KR101314278B1 - Clean booth - Google Patents

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(주)신성이엔지
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Abstract

본 발명의 클린 부스는, 청정실과 흡입챔버가 형성되는 본체; 상기 흡입챔버에 설치되어 상기 흡입챔버와 청정실의 공기를 순환시키는 팬필터유닛; 및 상기 청정실의 공기를 상기 팬필터유닛의 흡입 측으로 전달하도록 상기 본체에 마련되는 덕트;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이에 따라, 저 청정도를 유지하는 일반환경 또는 클린룸에 그 전체적인 규모를 축소하여 독립적인 형태로 설치될 수 있는 효과가 있다.The clean booth of the present invention includes: a main body in which a clean room and a suction chamber are formed; A fan filter unit installed in the suction chamber to circulate air between the suction chamber and the clean room; And a duct provided in the main body to transfer air of the clean room to the suction side of the fan filter unit.
Accordingly, there is an effect that can be installed in an independent form by reducing the overall scale in a general environment or clean room that maintains a low cleanliness.

Description

클린 부스{CLEAN BOOTH}Clean Booth {CLEAN BOOTH}

본 발명은 클린 부스에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 저 청정도를 유지하는 일반환경 또는 클린룸에 전체적인 규모를 축소하여 독립적인 형태로 설치되어 적용 가능한 클린 부스에 관한 것이다.
The present invention relates to a clean booth, and more particularly, to a clean booth that can be installed and applied in an independent form to reduce the overall scale in a general environment or a clean room maintaining low cleanliness.

일반적으로 클린룸(Clean Room; CR)이란 생산 공정에서 중대한 방해를 초래하는 공기 중의 부유 입자(particle)를 제거하기 위한 것으로서, 공기 중의 부유하는 입자뿐만 아니라 온도, 습도, 공기압, 정전기 제어 등이 환경적으로 제어되는 밀폐된 공간이다.In general, a clean room (CR) is used to remove airborne particles that cause significant interference in the production process. In addition to airborne particles, temperature, humidity, air pressure, static electricity control, etc. It is an enclosed space that is controlled in a controlled manner.

도 1 은 종래 클린룸 구조를 보여주는 도면으로서, 클린룸(1)의 천장을 이루는 시링 플로어(2; ceiling floor)에는 팬 필터 유닛(4; Fan Filter Unit)이 설치되어 있고, 바닥은 기초 구조물 바닥면(8)인 베이스로부터 들어 올려진 위치에 액세스 플로어(6)가 설치된 구조로 형성된다. 액세스 플로어(6)는 베이스 상에 이격되어 지지되는 빔 구조물(9)에 다수의 블록이 형성되고, 각 블록에 다수개의 구멍이 형성된 천공 패널 또는 막힌 블라인드 패널이 혼합 배치된 형태로서 클린룸 전체의 기류 흐름을 고려하여 패널들이 배치된다.1 is a view illustrating a conventional clean room structure, in which a ceiling filter (2; ceiling floor) forming a ceiling of a clean room (1) is provided with a fan filter unit (4; fan filter unit), and the floor is a base structure floor. It is formed in a structure in which the access floor 6 is provided at a position lifted from the base which is the surface 8. The access floor 6 has a plurality of blocks formed in the beam structure 9 spaced apart and supported on the base, and a perforated panel or a blind window panel formed with a plurality of holes in each block is mixed and disposed of the entire clean room. Panels are arranged in consideration of the airflow.

이러한 클린룸(1) 내의 기류 흐름을 살펴보면, 팬 필터 유닛(4)으로부터 클린룸(1) 내부로 공기가 송풍된 후 액세스 플로어(6)의 구멍을 통해 액세스 플로어(6)와 기초 구조물 바닥면(8)사이의 하부 공간(10)으로 배출되며, 이 공기는 클린룸 벽과 구조물 벽체 사이의 측면 공간(12)을 거쳐 시링 플로어(2) 상부의 상부 공간(14)으로 순환된 후 다시 팬 필터 유닛(4)으로 보내지는 순환 흐름을 이룬다.Looking at the flow of air in the clean room 1, air is blown from the fan filter unit 4 into the clean room 1 and then through the openings of the access floor 6 through the access floor 6 and the bottom of the foundation structure. The air is discharged into the lower space 10 between (8), and this air is circulated through the side space 12 between the clean room wall and the structure wall to the upper space 14 above the shirring floor 2 and then back to the fan. A circulating flow is sent to the filter unit 4.

