KR100901581B1 - Chip part processing device before plating process using barrel - Google Patents
Chip part processing device before plating process using barrel Download PDFInfo
- Publication number
- KR100901581B1 KR100901581B1 KR1020090004152A KR20090004152A KR100901581B1 KR 100901581 B1 KR100901581 B1 KR 100901581B1 KR 1020090004152 A KR1020090004152 A KR 1020090004152A KR 20090004152 A KR20090004152 A KR 20090004152A KR 100901581 B1 KR100901581 B1 KR 100901581B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- barrel
- chip
- chip component
- silicon
- unit
- Prior art date
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 62
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 20
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 57
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 57
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 33
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 30
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims abstract description 13
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 55
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 47
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 15
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 15
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 13
- 230000035515 penetration Effects 0.000 claims description 10
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 5
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 abstract description 4
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 abstract description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 description 3
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 3
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000011268 mixed slurry Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229920005596 polymer binder Polymers 0.000 description 1
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/018—Dielectrics
- H01G4/06—Solid dielectrics
- H01G4/08—Inorganic dielectrics
- H01G4/12—Ceramic dielectrics
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G13/00—Apparatus specially adapted for manufacturing capacitors; Processes specially adapted for manufacturing capacitors not provided for in groups H01G4/00 - H01G11/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/30—Stacked capacitors
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 적층 세라믹 캐패시터(Multi Layer Ceramic Capacitor ; MLCC)와 같은 칩부품의 외부면에 도금하는 단계 전에 도금을 위한 전처리 하는 단계에서 사용되는 칩부품 도금전 처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a chip component pre-plating apparatus used in the pre-treatment step for plating before the step of plating on the outer surface of the chip component, such as a multi-layer ceramic capacitor (MLCC).
일반적으로 배리스터(varistor), 칩인덕터(chip inductor), 적층 세라믹 캐패시터(Multi Layer Ceramic Capacitor ; MLCC)와 같은 칩부품을 제조하는 공정은, 1) 세라믹 캐패시터 주원료유와 첨가제인 부원료를 균일하게 반응시켜 합성하고, 2) 합성된 세라믹 원료와 고분자 바인더 및 용제를 혼합하며, 3) 혼합된 슬러리(Slurry)를 안정된 상태로 숙성시키고, 4) 숙성된 세라믹 슬러리를 고분자 필름(PET)위에 일정한 두께로 코팅하며, 5) 성형된 테이프를 건조로를 통과시켜 건조시키며, 6) 이에 실크 스크린(Silk Screen)를 사용하여 원하는 용량 설계값 패턴으로 인쇄하여 내부전극을 형성하고, 7) 인쇄된 내부전극의 페이스트 형상을 유지하기 위하여 세라믹 시트를 건조로에서 건조시키며, 8) 상기 세라믹 시트는 원하는 용량값을 얻기 위하여 여러 층으로 적층되고, 9) 적층된 상태를 유지하도록 외부에 서 강한 압력으로 압착하며, 10) 적층된 상태의 세라믹 바(Bar)를 일정한 크기의 칩 형태로 절단하고, 11) 절단된 세라믹 칩에 포함된 바인더만 제거되도록 탈바인더하고, 12) 탈바인더가 완료된 칩을 고온 전기로에서 열처리하여 소성시키며, 13) 소성된 칩은 날카로운 모서리를 처리하도록 연마되고, 14) 칩내부에 형성된 내부전극과의 연결을 위해 칩외부에 외부전극을 형성하며, 15) 내,외부전극이 터미네이션된 칩을 열처리하여 세라믹 표면에 고정시키고, 16) 칩의 외부전극에 납땜성을 부여하기 위하여 칩의 외부면에 니켈, 주석도금을 실시하며, 17) 도금완료된 칩부품은 용량 편차별(J,K,M,Z)로 선별하고, 절연저항(IR)불량을 선별한 다음, 18) 표면실장이 가능하도록 칩부품을 테이프로서 테이핑하여 포장한다.In general, the process of manufacturing chip components such as varistors, chip inductors, and multi-layer ceramic capacitors (MLCCs) includes: 1) uniformly reacting ceramic capacitor main raw materials with additives 2) mix the synthesized ceramic raw material, polymer binder and solvent, 3) mature the mixed slurry in a stable state, and 4) coat the mature ceramic slurry with a certain thickness on the polymer film (PET). And 5) drying the molded tape through a drying furnace, and 6) forming an internal electrode by printing a desired capacitance design value pattern using a silk screen, and 7) forming a paste shape of the printed internal electrode. In order to maintain the ceramic sheet is dried in a drying furnace, 8) the ceramic sheet is laminated in several layers to obtain the desired capacity value, 9) the laminated state Pressed at a strong pressure from the outside to maintain, 10) cutting the stacked ceramic bars into chips of a predetermined size, 11) debinding so that only the binder contained in the cut ceramic chip is removed, 12 ) The chips that have been debindered are fired by heat treatment in a high temperature electric furnace, and 13) the baked chips are polished to handle sharp edges, and 14) external electrodes are formed outside the chip for connection with internal electrodes formed inside the chip. , 15) heat-treating the chip terminated with internal and external electrodes to fix it on the ceramic surface, and 16) apply nickel and tin plating on the external surface of the chip to give solderability to the external electrode of the chip. The chip parts are sorted by capacity variation (J, K, M, Z), the insulation resistance (IR) defects are sorted, and 18) the chip parts are taped and packaged to enable surface mounting.
