KR101305066B1 - Barrel Plating Apparatus - Google Patents

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Abstract

본 발명은 도금장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 칩 부품을 배럴에 투입한 후 배럴을 회전시키면서 전원을 인가하여 칩 부품의 외부전극을 도금하는 배럴 도금장치에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 상단 축과 하단 축 및 상기 상단 축과 하단 축을 결합하는 유니버설조인트를 포함하는 복수의 자전축이 설치되며, 공전축을 중심으로 회전하는 회전테이블과, 상기 상단 축에 결합하며, 내부에 도금 대상물 및 도금액을 수용하는 도금액 수용부가 형성되며, 도금액이 유입되는 유입구와 도금액이 유출되는 유출구를 구비하며, 상기 상단 축을 중심으로 자전하고, 상기 공전축을 중심으로 공전하는 복수의 도금 배럴과, 상기 상단 축이 상기 하단 축의 연장선에 대해서 기울어지도록, 상기 상단 축을 밀고 당기는 자전각도조절수단과, 상기 도금 배럴의 도금액 수용부에 침지되는 양극과 상기 도금 배럴 내부의 음극에 전류를 공급하는 전원을 포함하는 배럴 도금장치가 제공된다. 본 발명에 따른 배럴 도금장치는 배럴이 자전과 공전을 하고, 또한, 배럴이 자전하는 회전축을 기울일 수 있다. 따라서 자전, 공전 속도 및 배럴의 자전 축의 각도를 정해진 도금 프로파일에 따라서 변경함으로써, 칩 붙음 현상을 방지하고, 도금 두께를 균일하게 할 수 있는 최적 조건을 용이하게 찾을 수 있다. The present invention relates to a plating apparatus, and more particularly, to a barrel plating apparatus for plating an external electrode of a chip component by applying power while rotating the barrel after inserting the chip component into the barrel. According to the present invention, a plurality of rotating shafts including a universal joint for coupling the upper axis and the lower axis and the upper axis and the lower axis are installed, the rotary table rotating around an idle axis, and coupled to the upper axis, A plating liquid container configured to receive a plating object and a plating liquid, the plating liquid receiving part having an inlet through which the plating liquid flows in and an outlet through which the plating liquid flows out, a plurality of plating barrels rotating around the upper axis and revolving around the revolution axis; Rotating angle adjusting means for pushing and pulling the upper axis so that the upper axis is inclined with respect to the extension line of the lower axis, and a power supply for supplying current to the anode immersed in the plating liquid receiving portion of the plating barrel and the cathode inside the plating barrel; Barrel plating apparatus is provided. In the barrel plating apparatus according to the present invention, the barrel rotates and rotates while the barrel rotates. Therefore, by changing the rotation, the revolution speed and the angle of the rotation axis of the barrel in accordance with a predetermined plating profile, it is possible to easily find the optimum conditions that can prevent chip sticking and make the plating thickness uniform.

Description

배럴 도금장치{Barrel Plating Apparatus}Barrel Plating Apparatus

본 발명은 도금장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 칩 부품을 배럴에 투입한 후 배럴을 회전시키면서 전원을 인가하여 칩 부품의 외부전극을 도금하는 배럴 도금장치에 관한 것이다. The present invention relates to a plating apparatus, and more particularly, to a barrel plating apparatus for plating an external electrode of a chip component by applying power while rotating the barrel after inserting the chip component into the barrel.

전자 제품이 점점 소형화되어 가면서, 그 전자 제품을 구성하는 각종 부품들도 점점 소형화 및 칩 부품화되고 있다. 대표적인 예로, 적층 세라믹 커패시터, 칩 인덕터, 칩 저항 등이 있다. 적층 세라믹 커패시터는 유전율을 갖는 세라믹 소재의 칩 형 몸체의 양단부에 외부전극이 형성된 구조로 되어 있다. 이와 같은 칩 형태의 커패시터를 제조하는 과정을 살펴보면 다음과 같다. 우선, 세라믹 그린시트에 내부전극의 도포한 후 이를 적층하고 압착하여 그린 바를 제조한다. 완성된 그린 바를 각각의 그린 칩 형태로 절단한 후 소결하여 칩 형상을 갖는 커패시터의 몸체를 형성한다. 그리고, 상기 칩 형상 몸체의 양쪽 끝 부분에 구리 페이스트를 도포하고, 소결하여 외부전극을 형성한다. As electronic products become smaller and smaller, various components constituting the electronic products are also becoming smaller and chip parts. Representative examples include multilayer ceramic capacitors, chip inductors, and chip resistors. The multilayer ceramic capacitor has a structure in which external electrodes are formed at both ends of a chip-like body having a dielectric constant. Looking at the process of manufacturing such a chip-shaped capacitor is as follows. First, after coating the internal electrode on a ceramic green sheet, it is laminated and pressed to manufacture a green bar. The green bar is cut into the shape of each green chip and then sintered to form a body of a capacitor having a chip shape. Then, copper paste is applied to both ends of the chip-shaped body and sintered to form external electrodes.

다음으로, 인쇄회로기판에 실장이 가능하도록, 외부전극 위에 도금 층을 형성한다. 도금 층을 형성하는 단계는 외부전극에 니켈(Ni)을 도금한 후 주석(Sn) 또는 주석-납(Sn-Pb)을 도금하는 방법으로 수행된다. Next, a plating layer is formed on the external electrode to be mounted on the printed circuit board. The forming of the plating layer is performed by plating nickel (Ni) on the external electrode and then plating tin (Sn) or tin-lead (Sn-Pb).

