KR101309283B1 - 아크릴 수지 조성물 및 자외선을 이용한 아크릴 수지의 제조방법 - Google Patents

아크릴 수지 조성물 및 자외선을 이용한 아크릴 수지의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 제1 아크릴 모노머, 하이드록시기 또는 카르복시기를 갖는 제2 아크릴 모노머, 100 내지 400nm 파장의 흡수영역을 갖는 광개시제 및 분자량 조절제를 포함하는 아크릴 수지 조성물, 보다 구체적으로 제1 아크릴 모노머 100중량부, 하이드록시기 또는 카르복시기를 갖는 제2 아크릴 모노머 1 내지 20중량부, 100 내지 400nm 파장의 흡수영역을 갖는 광개시제 0.1 내지 10중량부 및 분자량 조절제 0.5 내지 10중량부를 포함하는 아크릴 수지 조성물을 제공하고, 상기 아크릴 수지 조성물에 상온에서 자외선을 조사하여 벌크 중합시키는 방법을 사용함으로써 중합반응을 용이하게 조절할 수 있을 뿐만 아니라 고효율로 아크릴 수지를 제조할 수 있다.

Description

아크릴 수지 조성물 및 자외선을 이용한 아크릴 수지의 제조방법{Acrylic resin composition and preparation method of acrylic resin using UV}
본 발명은 제1 아크릴 모노머, 하이드록시기 또는 카르복시기를 갖는 제2 아크릴 모노머, 100 내지 400nm 파장의 흡수영역을 갖는 광개시제 및 분자량 조절제를 포함하는 아크릴 수지 조성물에 관한 것이며, 보다 구체적으로 제1 아크릴 모노머 100중량부, 하이드록시기 또는 카르복시기를 갖는 제2 아크릴 모노머 1 내지 20중량부, 100 내지 400nm 파장의 흡수영역을 갖는 광개시제 0.1 내지 10중량부 및 분자량 조절제 0.5 내지 10중량부를 포함하는 아크릴 수지 조성물 및 상기 아크릴 수지 조성물에 자외선을 조사하여 벌크 중합반응을 통해 아크릴 수지를 제조하는 방법에 관한 것이다.
아크릴 모노머를 중합하여 아크릴 고분자를 제조하기 위한 방법으로는 일반적으로 용액 중합법, 에멀젼 중합법, 펄 중합법, 벌크 중합법의 네 가지 방법이 주로 사용되고 있다.
이 중 용액 중합법은 아크릴 모노머와 각종 유기 용제를 혼합하고 여기에 열에 의해 라디칼을 형성할 수 있는 중합 개시제를 사용하여 일정 온도까지 혼합물을 가열하여 중합이 이루어지는 방식이다. 이러한 용액 중합법은 고분자량의 아크릴 수지를 얻을 수 있으며 여러 조성의 아크릴 중합체를 제조할 수 있고 또 사용이 비교적 간단한 특징이 있어 산업에서 가장 많이 이용되고 있는 중합법이라고 할 수 있다. 그러나 이러한 용액 중합법은 유기 용제를 사용한다는 면에서 근본적인 취약점을 가지고 있는 것이 현실이다. 즉 아크릴 모노머를 중합하는데 사용된 유기 용제는 제품에 그대로 남아 각종 악취의 원인이 됨은 물론 화재, 폭발 등 재해의 원인으로 작용하는 단점이 있다. 또한 용액 중합물을 취급하고 사용하는 과정에서 중합에 사용한 유기 용제가 대기 중으로 방출됨으로써 대기를 오염시키는 대기 오염원으로 작용하고 있다.
에멀젼 중합법에 의한 고분자 합성법은 아크릴 모노머를 계면활성제를 이용해 물에 분산시키고 산화환원 개시제를 이용하여 중합하는 방식으로 중합반응에 유기 용제를 사용하지 않는 면에서는 유기용제를 사용하여 합성하는 용액 중합법이 갖는 여러 가지 문제를 해결할 수 있으며 보다 친환경적인 고분자 중합법이라 할 수 있다. 그러나 에멀젼 중합반응으로 고분자를 합성한 이후 그대로 사용할 수 있는 것이 아니며 합성된 에멀젼 형태의 고분자에 중화제, 습윤제, 증점제, 소포제, 안정제, 살균제 등의 첨가제가 다량 첨가되며 그 공정 또한 매우 복잡한 특성을 갖는다. 또한 중합 후 반응기를 세척하는 과정에서 다량의 물이 사용되며 이때 사용된 물은 고분자 에멀젼을 포함하는 폐수로 이의 처리가 매우 어려운 단점이 있다.
