KR101320794B1 - 삼불화질소 가스의 제조 시 양극/음극에서 발생된 불화수소의 회수장치 및 회수방법 - Google Patents

삼불화질소 가스의 제조 시 양극/음극에서 발생된 불화수소의 회수장치 및 회수방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101320794B1
KR101320794B1 KR1020120156888A KR20120156888A KR101320794B1 KR 101320794 B1 KR101320794 B1 KR 101320794B1 KR 1020120156888 A KR1020120156888 A KR 1020120156888A KR 20120156888 A KR20120156888 A KR 20120156888A KR 101320794 B1 KR101320794 B1 KR 101320794B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas
recovery
heat exchanger
recovering
fluoride
Prior art date
Application number
KR1020120156888A
Other languages
English (en)
Inventor
조백인
Original Assignee
오씨아이머티리얼즈 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 오씨아이머티리얼즈 주식회사 filed Critical 오씨아이머티리얼즈 주식회사
Priority to KR1020120156888A priority Critical patent/KR101320794B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101320794B1 publication Critical patent/KR101320794B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B7/00—Halogens; Halogen acids
    • C01B7/19—Fluorine; Hydrogen fluoride
    • C01B7/191—Hydrogen fluoride
    • C01B7/195—Separation; Purification
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/02—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
    • C01B21/082—Compounds containing nitrogen and non-metals and optionally metals
    • C01B21/083—Compounds containing nitrogen and non-metals and optionally metals containing one or more halogen atoms
    • C01B21/0832—Binary compounds of nitrogen with halogens
    • C01B21/0835—Nitrogen trifluoride
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B1/00—Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
    • C25B1/01—Products
    • C25B1/24—Halogens or compounds thereof
    • C25B1/245—Fluorine; Compounds thereof
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2257/00—Components to be removed
    • B01D2257/40—Nitrogen compounds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)

Abstract

본 발명은 NF3 가스의 제조 시 양극/음극에서 발생된 HF의 회수장치 및 회수방법에 관한 것이다.　 본 발명은 NF3 가스의 제조 시 양극/음극 가스에 발생된 산성불화암모늄을 제거하는 불화물 제거 유닛; 및 상기 양극/음극 가스에 포함된 HF를 액화시켜 회수하는 HF 회수 유닛을 포함하고, 상기 HF 회수 유닛은 불화물 제거 유닛의 후단에 설치된 NF3 가스의 제조 시 발생된 HF의 회수장치를 제공한다.　 또한, 본 발명은 NF3 가스의 제조 시 양극/음극 가스에 포함된 산성불화암모늄을 제거하는 전처리단계; 및 상기 양극/음극 가스에 포함된 HF를 액화시켜 회수하는 HF 회수단계를 포함하고, 상기 HF 회수단계는 전처리단계 이후에 진행하는 NF3 가스의 제조 시 발생된 HF의 회수방법을 제공한다.　 본 발명에 따르면, NF3 가스의 제조 시, 양극/음극 가스에 포함된 HF를 고농도로 회수할 수 있다.　 이에 따라, NF3 가스를 고순도로 정제(제조)할 수 있으면서 고가의 HF를 NF3 가스의 제조 원료로 재사용할 수 있어 NF3 가스의 원단위를 낮출 수 있고, 폐수처리비용 등을 절감할 수 있다.

