KR101340814B1 - 전력 공급부재 및 기판 처리 장치 - Google Patents

전력 공급부재 및 기판 처리 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 판 형상으로서 재질이 도체이고, 하측이 반응기와 전기적으로 연결된 하측 플레이트; 일부가 도체 재질을 포함하는 도체편, 일부가 부도체의 재질을 포함하는 부도체편을 구비한 판 형상으로서 하면이 상기 하측 플레이트의 상면과 맞닿고, 중심축을 중심으로 회전하여 주기적으로 전력을 상기 하측 플레이트에 공급하는 전력 단속부; 일단이 상기 전력 단속부의 상면에 배치되어 알에프(RF) 전력을 공급하는 전력 공급라인; 및 상기 전력 단속부와 결합하여 상기 전력 단속부에 회전력을 제공하는 구동부를 포함하는 전력 공급부재 및 기판 처리장치에 관한 것이다. 이러한 본 발명에 따르면, RF 파워의 on/off를 스위치를 사용하지 않고 전력 단속부가 회전에 의해 반응기에 알에프 전력을 공급할 수 있어, 기계적으로 정확한 전력 공급 컨트롤이 가능하다.

Description

전력 공급부재 및 기판 처리 장치 {Member for supplying radio frequency power and apparatus for treating substrate}
본 발명은 전력 공급부재 및 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 반도체 웨이퍼 등과 같은 기판에 대해 공정을 수행하기 위해 전력을 공급하는 전력 공급부재 및 이를 이용한 기판 처리 장치에 관한 것이다.
반도체 소자의 고집적화가 진행되면서 미세 패터닝된 구조를 매립하거나 도포하기 위해 종래의 화학 기상 증착(Chemical Vapor Deposition, 이하 CVD) 공정에 비해 스텝 커버리지가 더욱 우수한 공정이 필요하게 되었고, 그 대안으로 불순물을 최대한 억제하면서 균일한 두께로 박막을 형성할 수 있는 원자층 증착(Atomic Layer Deposition, 이하 ALD) 공정이 주로 사용되고 있다.
ALD는 화학적으로 달라붙는 현상을 이용해 웨이퍼 표면에 분자를 흡착시킨 후 치환시켜 흡착과 치환을 번갈아 진행하기 때문에 초미세 층간(layer-by-layer) 증착이 가능하고 산화물과 금속박막을 최대한 얇게 쌓을 수 있는 특징이 있다. 또 CVD보다 낮은 온도(500℃ 이하)에서 우수한 막질을 형성할 수 있어 시스템온칩(SoC) 제조에 적합하다는 것이 큰 장점이다.
도 1은 종래의 ALD 장치를 개략적으로 나타낸 도면으로, 가스공급부(10), 샤워헤드부(20), 파워인가부(30) 및 배기부(40)로 구성된다(한국등록특허 제0744528호 참조).
증착기체, 반응기체, 퍼지가스 및 불활성가스가 공급되는 가스 공급부(10)는 제1 전구체 가스(precursor1)가 공급되는 제1 전구체 공급원(11), 제2 전구체(precursor2)가 공급되는 제2 전구체 공급원(12), 퍼지 가스 공급원(13), 불활성가스(Inert Gas) 공급원(14) 및 각 가스의 개폐 및 유량을 조절할 수 있는 다수의 밸브(v/v 1 ~ v/v 4)로 구성된다.
이렇게 반응기에 원료 기체와 퍼지 기체를 공급하는 원자층 증착법에서는 반응기에 공급하는 기체를 전환하기 위해 다수의 밸브(v/v 1 ~ v/v 4)의 on/off를 수시로 조작해야 하므로 기체 공급 장치가 매우 복잡하고, 밸브(v/v 1 ~ v/v 4) on/off 조작에 따른 소음이 문제가 된다. 뿐만 아니라, 정확한 밸브(v/v 1 ~ v/v 4)의 on/off 컨트롤이 증착률을 좌우하지만 밸브의 on/off는 근본적으로 정확한 컨트롤이 어려운 문제점이 있다.