펄 중합법에 의한 고분자 합성법은 에멀젼과 유사한 특징을 가지고 있다. 펄 중합은 아크릴 모노머를 소량의 분산제를 사용해 수 중에서 비교적 큰 분산 입자를 만들고 여기에 열에 의해 라디칼을 생성할 수 있는 과산화물 또는 아조 화합물을 사용하여 중합하는 것으로 중합 후 생성물이 비교적 입자 크기가 입상 덩어리 형태로 얻어지는 것이 특징이다. 또한 펄 중합 고분자는 에멀젼 형태의 고분자와 달리 물을 포함하는 형태로 사용되지 않으며 물을 제거한 고상의 상태로 제품화되는 것이 특징이다. 이러한 펄 중합은 에멀젼 중합법과 같이 유기 용제를 사용하지 않고 아크릴 고분자를 합성할 수 있으므로 에멀젼 중합과 거의 같은 장점을 갖는다. 하지만 펄 중합물은 물을 포함하는 형태가 아닌 고상으로 제품화되어야 하며 이를 위해 고분자 입자와 물을 분리하는 탈수 과정 및 건조 과정이 필수적으로 요구된다. 이러한 탈수 및 건조 과정은 다량의 폐수를 배출해 수질 오염을 일으키는 단점이 있다.
벌크 중합법에 의한 고분자 합성법은 용액 중합, 에멀젼 중합 및 펄 중합과 달리 분산매질 즉 유기 용제 또는 물을 전혀 사용하지 않는 것이 특징이다. 즉 고분자화에 필요한 최소한의 물질인 아크릴 모노머와 중합 개시제만을 사용하는 중합법으로 가장 친환경적이면서 최고의 합성 수율 및 최고의 경제성을 갖는 중합법이라고 할 수 있다.
그러나 기존의 벌크 중합법은 중합개시제로 열에 의해 개시가 되는 퍼옥사이드계 또는 아조계 등을 사용하고 있어 중합 반응을 일으키기 위해서는 어느 정도의 열을 반응계 내부에 공급하여야 하며 이렇게 공급된 열 에너지로 인해 중합 반응이 일어나면 중합반응 과정 중 발생하는 중합 열에 의해 연쇄적으로 개시제 분해가 촉진되어 반응이 폭발적으로 진행하는 문제가 있다. 또한 용제 또는 물 등 반응 도중 발생하는 중합열을 제어하거나 생성된 고분자를 용해 또는 분산시켜주는 분산매질이 없어 중합 반응 초기에는 중합 반응을 통해 생성된 고분자는 아직 반응하지 않은 아크릴 모노머를 용제로 하여 용해되어 있는 상태로 존재하고 있으나 시간이 지나 중합율이 증가하면 용제로 작용하던 아크릴 모노머가 급격히 감소해 중합 반응물의 점도가 급격히 증가하는 문제점이 있다. 이러한 폭발적 반응의 진행 및 고점도의 문제는 아크릴 중합에 있어 벌크 중합법을 사용하지 않는 주요 원인이라고 할 수 있다.
본 발명은 위에서 언급한 용액 중합법, 에멀젼 중합법, 펄 중합법과 같이 유기 용제 또는 물을 사용하지 않아 환경오염원이 존재하지 않고 후처리 비용이 전혀 필요 없는 중합 공정을 제공하고자 한다. 즉 아크릴 모노머만을 사용하는 벌크 중합법을 이용하면서도 기존의 열에 의해 중합이 이루어지는 퍼옥사이드계 또는 아조계 등의 열 중합 개시제를 사용하지 않고 자외선에 의해 개시반응이 이루어지는 광개시제를 사용하고자 한다.
본 발명에서는 자외선에 의해 개시반응이 일어나는 개시제를 사용함으로써 상온 이하의 온도 즉 인위적인 열의 공급이 전혀 필요하지 않은 아크릴 벌크 중합법을 제공하고자 한다.
본 발명에서는 자외선에 의해 반응이 개시되는 광개시제를 사용하여 벌크 중합을 함으로서 열에 의해 개시반응이 일어나는 벌크 중합법의 단점인 중합 반응열에 의해 개시제의 분해가 촉진되는 문제점을 해결하고 자외선의 조사 강도를 조절함으로서 중합열의 제어 및 반응 속도의 제어가 가능한 아크릴 벌크 중합법을 제공하고자 한다.