한편, 클린룸(1) 내부에는 다수의 공정 장비들이 설치되어 있다. 예컨대 액정표시장치의 기판 처리를 위해서 박막 증착 공정, 식각 공정, 포코리소그래피 공정 및 건조 공정 세정 공정 등이 행해진다. 이를 위해 클린룸(1)의 액세스 플로어(6) 상에는 다수의 작업 챔버(5)들이 마련되어 그 내부에 각종 공정장비 예컨대 OVEN 장비, 로봇장비 등이 설치된다. 각 작업 챔버(5)들은 서로 연통되어 기판은 각 공정 단계에 맞게 작업 챔버를 따라 순차적으로 진행된다. 한편, 각 작업 챔버의 상부에는 팬 필터 유닛(7)을 설치되어 작업 챔버(5) 내부의 공기 청정도가 유지될 수 있도록 구성된다.Meanwhile, a plurality of process equipments are installed in the clean room 1. For example, a thin film deposition process, an etching process, a photolithography process, a drying process cleaning process, etc. are performed for substrate processing of a liquid crystal display device. To this end, a plurality of working chambers 5 are provided on the access floor 6 of the clean room 1, and various process equipments such as OVEN equipment and robot equipment are installed therein. Each working chamber 5 is in communication with each other so that the substrate proceeds sequentially along the working chamber for each process step. On the other hand, the fan filter unit (7) is installed on the upper portion of each working chamber is configured to maintain the air cleanliness inside the working chamber (5).

그러나, 종래의 클린룸은 공기 중의 부유 입자(particle)를 제거하도록 밀폐된 공간으로 형성되며, 이를 위해 건물 전체에 클린룸을 적용함에 따라 그 전체적인 크기가 커지는 문제점이 있었다.However, the conventional clean room is formed as a closed space to remove the airborne particles (particles) in the air, there is a problem that the overall size is increased by applying the clean room to the entire building for this purpose.

즉, 저 청정도를 유지하는 일반환경 또는 대형 클린룸에 독립적인 형태로 설치하는 클린 부스가 개시된 바 없었다.In other words, no clean booth has been disclosed that can be installed in an independent form in a general environment or a large clean room maintaining low cleanliness.

따라서, 저 청정도를 유지하는 일반환경 또는 클린룸에 그 전체적인 규모를 축소하여 독립적인 형태로 설치될 수 있는 개선된 형태의 클린 부스의 개발이 요구되고 있는 실정이다.
Therefore, the development of an improved type of clean booth that can be installed in an independent form by reducing its overall size in a general environment or a clean room maintaining low cleanliness is required.

본 발명은 전술한 종래의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 저 청정도를 유지하는 일반환경 또는 클린룸에 전체적인 규모를 축소하여 독립적인 형태로 설치될 수 있는 클린 부스를 제공하는데 있다.The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, the object of the present invention is to provide a clean booth that can be installed in an independent form by reducing the overall scale in a general environment or clean room to maintain a low cleanliness It is.

또한, 본 발명의 다른 목적은 유입공기의 유입량을 조절하여 순환공기의 순환량을 조정할 수 있는 클린 부스를 제공하는데 있다.In addition, another object of the present invention to provide a clean booth that can adjust the amount of circulating air by adjusting the amount of inlet air.

또한, 본 발명의 또 다른 목적은 오염발생 장치가 설치될 수 있는 별도의 공간을 구비하는 클린 부스를 제공하는데 있다.In addition, another object of the present invention to provide a clean booth having a separate space in which the pollution generating device can be installed.

