KR101286824B1 - Gate valae for manufacturing semiconductor and lcd device - Google Patents

Gate valae for manufacturing semiconductor and lcd device Download PDF

Info

Publication number
KR101286824B1
KR101286824B1 KR1020120068725A KR20120068725A KR101286824B1 KR 101286824 B1 KR101286824 B1 KR 101286824B1 KR 1020120068725 A KR1020120068725 A KR 1020120068725A KR 20120068725 A KR20120068725 A KR 20120068725A KR 101286824 B1 KR101286824 B1 KR 101286824B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
magnet
shaft
actuator
gate
gate plate
Prior art date
Application number
KR1020120068725A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
이천용
Original Assignee
이천용
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 이천용 filed Critical 이천용
Priority to KR1020120068725A priority Critical patent/KR101286824B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101286824B1 publication Critical patent/KR101286824B1/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67126—Apparatus for sealing, encapsulating, glassing, decapsulating or the like
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K3/00—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing
    • F16K3/02—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor
    • F16K3/16—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor with special arrangements for separating the sealing faces or for pressing them together
    • F16K3/18—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor with special arrangements for separating the sealing faces or for pressing them together by movement of the closure members
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K51/00—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus
    • F16K51/02—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus specially adapted for high-vacuum installations

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Sliding Valves (AREA)
  • Details Of Valves (AREA)

Abstract

PURPOSE: A gate valve of a manufacturing facility for semiconductors and LCDs is provided to adopt a driving method which combines an inner magnet at a shaft side and an outer magnet at an actuator side, thereby securing the air tightness of an operating part. CONSTITUTION: A gate plate (11) opens and closes a wafer passage. A shaft (13) is extended from the bottom of the gate plate. An actuator (12) moves the gate plate and shaft up and down. An inner magnet (17) conveys actuator power to the shaft. An outer magnet (18) moves the whole shaft including the gate plate up and down. [Reference numerals] (AA) Vacuum

Description

반도체 및 엘시디 제조설비의 게이트 밸브{Gate valae for manufacturing semiconductor and LCD device}Gate valve for semiconductor and LCD manufacturing facilities

본 발명은 반도체 및 엘시디 제조설비의 게이트 밸브에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 반도체 및 엘시디 제조설비에서 웨이퍼 및 글래스가 챔버 내부로 이동할 때나 챔버와 챔버 사이를 이동할 때 챔버를 개폐하는 게이트 밸브에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to gate valves for semiconductor and LCD manufacturing facilities, and more particularly, to gate valves for opening and closing chambers when wafers and glasses move into or between chambers in semiconductor and LCD manufacturing facilities. .

일반적으로 반도체 및 엘시디 제조공정은 크게 전처리 공정과 후처리 공정으로 이루어진다. In general, semiconductor and LCD manufacturing processes are largely composed of a pretreatment process and a post-treatment process.

상기 전처리 공정은 각종 프로세스 챔버(Chamber) 내에서 박막을 증착하고, 증착된 박막을 선택적으로 식각하는 과정을 반복적으로 수행하여 특정의 패턴을 가공한 후, 반도체 칩 및 기판을 제조하는 공정이고, 후처리 공정은 전처리 공정에서 제조된 칩 및 기판을 개별적으로 분리한 후, 리그프레임과 결합하여 완제품을 조립하는 공정을 말한다. The pretreatment process is a process of manufacturing a semiconductor chip and a substrate after processing a specific pattern by repeatedly depositing a thin film in various process chambers and selectively etching the deposited thin film. The treatment process refers to a process of separately separating chips and substrates manufactured in a pretreatment process and then assembling the finished product by combining with the rig frame.

보통 반도체 및 엘시디 소자는 고정밀도를 가지므로 높은 청정도와 특수한 제조기술이 요구되고 있으며, 이러한 이유로 반도체 및 엘시디 소자는 공기 중에 포함된 이물질의 접촉을 가장 완벽하게 차단할 수 있도록 압력변화가 없는 진공상태에서 제조된다.Since semiconductors and LCDs have high precision, high cleanliness and special manufacturing techniques are required. For this reason, semiconductors and LCDs have a high pressure in a vacuum without pressure change so as to completely block the contact of foreign substances in the air. Are manufactured.

따라서, 반도체 및 엘시디 제조설비의 진공 작업구역과 대기와의 밀폐 기술도 반도체 제품의 품질에 많은 영향을 주게 된다.Therefore, the vacuum working area of the semiconductor and LCD manufacturing facilities and the airtight technology also have a great influence on the quality of semiconductor products.

예를 들면, 반도체 소자의 제조공정에서는 제조공정의 특성에 따라 특정 압력이 유지되거나 외부와 밀폐되는 공간이 제조에 필요하다. For example, in the manufacturing process of a semiconductor device, a space for maintaining a specific pressure or sealing the outside is required for manufacturing, depending on the characteristics of the manufacturing process.

이러한 공간은 챔버라는 공간으로 특정되며, 외부와 밀폐되어 특정 압력 및 특정 공정가스에 의해 공간의 물리화학적 특성이 정의된다.This space is defined as a space called a chamber, and is sealed to the outside to define the physicochemical characteristics of the space by a specific pressure and a specific process gas.

그러나, 이러한 공정단계에서 웨이퍼나 글래스는 서로 다른 공정단계 사이를 이동하여야 하기 때문에 서로 다른 공정에서 사용되는 공간 사이의 개폐 및 밀폐여부는 매우 중요하다. However, in this process step, since the wafer or glass must move between different process steps, opening and closing between the spaces used in different processes is very important.

또한, 공정 공간이외의 외부공간과 공정공간 사이의 개폐 및 밀폐여부도 매우 중요하다. 일반적으로 이러한 개폐 및 밀폐여부를 담당하는 수단으로서 게이트 밸브가 널리 사용된다.In addition, opening and closing between the external space and the process space other than the process space is also very important. In general, the gate valve is widely used as a means for opening and closing such a seal.