본 발명은 자외선 강도를 조절하여 안정적인 중합을 행할 수 있는 아크릴 벌크 중합 방법 및 이를 통해 제조되는 비교적 저분자량의 아크릴 수지 조성물의 제조 방법을 제공하고자 한다.
본 발명은 제1 아크릴 모노머, 하이드록시기 또는 카르복시기를 갖는 제2 아크릴 모노머, 100 내지 400nm 파장의 흡수영역을 갖는 광개시제 및 분자량 조절제를 포함하는 아크릴 수지 조성물, 보다 구체적으로 제1 아크릴 모노머 100중량부, 하이드록시기 또는 카르복시기를 갖는 제2 아크릴 모노머 1 내지 20중량부, 100 내지 400nm 파장의 흡수영역을 갖는 광개시제 0.1 내지 10중량부 및 분자량 조절제 0.5 내지 10중량부를 포함하는 아크릴 수지 조성물을 제공하고, 상기 아크릴 수지 조성물에 상온에서 자외선을 조사하여 벌크 중합시키는 방법을 사용함으로써 중합반응을 용이하게 조절할 수 있을 뿐만 아니라 고효율로 아크릴 수지를 제조할 수 있게 되었다.
본 발명은 자외선을 이용하여 아크릴 모노머를 벌크 중합을 통해 중합함으로써 기존의 열을 이용한 아크릴 벌크 중합에서 발생하는 중합반응 속도 조절의 어려움, 중합 온도 조절의 어려움, 고점도 및 낮은 전환률 등의 문제를 해결할 수 있다. 즉 기존의 열 개시제를 사용하는 아크릴 벌크 중합법의 경우 사용한 열 개시제가 중합반응 개시와 동시에 발생하는 높은 중합열에 의해 그 분해가 촉진되고 이는 다시 아크릴 모노머를 개시하는 열 촉매 반응으로 인해 중합반응의 조절이 매우 곤란할 뿐만 아니라 급격한 중합반응으로 인해 중합반응열의 제어가 어렵고 급격히 점도가 상승하는 등의 문제점이 있었다.
본 발명은 이러한 급격한 반응의 문제인 열 분해 개시제를 사용하지 않고 자외선에 의해 분해되는 광개시제를 사용함으로써 중합 중 발생하는 중합열에 의한 개시제의 분해 촉진 효과를 방지하고 또한 반응기 내부에 조사되는 자외선의 양을 조절함으로써 중합 반응의 속도를 조절할 수 있도록 하였다. 또한 이러한 자외선 벌크 중합 방법을 통해 높은 수율의 아크릴 수지를 안정적으로 합성할 수 있다.
본 발명은 제1 아크릴 모노머, 하이드록시기 또는 카르복시기를 갖는 제2 아크릴 모노머, 100 내지 400nm 파장의 흡수영역을 갖는 광개시제 및 분자량 조절제를 포함하는 아크릴 수지 조성물을 제공한다.
보다 구체적으로, 본 발명은 제1 아크릴 모노머 100중량부, 하이드록시기 또는 카르복시기를 갖는 제2 아크릴 모노머 1 내지 20중량부, 100 내지 400nm 파장의 흡수영역을 갖는 광개시제 0.1 내지 10중량부 및 분자량 조절제 0.5 내지 10중량부를 포함하는 아크릴 수지 조성물을 제공한다.
또한 본 발명은 제1 아크릴 모노머 100중량부, 하이드록시기 또는 카르복시기를 갖는 제2 아크릴 모노머 5 내지 15중량부, 100 내지 400nm 파장의 흡수영역을 갖는 광개시제 0.5 내지 5중량부 및 분자량 조절제 1 내지 5중량부를 포함하는 아크릴 수지 조성물을 제공한다.
본 발명의 자외선 벌크 중합 아크릴 수지 조성물의 조성 중 하이드록시기 또는 카르복시기를 갖는 제2 아크릴 모노머는 1 내지 20중량부, 보다 구체적으로 5 내지 15중량부를 사용할 수 있다. 제2 아크릴 모노머의 양이 1중량부 보다 적을 경우 저분자의 아크릴 고분자의 후 가공성이 저하되는 문제가 발생하고 그 양이 20 중량부 보다 많을 경우에는 반응 점도가 매우 높아져 균일한 고분자의 합성이 어려워지며, 실제 사용에 있어서도 사용이 매우 어려운 문제점이 있다.