상기와 같이 칩부품을 제조하는 공정중 터미네이션이 완료된 외부전극에는 바로 납땜을 할 수 없으므로 납땜이 원할하게 이루어지도록 최외곽 전극으로 니켈(Ni)과 주석(Sn)을 순차적으로 도금을 하게 된다. 본 발명은 이러한 도금단계 전에 사용되는 장치에 관한 발명으로 유사한 종래기술은 존재하지 않는다. 도금 전단계의 칩부품은 칩부품 자체에 틈이 존재하여 칩부품 자체의 존재 목적을 달성하지 못하거나 성능이 떨어지는 문제점이 있었다.As described above, since the soldering cannot be immediately performed on the external electrode which has been terminated during the manufacturing process of the chip components, nickel (Ni) and tin (Sn) are sequentially plated with the outermost electrode so that soldering can be performed smoothly. The present invention is directed to an apparatus used before such a plating step and no similar prior art exists. The chip part of the pre-plating step has a gap in the chip part itself does not achieve the purpose of existence of the chip part itself or had a problem of poor performance.
본 발명은 MLCC 등의 칩부품 도금전 처리단계에서 칩부품에 실리콘을 침투시키고 실리콘 침투 과정에서 전극 등에 묻게 되는 실리콘 등을 세척하고 세척과정에서 칩부품의 외면에 묻은 세척액을 건조시켜 MLCC 등의 칩부품 도금전 처리단계를 수행하는 칩부품 도금전 처리장치를 제공하기 위함이다.The present invention penetrates silicon into chip components in the pre-plating process of chip parts such as MLCC, washes silicon, etc., which are deposited on electrodes in the process of silicon penetration, and dries the cleaning solution on the outer surface of chip parts during the washing process to chip such as MLCC. An object of the present invention is to provide a chip component pre-plating apparatus for performing a pre-plating process.
본 발명은 MLCC 등 소형 칩부품의 도금 또는 도금천 처리 등에 있어서, 칩부품의 처리, 세척, 건조 단계 등에 있어서 처리 효율이 우수하고 건조나 세척 효율이 우수한 칩부품 처리용 회전식 바렐이 구비된 칩부품 도금전 처리장치를 제공하기 위한 것이다.In the present invention, in the plating or plating cloth treatment of small chip parts, such as MLCC, chip parts having a rotary barrel for processing chip parts having excellent processing efficiency and excellent drying or cleaning efficiency in the processing, washing and drying steps of the chip parts. It is to provide a pre-plating treatment apparatus.
본 발명은 MLCC 등의 칩부품 도금전 처리단계에서 칩부품에 실리콘을 침투시키고 실리콘 침투 과정에서 전극 등에 묻게 되는 실리콘 등을 세척하고 세척과정에서 칩부품의 외면에 묻은 세척액을 건조시켜 MLCC 등의 칩부품 도금전 처리단계를 효율적으로 수행할 수 있는 칩부품 처리용 회전식 바렐이 구비된 칩부품 도금전 처리장치를 제공하기 위한 것이다.The present invention penetrates silicon into chip components in the pre-plating process of chip parts such as MLCC, washes silicon, etc., which are deposited on electrodes in the process of silicon penetration, and dries the cleaning solution on the outer surface of chip parts during the washing process to chip such as MLCC. An object of the present invention is to provide a chip component pre-plating apparatus equipped with a rotary barrel for chip component processing, which can efficiently perform a component pre-plating step.
이러한 본 발명의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 바렐을 이용한 칩부품 도금전 처리장치는, 칩부품 처리장치에 있어서, 다수의 칩부품이 내장한 상태에서 이송장치(120)에 의해 이송되는 회전식 바렐(110)과;The chip component pre-plating apparatus using the barrel according to the present invention for achieving the object of the present invention, in the chip component processing apparatus, a plurality of chip components in the state of being transferred by the conveying
프레임(101)의 상부에 구비되고 상기 회전식 바렐(110)을 실리콘 침투 부(130)로 이송하는 이송장치(120)와;A
상기 프레임(101)에 일측에 구비되고, 상기 회전식 바렐(110)을 압력조절조(131) 내부에서 제1 회전수단(135)으로 회전시키면서 압력조절조(131) 내부의 압력을 변동시킴으로써 실리콘을 칩부품에 침투시키는 실리콘 침투부(130)와;It is provided on one side of the
상기 실리콘 침투부(130)에 인접하여 상기 프레임(101)에 구비되고, 상기 회전식 바렐(110)을 세척조(141) 안에서 제2 회전수단(145)으로 회전시키면서 바렐(110) 내부의 위치한 칩부품의 외면에 부착된 실리콘을 포함하는 이물질을 세척수로 세척하는 칩부품 세척부(140)와;The chip component provided in the
상기 칩부품 세척부(140)에 인접하여 상기 프레임(101)에 구비되고, 상기 회전식 바렐(110)을 건조실(151) 안에서 제3 회전수단(155)으로 회전시키면서 고온 공기를 분사시켜 바렐(110) 내부의 칩부품을 건조하는 칩부품 건조부(150);를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.Adjacent to the chip
본 발명에 따르는 경우 종래 기술의 문제점이 해결되며, MLCC 등의 칩부품 도금전 처리단계에서 칩부품에 실리콘을 침투시키고 실리콘 침투 과정에서 전극 등에 묻게 되는 실리콘 등을 세척하고 세척과정에서 칩부품의 외면에 묻은 세척액을 건조시켜 MLCC 등의 칩부품 도금전 처리단계를 수행하는 칩부품 도금전 처리장치가 공된다.In accordance with the present invention, the problems of the prior art are solved, and infiltrates silicon into the chip component in the pre-plating process of the chip component such as MLCC, washes the silicon, etc., which are buried in the electrode in the silicon penetration process, and the outer surface of the chip component in the washing process. There is provided a chip component pre-plating processing apparatus for drying the cleaning liquid on the surface to perform a pre-plating process for chip components such as MLCC.