Description

삼불화질소 가스의 제조 시 양극/음극에서 발생된 불화수소의 회수장치 및 회수방법 {APPARATUS AND METHOD FOR RECOVERING HYDROGEN FLUORIDE GENERATED FROM ANODE/CATHODE IN PROCESS OF NITROGEN TRIFLUORIDE GAS}
본 발명은 삼불화질소(NF3) 가스의 제조 시 양극/음극에서 발생된 불화수소(HF)의 회수장치 및 회수방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 삼불화질소(NF3) 가스의 제조 시 양극 및 음극에서 발생된 불화수소(HF)를 액화를 통해 고농도로 정제, 회수함으로써, 삼불화질소(NF3) 가스의 원단위 및 폐수처리비용 등을 절감하고 삼불화질소(NF3) 가스를 고순도로 정제(제조)할 수 있는 삼불화질소(NF3) 가스의 양극/음극에서 제조 시 발생된 불화수소(HF)의 회수장치 및 회수방법에 관한 것이다.
삼불화질소 가스(이하, 본 발명에서는 'NF3 가스'라 한다.)는 반도체의 드라이 에칭제(etching agent)나 CVD 장치의 클리닝 가스(cleaning gas) 등으로 유용하게 사용된다.　 최근, 반도체 산업의 활성화로 NF3 가스의 수요는 점점 증가하고 있다.　 이들 용도로서의 NF3 가스는 고순도의 것이 요구된다.
NF3 가스의 제조 공정에서는 제조된NF3 가스 이외의 다른 성분들을 포함하는 혼합물 형태로서, 일반적으로 NF3 가스 이외에 이불화이질소(N2F2), 불화수소(HF), 이불화산소(OF2), 수분(H2O), 아산화질소(N2O) 및 이산화탄소(CO2) 등의 불순물을 포함하고 있다. 　
이에 따라, 고순도의 NF3 가스를 얻기 위해서는 반드시 정제 공정이 필요하다.　 일반적으로, 상기 불순물들은 흡수나 흡착 등의 정제 공정을 통하여 제거될 수 있다.　 상기 여러 불순물 중에서 아산화질소(N2O)와 이산화탄소(CO2) 등과 같은 대부분의 불순물은 흡착제를 통한 흡착에 의해 제거될 수 있다. 예를 들어, 대한민국 등록특허 제10-0526337호[특허문헌 1] 및 대한민국 등록특허 제10-0841183호[특허문헌 2]에는 이와 관련한 기술이 제시되어 있다.
아울러, 상기 불순물 중에서 이불화이질소(이하, 본 발명에서는 'N2F2'라 한다.)는 고온 열분해를 통해 제거될 수 있다. 예를 들어, 대한민국 공개특허 제10-1992-7002845호[특허문헌 3]에는 이와 관련한 기술이 제시되어 있다.
또한, NF3 가스 제조 공정에서는 상기와 같은 불순물 이외에 고가의 불화수소(이하, 본 발명에서는 'HF'라 한다.)가 발생된다.　 상기 HF는 NF3 가스 제조 원료로부터 기인하거나, 합성 반응을 통한 부산물로서 발생되어 NF3 가스에 포함되어 있다.　 그리고 NF3 가스에 포함된 대부분의 HF는 증기압에 의해 기화되어 NF3 가스와 함께 이송된다.　 이때, HF 가스가 제거되지 않고 후단 공정, 예를 들어 이불화산소(OF2) 정제나 아산화질소(N2O) 정제 등의 후단 공정으로 넘어가게 되면, HF는 배관의 부식이나 불화물계의 생성 고착을 발생시켜 공정 트러블(trouble)을 야기하고, 흡착제 연소 등의 문제를 발생시키므로 HF의 제거가 필요하다.　　　
상기 HF 가스는 물에 잘 녹고 반응성이 큰 극성 물질이다.　 이에 따라, HF 가스는 습식 흡수(Wet Absorption) 방법을 통해 중화 처리하여 외부로 배출하고 있다.　 일반적으로, HF 가스는 수산화나트륨(NaOH) 등의 알칼리성 수용액에 흡수 중화시켜 제거하고 있다.
그러나 종래 기술에 따른 NF3 가스의 정제(제조) 공정은 HF 가스를 회수하지 않고, 상기한 바와 같이 흡수 처리하여 계(system) 외부로 배출하고 있어 고가의 HF 가스를 낭비하고 있는 문제점이 있다.　 이로 인해, NF3 가스의 원단위(제조단가) 상승을 유발하고, 또한 흡수 처리액(NaOH 수용액 등)의 처리에 따른 폐수처리비용 등이 소요되는 문제점이 있다.
대한민국 등록특허 제10-0526337호 대한민국 등록특허 제10-0841183호 대한민국 공개특허 제10-1992-7002845호
이에, 본 발명은 NF3 가스의 제조 시에 발생된 HF를 고농도로 정제, 회수함으로써, NF3 가스를 고순도로 정제(제조)할 수 있으면서 NF3 가스의 원단위를 낮추고 폐수처리비용 등을 절감할 수 있는, NF3 가스의 제조 시 양극/음극에서 발생된 HF의 회수장치 및 회수방법을 제공하는 데에 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은,
NF3 가스의 제조 시 양극에서 발생된 NF3 가스에 포함된 산성불화암모늄과 N2F2를 제거하는 불화물 제거 유닛; 및
상기 NF3 가스에 포함된 HF를 액화시켜 회수하는 HF 회수 유닛을 포함하고,
상기 HF 회수 유닛은 불화물 제거 유닛의 후단에 설치된, NF3 가스의 제조 시 발생된 HF의 회수장치를 제공한다.
또한, 본 발명은,
NF3 가스의 제조 시 음극에서 발생된 H2 가스에 포함된 산성불화암모늄을 제거하는 불화물 제거 유닛; 및
상기 H2 가스에 포함된 HF를 액화시켜 회수하는 HF 회수 유닛을 포함하고,
상기 HF 회수 유닛은 불화물 제거 유닛의 후단에 설치된, NF3 가스의 제조 시 발생된 HF의 회수장치를 제공한다.
이때, 상기 HF 회수 유닛은, 상기 불화물 제거 유닛의 후단에 설치되고, HF를 1차 냉각시키는 제1열교환기; 상기 제1열교환기의 후단에 설치되고, 상기 1차 냉각된 HF를 2차 냉각하여 액화시키는 제2열교환기; 상기 제2열교환기의 하단에 설치되고, 상기 액화된 HF를 포집하는 HF 포집부; 및 상기 HF 포집부에 포집된 HF를 회수하는 HF 회수라인을 포함하는 것이 바람직하다.
아울러, 상기 제2열교환기와 HF 포집부는 하나의 컬럼(column)에 설치되고, 상기 HF 포집부에는 액화된 HF의 액위를 측정하는 액위계가 설치되어 있으며, 상기 HF 회수라인에는 액위계에서 측정된 HF의 액량에 따라 제어기에 의해 제어되는 개폐밸브가 설치된 것이 좋다.
그리고 상기 불화물 제거 유닛(100)은, 상기 NF3 가스에 포함된 산성불화암모늄을 필터링하여 제거하는 적어도 하나 이상의 필터; 및 상기 필터의 후단에 설치된 열분해탑을 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명은,
NF3 가스의 제조 시 양극에서 발생된 NF3 가스에 포함된 산성불화암모늄과 N2F2를 제거하는 전처리단계; 및　
상기 NF3 가스에 포함된 HF를 액화시켜 회수하는 HF 회수단계를 포함하고,
상기 HF 회수단계는 전처리단계 이후에 진행하는, NF3 가스의 제조 시 발생된 HF의 회수방법을 제공한다.