뿐만 아니라, 파워 인가부(30)를 통해 RF 파워를 샤워헤드(20)에 직접 인가하여 Plasma ON 상태를 만들고, RF 파워를 차단하여 Plasma OFF 상태를 만드는 공정을 반복해야 하기 때문에 RF 파워 역시 on/off의 정확한 컨트롤이 어려운 문제점이 있다.
한국등록특허 제0744528호 (2007. 07. 25), "알에프 파워가 인가되는 가스 분리형 샤워헤드를 이용한 플라즈마 원자층 증착장치 및 방법"
본 발명의 목적은 전원의 온/오프를 이용하지 않고 반응기에 전력을 주기적으로 공급할 수 있는 전력 공급부재 및 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.
위와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시예에 따른 전력 공급부재는 판 형상으로서 재질이 도체이고, 하측이 반응기와 전기적으로 연결된 하측 플레이트; 일부가 도체 재질을 포함하는 도체편, 일부가 부도체의 재질을 포함하는 부도체편을 구비한 판 형상으로서 하면이 상기 하측 플레이트의 상면과 맞닿고, 중심축을 중심으로 회전하여 주기적으로 전력을 상기 하측 플레이트에 공급하는 전력 단속부; 일단이 상기 전력 단속부의 상면에 배치되어 알에프(RF) 전력을 공급하는 전력 공급라인; 및 상기 전력 단속부와 결합하여 상기 전력 단속부에 회전력을 제공하는 구동부를 포함한다.
여기서, 상기 전력 단속부는, 원판 형상으로서 전력이 선택된 각도일 때에만 반응기에 공급되도록 평면상 반경 방향으로 도체편이 구비될 수 있다.
아울러, 상기 도체편은, 평면상 반경 90도 방향으로 형성될 수 있다.
나아가, 상기 전력 단속부는, 상면에 원형의 가이드 홈이 형성되고, 상기 전력 공급라인의 일단은 하측에 회전하는 상기 가이드 홈에 대응되어 구비되는 가이드 돌기를 구비할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판을 지지하는 기판 지지대를 구비하고, 기판을 처리하는 공간을 제공하는 반응기; 상기 반응기에 주기적으로 제1 소스 가스를 단속하여 공급하는 제1 가스 공급부재; 상기 반응기에 주기적으로 제2 소스 가스를 단속하여 공급하는 제2 가스 공급부재; 상기 반응기에 퍼지 가스를 공급하는 퍼지 가스 공급부재; 및 상기 반응기에 주기적으로 전력을 단속하여 공급하는 전력 공급부재를 포함한다.
여기서, 상기 전력 공급부재는, 판 형상으로서 재질이 도체이고, 하측이 반응기와 전기적으로 연결된 하측 플레이트; 일부가 도체 재질을 포함하는 도체편, 일부가 부도체의 재질을 포함하는 부도체편을 구비한 판 형상으로서 하면이 상기 하측 플레이트의 상면과 맞닿고, 중심축을 중심으로 회전하여 주기적으로 전력을 상기 하측 플레이트에 공급하는 전력 단속부; 일단이 상기 전력 단속부의 상면에 배치되어 알에프(RF) 전력을 공급하는 전력 공급라인; 및 상기 전력 단속부와 결합하여 상기 전력 단속부에 회전력을 제공하는 구동부를 포함한다.
아울러, 상기 제1 가스 공급부재는, 제1 소스 가스를 공급하는 제1 소스 가스 공급관; 원통 형상으로서 일측이 상기 제1 소스 가스 공급관과 연통되고, 일측이 상기 반응기와 연통된 제1 외통; 원기둥 형상으로서 외주면이 상기 제1 외통의 내주면과 맞닿고, 중심축을 중심으로 회전하여 주기적으로 상기 제1 소스 가스를 상기 반응기에 공급하는 제1 소스 가스 단속부; 및 상기 제1 소스 가스 단속부와 결합하여 상기 제1 소스 가스 단속부에 회전력을 제공하는 제1 구동부를 구비할 수 있다.