또한, 본 발명의 또 다른 목적은 부스 내부 차압을 이용한 국소 배기를 실시할 수 있는 클린 부스를 제공하는데 있다.
Further, another object of the present invention is to provide a clean booth capable of performing local exhaust using the differential pressure inside the booth.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 클린 부스는, 청정실과 흡입챔버가 형성되는 본체; 상기 흡입챔버에 설치되어 상기 흡입챔버와 청정실의 공기를 순환시키는 팬필터유닛; 및 상기 청정실의 공기를 상기 팬필터유닛의 흡입 측으로 전달하도록 상기 본체에 마련되는 덕트;를 포함하는 것을 특징으로 한다.The clean booth of the present invention for achieving the above object, the clean room and the suction chamber is formed; A fan filter unit installed in the suction chamber to circulate air between the suction chamber and the clean room; And a duct provided in the main body to transfer air of the clean room to the suction side of the fan filter unit.

또한, 상기 본체에는 흡입챔버로 유입되는 외부공기의 개도량을 조절하는 댐퍼가 구비되되, 상기 댐퍼는 2장의 다공성 펀칭플레이트로 구성되어 상기 2장의 타공판의 상대이동에 의해 개도량이 조절되는 것을 특징으로 한다.In addition, the main body is provided with a damper for adjusting the opening amount of the external air flowing into the suction chamber, the damper is composed of two porous punching plate is characterized in that the opening amount is controlled by the relative movement of the two perforated plate. do.

또한, 상기 청정실과 덕트 사이 및 상기 청정실과 흡입챔버 사이에는 제1펀칭플레이트가 설치되는 것을 특징으로 한다.In addition, a first punching plate may be installed between the clean room and the duct and between the clean room and the suction chamber.

또한, 상기 청정실에는 별도로 구획된 격리실이 구비되는 것을 특징으로 한다.In addition, the clean room is characterized in that the separate compartment is provided with a separate compartment.

또한, 상기 격리실과 덕트 사이에는 제2펀칭플레이트가 설치되는 것을 특징으로 한다.In addition, a second punching plate is installed between the isolation chamber and the duct.

또한, 상기 청정실과 흡입챔버의 차압을 이용한 국소배기부가 더 구비되는 것을 특징으로 한다.In addition, the local exhaust portion using the differential pressure of the clean room and the suction chamber is characterized in that it is further provided.

또한, 상기 국소배기부는 청정실과 흡입챔버에 설치된 팬필터유닛의 흡입 측을 연결하는 바이패스 흡입라인과 상기 바이패스 흡입라인의 청정실측에 설치되는 플렉시블 소재의 흡입구로 구성되는 것을 특징으로 한다.The local exhaust unit may include a bypass suction line connecting the suction side of the fan filter unit installed in the clean room and the suction chamber and a suction port of a flexible material installed in the clean room side of the bypass suction line.

또한, 상기 본체에는 이오나이저가 설치되는 것을 특징으로 한다.In addition, the main body is characterized in that the ionizer is installed.

또한, 상기 본체는 프레임과 상기 프레임의 개방된 단부를 마감하는 패널로 구성되는 것을 특징으로 한다.
In addition, the main body is characterized by consisting of a panel closing the frame and the open end of the frame.

본 발명에 따른 클린 부스에 따르면, 저 청정도를 유지하는 일반환경 또는 클린룸에 그 전체적인 규모를 축소하여 독립적인 형태로 설치될 수 있는 효과가 있다.According to the clean booth according to the present invention, there is an effect that can be installed in an independent form by reducing the overall scale in a general environment or clean room to maintain a low cleanliness.

이 중, 클린룸에 본 발명의 클린 부스를 설치하는 경우, 공기 중의 부유 입자(particle)가 제거된 클린룸의 깨끗한 공기가 클린 부스 내부로 유임됨에 따라 클린 부스의 내부 청정도를 더욱 높여줄 수 있게 된다. Among these, when the clean booth of the present invention is installed in a clean room, the clean air of the clean room from which airborne particles are removed remains in the clean booth so that the cleanliness of the clean booth can be further increased. do.