이에 더하여, 본 발명은,
NF3 가스의 제조 시 음극에서 발생된 H2 가스에 포함된 산성불화암모늄을 제거하는 전처리단계; 및　
상기 H2 가스에 포함된 HF를 액화시켜 회수하는 HF 회수단계를 포함하고,
상기 HF 회수단계는 전처리단계 이후에 진행하는, NF3 가스의 제조 시 발생된 HF의 회수방법을 제공한다.
이때, 상기 HF 회수단계는 15℃ ~ -50℃의 온도에서 액화시키는 것이 바람직하다.
본 발명에 따르면, NF3 가스의 제조 시에 발생된 HF가 액화를 통해 정제(NF3 가스 및 H2 가스로부터 제거)되고 고농도로 회수된다.　 이에 따라, NF3 가스를 고순도로 정제(제조)할 수 있으면서 고가의 HF를 NF3 가스의 제조 원료로 재사용할 수 있어 NF3 가스의 원단위를 낮출 수 있는 효과를 갖는다.　 또한, 종래 흡수 처리에 의해 발생되는 폐수처리비용 등을 절감할 수 있는 효과를 갖는다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 HF의 회수장치를 보인 구성도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 HF의 회수장치를 보인 구성도로서, 이는 양극 가스(Anode gas)에 포함된 HF의 회수장치를 보인 것이다.
도 3은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 HF의 회수장치를 보인 구성도로서, 이는 음극 가스(Cathode gas)에 포함된 HF의 회수장치를 보인 것이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.　 첨부된 도면은 본 발명의 예시적인 실시예를 도시한 것으로, 이는 본 발명의 이해를 돕도록 하기 위해 제공되는 것일 뿐, 이에 의해 본 발명의 기술적 범위가 한정되는 것은 아니다.　 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명에 따른 NF3 가스의 제조 시 발생된 HF의 회수장치 및 회수방법을 함께 설명한다.
도 1에는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 NF3 가스의 제조 시 발생된 HF의 회수장치가 도시되어 있다.　 그리고 도 2에는 본 발명의 다른 실시예에 따른 HF의 회수장치로서, NF3 가스의 제조 시 양극(Anode)에서 발생된 HF의 회수장치가 도시되어 있다.
도 1및 도 2를 참조하여 설명하면, 본 발명에 따른 NF3 가스의 제조 시 발생된 HF의 회수장치(이하, '회수장치'라 약칭한다.)는 NF3 가스에 포함된 산성불화암모늄(NH4FㆍHF)과 N2F2를 제거하는 불화물 제거 유닛(100, unit)과, 상기 NF3 가스에 포함된 HF를 액화시켜 회수하는 HF 회수 유닛(200)을 포함한다.　 그리고 상기 HF 회수 유닛(200)은 불화물 제거 유닛(100)의 후단에 설치(위치)되어 있다.
또한, 본 발명에 따른 NF3 가스의 제조 시 발생된 HF의 회수방법은 NF3 가스에 포함된 산성불화암모늄과 N2F2를 제거하는 전처리단계, 및 상기 NF3 가스에 포함된 HF를 액화시켜 회수하는 HF 회수단계를 포함한다.　 그리고 상기 HF 회수단계는 전처리단계 이후에 진행된다.　 본 발명에 따른 HF의 회수방법은, 바람직하게는 본 발명에 따른 회수장치를 통해 구현된다.　 구체적으로, 상기 전처리 단계는 불화물 제거 유닛(100)을 통해 구현되며, 상기 HF 회수단계는 HF 회수 유닛(200)을 통해 구현된다.
상기 불화물 제거 유닛(100)은 NF3 가스에 포함된 산성불화암모늄과 N2F2를 제거할 수 있는 것이면 특별히 제한되지 않는다.　 상기 불화물 제거 유닛(100)은 적어도 열분해탑(20)을 포함하는 것이 좋다.　 이때, 상기 열분해탑(20)은 고온 가열을 통해 NF3 가스에 포함된 불화물, 구체적으로는 적어도 산성불화암모늄과 N2F2를 열분해시켜 제거할 수 있는 것이면 좋다.　 상기 불화물 제거 유닛(100)은, 바람직하게는 필터(10, filter)를 더 포함하는 것이 좋다.　 상기 불화물 제거 유닛(100)은, 구체적으로 적어도 하나 이상의 필터(10)와, 상기 필터(10)의 후단에 설치된 열분해탑(20)을 포함하는 것이 좋다.　 이에 대해서는 후술한다.　　
상기 불화물 제거 유닛(100)으로 공급되는 NF3 가스는 혼합물 형태로서, 이는 NF3 가스 이외에 산성불화암모늄, N2F2 및 HF 등을 포함하고 있다.　 구체적으로, 양극에서 발생되는 NF3 가스(양극 가스)에는 NF3 가스 이외에 위와 같은 산성불화암모늄, N2F2 및 HF 등을 포함하고 있다. 또한, 양극 가스에는 이들 이외에 다른 성분, 예를 들어 이불화산소(OF2), 아산화질소(N2O) 및 이산화탄소(CO2) 등을 포함할 수 있다.　
이때, 상기 불화물 제거 유닛(100)의 후단에는 본 발명에 따라서 HF 회수 유닛(200)이 설치(위치)된다.　 상기 불화물 제거 유닛(100)과 HF 회수 유닛(200)은 유입라인(150)을 통해 연결될 수 있다.　 상기 불화물 제거 유닛(100)을 통해 산성불화암모늄과 N2F2이 제거된 NF3 가스는 유입라인(150)을 따라 HF 회수 유닛(200)으로 공급된다.
상기 HF 회수 유닛(200)은 NF3 가스에 포함된 HF를 액화(냉각)시켜 회수한다.　 상기 HF 회수 유닛(200)은 적어도 하나 이상의 열교환기(210)(220)를 포함한다.　 상기 열교환기(210)(220)는 유입된 NF3 가스에 포함된 HF를 액화시킬 수 있는 것이면 제한되지 않는다.　 상기 열교환기(210)(220)는, 구체적으로 유입된 NF3 가스를 냉매와의 열교환을 통해, NF3 가스에 포함된 HF를 냉각시켜 액화(HF 가스 --> 액상의 HF)시킬 수 있는 것이면 특별히 제한되지 않는다.　　
이때, 상기 열교환기(210)(220)를 통해, HF는 액화되면서 NF3 가스는 액화되지 않는 온도로 냉각시키면 좋다.　 바람직하게는 상기 열교환기(210)(220)를 통해, 유입된 NF3 가스를 15℃ ~ -50℃의 온도에서 냉각시킬 수 있다. (HF의 비점 : 약 19.5℃, NF3의 비점 : 약 -129℃)　　이와 같은 온도 범위에서 냉각시키는 경우, 순수 HF만을 선택적으로 액화시키면서 NF3 가스는 물론 다른 가스 성분(NF3 가스 등)은 액화되지 않아 고농도의 HF를 회수할 수 있다. 예를 들어, 99중량% 이상의 고농도 HF를 선택적으로 회수할 수 있다.　