나아가, 상기 제2 가스 공급부재는, 제2 소스 가스를 공급하는 제2 소스 가스 공급관; 원통 형상으로서 일측이 상기 제2 소스 가스 공급관과 연통되고, 일측이 상기 반응기와 연통된 제2 외통; 원기둥 형상으로서 외주면이 상기 제2 외통의 내주면과 맞닿고, 중심축을 중심으로 회전하여 주기적으로 상기 제2 소스 가스를 상기 반응기에 공급하는 제2 소스 가스 단속부; 및 상기 제2 소스 가스 단속부와 결합하여 상기 제2 소스 가스 단속부에 회전력을 제공하는 제2 구동부를 구비할 수 있다.
더욱이, 상기 제1 소스 가스 단속부는, 상기 제1 소스 가스가 선택된 각도일 때에만 상기 반응기에 공급되도록 단면상 반경 방향으로 절개홈이 형성되고, 상기 제2 소스 가스 단속부는, 상기 제2 소스 가스가 선택된 각도일 때에만 상기 반응기에 공급되도록 단면상 반경 방향으로 절개홈이 형성될 수 있다.
또한, 상기 제1 소스 가스의 공급 주기와 상기 제2 소스 가스의 공급 주기가 일치할 경우, 상기 제2 외통은, 상기 제1 외통과 일체로 형성되고, 상기 제2 소스 가스 단속부는, 상기 제1 외통 내부에서 상기 제1 소스 가스 단속부의 하측에 배치되며, 상기 제1 구동부는 상기 제2 구동부를 대신하여 상기 제2 소스 가스 단속부에도 회전력을 제공할 수 있다.
게다가, 상기 구동부, 상기 제1 구동부 및 상기 제2 구동부는, 서로 기계적으로 연결되어 상기 구동부, 상기 제1 구동부 및 상기 제2 구동부 중의 어느 하나의 회전력에 의해 각각에 회전력을 제공할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 전력 공급부재 및 기판 처리 장치에 의하면,
첫째, RF 파워의 on/off를 스위치를 사용하지 않고 전력 단속부가 회전에 의해 반응기에 알에프 전력을 공급할 수 있어, 기계적으로 정확한 전력 공급 컨트롤이 가능하다.
둘째, 전력 단속부의 도체편이 평면상 일정한 반경 방향으로 구비되어 전력이 선택된 각도일 때에만 반응기에 공급되게 할 수 있다.
셋째, 전력 단속부의 도체편이 평면상 반경 90도 방향으로 형성되어도 회전 속도를 조절하여 반응기에 원하는 시간만큼의 전력을 공급할 수 있다.
넷째, 밸브의 개폐를 사용하지 않고 소스 가스 단속부가 회전에 의해 반응기에 소스 가스를 공급할 수 있어, 고가의 밸브 시스템을 사용하지 않고도 기계적으로 정확한 가스 공급 컨트롤이 가능하다.
다섯째, 소스 가스 단속부에 절개홈이 형성되어 소스 가스가 선택된 각도일 때에만 반응기에 공급되게 할 수 있다.
여섯째, 복수의 소스 가스도 복수의 가스 공급부재를 사용하여 원하는 주기로 원하는 시간차를 두어 공급할 수 있다.
일곱째, 제1 소스 가스의 공급 주기와 제2 소스 가스의 공급 주기가 일치할 경우, 하나의 외통 내부에서 소스 가스 단속부를 복수로 배치하고 하나의 구동부만으로도 회전력을 제공할 수 있다.
여덟째, 복수의 소스 가스 단속부를 하나의 구동부에 기계적으로 연결하여 하나의 구동부의 회전력에 의해 복수의 소스 가스 단속부에 회전력을 제공할 수 있다.