도 1은 종래 게이트 밸브의 용도를 나타내는 개략도로서, 상기 게이트 밸브(10)는 진공 챔버(100)의 입구에 설치되거나, 진공 챔버(100) 사이의 통로에 설치되어, 웨이퍼(110)나 글래스(120)의 이동시 챔버를 개폐하는 기능을 하게 된다. 1 is a schematic view showing the use of a conventional gate valve, the gate valve 10 is provided at the inlet of the vacuum chamber 100, or in the passage between the vacuum chamber 100, the wafer 110 or glass ( When the 120 is moved to function to open and close the chamber.

예를 들면, 반도체 및 엘시디 제조설비에 있어서 웨이퍼 및 글래스가 진공 챔버 내부로 이동할 때, 대기압과 진공 챔버와의 개폐기능을 하고, 또 웨이퍼 및 글래스가 챔버와 챔버 사이를 이동할 때, 챔버와 챔버 간의 개폐기능(격리기능)을 한다. For example, in semiconductor and LCD manufacturing facilities, when the wafer and glass move into the vacuum chamber, the atmospheric pressure and the vacuum chamber are opened and closed, and when the wafer and glass move between the chamber and the chamber, between the chamber and the chamber, Open and close function (isolating function).

도 2는 종래 게이트 밸브의 동작을 나타내는 단면도로서, 진공 챔버(100) 사이에 설치되는 게이트 밸브(10)는 챔버의 양쪽 공간을 격리하는 게이트 플레이트(11), 상기 게이트 플레이트(11)의 작동을 위한 실린더나 모터 등의 액추에이터(12), 상기 액추에이터(12)측과 게이트 플레이트(11)측을 연결하는 샤프트(13) 등을 포함한다. 2 is a cross-sectional view showing the operation of the conventional gate valve, the gate valve 10 installed between the vacuum chamber 100 is a gate plate 11 to isolate both spaces of the chamber, the operation of the gate plate 11 An actuator 12, such as a cylinder or a motor for the purpose, a shaft 13 connecting the actuator 12 side and the gate plate 11 side, and the like.

그리고, 상기 게이트 밸브(10)의 샤프트(13)에는 그 둘레에 금속 벨로우즈(14)가 설치되고, 액추에이터(12)가 속해 있는 대기측과 챔버측 사이의 샤프트 관통부위에는 O-링(15)이 설치되어, 진공 상태와 대기압 상태가 격리될 수 있게 된다. In addition, a metal bellows 14 is installed around the shaft 13 of the gate valve 10, and an O-ring 15 is provided at the shaft through portion between the atmosphere side and the chamber side to which the actuator 12 belongs. This is provided so that the vacuum state and the atmospheric pressure state can be isolated.

따라서, 게이트 밸브(10)의 액추에이터(12)에 의하여 샤프트(13)가 내려오게 되고, 그로 인해 샤프트(13)에 장착되어 있는 게이트 플레이트(11)가 함께 내려오게 된다. Accordingly, the shaft 13 is lowered by the actuator 12 of the gate valve 10, thereby causing the gate plate 11 mounted on the shaft 13 to be lowered together.

이렇게 되면 양쪽의 진공 챔버(100) 사이가 개방되고, 웨이퍼 및 글래스가 챔버 사이를 지나갈 수 있게 된다. This opens between both vacuum chambers 100 and allows wafers and glasses to pass between the chambers.

그리고, 게이트 밸브측과 진공 챔버측의 진공도 격리는 금속 벨로우즈와 O-링에 의해 이루어질 수 있게 된다. In addition, the degree of vacuum isolation between the gate valve side and the vacuum chamber side can be achieved by a metal bellows and an O-ring.

예를 들면, 게이트 밸브 열림시(Up) 금속 벨로우즈가 늘어나게 되고, 게이트 밸브 닫힘시(Down) 금속 벨로우즈가 오므라들게 되면서 진공 챔버측과 대기압측을 격리시켜주게 된다. For example, the metal bellows up when the gate valve is opened, and the metal bellows down when the gate valve is closed, to isolate the vacuum chamber side and the atmospheric pressure side.

또한, 게이트 밸브 열림 및 닫힘 동작시 샤프트 관통 부위에 장착되어 있는 O-링에 의해서 진공 챔버측과 대기압측이 격리될 수 있게 된다. In addition, the vacuum chamber side and the atmospheric pressure side can be isolated by the O-ring mounted to the shaft through portion during the gate valve opening and closing operation.

그러나, 종래의 게이트 밸브는 진공도 측면에서 다음과 같은 문제가 있다. However, the conventional gate valve has the following problems in terms of vacuum degree.

첫째, 게이트 밸브의 열림 및 닫힘 동작에 따른 금속 벨로우즈의 수축,팽창 운동이 이루어지고, 반복적인 수축,팽창 운동은 금속 벨로우즈의 접합에 손상을 일으키게 된다. First, the contraction and expansion of the metal bellows is performed according to the opening and closing operations of the gate valve, and the repeated contraction and expansion movement causes damage to the metal bellows.

이러한 금속 벨로우즈의 손상은 곧바로 진공도의 누수로 이어지게 된다. Damage to these metal bellows leads directly to vacuum leakage.

둘째, 게이트 밸브의 열림 및 닫힘 동작에 따른 샤프트의 업/다운 운동이 이루어지고, 반복적인 샤프트의 동작에 따라 O-링의 손상을 일으키게 된다. Second, the up / down movement of the shaft is performed according to the opening and closing operations of the gate valve, and the O-ring is damaged due to the repeated operation of the shaft.

이러한 O-링의 손상 또한 곧바로 진공도의 누수로 이어지게 된다.
This O-ring damage also leads directly to vacuum leakage.