바람직한 구현예에 따라서, 상기 HF 회수 유닛(200)은 2개의 열교환기(210)(220)를 포함하는 것이 좋다.　 구체적으로, 상기 HF 회수 유닛(200)은 불화물 제거 유닛(100)의 후단에 설치되고, NF3 가스에 포함된 HF를 1차 냉각(예비 냉각)시키는 제1열교환기(210)와, 상기 제1열교환기(210)의 후단에 설치되고, 상기 1차 냉각된 HF를 2차 냉각하여 액화시키는 제2열교환기(220)를 포함하는 것이 바람직하다.　 이와 같이 2개의 열교환기(210)(220)가 연속하여 직렬 설치된 경우, HF의 액화 효율 면에서 유리하다.　
또한, 상기 유입라인(150)은 제1열교환기(210)의 상단에 연결되어, 불화물 제거 유닛(100)으로부터 유입되는 NF3 가스는 하향 흐름으로 열교환기(210)에 공급되고, 제1열교환기(210)를 통과하는 냉매는 상향 흐름으로 통과되어 향류 접촉되는 것이 좋다.　 아울러, 상기 제1열교환기(210)에서 1차 냉각된 가스는 제2열교환기(220)에 상향 흐름으로 공급되는 것이 좋다.　 구체적으로, 제1열교환기(210)와 제2열교환기(220)는 흐름라인(215)을 통해 연결되되, 상기 흐름라인(215)의 일단은 제1열교환기(210)의 하단에 연결되고, 상기 흐름라인(215)의 타단은 제2열교환기(220)의 하단에 연결되는 것이 좋다.
상기 열교환기(210)(220)를 통과하는 냉매는 특별히 제한되지 않는다.　 냉매는 NF3 가스에 포함된 HF를 액상으로 액화시킬 수 있는 유체이면 좋다.　 냉매는, 구체적으로 상기한 바와 같이 유입된 NF3 가스를 15℃ ~ -50℃의 온도로 냉각시킬 수 있는 것이면 제한되지 않는다.　 냉매는 기상 또는 액상을 사용할 수 있으며, 구체적인 예를 들어 질소(N2), 이산화탄소(CO2), 암모니아(NH3), 프레온(예를 들어 R-11, R-12, R-13, R-21, R-22 등) 및 탄화수소(예를 들어 메탄, 에탄, 프로판, 부탄, 이소부탄, 프로필렌 등) 등으로부터 선택될 수 있다.
아울러, 상기 제1열교환기(210)와 제2열교환기(220)를 통과하는 냉매는 같거나 다를 수 있으며, 바람직하게는 서로 다른 냉매로부터 선택되어 순차적인 냉각이 이루어지게 할 수 있다.　 예를 들어, 제1열교환기(210)보다 제2열교환기(220)에 통과되는 냉매의 온도를 더 낮게 유지함으로써 순차적인 냉각이 이루어지도록 할 수 있다.　 이 경우, HF의 액화 효율을 증가할 수 있으며, 또한 급냉각에 따른 장치의 동결을 방지할 수 있다.
또한, 상기 HF 회수 유닛(200)은 액화된 액상의 HF를 포집하는 HF 포집부(230)와, 상기 HF 포집부(230)에 포집된 액상의 HF를 회수하는 HF 회수라인(240)을 포함하는 것이 바람직하다.　 이때, 상기 HF 포집부(230)는 제2열교환기(220)의 하단에 설치(위치)되는 것이 좋다.　 그리고 도면에 도시된 바와 같이, 상기 제2열교환기(220)와 HF 포집부(230)는 하나의 컬럼(C, column)에 설치된 것이 바람직하다.　
따라서, HF는 하나의 컬럼(C)에서 제2열교환기(220)를 통해 액화된 다음, 상기 제2열교환기(220)의 하단에 설치(위치)된 HF 포집부(230)로 자연 낙하하여 모아진다.　 그리고 HF 회수라인(240)을 통해 회수된다.　
이때, 상기 HF 포집부(230)에는 액화된 HF의 액위(Liquid level)를 측정하는 액위계(231)가 설치될 수 있으며, 상기 HF 회수라인(240) 상에는 개폐밸브(241)가 설치될 수 있다.　 또한, 상기 HF 회수 유닛(200)은 액위계(231)에서 측정된 HF의 액량에 따라 개폐밸브(241)를 제어(개폐)하는 제어기(250, Liquid level Controller)를 더 포함할 수 있다.　 이에 따라, HF 포집부(230)에 적정량의 액화 HF가 포집되면, 제어기(250)의 제어에 의해 개폐밸브(241)가 개방되어 HF 회수라인(240)을 통해 고농도의 액화 HF를 회수할 수 있다.
상기 HF 회수라인(240)을 통해 회수된 액상의 HF는 다른 용도로 사용될 수 있으나, 이는 바람직하게는 NF3 가스의 제조 원료로 재사용된다.　 이를 위해, HF 회수라인(240)은 NF3 가스 제조설비의 반응기, 즉 NF3 가스의 제조 원료로서의 NH3와 HF 등을 반응시켜 산성불화암모늄을 생성시키는 반응기와 연결되는 것이 좋다.　 보다 구체적으로, 상기 HF 회수라인(240)의 일단은 컬럼(C)의 하단, 즉 상기 HF 포집부(230)의 하단에 연결되고, 상기 HF 회수라인(240)의 타단은 NF3 가스 제조설비의 반응기와 연결되어, 회수된 HF는 재사용되는 것이 좋다.　 아울러, 상기 HF 회수라인(240)을 통해 회수된 액상의 HF는 별도의 HF 저장조에 저장된 후, 필요에 따라 상기 반응기로 공급되어 재사용될 수 있다.　
또한, 상기 제2열교환기(220)의 상단에는 NF3 가스 배출라인(225)이 설치되어 있다.　 즉, 상기 제2열교환기(220)에서 HF가 제거(정제)된 NF3 가스는 배출라인(225)을 통해 배출된다.　 이때, NF3 가스는 상기 배출라인(225)을 따라 후단 공정, 예를 들어 이불화산소(OF2) 정제나 아산화질소(N2O) 정제 등의 후단 공정으로 이송된다.　 상기 후단 공정에서는 통상과 같이 습식 흡수 공정과 흡착제를 통한 흡착 공정 등을 통해 NF3 가스에 포함된 이불화산소(OF2)나 아산화질소(N2O) 등의 기타 불순물이 정제(제거)된다.　
아울러, 상기 제2열교환기(220)에서 HF가 제거(정제)된 NF3 가스는 경우에 따라서 습식 흡수를 통한 처리에 의해, 잔여의 HF가 제거될 수 있다.　 구체적으로, 상기 NF3 가스 배출라인(225)은 잔여의 HF를 흡수 제거하기 위한 흡수탑(260)에 연결될 수 있다.　 이때, 상기 흡수탑(260)은 예를 들어 NaOH 및 KOH 등의 알칼리 수용액이 사용되어 잔여의 HF를 중화 처리할 수 있다.　 그리고 흡수탑(260)의 후단에는 상기한 바와 같은 이불화산소(OF2)나 아산화질소(N2O) 등을 제거(정제)하기 위한 흡수탑이나 흡착탑이 설치될 수 있다.
이상에서 설명한 회수장치(및 회수방법)는 양극에서 발생되는 HF 회수에 관한 것이며, 음극의 경우에도 이와 거의 동일하다. 도 3에는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 HF의 회수장치로서, NF3 가스의 제조 시 음극(Cathode)에서 발생된 HF의 회수장치가 도시되어 있다. 도 3을 참조하여, 음극에서 발생된 HF의 회수장치(및 회수방법)을 설명하면 다음과 같다. 도 3에서, 도 1 및 도 2과 동일한 도면부호로 표시된 장치의 구성은 상기에서 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 것과 동일하므로 이에 대한 구체적인 설명은 생략한다.