또한, 외부공기의 유입량을 댐퍼에 의해 조절하여 흡입챔버와 청정실의 공기의 순환량을 조정할 수 있다.In addition, the flow rate of the air in the suction chamber and the clean room can be adjusted by adjusting the flow rate of the external air by the damper.

또한, 오염발생 장치가 설치될 수 있는 별도의 격리실을 구비하여 오염 공기가 클린 부스의 전체로 퍼지는 것을 억제한다.In addition, a separate containment chamber in which the pollution generating device can be installed is provided to prevent the polluted air from spreading throughout the clean booth.

또한, 부스 내부 차압을 이용한 바이패스 흡입라인과 흡입구에 의해 오염공기를 신속하게 흡입하여 여과할 수 있다.
In addition, it is possible to quickly suck and filter the polluted air by the bypass suction line and the suction port using the differential pressure inside the booth.

도 1은 종래의 클린룸 구조를 도시한 개략도이다.
도 2는 본 발명에 따른 클린 부스를 분해 도시한 사시도이다.
도 3은 도 2의 결합상태를 도시한 사시도이다.
도 4는 도 2의 정면도이다.
도 5는 도 4의 'a-a'부 단면도이다.
도 6은 본 발명에 따른 클린 부스의 내부 공기의 흐름을 보여주는 도면이다.
도 7은 본 발명에 따른 클린 부스의 내부 구조를 보여주는 도면이다.1 is a schematic diagram showing a conventional clean room structure.
2 is an exploded perspective view illustrating a clean booth according to the present invention.
3 is a perspective view illustrating a coupled state of FIG. 2.
4 is a front view of Fig.
5 is a cross-sectional view taken along the line 'a-a' of FIG. 4.
6 is a view showing the flow of air inside the clean booth according to the present invention.
7 is a view showing the internal structure of a clean booth according to the present invention.

이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명에 따른 클린 부스를 분해 도시한 사시도이고, 도 3은 도 2의 결합상태를 도시한 사시도이며, 도 4는 도 2의 정면도이고, 도 5는 도 4의 'a-a'부 단면도이며, 도 6은 본 발명에 따른 클린 부스의 내부 공기의 흐름을 보여주는 도면이고, 도 7은 본 발명에 따른 클린 부스의 내부 구조를 보여주는 도면이다.Figure 2 is an exploded perspective view showing a clean booth according to the present invention, Figure 3 is a perspective view showing a combined state of Figure 2, Figure 4 is a front view of Figure 2, Figure 5 'a-a' of FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a flow of internal air of a clean booth according to the present invention, and FIG. 7 is a view illustrating an internal structure of the clean booth according to the present invention.

도 2 내지 도 7에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 클린 부스(A)는, 청정실(110)과 흡입챔버(120)가 형성되는 본체(100)와, 상기 흡입챔버(120)에 설치되어 상기 흡입챔버(120)와 청정실(110)의 공기를 순환시키는 팬필터유닛(200, FFU: FAN FILTER UNIT) 및 상기 청정실(110)의 공기를 상기 팬필터유닛(200)의 흡입 측으로 전달하도록 상기 본체(100)에 마련되는 덕트(300)로 구성된다.As shown in FIGS. 2 to 7, the clean booth A according to the present invention is provided in the main body 100 in which the clean room 110 and the suction chamber 120 are formed, and the suction chamber 120. The fan filter unit 200 (FFU: FAN FILTER UNIT) for circulating the air of the suction chamber 120 and the clean room 110 and the air of the clean room 110 to the suction side of the fan filter unit 200 It consists of a duct 300 provided in the main body 100.

먼저, 상기 본체(100)는 프레임(100A)과 상기 프레임(100A)의 개방된 단부를 마감하는 패널(100B)로 구성되어 직육면체의 형상을 가진다.First, the main body 100 is composed of a frame 100A and a panel 100B which closes the open end of the frame 100A and has a rectangular parallelepiped shape.