따라서, 본 발명은 이와 같은 점을 감안하여 안출한 것으로서, 한 쌍의 마그네트 조합을 이용한 구동수단으로 게이트 밸브의 샤프트 및 게이트 플레이트를 업/다운시키는 새로운 형태의 게이트 개폐방식을 구현함으로써, 챔버 내부의 진공측과 액추에이터가 속해 있는 대기압측을 완전 격리시킨 상태에서 개폐작동이 이루어질 수 있도록 할 수 있으며, 이에 따라 금속 벨로우즈나 O-링의 사용없이도 구동 메카니즘을 구성할 수 있는 등 진공도 누수 현상 발생을 근본적으로 방지할 수 있는 반도체 및 엘시디 제조설비의 게이트 밸브를 제공하는데 그 목적이 있다.
Accordingly, the present invention has been made in view of the above, by implementing a new gate opening and closing method of up and down the shaft and gate plate of the gate valve by a drive means using a pair of magnet combination, It is possible to open and close operation in a state that completely isolates the vacuum side and the atmospheric pressure side to which the actuator belongs, and thus, it is possible to configure the driving mechanism without the use of metal bellows or O-rings. It is an object of the present invention to provide a gate valve of the semiconductor and LCD manufacturing equipment that can be prevented by.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에서 제공하는 반도체 및 엘시디 제조설비의 게이트 밸브는 다음과 같은 특징이 있다. In order to achieve the above object, the gate valve of the semiconductor and LCD manufacturing equipment provided in the present invention has the following characteristics.

상기 게이트 밸브는 챔버측과 통하는 밸브 하우징의 내부에 설치되는 것으로서 웨이퍼나 글래스가 이동하는 통로를 개폐하는 게이트 플레이트 및 상기 게이트 플레이트의 하단에서 아래로 연장되는 샤프트와, 상기 밸브 하우징의 외부에 설치되어 게이트 플레이트 및 샤프트를 업다운시켜주는 액추에이터와, 상기 액추에이터의 동력을 샤프트에 전달해주는 수단으로서 샤프트의 외주면에 설치되는 이너 마그네트와, 상기 밸브 하우징을 사이에 두고 이너 마그네트의 둘레에 배치되는 동시에 액추에이터측과 연동되어 위아래로 움직이면서 게이트 플레이트를 포함하는 샤프트 전체를 업다운시켜주는 아웃터 마그네트의 조합형으로 이루어진 마그네트 구동체를 포함하는 구조로 이루어진다. The gate valve is installed inside the valve housing communicating with the chamber side, a gate plate for opening and closing a passage through which a wafer or glass moves, a shaft extending downward from the lower end of the gate plate, and installed outside the valve housing. An actuator for up and down of the gate plate and shaft, an inner magnet installed on the outer circumferential surface of the shaft as a means for transmitting the power of the actuator to the shaft, and an actuator magnet disposed around the inner magnet with the valve housing interposed therebetween It is composed of a structure including a magnet driver made of a combination of the outer magnet to move up and down and the entire shaft including the gate plate to move up and down.

따라서, 상기 게이트 밸브는 이너 마그네트와 아웃터 마그네트의 조합으로 이루어진 마그네트 구동체를 이용한 밸브 개폐작동 메카니즘을 구현함으로써, 챔버 내부의 진공측과 액추에이터가 속해 있는 대기압측을 완전 격리시킨 상태에서 개폐작동이 이루어질 수 있도록 할 수 있는 특징이 있다. Therefore, the gate valve implements a valve opening / closing operation mechanism using a magnet driving body composed of a combination of an inner magnet and an outer magnet, so that the opening and closing operation is performed in a state in which the vacuum side inside the chamber and the atmospheric pressure side to which the actuator belongs are completely isolated. There are features that can be enabled.

여기서, 상기 마그네트 구동체의 이너 마그네트 및 아웃터 마그네트는 여러 개의 단위 마그네트를 일정높이 적층 조합한 어셈블리 형태로 구성할 수 있으며, 이때의 이너 마그네트와 아웃터 마그네트는 내측과 외측에서 서로 동심원상으로 배치되면서 아웃터 마그네트가 이너 마그네트의 외주 둘레를 완전히 감싸는 형태로 배치되도록 하는 것이 바람직하다. Here, the inner magnet and the outer magnet of the magnet driving body may be configured in an assembly form in which a plurality of unit magnets are stacked in a predetermined height, and the inner magnet and the outer magnet are arranged in concentric circles with each other on the inner and outer sides. Preferably, the magnets are arranged in such a manner as to completely surround the outer circumference of the inner magnet.

그리고, 상기 마그네트 구동체의 아웃터 마그네트를 구성하는 다수의 단위 마그네트는 액추에이터의 출력측과 연결되는 어댑터 블럭의 내부에 적층되는 동시에 블럭 상단과 하단에 체결되는 플레이트에 의해 마감되는 구조로 장착되도록 하는 것이 바람직하다.
In addition, the plurality of unit magnets constituting the outer magnet of the magnet driver may be stacked in the adapter block connected to the output side of the actuator and mounted in a structure closed by plates fastened to the upper and lower ends of the block. Do.

본 발명의 게이트 밸브는 샤프트측 이너 마그네트와 액추에이터측 아웃터 마그네트의 조합으로 이루어진 구동방식을 채택함으로써, 진공측과 대기압측을 완전 격리시킨 상태에서 개폐작동이 이루어질 수 있는 환경을 조성할 수 있고, 따라서 금속 벨로우즈나 O-링을 사용하지 않고도 동작부위에 대한 기밀성능을 확보할 수 있는 등 진공도 누수 현상 발생을 근본적으로 방지할 수 있는 효과가 있다.
The gate valve of the present invention adopts a driving method consisting of a combination of a shaft side inner magnet and an actuator side outer magnet, thereby creating an environment in which the opening and closing operation can be performed while the vacuum side and the atmospheric pressure side are completely isolated. It is possible to fundamentally prevent the leakage of vacuum even by using the metal bellows or O-rings to ensure the airtight performance of the moving parts.