아홉째, 구동부, 제1 구동부 및 제2 구동부를 서로 기계적으로 연결하여 구동부, 제1 구동부 및 제2 구동부 중의 어느 하나의 회전력에 의해 각각에 회전력을 제공할 수 있다.
도 1은 종래의 ALD 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 가스 공급장치를 나타낸 측면도이다.
도 3은 도 2에 도시된 전력 단속부의 작동 원리를 보여주는 평면도이다.
도 4는 도 2에 도시된 전력 단속부의 다른 실시예를 나타낸 사시도이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타낸 종단면도이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 가스 공급장치를 나타낸 일부 절개사시도이다.
도 7은 작동 원리를 보여주기 위하여 도 6에 도시된 A-A 부분의 단면도이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타낸 종단면도이다.
도 9는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치에 의해 공급되는 가스의 순환주기를 나타낸 그래프이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명한다. 이 때, 첨부된 도면에서 동일한 구성 요소는 가능한 동일한 부호로 나타내고 있음에 유의한다. 또한, 본 발명의 요지를 흐리게 할 수 있는 공지 기능 및 구성에 대한 상세한 설명은 생략할 것이다. 마찬가지 이유로 첨부 도면에 있어서 일부 구성요소는 과장되거나 생략되거나 개략적으로 도시되었다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 가스 공급장치를 나타낸 측면도, 도 3은 도 2에 도시된 전력 단속부의 작동 원리를 보여주는 평면도, 도 4는 도 2에 도시된 전력 단속부의 다른 실시예를 나타낸 사시도이다.
도 2 내지 도 4를 참조하면, 전력 공급부재(100)는 하측 플레이트(110), 전력 단속부(120), 전력 공급라인(130) 및 구동부(140)를 포함한다. 전력 공급부재(100)는 반응기(500)의 샤워헤드 등에 주기적으로 전력을 공급한다.
하측 플레이트(110)는 판 형상으로서 재질이 도체이고, 하측이 반응기(200)와 전기적으로 연결된다.
전력 단속부(120)는 판 형상으로서 일부가 도체 재질을 포함하는 도체편(121), 일부가 부도체의 재질을 포함하는 부도체편(122)을 구비한다. 전력 단속부(120)는 하면이 하측 플레이트(110)의 상면과 맞닿고, 중심축(123)을 중심으로 회전하여 주기적으로 전력을 하측 플레이트(110)에 공급한다.
여기서, 전력 단속부(120)는 원판 형상으로서 전력이 선택된 각도일 때에만 반응기(200)에 공급되도록 평면상 반경 방향으로 도체편(121)이 구비될 수 있으며, 예를 들어 도체편(121)은 평면상 반경 90도 방향으로 형성될 수 있다.
즉, 도 3의 (a)에 도시된 것처럼 전력 단속부(120)의 도체편(121)이 전력 공급라인(130)과 접촉하는 방향에 있을 경우에는 알에프 전력이 반응기(200) 쪽으로 공급된다.
반대로, 도 3의 (b)에 도시된 것처럼 전력 단속부(120)의 부도체편(122)이 전력 공급라인(130)과 접촉하는 방향에 있을 경우에는 알에프 전력이 반응기(200) 쪽으로 공급되지 않는다.
이렇게, 전력 단속부(120)의 도체편(121)이 단면상 반경 90도 방향으로 형성되어도 회전 속도를 조절하여 반응기(200)에 원하는 시간만큼의 전력을 공급할 수 있다.
전력 공급라인(130)은 일단이 전력 단속부(120)의 상면에 배치되어 알에프(RF) 전력을 공급한다.
이때, 전력 단속부(120)는 도 4에 도시된 것처럼, 상면에 원형의 가이드 홈(124)이 형성되고, 전력 공급라인(130)의 일단은 하측에 회전하는 가이드 홈(124)에 대응되어 구비되는 가이드 돌기(131)를 구비할 수 있다.
구동부(140)는 전력 단속부(120)와 결합하여 전력 단속부(120)에 회전력을 제공한다.
다음으로, 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치에 대해 설명한다. 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타낸 종단면도이다.
