1 5.1 5.5×10-5 63㎛/57㎛
실시예 2 4.7 5.7×10-5 65㎛/55㎛
실시예 3 4.5 5.6×10-5 64㎛/56㎛
비교예 1 2.8 7.5×10-5 81㎛/39㎛
비교예 2 1.9 8.3×10-5 75㎛/45㎛
비교예 3 2.3 8.6×10-5 77㎛/43㎛
상기 표 1에 나타난 바와 같이, 실시예 1 내지 3의 도전성 페이스트 조성물은 비교예 1 내지 3에 비해 현저히 개선된 칙소성을 나타내었으며, 상기 도전성 페이스트 조성물을 이용하여 제조된 도막 또한 비교예 1 내지 3에 비해 낮은 체적저항과 인쇄성을 나타내었다. 이 같은 결과로부터 본 발명에 따른 도전성 페이스트 조성물이 우수한 전기적 특성 및 인쇄성을 가짐을 확인할 수 있다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.

Claims (13)

  1. 도전성 분말 40 내지 80중량%
    바인더 수지 5 내지 30중량%
    경화제 1 내지 20중량%, 및
    용제 5 내지 50중량%를 포함하며,
    상기 도전성 분말은 평균입경이 1 내지 5㎛이고 탭밀도가 3 내지 5g/cc이며,
    상기 바인더 수지는 10,000g/mol 초과 100,000g/mol 이하 범위내의 중량평균 분자량을 가지며, 페녹시계, 폴리에스터계, 우레탄계, 에폭시계 수지 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 고분자 수지와; 500g/mol 이상 10,000g/mol 이하 범위내의 중량평균 분자량을 가지며, 반응기의 당량가가 100 내지 1500g/eq인 에폭시계 수지, 에스터계 수지, 폴리올계 수지, 페놀계 수지 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 저분자 수지를 포함하는 것인 스크린 프린팅용 도전성 페이스트 조성물.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 도전성 분말은 평균입경이 1 내지 4㎛이고 탭밀도가 3 내지 5g/cc인 스크린 프린팅용 도전성 페이스트 조성물.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 도전성 분말은 은, 니켈, 구리, 알루미늄, 금, 카본나노튜브, 카본블랙, 그래핀 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것인 스크린 프린팅용 도전성 페이스트 조성물.
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서,
    상기 바인더 수지는 고분자 수지와 저분자 수지를 9:1 내지 3:7의 중량비로 포함하는 것인 스크린 프린팅용 도전성 페이스트 조성물.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 경화제는 잠재성 경화제인 스크린 프린팅용 도전성 페이스트 조성물.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 용제는 비점이 200℃ 미만인 저비점 용제와 200℃ 이상인 고비점 용제의 혼합물인 것인 스크린 프린팅용 도전성 페이스트 조성물.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 스크린 프린팅용 도전성 페이스트 조성물은 흑색 전도성 안료, 실리카 미립자, 소포제, 레벨링제, 접착증진제, 커플링제, 분산제 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 첨가제를 더 포함하는 것인 스크린 프린팅용 도전성 페이스트 조성물.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 스크린 프린팅용 도전성 페이스트 조성물은 요변성 지수가 3 내지 10인 것인 스크린 프린팅용 도전성 페이스트 조성물.
  12. 제1항 내지 제3항, 및 제7항 내지 제11항 중 어느 한 항에 따른 스크린 프린팅용 도전성 페이스트 조성물을 이용하여 제조된 전극.
  13. 제1항 내지 제3항, 및 제7항 내지 제11항 중 어느 한 항에 따른 스크린 프린팅용 도전성 페이스트 조성물을 이용하여 제조된 전극을 포함하는 디스플레이 장치.
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