도 1은 종래 게이트 밸브의 용도를 나타내는 개략도
도 2는 종래 게이트 밸브의 동작을 나타내는 단면도
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 게이트 밸브를 나타내는 단면도
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 게이트 밸브의 이너 마그네트를 나타내는 사시도
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 게이트 밸브의 아웃터 마그네트를 나타내는 사시도
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 게이트 밸브의 작동상태를 나타내는 단면도1 is a schematic diagram showing the use of the conventional gate valve
Figure 2 is a cross-sectional view showing the operation of the conventional gate valve
3 is a cross-sectional view showing a gate valve according to an embodiment of the present invention.
4 is a perspective view illustrating an inner magnet of a gate valve according to an exemplary embodiment of the present invention.
5 is a perspective view illustrating an outer magnet of a gate valve according to an exemplary embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view showing an operating state of a gate valve according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 게이트 밸브를 나타내는 단면도이다. 3 is a cross-sectional view illustrating a gate valve according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3에 도시한 바와 같이, 상기 게이트 밸브(10)는 웨이퍼나 글래스의 이동통로를 개폐하는 게이트 플레이트(11) 및 샤프트(13), 이것을 수용하는 밸브 하우징(16), 구동수단으로서의 액추에이터(12), 그리고 실질적으로 게이트 플레이트(11) 및 샤프트(13)를 움직여주는 마그네트 구동체(19) 등을 포함한다. As shown in FIG. 3, the gate valve 10 includes a gate plate 11 and a shaft 13 for opening and closing a movement path of a wafer or glass, a valve housing 16 for accommodating the same, and an actuator 12 as a driving means. And a magnet driver 19 for moving the gate plate 11 and the shaft 13 substantially.

특히, 상기 게이트 밸브(10)는 금속 벨로우즈나 O-링을 배제하고 마그네트 구동체(19)의 자력을 이용하여 진공측과 대기압측 간의 격리된 환경에서 게이트(11) 및 샤프트(13)를 구동시켜줌으로써, 종전과 같은 금속 벨로우즈 및 O-링의 파손에 의한 진공도 누수 현상 발생을 근본적으로 방지할 수 있다. In particular, the gate valve 10 drives the gate 11 and the shaft 13 in an isolated environment between the vacuum side and the atmospheric pressure side by using the magnetic force of the magnet drive body 19 excluding metal bellows or O-rings. By doing so, it is possible to fundamentally prevent the occurrence of leaks in vacuum due to breakage of the metal bellows and O-rings as before.

이를 위하여, 웨이퍼나 글래스의 이동통로가 되는 챔버(100)와 챔버(100)의 사이, 또는 챔버(100)의 입구에는 아래쪽으로 조성되는 밸브 하우징(16)이 마련되고, 이때의 밸브 하우징(16)의 내부는 챔버측과 동일한 진공상태가 유지될 수 있게 된다. To this end, between the chamber 100 and the chamber 100, or the inlet of the chamber 100, which is a movement path of the wafer or glass, a valve housing 16 is formed downward, and the valve housing 16 at this time is provided. The inside of) can be maintained in the same vacuum state as the chamber side.

즉, 상기 챔버(100)의 내부는 물론 밸브 하우징(16)의 내부는 대기압측과 완전히 격리되어 있는 진공상태로 조성될 수 있게 된다. That is, not only the inside of the chamber 100 but also the inside of the valve housing 16 may be formed in a vacuum state that is completely isolated from the atmospheric pressure side.

이러한 밸브 하우징(16)의 내부에는 실질적으로 웨이퍼나 글래스의 이동통로를 개폐하는 게이트 플레이트(11) 및 이것과 함께 움직이는 샤프트(13)가 설치되고, 결국 상기 게이트 플레이트(11) 및 샤프트(13)는 진공상태로 조성되어 있는 밸브 하우징(16)의 내부, 다시 말해 별도의 실 구조를 가질 필요없이 대기압측과 완전히 격리되어 있는 밸브 하우징(16)의 내부에서 동작할 수 있게 된다. Inside the valve housing 16, a gate plate 11 for opening and closing a movement path of a wafer or glass and a shaft 13 moving together with the valve plate 16 is provided, and eventually, the gate plate 11 and the shaft 13 are provided. It is possible to operate in the interior of the valve housing 16 is formed in a vacuum state, that is, the valve housing 16 is completely isolated from the atmospheric pressure side without having to have a separate seal structure.

그리고, 상기 게이트 플레이트(11)의 후면부에는 챔버(100)의 입구측 둘레에 밀착되는 실 부재가 부착되어 있어서, 닫힘 상태에서 챔버(100)의 기밀이 유지될 수 있게 된다. In addition, a seal member is attached to the rear portion of the gate plate 11 in close contact with the periphery of the inlet side of the chamber 100, so that the airtightness of the chamber 100 may be maintained in the closed state.

여기서, 상기 게이트 플레이트(11)는 통상의 블레이드로서 업다운 작동을 통해 이동통로를 닫아주거나 열어주는 기능을 수행하게 되며, 상기 샤프트(13)는 게이트 플레이트(11)와 함께 움직이는 부재로서 게이트 플레이트(11)의 하단에서 아래쪽으로 일정길이 연장되는 형태로 형성된다. Here, the gate plate 11 performs a function of closing or opening the moving passage through an up-down operation as a conventional blade, and the shaft 13 is a gate plate 11 as a member moving together with the gate plate 11. It is formed in a shape extending a predetermined length from the bottom of the bottom.