먼저, 도 5를 참조하면, 기판 처리 장치(TS)는 전력 공급부재(100), 반응기(200), 제1 가스 공급부재(300), 제2 가스 공급부재(400), 퍼지 가스 공급부재(500)를 포함한다.
전력 공급부재(100)는 하측 플레이트(110), 전력 단속부(120), 전력 공급라인(130) 및 구동부(140)를 포함한다. 전력 공급부재(100)는 주기적으로 반응기(500)에 전력을 공급한다. 전력 공급부재(100)는 앞서 설명한 내용과 동일하므로 반복적인 설명은 생략한다.
반응기(200)는 기판(W)을 지지하는 기판 지지대(210)를 구비하고, 기판(W)을 처리하는 공간을 제공한다. 기판 지지대(210)에는 필요한 경우 히터를 구비할 수 있다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 가스 공급장치를 나타낸 일부 절개사시도, 도 7은 작동 원리를 보여주기 위하여 도 6에 도시된 A-A 부분의 단면도이다.
제1 가스 공급부재(300)는 반응기(200)에 주기적으로 제1 소스 가스(S1)를 단속하여 공급한다. 도 2는 소스 가스 단속부(130)를 보여주기 위해 외통(120)의 일부를 절개하여 나타낸 도면이다.
제1 가스 공급부재(300)는 제1 소스 가스 공급관(310), 제1 외통(320), 제1 소스 가스 단속부(330) 및 제1 구동부(340)를 구비한다.
제1 소스 가스 공급관(310)은 제1 소스 가스(S1)를 공급한다. 소스 가스는 잘 알려진 것처럼 원료 기체 또는 전구체(precursor)라고도 한다.
제1 외통(320)은 원통 형상으로서 일측이 제1 소스 가스 공급관(310)과 연통되고, 일측이 반응기(200)와 연통된다.
제1 소스 가스 단속부(330)는 원기둥 형상으로서 외주면이 제1 외통(320)의 내주면과 맞닿고, 중심축(331)을 중심으로 회전하여 주기적으로 제1 소스 가스(S1)를 반응기(200)에 공급하는 역할을 한다.
여기서, 제1 소스 가스 단속부(330)는 제1 소스 가스(S1)가 선택된 각도일 때에만 반응기(200)에 공급되도록 단면상 반경 방향으로 절개홈(332)이 형성된다.
더 구체적으로는 도 6 및 도 7에 도시된 것처럼 절개홈(332)은 단면에서 반경 방향으로 90도 방향으로 형성된다.
즉, 도 7의 (a)에 도시된 것처럼 제1 소스 가스 단속부(330)의 절개홈(332)이 제1 소스 가스 공급관(310)과 연통되는 방향에 있을 경우에는 제1 소스 가스(S1)가 반응기(200) 쪽으로 공급된다.
반대로, 도 7의 (b)에 도시된 것처럼 제1 소스 가스 단속부(330)의 절개홈(332)이 제1 소스 가스 공급관(310)과 연통되지 않는 방향에 있을 경우에는 제1 소스 가스(S1)가 반응기(200) 쪽으로 공급되지 않는다.
이렇게, 제1 소스 가스 단속부(330)의 절개홈(332)이 단면상 반경 90도 방향으로 형성되어도 회전 속도를 조절하여 반응기(200)에 원하는 시간만큼의 제1 소스 가스(S1)를 공급할 수 있다.
제1 구동부(340)는 제1 소스 가스 단속부(330)와 결합하여 제1 소스 가스 단속부(330)에 회전력을 제공한다.
만일, 제1 구동부(340)가 초당 1회전을 하도록 회전력을 제공하면 제1 소스 가스 단속부(330)는 1/4초마다 제1 소스 가스(S1)를 반응기(200) 쪽으로 공급하게 되고, 그 회전 속도에 따라 주기를 얼마든지 다양하게 조절할 수 있다.