칩 부품과 같은 작은 부품들의 도금은 배럴 내부에 칩 부품과 칩 부품의 통전을 원활히 해주기 위한 금속 더미 볼(dummy ball)을 적정 비율로 첨가해 주고, 배럴을 회전시키면서 도금하는 배럴 방식이 사용된다. 이러한 도금장치는 도금액이 담겨있는 도금조, 도금조내에서 배럴을 시계방향 및 반 시계방향으로 자전시키는 배럴 회전장치, 도금조에 침지되는 양극과 배럴 내부의 음극에 연결되어 칩 부품에 직류 전류를 공급하는 전원공급장치로 이루어진다. Plating of small parts, such as chip parts, adds a metal dummy ball at an appropriate ratio to smoothly energize the chip part and the chip part inside the barrel, and uses a barrel method of plating while rotating the barrel. Such a plating apparatus is connected to a plating bath containing a plating solution, a barrel rotating device for rotating the barrel clockwise and counterclockwise in the plating bath, an anode immersed in the plating bath, and a cathode inside the barrel to supply a direct current to the chip component. It consists of a power supply.

배럴에 투입되는 칩 부품은 도금하는 과정에서, 칩 부품의 외부전극끼리 서로 붙은 상태로 도금이 되는 경우가 발생한다. 이를 소위 칩 붙음이라 한다. 상기 칩 붙음이 발생하면, 붙은 측면의 외부전극에 도금 두께가 충분하지 않아 불량을 일으키고 부품 신뢰성을 떨어뜨리는 요인으로 작용하며, 심한 경우에는 분리되지 않아 칩 부품을 사용할 수 없는 경우도 발생할 수 있다.In the process of plating the chip parts put into the barrel, the external electrodes of the chip parts may be plated in a state in which they are stuck together. This is called chip sticking. When the chip sticking occurs, the thickness of the outer electrode on the attached side is insufficient enough to cause defects and to reduce the reliability of the parts, and in severe cases, the chip parts may not be used because they are not separated.

이를 해결하기 위해서, 종래에는 배럴의 종류, 더미 볼의 크기와 배합 비율 등 공정 변수들을 최적화하는 방식을 사용하여 왔다. 하지만, 종래의 장치를 사용하는 방식으로는 칩 붙음 불량을 위한 최적화 조건을 찾는 것이 용이하지 않다. In order to solve this problem, a method of optimizing process variables such as a barrel type, a dummy ball size and a compounding ratio has been conventionally used. However, it is not easy to find an optimization condition for chip sticking by using a conventional device.

따라서 당 기술분야에서는, 칩 붙음 현상을 방지하기 위한 새로운 배럴 도금장치가 요구되어 왔다. Therefore, there is a need in the art for a new barrel plating apparatus for preventing chip sticking.

일본 공개특허공보 특개2011-058024호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2011-058024 일본 공개특허공보 특개2009-132954호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2009-132954 한국 공개특허공보 제2005-0041493호Korean Laid-Open Patent Publication No. 2005-0041493

본 발명은 상술한 문제점을 개선하기 위한 것으로서, 칩 붙음 현상을 방지하고, 균일하게 도금할 수 있는 새로운 배럴 도금 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention aims to provide a new barrel plating apparatus capable of preventing chip sticking and plating uniformly, in order to solve the above problems.

본 발명에 따르면, 상단 축과 하단 축 및 상기 상단 축과 하단 축을 결합하는 유니버설조인트를 포함하는 복수의 자전축이 설치되며, 공전축을 중심으로 회전하는 회전테이블과, 상기 상단 축에 결합하며, 내부에 도금 대상물 및 도금액을 수용하는 도금액 수용부가 형성되며, 도금액이 유입되는 유입구와 도금액이 유출되는 유출구를 구비하며, 상기 상단 축을 중심으로 자전하고, 상기 공전축을 중심으로 공전하는 복수의 도금 배럴과, 상기 상단 축이 상기 하단 축의 연장선에 대해서 기울어지도록, 상기 상단 축을 밀고 당기는 자전각도조절수단과, 상기 도금 배럴의 도금액 수용부에 침지되는 양극과 상기 도금 배럴 내부의 음극에 전류를 공급하는 전원을 포함하는 배럴 도금장치가 제공된다.According to the present invention, a plurality of rotating shafts including a universal joint for coupling the upper axis and the lower axis and the upper axis and the lower axis are installed, the rotary table rotating around an idle axis, and coupled to the upper axis, A plating liquid container configured to receive a plating object and a plating liquid, the plating liquid receiving part having an inlet through which the plating liquid flows in and an outlet through which the plating liquid flows out, a plurality of plating barrels rotating around the upper axis and revolving around the revolution axis; Rotating angle adjusting means for pushing and pulling the upper axis so that the upper axis is inclined with respect to the extension line of the lower axis, and a power supply for supplying current to the anode immersed in the plating liquid receiving portion of the plating barrel and the cathode inside the plating barrel; Barrel plating apparatus is provided.

또한, 상기 자전축에는 중공이 형성되어 있으며, 유출구는 상기 자전축의 중공과 연통되는 배럴 도금장치가 제공된다. In addition, the rotating shaft is formed with a hollow, the outlet is provided with a barrel plating apparatus in communication with the hollow of the rotating shaft.

또한, 상기 회전테이블에는 모터가 설치되며, 복수의 상기 자전축의 하단 축에는 상기 모터의 회전축에 설치된 구동기어와 맞물려 회전하는 종동 기어가 각각 설치된 배럴 도금장치가 제공된다.In addition, the rotary table is provided with a motor, a plurality of lower shafts of the rotating shaft is provided with a barrel plating apparatus is provided with a driven gear that rotates in engagement with the drive gear installed on the rotating shaft of the motor.