이에 따라, 상기 게이트 플레이트(11)의 업 상태에서는 챔버(100) 간이 차단되면서 챔버 내에서 공정이 수행될 수 있게 되고, 게이트 플레이트(11)의 다운 상태에서는 챔버(100) 간이 개방되면서 이때 웨이퍼나 글래스가 지나갈 수 있게 된다. Accordingly, in the up state of the gate plate 11, the process may be performed in the chamber while the chamber 100 is blocked, and in the down state of the gate plate 11, the chamber 100 may be opened while the wafer or The glass can pass through.

또한, 상기 밸브 하우징(16)의 외부 일측에는 게이트 플레이트(11) 및 샤프트(13)를 업다운시켜주는 수단으로 액추에이터(12)가 마련되고, 이때의 액추에이터(12)는 챔버(100)를 지지하는 바디(미도시)측에 고정되는 구조로 설치될 수 있게 된다. In addition, an actuator 12 is provided on the outer side of the valve housing 16 as a means for up-down the gate plate 11 and the shaft 13, and the actuator 12 supports the chamber 100. It can be installed in a structure fixed to the body (not shown) side.

즉, 본 발명에서는 상기 게이트 플레이트(11) 및 샤프트(13)의 구동을 위한 액추에이터 수단을 종전과 같이 밸브 하우징(16)의 내부에 배치하지 않고, 밸브 하우징(16)의 밖으로 빼냄으로써, 액추에이터 수단이 속해 있는 대기압 상태의 공간과의 진공도 유지를 위한 금속 벨로우즈 및 O-링의 사용을 배제할 수 있게 된다. That is, in the present invention, the actuator means for driving the gate plate 11 and the shaft 13 is pulled out of the valve housing 16 without placing the actuator means inside the valve housing 16 as before. It is possible to eliminate the use of metal bellows and O-rings to maintain the degree of vacuum with the atmosphere at which it belongs.

여기서, 상기 액추에이터(12)는 모터나 실린더 등을 다양하게 적용할 수 있으며, 본 발명에서는 액추에이터 수단으로 실린더를 적용한 예를 보여준다. Here, the actuator 12 may be variously applied to a motor or a cylinder, and the present invention shows an example in which a cylinder is applied as an actuator means.

특히, 본 발명에서는 액추에이터(12)로부터 제공되는 동력을 이용하여 게이트 플레이트(11) 및 샤프트(13)를 업다운 작동시켜주기 위한 수단, 즉 액추에이터(12)의 동력을 샤프트(13)에 전달해주는 수단으로 마그네트 구동체(19)를 제공한다. In particular, in the present invention, the means for operating the gate plate 11 and the shaft 13 up and down by using the power provided from the actuator 12, that is, the means for transmitting the power of the actuator 12 to the shaft 13 The magnet driver 19 is provided.

상기 마그네트 구동체(19)는 이너 마그네트(17)와 아웃터 마그네트(18)의 조합형으로 이루어지며, 이때의 이너 마그네트(17)는 밸브 하우징(16)의 내부에 속해 있는 샤프트(13)의 외주면에 설치되고, 아웃터 마그네트(18)는 밸브 하우징(16)의 외부, 즉 대기압측에 위치되면서 액추에이터(12)측에 지지되는 구조로 설치된다. The magnet driver 19 is formed of a combination of an inner magnet 17 and an outer magnet 18, and the inner magnet 17 is formed on the outer circumferential surface of the shaft 13 belonging to the inside of the valve housing 16. The outer magnet 18 is installed outside the valve housing 16, i.e., on the atmospheric pressure side, and is supported on the actuator 12 side.

그리고, 상기 아웃터 마그네트(18)는 밸브 하우징(16)을 사이에 두고 이너 마그네트(18)와 동심원상으로 배치되고, 이에 따라 바깥쪽에 있는 아웃터 마그네트(18)가 위아래 움직이게 되면 이와 함께 안쪽에 있는 이너 마그네트(17)도 따라서 위아래로 움직이게 된다. In addition, the outer magnet 18 is disposed concentrically with the inner magnet 18 with the valve housing 16 interposed therebetween, and when the outer magnet 18 on the outside moves up and down, the inner inner magnet is moved together. The magnet 17 also moves up and down.

즉, 상기 이너 마그네트(17)와 아웃터 마그네트(18)는 밸브 하우징(16)을 경계로 하여 내측과 외측에서 서로 동심원상으로 배치되고, 이때의 아웃터 마그네트(18)의 전체는 이너 마그네트(17)의 외주 전체 둘레를 일정 높이로 완전히 감싸는 형태로 배치되므로서, 자력에 의해 아웃터 마그네트(18)의 움직임과 연계하여 이너 마그네트(17)의 움직임이 가능하게 된다.That is, the inner magnet 17 and the outer magnet 18 are arranged concentrically from the inside and the outside with the valve housing 16 as a boundary, and the whole of the outer magnet 18 at this time is the inner magnet 17. Since the entire circumference of the outer periphery of the entire height is arranged in a form that wraps, by the magnetic force it is possible to move the inner magnet 17 in conjunction with the movement of the outer magnet 18.

결국, 이때의 이너 마그네트(17)와 일체식으로 결합되어 있는 샤프트(13) 및 그 윗쪽의 게이트 플레이트(11)가 업다운되면서 이동통로의 개폐가 이루어질 수 있게 되는 것이다. As a result, the shaft 13 and the upper gate plate 11 that are integrally coupled to the inner magnet 17 at this time are up and down, thereby opening and closing the moving passage.

여기서, 상기 이너 마그네트(17)는, 도 4에 도시한 바와 같이, 링 모양을 하고 있는 여러 단위 마그네트를 일정높이 적층 조합한 어셈블리 형태로 이루어지는데, 예를 들면 이너 마그네트(17)는 원통형으로 되어 있는 샤프트(13)의 외주면에 다수 개의 링 모양 단위 마그네트가 동축상으로 차곡차곡 끼워져 있는 형태로 이루어질 수 있게 된다.  Here, as shown in FIG. 4, the inner magnet 17 is formed in an assembly form in which a plurality of unit magnets having a ring shape are laminated in a predetermined height. For example, the inner magnet 17 has a cylindrical shape. On the outer circumferential surface of the shaft 13 is a plurality of ring-shaped unit magnets can be made in the form coaxially fitted one by one.