또한, 상기 본체(100)의 정면 일부는 투명커버(101)가 부착되어 청정실(110) 내부를 클린 부스(A) 외부에서 살펴볼 수 있게 구성된다.In addition, the front portion of the main body 100 is attached to the transparent cover 101 is configured to look inside the clean room 110 from the outside of the clean booth (A).

그리고, 도시하진 않았지만 상기 본체(100)에는 출입을 위한 도어가 구비되는 것이 바람직하다.Although not shown, the main body 100 is preferably provided with a door for entrance and exit.

한편, 상기 본체(100)는 종래의 클린룸 대비 전체적인 크기를 줄여 소형 부스형태를 가지게 되며, 상기 본체(100)에는 팬필터 유닛(200) 및 덕트(300)가 구비되어 청정실의 공기 중의 부유 입자(particle)를 제거하게 된다.On the other hand, the main body 100 has a small booth shape by reducing the overall size compared to the conventional clean room, the main body 100 is provided with a fan filter unit 200 and the duct 300 is suspended particles in the air of the clean room remove particles.

이에 따라, 본 발명의 클린 부스(A)는 저 청정도를 유지하는 일반환경 또는 건물전체에 형성된 클린룸에 전체적인 규모를 축소하여 독립적인 형태로 설치될 수 있게 된다.Accordingly, the clean booth (A) of the present invention can be installed in an independent form by reducing the overall scale in a clean room formed in the general environment or the whole building to maintain a low cleanliness.

이 중, 클린룸에 본 발명의 클린 부스(A)를 설치하는 경우, 공기 중의 부유 입자(particle)가 제거된 클린룸의 깨끗한 공기가 클린 부스(A) 내부로 유임됨에 따라 클린 부스(A)의 내부 청정도를 더욱 높여줄 수 있게 된다. Among these, in the case where the clean booth A of the present invention is installed in the clean room, the clean booth A is clean as the clean air of the clean room from which the suspended particles in the air are removed flows into the clean booth A. The internal cleanliness of the can be further increased.

또한, 상기 본체(100)에는 흡입챔버(120)로 유입되는 외부공기의 개도량을 조절하는 댐퍼(400)가 구비되되, 상기 댐퍼(400)는 2장의 다공성 펀칭플레이트(410)로 구성되어 상기 2장의 다공성 펀칭플레이트(410)의 상대이동에 의해 개도량이 조절된다.In addition, the main body 100 is provided with a damper 400 for adjusting the opening amount of the external air flowing into the suction chamber 120, the damper 400 is composed of two porous punching plate 410 is The opening amount is controlled by the relative movement of the two porous punching plates 410.

그리고, 상기 댐퍼(400)는 전술한 다공성 펀칭플레이트(410)로 특별히 한정하는 것은 아니며, 외부 공기의 유입량을 조절할 수 있는 밸브 등과 같은 다양한 형태의 공지된 기구 및 장치가 적용될 수도 있다.In addition, the damper 400 is not particularly limited to the above-described porous punching plate 410, and various types of known mechanisms and devices, such as a valve capable of adjusting the inflow of external air, may be applied.

이에 따라, 외부공기의 유입량을 댐퍼(400)에 의해 조절하여 흡입챔버(120)와 청정실(110)의 공기의 순환량을 조정할 수 있게 된다.Accordingly, by adjusting the inflow amount of the external air by the damper 400 it is possible to adjust the circulation amount of the air of the suction chamber 120 and the clean room 110.

구체적으로, 도 6과 같이 댐퍼(400)를 통해 클린 부스(A) 내부로 유입되는 외부공기(Q_in)의 양은 클린 부스(A) 외부로 배출되는 배출공기(Q_out)의 양과 동일하며, 상기 팬필터유닛(200)을 거쳐 유입된 청정실(110)의 공기(Q_ffu)가 덕트(300)를 통해 순환하며, 이때 순환공기(Q_re)는 결과적으로 클린 부스(A) 내부로 유입되는 외부공기(Q_in)의 양에 의해 결정된다.Specifically, as shown in FIG. 6, the amount of external air (Q_in) flowing into the clean booth (A) through the damper 400 is the same as the amount of exhaust air (Q_out) discharged to the outside of the clean booth (A), and the fan Air (Q_ffu) of the clean room 110 introduced through the filter unit 200 circulates through the duct 300, wherein the circulating air (Q_re) is the result of the external air (Q_in) flowing into the clean booth (A) as a result Is determined by the amount.