본 발명에서 제시하는 광개시제는 일반적인 열에 의한 벌크 중합이나 용액 중합 및 에멀젼 중합법과는 달리 그 분해 에너지가 열이 아닌 광을 사용하는 것으로 자외선 영역의 빛을 흡수하여 분자가 분해하면서 라디칼을 형성하는 물질을 말한다.
즉 본 발명에서는 기존의 열 분해 개시제를 사용하지 않고 자외선에 의해 분해되는 100 내지 400nm 파장의 흡수영역을 갖는 광개시제를 사용함으로써 열 중합에 의한 폭발적인 중합반응을 방지하고 반응의 조절을 자외선으로 통해 이룸으로써 안정적인 중합을 이룰 수 있으며, 또한 보다 균일한 분자량 분포를 가지는 아크릴 수지를 제조할 수 있다.
본 발명의 자외선 벌크 중합 조성물의 조성 중 광개시제는 0.1 내지 10중량부, 보다 구체적으로 0.5 내지 5중량부 사용할 수 있다.
광개시제의 양이 0.1 중량부 보다 적을 경우에는 자외선 조사에 의해 중합이 원활히 이루어지기 어려우며 반응 후 반응하지 못한 미반응 물질이 다량 생성되는 문제가 있고 그 함량이 10중량부 이상의 경우 벌크 중합 과정에 조사되는 자외선에 매우 민감해 반응의 조절이 어려워지며, 반응이 종료된 후 분해된 광개시제에 의한 냄새가 매우 심하게 발생하는 문제가 있다.
본 발명에서 사용하는 분자량 조절제는 자외선을 통한 벌크 중합 과정에서 생성되는 아크릴 고분자의 분자 크기를 적절히 조절해 주는 물질로 벌크 반응의 반응 점도 및 분자량을 제어할 목적으로 사용된다.
본 발명의 자외선 벌크 중합 조성물의 조성 중 분자량 조절제는 0.5 내지 10중량부, 보다 구체적으로 1 내지 5중량부를 사용할 수 있다.
분자량 조절제의 양이 0.5 중량부 보다 적을 경우 아크릴 주 모노머의 조성에 관계없이 자외선에 의해 벌크 중합된 중합물의 분자량이 매우 높아 점도가 매우 높게 상승해 반응 중 교반이 매우 어려워지며 중합된 아크릴 고분자를 가공하는 과정에서도 높은 점도로 인해 가공이 어려워지는 문제가 발생하고 그 사용량이 10 중량부보다 많은 경우 벌크 중합물에서 분자량 조절제 특유의 냄새가 심하게 발생하는 문제가 있으며 또한 아크릴 중합체의 분자량이 극도로 낮아져 아크릴 고분자를 가공하는 경우 가공이 매우 어려워지는 문제점이 있다.
본 발명에서 사용할 수 있는 아크릴 모노머는 크게 제1 아크릴 모노머와 하이드록시기 또는 카르복시기를 갖는 제2 아크릴 모노머이다.
본 발명에서 사용할 수 있는 제1 아크릴 모노머로는 적어도 한 가지 이상의 아크릴산 또는 메타아크릴산의 에스테르일 수 있으며, 분자 구조 중 아크릴 구조를 가지는 것이면 그 종류에 관계없이 사용할 수 있다.
보다 구체적으로는 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 프로필아크릴레이트, 이소프로필아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, t-부틸아크릴레이트, 펜틸아크릴레이트, 이소펜틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 이소옥틸아크릴레이트, 노닐아크릴레이트, 이소노닐아크릴레이트, 도데실아크릴레이트, 스테아릴아크릴레이트 등의 아크릴산의 알킬 에스테르류를 사용할 수 있다.
또한 메틸메타아크릴레이트, 에틸메타아크릴레이트, 프로필메타아크릴레이트, 이소프로필메타아크릴레이트, 부틸메타아크릴레이트, 이소부틸메타아크릴레이트, t-부틸메타아크릴레이트, 펜틸메타아크릴레이트, 이소펜틸메타아크릴레이트, 2-에틸헥실메타아크릴레이트, 이소옥틸메타아크릴레이트, 노닐메타아크릴레이트, 이소노닐메타아크릴레이트, 도데실메타아크릴레이트, 스테아릴메타아크릴레이트 등의 메타크릴산의 알킬 에스테르류를 사용할 수 있다.