또한, MLCC 등 소형 칩부품의 도금 또는 도금천 처리 등에 있어서, 칩부품의 처리, 세척, 건조 단계 등에 있어서 처리 효율이 우수하고 건조나 세척 효율이 우 수한 회전식 바렐이 구비된 칩부품 도금전 처리장치를 제공하기 위한 것이다.In addition, in the plating or plating cloth treatment of small chip parts such as MLCCs, the chip parts pre-plating apparatus is equipped with a rotary barrel having excellent processing efficiency and excellent drying or cleaning efficiency in the processing, washing and drying steps of the chip parts. It is to provide.
본 발명은 MLCC 등의 칩부품 도금전 처리단계에서 칩부품에 실리콘을 침투시키고 실리콘 침투 과정에서 전극 등에 묻게 되는 실리콘 등을 세척하고 세척과정에서 칩부품의 외면에 묻은 세척액을 건조시켜 MLCC 등의 칩부품 도금전 처리단계를 효율적으로 수행할 수 있는 회전식 바렐이 구비된 칩부품 도금전 처리장치를 제공하기 위한 것이다.The present invention penetrates silicon into chip components in the pre-plating process of chip parts such as MLCC, washes silicon, etc., which are deposited on electrodes in the process of silicon penetration, and dries the cleaning solution on the outer surface of chip parts during the washing process to chip such as MLCC. An object of the present invention is to provide a chip component pre-plating apparatus equipped with a rotary barrel capable of efficiently performing a component pre-plating process.
이하 본 발명에 의한 회전식 바렐이 구비된 칩부품 도금전 처리장치를 첨부도면에 도시한 실시예에 따라 상세히 설명한다. 도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 바렐을 이용한 칩부품 도금전 처리장치 정면도, 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 바렐을 이용한 칩부품 도금전 처리장치 평면도, 도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 바렐을 이용한 칩부품 도금전 처리장치 측면도, 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 바렐을 이용한 칩부품 도금전 처리장치 중 실리콘 침투부 정면도이고, 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 바렐을 이용한 칩부품 도금전 처리장치 중 칩부품 세척부 정면도이다.Hereinafter, a chip component pre-plating apparatus equipped with a rotary barrel according to the present invention will be described in detail according to the embodiment shown in the accompanying drawings. 1 is a front view of a chip component pre-plating apparatus using a barrel according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a plan view of a chip component pre-plating apparatus using a barrel according to an embodiment of the present invention, Figure 3 is a present invention 4 is a front view of a chip component pre-plating apparatus using a barrel according to an embodiment of the present invention, FIG. 4 is a front view of a silicon penetration part of the pre-plating apparatus for chip component using a barrel according to an embodiment of the present invention, and FIG. Front view of the chip component cleaning unit of the chip component pre-plating apparatus using a barrel according to an embodiment.
도 1 내지 도5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 바렐을 이용한 칩부품 도금전 처리장치는, 회전식 바렐(110)과 이송장치(120)와 실리콘 침투부(130)와 칩부품 세척부(140)와 칩부품 건조부(150)를 포함하여 구성된다.As shown in Figures 1 to 5, the chip component pre-plating apparatus using a barrel according to an embodiment of the present invention, the
도 1에 도시된 바와 같이, 회전식 바렐(110)은 처리되어야할 소형 칩부품을 다수 함유한 채로 이송장치(120)에 의해 각 처리과정을 위한 장치가 구비된 곳으로 이동한다. 즉, 다수의 칩부품이 내장한 상태에서 이송장치(120)에 의해 이송된다.As shown in FIG. 1, the
도 1 내지 도5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 바렐을 이용한 칩부품 도금전 처리장치에 있어서, 이송장치(120)는 프레임(101)의 상부에 구비되고 상기 회전식 바렐(110)을 실리콘 침투부(130)로 이송한다. 이송장치(120)는 서보모터(미도시)에 의해 구동되고 바렐(110)을 Z축 방향으로 승강 시키고 X축 방향으로 이동시킨다.1 to 5, in the chip component pre-plating apparatus using a barrel according to an embodiment of the present invention, the
도 1 내지 도5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 바렐을 이용한 칩부품 도금전 처리장치에 있어서, 실리콘 침투부(130)는, 프레임(101)에 일측에 구비되고, 상기 회전식 바렐(110)을 압력조절조(131) 내부에서 제1 회전수단(135)으로 회전시키면서 압력조절조(131) 내부의 압력을 변동시킴으로써 실리콘을 칩부품에 침투시킨다.As shown in Figures 1 to 5, in the chip component pre-plating apparatus using a barrel according to an embodiment of the present invention, the
도 1 내지 도5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 바렐을 이용한 칩부품 도금전 처리장치에 있어서, 칩부품 세척부(140)는 실리콘 침투부(130)에 인접하여 상기 프레임(101)에 구비되고, 상기 회전식 바렐(110)을 세척조(141) 안에서 제2 회전수단(145)으로 회전시키면서 바렐(110) 내부의 위치한 칩부품의 외면 에 부착된 실리콘을 포함하는 이물질을 세척수로 세척한다.As shown in Figures 1 to 5, in the chip component pre-plating apparatus using a barrel according to an embodiment of the present invention, the chip