이는, 상기 청정실(110)은 팬필터유닛(200)에 의해 양압을 유지하며 그 압력은 외부공기(Q_in)에 의해 결정되기 때문이다.This is because the clean room 110 maintains a positive pressure by the fan filter unit 200 and the pressure is determined by the external air Q_in.

한편, 상기 청정실(110)과 덕트(300) 사이 및 상기 청정실(110)과 흡입챔버(120) 사이에는 제1펀칭플레이트(500)가 설치되어 공기의 순환이 발생하게 된다.Meanwhile, a first punching plate 500 is installed between the clean room 110 and the duct 300 and between the clean room 110 and the suction chamber 120 to generate circulation of air.

또한, 상기 청정실(110)에는 별도로 구획된 격리실(130)이 구비되며, 상기 격리실(130)과 덕트(300) 사이에는 제2펀칭플레이트(600)가 설치된다.In addition, the clean room 110 is provided with a separate compartment 130, a second punching plate 600 is installed between the isolation chamber 130 and the duct 300.

이에 따라, 상기 격리실(130)에 부유 입자(particle)를 대량 발생시키는 오염발생 장치를 설치하여 오염 공기가 클린 부스(A)의 전체, 특히 청정실(110)로 퍼지는 것을 억제하게 된다.Accordingly, by installing a pollution generating device that generates a large amount of suspended particles in the isolation chamber 130, it is possible to suppress the spread of the contaminated air to the entire clean booth A, particularly the clean room 110.

즉, 별도의 공간을 가지는 격리실(130)을 구비하여 공기 중의 부유 입자(particle)를 집중적으로 제거할 수 있게 된다.That is, the separation chamber 130 having a separate space can be provided to intensively remove suspended particles in the air.

그리고, 상기 청정실(110)과 흡입챔버(120)의 차압을 이용한 국소배기부(700)가 더 구비되며, 상기 국소배기부(700)는 청정실(110)과 흡입챔버(120)에 설치된 팬필터유닛(200)의 흡입 측을 연결하는 바이패스 흡입라인(710)과 상기 바이패스 흡입라인(710)의 청정실(110) 측에 설치되는 플렉시블 소재의 흡입구(720)로 구성된다.Further, a local exhaust unit 700 using the differential pressure between the clean room 110 and the suction chamber 120 is further provided, and the local exhaust unit 700 is a fan filter installed in the clean room 110 and the suction chamber 120. Bypass suction line 710 connecting the suction side of the unit 200 and the suction port 720 of the flexible material is installed on the clean room 110 side of the bypass suction line 710.

이에 따라, 사용자가 오염공기가 발생하는 곳에 흡입구(720)를 위치시켜 오염공기를 신속하게 흡입하여 여과할 수 있게 된다.Accordingly, the user can locate the suction port 720 where the polluted air is generated to quickly suck and filter the polluted air.

한편, 상기 본체(100)에는 정전기 발생을 방지하는 이오나이저(800)가 설치된다.On the other hand, the main body 100 is installed with an ionizer 800 to prevent the generation of static electricity.

또한, 상기 팬필터유닛(200)은 팬, 상기 팬을 구동시키는 구동모터 및 공기 중의 부유입자를 여과하는 필터 등으로 구성된 공지의 팬필터유닛이 채용됨에 따라 상세한 설명은 생략한다.
In addition, the fan filter unit 200 is a fan, a drive motor for driving the fan and a known fan filter unit composed of a filter for filtering the suspended particles in the air, and so on detailed description thereof will be omitted.