또한 2-에톡시에톡시에틸아크릴레이트, 2-에톡시에톡시에틸메타아크릴레이트, 메톡시에틸아크릴레이트, 메톡시에틸메타아크릴레이트 등으로 대표되는 폴리옥시에틸렌글리콜모노아크릴레이트계, 폴리프로필렌글리콜모노아크릴계, 폴리옥시에틸렌글리콜모노메타아크릴레이트계, 폴리프로필렌글리콜모노메타아크릴계를 사용할 수 있다.
또한 2-페녹시에틸아크릴레이트, 에톡실레이트페녹시아크릴레이트, 3,3,5-트리메틸사이클로헥산아크릴레이트, 사이클릭트리에틸프로판포말아크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 사이클로헥실아크릴레이트 및 그 메타크릴산 에스테르 등 아크릴 및 메타아크릴의 측쇄에 환상의 구조를 가지는 아크릴레이트 또는 메타아크릴레이트를 사용할 수 있다.
본 발명에서는 적어도 1종 이상의 제2 아크릴 모노머를 사용할 수 있다. 본 발명에서 사용할 수 있는 제2 아크릴 모노머로는 하이드록시와 카르복실기를 함유하는 제1 아크릴 모노머면 그 종류에 관계없이 사용할 수 있다.
본 발명에서 사용할 수 있는 제2 아크릴 모노머의 보다 구체적인 예로는 2-하이드록시에틸아크릴레이트, 2-하이드록시프로필아크릴레이트, 2-하이드록시부틸아크릴레이트, 2-하이드록시에틸메타아크릴레이트, 2-하이드록시프로필메타아크릴레이트, 2-하이드록시부틸메타아크릴레이트류를 대표로 하는 하이드록시기를 함유하는 아크릴레이트 또는 메타아크릴레이트류를 사용할 수 있으며 아크릴산, 메타아크릴산, 이타코닉산, 무수말레인산, 베타카르복시에틸아크릴레이트 등 카르복시기를 함유하는 아크릴레이트 또는 메타아크릴레이트류를 사용할 수 있다.
본 발명에서는 다음의 광개시제 중 적어도 한 가지 이상의 광 개시제를 사용할 수 있다. 본 발명에서 사용할 수 있는 광 개시제로는 100㎚ 내지 400㎚의 파장을 갖는 자외선 영역의 빛을 흡수하여 분자의 분해에 의해 라디칼을 형성할 수 있는 것이라면 그 종류에 관계없이 사용할 수 있다.
보다 구체적으로는 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-프로판-1-온, 디페닐-(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥사이드, 벤질 디메틸 케탈, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, 1-하이드록시-시클로헥실페닐-케톤, 벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐 설파이드, 메틸-2-벤조일 벤조에이트, 이소프로필 티오잔톤, 에틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트, 2-에틸헥실-4-디메틸아미노벤조에이트, 하이드록시 디메틸 아세토페논, 2,4-디에틸티오잔톤, 4-페닐벤조페논 등을 사용할 수 있다.
본 발명에서 사용할 수 있는 분자량 조절제로는 한 가지 이상의 도데실멀캅탄, 이소데실멀캅탄 등 일반식 R-SH (R은 지방족 사슬 또는 방향족을 포함하는 알킬기)로 표시되는 티올계를 사용할 수 있다. 또한 한 가지 이상의 알파메틸스티렌디머(AMSD)로 대표되는 알파메틸스티렌계의 분자량 조절제를 사용할 수 있다. 또한 한 가지 이상의 티올계 및 알파메틸스티렌을 혼합하여 사용할 수 있다.
본 발명에서는 제1 아크릴 모노머와 더불어 유리전이온도 조절 또는 부착성 개선 등을 위하여 비닐계 모노머를 사용하여 벌크 중합을 할 수 있다. 본 발명에서 사용할 수 있는 비닐계 모노머로는 비닐아세테이트, 스티렌 등 분자 구조내에 비닐기를 함유하는 것이면 그 종류에 관계없이 사용할 수 있다. 비닐계 모노머의 사용은 반드시 필요한 내용은 아니며 아크릴 수지의 특성을 고려하여 적어도 한 가지 이상의 비닐계 모노머를 사용할 수 있다. 또한 비닐계 모노머는 약 5 내지 30중량부의 양으로 사용될 수 있다.