이렇게, 제1 가스 공급부재(300)는 밸브의 개폐를 사용하지 않고 제1 소스 가스 단속부(330)가 회전에 의해 반응기(200)에 제1 소스 가스(S1)를 공급할 수 있어, 고가의 밸브 시스템을 사용하지 않고도 기계적으로 정확한 가스 공급 컨트롤이 가능하다.
다음으로, 제2 가스 공급부재(400)는 반응기(200)에 주기적으로 제2 소스 가스(S2)를 단속하여 공급한다.
제1 가스 공급부재(300)와 마찬가지로 제2 가스 공급부재(400)는 제2 소스 가스 공급관(410), 제2 외통(420), 제2 소스 가스 단속부(430) 및 제2 구동부(440)를 구비한다.
제2 소스 가스 공급관(410)은 제2 소스 가스(S2)를 공급한다.
제2 외통(420)은 원통 형상으로서 일측이 제2 소스 가스 공급관(410)과 연통되고, 일측이 반응기(200)와 연통된다.
제2 소스 가스 단속부(430)는 원기둥 형상으로서 외주면이 제2 외통(420)의 내주면과 맞닿고, 중심축(431)을 중심으로 회전하여 주기적으로 제2 소스 가스(S2)를 반응기에 공급한다. 제2 소스 가스 단속부(430)도 제2 소스 가스(S2)가 선택된 각도일 때에만 반응기(200)에 공급되도록 단면상 반경 방향으로 절개홈(432)이 형성된다.
제2 구동부(440)는 제2 소스 가스 단속부(430)와 결합하여 제2 소스 가스 단속부(430)에 회전력을 제공한다.
퍼지 가스 공급부재(500)는 반응기(200)에 퍼지 가스(P)를 공급한다. 퍼지 가스(P)는 주기적으로 공급될 수도 있고, 연속적으로 공급될 수도 있다. 도면에는 연속적으로 공급되는 경우를 예로 들었다.
한편, 제2 구동부(440)는 제1 구동부(340)와 기계적으로 연결되어 제1 구동부(340)의 회전력에 의해 제2 소스 가스 단속부(430)에 회전력을 제공할 수 있다. 즉, 도 5에 도시된 것처럼 제2 구동부(440)는 제1 구동부(340)와 벨트(B) 등에 의해 기계적으로 연결되어 제1 구동부(340)의 회전력에 의해 제2 소스 가스 단속부(430)에 회전력을 제공할 수 있다.
뿐만 아니라, 구동부(140), 제1 구동부(340) 및 제2 구동부(440)를 서로 기계적으로 연결하여 구동부(140), 제1 구동부(340) 및 제2 구동부(440) 중의 어느 하나의 회전력에 의해 각각에 회전력을 제공할 수 있다. 도 5에는 제1 구동부(340)에 구동부(140) 및 제2 구동부(440)가 연결되어 회전력을 제공하는 것이 예시되어 있다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타낸 종단면도이다. 다음으로, 도 8을 참조하면, 제1 소스 가스(S1)의 공급 주기와 제2 소스 가스(S2)의 공급 주기가 일치할 경우, 제1 소스 가스 단속부(330)와 제2 소스 가스 단속부(430)가 하나의 외통(320)에 구비될 수도 있다. 이때 제1 소스 가스 단속부(330)의 절개홈(332)의 위치와 제2 소스 가스 단속부(430)의 절개홈(432)의 위치는 서로 어긋나게 배치될 수 있다.
구체적으로 설명하면, 제2 외통(420)은 제1 외통(320)과 일체로 형성되며, 편의상 도면에서는 제1 외통(320)으로 표현하였다. 제2 소스 가스 단속부(430)는 제1 외통(320) 내부에서 상기 제1 소스 가스 단속부(330)의 하측에 배치된다.
제1 구동부(340)는 제2 구동부(440)를 대신하여 제2 소스 가스 단속부(430)에도 회전력을 제공하며, 편의상 도면에서는 제1 구동부(340)만으로 표현하였다.