일반적으로, NF3 가스의 제조 시 음극에서는 음극 가스로서 H2 가스가 발생된다. 그리고 음극에서 발생된 H2 가스(음극 가스)에는 H2 가스 이외에 HF와 기타 불순물로서 산성불화암모늄 등의 불화물이 소량 포함되어 있다.
도 3을 참조하면, 음극에서의 HF 회수장치는 음극에서 발생된 H2 가스에 포함된 산성불화암모늄 등을 제거하는 불화물 제거 유닛(100), 및 상기 H2 가스에 포함된 HF를 액화시켜 회수하는 HF 회수 유닛(200)을 포함한다. 그리고 상기 HF 회수 유닛(200)은 불화물 제거 유닛(100)의 후단에 설치되어 있다.
또한, 음극에서의 HF 회수방법은 음극에서 발생된 H2 가스에 포함된 산성불화암모늄 등을 제거하는 전처리단계, 및　상기 H2 가스에 포함된 HF를 액화시켜 회수하는 HF 회수단계를 포함한다. 그리고 상기 HF 회수단계는 전처리단계 이후에 진행한다. 이러한 회수방법은 도 3에 예시한 바와 같은 회수장치를 통해 구현될 수 있다.
상기 HF 회수 유닛(200)으로 유입된 음극 가스(H2 + HF)는 열교환기(210)(220)를 통해 HF가 액화되며, 액화된 HF는 HF 회수라인(245)을 따라 회수된다. 이때, HF만을 선택적으로 액화될 수 있도록, 상기 열교환기(210)(220)를 통해, 유입된 음극 가스(H2 + HF)를 15℃ ~ -50℃의 온도에서 액화(냉각)시키는 것이 바람직하다. 또한, 상기 열교환기(210)(220)의 상단으로 배출되는 H2 가스는 배출라인(225)을 따라 흡수탑(260)에서 흡수되며, 이후 다른 공정을 거쳐 재사용될 수 있다.
한편, 전술한 바와 같이, 본 발명에서 상기 HF 회수 유닛(200)은 불화물 제거 유닛(100)의 후단에 설치된다.　 본 발명에서 HF 회수 유닛(200)의 설치 위치는 중요한 인자로 작용한다.　 이때, HF 회수 유닛(200)을 불화물 제거 유닛(100)의 전단에 설치한 경우, 산성불화암모늄 등의 불화물로 인해 HF 회수 유닛(200)의 막힘 현상이 발생하고, HF의 효율적인 액화, 회수가 어렵다.　 구체적으로, 산성불화암모늄 등의 불화물을 제거하지 않은 상태에서 HF 회수 유닛(200)으로 공급하게 되면, 불화물 중에서도 특히 산성불화암모늄이 열교환기(210)(220)에 고착되어 가스의 흐름을 막아 HF 회수 유닛(200)의 정상적인 운전이 불가능하고, HF의 효율적인 액화, 회수가 어렵다.
이에 따라, 산성불화암모늄 등의 불화물계 고착을 방지할 수 있도록, 상기 HF 회수 유닛(200)은 불화물 제거 유닛(100)의 후단에 설치된다.　 즉, 먼저 불화물 제거 유닛(100)을 통해 양극 가스(또는 음극 가스)에 포함된 산성불화암모늄 등의 불화물을 제거한 후에, 후속 공정으로 HF 회수 유닛(200)을 통해 양극 가스(또는 음극 가스)에 포함된 HF를 액화시켜 회수한다.
또한, 상기 불화물 제거 유닛(100)은 상기한 바와 같이 적어도 열분해탑(20)을 포함하며, 바람직하게는 적어도 하나 이상의 필터(10)와, 상기 필터(10)의 후단에 설치된 열분해탑(20)을 포함하는 것이 좋다.　 이를 도 2 및 도 3을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
도 2을 참조하여 설명하면, 상기 불화물 제거 유닛(100)은 바람직한 구현예에 따라서 필터(10)와 열분해탑(20)을 포함하되, 상기 필터(10)는 열분해탑(20)의 전단에 설치된다.　 상기 필터(10)는, 양극 가스(또는 음극 가스)가 열분해탑(20)으로 공급되기 이전에 양극 가스(또는 음극 가스)를 사전 필터링(filtering)한다.　 상기 필터(10)는 적어도 산성불화암모늄을 제거할 수 있는 것이면 좋다.　 이러한 필터(10)는 일반 산업분야에서 사용되고 있는 필터를 사용할 수 있다. 필터(10)는 예를 들어 충전물이 충전된 것을 사용할 수 있으며, 특별히 한정하는 것은 아니지만 구체적인 예를 들어 금속재나 세라믹재 등이 충전된 것을 사용할 수 있다.
상기 필터(10)는 양극 가스(또는 음극 가스)에 포함된 산성불화암모늄을 필터링하여 제거할 수 있으면 좋으며, 이는 또한 합성 공정 시에 생성된 부산물로서, 예를 들어 불화물 등의 이물질을 필터링할 수 있으면 좋다.　 이러한 필터(10)를 통해 열분해탑(20)의 보수나 교체 주기를 감소시킬 수 있다.　 구체적으로, 필터(10)를 통해 산성불화암모늄은 물론 불화물 등의 이물질이 사전에 제거되어, 상기 이물질의 고착으로 인한 열분해탑(20)의 보수나 교체 주기를 감소시킬 수 있다.
상기 필터(10)의 전단에는 양극 가스(또는 음극 가스)가 인입되는 가스 인입라인(L1)이 설치되어 있다.　 이때, 상기 가스 인입라인(L1)은, 바람직하게는 NF3 가스를 생성시키는 공정설비(도시하지 않음)와 연통되어, 상기 공정설비에서 생성된 생성물(양극 가스 또는 음극 가스)을 필터(10)로 인입시킨다.
또한, 상기 필터(10)와 열분해탑(20)은 이들 사이에 설치된 공급라인(30)에 의해 연통된다.　 상기 공급라인(30)은, 바람직하게는 열분해탑(20)의 하단에 연결된다.　 구체적으로, 도 2에 도시한 바와 같이, 상기 공급라인(30)의 일측은 필터(10)의 후단에 연결되되, 상기 공급라인(30)의 타측은 열분해탑(20)의 하단에 연결되는 것이 바람직하다.　 이에 따라, 양극 가스(또는 음극 가스)는 필터(10)를 통과하여 필터링된 후, 공급라인(30)을 통해 열분해탑(20)으로 상향 흐름으로 공급된다.　 아울러, 상기 필터(10)에서 필터링된 양극 가스(또는 음극 가스)가 열분해탑(20)으로 원활하게 공급될 수 있도록, 상기 공급라인(30) 상에는 필요에 따라 흡입 펌프(도시하지 않음)가 설치될 수 있다.　
상기 필터(10)는 열분해탑(20)의 전단에 적어도 1개 이상 설치된다.　 필터(10)는, 바람직하게는 열분해탑(20)의 전단에 2개 이상 다수 개 설치되는 것이 좋다.　 이때, 필터(10)가 다수 개 설치된 경우, 이들은 연결 도관을 통하여 서로 직렬로 연결될 수 있으나, 바람직하게는 병렬로 설치되는 것이 좋다.　 구체적인 예를 들어, 상기 필터(10)는 열분해탑(20)의 전단에 2개 내지 5개, 보다 좋게는 2개 내지 3개가 병렬로 배열 설치되는 것이 좋다.　 도 2에서는 2개의 필터(10)가 병렬로 설치된 모습을 예시하였다.　 구체적으로, 도 2에서는 제1필터(10-1)와 제2필터(10-2)가 상하로 병렬 설치된 모습을 예시하였다.
도 2 및 도 3에 예시한 바와 같이, 상기 필터(10)가 다수 개로서 병렬로 설치된 경우, 상기 가스 인입라인(L1)은 필터(10)의 개수에 대응되는 다수의 인입 분기관(L11)(L12)을 가질 수 있다.　 또한, 상기 공급라인(30)의 경우에도 필터(10)의 개수에 대응되는 다수의 토출 분기관(31)(32)을 가질 수 있다.　 도 2 및 도 3에서 도면 부호 V1과 V2는 밸브이다.　 상기 밸브(V1)(V2)는 개폐 조작은 물론 유량 조절이 가능하여도 좋다.