그리고, 상기 이너 마그네트(17)의 상단과 하단 위치에는 샤프트측에 고정되는 링 모양의 스톱퍼(미도시)를 장착하여 각 단위 마그네트가 흐트러지지 않고 샤프트(13)측에 안정적으로 결합될 수 있도록 하는 것이 바람직하다. And, the upper and lower positions of the inner magnet 17 is equipped with a ring-shaped stopper (not shown) fixed to the shaft side so that each unit magnet can be stably coupled to the shaft 13 side without being disturbed. It is preferable.

물론, 상기 각 단위 마그네트 사이에는 적당한 위치에 절열부재가 함께 끼워져 위아래 마그네트 서로 간에 자력에 의한 영향을 받지 않도록 할 수도 있다.Of course, the heat insulating member may be inserted together at appropriate positions between the respective unit magnets so as not to be influenced by the magnetic force between the upper and lower magnets.

또한, 상기 아웃터 마그네트(18)는, 도 5에 도시한 바와 같이, 이너 마그네트(17)와 마찬가지로 링 모양을 하고 있는 여러 단위 마그네트, 예를 들면 원형의 내경과 사각의 외곽을 가지는 링 모양의 단위 마그네트를 일정높이 적층 조합한 어셈블리 형태로 이루어진다. In addition, as shown in FIG. 5, the outer magnet 18 is a unit of a magnet having a ring shape like the inner magnet 17, for example, a ring-shaped unit having a circular inner diameter and a square outline. It consists of an assembly type in which a magnet is laminated in a certain height.

그리고, 이러한 단위 마그네트들의 조합을 위한 수단으로 어댑터 블럭(20)과 플레이트(21)가 마련되고, 이때의 어댑터 블럭(20)과 플레이트(21)의 내측으로 각각의 단위 마그네트들이 차곡차곡 쌓이면서 일체식의 어셈블리 형태를 취할 수 있게 된다. In addition, an adapter block 20 and a plate 21 are provided as a means for the combination of the unit magnets, and the unit magnets are piled up one by one inside the adapter block 20 and the plate 21 at this time. It is possible to take the form of assembly.

예를 들면, 상기 어댑터 블럭(20)은 사각의 관 형태로 이루어져 그 속에 다수의 단위 마그네트 어셈블리로 이루어진 아웃터 마그네트(18)가 삽입되고, 이렇게 아웃터 마그네트(18)가 삽입되어 있는 어댑터 블럭(20)의 상단과 하단에 플레이트(21)가 체결되면서 아웃터 마그네트(18)의 위아래를 마감하게 되므로서, 아웃터 마그네트(18)와 어댑터 블럭(20)이 일체식을 이룰 수 있게 된다. For example, the adapter block 20 has a rectangular tube shape, and an outer magnet 18 having a plurality of unit magnet assemblies is inserted therein, and the adapter block 20 into which the outer magnet 18 is inserted is thus inserted. As the plate 21 is fastened to the upper and lower ends of the outer magnet 18 to close up and down, the outer magnet 18 and the adapter block 20 can be integrally formed.

그리고, 상기 어댑터 블럭(20)의 한쪽 측면에는 구동바(22)의 한쪽이 연결되고, 이렇게 연결되어 있는 구동바(22)의 다른 한쪽은 액추에이터(12)의 로드측에 연결된다. One side of the driving bar 22 is connected to one side of the adapter block 20, and the other side of the driving bar 22 connected to the rod 20 is connected to the rod side of the actuator 12.

이에 따라, 상기 액추에이터(12)의 가동에 의해 아웃터 마그네트(18)를 포함하는 어댑터 블럭(20)이 위아래로 움직이면서 이너 마그네트(17)를 끌고 올라가거나 아래로 내려올 수 있게 된다. Accordingly, by operating the actuator 12, the adapter block 20 including the outer magnet 18 is moved up and down, and the inner magnet 17 can be dragged up or down.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 게이트 밸브의 작동상태를 나타내는 단면도이다. 6 is a cross-sectional view showing an operating state of a gate valve according to an embodiment of the present invention.

도 6에 도시한 바와 같이, 여기서는 챔버 간을 이동하는 웨이퍼나 글래스의 이동통로를 개폐하는 게이트 밸브의 예를 보여주고 있으며, 이때의 게이트 밸브는 동일한 구조로 챔버의 입구를 개폐하는 용도로도 적용될 수 있다. As shown in FIG. 6, an example of a gate valve for opening and closing a movement path of a wafer or a glass moving between chambers is shown, and the gate valve may be applied to open and close the inlet of the chamber with the same structure. Can be.

챔버(100)와 챔버(100) 간의 이동통로 아래쪽으로는 이와 진공상태를 공유하고 있는 밸브 하우징(16)이 형성되고, 상기 밸브 하우징(16)의 내부에는 이동통로를 개폐하는 게이트 플레이트(11) 및 외주 둘레에 인너 마그네트(17)를 가지는 샤프트(13)가 배치된다. A valve housing 16 sharing a vacuum state is formed below the moving passage between the chamber 100 and the chamber 100, and the gate plate 11 opens and closes the moving passage inside the valve housing 16. And a shaft 13 having an inner magnet 17 around the outer circumference.

그리고, 상기 밸브 하우징(16)의 바깥쪽에는 이너 마그네트(17)가 있는 위치의 둘레에 아웃터 마그네트(18) 및 어댑터 블럭(20)이 배치되고, 이러한 어댑터 블럭(20)은 구동바(22)를 매개로 하여 액추에이터(12)측과 연결된다. In addition, an outer magnet 18 and an adapter block 20 are disposed around the position of the inner magnet 17 outside the valve housing 16, and the adapter block 20 includes the drive bar 22. It is connected to the actuator 12 side via.