이상, 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 상세히 설명하였으나, 본 발명의 기술적 범위는 전술한 실시 예에 한정되지 않고 특허청구범위에 의하여 해석되어야 할 것이다. 이때, 이 기술분야에서 통상의 지식을 습득한 자라면, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않으면서도 많은 수정과 변형이 가능함을 고려해야 할 것이다.
Although the preferred embodiments of the present invention have been described in detail, the technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments, but should be construed according to the claims. It will be understood by those skilled in the art that many modifications and variations are possible without departing from the scope of the present invention.

A - 클린 부스 100 - 본체
200 - 팬필터유닛 300 - 덕트
400 - 댐퍼 500 - 제1펀칭플레이트
600 - 제2펀칭플레이트 700 - 국소배기부
800 - 이오나이저A-Clean Booth 100-Main Unit
200-Fan Filter Unit 300-Duct
400-Damper 500-First Punching Plate
600-2nd Punching Plate 700-Local Exhaust
800-ionizer

Claims (9)

청정실과 흡입챔버가 형성되는 본체;
상기 흡입챔버에 설치되어 상기 흡입챔버와 청정실의 공기를 순환시키는 팬필터유닛; 및
상기 청정실의 공기를 상기 팬필터유닛의 흡입 측으로 전달하도록 상기 본체에 마련되는 덕트;를 포함하되,
상기 청정실과 흡입챔버의 차압을 이용한 국소배기부가 더 구비되며,
상기 국소배기부는 청정실과 흡입챔버에 설치된 팬필터유닛의 흡입 측을 연결하는 바이패스 흡입라인과 상기 바이패스 흡입라인의 청정실측에 설치되는 흡입구로 구성되는 것을 특징으로 하는 클린 부스.
A main body in which a clean room and a suction chamber are formed;
A fan filter unit installed in the suction chamber to circulate air between the suction chamber and the clean room; And
And a duct provided in the main body to transfer air of the clean room to the suction side of the fan filter unit.
Local exhaust portion is further provided using the pressure difference between the clean room and the suction chamber,
And the local exhaust part comprises a bypass suction line connecting the suction side of the fan filter unit installed in the clean room and the suction chamber, and a suction port installed in the clean room side of the bypass suction line.
제 1항에 있어서,
상기 본체에는 흡입챔버로 유입되는 외부공기의 개도량을 조절하는 댐퍼가 구비되되, 상기 댐퍼는 2장의 다공성 펀칭플레이트로 구성되어 상기 2장의 타공판의 상대이동에 의해 개도량이 조절되는 것을 특징으로 하는 클린 부스.
The method of claim 1,
The main body is provided with a damper for adjusting the opening amount of the external air flowing into the suction chamber, wherein the damper is composed of two porous punching plates, the opening amount is controlled by the relative movement of the two perforated plates booth.
제 1항에 있어서,
상기 청정실과 덕트 사이 및 상기 청정실과 흡입챔버 사이에는 제1펀칭플레이트가 설치되는 것을 특징으로 하는 클린 부스.
The method of claim 1,
And a first punching plate between the clean room and the duct and between the clean room and the suction chamber.
제 1항에 있어서,
상기 청정실에는 별도로 구획된 격리실이 구비되는 것을 특징으로 하는 클린 부스.
The method of claim 1,
Clean booth, characterized in that the clean room is provided with a separate compartment separate.
제 4항에 있어서,
상기 격리실과 덕트 사이에는 제2펀칭플레이트가 설치되는 것을 특징으로 하는 클린 부스.
5. The method of claim 4,
Clean booth, characterized in that the second punching plate is installed between the isolation chamber and the duct.
삭제delete 삭제delete 제 1항에 있어서,
상기 본체에는 이오나이저가 설치되는 것을 특징으로 하는 클린 부스
The method of claim 1,
Clean booth, characterized in that the ionizer is installed in the main body
제 1항에 있어서,
상기 본체는 프레임과 상기 프레임의 개방된 단부를 마감하는 패널로 구성되는 것을 특징으로 하는 클린 부스.
The method of claim 1,
The main body is a clean booth, characterized in that consisting of the frame and the panel closing the open end of the frame.
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