이렇게, 제1 소스 가스(S1)의 공급 주기와 제2 소스 가스(S2)의 공급 주기가 일치할 경우, 하나의 외통(320) 내부에서 소스 가스 단속부(330)(430)를 복수로 배치하고 하나의 구동부(340)만으로도 회전력을 제공할 수 있다.
도 9는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치에 의해 공급되는 가스의 순환주기를 나타낸 그래프이다. 도 9에는 제1 소스 가스(S1)의 공급 주기와 제2 소스 가스(S2)의 공급 주기가 일치할 경우를 예시하였다.
도 9를 참조하면, 제1 구동부(340)가 초당 1회전을 하도록 회전력을 제공하면 제1 소스 가스 단속부(330)는 1주기마다 t1의 시간인 1/4초마다 제1 소스 가스(S1)를 반응기(200) 쪽으로 공급한다.
아울러, 제2 구동부(440)가 초당 1회전을 하도록 회전력을 제공하면 제2 소스 가스 단속부(430)는 1주기마다 t3의 시간인 1/4초마다 제2 소스 가스(S2)를 반응기(200) 쪽으로 공급하게 된다.
퍼지 가스 공급부재(500)는 반응기(200)에 퍼지 가스(P)를 연속적으로 공급한다.
또한, 전력 공급부재(100)는 구동부(140)가 초당 1회전을 하도록 회전력을 제공하면 전력 단속부(120)는 1주기마다 t4의 시간인 1/4초마다 반응기(200)에 1주기마다 t4의 시간동안 전력을 공급한다.
이렇게, 본 발명에 따르면, RF 파워의 on/off를 스위치를 사용하지 않고 전력 단속부(120)가 회전에 의해 반응기(200)에 알에프 전력을 공급할 수 있어, 기계적으로 정확한 전력 공급 컨트롤이 가능하고, 복수의 소스 가스도 복수의 가스 공급부재를 사용하여 원하는 주기로 원하는 시간차를 두어 공급할 수 있다.
한편, 본 명세서와 도면에 개시된 본 발명의 실시예들은 본 발명의 기술 내용을 쉽게 설명하고 본 발명의 이해를 돕기 위해 특정 예를 제시한 것일 뿐이며, 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것은 아니다. 여기에 개시된 실시예들 이외에도 본 발명의 기술적 사상에 바탕을 둔 다른 변형예들이 실시 가능하다는 것은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것이다.
100...전력 공급부재 110...하측 플레이트
120...전력 단속부 130...전력 공급라인
140...구동부

Claims (11)

  1. 판 형상으로서 재질이 도체이고, 하측이 반응기와 전기적으로 연결된 하측 플레이트;
    일부가 도체 재질을 포함하는 도체편, 일부가 부도체의 재질을 포함하는 부도체편을 구비한 판 형상으로서 하면이 상기 하측 플레이트의 상면과 맞닿고, 중심축을 중심으로 회전하여 주기적으로 전력을 상기 하측 플레이트에 공급하는 전력 단속부;
    일단이 상기 전력 단속부의 상면에 배치되어 알에프(RF) 전력을 공급하는 전력 공급라인; 및
    상기 전력 단속부와 결합하여 상기 전력 단속부에 회전력을 제공하는 구동부를 포함하는 전력 공급부재.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 전력 단속부는,
    원판 형상으로서 전력이 선택된 각도일 때에만 반응기에 공급되도록 평면상 반경 방향으로 도체편이 구비된 것을 특징으로 하는 전력 공급부재.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 도체편은,
    평면상 반경 90도 방향으로 형성된 것을 특징으로 하는 전력 공급부재.
  4. 청구항 2에 있어서,
    상기 전력 단속부는,
    상면에 원형의 가이드 홈이 형성되고,
    상기 전력 공급라인의 일단은 하측에 회전하는 상기 가이드 홈에 대응되어 구비되는 가이드 돌기를 구비하는 것을 특징으로 하는 전력 공급부재.