따라서, 상기 액추에이터(12), 예를 들면 실린더가 업다운 동작을 하게 되면 구동바(22), 어댑터 블럭(20) 및 아웃터 마그네트(18) 전체가 실린더 업다운 동작에 따라 같이 움직이게 된다. Therefore, when the actuator 12, for example, the cylinder is in the up-down operation, the driving bar 22, the adapter block 20, and the outer magnet 18 all move together according to the cylinder up-down operation.

이렇게 실린더의 업다운 동작에 따라 아웃터 마그네트(18)가 업다운 동작을 하게 되면, 샤프트(13)에 장착되어 있는 이너 마그네트(17)도 자력에 의하여 업다운 동작을 하게 된다. When the outer magnet 18 performs the up-down operation according to the up-down operation of the cylinder, the inner magnet 17 mounted on the shaft 13 also performs the up-down operation by the magnetic force.

결국, 게이트 플레이트(11)의 업다운 동작에 의해 챔버(100) 간의 이동통로가 닫히거나 열리면서 챔버의 진공상태가 유지되거나, 또는 웨이터나 글래스가 이동할 수 있게 된다. As a result, the vacuum path of the chamber is maintained while the movement path between the chambers 100 is closed or opened by the up-down operation of the gate plate 11, or the waiter or glass can move.

이와 같이, 본 발명은 진공 상태와 대기압 상태가 완전히 격리된 조건에서 실린더 등의 액추에이터와 자력에 의해 게이트 플레이트를 움직이는 구조이기 때문에 금속 벨로우즈나 O-링 피드스루(Feedthrough)의 구조가 필요치 않게 되고, 따라서 금속 벨로우즈 및 O-링 피드스루의 파손에 의한 진공도 누수 현상 발생을 방지할 수 있다.
As such, the present invention eliminates the need for a metal bellows or O-ring feedthrough structure because the gate plate is moved by an actuator such as a cylinder and magnetic force under conditions in which the vacuum state and the atmospheric pressure state are completely isolated. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of vacuum leakage due to breakage of the metal bellows and the O-ring feedthrough.

10 : 게이트 밸브 11 : 게이트 플레이트
12 : 액추에이터 13 : 샤프트
14 : 금속 벨로우즈 15 : O-링
16 : 밸브 하우징 17 : 이너 마그네트
18 : 아웃터 마그네트 19 : 마그네트 구동체
20 : 어댑터 블럭 21 : 플레이트
22 : 구동바10 gate valve 11: gate plate
12: actuator 13: shaft
14 metal bellows 15 O-ring
16: valve housing 17: inner magnet
18: outer magnet 19: magnet drive body
20: adapter block 21: plate
22: drive bar

Claims (4)

챔버측과 통하는 밸브 하우징(16)의 내부에 설치되는 것으로서, 웨이퍼나 글래스가 이동하는 통로를 개폐하는 게이트 플레이트(11) 및 상기 게이트 플레이트(11)의 하단에서 아래로 연장되는 샤프트(13)와, 상기 밸브 하우징(16)의 외부에 설치되어 게이트 플레이트(11) 및 샤프트(13)를 업다운시켜주는 액추에이터(12)를 포함하며,
상기 액추에이터(12)의 동력을 샤프트(13)에 전달해주는 수단으로서, 샤프트(13)의 외주면에 설치되는 이너 마그네트(17)와, 상기 밸브 하우징(16)을 사이에 두고 이너 마그네트(17)의 둘레에 배치되는 동시에 액추에이터(12)측과 연동되어 위아래로 움직이면서 게이트 플레이트(11)를 포함하는 샤프트(13) 전체를 업다운시켜주는 아웃터 마그네트(18)의 조합형으로 이루어진 마그네트 구동체(19)를 더 포함하되,
상기 마그네트 구동체(19)의 이너 마그네트(17) 및 아웃터 마그네트(18)는 링 형상을 갖는 여러 개의 단위 마그네트를 동축상으로 일정 높이 적층 조합한 어셈블리 형태로 이루어지고,
적층 조합된 이너 마그네트(17)의 상단과 하단의 위치의 상기 샤프트(13)에는 각 단위 이너 마그네트가 적층된 상태에서 흐트러지지 않고 안정적으로 유지될 수 있도록 링 모양의 스톱퍼가 각각 구비되고,
상기 아웃터 마그네트(18)는 액추에이터(12)의 출력측과 연결되면서 상기 밸브 하우징(16)의 외측을 둘러싸는 것으로 관 형태를 이루는 어댑터 블럭(20)의 내부에 삽입 적층되는 동시에 상기 어댑터 블럭(20)의 상단과 하단에 체결되는 플레이트(21)에 의해 마감되는 구조로 장착되고,
상기 마그네트 구동체(19)의 이너 마그네트(17)와 아웃터 마그네트(18)는 밸브 하우징(16)을 중심으로 내측과 외측에서 서로 동심원상으로 배치되면서, 상기 아웃터 마그네트(18) 전체가 이너 마그네트(17)의 외주 전체 둘레를 일정 높이로 완전히 감싸는 형태로 배치되는 것을 특징으로 하는 반도체 및 엘시디 제조설비의 게이트 밸브.Installed in the valve housing 16 communicating with the chamber side, the gate plate 11 for opening and closing the passage through which the wafer or glass moves, and the shaft 13 extending downward from the lower end of the gate plate 11 and And an actuator 12 installed outside the valve housing 16 to up and down the gate plate 11 and the shaft 13,
As a means for transmitting the power of the actuator 12 to the shaft 13, the inner magnet 17 is installed on the outer peripheral surface of the shaft 13 and the valve housing 16 of the inner magnet 17 The magnet drive body 19 is formed of a combination of the outer magnet 18 arranged around the same time and moves up and down in conjunction with the actuator 12 side to up and down the entire shaft 13 including the gate plate 11. Including,
The inner magnet 17 and the outer magnet 18 of the magnet driver 19 are formed in an assembly form in which a plurality of unit magnets having a ring shape are stacked and coaxially stacked in a predetermined height.
The shaft 13 at the positions of the upper and lower ends of the laminated inner magnet 17 is provided with a ring-shaped stopper so that each unit inner magnet can be stably maintained without being disturbed in a stacked state.
The outer magnet 18 is connected to the output side of the actuator 12 and is inserted and stacked inside the adapter block 20, which forms a tubular shape by surrounding the outside of the valve housing 16, and at the same time, the adapter block 20. It is mounted with a structure that is closed by the plate 21 is fastened to the top and bottom of the,
The inner magnet 17 and the outer magnet 18 of the magnet drive body 19 are arranged concentrically with each other from the inside and the outside with respect to the valve housing 16, so that the entire outer magnet 18 is an inner magnet ( 17) The gate valve of the semiconductor and LCD manufacturing equipment, characterized in that the entire circumference of the outer periphery of the complete arrangement to a certain height. 삭제delete 삭제delete 삭제delete
KR1020120068725A 2012-06-26 2012-06-26 Gate valae for manufacturing semiconductor and lcd device KR101286824B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120068725A KR101286824B1 (en) 2012-06-26 2012-06-26 Gate valae for manufacturing semiconductor and lcd device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120068725A KR101286824B1 (en) 2012-06-26 2012-06-26 Gate valae for manufacturing semiconductor and lcd device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101286824B1 true KR101286824B1 (en) 2013-07-17