본 발명에서 제시하는 자외선 벌크 중합을 통한 아크릴 수지의 제조방법은 제1 아크릴 모노머, 하이드록시기 또는 카르복시기를 갖는 제2 아크릴 모노머, 광개시제, 분자량 조절제, 자외선 조사로 이루어진다.
본 발명에서 사용하는 아크릴 모노머는 아크릴 고분자 수지의 기본 원료로 사용하는 제1 아크릴 모노머의 종류 및 그 사용량에 따라 합성된 아크릴 수지의 물리 화학적 특성이 달라진다.
본 발명에서 제공하는 자외선 벌크 중합 방법은 상기 언급되어 있는 아크릴 수지 조성물이 혼합된 혼합액을 상온에서 열을 가하지 않고 반응기를 상온 냉각수에 의해 냉각시키면서 반응기 내부에 자외선을 조사하는 방식을 통해 진행된다.
또한 본 발명에서는 상기의 혼합물에 광개시제를 분해하여 라디칼을 생성할 수 있도록 자외선 영역인 100㎚ 내지 400㎚ 사이의 파장을 갖는 빛을 조사함으로써 이루어진다. 자외선은 중합에 사용된 광개시제를 분해하여 아크릴 중합 반응의 출발 물질인 라디칼을 형성하기 위해 반응기 내부에 조사된다.
본 발명에서 제공하는 자외선 벌크 중합을 통한 아크릴 수지는 중량평균 분자량으로 1,000 내지 100,000의 범위의 분자량 범위를 가지며 그 분산정도 (PDI)는 1 내지 5 사이를 갖는다.
본 발명에서 제공하는 아크릴 수지의 분자량은 중량평균 분자량 기준으로 약 1,000 내지 100,000 정도의 것이 적당하다. 중량평균 분자량이 1,000보다 작은 경우 제1 아크릴 모노머의 중합도가 매우 낮아 아크릴 수지로서의 기능을 나타내기가 어려우며, 그 중량평균 분자량이 100,000 보다 높은 경우 자외선 벌크 중합을 수행하는 과정에서 점도가 매우 높아 교반이 곤란해 균일한 중합 및 혼합이 어려워지며, 아크릴 수지를 사용함에 있어서도 높은 점도로 인해 사용이 어려운 문제가 있다.
본 발명에서 제공하는 아크릴 수지의 유리 전이 온도 (Tg)는 -60 내지 110℃의 범위를 갖는 것을 특징으로 한다. 이러한 유리 전이 온도의 조절은 사용하는 아크릴 모노머의 조합으로 조절할 수 있다.
본 발명에서 사용할 수 있는 자외선으로는 그 파장이 100㎚ 내지 400㎚의 영역을 갖는 것이면 고압 수은 방식이나 메탈할라이드 방식 등 그 광을 만들어내는 방식 및 그 주 파장영역에 관계없이 사용할 수 있으며, 보다 구체적으로 300nm 내지 400nm의 파장 영역을 조사하여 아크릴 수지를 제조할 수 있다.
또한 자외선 조사 방식에 있어서도 반응 초기에는 자외선의 강도 및 적산 에너지를 적게 하고 반응 후기로 진행할수록 점차 자외선의 강도 및 적산 에너지를 높게 하는 것이 바람직하다. 이는 사용한 광개시제의 분해 반응이 아크릴 중합 속도를 제어하기 때문이며, 초기 광량이 높을 경우 광개시제가 급격히 분해되어 아크릴 중합 속도가 급상승하고 이로 인해 반응열이 높아져 반응의 제어가 어려워지는 문제를 방지하기 위한 것이다.
즉 아크릴 모노머의 소비량이 증가함에 따라 광량을 높여주는 방식으로 반응을 진행 할 경우 안정적인 자외선 벌크 중합을 할 수 있다.
이하 본 발명을 다음의 실시예에 의해 설명하고자 한다. 그러나 이들은 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐 본 발명의 권리범위가 이들에 의해 한정되는 것은 아니다.
실시예 1
1리터 용량의 플라스크에 교반기 및 자외선 램프를 설치하고 부틸아크릴레이트 540g, 아크릴산 60g, 도데실멀캅탄 15g, 디페닐-(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥사이드 3g 을 넣고 질소를 투입하여 반응기 상부의 공기를 질소로 치환하였다.