상기 필터(10)가 위와 같이 다수 개인 경우, 인입되는 양극 가스(또는 음극 가스)의 유량에 따라 1개 또는 2개 이상을 동시에 가동시킬 수 있다.　 또한, 상기한 바와 같이 필터(10)는 열분해탑(20)의 전단에 다수 개 설치되되, 병렬로 설치된 것이 바람직한데, 이 경우 교대로 가동시켜 NF3 가스 전체 제조 설비의 연속 운전이 가능하다.　 구체적으로, 병렬로 설치된 다수 개 중에서 어느 하나가, 예를 들어 도 2에서 제1필터(10-1)가 이물질(산성불화암모늄 등)의 고착량이 많아 필터링 효율이 떨어지는 경우, 밸브 V1을 차단하고 밸브 V2를 개방하여 NF3 가스가 제2필터(10-2)로 인입되도록 함으로써, 제1필터(10-1)의 보수로 인한 설비의 가동 중지 없이 연속적인 운전이 가능하다.　 그리고 이와 같이 제2필터(10-2)의 가동을 통해 연속 필터링을 진행시키면서 상기 제1필터(10-1)에 고착된 이물질을 세정 보수하여 제1필터(10-1)와 제2필터(10-2)를 계속적으로 교차 운영할 수 있다.
한편, 상기 필터(10)의 필터링을 통해 이물질이 제거된 양극 가스(또는 음극 가스)는 공급라인(30)을 통해 열분해탑(20)으로 상향 공급된다.　 열분해탑(20)에서는 양극 가스(또는 음극 가스) 중에 포함된 불화물이 열분해되어 제거된다.　 열분해탑(20)은 제한되지 않으며, 이는 양극 가스(또는 음극 가스)에 포함된 불화물을 제거할 수 있으면 좋다.　 열분해탑(20)은 구체적으로 양극 가스(또는 음극 가스)에 포함된 N2F2를 질소(N2)와 불소(F2)로 분해시킬 수 있으면 좋다.　 또한, 열분해탑(20)은 필터(10)를 통해 제거되지 않은 잔여의 산성불화암모늄을 분해시킬 수 있으면 좋다.
상기 열분해탑(20)은, 양극 가스(또는 음극 가스)가 유입되는 분해조(21)와, 상기 분해조(21)의 내부에 열을 공급하기 위한 가열 수단(22)을 포함한다.　 열분해탑(20)은, 바람직하게는 상기 분해조(21)의 내부에 충전된 충전층(24)을 더 포함한다.　
상기 가열 수단(22)은 분해조(21)에 열을 공급할 수 있는 것이면 제한되지 않으며, 이는 분해조(21)의 내벽이나 외벽에 설치될 수 있다.　 가열 수단(22)은 특별히 한정하는 것은 아니지만, 분해조(21)의 외벽에 설치된 전기 히팅 코일이나, 분해조(21)의 내벽에 설치된 자켓, 그리고 분해조(21)가 이중 관으로 구성되고 상기 이중 관 내부를 순환하는 열 유체 등으로부터 선택될 수 있다.　
상기 분해조(21)로 유입된 양극 가스(또는 음극 가스) 중의 불화물, 즉 산성불화암모늄과 N2F2는 충전층(24)을 통과하면서 열분해된다.　 상기 충전층(24)은, 예를 들어 내열과 내산에 견디는 금속재질을 포함할 수 있다. 충전층(24)은 유입된 가스를 균일하게 분산시킬 수 있도록 다공체이어도 좋다.　 또한, 충전층(24)은 유입된 가스에 가열 수단(22)의 열을 효율적으로 전달하고, 이와 함께 열분해에 의해 생성된 열분해물을 흡착 제거할 수 있으면 더욱 좋다.　 이를 위해, 충전층(24)은 특별히 한정하는 것은 아니지만, 예를 들어 높은 열전도도 및 내식성을 가지는 금속재 등으로부터 선택될 수 있으며, 이러한 충전층(24)을 통해 산성불화암모늄과 N2F2를 효과적으로 열분해되어 제거할 수 있다.
아울러, 상기 열분해탑(20)은 가열 수단(22)을 통해 열분해가 가능한 온도를 유지할 수 있으면 좋다.　 이때, 온도가 너무 낮은 경우에는 불화물의 열분해 제거율이 떨어지고, 너무 높은 경우에는 NF3 가스도 분해되거나 에너지 손실이 크므로, 열분해탑(20)은 예를 들어 0 ~ 450℃의 온도, 보다 구체적인 예를 들어 50 ~ 330℃의 온도로 유지되는 것이 바람직하다.
도 2에 도시된 바와 같이, 상기 열분해탑(20)의 상단에는 전술한 바와 같은 유입라인(150)이 연결된다.　 그리고 상기 열분해탑(20)에서 불화물이 분해 제거된 양극 가스(또는 음극 가스)는 상기 유입라인(150)을 따라 HF 회수 유닛(200)으로 공급되어, 상기한 바와 같이 액화를 통해 HF가 정제, 회수되고, 이후 NF3 가스(또는 H2 가스)는 배출라인(225)을 통해 후단 공정으로 이송된다.
한편, 양극에서 발생된 HF 회수의 경우, 상기 불화물 제거 유닛(100)은 도 2에 도시한 바와 같이 적어도 하나 이상의 필터(10)와, 상기 필터(10)의 후단에 설치된 열분해탑(20)을 포함하는 것이 좋다. 그리고 음극에서 발생된 HF 회수의 경우, 상기 불화물 제거 유닛(100)은 도 3에 도시한 바와 같이 적어도 하나 이상의 필터(10)를 포함하는 것이 좋다. 그리고 음극의 경우, 필터(10)에 추가하여 선택적으로 열분해탑(20)을 더 포함할 수 있다.
이상에서 설명한 본 발명에 따르면, 상기한 바와 같이 NF3 가스의 제조 시, 양극/음극에서 발생된 양극/음극 가스에 포함된 HF가 액화을 통해 정제(NF3 가스 또는 H2 가스로부터 제거)되고 고농도로 회수된다.　 그리고 HF 회수 유닛(200)을 불화물 제거 유닛(100)의 후단에 설치함으로 인해, 불화물의 고착을 방지하여 장치를 효율적으로 운전할 수 있다.　 이에 따라, NF3 가스를 고순도로 정제(제조)할 수 있으면서, 고가의 HF를 고농도로 효율적으로 회수하여 NF3 가스 제조의 원료로 재사용할 수 있어, NF3 가스의 원단위(제조단가)를 낮출 수 있다.　
또한, 종래 HF를 흡수 처리함에 따라 발생되는 흡수액(NaOH 수용액 등)의 폐수처리비용 등을 절감할 수 있다.　 그리고 HF의 회수 제거를 통해, 후단 공정으로 HF의 유입을 차단하여 HF로 인한 공정의 트러블(trouble)과 흡착제 연소 등을 방지할 수 있다.
10 : 필터　　 　　　　　　　　 　　20 : 열분해탑
21 : 열분해조　　 　　　　　　　 　22 : 가열 수단
24 : 충전층　　　　　　　　　　 　　　　　　　　　 30 : 공급라인
100 : 불화물 제거 유닛　 　　　　　　　 150 : 유입라인
200 : HF 회수 유닛　　　 　　　　　　　　　 210 : 제1열교환기
215 : 흐름라인　　　　 　　　　　　　　　　　　 220 : 제2열교환기
225 : 배출라인　　 　　　　　　　　　　　　　　 230 : HF 포집부
231 : 액위계　　　 　　　　　　　　　　　　　　　 240 : HF 회수라인
241 : 개폐밸브　 　　　　　　　　　　　　　　　 250 : 제어기　
260 : 흡수탑 　　　　　　　　　　　　　　　 C : 칼럼