도 1 내지 도5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 바렐을 이용한 칩부품 도금전 처리장치에 있어서, 칩부품 건조부(150)는, 칩부품 세척부(140)에 인접하여 상기 프레임(101)에 구비되고, 상기 회전식 바렐(110)을 건조실(151) 안에서 제3 회전수단(155)으로 회전시키면서 고온 공기를 분사시켜 바렐(110) 내부의 칩부품을 건조한다.1 to 5, in the chip component pre-plating apparatus using a barrel according to an embodiment of the present invention, the chip component drying unit 150, adjacent to the chip
도 1 또는 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 바렐을 이용한 칩부품 도금전 처리장치에 있어서, 실리콘 침투부(130)는, 덮개(132)가 구비되고 상기 덮개(132)가 폐쇄된 상태에서 압력조절수단에 의해 내부 압력의 조절이 가능하게 형성된 압력조절조(131)와, 상기 압력조절조(131) 내부에 위치한 회전식 바렐(110)을 회전시키는 제1 회전수단(135)과, 압력조절조(131) 내부로 연결관(133)을 통해 투입, 배출되는 실리콘액을 보관하는 실리콘 공급탱크(134)로 구성되는 것이 바람직하다.As shown in FIG. 1 or 4, in the chip component pre-plating apparatus using the barrel according to the embodiment of the present invention, the
도 1 또는 도 4에 도시된 바와 같이, 실리콘 침투부(130)는 상기 덮개(132)를 강하게 폐쇄하기 위한 클램프(137)와 상기 클램프(137)를 동작시키는 실린더(136)를 더 포함하여 구성되고, 상기 실린더(136)는 프레임(101)에 지지되고, 실린더(136)에 의해 왕복 운동하는 피스톤 로드의 단부는 상기 클램프(137)에 핀 연 결된다.As shown in FIG. 1 or 4, the
실리콘 침투부(130)의 작용에 대하여 설명한다. 실리콘 침투부(130)에 있어서, 칩부품을 포함하는 바렐(110)이 이동수단(120)에 의해 상기 압력조절조(131) 내부에 위치되면, 압력조절조(131)가 폐쇄되고 압력조절조(131) 내부의 압력은 진공 상태로 강하되고, 제1 회전수단(135)은 상기 바렐(110)을 회전시키고, 연결관(133)의 밸브가 개방되면 음압에 의해 상기 연결관(133)을 통해 실리콘 공급탱크(134)부터 압력조절조(131) 내부로 실리콘이 유입되어 실리콘은 칩부품 안으로 침투되고, 실리콘 침투가 완성되면 압력조절조(131) 내부의 압력은 대기압 이상으로 증가되어 실리콘이 다시 상기 실리콘 공급탱크(134)로 환원된다.The operation of the
도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 바렐을 이용한 칩부품 도금전 처리장치에 있어서, 칩부품 세척부(140)는 네개의 세척조(141a, 141b, 141c, 141d)와 네개의 세척수 저장탱크(146a, 146b, 146c, 146d)와 세척조와 세척수 저장탱크를 연결하는 다수의 배관(T)로 구성된다.As shown in FIG. 5, in the chip component pre-plating apparatus using the barrel according to the embodiment of the present invention, the chip
도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 바렐을 이용한 칩부품 도금전 처리장치에 있어서, 신액은 제1 칩부품 세척부(140a)에 사용되고, 제1 칩부품 세척부(140a)에서 사용된 세척수는 제2 칩부품 세척부(140b)로 보내져 재사용되고, 제2 칩부품 세척부(140b)에서 사용된 세척수는 제3 칩부품 세척부(140c)로 보내져 재사용되고, 제3 칩부품 세척부(140c)에서 사용된 세척수는 제4 칩부품 세 척부(140d)로 보내져 재사용되고, 이동수단(120)은 실리콘 침투부(130)으로부터 바렐(110)을 취득하여 제1 칩부품 세척부(140a), 제2 칩부품 세척부(140b), 제3 칩부품 세척부(140c), 및 제4 칩부품 세척부(140d)에 순서대로 이동시킨다.As shown in FIG. 5, in the chip component pre-plating apparatus using the barrel according to the exemplary embodiment of the present invention, the new liquid is used in the first chip
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 바렐을 이용한 칩부품 도금전 처리장치에 있어서, 칩부품 건조부(150)는 건조실(151) 하부에서 고온 건조 공기를 상향으로 분사하는 것이 바람직하다.As shown in FIG. 1, in the chip component pre-plating apparatus using the barrel according to the exemplary embodiment of the present invention, the chip component drying unit 150 sprays the hot drying air upward from the lower portion of the
이하에서 바렐에 대하여 상세히 설명한다. 도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 칩부품 처리용 회전식 바렐 사시도(블레이드 및 사이드 커버 제거상태), 도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 칩부품 처리용 회전식 바렐 사시도(사이드 커버 제거상태), 도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 칩부품 처리용 회전식 바렐 사시도(사이드 커버 제거상태), 도 9는 본 발명의 일실시예에 따른 칩부품 처리용 회전식 바렐 사시도(블레이드 및 사이드 커버 장착 상태), 도 10은 본 발명의 일실시예에 따른 칩부품 처리용 회전식 바렐 정면도, 도 11은 본 발명의 일실시예에 따른 칩부품 처리용 회전식 바렐 평면도, 도 12는 본 발명의 일실시예에 따른 칩부품 처리용 회전식 바렐 측면도이다.Hereinafter, the barrel will be described in detail. 6 is a perspective view of a rotary barrel for chip parts processing (blade and side cover removed state) according to an embodiment of the present invention, Figure 7 is a perspective view of a rotary barrel for chip parts processing (side cover removed state) according to an embodiment of the present invention 8 is a perspective view of a rotary barrel for chip parts processing (side cover removed) according to an embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a perspective view of a rotating barrel for chip parts processing according to an embodiment of the present invention (blade and side cover). Mounted state), FIG. 10 is a front view of a rotary barrel for processing chip components according to an embodiment of the present invention, FIG. 11 is a plan view of a rotary barrel for processing chip components according to an embodiment of the present invention, and FIG. It is a side view of the rotary barrel for chip component processing according to the embodiment.