반응기 내부의 혼합물을 교반하면서 외부 온도를 25℃로 유지하고 365nm 파장의 자외선을 5시간 동안 조사하여 반응을 완료하였다. 생성된 아크릴 수지의 분자량, 점도 및 전환율은 하기와 같았다:
분자량 (Mw) = 5000, PDI: 2.1
점도 : 10,000 cps
전환율(%) = 99.2%
실시예 2
1리터 용량의 플라스크에 교반기 및 자외선 램프를 설치하고 2-에틸헥실아크릴레이트 540g, 아크릴산 60g, 도데실멀캅탄 15g, 디페닐-(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥사이드 3g 을 넣고 질소를 투입하여 반응기 상부의 공기를 질소로 치환하였다.
반응기 내부의 혼합물을 교반하면서 외부 온도를 25℃로 유지하고 365nm 파장의 자외선을 5시간 동안 조사하여 반응을 완료하였다. 생성된 아크릴 수지의 분자량, 점도 및 전환율은 하기와 같았다:
분자량 (Mw) = 4500, PDI: 2.0
점도 : 8,000 cps
전환율(%) = 99%
실시예 3
1리터 용량의 플라스크에 교반기 및 자외선 램프를 설치하고 메틸메타아크릴레이트 270g, 부틸아크릴레이트 270g 아크릴산 30g, 2-하이드록시에틸메타아크릴레이트 30g, 도데실멀캅탄 15g, 디페닐-(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥사이드 3g 을 넣고 질소를 투입하여 반응기 상부의 공기를 질소로 치환하였다.
반응기 내부의 혼합물을 교반하면서 외부 온도를 25℃로 유지하고 365nm 파장의 자외선을 5시간 동안 조사하여 반응을 완료하였다. 생성된 아크릴 수지의 분자량, 점도 및 전환율은 하기와 같았다:
분자량 (Mw) = 6,000, PDI: 1.8
점도 : 25,000 cps
전환율(%) = 98.7%
실시예 4
1리터 용량의 플라스크에 교반기 및 자외선 램프를 설치하고 메틸메타아크릴레이트 270g, 부틸아크릴레이트 270g 아크릴산 30g, 2-하이드록시에틸메타아크릴레이트 30g, 도데실멀캅탄 7.5g, 디페닐-(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥사이드 3g 을 넣고 질소를 투입하여 반응기 상부의 공기를 질소로 치환하였다.
반응기 내부의 혼합물을 교반하면서 외부 온도를 25℃로 유지하고 365nm 파장의 자외선을 5시간 동안 조사하여 반응을 완료하였다. 생성된 아크릴 수지의 분자량, 점도 및 전환율은 하기와 같았다:
분자량 (Mw) = 2,0000, PDI: 1.8
점도 : 70,000 cps
전환율(%) = 98.5%

Claims (16)

  1. 제1 아크릴 모노머, 하이드록시기 또는 카르복시기를 갖는 제2 아크릴 모노머, 300㎚ 내지 400nm 파장의 흡수영역을 갖는 광개시제 및 분자량 조절제를 포함하는 아크릴 수지 조성물이고,
    상기 제1 아크릴 모노머는 아크릴산의 알킬 에스테르류, 메타크릴산의 알킬 에스테르류, 폴리옥시에틸렌글리콜모노아크릴레이트계, 폴리프로필렌글리콜모노아크릴계, 폴리옥시에틸렌글리콜모노메타아크릴레이트계, 폴리프로필렌글리콜모노메타아크릴계, 및 아크릴 또는 메타아크릴의 측쇄에 환상의 구조를 갖는 아크릴레이트 및 메타아크릴레이트로 구성된 그룹으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물이며,
    상기 하이드록시기 또는 카르복시기를 갖는 제2 아크릴 모노머는 하이드록시기를 갖는 아크릴레이트 또는 메타아크릴레이트류; 및 카르복시기를 갖는 아크릴레이트 또는 메타아크릴레이트류로 구성된 그룹으로부터 선택되는 것이고,
    상기 아크릴 수지 조성물을 벌크 중합하여 제조한 아크릴 수지의 분자량이 중량 평균 분자량 기준 1,000 내지 100,000이며, 점도가 8,000 내지 70,000 cps인 아크릴 수지 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 제1 아크릴 모노머 100중량부, 하이드록시기 또는 카르복시기를 갖는 제2 아크릴 모노머 1 내지 20중량부, 300nm 내지 400nm 파장의 흡수영역을 갖는 광개시제 0.1 내지 10중량부 및 분자량 조절제 0.5 내지 10중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 아크릴 수지 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 제1 아크릴 모노머 100중량부, 하이드록시기 또는 카르복시기를 갖는 제2 아크릴 모노머 5 내지 15중량부, 300nm 내지 400nm 파장의 흡수영역을 갖는 광개시제 0.5 내지 5중량부 및 분자량 조절제 1 내지 5중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 아크릴 수지 조성물.
  4. 삭제
  5. 제1항에 있어서, 상기 아크릴산의 알킬 에스테르류는 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 프로필아크릴레이트, 이소프로필아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, t-부틸아크릴레이트, 펜틸아크릴레이트, 이소펜틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 이소옥틸아크릴레이트, 노닐아크릴레이트, 이소노닐아크릴레이트, 도데실아크릴레이트 및 스테아릴아크릴레이트로 구성된 그룹으로부터 선택되고;
    상기 메타크릴산의 알킬 에스테르류는 메틸메타아크릴레이트, 에틸메타아크릴레이트, 프로필메타아크릴레이트, 이소프로필메타아크릴레이트, 부틸메타아크릴레이트, 이소부틸메타아크릴레이트, t-부틸메타아크릴레이트, 펜틸메타아크릴레이트, 이소펜틸메타아크릴레이트, 2-에틸헥실메타아크릴레이트, 이소옥틸메타아크릴레이트, 노닐메타아크릴레이트, 이소노닐메타아크릴레이트, 도데실메타아크릴레이트 및 스테아릴메타아크릴레이트로 구성된 그룹으로부터 선택되며;
    상기 폴리옥시에틸렌글리콜모노아크릴레이트계는 2-에톡시에톡시에틸아크릴레이트, 2-에톡시에톡시에틸메타아크릴레이트, 메톡시에틸아크릴레이트 및 메톡시에틸메타아크릴레이트로 구성된 그룹으로부터 선택되고;
    상기 아크릴 또는 메타아크릴의 측쇄에 환상의 구조를 갖는 아크릴레이트 및 메타아크릴레이트는 2-페녹시에틸아크릴레이트, 에톡실레이트페녹시아크릴레이트, 3,3,5-트리메틸사이틀로헥산아크릴레이트, 사이클릭트리에틸프로판포말아크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 사이클로헥실아크릴레이트 및 그 메타크릴산 에스테르로 구성된 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 아크릴 수지 조성물.
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서, 상기 하이드록시기를 갖는 아크릴레이트 및 메타아크릴레이트류는 2-하이드록시에틸아크릴레이트, 2-하이드록시프로필아크릴레이트, 2-하이드록시부틸아크릴레이트, 2-하이드록시에틸메타아크릴레이트, 2-하이드록시프로필메타아크릴레이트 및 2-하이드록시부틸메타아크릴레이트류로 구성된 그룹으로부터 선택되고;
    카르복시기를 갖는 아크릴레이트 및 메타아크릴레이트류는 아크릴산, 메타아크릴산, 이타코닉산, 무수말레인산 및 베타카르복시에틸아크릴레이트로 구성된 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 아크릴 수지 조성물.
  8. 삭제
  9. 제1항에 있어서, 상기 분자량 조절제는 티올계 및 알파메틸스티렌계 분자량 조절제로 구성된 그룹으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 아크릴 수지 조성물.
  10. 제9항에 있어서, 상기 분자량 조절제는 도데실멀캅탄, 이소데실멀캅탄 및 알파메틸스티렌디머(AMSD)로 구성된 그룹으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 아크릴 수지 조성물.
  11. 제1항 내지 제3항, 제5항, 제7항 및 제9항 내지 제10항 중 어느 한 항의 수지 조성물에 300㎚ 내지 400㎚의 자외선을 조사하여 벌크 중합하는 단계를 포함하여 아크릴 수지를 제조하는 방법으로서,
    분자량이 중량 평균 분자량 기준 1,000 내지 100,000이며, 점도가 1,000 내지 100,000 cps인 아크릴 수지의 제조방법.
  12. 삭제
  13. 제11항에 있어서, 상기 방법으로 제조된 아크릴 수지의 유리 전이 온도가 -60 내지 110℃인 것을 특징으로 하는 아크릴 수지의 제조방법.
  14. 삭제
  15. 삭제
  16. 제11항에 있어서, 상기 중합반응은 상온에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 아크릴 수지의 제조방법.
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