Claims (11)

  1. NF3 가스의 제조 시 양극에서 발생된 NF3 가스에 포함된 산성불화암모늄과 N2F2를 제거하는 불화물 제거 유닛; 및
    상기 NF3 가스에 포함된 HF를 액화시켜 회수하는 HF 회수 유닛;을 포함하여 구성되는 HF 회수장치로서,
    상기 HF 회수 유닛은 불화물 제거 유닛의 후단에 설치되되,
    HF를 1차 냉각시키는 제1열교환기; 상기 제1열교환기의 후단에 설치되고, 상기 1차 냉각된 HF를 2차 냉각하여 액화시키는 제2열교환기; 상기 제2열교환기의 하단에 설치되고, 상기 액화된 HF를 포집하는 HF 포집부; 및 상기 HF 포집부에 포집된 HF를 회수하는 HF 회수라인을 포함하는 것을 특징으로 하는 NF3 가스의 제조 시 발생된 HF의 회수장치.
  2. NF3 가스의 제조 시 음극에서 발생된 H2 가스에 포함된 산성불화암모늄을 제거하는 불화물 제거 유닛; 및
    상기 H2 가스에 포함된 HF를 액화시켜 회수하는 HF 회수 유닛;을 포함하여 구성되는 HF 회수장치로서,
    상기 HF 회수 유닛은 불화물 제거 유닛의 후단에 설치되되,
    HF를 1차 냉각시키는 제1열교환기; 상기 제1열교환기의 후단에 설치되고, 상기 1차 냉각된 HF를 2차 냉각하여 액화시키는 제2열교환기; 상기 제2열교환기의 하단에 설치되고, 상기 액화된 HF를 포집하는 HF 포집부; 및 상기 HF 포집부에 포집된 HF를 회수하는 HF 회수라인을 포함하는 것을 특징으로 하는 NF3 가스의 제조 시 발생된 HF의 회수장치.
  3. 삭제
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제2열교환기와 HF 포집부는 하나의 컬럼(column)에 설치되고,
    상기 HF 포집부에는 액화된 HF의 액위를 측정하는 액위계가 설치되어 있으며,
    상기 HF 회수라인에는 액위계에서 측정된 HF의 액량에 따라 제어기에 의해 제어되는 개폐밸브가 설치된 것을 특징으로 하는 NF3 가스의 제조 시 발생된 HF의 회수장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 불화물 제거 유닛(100)은,
    상기 산성불화암모늄을 필터링하여 제거하는 필터; 및
    상기 필터의 후단에 설치된 열분해탑을 포함하는 것을 특징으로 하는 NF3 가스의 제조 시 발생된 HF의 회수장치.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 불화물 제거 유닛(100)은 산성불화암모늄을 필터링하여 제거하는 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 NF3 가스의 제조 시 발생된 HF의 회수장치.
  7. NF3 가스의 제조 시 양극에서 발생된 NF3 가스에 포함된 산성불화암모늄과 N2F2를 제거하는 전처리단계; 및
    상기 NF3 가스에 포함된 HF를 액화시켜 회수하는 HF 회수단계를 포함하고,
    상기 HF 회수단계는 전처리단계 이후에 진행하는 NF3 가스의 제조 시 발생된 HF의 회수방법으로서,
    상기 전처리단계 및 HF 회수단계는 제 1 항에 따른 HF의 회수장치를 사용하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 NF3 가스의 제조 시 발생된 HF의 회수방법.
  8. NF3 가스의 제조 시 음극에서 발생된 H2 가스에 포함된 산성불화암모늄을 제거하는 전처리단계; 및
    상기 H2 가스에 포함된 HF를 액화시켜 회수하는 HF 회수단계를 포함하고,
    상기 HF 회수단계는 전처리단계 이후에 진행하는 NF3 가스의 제조 시 발생된 HF의 회수방법으로서,
    상기 전처리단계 및 HF 회수단계는 제 2 항에 따른 HF의 회수장치를 사용하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 NF3 가스의 제조 시 발생된 HF의 회수방법.
  9. 제7항 또는 제8항에 있어서,
    상기 HF 회수단계는 15℃ ~ -50℃의 온도에서 액화시키는 것을 특징으로 하는 NF3 가스의 제조 시 발생된 HF의 회수방법.
  10. 제7항에 있어서,
    상기 HF의 회수방법은 제1항에 따른 HF의 회수장치를 이용하는 것을 특징으로 하는 NF3 가스의 제조 시 발생된 HF의 회수방법.
  11. 제8항에 있어서,
    상기 HF의 회수방법은 제2항에 따른 HF의 회수장치를 이용하는 것을 특징으로 하는 NF3 가스의 제조 시 발생된 HF의 회수방법.
KR1020120156888A 2012-12-28 2012-12-28 삼불화질소 가스의 제조 시 양극/음극에서 발생된 불화수소의 회수장치 및 회수방법 KR101320794B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120156888A KR101320794B1 (ko) 2012-12-28 2012-12-28 삼불화질소 가스의 제조 시 양극/음극에서 발생된 불화수소의 회수장치 및 회수방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120156888A KR101320794B1 (ko) 2012-12-28 2012-12-28 삼불화질소 가스의 제조 시 양극/음극에서 발생된 불화수소의 회수장치 및 회수방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101320794B1 true KR101320794B1 (ko) 2013-10-23