도 6 내지 도 12에 도시된 바와 같이, 바렐(110)은, 양단에 기어(12)가 구비 되고 지지프레임(80)에 회전 가능하게 지지되고 구동모터(M)의 동력에 의해 회전되는 회전축(10)과, 6 to 12, the
상기 회전축(10)에 결합되어 상기 회전축(10)과 일체로 회전하며 용기의 골격을 이루는 골격부(20)와, 상기 골격부(20)를 연결하여 내외로 통공된 용기를 이루는 메쉬(30)와, 상기 골격부(20)에 인접하여 구성되고 용기 내부로 칩부품을 침투시키고 용기를 통공 가능한 상태로 폐쇄하는 덮개부(40)로 구성되는 통체형 용기부(50)와,The
상기 통체형 용기부(50)의 외주면에 상기 회전축(10)과 평행한 방향으로 형성되는 블레이드(60)와,A
회전되지 않게 상기 지지프레임(80)에 고정되고 그 내경이 블레이드(60)의 외측선(62)이 이루는 회전반경보다 크고 상기 통체형 용기부(50)를 감싸는 형상으로 구성되며 원주 일부가 마주보게 절개된 사이드 커버(70)를 포함하여 구성된다.It is fixed to the
도 6 내지 도 12에 도시된 바와 같이, 지지프레임(80)은 회전축(10)의 양 지점을 회전가능하게 지지하는 두개의 측벽프레임(81)과 상기 측벽프레임(81)을 연결하는 연결구(82)로 구성되고, 상기 측벽프레임(81)의 내측에 차단측판(75)이 각각 고정 구비되고 상기 사이드 커버(70)는 상기 차단측판(75)에 고정된다.As shown in FIGS. 6 to 12, the
도 6 내지 도 12에 도시된 바와 같이, 통체형 용기부(50)는 2개의 룸으로 형성되고, 골격부(20)는 두개의 측면 골격부(21, 22)를 포함하여 구성되고, 측면 골 격부(21, 22) 사이에 격벽용 골격부(23)가 형성되고, 측면 골격부(21, 22)에 측면용 메쉬가 구비되고, 격벽용 골격부(23)에 격벽용 메쉬가 구비되고, 측면 골격부(21, 22)와 격벽용 골격부(23) 사이에 외주면용 메쉬가 구비된다.As shown in Figs. 6 to 12, the
도 6 내지 도 12에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 칩부품 처리용 회전식 바렐은 지지프레임(80)과 회전축(10)과 통체형 용기부(50)와 블레이드(60)와 사이드 커버(70)로 구성된다. As shown in Figure 6 to 12, the rotary barrel for chip component processing according to an embodiment of the present invention is the
도 6 내지 도 10에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 칩부품 처리용 회전식 바렐에 있어서, 회전축(10)은 양단 또는 일단에 기어(12)가 구비되고 지지프레임(80)에 회전 가능하게 지지되고 구동모터(M)의 동력에 의해 회전된다. 공지된 바와 같이, 회전축(10)의 단부에는 기어(12)가 구비되고 칩부품 처리시 구동모터(M)로부터 기어(12)를 통해 동력을 전달받아 회전하게 된다. 회전축(10)의 양단은 베어링을 통해 지지프레임(80)에 지지된다. 도시된 바와 달리 일단에만 기어(12)가 구비될 수 있다.As shown in Figure 6 to 10, in the rotary barrel for processing chip parts according to an embodiment of the present invention, the
도 6 내지 도 10에 도시된 바와 같이, 통체형 용기부(50)는 회전축(10)에 결합되어 회전축(10)과 일체로 회전하며 용기의 골격을 이루는 골격부(20)와, 골격부(20)를 연결하여 내외로 통공된 용기를 이루는 메쉬(30)와, 골격부(20)에 인접하 여 구성되고 용기 내부로 칩부품을 침투시키고 용기를 통공 가능한 상태로 폐쇄하는 덮개부(40)로 구성된다. 골격부(20)는 측벽프레임(81)보다 내측에 위치하며 측면 개방부를 갖는 두개의 측면 골격부(21, 22)를 포함하여 구성된다. 바람직하게 측면 골격부(21, 22) 사이에 격벽용 골격부(23)가 형성된다. 도시된 바와 같이, 통체형 용기부(50)는 육각 통체 형상이 바람직하나, 반드시 여기에 한정되는 것은 아니며 횡단면 형상은 다각형 또는 원통체일 수 있다.6 to 10, the
도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 칩부품 처리용 회전식 바렐에 있어서, 블레이드(60)는 통체형 용기부(50)의 외주면에 회전축(10)과 평행한 방향으로 형성된다. 블레이드(60)는 통체형 용기부(50)와 일체로 회전한다. 블레이드(60)는 육각 통체형 용기부(50)의 외주면 중 덮개(40)가 형성되지 않은 면에 각각 한개씩 모두 네개 형성되는 것이 바람직하지만, 그 수가 네개에 한정되지 않음은 당연하다.As shown in Figure 7 and 8, in the rotary barrel for chip component processing according to an embodiment of the present invention, the
도 9에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 칩부품 처리용 회전식 바렐에 있어서, 사이드 커버(70)는 회전되지 지지프레임(80)에 고정되고 그 내경이 블레이드(60)의 외측선(62)이 이루는 회전반경보다 크고 상기 통체형 용기부(50)를 감싸는 형상으로 구성되며 원주 일부가 마주보게 절개된 형상이다. 도 4에는 사이드 커버(70)의 상부만이 개통 되어 있는 것으로 보이지만, 실제에 있어 대칭되게 그 하부도 개통되어 있다. As shown in Figure 9, in the rotary barrel for chip component processing according to an embodiment of the present invention, the
도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 칩부품 처리용 회전식 바렐에 있어서, 지지프레임(80)은 회전축(10)의 양 지점을 회전가능하게 지지하는 두개의 측벽프레임(81)과 측벽프레임(81)을 연결하는 연결구(82)로 구성된다. 본 발명에 있어서 연결구(82)의 형상이 봉형상에 한정되지 않음은 당연하다.As shown in FIG. 6, in the rotary barrel for processing chip components according to the exemplary embodiment of the present invention, the