  5. 기판을 지지하는 기판 지지대를 구비하고, 기판을 처리하는 공간을 제공하는 반응기;
    상기 반응기에 주기적으로 제1 소스 가스를 단속하여 공급하는 제1 가스 공급부재;
    상기 반응기에 주기적으로 제2 소스 가스를 단속하여 공급하는 제2 가스 공급부재;
    상기 반응기에 퍼지 가스를 공급하는 퍼지 가스 공급부재; 및
    상기 반응기에 주기적으로 전력을 단속하여 공급하는 전력 공급부재를 포함하되,
    상기 전력 공급부재는,
    판 형상으로서 재질이 도체이고, 하측이 반응기와 전기적으로 연결된 하측 플레이트;
    일부가 도체 재질을 포함하는 도체편, 일부가 부도체의 재질을 포함하는 부도체편을 구비한 판 형상으로서 하면이 상기 하측 플레이트의 상면과 맞닿고, 중심축을 중심으로 회전하여 주기적으로 전력을 상기 하측 플레이트에 공급하는 전력 단속부;
    일단이 상기 전력 단속부의 상면에 배치되어 알에프(RF) 전력을 공급하는 전력 공급라인; 및
    상기 전력 단속부와 결합하여 상기 전력 단속부에 회전력을 제공하는 구동부를 포함하는 기판 처리장치.
  6. 삭제
  7. 청구항 5에 있어서,
    상기 제1 가스 공급부재는,
    제1 소스 가스를 공급하는 제1 소스 가스 공급관;
    원통 형상으로서 일측이 상기 제1 소스 가스 공급관과 연통되고, 일측이 상기 반응기와 연통된 제1 외통;
    원기둥 형상으로서 외주면이 상기 제1 외통의 내주면과 맞닿고, 중심축을 중심으로 회전하여 주기적으로 상기 제1 소스 가스를 상기 반응기에 공급하는 제1 소스 가스 단속부; 및
    상기 제1 소스 가스 단속부와 결합하여 상기 제1 소스 가스 단속부에 회전력을 제공하는 제1 구동부를 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 제2 가스 공급부재는,
    제2 소스 가스를 공급하는 제2 소스 가스 공급관;
    원통 형상으로서 일측이 상기 제2 소스 가스 공급관과 연통되고, 일측이 상기 반응기와 연통된 제2 외통;
    원기둥 형상으로서 외주면이 상기 제2 외통의 내주면과 맞닿고, 중심축을 중심으로 회전하여 주기적으로 상기 제2 소스 가스를 상기 반응기에 공급하는 제2 소스 가스 단속부; 및
    상기 제2 소스 가스 단속부와 결합하여 상기 제2 소스 가스 단속부에 회전력을 제공하는 제2 구동부를 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 제1 소스 가스 단속부는, 상기 제1 소스 가스가 선택된 각도일 때에만 상기 반응기에 공급되도록 단면상 반경 방향으로 절개홈이 형성되고,
    상기 제2 소스 가스 단속부는, 상기 제2 소스 가스가 선택된 각도일 때에만 상기 반응기에 공급되도록 단면상 반경 방향으로 절개홈이 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  10. 청구항 8에 있어서,
    상기 제1 소스 가스의 공급 주기와 상기 제2 소스 가스의 공급 주기가 일치할 경우,
    상기 제2 외통은, 상기 제1 외통과 일체로 형성되고,
    상기 제2 소스 가스 단속부는, 상기 제1 외통 내부에서 상기 제1 소스 가스 단속부의 하측에 배치되며,
    상기 제1 구동부는 상기 제2 구동부를 대신하여 상기 제2 소스 가스 단속부에도 회전력을 제공하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  11. 청구항 8에 있어서,
    상기 구동부, 상기 제1 구동부 및 상기 제2 구동부는,
    서로 기계적으로 연결되어 상기 구동부, 상기 제1 구동부 및 상기 제2 구동부 중의 어느 하나의 회전력에 의해 각각에 회전력을 제공하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
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