Family

ID=49638997

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120156888A KR101320794B1 (ko) 2012-12-28 2012-12-28 삼불화질소 가스의 제조 시 양극/음극에서 발생된 불화수소의 회수장치 및 회수방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101320794B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113247870A (zh) * 2021-04-03 2021-08-13 中船重工（邯郸）派瑞特种气体有限公司 一种制备高纯三氟化氮气体的方法及装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002068716A (ja) * 2000-08-28 2002-03-08 Mitsui Chemicals Inc 高純度ｎｆ３ガスの精製方法
KR20050029522A (ko) * 2003-09-23 2005-03-28 주식회사 효성 니켈 및 구리함침 제올라이트 흡착제를 이용한 ｎｆ₃의정제방법
KR20050076818A (ko) * 2004-01-23 2005-07-28 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드 Ｎｆ3의 정제 방법
KR101200146B1 (ko) * 2011-12-02 2012-11-12 오씨아이머티리얼즈 주식회사 삼불화질소 가스에 포함된 이불화이질소의 제거장치

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002068716A (ja) * 2000-08-28 2002-03-08 Mitsui Chemicals Inc 高純度ｎｆ３ガスの精製方法
KR20050029522A (ko) * 2003-09-23 2005-03-28 주식회사 효성 니켈 및 구리함침 제올라이트 흡착제를 이용한 ｎｆ₃의정제방법
KR20050076818A (ko) * 2004-01-23 2005-07-28 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드 Ｎｆ3의 정제 방법
KR101200146B1 (ko) * 2011-12-02 2012-11-12 오씨아이머티리얼즈 주식회사 삼불화질소 가스에 포함된 이불화이질소의 제거장치

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113247870A (zh) * 2021-04-03 2021-08-13 中船重工（邯郸）派瑞特种气体有限公司 一种制备高纯三氟化氮气体的方法及装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102583281B (zh) 单晶硅生产中氩气回收纯化的方法与装置
CN101298318B (zh) 制备高纯四氟化碳气体的方法及设备
CN102101651B (zh) 二氟一氯甲烷副产氯化氢的精制及三氟甲烷回收的方法与装置
CN104555927B (zh) 一种三氟化氯的纯化方法
CN104944393B (zh) 一种提浓纯化高纯氦气的装置和方法
CN108246062B (zh) 一种铀浓缩工厂尾气hf处理工艺
CN113247870B (zh) 一种制备高纯三氟化氮气体的方法及装置
CN111330412B (zh) 一种氯代工段副产氯化氢气体吸收净化成酸系统及工艺
CN111085081A (zh) 一种除去氟气中氟化氢的装置及方法
CN114198981A (zh) 一种制备高纯氟气的精制纯化设备和方法
CN100531846C (zh) 硅化镁法工艺生产硅烷过程中所排放氨气的回收循环利用方法及设备
CN202610337U (zh) 金属酸洗废液的资源化处理装置
KR101320794B1 (ko) 삼불화질소 가스의 제조 시 양극/음극에서 발생된 불화수소의 회수장치 및 회수방법
CN102173393B (zh) 一种四氟化硫的生产工艺
CN212369872U (zh) 一种氯代工段副产氯化氢气体吸收净化成酸系统
CN102963870A (zh) 一种氟气的提纯方法
CN203392864U (zh) 一种回收不纯氖氦混合气的装置
CN202715264U (zh) 一种粘胶纤维废气冷凝处理装置
CN201855641U (zh) 含氯化氢尾气的处理装置
CN102660751B (zh) 金属酸洗废液的资源化处理方法及装置
CN208413844U (zh) 高收率超净高纯氢氟酸的提纯装置
CN104387300B (zh) 一种三氟甲磺酰氟的纯化方法
CN203540321U (zh) 气体中HCl和挥发性有机物回收装置
CN206751402U (zh) 一种氖气回收提纯装置
CN102351149B (zh) 氯化氢中氯气的去除和回收系统

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161006

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171012

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181017

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191014

Year of fee payment: 7