Family

ID=48997509

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120068725A KR101286824B1 (en) 2012-06-26 2012-06-26 Gate valae for manufacturing semiconductor and lcd device

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101286824B1 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200001129A (en) * 2018-06-27 2020-01-06 주식회사 에이씨엔 Magnetic support type gate valve system
KR20200028141A (en) * 2018-09-06 2020-03-16 (주) 엔피홀딩스 Magnet coupling type gate valve system
KR20200028139A (en) * 2018-09-06 2020-03-16 (주) 엔피홀딩스 Magnet coupling type gate valve system
KR20200028140A (en) * 2018-09-06 2020-03-16 (주) 엔피홀딩스 Magnet coupling type gate valve system

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07190228A (en) * 1993-12-27 1995-07-28 Ulvac Japan Ltd Unsliding gate valve
KR20090069019A (en) * 2007-12-24 2009-06-29 (주) 이노스 Throttle valve assembly

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07190228A (en) * 1993-12-27 1995-07-28 Ulvac Japan Ltd Unsliding gate valve
KR20090069019A (en) * 2007-12-24 2009-06-29 (주) 이노스 Throttle valve assembly

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200001129A (en) * 2018-06-27 2020-01-06 주식회사 에이씨엔 Magnetic support type gate valve system
KR102137976B1 (en) 2018-06-27 2020-07-28 주식회사 에이씨엔 Magnetic support type gate valve system
KR20200028141A (en) * 2018-09-06 2020-03-16 (주) 엔피홀딩스 Magnet coupling type gate valve system
KR20200028139A (en) * 2018-09-06 2020-03-16 (주) 엔피홀딩스 Magnet coupling type gate valve system
KR20200028140A (en) * 2018-09-06 2020-03-16 (주) 엔피홀딩스 Magnet coupling type gate valve system
KR102150065B1 (en) * 2018-09-06 2020-08-31 (주) 엔피홀딩스 Magnet coupling type gate valve system
KR102160233B1 (en) * 2018-09-06 2020-09-25 (주) 엔피홀딩스 Magnet coupling type gate valve system
KR102160232B1 (en) * 2018-09-06 2020-09-25 (주) 엔피홀딩스 Magnet coupling type gate valve system

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9576824B2 (en) Etching chamber with subchamber
KR101286824B1 (en) Gate valae for manufacturing semiconductor and lcd device
TWI497583B (en) Plasma processing device
JP2007325433A (en) Robot for vacuum environment and motor therefor
US8828257B2 (en) Plasma processing apparatus and operation method thereof
KR102023432B1 (en) Vacuum treatment apparatus
KR200491849Y1 (en) Load lock chamber with slit valve doors
JP2016540372A (en) Substrate processing equipment
US20140105709A1 (en) Substrate processing apparatus
KR101892958B1 (en) Plasma processing apparatus
JP2015043420A (en) Plasma processing devices having multi-port valve assemblies
KR101320419B1 (en) Gate valve for vaccume equipment
US20160326648A1 (en) Apparatus for selectively sealing a gas feedthrough
JP2015513338A (en) Vacuum processing apparatus having means for preventing back pressure between chambers
KR101232902B1 (en) Sealing apparatus, joining apparatus and processing apparatus for substrate using the same
JPH10252943A (en) Vacuum valve
KR200460437Y1 (en) Slit valve for semiconductor fabrication equipment
CN208781827U (en) A kind of glue film lifts off equipment
KR102131283B1 (en) Mono type gate valve system
KR20220148661A (en) Gate valve for semiconductor and flat panel display apparatus
KR20040013295A (en) Semiconductor manufacturing equipment
KR20160062626A (en) Process chamber having dual exhaust and substrate manufacturing apparatus and substrate manufacturing method
JP2541116B2 (en) Vacuum gate valve
KR101399654B1 (en) Device for vacuum-balancing between the working chamber and the vacuum isolation apparatus
JP2001355745A (en) Gate valve

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
E902 Notification of reason for refusal
E90F Notification of reason for final refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180524

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190520

Year of fee payment: 7