도 6에 도시된 바와 같이, 측벽프레임(81)은 내측 폐곡선형 테두리(81a), 외측 폐곡선형 테두리(81b), 및 상기 내측 폐곡선형 테두리(81a)와 상기 외측 폐곡선형 테두리(81b)를 연결하는 방사형 보강대(81c)로 구성될 수 있다. 내측 폐곡선형 테두리(81a)는 사각형이며, 그 사각 지점에 봉형상의 연결구(82)가 각각 한개씩 네개 구비될 수 있다.As shown in FIG. 6, the
도 7 내지 도 9에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 칩부품 처리용 회전식 바렐에 있어서, 측벽프레임(81)의 내측에 차단측판(75)이 각각 고정 구비되고 사이드 커버(70)는 차단측판(75)에 고정되는 것이 바람직하다. 차단측판(75)은 측벽프레임(81)에 고정되므로 회전축(10)이 회전하여도 자신은 회전하지 않는다. 사이드 커버(70)는 차단측판(75)이 별도로 존재하지 않는 경우 지지프레임(80)의 일지점이 고정될 수 있으며 이 경우에도 본 발명의 권리범위에 속함은 자명하다.As shown in Figure 7 to 9, in the rotary barrel for chip component processing according to an embodiment of the present invention, the blocking
도 6에 도시된 바와 같이, 측벽프레임(81)은 개방부(81d)를 포함하여 구성되 고, 골격부(20)는, 상기 측벽프레임(81)보다 내측에 위치하며 측면 개방부를 갖는 두개의 측면 골격부(21, 22)를 포함하여 구성되고, 측면 골격부(21, 22)의 측면 개방부에는 측면용 메쉬가 구비되어, 통체형 용기부(50) 외부의 유체가 상기 측면용 메쉬를 통하여 상기 통체형 용기부(50) 내부로 자유로이 유입될 수 있게 구성되는 것이 바람직하다.As shown in FIG. 6, the
도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 칩부품 처리용 회전식 바렐에 있어서, 통체형 용기부(50)는 2개의 룸으로 형성되고, 골격부(20)는 두개의 측면 골격부(21, 22)를 포함하여 구성되고, 측면 골격부(21, 22) 사이에 격벽용 골격부(23)가 형성되고, 측면 골격부(21, 22)에 측면용 메쉬가 구비되고, 격벽용 골격부(23)에 격벽용 메쉬가 구비되고, 측면 골격부(21, 22)와 격벽용 골격부(23) 사이에 외주면용 메쉬가 구비되는 것이 바람직하다.As shown in FIG. 6, in the rotary barrel for chip component processing according to an embodiment of the present invention, the
도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 칩부품 처리용 회전식 바렐에 있어서, 덮개부(40)는 육각 통체형 용기부(50)의 대칭되는 면에 각각 두개씩 형성되어 모두 네개 형성되는 것이 바람직하다. 사이드 커버(70)는 원주 일부가 마주보게 절개된 원통형 사이드 커버(70)인 것이 바람직하지만, 반드시 사이드 커버(70)의 형상이 절개된 원통체에 한정되지 않음은 당연하다.As shown in Figure 6, in the rotary barrel for chip component processing according to an embodiment of the present invention, the
본 발명의 일실시예에 따른 칩부품 처리용 회전식 바렐의 작용에 대해 설명 하다. 예를들어, 도금전처리 단게에서 수행되는 실리콘 침투 후 세척 공정에서 상기 바렐은 세척수에 침지된 상태에서 세척조 안에서 10 ~ 20 RPM으로 회전하게 되는데, 이때 블레이드(60)가 세척수에 와류를 일으켜서 바렐 안으로 세척수의 진입 및 칩부품 외주면 상에서 흐르는 세척수의 유효 속도를 증가시켜 세척 효율을 증가시키는 유리한 작용을 하게 된다. 이러한 유리한 작용은 MLCC 등 칩부품이 극소형(0.5 ~ 1mm)으로 갈수록 커지며 이러한 작용은 도금조에서 침지된 상태에서 수행되는 도금 처리 단계에서도 그대로 발생하여 도금 효율을 증가시킬 수 있다.The operation of the rotary barrel for chip component processing according to an embodiment of the present invention will be described. For example, in the post-silicon washing process performed in the pre-plating step, the barrel is rotated at 10 to 20 RPM in the washing tank while being immersed in the washing water, wherein the
도금이나 세척 후에 시행되는 건조 공정에서, 예를들어 바렐의 하부에서 공온건조 공기가 상향으로 분사되는데 이 고온공기는 사이드 커버(70)의 하부에 형성된 절개부를 통해 사이드 커버(70)의 내부로 상향 진입하고 사이드 커버(70)의 상부에 형성된 절개부를 통해 배출된다. 이때 사이드 커버(70)는 고온 공기를 통체형 용기부(50)쪽으로 집중시키는 작용을 하게 된다.In a drying process performed after plating or washing, for example, air drying air is sprayed upward from the lower part of the barrel, and the hot air is raised upward into the
이러한 건조 공정에서 바렐은 건조실안에서 5 RPM 정도의 저속으로 회전하므고, 블레이드(60)는 회전에 의해 와류를 발생시키기 보다 정지 특성이 강하여 분사되는 건조공기의 유속에 비해 블레이드(60)의 회전에 의해 발생하는 와류의 유속은 무시할 만한 수준이 되며, 이때 블레이드(60)는 사이드 커버(70)의 내부로 상향 진입한 건조공기를 일정 순간 차단하여 통체형 용기부(50) 내부로 유도하는 작용을 수행하게 된다. 이로서 건조 효율이 증가되며 이러한 유리한 작용은 소형 칩부품에 서 더욱 유리하게 작용한다.In this drying process, the barrel is rotated at a low speed of about 5 RPM in the drying chamber, and the