또한, 상기 배럴의 상부에 배치되며, 도금액이 유입되는 입구와 상기 입구를 통해서 유입된 도금액이 유동할 수 있는 유로 및 상기 유로를 따라서 유동하는 도금액이 유출되는 복수의 출구를 구비하며, 상기 공전축의 연장선을 중심으로 회전하는 도금액공급수단과 일단은 상기 도금액공급수단의 출구와 연결되고, 타단은 상기 배럴의 유입구에 연결되는 복수의 도금액 유입관을 더 포함하는 배럴 도금장치가 제공된다.In addition, the barrel is disposed above the barrel, and has an inlet through which the plating liquid flows in, a flow path through which the plating liquid flowing through the inlet flows, and a plurality of outlets through which the plating liquid flowing along the flow path flows out. A plating solution supplying means for rotating around an extension line and one end thereof is connected to an outlet of the plating solution supplying means, and the other end is provided with a barrel plating apparatus further comprising a plurality of plating solution inflow pipes connected to an inlet of the barrel.

또한, 상기 회전테이블은 상기 회전테이블의 외부에 설치된 회전테이블 구동모터와 벨트로 연결되어 회전되는 배럴 도금장치가 제공된다. In addition, the rotary table is provided with a barrel plating apparatus which is connected to the rotary table drive motor provided on the outside of the rotary table and rotated by a belt.

또한, 상기 배럴은 상기 상단 축과 결합하고 유출구가 형성된 외부케이스와, 상기 외부케이스의 내부에 배치되며 내부에 도금액 수용부가 형성되며 도금액 수용부의 상부는 메쉬로 이루어진 내부케이스를 구비하며, 사용 후 도금액은 상기 내부케이스의 메쉬를 통과하여, 상기 내부케이스의 바깥쪽 면과 상기 외부케이스의 안쪽 면 사이의 공간을 통과한 후 상기 외부케이스의 유출구를 통해서 배출되는 배럴 도금장치가 제공된다. In addition, the barrel is coupled to the upper shaft, the outer case is formed with an outlet, the inner case is disposed inside the outer case and the plating liquid receiving portion is formed therein, the upper portion of the plating liquid receiving portion has a mesh inner case, the plating liquid after use Is passed through the mesh of the inner case, passing through the space between the outer surface of the inner case and the inner surface of the outer case is provided with a barrel plating apparatus that is discharged through the outlet of the outer case.

본 발명에 따른 배럴 도금장치는 배럴이 자전과 공전을 하고, 또한, 배럴이 자전하는 회전축을 기울일 수 있다. 따라서 자전, 공전 속도 및 배럴의 자전 축의 각도를 정해진 도금 프로파일에 따라서 변경함으로써, 칩 붙음 현상을 방지하고, 도금 두께를 균일하게 할 수 있는 최적 조건을 용이하게 찾을 수 있다. In the barrel plating apparatus according to the present invention, the barrel rotates and rotates while the barrel rotates. Therefore, by changing the rotation, the revolution speed and the angle of the rotation axis of the barrel in accordance with a predetermined plating profile, it is possible to easily find the optimum conditions that can prevent chip sticking and make the plating thickness uniform.

도 1은 본 발명에 따른 배럴 도금장치의 일실시예의 위에서 바라본 사시도이다.
도 2는 본 발명에 따른 배럴 도금장치의 일실시예의 아래에서 바라본 사시도이다.
도 3은 도 1에 도시된 배럴 도금장치의 정면도이다.
도 4는 도 1에 도시된 배럴의 단면도이다.
1 is a perspective view from above of an embodiment of a barrel plating apparatus according to the present invention.
Figure 2 is a perspective view from below of one embodiment of a barrel plating apparatus according to the present invention.
3 is a front view of the barrel plating apparatus shown in FIG.
4 is a cross-sectional view of the barrel shown in FIG. 1.

이하, 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 일실시예에 대해서 상세히 설명한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail an embodiment of the present invention.

다음에 소개되는 실시예는 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되는 것이다. 따라서, 본 발명은 이하 설명되는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 그리고, 도면들에 있어서, 구성요소의 폭, 길이, 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.The following embodiments are provided by way of example so that those skilled in the art can fully understand the spirit of the present invention. Therefore, the present invention is not limited to the embodiments described below, but may be embodied in other forms. In the drawings, the width, length, thickness, and the like of the components may be exaggerated for convenience. Like numbers refer to like elements throughout.

도 1은 본 발명에 따른 배럴 도금장치의 일실시예의 위에서 바라본 사시도이며, 도 2는 본 발명에 따른 배럴 도금장치의 일실시예의 아래에서 바라본 사시도이며, 도 3은 도 1에 도시된 배럴 도금장치의 정면도이다. 도 1 내지 3을 참고하면, 본 발명에 따른 배럴 도금장치는 회전테이블(10), 복수의 도금 배럴(20), 자전각도조절수단(30), 전원(미도시), 도금액공급수단(40), 도금액 유입관(50)을 포함한다.1 is a perspective view from above of an embodiment of a barrel plating apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a perspective view from below of an embodiment of a barrel plating apparatus according to the present invention, and FIG. 3 is a barrel plating apparatus shown in FIG. Front view. 1 to 3, the barrel plating apparatus according to the present invention is a rotary table 10, a plurality of plating barrel 20, rotating angle adjusting means 30, power (not shown), plating solution supply means 40 , The plating liquid inlet pipe 50.

회전테이블(10)은 상부 디스크(11)와 상부 디스크(11)와 나란한 하부 디스크(12) 및 상부 디스크(11)와 하부 디스크(12)를 연결하는 연결포스트(13) 및 자전축(14)을 포함한다. 회전테이블(10)은 메인프레임(1)에 중심축인 공전축(2)을 기준으로 회전가능하게 설치된다. The rotary table 10 includes a lower disk 12 parallel to the upper disk 11 and the upper disk 11 and a connecting post 13 and a rotating shaft 14 connecting the upper disk 11 and the lower disk 12 to each other. Include. The rotary table 10 is rotatably installed on the main frame 1 with respect to the revolving shaft 2 which is the central axis.

도 2와 3을 참고하면, 상부 디스크(11)에는 중심에서 원주 방향으로 연장되어 있는 6개의 관통 슬롯(15)이 형성되어 있다. 하부 디스크(12)에는 상부 디스크(11)의 관통 슬롯(15)이 형성된 위치의 아래에 6개의 관통 구멍이 형성되어 있다. 하부 디스크(12)의 둘레에는 홈(17)이 형성되어 있어, 하부 디스크(12)는 일종의 종동풀리로서의 기능을 한다. 하부 디스크(12)는 메인프레임(1)에 고정된 회전테이블 구동모터(60)의 회전축(61)에 설치된 구동풀리(62)와 벨트(63)를 통해서 연결되어 있어, 회전테이블 구동모터(60)가 회전하면 회전테이블(10)이 회전한다.2 and 3, the upper disk 11 is formed with six through slots 15 extending in the circumferential direction from the center. The lower disk 12 is formed with six through holes below the position where the through slot 15 of the upper disk 11 is formed. A groove 17 is formed around the lower disk 12 so that the lower disk 12 functions as a kind of driven pulley. The lower disk 12 is connected to the drive table pulley 62 installed on the rotary shaft 61 of the rotary table drive motor 60 fixed to the main frame 1 through the belt 63, the rotary table drive motor 60 Rotation of the rotary table 10 rotates.

도 1을 참고하면, 자전축(14)은 상부 디스크(11)의 관통 슬롯(15)에 삽입되는 상단 축(141)과 하부 디스크(12)의 관통 구멍(16)에 삽입되는 하단 축(142) 및 상단 축(141)과 하단 축(142)을 연결하는 유니버설조인트(143)를 포함한다. 유니버설조인트(143)는 하단 축(142)과 상단 축(141)을 연결하는 커플링으로서 상단 축(141)이 하단 축(142)에 대해서 기울어져도 하단 축(142)의 회전력이 상단 축(141)에 전달되도록 하는 기능을 한다. Referring to FIG. 1, the rotating shaft 14 has an upper shaft 141 inserted into the through slot 15 of the upper disk 11 and a lower shaft 142 inserted into the through hole 16 of the lower disk 12. And a universal joint 143 connecting the upper shaft 141 and the lower shaft 142. The universal joint 143 is a coupling connecting the lower shaft 142 and the upper shaft 141. Even though the upper shaft 141 is inclined with respect to the lower shaft 142, the rotational force of the lower shaft 142 is the upper shaft 141. ) To be delivered to

도 3을 참고하면, 하부 디스크(12)의 하면의 중심에는 모터(18)가 설치되어 있으며, 모터(18)의 회전축에는 구동기어(19)가 설치되어 있다. 구동기어(19)는 각각의 자전축(14)의 하단 축(142)에 설치된 6개의 종동기어(144)와 맞물려 있다. 구동기어(19)가 회전하면, 각각의 자전축(14)의 하단 축(142)이 회전하고, 유니버설조인트(143)를 통해서 연결된 상단 축(141)이 회전한다. Referring to FIG. 3, the motor 18 is installed at the center of the lower surface of the lower disk 12, and the drive gear 19 is installed at the rotation shaft of the motor 18. The drive gear 19 meshes with six driven gears 144 provided on the lower shaft 142 of each rotating shaft 14. When the drive gear 19 rotates, the lower shaft 142 of each rotating shaft 14 rotates, and the upper shaft 141 connected through the universal joint 143 rotates.

회전테이블(10)은 별도의 회전테이블 구동모터(60)에 의해서 회전하므로, 회전테이블(10)의 회전속도와 자전축(14)의 회전속도는 독립적으로 조절할 수 있다.Since the rotary table 10 is rotated by a separate rotary table driving motor 60, the rotational speed of the rotary table 10 and the rotational speed of the rotating shaft 14 can be adjusted independently.

도 4에 도시된 바와 같이, 복수의 도금 배럴(20)은 외부케이스(21), 내부케이스(22), 및 뚜껑(23)을 포함한다. 외부케이스(21)는 상단이 개방되어 있으며, 개방된 상단을 통해서 장착되는 내부케이스(22)를 수용할 수 있는 수용공간이 형성되어 있다. 외부케이스(21)의 하단에는 자전축(14)의 상단 축(141)이 결합한다. 외부케이스(21)의 하단에는 유출구(24)가 형성되어 있으며, 유출구(24)는 자전축(14)의 중공(145)과 연결된다. As shown in FIG. 4, the plurality of plating barrels 20 includes an outer case 21, an inner case 22, and a lid 23. The outer case 21 is open at the top, and the receiving space is formed to accommodate the inner case 22 mounted through the open top. The upper shaft 141 of the rotating shaft 14 is coupled to the lower end of the outer case 21. An outlet 24 is formed at a lower end of the outer case 21, and the outlet 24 is connected to the hollow 145 of the rotating shaft 14.

내부케이스(22)는 상단이 개방되어 있으며, 상단의 둘레는 외부케이스(21)의 내면 방향으로 돌출되어 있다. 내부케이스(22) 장착시 내부케이스(22)의 상단의 둘레가 외부케이스(21)의 내면에 끼워져 고정되며, 내부케이스(22)의 외면과 외부케이스(21)의 내면 사이에는 공간이 형성된다. 내부케이스(22)는 두 가지 부분으로 이루어진다. 내부케이스(22)의 상부는 메쉬(25)로 이루어지며, 하부는 금속으로 이루어진다. 내부케이스(22)의 하부는 도금액과 칩 부품을 수용하는 도금액 수용부(26)이다. 내부케이스(22)의 하부 금속은 칩 부품의 전기도금에 사용되는 음극으로서 작용한다.The inner case 22 is open at the upper end, and the periphery of the upper end protrudes toward the inner surface of the outer case 21. When the inner case 22 is mounted, a circumference of the upper end of the inner case 22 is fitted to the inner surface of the outer case 21 and is fixed. A space is formed between the outer surface of the inner case 22 and the inner surface of the outer case 21. . The inner case 22 consists of two parts. The upper part of the inner case 22 is made of a mesh 25, the lower part is made of a metal. The lower part of the inner case 22 is a plating liquid container 26 for accommodating the plating liquid and the chip component. The lower metal of the inner case 22 acts as a cathode used for electroplating chip components.

뚜껑(23)은 외부케이스(21)의 개방된 상단에 결합하여 외부케이스(21)를 밀폐하는 역할을 한다. 뚜껑(23)의 중심부에는 유입구(27)가 형성되어 있다. 이 유입구(27)를 통해서 도금액이 유입되며, 유입된 도금액은 내부케이스(22)의 하부의 도금액 수용부(26)에 저장된다. 유입구(27)는 또한 도금액 수용부(26)에 저장되는 도금액에 담기는 양극(28)에 전원을 인가하기 위한 전선(29)이 통과하는 통로역할을 한다. Lid 23 is coupled to the open top of the outer case 21 serves to seal the outer case 21. An inlet 27 is formed in the center of the lid 23. The plating liquid is introduced through the inlet 27, and the introduced plating liquid is stored in the plating liquid container 26 at the lower portion of the inner case 22. The inlet 27 also serves as a passage through which the wire 29 for applying power to the anode 28 contained in the plating liquid stored in the plating liquid container 26 passes.

자전각도조절수단(30)은 자전축(14)의 상단 축(141)을 밀고 당겨서, 상단 축(141)과 하단 축(142)이 이루는 각도(편각)을 조절하는 기능을 한다. 자전각도조절수단(30)은 상부 디스크(11)에 설치되는 모터(31)와 모터(31)의 회전축(32)에 결합한 피니언(33)과 피니언(33)에 맞물려 직선운동을 하는 6개의 랙(34)을 포함한다. 각각의 랙(34)은 상단 축(141)을 밀고 당김으로써, 편각을 조절한다.The rotation angle adjusting means 30 pushes and pulls the upper shaft 141 of the rotating shaft 14 to adjust an angle (declination) formed by the upper shaft 141 and the lower shaft 142. The rotation angle adjusting means 30 has six racks engaged with the pinion 33 and the pinion 33 coupled to the motor 31 installed on the upper disk 11 and the rotating shaft 32 of the motor 31 and performing linear motion. (34). Each rack 34 adjusts the declination by pushing and pulling the top shaft 141.

전원(미도시)은 양극(28)과 배럴(20)의 내부케이스(22)인 음극을 두 극으로 하여 도금을 수행하기 위한 펄스전류를 공급한다. 펄스전류는 양극(28)을 도금액 내에서 이온화시켜 내부케이스(22)의 도금액 수용부(26)에 있는 칩 부품의 외부전극에 도금 층을 형성시킨다.The power supply (not shown) supplies a pulse current for plating by using the anode 28 and the cathode, which is the inner case 22 of the barrel 20, as two electrodes. The pulsed current ionizes the anode 28 in the plating solution to form a plating layer on the external electrode of the chip component in the plating solution receiving portion 26 of the inner case 22.

도금액공급수단(40)은 배럴(20)에 도금액을 공급하기 위한 수단으로서 배럴(20)의 상부에 배치된다. 도금액공급수단(40)은 속이 비어있는 원판 형태이다. 도금액공급수단(40)의 상면 중심에는 도금액이 유입되는 입구(41)가 형성되어 있다. 입구(41)를 통해서 유입된 도금액은 도금액공급수단(40)의 내부를 거쳐서, 도금액공급수단(40)의 둘레에 일정한 간격으로 형성된 6개의 출구(42)를 통해서 배출된다. 도금액공급수단(40)의 입구(41)에는 니켈(Ni) 도금액 공급라인(43), 주석(Sn) 또는 주석-납(Sn-Pb) 도금액 공급라인(44), 순수공급 라인(45)이 연결된다. 도금액공급수단(40)에는 도금 단계에 따라서 니켈(Ni) 도금액, 주석(Sn) 또는 주석-납(Sn-Pb) 도금액, 순수가 투입된다. 순수는 도금액을 세척하기 위해서 사용된다.The plating liquid supply means 40 is disposed above the barrel 20 as a means for supplying the plating liquid to the barrel 20. The plating liquid supply means 40 is in the form of a hollow disc. An inlet 41 through which the plating liquid flows is formed at the center of the upper surface of the plating liquid supply means 40. The plating liquid introduced through the inlet 41 is discharged through the six outlets 42 formed at regular intervals around the plating liquid supplying means 40 via the interior of the plating liquid supplying means 40. At the inlet 41 of the plating liquid supply means 40, a nickel (Ni) plating liquid supply line 43, tin (Sn) or tin-lead (Sn-Pb) plating liquid supply line 44, and a pure water supply line 45 are provided. Connected. Nickel (Ni) plating liquid, tin (Sn) or tin-lead (Sn-Pb) plating liquid and pure water are introduced into the plating liquid supply means 40 according to the plating step. Pure water is used to wash the plating liquid.

도금액 유입관(50)은 도금액공급수단(40)에서 배출된 도금액을 배럴(20)에 공급한다. 도금액 유입관(50)의 일단은 도금액공급수단(40)의 출구(42)와 연결되고, 타단은 배럴(20)의 유입구(27)에 연결된다. The plating liquid inflow pipe 50 supplies the plating liquid discharged from the plating liquid supply means 40 to the barrel 20. One end of the plating liquid inlet pipe 50 is connected to the outlet 42 of the plating liquid supply means 40, and the other end is connected to the inlet 27 of the barrel 20.

도금액공급수단(40)은 메인프레임(1)에 회전 가능하도록 설치되며, 회전테이블(10)이 회전하면 회전테이블(10)과 동일한 속도로 회전한다. The plating liquid supply means 40 is installed on the main frame 1 so as to be rotatable, and when the rotary table 10 rotates, the plating solution supply means 40 rotates at the same speed as the rotary table 10.

또한, 배럴 도금장치는 제어기(미도시)를 구비할 수 있다. 제어기는 회전테이블(10)을 공전시키기 위한 회전테이블 구동모터(60), 배럴(20)의 자전속도를 조절하기 위한 모터(18), 배럴(20)의 자전각도를 조절하기 위한 모터(31), 도금액 공급라인의 밸브(미도시), 도금을 수행하기 위한 펄스전류를 공급하는 전원(미도시)을 제어하여 자동으로 도금이 진행되도록 한다. In addition, the barrel plating apparatus may include a controller (not shown). The controller is a rotary table drive motor 60 for revolving the rotary table 10, a motor 18 for adjusting the rotation speed of the barrel 20, a motor 31 for adjusting the rotation angle of the barrel 20 The valve of the plating solution supply line (not shown), the power supply (not shown) for supplying a pulse current for performing the plating to control the plating to proceed automatically.

또한, 배럴 도금장치는 사용 후 니켈(Ni) 도금액, 주석(Sn) 또는 주석-납(Sn-Pb) 도금액, 순수를 저장하기 위한 니켈(Ni) 도금액 저장탱크(4), 주석(Sn) 또는 주석-납(Sn-Pb) 도금액 저장탱크(5), 순수 저장탱크(6)를 구비한다. 저장탱크들(4, 5, 6)은 자전축(14)의 아래에 배치된 저장탱크(3)와 연결되며, 메인프레임(1)에 설치된다. In addition, the barrel plating apparatus includes a nickel (Ni) plating solution, tin (Sn) or tin-lead (Sn-Pb) plating solution, a nickel (Ni) plating solution storage tank 4 for storing pure water, tin (Sn) or A tin-lead (Sn-Pb) plating liquid storage tank 5 and a pure water storage tank 6 are provided. The storage tanks 4, 5, 6 are connected to the storage tank 3 disposed below the rotating shaft 14 and are installed in the main frame 1.

이하, 상술한 배럴 도금장치의 작용에 대해서 설명한다.The operation of the above-described barrel plating apparatus will be described below.

먼저, 제어기에 니켈(Ni) 도금 시간, 주석(Sn) 또는 주석-납(Sn-Pb) 도금 시간, 세척 시간, 니켈 도금 시 공전, 자전 속도 및 자전각도, 주석 또는 주석-납 도금 시 공전, 자전 속도 및 자전각도, 세척 시 공전, 자전 속도 및 자전각도 등 도금 프로파일을 입력한다. First, nickel (Ni) plating time, tin (Sn) or tin-lead (Sn-Pb) plating time, cleaning time, idle time in nickel plating, rotation speed and rotation angle, idle time in tin or tin-lead plating, Enter plating profile such as rotation speed and rotation angle, idle during cleaning, rotation speed and rotation angle.

다음, 배럴(20)의 뚜껑(23)을 열고, 내부케이스(22)에 칩 부품을 투입한다. 이때, 칩 부품과 칩 부품의 통전을 원활히 해주기 위한 금속 더미 볼(dummy ball)을 적정 비율로 첨가한다. Next, the lid 23 of the barrel 20 is opened, and the chip component is put into the inner case 22. At this time, a metal dummy ball for smoothly energizing the chip component and the chip component is added at an appropriate ratio.

다음, 배럴(20)의 뚜껑(23)을 닫고, 배럴 도금장치의 작동시키면, 도금액공급수단(40)과 연결된 순수공급라인(미도시)의 밸브가 열리면서 도금액공급수단(40)에 순수가 유입된다. 유입된 순수는 도금액 유입관(50)을 통해서 배럴(20)에 공급된다. Next, when the lid 23 of the barrel 20 is closed and the barrel plating apparatus is operated, the valve of the pure water supply line (not shown) connected to the plating liquid supply means 40 is opened and pure water flows into the plating liquid supply means 40. do. The introduced pure water is supplied to the barrel 20 through the plating liquid inflow pipe 50.

배럴(20)에 순수가 충분히 공급되면, 정해진 도금 프로파일에 따라서 작동하는 자전각도조절수단(30)에 의해서 편각이 조절한다. When pure water is sufficiently supplied to the barrel 20, the declination is adjusted by the rotation angle adjusting means 30 operating in accordance with a predetermined plating profile.

다음, 회전테이블(10)이 공전하고, 배럴(20)이 자전을 한다. 배럴(20)에는 순수가 계속하여 공급되며, 배럴(20)의 내부케이스(22)에서 메쉬(25)를 통해서 넘친 순수는 배럴(20)의 내부케이스(22)와 외부케이스(21) 사이의 공간, 외부케이스(21)의 유출구(24), 자전축(14)의 중공을 순서대로 통과한 후 순수 저장탱크(6)에 저장된다. Next, the rotary table 10 revolves, and the barrel 20 rotates. Pure water is continuously supplied to the barrel 20, and the pure water overflowed through the mesh 25 from the inner case 22 of the barrel 20 is disposed between the inner case 22 and the outer case 21 of the barrel 20. After passing through the space, the outlet 24 of the outer case 21, the hollow of the rotating shaft 14 in order and is stored in the pure storage tank (6).

세척이 완료되면, 순수의 공급이 중단되고, 니켈도금액이 공급된다. 이때, 공전속도, 자전속도, 편각은 도금 프로파일에 따라서 재설정된다. 그리고 전원은 전극에 니켈 도금을 위한 펄스전류를 공급한다. 펄스전류는 양극(28)을 도금액 내에서 이온화시켜 내부케이스(22)의 도금액 수용부(26)에 있는 칩 부품의 외부전극에 니켈 도금 층을 형성한다. 니켈 도금액은 순수와 동일한 순서를 거쳐 니켈 도금액 저장탱크(4)에 저장된다. When the washing is completed, the supply of pure water is stopped and the nickel plating solution is supplied. At this time, the revolution speed, the rotation speed, and the declination angle are reset according to the plating profile. The power supply supplies a pulse current to the electrode for nickel plating. The pulse current ionizes the anode 28 in the plating liquid to form a nickel plating layer on the external electrode of the chip component in the plating liquid receiving portion 26 of the inner case 22. The nickel plating liquid is stored in the nickel plating liquid storage tank 4 in the same order as pure water.

니켈 도금이 완료되면, 니켈 도금액의 공급이 중단되고, 주석 또는 주석-납 도금액이 공급된다. 공전속도, 자전속도, 편각은 도금 프로파일에 따라서 재설정된다. 전원은 정해진 프로파일에 따라서 전류를 공급한다. 펄스전류는 양극을 도금액 내에서 이온화시켜 내부케이스(22)의 도금액 수용부(26)에 있는 칩 부품의 외부전극의 니켈 도금 층 위에 주석 또는 주석-납 도금 층을 형성한다. 주석 또는 주석-납 도금액은 주석 또는 주석-납 도금액 저장탱크(5)에 저장된다.When the nickel plating is completed, the supply of the nickel plating solution is stopped, and the tin or tin-lead plating solution is supplied. The revolution speed, rotation speed, and declination are reset according to the plating profile. The power supply supplies current according to a defined profile. The pulsed current ionizes the anode in the plating solution to form a tin or tin-lead plating layer on the nickel plating layer of the external electrode of the chip component in the plating solution receiving portion 26 of the inner case 22. The tin or tin-lead plating liquid is stored in the tin or tin-lead plating liquid storage tank 5.

주석 또는 주석-납 도금이 완료되면, 주석 또는 주석-납 도금액의 공급이 중단되고, 다시 순수가 공급되어 세척이 진행된다. 공전속도, 자전속도, 편각은 도금 프로파일에 따라서 재설정되며, 전류는 공급되지 않는다. When the tin or tin-lead plating is completed, supply of the tin or tin-lead plating solution is stopped, and pure water is supplied again to proceed with washing. The idle speed, rotation speed and declination are reset according to the plating profile, and no current is supplied.

마지막으로, 세척이 완료되면 배럴(20)에서 도금이 완료된 칩 부품을 분리하여, 건조한다. Finally, when the cleaning is completed, the plating is completed in the barrel 20, the chip component is separated, and dried.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시 예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어서는 안 될 것이다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed as limiting the scope of the invention as defined by the appended claims. It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the present invention.

10: 회전테이블 11: 상부 디스크
12: 하부 디스크 14: 자전축
141: 상단 축 142: 하단 축
143: 유니버설조인트 144: 종동기어
15: 관통 슬롯 16: 관통 구멍
18: 모터 19: 구동기어
20: 배럴 21: 외부케이스
22: 내부케이스 23: 뚜껑
24: 유출구 25: 메쉬
26: 도금액 수용부 27: 유입구
28: 양극 30: 자전각도조절수단
31 : 모터 33: 피니언
34: 랙 40: 도금액공급수단
41: 입구 42: 출구
50: 도금액 유입관 60: 회전테이블 구동모터
10: rotary table 11: upper disc
12: lower disk 14: rotating shaft
141: upper axis 142: lower axis
143: universal joint 144: driven gear
15: through slot 16: through hole
18: Motor 19: Drive Gear
20: barrel 21: outer case
22: inner case 23: lid
24: outlet 25: mesh
26: plating liquid receiving portion 27: inlet
28: anode 30: rotation angle adjusting means
31: motor 33: pinion
34: rack 40: plating liquid supply means
41: entrance 42: exit
50: plating liquid inlet tube 60: rotary table drive motor

Claims (6)

상단 축과 하단 축 및 상기 상단 축과 하단 축을 결합하는 유니버설조인트를 포함하는 복수의 자전축이 설치되며, 공전축을 중심으로 회전하는 회전테이블과,
상기 상단 축에 결합하며, 내부에 도금 대상물 및 도금액을 수용하는 도금액 수용부가 형성되며, 도금액이 유입되는 유입구와 도금액이 유출되는 유출구를 구비하며, 상기 상단 축을 중심으로 자전하고, 상기 공전축을 중심으로 공전하는 복수의 도금 배럴과,
상기 상단 축이 상기 하단 축의 연장선에 대해서 기울어지도록, 상기 상단 축을 밀고 당기는 자전각도조절수단과,
상기 도금 배럴의 도금액 수용부에 침지되는 양극과 상기 도금 배럴 내부의 음극에 전류를 공급하는 전원을 포함하며,
상기 자전축에는 중공이 형성되어 있으며, 상기 유출구는 상기 자전축의 중공과 연통되는 배럴 도금장치.
A rotating table including a plurality of rotating shafts including a universal joint coupling the upper shaft and the lower shaft and the upper shaft and the lower shaft, the rotary table rotating about an idle axis;
It is coupled to the upper shaft, the plating liquid receiving portion for receiving the plating object and the plating liquid therein is formed, and having an inlet through which the plating liquid flows in and an outlet through which the plating liquid flows out, and rotates around the upper axis and rotates around the revolving shaft. A plurality of plating barrels to revolve,
A rotation angle adjusting means for pushing and pulling the upper shaft such that the upper shaft is inclined with respect to an extension line of the lower shaft;
And a power supply for supplying current to the anode immersed in the plating liquid receiving portion of the plating barrel and the cathode inside the plating barrel,
The hollow shaft is formed in the rotating shaft, the outlet port barrel plating apparatus in communication with the hollow of the rotating shaft.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 회전테이블에는 모터가 설치되며, 복수의 상기 자전축의 하단 축에는 상기 모터의 회전축에 설치된 구동기어와 맞물려 회전하는 종동 기어가 각각 설치된 배럴 도금장치.
The method of claim 1,
The rotating table is provided with a motor, a plurality of lower shafts of the rotating shaft barrel plating apparatus is provided with a driven gear to rotate in engagement with the drive gear installed on the rotating shaft of the motor.
제1항에 있어서,
상기 배럴의 상부에 배치되며, 도금액이 유입되는 입구와 상기 입구를 통해서 유입된 도금액이 유동할 수 있는 유로 및 상기 유로를 따라서 유동하는 도금액이 유출되는 복수의 출구를 구비하며, 상기 공전축의 연장선을 중심으로 회전하는 도금액공급수단과
일단은 상기 도금액공급수단의 출구와 연결되고, 타단은 상기 배럴의 유입구에 연결되는 복수의 도금액 유입관을 더 포함하는 배럴 도금장치.
The method of claim 1,
Is disposed above the barrel, and has an inlet through which the plating liquid flows in, a flow path through which the plating liquid flows through the inlet flows, and a plurality of outlets through which the plating liquid flowing along the flow path flows out. Plating solution supply means rotating to the center
One end is connected to the outlet of the plating liquid supply means, the other end of the barrel plating apparatus further comprises a plurality of plating liquid inlet pipe connected to the inlet of the barrel.
제1항에 있어서,
상기 회전테이블은 상기 회전테이블의 외부에 설치된 회전테이블 구동모터와 벨트로 연결되어 회전되는 배럴 도금장치.
The method of claim 1,
The rotating table is a barrel plating apparatus that is rotated in connection with a rotary table driving motor installed on the outside of the rotary table by a belt.
상단 축과 하단 축 및 상기 상단 축과 하단 축을 결합하는 유니버설조인트를 포함하는 복수의 자전축이 설치되며, 공전축을 중심으로 회전하는 회전테이블과,
상기 상단 축에 결합하며, 내부에 도금 대상물 및 도금액을 수용하는 도금액 수용부가 형성되며, 도금액이 유입되는 유입구와 도금액이 유출되는 유출구를 구비하며, 상기 상단 축을 중심으로 자전하고, 상기 공전축을 중심으로 공전하는 복수의 도금 배럴과,
상기 상단 축이 상기 하단 축의 연장선에 대해서 기울어지도록, 상기 상단 축을 밀고 당기는 자전각도조절수단과,
상기 도금 배럴의 도금액 수용부에 침지되는 양극과 상기 도금 배럴 내부의 음극에 전류를 공급하는 전원을 포함하며,
상기 도금 배럴은 상기 상단 축과 결합하고 유출구가 형성된 외부케이스와, 상기 외부케이스의 내부에 배치되며 내부에 도금액 수용부가 형성되며 도금액 수용부의 상부는 메쉬로 이루어진 내부케이스를 구비하며,
사용 후 도금액은 상기 내부케이스의 메쉬를 통과하여, 상기 내부케이스의 바깥쪽 면과 상기 외부케이스의 안쪽 면 사이의 공간을 통과한 후 상기 외부케이스의 유출구를 통해서 배출되는 배럴 도금장치.
A rotating table including a plurality of rotating shafts including a universal joint coupling the upper shaft and the lower shaft and the upper shaft and the lower shaft, the rotary table rotating about an idle axis;
It is coupled to the upper shaft, the plating liquid receiving portion for receiving the plating object and the plating liquid therein is formed, and having an inlet through which the plating liquid flows in and an outlet through which the plating liquid flows out, and rotates around the upper axis and rotates around the revolving shaft. A plurality of plating barrels to revolve,
A rotation angle adjusting means for pushing and pulling the upper shaft such that the upper shaft is inclined with respect to an extension line of the lower shaft;
And a power supply for supplying current to the anode immersed in the plating liquid receiving portion of the plating barrel and the cathode inside the plating barrel,
The plating barrel has an outer case coupled to the upper shaft and formed with an outlet, a plating liquid receiving portion disposed inside the outer case, and an upper portion of the plating liquid receiving portion formed of a mesh,
After use, the plating liquid passes through the mesh of the inner case, passes through the space between the outer surface of the inner case and the inner surface of the outer case and is discharged through the outlet of the outer case.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4728909U (en) * 1971-04-30 1972-12-02
JPH05154758A (en) * 1991-12-03 1993-06-22 I N R Kenkyusho:Kk Barrel device
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Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4728909U (en) * 1971-04-30 1972-12-02
JPH05154758A (en) * 1991-12-03 1993-06-22 I N R Kenkyusho:Kk Barrel device
JP2009132954A (en) * 2007-11-29 2009-06-18 Kondo:Kk Barrel device
JP2011058024A (en) * 2009-09-07 2011-03-24 C Uyemura & Co Ltd Surface treatment device for small article

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