본 발명은 상기에서 언급한 바람직한 실시예와 관련하여 설명됐지만, 본 발명의 범위가 이러한 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 범위는 이하의 특허청구범위에 의하여 정하여지는 것으로 본 발명과 균등 범위에 속하는 다양한 수정 및 변형을 포함할 것이다.Although the present invention has been described in connection with the above-mentioned preferred embodiments, the scope of the present invention is not limited to these embodiments, and the scope of the present invention is defined by the following claims, and equivalent scope of the present invention. It will include various modifications and variations belonging to.
아래의 특허청구범위에 기재된 도면부호는 단순히 발명의 이해를 보조하기 위한 것으로 권리범위의 해석에 영향을 미치지 아니함을 밝히며 기재된 도면부호에 의해 권리범위가 좁게 해석되어서는 안될 것이다.The reference numerals set forth in the claims below are merely to aid the understanding of the present invention, not to affect the interpretation of the scope of the claims, and the scope of the claims should not be construed narrowly.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 바렐을 이용한 칩부품 도금전 처리장치 정면도.1 is a front view of a chip component pre-plating apparatus using a barrel according to an embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 바렐을 이용한 칩부품 도금전 처리장치 평면도.Figure 2 is a plan view of a chip component pre-plating apparatus using a barrel in accordance with an embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 바렐을 이용한 칩부품 도금전 처리장치 측면도.Figure 3 is a side view of the chip component pre-plating apparatus using a barrel according to an embodiment of the present invention.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 바렐을 이용한 칩부품 도금전 처리장치 중 실리콘 침투부 정면도.Figure 4 is a front view of the silicon penetrating portion of the chip component pre-plating apparatus using a barrel in accordance with an embodiment of the present invention.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 바렐을 이용한 칩부품 도금전 처리장치 중 칩부품 세척부 정면도.5 is a front view of a chip component cleaning unit of the chip component pre-plating apparatus using a barrel according to an embodiment of the present invention.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 칩부품 처리용 회전식 바렐 사시도(블레이드 및 사이드 커버 제거상태).Figure 6 is a perspective view of a rotary barrel (chip and side cover removed) for processing chip parts according to an embodiment of the present invention.
도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 칩부품 처리용 회전식 바렐 사시도(사이드 커버 제거상태).7 is a perspective view of a rotary barrel (side cover removed) for processing chip parts according to an embodiment of the present invention.
도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 칩부품 처리용 회전식 바렐 사시도(사이드 커버 제거상태).8 is a perspective view of a rotary barrel (side cover removed) for processing chip parts according to an embodiment of the present invention.
도 9는 본 발명의 일실시예에 따른 칩부품 처리용 회전식 바렐 사시도(블레이드 및 사이드 커버 장착 상태).Figure 9 is a perspective view of a rotating barrel for chip parts processing (blade and side cover mounting state) according to an embodiment of the present invention.
도 10은 본 발명의 일실시예에 따른 칩부품 처리용 회전식 바렐 정면도.10 is a front view of a rotary barrel for processing chip parts according to an embodiment of the present invention.
도 11은 본 발명의 일실시예에 따른 칩부품 처리용 회전식 바렐 평면도.11 is a plan view of a rotary barrel for chip component processing according to an embodiment of the present invention.
도 12는 본 발명의 일실시예에 따른 칩부품 처리용 회전식 바렐 측면도.12 is a side view of a rotary barrel for chip component processing according to an embodiment of the present invention.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
101 : 프레임 110 : 회전식 바렐101: frame 110: rotary barrel
120 : 이송장치 130 : 실리콘 침투부120: transfer device 130: silicon penetration
131 : 압력조절조 132 : 덮개131: pressure control tank 132: cover
133 : 연결관 134 : 실리콘 공급탱크133: connector 134: silicon supply tank
135 : 제1 회전수단 136 : 실린더135: first rotating means 136: cylinder
137 : 클램프137: clamp
140, 140a, 140b, 140c, 140d : 칩부품 세척부 140, 140a, 140b, 140c, 140d: chip parts cleaning part
141, 141a, 141b, 141c, 141d : 세척조141, 141a, 141b, 141c, 141d: washing tank
145 : 제2 회전수단 146, 146a, 146b, 146c, 146d : 세척수 저장탱크145: second
150 : 칩부품 건조부 151 : 건조실150: chip component drying unit 151: drying chamber
155 : 제3 회전수단155: third rotating means
10 : 회전축 12 : 기어10: shaft 12: gear
20 : 골격부 21, 22 : 측면 골격20:
23 : 격벽용 골격부 30 : 메쉬23: bulkhead skeleton portion 30: mesh
40 : 덮개부 50 : 통체형 용기부40: cover 50: cylinder type container
60 : 블레이드 62 : 블레이드 외측선60: blade 62: blade outer line
70 : 사이드 커버 75 : 차단측판70
80 : 지지프레임 81 : 측벽프레임80: support frame 81: side wall frame
81a : 내측 폐곡선형 테두리 81b : 외측 폐곡선형 테두리81a: Inner
81c : 방사형 보강대 81d : 측벽프레임 개방부81c:
82 : 연결구82: connector
Claims (10)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020090004152A KR100901581B1 (en) | 2009-01-19 | 2009-01-19 | Chip part processing device before plating process using barrel |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020090004152A KR100901581B1 (en) | 2009-01-19 | 2009-01-19 | Chip part processing device before plating process using barrel |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR100901581B1 true KR100901581B1 (en) | 2009-06-08 |
Family
ID=40982437
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020090004152A KR100901581B1 (en) | 2009-01-19 | 2009-01-19 | Chip part processing device before plating process using barrel |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100901581B1 (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101395827B1 (en) * | 2012-08-21 | 2014-05-15 | (주)클레슨 | Drum rotary type machine part washing device |
CN105047441A (en) * | 2015-09-08 | 2015-11-11 | 成都蒲江珂贤科技有限公司 | Capacitor dewatering device |
KR101642419B1 (en) | 2016-03-21 | 2016-07-25 | (주)월드시스템 | parts surface treatment apparatus |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003041399A (en) * | 2001-03-19 | 2003-02-13 | Tdk Corp | Continuous transport barrel plating equipment |
KR20050043447A (en) * | 2003-11-06 | 2005-05-11 | 삼성전기주식회사 | Detachable rotary barrels |
KR100572896B1 (en) * | 2003-11-21 | 2006-04-24 | 칼릭스전자화학(주) | Apparatus for electro deflash using barrels in semiconductor package device and thereof method |
-
2009
- 2009-01-19 KR KR1020090004152A patent/KR100901581B1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003041399A (en) * | 2001-03-19 | 2003-02-13 | Tdk Corp | Continuous transport barrel plating equipment |
KR20050043447A (en) * | 2003-11-06 | 2005-05-11 | 삼성전기주식회사 | Detachable rotary barrels |
KR100572896B1 (en) * | 2003-11-21 | 2006-04-24 | 칼릭스전자화학(주) | Apparatus for electro deflash using barrels in semiconductor package device and thereof method |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101395827B1 (en) * | 2012-08-21 | 2014-05-15 | (주)클레슨 | Drum rotary type machine part washing device |
CN105047441A (en) * | 2015-09-08 | 2015-11-11 | 成都蒲江珂贤科技有限公司 | Capacitor dewatering device |
KR101642419B1 (en) | 2016-03-21 | 2016-07-25 | (주)월드시스템 | parts surface treatment apparatus |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100901581B1 (en) | Chip part processing device before plating process using barrel | |
CN206896927U (en) | A kind of chemical filtration device of adjustable filter opening size | |
CN203923430U (en) | The centrifugal electroplating machine of a kind of miniature electronic part | |
KR100901582B1 (en) | Rotation type barrel for chip part processing device | |
KR102167525B1 (en) | Filter Cleaning Apparatus for Semiconductor Processing | |
CN113492132A (en) | Mechanical electronic component cleaning device with dustproof protection | |
CN117299680A (en) | Ultrasonic cleaning device for aluminum alloy parts | |
CN210908095U (en) | Silver powder processing apparatus | |
CN218104807U (en) | Hot pepper washs driping device | |
CN208952635U (en) | It is a kind of to prepare n, the washing dry integrated machine of n- biphenyl diamine | |
CN216369274U (en) | Ultrasonic cleaning device | |
CN215841658U (en) | Spray drying tower of ferric p-toluenesulfonate | |
CN111584255A (en) | Capacitor manufacturing process | |
CN102228879A (en) | Immersion plating equipment | |
CN211744912U (en) | PCB board processing is with heavy copper wire deoiling device | |
CN209890256U (en) | Device for preparing activated carbon from petroleum coke | |
CN113758181A (en) | Rotary drying machine for chemical production | |
CN217973672U (en) | Device used in process of dipping calcium and zinc stabilizer-containing slurry on fabric | |
KR101442352B1 (en) | Barrel gilding device | |
KR20220130663A (en) | Plating apparatus and method for cleaning contact members of plating apparatus | |
CN220756463U (en) | Cleaning machine for Chinese torreya processing | |
JPH0596254A (en) | Ultrasonic washing apparatus and washing tank used therein | |
CN211268407U (en) | Belt cleaning device is used in conch processing | |
CN219577417U (en) | Energy-saving cleaning equipment for processing PCB | |
CN108378185A (en) | A kind of candied lotus seeds making apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
A302 | Request for accelerated examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120516 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |