KR101276021B1 - 소수성으로 개질된 고분자들을 함유하는 퍼스널 케어조성물 - Google Patents

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Abstract

하나 이상의 소수성으로 개질된 폴리아크릴아미드들을 포함하는 화장용으로 허용가능한 조성물은 소수성 부분들을 아크릴아미드, 하나 이상의 양이온 모노머들 및 선택적으로 하나 이상의 음이온 모노머들로 구성된 고분자에 포함시켜 제조된다. 상기 조성물은 모발, 피부 및 손발톱들의 처리를 위한 제품들에 포함될 수 있고, 또한 가정용 클린너들 및 세탁용 세제들과 같은 가정용 제품들에 포함될 수 있다.
소수성으로 개질된 고분자, 화장용으로 허용가능한 조성물, 계면활성제, 보습제, C8, C12, C16 고분자

Description

소수성으로 개질된 고분자들을 함유하는 퍼스널 케어 조성물{PERSONAL CARE COMPOSITION CONTAINING HYDROPHOBICALLY MODIFIED POLYMERS}
본 발명은 아크릴아미드, 하나 이상의 양이온 모노머 및 선택적으로 하나 이상의 음이온 모노머들로 구성되며 소수성 기들을 포함하여 개질된 폴리아크릴아미드를 함유하는 화장용으로 허용가능한 조성물 및 모발, 피부 및 손발톱을 처리하기 위해 상기 조성물을 이용하는 방법에 관한 것이다.
지난 20년간에 걸쳐, 퍼스널 케어(personal care) 산업은 대부분 증점(thickening) 분야에서 소수성으로 개질된 고분자들의 영역으로 확대되고 있다. 그러한 구성 성분들에는 개질된 하이드록세틸 셀룰로오스 및 아크릴산염/베헤네트(Beheneth)-25 메타크릴레이트를 포함한다.
다양한 알킬기들을 함유하는 새로운 고분자들을 제조하는 이론적 근거로는 개질되지 않은 아크릴레이트 또는 아크릴아미드 고분자들로만으로는 이루어낼 수 없는 성질들을 도입하는 것이다. 새로운 고분자 제품의 계속적인 도입에도 불구하고, 모노머 형태의 4급화물들(monomeric quaternaries), 지방족 아민류 및 지방족 알코올류 및 피부연화제들(emollients)이 퍼스널 케어 제품에서 매우 중요한 역할을 지속하고 있다. 많은 제품들이 이러한 물질들을 적어도 소량이나마 함유하고 있 다. 그러나, 이러한 컨디셔닝제들(conditioning agents)은 장시간에 걸쳐 모발 같은 기질에 쌓이게 되어, 모발의 부피를 감소시킬 수 있다. 그러므로, 기존의 고분자들로는 이룰 수 없는 성질들을 지니고 현재 사용되는 모노머 형태의 물질들과 관련된 단점들이 없는 새로운 제품들이 지속적으로 요구되고 있다.
[발명의 요약]
본 발명은 하나 이상의 소수성으로 개질된 폴리아크릴아미드들을 포함하는 화장용으로 허용가능한 조성물이며, 여기서 상기 폴리아크릴아미드는 아크릴아미드와 하나 이상의 양이온 모노머들 및 선택적으로는 하나 이상의 음이온 모노머들로 구성되어 있다.
소수성으로 개질된 폴리아크릴아미드는 고분자에 포함된 소수성 부분의 유형에 따라 크림성(creaminess), 미끄럼(slip), 감촉(feel), 점도(viscosity) 및 보습성(moisturization)과 같은 성질들을 향상시킨다.
"음이온 모노머(Anionic monomer)"는 여기서는 어떤 pH 값을 초과하는 순 음전하(net negative charge)를 가지는 것으로 정의되는 모노머를 의미한다. 대표적인 음이온 모노머들로는 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산(itaconic acid), 2-아크릴아미도-2-메틸-1-프로판술폰산(2-acrylamido-2-methyl-1-propanesulfonic acid), 술포프로필 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트(sulfopropyl acrylate or methacrylate)의 염기성 첨가염(base addition salts)들, 이들의 수용성 형태들(water soluble forms) 또는 기타 중합가능한 카복시산(carboxylic acid)이나 술폰산(sulfonic acid), 술포메틸레이트 아클릴아미드(sulphomethylated acrylamide), 알릴 술폰산염(allyl sulphonate), 스티렌 술폰산염(styrene sulfonic acid), 나트륨 비닐 술폰산염(sodium vinyl sulphonate) 등을 포함한다. 바람직한 음이온 모노모들은 아그릴산 및 2-아크릴아미도-2-메틸-1-프로판술폰산이다.
"염기성 첨가 염(base addition salt)"은 수산화물, 탄산염, 또는 금속 양이온 또는 테트라알킬암모늄 양이온의 중탄산염과 같은 적합한 염기나 암모니아와 카복시기와의 반응으로부터 얻어진 염 또는 충분한 염기성을 띄는 유기 1차, 2차 또는 3차 아민과 카복시산기(-CO2H)와의 반응으로 생긴 염을 의미한다. 대표적인 알칼리 또는 알칼리성 토금속 염으로는 나트륨, 리튬, 칼륨, 칼슘, 마그네슘 등을 포함한다. 염기성 첨가 염들의 형성에 유용한 대표적인 유기 아민류로는 에틸아민, 디에틸아민, 에틸렌디아민, 에탄올아민, 디에탄올아민, 피페라진 등을 포함한다. 바람직한 염기성 첨가 염들은 나트륨 및 암모늄염들을 포함한다.
"양이온 모노머(catonic monomer)"는 자유 라디칼 형성 조건하에서 아크릴아미드와의 공중합에 적합하고 여기서 설명한 것과 같이 트랜스아미데이션(tansamidation) 반응 후에 순 음전하를 유지할 수 있는 비닐 모노머를 의미한다.
대표적인 양이온 모노머들에는 이하와 같은 화학식들을 가진 모노머들을 포함하지만 이에 한정되지 않는다.
Figure 112007061092885-pct00001
여기서, R1-R13은 H, -CH3 및 -CH2CH3으로부터 독립적으로 선택되며, n은 2 또는 3이다.
"IV"는 고유 점도(intrinsic viscosity)를 의미하며, 무한 희석의 한계까지 RSV 외삽된다(extrapolated). 무한 희석은 고분자의 농도가 0과 같은 때를 의미한다.
"소수성 알킬기(hydrophobic alkyl group)"는 대략 4 내지 22개의 탄소 원자들의 알킬, 알케닐, 시클로알킬, 아릴 또는 아릴알킬 기를 의미한다. 알킬 및 알케닐 기들은 직선형 또는 브랜치형일 수 있고 R' 및 R"는 C1-C4 알킬인 하나 이상의 -OSi(R')(R")- 및 -Si(R')(R") 기들로 저지될 수 있다.
"소수성 아민(hydrophobic amine)"은 적어도 하나의 소수성 알킬 기 및 적어도 하나의 아미노 수소를 포함하는 화합물로서, 여기서 정의한 바와 같은 폴리아크릴아미드의 아미도기(-C(O)NH2)와의 트랜스아미데이션 반응을 거쳐서 소수성으로 개질된 폴리아크릴아미드를 형성할 수 있는 화합물을 의미한다. -Si(R')(R")- 및 -Si(R')(R")- 기들을 포함하는 소수성 아민류들은 또한 "아미노 작용성 실란(amino-functionalized silanes)"이라고 칭한다. 대표적인 소수성 아민류는 벤질아민(benzylamine), 시클로헥실아민(cyclohexylamine), 헥실아민(hexylamine), 메틸헥실아민(methylhexylamine), 페네틸아민(phenethylamine), 옥틸아민(octylamine), 올레일아민(oleylamine), 데실아민(decylamine), 도데실아민(dodecylamine), 옥타데실아민(octadecylamine) 등을 포함한다.
대표적인 아미노-작용화 실란은 이하의 화학식을 가진 아민류를 포함한다
Figure 112007061092885-pct00002
여기서, p는 대략 5 내지 500 정도이며, 알드리치사(Aldrich, Milwaukee, WI)로부터 구입가능하고; 아미노에틸프로필 실리콘 화합물은 Ultrasil이라는 상표명으로 노베온사(Noveon, Cleveland, Oh) 및 Silamine이라는 상표명으로 실텍사(Siltech Corporation, Toronto, Ontario, Canada)로부터 구입가능하고;Dow Corning®8220, DOW Corning®939, DOW Corning®949, DOW Corning®2-8194와 같은 다우 코팅사(DOW Corning, Midland, Mi)로부터 모두 구입가능하고 Silicone SM 253이라는 상표명으로 제너럴일렉트릭사(General Electric, Waterford, NY)로부터 구입가능한 아민 작용성 실리콘을 구입한다.
"소수성으로 개질된 고분자(hydrophobically modified polymer)"와 "소수성으로 개질된 폴리아크릴아미드(hydrophobically modified polyacrylamide)"는 고분자 뼈대(polymer backbone)을 따라 아미도기(-C(O)NH2)들의 일부가 소수성 아민과의 트랜스아미데이션에 의해 개질되는 것으로, 여기서 정의된 폴리아크릴아민을 의미한다. 따라서, 양이온 모노머들 및 어떠한 음이온 모노머들로부터 유도된 단위들을 반복하는 것에 더하여 소수성으로 개질된 고분자는 NRaRb가 소수성 아민과의 트랜스아미데이션으로부터 발생한 소수성 기를 나타내고 M이 수소 또는 염기성 첨가 염인 이하의 구조들을 가지는 반복되는 단위들을 포함한다.
Figure 112007061092885-pct00003
"폴리아크릴아미드(polyacrylamide)"는 자유 라디칼 형성 조건하에서 여기에 정의한 아크릴아미드, 하나 이상의 양이온 모노머들 및 어떤 음이온 모노머들의 중합에 의해 형성된 고분자를 의미한다. 적당한 폴리아크릴아미드들은 에멀션, 분산, 용액 및 분말 형태로 상업적으로 구입가능하고 비닐 모노머들의 자유 라디칼 중합에 이용하는 표준 방법들에 의하여 제조될 수 있다.
"RSV"는 환원 비점도(Reduced Specific Viscosity)를 의미한다. 거의 직선형이고 용매화가 잘된 일련의 고분자 상동체 내에서, 묽은 고분자 용액들에 대한 "환원 비점도" 측정은 Paul에 따르면(Paul J. Flory, in "Principles of Polymer Chemistry" Cornell University Press, Ithaca, NY., ⓒ 1953, Chapter VII, "Determination of Molecular Weights" pp. 266-316) 고분자 사슬 길이 및 평균 분자량의 지표가 된다. 주어진 고분자 농도 및 온도에서 환원 비점도를 아래와 같이 구한다:
Figure 112007061092885-pct00004
η= 고분자 용액의 점도
η o = 동일한 온도에서 용매의 점도
c = 용액에서의 고분자 농도
농도 "c"의 단위는 (그램/100 ㎖ 또는 g/deciliter)이다. 그러므로, 환원 비점도의 단위는 dL/g이다. 본 특허 출원에서, 특별한 언급이 없으면 염화 나트륨 1.0 몰 농도 용액이 환원 비점도의 측정에 사용된다. 이 용매에서 고분자 농도는 0.100 g/dL이다. 환원 비점도는 30 ℃에서 측정한다. 점도 η η o 은 Cannon Ubbelohde 반미량 희석 점도계(semimicro dilution viscometer), size 75를 사용하여 측정한다. 점도계는 30 ± 0.02 ℃로 조절한 항온 수조(constant temperature bath)에 완전한 수직으로 장착한다. 환원 비점도 계산에서 기기가 가지고 있는 고유한 오차는 대략 2 dL/g이다. 한 계열 내에서 두개의 고분자 동족체들이 비슷한 환원 비점도를 가지게 되면, 이는 분자량이 서로 비슷하다는 뜻이다.
"화장용품으로 허용 가능한 부형제(cosmetically acceptable excipient)"는 본 발명의 소수성으로 개질된 고분자와 혼합시에 그러한 고분자의 모발 또는 피부에의 적용을 더 적합하게 할 수 있는 비독성, 비자극성 물질을 의미한다.
실시예에서, 본 발명의 소수성으로 개질된 고분자를 고압, 고온에서 가열하면서 양이온 폴리아크릴아미드의 아미도 기(-C(O)NH2)들과 하나 이상의 소수성 아민류의 대략 0.1 내지 10 몰 퍼센트와의 트랜스아미데이션에 의해 제조한다. 소수성 아민을 프로톤화된 형태(protonated form)라기 보다는 염기 형태로 유지하기 위하여 염기를 첨가할 수 있다. 이에 적당한 염기들로는 암모니아, 알칼리 및 알칼리 토 금속 수산화물류 및 탄산염류를 포함한다.
실시예에서, 양이온 폴리아크릴아미드를 스테인레스 스틸 압력 반응기에서 pH를 대략 9-10으로 유지하면서 소듐 메타비설파이트(sodium metabisulfite) 및 수산화 나트륨으로부터 제조한 수용성 설파이트 용액과 혼합한다. 소수성 아민을 첨가하고, 반응기속의 공기를 질소로 대체한다. 혼합물을 대략 120 ℃ 내지 180 ℃에서 대략 0.5 시간 내지 8 시간 동안 가열한다. 실시예에서, 혼합물을 대략 140 ℃에서 대략 5시간 동안 가열한다. 그러고 나서 결과물로 나온 소수성으로 개질된 고분자를 물로 원하는 농도로 희석하고 선택적으로 하나 이상의 방부제들로 고온에서 처리한다. 실시예에서, 소수성으로 개질된 고분자 용액을 메틸 파라벤(methyl paraben) 및 프로필 파라벤(propyl paraben)으로 85 내지 90 ℃로 1시간 동안 처리한다. 생성물은 점도계, 13C 핵자기공명(13C NMR), 기체 크로마토그래피(GC) 및 겔 침투 크로마토그래피(GPC) 방법에 의해 특징된다.
실시예에서, 양이온 폴리아크릴아미드는 적어도 50 몰 퍼센트의 아크릴아미드로 구성되어있다.
실시예에서, 소수성으로 개질된 고분자는 대략 0.1 내지 8 dL/g의 환원 비점도를 가진다.
실시예에서, 양이온 모노머들을 디알릴디메틸암모늄 클로라이드(diallyldimethylammonium chloride) 및 메타크릴아미도프로필트리메틸암모늄 클로라이드(methacrylamidopropyltrimethylammonium chloride)로부터 선택된다.
실시예에서, 소수성 아민류는 C6-C22 알킬 아민류 및 아미노 작용화 실리콘들로 구성된 그룹에서 선택된다.
실시예에서, 소수성으로 개질된 고분자는 대략 1 내지 대략 5의 환원 비점도를 가진다.
실시예에서, 양이온 폴리아크릴아미드는 아크릴아미드/디알릴디메틸암모늄 클로라이드 공중합체이다.
실시예에서, 양이온 폴리아크릴아미드는 아크릴아미드/디알릴디메틸암모늄 클로라이드/아크릴산 삼원 공중합체(terpolymer)이다.
실시예에서, 알킬 아민류는 옥틸아민, 도데실아민 및 헥사데실아민을 구성하는 그룹에서 선택되었다.
실시예에서, 조성물은 하나 이상의 화장용으로 허용가능한 부형제들을 더 포함한다.
실시예에서, 화장용으로 허용가능한 조성물은 고분자 고체를 기준으로 소수성으로 개질된 폴리머의 대략 0.01 내지 대략 40 중량비를 포함한다.
실시예에서, 화장용으로 허용가능한 부형제들을 당류(saccharides), 계면활성제들(surface active agents), 보습제(humectant), 바셀린(petrolatum), 광유(mineral oil), 지방족 알코올류(fatty alcohols), 지방족 에스테르 피부연화제들(fatty ester emollients), 왁스 및 실리콘 함유 왁스들(waxes and silicone-containing waxes), 실리콘 오일(silicone oil), 실리콘 플루이드(silicone fluid), 실리콘 계면활성제들(silicon surfactants), 휘발성 탄화수소 오일류(volatile hydrocarbon oils), 4원계 질소 화합물들(quaternary nitrogen compounds), 아민 작용화 실리콘들(amine functionalized silicones), 컨디셔닝 고분자들(conditioning polymers), 유동성 개질제들(rheology modifiers), 항산화제들, 일광차단 활성제들(sunscreen active agents), 대략 C10 내지 C22로 된 이중 장쇄 아민류(di-long chain amines from about C10 to C22), 대략 C10 내지 C22로 된 장쇄 아민류(long chain amines from about C10 to C22), 지방족 알코올들(fatty alcohos), 에톡시화된 지방족 알코올들(ethoxylated fatty alcohols) 및 디-테일 포스포리피드(do-tail phospholipids)로 구성된 그룹으로부터 선택하였다.
대표적인 당류로는 아가로스(agarose) 같은 비이온 또는 양이온 당류, 아밀로펙틴(amylopectines), 아밀로스(amylose), 아라비난(arabinan), 아라비노갈락탄(arabinogalactan), 카라기난(carageenan), 아라비아고무(gum arabic), 카복시메틸 구아검(carboxymethyl guar gum), 카복시메틸(하이드록시프로필) 구아검(carboxymethyl(hydroxypropyl) guar gum), 하이드록시에틸 구아검(hydroxyethyl guar gum), 카복시메틸 셀룰로오스(carboxymethyl cellulose), 양이온 구아검(cationic guar gum), 메틸 셀룰로오스를 포함하는 셀룰로오스 에테르, 콘드로이틴(chondroitin), 키틴(chitin), 키토산(chitosan), 키토산 피롤리돈 카복실산염(chitosan pyrrolidone carboxylate), 키토산 글리콜산염 키토산 젖산염(chitosan glycolate chitosan lactate), 코코디모니움 히드록시프로필 옥시에틸 셀룰로오스(cocodimonium hydroxypropyl oxyethyl cellulose), 콜로민산(폴리-N 아세틸-뉴라미닉 산)(colominic acid(poly-N acetyl-neuraminic acid), 옥수수 전분, 커드란(curdlan), 황산 더마틴(dermatin sulfate), 덱스트란(dextran), 푸르셀라란(furcellaran), 덱스트란(dextran), 교차결합 덱스트란(cross linked dextran), 덱스트린(dextrin), 에멀산(emulsan), 에틸 하이드록시에틸 셀룰로오스(ethyl hydroxyethyl cellulose), 아마종자유 당(flaxseed saccharide(acidic)), 갈락토글루코마난(galactoglucomannan), 글리코겐(glycogen), 구아검(guar gum), 히드록시 에틸 전분(hydroxy ethyl starch), 히드록시프로필 메틸 셀룰로오스(hydroxypropyl methyl cellulose), 히드록시 에틸 셀룰로오스(hydroxy ethyl cellulose), 히드록시 프로필 셀룰로오스(hydroxy propyl cellulose), 히드록시 프로필 전분(hydroxy propyl starch), 히드록시프로필화 구아검(hydroxypropylated guar gum), 젤란검(gellan gum), 젤란(gellan), 검 게티(gum ghatti), 검 카라야(gum karaya), 검 트라간칸트(트라가칸친)(gum tragancanth(tragacanthin)), 헤파린(heparin), 히알루론산(hyaluronic acid), 인눌린(inulin), 케라틴 설페이트(keratin sulfate), 곤약 만난(konjac mannan), 개질된 전분(modified starch), 라미나란(laminaran), 라우르디모니움 히드록시프로필 옥시에틸 셀룰로오스(laurdimonium hydroxypropyl oxyethyl cellulose), 오크라 검(okra gum), 산화전분(oxidized starch), 펙트산(pectic acid), 펙틴(pectin), 폴리덱스트로스(polydextrose), 폴리쿼터니움-4(polyquaternium-4), 폴리쿼터니움-10, 폴리쿼터니움-28, 감자전분, 프로토펙틴(protopectin), 차전자 씨 검(psyllium seed gum), 플루란(pullulan), 히알루론산 나트륨(sodium hyaluronate), 전분 디에틸아미노에틸 에테르(starch diethylaminoethyl ether), 전분 히드록시프로필트리모이움 클로라이드(starch hydroxypropyltrimoium chloride), 히드록시프로필 전분 포스페이트(hydroxypropyl starch phosphate), 스테아디모니움 히드록시에틸 셀룰로오스(steardimonium hydroxyethyl cellulose), 라피노오스(raffinose), 람산(rhamsan), 타포이카 전분(tapioca starch), 웰란(whelan), 레반(levan), 스클레로글루칸(scleroglucan), 알긴산 나트륨(sodium alginate), 스타킬로스(stachylose), 숙시노글리칸(succinoglycan), 밀전분(wheat starch), 크산탄 검(xanthan gum), 크실란(xylan), 크실로글루칸(xyloglucan) 및 그 혼합물들을 포함한다. 미생물 당류는 여기에 전체적으로 참고로 포함한 Kirk-Othmer Encyclopedia of Chemical Technology, Fourth Edition, Vol. 16, John Wiley and Sons, NY pp. 578-611(1994)에서 검색할 수 있다. 복합 탄화수소류는 여기에 참고로 포함한 Kirk-Othmer Encyclopedia of Chemical Technology, Fourth Edition, Vol. 4, John Wiley and Sons, NY pp. 930-948, 1995에서 검색할 수 있다.
본 발명의 화장용으로 허용가능한 조성물에는 계면활성제들(surface active agents)을 포함할 수 있다. 계면활성제들에는 통상적으로 제제(formulation)에 세척제 작용기를 제공하거나 단순히 습윤제들(wetting agent)로 작용하는 계면활성제들(surfactants)을 포함한다. 계면활성제들은 일반적으로 음이온 계면활성제, 양이온 계면활성제, 비이온 계면활성제, 양족성 계면활성제들(amphoteric surface-active agents and zwitterionic surface-active agents)로 카테고리를 나눌 수 있다.
여기에 유용한 음이온 계면활성제들로는 여기에 참고로 포함한 미합중국 특허번호 5,573,709에서 개시된 것들을 포함한다. 예에는 알킬 및 알킬 에테르 설페이트를 포함한다. 본 발명에 유용할 수 있는 알킬 에테르 설페이트들의 특정한 예들에는 라우릴 설페이트(lauryl sulfate), 라우릴 에테르 설페이트(lauryl ether sulfate), 코코넛 알킬 트리에틸렌 글리콜 에테르 설페이트(coconut alkyl triethylene glycol ether sulfate); 수지 알킬 트리에틸렌 글리콜 에테르 설페이트(tallow alkyl triethylene glycol ether sulfate) 및 수지 알킬 헥사옥시에틸렌 설페이트(tallow alkyl hexaoxyethylene sulfate)의 소듐 및 암모늄 염들이다. 바람직한 알킬 에테르 설페이트들에는 개별화합물들의 혼합물을 포함하는 알킬 에테르 설페이트들인데, 상기 혼합물은 대략 12개 내지 16개의 탄소 원자들의 평균 알킬 사슬 길이와 대략 1 내지 6 몰의 산화 에틸렌의 평균 에톡시화(ethoxylation)를 가진다.
음이온 계면활성제들의 또다른 적당한 종류로는 알킬 술폰산 염이 있다. 표백 및 가수분해를 포함한 공지된 방법들에 따라 구한 대략 8 내지 24개의 탄소 원자들을 지니고, 바람직하게는 대략 12개 내지 18개의 탄소 원자들 및 술폰화제, 예를 들어 SO3, H2SO4, 발연황산(oleum)을 가진, iso-, neo-, ineso- 및 n-파라핀들을 포함하는 메탄 계열들의 탄화수소의 유기 술폰산 반응 생성물의 염들이 중요한 예들이다. 알칼리 금속 및 암모늄 설페이트화된 C12 -38 n-파라핀들이 바람직하다.
추가로 합성 음이온 계면활성제에는 숙신아메이트들(succinamates) 뿐만 아니라 올레핀 설포네이트들(olefin sulfonates), 베타-알킬옥시 알칸 설포네이트들(beta-alkyloxy alkane sulfonates) 및 아이세타이온산(isethionic acid)으로 에스테르화하고 수산화나트륨으로 중화시킨 지방산들의 반응 생성물들을 포함한다. 숙신아메이트들의 특정한 예들로는 디소듐 N-옥타데실 술포숙신아메이트(disodium N-octadecyl sulfosuccinamate); 테트라소듐 N-(1,2-디카복시에틸)-N-옥타데실술포숙신아메이트(tetrasodium N-(1,2-dicarboxyethyl)-N-octadecylsulfosuccinamate); 소듐 술포숙신산의 디아밀 에스테르(diamyl ester of sodium sulfosuccinic acid); 소듐 술포숙신산의 디헥실 에스테르(dihexyl ester of sodium sulfosuccinic acid); 소듐 술포숙신산의 디옥틸 에스테르들을 포함한다.
본 발명의 화장용으로 허용가능한 조성물에 사용목적으로 바람직한 음이온 계면활성제들로는 암모늄 라우릴 설페이트(ammonium lauryl sulfate), 암모늄 라우레트 설페이트(ammonium laureth sulfate), 트리에틸아민 라우릴 설페이트(triethylamine lauryl sulfate), 트리에틸아민 라우레트 설페이트(triethylamine laureth sulfate), 트리에탄올아민 라우릴 설페이트(triethanolamine lauryl sulfate), 트리에탄올아민 라우레트 설페이트(triethanolamine laureth sulfate), 모노에타올아민 라우릴 설페이트(monoethanolamine lauryl sulfate), 모노에탄올아민 라우레트 설페이트(monoethanolamine laureth sulfate), 디에탄올아민 라우릴 설페이트(diethanolamine lauryl sulfate), 디에탄올아민 라우레트 설페이트(diethanolamine laureth sulfate), 라우릭 모노글리세라이드 소듐 설페이트(lauric monoglyceride sodium sulfate), 소듐 라우릴 설페이트(sodium layryl sulfate), 소듐 라우레트 설페이트(sodium laureth sulfate), 포타슘 라우릴 설페이트(potassium lauryl sulfate), 포타슘 라우레트 설페이트(potassium laureth sulfate), 소듐 라우릴 사르코시네이트(sodium lauryl sarcosinate), 소듐 라우로일 사르코시네이트(sodium lauroyl sarcosinate), 라우릴 사르코신(lauryl sarcosine), 코코일 사르코신(cocoyl sarcosine), 암모늄 코코일 설페이트(ammonium cocoyl sulfate), 암모늄 라우로일 설페이트(ammonium lauroyl sulfate), 소듐 코코일 설페이트(sodium cocoyl sulfate), 소듐 라우로일 설페이트(sodium lauroyl sulfate), 포타슘 코코일 설페이트(potassium cocoyl sulfate), 포타슘 라우릴 설페이트(potassium lauryl sulfate), 트리에탄올아민 라우릴 설페이트(triethanolamine lauryl sulfate), 트리에탄올아민 라우릴 설페이트(triethanolamine lauryl sulfate), 모노에탄올아민 코코일 설페이트(monoethanolamine cocoyl sulfate), 모노에탄올아민 라우릴 설페이트(monoethanolamine lauryl sulfate), 소듐 트리데실 벤젠 술포네이트(sodium tridecyl benzene sulfonate) 및 소듐 도데실 벤젠 술포네이트(sodium dodeecyl benzene sulfonate)을 포함한다.
본 발명의 화장용품으로 허용 가능한 조성물에 사용될 수 있는 양쪽성 계면활성제로는 지방족 2차 및 3차 아민류의 유도체를 포함하되, 여기에는 지방족 치환기가 대략 8 내지 18개의 탄소 원자들과 음이온수 친수성기(anionic water solubilizing group), 예를 들어, 카복시, 술포네이트(sulfonate), 황산염(sulfate), 인산염(phosphate) 또는 포스포네이트(phosphonate)를 포함하고 있다. 대표적인 예들로는 소듐-3-도데실-아미노프로피오네이트(sodium-3-deodecyl-aminopropionate), 소듐-3-도데실아미노프로페인 술포네이트(sodium-3-deodecylaminopropane sulfonate), 소듐 라우릴 사르코시네이트, 도데실아민을 미합중국 특허 2,658,072에서 설명한 소듐 이세티오네이트(sodium isethionate)와 반응하여 제조한 N-알킬타우린(N-alkyltaurine), 미합중국 특허 2,438,091에서 설명한 N-고 알킬 아스파르트산(N-higher alkyl aspartic acid) 및 미합중국 특허 2,528,378에서 설명한 상품명 MIRANOLTM으로 판매되는 제품을 포함한다. 기타 사르코시네이트들과 사르코시네이트 유도체들을 여기에 참고로 포함한 CTFA Cosmetic Ingredient Handbook, Fifth Edition, 1988, 42페이지에서 검색할 수 있다.
양이온 계면 활성제는 일반적으로 대략 8에서 대략 18개의 탄소 원자들로 구성된 4차 지방족 암모늄 화합물(fatty quatenary ammonium aonpounds)을 포함하나 이에 한정되지는 않는다. 사차 암모늄 화합물의 음이온은 클로라이드, 에토술페이트(ethosulfate), 메토술페이트(methosulfate), 아세테이트(acetate), 브로마이드(bromide), 락테이트(lactate), 니트레이트(nitrate), 포스페이트(phosphate), 또는 토실레이트(tosylate) 및 이들의 혼합물과 같은 공통 이온(common ion)일 수 있다. 장쇄 알킬기(long chain alkyl group)는 추가되거나 치환된 탄소 또는 수소 원자 또는 다른 연결기를 포함할 수 있다. 사차 질소상의 다른 대체물은 수소, 수소, 벤질 또는 단쇄 알킬 또는 메틸, 에틸, 하이드록시메틸 또는 하이드록시에틸, 하이드록시프로필 또는 또는 그들의 조합과 같은 하이드록시알킬기일 수 있다. 상기 구조 또는 대표적인 4차 암모늄 화합물은 CTFA Cosmetic Ingredient Handbook, Fifth Edition, 1988, 40페이지에서 제공된다.
4차 암모늄 화합물들의 예들로는 이하의 물질들을 포함하지만 여기에 한정되지는 않는다: 베헨트리모늄 클로라이드(behentrimonium chloride), 코코트리모늄 클로라이드(cocotrimonium chloride), 세테틸디모늄 브로마이드(cethethyldimonium bromide), 디베헤닐디모늄 클로라이드(dibehenyldimonium chloride), 디하이드로제네이티드 탈로우 벤질모늄 클로라이드(dehydrogenated tallow benzylmonium chloride), 디소야디모늄 클로라이드(disoyadimonium chloride), 디탈로우디모늄 클로라이드(ditallowdimonium chloride), 하이드록시세틸 하이드록시에틸 디모늄 클로라이드(hydroxycetyl hydroxyethyl dimonium chloride), 하이드록시에틸 베헤나미도프로필 디모늄 클로라이드(hydroxyethyl behenamidopropyl dimonium chloride), 하이드록시에틸 세틸디모늄 클로라이드(hydroxyethyl cetyldimonium chloride), 하이드록시에틸 탈로우디모늄 클로라이드(hydroxyethyl tallowdimonium chloride), 미리스탈코늄 클로라이드(myristalkonium chloride), PEG-2 올레아모늄 클로라이드(PEG-2 oleamonium chloride), PEG-5 스테아르모늄 클로라이드(PEG-5 stearmonium chloride), PEG-15 코코일 쿼터늄 4(PEG-15 cocoyl quaternium 4), PEG-2 스테아랄코늄 4(PEG-2 stearalkonium 4), 라우릴트리모늄 클로라이드(lauryltrimonium chloride); 쿼터늄-16(Quaternium-16); 쿼터늄-18(Quaternium-18), 라우르알코늄 글로라이드(lauralkonium chloride), 올레알크모늄 클로라이드(olealkmonium chloride), 세틸피리디늄 클로라이드(cetylpyridinium chloride), 폴리쿼터늄-5, 폴리쿼터늄-6, 폴리쿼터늄-7, 폴리쿼터늄-10, 폴리쿼터늄-22, 폴리쿼터늄-37, 폴리쿼터늄-39, 폴리쿼터늄-47, 폴리쿼터늄-55, 세틸 트리모늄 클로라이드(cetyl trimonium chloride), 디라우릴디모늄 클로라이드(dilauryldimonium chloride), 세탈코늄 클로라이드(cetalkonium chloride), 디세틸디모늄 클로라이드(dicetyldimonium chloride), 소야트리모늄 클로라이드(soyatrimonium chloride), 스테아릴 옥틸 디모늄 메토설페이트(stearyl octyl dimonium methosulfate) 및 그 혼합물들을 포함한다. 기타 4차 암모늄 화합물들은 여기에 참고로 포함된 CTFA Cosmetic Ingredient Handbook, First Edition, 41-41 페이지에 수록되어 있다.
화장용으로 허용가능한 조성물들에는 대략 C10 내지 C22로 된 이중 장쇄 아민류, 대략 CC10 내지 C22로 된 장쇄 아민류 및 그 혼합물들을 포함할 수 있다. 특정한 예들로는 디팔미틸아민(dipalmitylamine), 라우라미도프로필디메틸(lauramidoproyldimethyl), 스테아라미도프로필 디메틸아민(stearamidopropyl dimethylamine)을 포함한다.
본 발명의 화장용으로 허용가능한 조성물들에는 또한 화장용으로 허용가능한 조성물들의 에멀션 또는 분산 형태들의 안정화에 이용할 수 있는 지방족 알코올들(통상적으로는 1가 알코올), 에톡시화된 지방족 알코올들 및 디-테일 포스포리피드들(di-tail phospholipids)을 포함할 수 있다. 상기 조성물들은 또한 화장용으로 허용가능한 점성을 제공한다. 비록 거의 포화 알칸올로 된 C10 내지 C32, 바람직하게는 C14 내지 C22의 지방족 사슬들을 지니는 것으로 특징을 지닌 이러한 알코올들이 일반적으로 사용되지만, 지방족 알코올의 선택은 중요하지 않다. 이러한 예들로는 스테아릴 알코올(staearyl alcohol), 세틸 알코올(cetyl alcohol), 세토스테아릴 알코올(cetostearyl alcohol), 미리스틸 알코올(myristyl alcohol), 베헤닐 알코올(behenyl alcohol), 아라치딕 알코올(arachidic alcohol), 이소스테아릴 알코올(isostearyl alcohol), 및 이소세틸 알코올(isocetyl alcohol)을 포함한다. 세틸 알코올이 바람직하고 단독으로 또는 기타 다른 지방족 알코올들, 바람직하게는 스테아릴 알코올과 조합하여 사용할 수 있다. 사용할 때에는, 지방족 알코올은 본 발명의 제제(formulations)에 대략 1 내지 8 중량 퍼센트, 좀 더 바람직하게는 2 내지 6 중량 퍼센트의 농도 범위에서 지방족 알코올을 포함시킨다. 지방족 알코올들을 또한 에톡시화할 수 있다. 특정한 예들로는 세테레스-20(cetereth-20), 스테아레스-20(steareth-20), 스테아레스-21(steareth-21) 및 그 혼합물들을 포함한다. 포스파티딜세린(phosphatidylserine) 및 포스파티딜콜린(phosphatidylcholine)과 같은 인지질들 및 그 혼합물들을 또한 포함할 수 있다.
본 발명의 화장용으로 허용가능한 조성물에 사용될 수 있는 비이온성 계면활성제로는 알킬렌 옥사이드 기들(alkylene oxide groups)(성질상 친수성)과 성질상 지방족이거나 알킬 방향족일 수 있는 유기 소수성 화합물과의 축합에 의해 제조된 화합물들로 광범위하게 정의되는 것들을 포함한다. 비이온성 계면활성제들의 바람직한 종류의 예들로는 장쇄 알칸올아미드들(long chain alkanolamides); 알킬 페놀들(alkyl phenols)의 폴리에틸렌 옥사이드 축합체들; 직선 사슬 또는 가지 친 사슬 구조로 된(in either straight chain or branched chain configuration) 대략 8 내지 18 탄소 원자들을 지닌 지방족 알코올들과 에틸렌 옥사이드와의 축합 생성물; 장쇄 3차 산화 아민들(amine oxides); 장쇄 3차 산화 포스핀들(tertiary phosphine oxides); 대략 1개 내지 3개의 탄소 원자들의 단쇄 알킬 또는 하이드록시 알킬 라디칼을 포함하는 장쇄 디알킬설폭사이드들(dialkyl sulfoxides); 및 알킬 폴리글리코사이드들(alkyl polyglycosides)과 같은 알킬 폴리사카라이드(alkyl polysaccharide; APS) 계면활성제들; 폴리에틸렌 글리콜(polyethylene glycol; PEG) 글리세릴 지방족 에스테르들이다.
베타인들(betaines)과 같은 양쪽성(zwitterionic) 계면활성제들은 또한 본 발명의 화장용으로 허용가능한 조성물에 유용할 수 있다. 여기에 유용한 베타인의 예들로는 코코 디메틸 카복시메틸 베타인(coco dimethyl carboxymethyl betaine), 코코아미도프로필 베타인(cocoamidopropyl betaine), 코코베타인(cocobetaine), 라우릴 아미도프로필 베타인(lauryl amidopropyl betaine), 올레일 베타인(oleyl betaine), 라우릴 디메틸 카복시메틸 베타인(lauryl dimethyl carboxymethyl betaine), 라우릴 디메틸 알파카복시에틸 베타인(lauryl dimethyl alphacarboxyethyl betaine), 세틸 디메틸 카복시메틸 베타인(cetyl dimethyl carboxymethyl betaine), 라우릴 비스-(2-하이드록시에틸) 카복시메틸 베타인(lauryl bis-(2-hydroxyethyl) carboxymethyl betaine), 스테아릴 비스-(2-하이드록시프로필) 카복시메틸 베타인(stearyl bis-(2-hydroxypropyl) carboxymethyl betaine), 올레일 디메틸 감마- 카복시프로필 베타인(oleyl dimethyl gamma- carboxypropyl betaine) 및 라우릴 비스-(2-하이드록시프로필)알파-카복시에틸 베타인(lauryl bis-(2-hydroxypropyl)alpha-carboxyethyl betaine)과 같은 고 알킬 베타인들(high alkyl betaines)을 포함한다. 설포베타인들(sulfobetaines)은 코코 디메틸 설포프로필 베타인(coco dimethyl sulfopropyl betaine), 스테아릴 디메틸 설포프로필 베타인(stearyl dimethyl sulfopropyl betaine), 라우릴 디메틸 설포에틸 베타인(lauryl dimethyl sulfoethyl betaine), 라우릴 비스-(2-하이드록시에틸) 설포프로필 베타인(lauryl bis-(2- hydroxyethyl) sulfopropyl betaine) 등으로 나타낼 수 있다; RCONH(CH2)3 라디칼이 베타인의 질소 원자에 붙어있는 아미도베타인들(amidobetaines) 및 아미도설포베타인들(amidosulfobetaines) 또한 본 발명에 유용하다.
본 발명의 화장용으로 허용가능한 조성물에 사용되는 음이온, 양이온, 비이온. 양쪽성 이온(amphoteric or zwitterionic) 계면활성제들은 통상적으로 중량비로 대략 0.1 내지 50 퍼센트, 바람직하게는 대략 0.5 내지 40 퍼센트, 더욱 바람직하게는 대략 1 내지 20 퍼센트의 양으로 사용된다.
본 발명의 화장용으로 허용가능한 조성물에는 흡수되어, 머금어서 유지되는 수분의 양을 증가시키는 흡습제(hygroscopic agent)로 작용하는 보습제들(humectant)을 포함할 수 있다. 본 발명의 제제에 적당한 보습제들로는 이하의 물질들을 포함하지만 이에 한정되지 않는다: 아세트아미드 MEA(acetamide MEA), 젖산 암모늄(ammonium lactate), 키토산 및 그 유도체들, 콜로이드성 오트밀, 갈락토아라비난, 글루코스 글루타메이트, 글레레시스-7(glerecyth-7), 글리게리스-12(glygeryth-12), 글리세레스-26(glycereth-26), 글리세리스-31(glyceryth-31), 글리세린, 락타미드 MEA(lactamide MEA), 락타미드 DEA(lactamide DEA), 젖산, 메틸 글루세스-10(methyl gluceth-10), 메틸 글루세스-20(methyl gluceth-20), 판테놀, 프로필렌 글리콜, 소르비톨, 폴리에틸렌 글리콜, 1,3-부탄디올(1,3-butanediol), 1,2,6-헥산트리올(1,2,6-hexanetriol), 환원물엿(hydrogenated starch hydrolysate), 이노시톨(inositol), 만니톨(mannitol), PEG-5 펜타에리스리톨 에테르(PEG-5 pentaerythritol ether), 폴리글리세릴 소르비톨(polyglyceryl sorbitol), 자일리톨, 수크로오스(sucrose), 히알루론산 나트륨, 소듐 PCA(sodium PCA), 및 그 조합물들. 글리세린은 특히 바람직한 보습제이다. 보습제는 중량비로 대략 0.5 내지 40 퍼센트, 바람직하게는 0.5 내지 20 퍼센트, 더 바람직하게는 0.5 내지 12 퍼센트의 농도로 조성물에 존재한다.
본 발명의 화장용으로 허용가능한 조성물에는 선택시에 일반적으로 USP 또는 NF 급인 바셀린 또는 광유 구성요소들을 포함할 수 있다. 바셀린은 백색 또는 황색일 수 있다. 바셀린의 점도 또는 점조도(consistency)의 정도(grade)는 그다지 중요하지는 않다. 바셀린을 모양 및 점조도에서 바셀린과 닮은 것으로 형성될 수 있는 탄화수소 물질들의 혼합물들로 부분적으로 교체할 수 있다. 예를 들어, 상이한 왁스 등을 지닌 바셀린 또는 광유의 혼합물들을 조합할 수 있다. 바람직한 왁스들로는 베이베리 왁스(bayberry wax), 칸델릴라 왁스(candelilla wax), 세레신(ceresin), 조조바 버터(jojoba butter), 라놀린 왁스(lanolin wax), 몬탄 왁스(montan wax), 지랍(ozokerite), 폴리글리세릴-3-밀랍(polyglyceryl-3-beewax), 폴리글리세릴-6-펜타스테아레이트(polyglyceryl-6-pentastearate), 미결정화 왁스(microcrystalline wax), 파라핀 왁스, 이소파라핀(isoparaffin), 바셀린 고체 파라핀, 스쿠알렌(squalene), 올리고머 올레핀들(oligomer olefins), 밀랍, 합성 칸델릴라 왁스, 합성 카르나우바(synthetic carnauba), 합성 밀랍을 포함하고 이들을 함께 혼합할 수 있다. 피부가 보유하는 수분을 증가시키기 위해 치환도가 다양한 알킬메틸 실록산들(alkylmethyl siloxanes)을 사용할 수 있다. 2503 Wax로 알려진 스테아릴 디메티콘(stearyl dimethicone), AMS-C30 왁스로 알려진 C30-45 알킬 메티콘(alkyl methicone) 및 580 Wax로 알려진 스테아록시트리메틸실란 (및) 스테아릴 알코올과 같은 실록산들 각각을 미합중국, Midland, MI 소재 Dow Corning®으로부터 구입할 수 있다. 추가로 알킬 및 페닐 실리콘들을 사용하여 보습성을 향상시킬 수 있다. Dow Corning®93으로 알려진 디메티콘 (및) 트리메틸실록시실리케이트(trimethylsiloxysilicate) 또는 Dow Corning®49 유체로 알려진 시클로메티콘(cyclomethicone) (및) 트리메틸실록시실리케이트과 같은 수지들을 사용하여 스킨 케어 제품들의 막 형성을 향상시킬 수 있다. 사용시에 바셀린, 왁스 또는 탄화수소 또는 오일 구성요소를 대략 1 내지 20 중량 퍼센트, 바람직하게는 대략 1 내지 12 중량 퍼센트의 농도로 제제에 포함할 수 있다. 사용시에 실리콘 수지들을 대략 0.1 내지 10.0 중량 퍼센트의 농도로 포함할 수 있다.
피부연화제들은 피부의 부드럽고, 매끈하며 신축성있는 모양의 유지에 도움을 주는 제제들로 정의된다. 피부연화제들은 피부 표면 또는 각질층에 남아있는 능력에 따라 기능한다. 본 발명의 화장용으로 허용가능한 조성물에는 International Cosmetic Ingredient Dictionary, Eight Edition, 2000, p. 1768 to 1773에 수록된 지방족 에스테르 피부연화제들을 포함할 수 있다. 본 발명의 제제에 사용목적으로 쓰는 적당한 지방족 에스테르의 예들에는 이소프로필 미리스테이트(isopropyl myristate), 이소프로필 팔미테이트(isopropyl palmitate), 카프릴릭/카프릭 트리글리세라이드들(caprylic/capric triglycerides), 세틸 락테이트(cetyl lactate), 세틸 팔미테이트(cetyl palmitate), 수소화한 피마자 유(hydrogenated castor oil), 글리세릴 에스테르들(glyceryl esters), 하이드록시세틸 이소스테아레이트(hydroxycetyl isostearate), 하이드록시 세틸 포스페이트(hydroxy cetyl phosphate), 이소프로필 이소스테아레이트(isopropyl isostearate), 이소스테아릴 이소스테아레이트(isostearyl isostearate), 디이소프로필 세바케이트(diisopropyl sebacate), PPG-5-세테스-20(PPG-5-Ceteth-20), 2-에틸헥실 이소노노에이트(2-ethylhexyl isononoate), 2-에틸헥실 스테아레이트(2-ethylhexyl stearate), C12 내지 C16 지방족 알코올 락테이트(C12 to C16 fatty alcohol lactate), 이소프로필 라놀레이트(isopropyl lanolate), 2-에틸-헥실 살리실레이트(2-ethyl-hexyl salicylate), 및 그 혼합물들을 포함한다. 현재 바람직한 지방족 에스테르들에는 이소프로필 미리스테이트, 이소프로필 팔미테이트, PPG-5-세테스-20 및 카프릴릭/카프릭 트리글리세라이드들이 있다. 사용시에 본 발명의 제제에 지방족 에스테르 피부연화제를 대략 1 내지 8 중량 퍼센트, 바람직하게는 대략 2 내지 5 중량 퍼센트의 농도로 포함한다.
본 발명의 조성물들에는 또한 실리콘 화합물들을 포함할 수 있다. 바람직하게는 온도 25 ℃에서의 실리콘 구성요소의 점도는 대략 0.5 내지 12,500 cps 이다. 이에 적당한 물질의 예들로는 디메틸폴리실록산(dimethylpolysiloxane), 디에틸폴리실록산(diethylpolysiloxane), 디메틸폴리실록산- 디페닐폴리실록산(dimethylpolysiloxane- diphenylpolysiloxane), 시클로메티콘(cyclomethicone), 트리메틸폴리실록산(trimethylpolysiloxane), 디페닐폴리실록산(diphenylpolysiloxane) 및 그 혼합물들이 있다. 디메틸폴리실록산을 트리메틸 단위들로 끝을 봉쇄시킨 디메티콘은 바람직한 한 예이다. 50에서 1,000 cps 사이의 점도를 지닌 디메티콘은 특히 바람직하다. 사용시에 본 발명의 제제에 실리콘 오일을 0.1 내지 5 중량 퍼센트, 바람직하게는 1 내지 2 중량 퍼센트의 농도로 포함한다.
본 발명의 화장용으로 허용가능한 조성물들에는 휘발성 및 비휘발성 실리콘 오일들 또는 유체들을 포함할 수 있다. 상기 실리콘 화합물들에는 대략 0.5 내지 100 센티스톡(centistokes)의 점도를 지닌 직선형 또는 고리형 폴리디메틸실록산들일수 있다. 가장 바람직한 폴리디메틸실록산 화합물들은 대략 0.5 내지 50 센티스톡 범위를 가진다. 직선형, 저분자량, 휘발성 폴리디메틸실록산의 한 예가 대략 1 센티스톡의 점도를 지닌 상표명 Dow Corning®200 유체로 구입가능한 옥타메틸트리실록산(octamethyltrisiloxane)이다. 사용시에 본 발명의 제제에 실리콘 오일을 대략 0.1 내지 30 중량 퍼센트, 바람직하게는 대략 1 내지 20 중량 퍼센트의 농도로 포함한다.
본 발명의 화장용으로 허용가능한 조성물들에는 휘발송, 환형, 낮은 분자령의 폴리디메틸실록산(시클로데티콘)(polydemethylsiloxanes(cyclomethicones))들을 포함할 수 있다. 바람직한 환형 휘발성 실록산들은 평균 4 내지 6의 반복 유니트를 지니고, 대략 2.0 내지 7.0 센티스톡의 점도를 가진 폴리디메틸 시클로옥산 및 그들의 혼합물일 수 있다. 바람직한 시클로메티콘들은 Dow Corning®244 유체, Dow Corning®245 유체, Dow Corning®246 유체, Dow Corning®344 유체 및 Dow Corning®345 유체의 상표명의 Dow Corning, Midland, MI, USA로부터 구입가능하고, 그리고 General Electric, Waterfold, NY, USA로부터 실리콘 SF-1173 및 실리콘 SF-1202로 구입가능하다. 사용시에 본 발명의 제제에 실리콘 오일을 대략 0.1 내지 30 중량 퍼센트, 바람직하게는 대략 1 내지 20 중량 퍼센트의 농도로 포함한다.
폴리옥시에틸렌 또는 폴리옥시프로필렌 측쇄들을 지닌 실리콘 계면활성제들 또는 에멀션화제들(emulsifiers)을 또한 본 발명의 조성물들에 사용할 수 있다. 바람직한 예들에는 디메티콘 코폴리올들(dimethicone copolyols), 미합중국 Midland, MI소재 Dow Corning 사에서 구입 가능한 Dow Corning®3225C 및 5225C 제제 보조제들 및 미합중국 Waterford, NY 소재 General Electric 사에서 구입 가능한 Silicon SF-1528을 포함한다. 측쇄들에는 또한 라우릴 또는 세틸 같은 알킬 그룹들을 포함할 수 있다. Dow Corning®5200 제제 보조제로 알려진 라우릴 메티콘 코폴리올(lauryl methicone copolyol) 및 Hopewell, VA 소재 Goldschmidt Chemical Corporation 사에서 구입 가능한 Abil EM-90으로 알려진 세틸 디메티콘 코폴리올(cetyl dimethicone copolyol)가 바람직하다. 독일연방공화국 Munchen 소재 Wacher-chemie사에서 구입 가능한 Belsil LDM 3107 VP로 알려진 라우릴 디메티콘 또한 바람직하다. 사용시에 본 발명의 제제에 실리콘 계면활성제를 대략 0.1 내지 30 중량 퍼센트, 바람직하게는 대략 1 내지 15 중량 퍼센트의 농도로 포함한다.
아민 작용기 실리콘들 및 에멀션들을 본 발명에 이용할 수 있다. 바람직한 예들에는 미합중국 Midland, MI 소재 Dow Corning사에서 모두 구입 가능한 Dow Corning®8220, Dow Corning®939, Dow Corning®949 및 Dow Corning®2-8194를 포함한다. 미합중국 Waterford, NY 소재 General Electric사에서 구입 가능한 Silicone SM 253 또한 바람직하다. 사용시에 본 발명의 제제에 아민 작용기 실리콘들을 대략 0.1 내지 5 중량 퍼센트, 바람직하게는 대략 0.1 내지 2.0 중량 퍼센트의 농도로 포함한다.
본 발명의 화장용으로 허용가능한 조성물들에는 휘발성 탄화수소 오일들을 포함할 수 있다. 휘발성 탄화수소는 대략 C6 내지 C22개의 원자들을 포함한다. 바람직한 휘발성 탄화수수는 대략 C6 내지 C22개의 탄소 원자들의 사슬 길이를 가지는 지방족 탄화수소이다. 그러한 화합물의 예는 미합중국, South Plainfield, NJ 소재 Presperse에서 상표명 Permethyl 101A으로 구입 가능한 이소헥사데칸(isohexadecane)을 포함한다. 바람직한 휘발성 탄화수소의 또 다른 예는 미합중국 Baytown, TX 소재 Exxon사에서 상표명 Isopar M으로 구입 가능한 C12 내지 C14 인 이소파라핀이다. 사용시에 본 발명의 제제에 휘발성 탄화수소들을 0.1 내지 30 중량 퍼센트, 바람직하게는 대략 1 내지 20 중량 퍼센트의 농도로 포함한다.
본 발명의 화장용으로 허용가능한 조성물에는 양이온 및 양성전해질성 컨디셔닝 고분자들을 포함할 수 있다. 그러한 예들에는 Cosmetic, Toiletry and Fragrance Association(CTFA), 1101 17th Street, N. W., Suite 300, Washington, D.C. 20036에서 발간한 International Cosmetic Ingredient Dictionary에 수록된 것들을 포함하지만 이에 한정되지 않는다. 일반적인 예들에는 셀룰로오스 에테르들의 4차 유도체들(quaternary derivatives), 구아(guar)의 4차 유도체들, DADMAC의 단일중합체들 및 공중합체들, MAPTAC의 단일중합체들 및 공중합체들 및 전분들의 4차 유도체들을 포함한다. CTFA의 명명(CTFA designation)을 이용하여, 특정한 예들로는 폴리쿼터니움-10, 구아 하이드록시프로필트리모늄 클로라이드(Guar hydroxypropyltrimonium chloride), 전분 하이드록시프로필트리모늄 클로라이드, 폴리쿼터니움-4, 폴리쿼터니움-5, 폴리쿼터니움-6, 폴리쿼터니움-7, 폴리쿼터니움-14, 폴리쿼터니움-15, 폴리쿼터니움-22, 폴리쿼터니움-24, 폴리쿼터니움-28, 폴리쿼터니움-32, 폴리쿼터니움-33, 폴리쿼터니움-36, 폴리쿼터니움-37, 폴리쿼터니움-39, 폴리쿼터니움-45, 폴리쿼터니움-47 및 폴리메타크릴아미도프로필트리모늄 클로라이드(polymethacrylamidopropyltrimonium chloride), 폴리쿼터니움-55 및 그 혼합물들을 포함하지만 여기에 한정되지 않는다. 사용시에 본 발명의 화장용으로 허용가능한 조성물에는 컨디셔닝 고분자들을 0.1 내지 10 중량 퍼센트, 바람직하게는 대략 0.2 내지 6 중량 퍼센트 그리고 가장 바람직하게는 0.2 내지 5 중량 퍼센트의 농도로 포함한다.
본 발명의 화장용으로 허용가능한 조성물은 하나 이상의 유동성 개질제들을 포함 할 수 있다. 본 발명에 이용될 수 있는 유동성 개질제들에는 아크릴산의 고분자량 교차결합 단일중합체, 미합중국 Cleveland, OH 소재 Noveon, Inc. 사에서 구입 가능한 Carbopol®및 Pemulen®계열과 같은 아크릴레이트들/C10-30 알킬 아크릴레이트 교차중합체(Crosspolymer); Salcare®AST과 같은 음이온 아크릴레이트 고분자들, Salcare® SC96과 같은 양이온 아크릴레이트 고분자들, 상기 상표명의 상품들 모두 미합중국 High Point, NC 소재 Ciba Specialties 사에서 구입 가능하고; 아크릴아미도프로필트리모늄 클로라이드(acrylamidopropyltrimonium chloride)/아크릴아미드; 하이드록시에틸 메타크릴레이트 중합체들(hydroxyethyl methacrylate polymers), 스테아레스-10 알릴 에테르/아크릴레이트 공중합체(Steareth-10 Allyl Ether/Acrylate Copolymer); 미합중국 Wayne, NJ 소재 Rohm and Haas/International Specialties 사에서 구입 가능한 Aculyn® 28로 알려진 아크릴레이트들/베헤네트-25 메타크릴레이트 공중합체; 글리세릴 폴리메타크릴레이트, 아크릴레이트들/스테아레스-20 메타크릴레이트 공중합체; 벤토나이트(bentonite); 알긴산염들과 같은 검들, 카라기난들, 검 아카시아(gum acacia), 검 아라빅(gum arabic), 검 게티, 검 카라야, 검 트라가칸스(gum tragacanth), 구아 검; 구아 하이드록시프로필트리모늄 클로라이드, 크산탄 검 또는 겔란 검; 소듐 카복시메틸 셀룰로오스(sodium carboxymethyl cellulose), 하이드록시에틸 셀룰로오스, 하이드록시메틸 카복시에틸 셀룰로오스(hydroxymethyl carboxyethyl cellulose), 하이드록시메틸 카복시프로필 셀룰로오스(hydroxymethyl carboxypropyl cellulose), 에틸 셀룰로오스(ethyl cellulose), 설페이티드 셀룰로오스(sulfated cellulose), 하이드록시프로필 셀룰로오스(hydroxypropyl cellulose), 메틸 셀룰로오스, 하이드록시프로필메틸 셀룰로오스(hydroxypropylmethyl cellulose), 미세결정성 셀룰로오스(microcrystalline cellulose)와 같은 셀룰로오스 유도체; 아가; 펙틴; 젤라틴; 전분 및 그 유도체들; 키토산 및 하이드록시에틸 키토산(hydroxyethyl chitosan)같은 그 유도체들; 폴리비닐 알코올, PVM/MA 공중합체, PVM/MA 데카디엔(decadiene) 교차중합체, 폴리(에틸렌 옥사이드)계 농후제(poly(ethylene oxide) based thickeners), 소듐 카보머(sodium carbomer) 및 그 혼합물들을 포함하지만 여기에 한정되는 것은 아니다. 사용시에 본 발명의 화장용으로 허용가능한 조성물에 유동성 개질제들을 0.01 내지 12 중량 퍼센트, 바람직하게는 대략 0.05 내지 10 중량 퍼센트, 가장 바람직하게는 0.1 내지 6 중량 퍼센트의 농도로 포함한다.
본 발명의 화장용으로 허용가능한 조성물에는 아스코르빈산, BHT, BHA, 에리토브산, 아황산염, 티오글리콜레이트(thioglycolate), 토코페롤, 소듐 메타비설파이트(sodium metabisulfite), 비타민 E 아세테이트 및 아스코르빌 팔미테이트를 포함 하지만 여기에 한정되지 않는 하나 이상의 항 산화제들을 포함할 수 있다. 황 산화제들은 화장용으로 허용가능한 조성물의 0.01 내지 5 중량 퍼센트, 바람직하게는 0.1 내지 3 중량 퍼센트, 가장 바람직하게는 0.2 내지 2 중량 퍼센트의 농도로 존재한다.
본 발명의 화장용으로 허용가능한 조성물에는 하나 이상의 일광차단 활성화제들을 포함할 수 있다. 일광차단 활성화제의 예들에는 메톡시나메이트(에틸헥실 p-메톡시나메이트)(methoxycinnamate (ethylhexyl p-methoxycinnamate)), 옥틸 살리실레이트 옥시벤존(벤조페논-3)(octyl salicylate oxybenzone (benzophenone-3)), 벤조페논-4, 메틸 안트라닐레이트(menthyl anthranilate), 디옥시벤존(dioxybenzone), 아미노벤조산, 아밀 디메틸 PABA(amyl dimethyl PABA), 디에탄올아민 p-메톡시 시나메이트(cinnamate), 에틸 4-비스 (하이드록시프로필) 아미노벤조에이트(aminobenzoate), 2-에틸헥실-2-사이아노-3, 3- 디페닐아크릴레이트(2-ethylhexyl-2-cyano-3, 3- diphenylacrylate), 호모메틸 살리실레이트, 글리세릴 아미노벤조에이트(glyceryl aminobenzoate), 디하이드록시아세톤(dihydroxyacetone), 옥틸 디메틸 PABA(octyl dimethyl PABA), 2-페닐벤즈이미다졸-5-술폰산(2-phenylbenzimidazole-5-sulfonic acid), 트리에탄올아민 살리실레이트(triethanolamine salicylate), 산화 아연, 및 산화 티타늄 및 그 혼합물들을 포함하지만 여기에 한정되지 않는다. 본 발명의 화장용으로 허용가능한 조성물에 사용된 일광 차단제의 양은 사용된 특정 일광차단 활성제들의 특정 자외선 흡수 파장에 따라 다르고, 0.1 내지 10 중량 퍼센트 및 2 내지 8 중량 퍼센트일 수 있다.
본 발명의 화장용으로 허용가능한 조성물에는 하나 이상의 보존제들을 포함할 수 있다. 보존제의 예들로는 1,2- 디브로모-2, 4-디사이아노 부탄(1,2- dibromo-2, 4-dicyano butane)(미합중국 Naperville, IL 소재 Ondeo Nalco Company에서 구입 가능한 MERGUARD®로 알려진 메틸디브로모 글루타로니트릴 (Methyldibromo Glutaronitrile), 벤질 알코올, 이미다졸리디닐 우레아(imidazolidinyl urea), 1,3-비스 (하이드록시메틸)-5, 5-디메틸-2, 3-이미다졸리딘디온(1,3-bis (hydroxymethyl)-5, 5-dimethyl-2, 3-imidazolidinedione)(예, 미합중국 Fairlawn, NJ 소재 에서 구입 가능한 GLYDANT®으로 알려진 DMDM 히단토인), 메틸클로로이소티아졸리논 및 메틸이소티아졸리논(methylchloroisothiazolinone and methylisothiazolinone) (예., 미합중국 Philadelphia, PA 소재 Rohm & Haas Co.의 Kathon®), 메틸 파라벤, 프로필 파라벤, 페녹시에탄올(phenoxyethanol), 및 소듐 벤조에이트(sodium benzoate) 및 그 혼합물들을 포함하지만 여기에 한정되지 않는다.
본 발명의 화장용으로 허용가능한 조성물에는 주로 화장품에 사용되는 어떤 다른 성분을 포함 할 수 있다. 그러한 성분의 예들로는 완충제들, 방향성분들, 킬레이트제들, 조성물 그 자체 또는 케라틴에 색깔을 줄 수 있는 색소 첨가제들 또는 염료들, 봉쇄제들(sequestering agents), 연화제들(softeners), 거품 촉진제들(foam synergistic agents), 거품 안정제들, 태양 필터들 및 풀림제들을 포함하지만 여기에 한정되지 않는다.
산화 티타늄, 산화 아연, 탈크, 탄산 칼슘 또는 카올린 같은 색소들의 표면을 여기에 설명한 음이온 고분자로 처리할 수 있고 그러고 나서 본 발명의 화장용으로 허용가능한 조성물에 사용할 수 있다. 이렇게 처리된 색소들은 일광 차단제로 효과가 더 좋으며 메이크업 및 마스카라 같은 색채 화장에 이용된다.
본 발명의 화장용으로 허용가능한 조성물은 물 및 또한 어떤 화장용으로 허용가능한 용매를 포함할 수 있다. 허용 가능한 용매의 예들로는 단독으로 또는 혼합물로 사용되는 1개 내지 8개의 탄소 원자를 지닌 알칸올들과 같은 모노알코올들(에탄올, 이소프로판올, 벤질 알코올 및 페닐에틸 알코올과 같은 물질), 알킬렌 글리콜들(alkylene glycols)과 같은 폴리알코올(글리세린, 에틸렌 글리콜 및 프로필렌 글리콜 같은 물질), 모노-, 디- 및 트리-에틸렌 글리콜 모노알킬 에테르들과 같은 글리콜 에테르들, 예를 들어, 에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르(ethylene glycol monoethyl ether) 및 디에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르를 포함하지만 여기에 한정되지 않는다. 이러한 용매들은 전제 조성물의 중량에 대해 예를 들어, 0.1 내지 70 중량 퍼센트 즉, 최대 70 중량 퍼센트까지의 비율로 존재할 수 있다.
본 발명의 화장용으로 허용가능한 조성물에는 또한 알루미늄 클로로하이드레이트(aluminum chlorohydrate), 알칼리 금속염, 예를 들어, 나트륨, 칼륨 또는 리튬염, 염소 또는 브롬과 같은 바람직하게는 할라이드인 이러한 염들, 황산염, 또는 아세트산염 또는 젖산염과 같은 유기산으로 된 염들 및 또한 칼슘, 마그네슘 및 스트론튬의 알칼리 토금속염들, 바람직하게는 탄산염들, 규산염들, 질산염들, 아세트산염, 글루코산염들, 판토텐산염들 및 젖산염들을 함유할 수 있다.
피부 처리용의 조성물들에는 에프터세이브, 선스크린, 로션, 핸드 및 바디 크림, 액체 비누, 막대형 비누(bar soap), 바스 오일 바(bath oil bar), 면도 거품, 주방 세제, 샤워 젤(shower gel), 버블 바스(bubble bath) 등을 포함한다.
본 발명의 피부 케어 조성물들은 물 속에 오일이 분산하거나(oil-in-water) 오일 속에 물이 분산하는(water-in-oil) 에멀션 형태, 삼중 에멀션들(triple emulsions) 또는 분산매들의 형태로 제조될 수 있다.
바람직한 물 속에 오일이 분산하는 에멀션의 형태들은 우선 물에 녹는 구성요소들의 수성 혼합물, 예를 들어, 불포화 4차 암모늄 화합물들, 보습제, 물에 녹는 보존제들을 형성하고 후속적으로 물에 녹지 않는 구성요소들을 첨가하여 제조된다. 물에 녹지 않는 구성요소들에는 에멀션화제, 물에 녹지 않는 보존제들, 바셀린 또는 광유 구성요소, 지방족 알코올 구성요소, 지방족 에스테르 피부연화제 및 실리콘 오일 구성요소를 포함한다. 혼합 에너지의 유입은 높고 매끈한 모양을 지닌 오일 속에 물이 분산하는 에멀션을 형성하기에 충분한 시간 동안 유지한다(에멀션에 상대적으로 작은 미셀들(micelles)의 존재를 나타냄). 분산매로 바람직한 형태는 일반적으로 물에 녹는 구성요소들의 수용성 혼합물을 형성하고 물에 녹지 않는 물질들을 위해 현탁력(suspension power)을 지닌 농후제를 첨가하여 제조된다.
본 발명의 화장용으로 허용가능한 조성물은 또한 에어로졸 형태로 포장될 수 있는데, 그런 경우에 에어로졸 스프레이 형태나 에어로졸 거품형태 어느 하나로 응용될 수 있다. 이러한 에어로졸용 추진 기체로 특히 디메틸 에테르, 이산화탄소, 질소, 일산화질소, 공기 및 부탄, 이소부탄 및 프로판과 같은 휘발성 탄화수소들을 사용할 수 있다.
모발 처리용 조성물들에는 버블 바스, 비누 및 오일 같은 목욕용 제제들, 샴푸, 컨디셔너, 모발 표백제(bleach), 염모제(hair coloring preparation), 일시적 및 영구적 염모제(temporary and permanent hair color), 컬러 컨디셔너(color conditioner), 헤어 라이트너(hair lightener), 염색 및 비염색 모발 린스(coloring and non-coloring hair rinse), 헤어 틴트(hair tint), 헤어 웨이브 셋(hair wave set), 퍼머, 컬링, 헤어 스트레이트너(hair straightener), 모발 그루밍 보조제(hair grooming aid), 헤어 토닉(hair tonic), 헤어 드레싱 및 산화제품들을 포함한다. 조절을 제공하며 청결하고, 자연스럽고, 달라붙지 않는 느낌으로 모발을 조작할 수 있게 하기 위하여 소수성으로 개질된 고분자들을 단독으로 또는 다른 고분자들 또는 구조제들과 조합하여, 젤, 무스, 스프리츠(spritze), 스타일링 크림(styling cream), 스타일링 왁스(styling wax), 포마드(pomade), 향유(balm) 등과 같은 스타일링 형태의 바르는(leave-in) 제품에 이용할 수 있다.
본 발명의 모발 케어 조성물들은 미끌미끌한 느낌을 주고 소수성으로 개질된 고분자, 휘발성 실리콘들, 기타 고분자들, 계면활성제 또는 모발상에 물질들의 증착을 바뀌게 할 수 있는 기타 혼합물들의 존재로 인하여 모발로부터 용이하게 헹궈질 수 있다.
모발 세척용 샴푸 또는 피부 세척용 액체 손 비누 또는 샤워 겔과 같은 클렌징 제제들의 경우, 그 조성물들은 통상적으로 대략 3 내지 50 중량 퍼센트, 바람직하게는 대략 3 내지 20 퍼센트의 양을 지닌 음이온, 양이온, 비이온, 양쪽성 이온 계면 활성제들을 포함하고 그 pH는 대개 대략 3 내지 10의 범위에 있다.
본 발명의 샴푸로 바람직한 형태는 음이온 계면활성제들과 쯔비테리온 양쪽성 계면활성제들 및/또는 암포테릭 양쪽성 계면활성제들과의 조합들을 포함한다. 샴푸로 특히 바람직한 형태는 대략 0 내지 16 퍼센트의 알킬 황산염들, 0 내지 대략 50 중량 퍼센트의 에톡시화된 알킬 황산염들 및 비이온, 양쪽성 이온 계면활성제들로부터 선택된 0 내지 대략 50 중량 퍼센트의 선택적인 계면활성제들과 적어도 5 중량 퍼센트의 알킬 황산염, 에톡시화된 알킬 황산염 또는 그 혼합물 및 총 계면활성제 수준 대략 10 내지 25 중량 퍼센트를 포함한다.
모발 세척용의 샴푸는 또한 샴푸에 통상적으로 쓰이는 실리콘 및 컨디셔닝 고분자들과 같은 기타 컨디셔닝 첨가물들을 함유한다. 미합중국 Patent No. 5,573,709는 샴푸들에 쓰일 수 있는 비휘발성 실리콘 컨디셔닝 제제들의 목록을 제공한다. 본 발명에 사용되는 컨디셔닝 고분자들은 Cosmetic, Toiletries and Frangrance Associations(CTFA) dictionary에 수록되어 있다. 특정한 예들로는 폴리커터니움들(예 폴리쿼터니움-1 내지 폴리쿼터니움-53), 구아 히드록시프로필 트리모늄 클로라이드(guar hydroxypropyl trimonium chloride), 전분 히드록시프로필 트리모늄 클로라이드 및 폴리메타크릴아미도프로필 이리모늄 클로라이드(polymethacrylamidopropyl yrimonium chloride)를 포함한다.
기타 바람직한 실시예들은 주로 샴푸 사용전 또는 후에 적용되는 린싱 로션의 형태로의 사용을 구성한다. 이러한 로션들은 통상적으로 수용성 또는 수용성-알코올 용액, 에멀션, 증점된 로션 또는 젤들이다. 만약 조성물들이 에멀션의 형태로 제시된다면, 그러한 조성물들은 비이온, 음이온 또는 양이온일 수 있다. 비이온 에멀션들은 주로 오일 및/또는 지방족 알코올과 폴리옥시에틸렌화된(polyoxyethyleneated) 스테아릴 또는 세틸/스테아릴 알코올과 같은 폴리옥시에틸렌화된 알코올의 혼합물로 구성되어 있고, 양이온 계면활성제를 이러한 조성물들에 첨가할 수 있다. 음이온 에멀션들은 근본적으로 비누로부터 형성된다.
만약 조성물들이 증점된 로션 또는 젤의 형태로 제시된다면, 이러한 조성물들은 용매가 존재하거나 부재한 농후제를 함유한다. 사용될 수 있는 농후제들로는 특히 수지, B.F. Goodrich에서 구입 가능한 아크릴산 농후제들; 크산탄 검들; 알긴산 나트륨; 검 아라빅; 셀룰로오스 유도체들 및 폴리(에틸렌 옥사이드)계 농후제들이고, 폴리에틸렌 글리콜 스테아레이트 또는 디스테아레이트의 혼합물에 의하거나 인산 에스테르 및 아미드의 혼합물에 의해 증점을 이룰 수 있다. 농후제의 농도는 일반적으로 0.05 내지 15 중량 퍼센트이다. 만약 조성물들이 스타일링 로션, 쉐이핑 로션 또는 세팅 로션의 형태로 제시된다면, 이러한 조성물들은 상기에서 정의한 양성전해질을 수용성, 알코올성 또는 수용성-알코올성 용액으로 포함한다.
모발 고착제들(hair fixatives)의 경우에, 조성물은 또한 하나 이상의 추가적인 모발 고착성 고분자들을 함유한다. 추가적인 모발 고착성 고분자들은 대략 0.25 내지 대략 10 중량 퍼센트의 총량으로 존재한다. 추가적인 모발 고착 수지는 주어진 소수성으로 개질된 고분자와 양립 될 수 있는 한 이하의 그룹으로부터 선택될 수 있다: 아크릴아미드 공중합체, 아크릴아미드/소듐 아크릴레이트 공중합체(sodium acrylate copolymer), 아크릴레이트/암모늄 메타크릴레이트 공중합체, 아크릴레이트 공중합체, 아크릴릭/아크릴레이트 공중합체, 아디프산/디메틸아미노히드록시프로필 디에틸렌트리아민 공중합체, 아디프산/에폭시프로필 디에틸렌트리아민 공중합체, 알릴 스테아레이트/VA 공중합체, 아미노에틸아크릴레이트 포스페이트/아크릴레이트 공중합체, 암모늄 아크릴레이트 공중합체, 암모늄 비닐 아세테이트/아크릴레이트 공중합체, AMP 아크릴레이트/디아세톤아크릴아미드 공중합체, AMPD 아크릴레이트/디아세톤아크릴아미드 공중합체, 에틸렌/말레익 안하이드라이드의 부틸 에스테르 공중합체, PVM/MA의 부틸 에스테르 공중합체, 칼슘/소듐 PVM/MA 공중합체, 옥수수 전분/아크릴아미드/소듐 아크릴레이트 공중합체, 디에틸렌 글리콜아민/에피클로로히드린/피페라진-공중합체, 도데칸디온산/세테아릴 알코올/글리콜 공중합체, PVM/MA의 에틸 에스테르 중합체, PVM/MA의 이소프로필 에스테르 중합체, 카라야 검, 메타크릴오일 에틸 베타인/메타크릴레이트 공중합체, 옥틸아크릴아미드/아크릴레이트/부틸아미노에틸 메타크릴레이트 공중합체, 옥틸아크릴아미드/옥틸레이트 공중합체, 프탈릭 안하이드라이드/글리세린/글리시딜 데카노에이트 공중합체(glycidyl decanoate copolymer), 프탈릭/트리멜리틱/글리콜 공중합체, 폴리아크릴아미드, 폴리아크릴아미도메틸프로판 술폰산, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸아크릴레이트, 폴리에틸렌, 폴리쿼터니움-1, 폴리쿼터니움-2, 폴리쿼터니움-4, 폴리쿼터니움-5, 폴리쿼터니움-6, 폴리쿼터니움-7, 폴리쿼터니움-8, 폴리쿼터니움-9, 폴리쿼터니움-10, 폴리쿼터니움-11, 폴리쿼터니움-12, 폴리쿼터니움-13, 폴리쿼터니움-14, 폴리쿼터니움-15, 폴리쿼터니움-39, 폴리쿼터니움-47, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐 부티랄, 폴리비닐 이미다졸리늄 아세테이트(polyvinyl imidazolinium acetate), 폴리비닐 메틸 에테르, PVM/MA 공중합체, PVP, PVP/디메틸아미노에틸메타크릴레이트 공중합체, PVP/에이코센 공중합체, PVP/에틸 메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체, PVP/헥사데신 공중합체, PVP/VA 공중합체, PVP/비닐 아세테이트 /이타콘산 공중합체, 셸락, 소듐 아크릴레이트 공중합체, 소듐 아크릴레이트/아크릴나이트로젠(Acrylnitrogens) 공중합체, 소듐 아크릴레이트/비닐 알코올 공중합체, 소듐 카라기난(sodium carrageenan), 전분 디에틸아미노에틸 에테르, 스테아릴비닐 에테르/말레익 안하이드라이드(maleic anhydride) 공중합체, 수크로스 벤조에이트/수크로스 아세테이트 이소부티레이트(sucrose acetate isobutyrate)/부틸 벤질 프탈레이트 공중합체, 수크로스 벤조에이트/수크로스 아세테이트 이소부티레이트/부틸 벤질 프탈레이트/메틸 메타크릴레이트 공중합체, 수크로스 벤조에이트/수크로스 아세테이트 이소부티레이트 공중합체, 비닐 아세테이트/크로토네이트 공중합체, 비닐 아세테이트/크로톤산 공중합체, 비닐 아세테이트/크로톤산/메타크릴록시벤조페논(methacryloxybenzophenone)-1 공중합체, 비닐 아세테이트/크로톤산/비닐 네오데카노에이트 공중합체 및 그 혼합물들. 스타일링 보조제들의 생성에 사용되는 합성 고분자들을 여기에 참고로 포함한 "헤어 케어에서 고분자들의 역사" Cosmetics and Toiletries, 103(1988)에 설명하였다. 본 발명에 사용될 수 있는 기타 합성 고분자들을 여기에 참고로 포함한 CTFA Dictionary, Fifth Edition, 2000에 참고할 수 있다.
본 발명의 조성물들을 케라틴 섬유들, 특히 사람의 모발의 염색에 사용하려 한다면, 그러한 조성물들은 소수성으로 개질된 고분자에 더하여 적어도 하나의 산화 염료 전구체 및/또는 하나의 직접 염료(direct dyestuff)를 함유한다. 그러한 조성물들은 또한 주로 이러한 유형의 조성물에 사용되는 어떤 다른 보조제(adujuvant)를 함유한다.
염색 조성물들의 pH는 일반적으로 7 내지 11이고 알칼리화 제제(alkalizing agent)를 첨가하여 원하는 값으로 조절할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물들을 또한 모발에 웨이브를 주거나 모발을 펴는데 사용할 수 있다. 이런 경우에, 조성물은 일반적으로 소수성으로 개질된 고분자에 더하여, 하나 이상의 환원제들을 함유하고, 적절하다면 주로 이런 유형의 조성물에 다른 보조제들을 사용할 수 있다; 그러한 조성물들을 중화 조성물(neutralizing composition)에 함께 사용목적을 둘 수 있다.
실시예에서, 본 발명은 폴리아크릴아미드가 아크릴아미드와 하나 이상의 양이온 모노머들로 구성된 하나 이상의 소수성으로 개질된 폴리아크릴아미드들을 포함하는 화장용으로 허용가능한 조성물을 기질에 바르는 방법을 포함하는 모발, 피부 및 손발톱들로부터 선택된 기질을 처리하는 방법이다.
또 다른 실시예에서, 기질은 모발이다.
또 다른 실시예에서, 폴리아크릴아미드는 아크릴아미드, 하나 이상의 양이온 모노머들 및 선택적으로는 하나 이상의 음이온 모노머들로 구성되며, 본 발명은 하나 이상의 소수성으로 개질된 상기 폴리아크릴아미드들을 포함하는 가정용 클리너 또는 세탁용 세제이다.
이하의 예들을 참고하면 상기 사항을 더 잘 이해할 수 있는 바, 이러한 예들은 예시적인 목적으로 제공되며 본 발명의 범위를 한정하는 의도는 아니다.
예1
아크릴아미드-디알릴디메틸암모늄 클로라이드 중합체를 헥사데실아민으로 개질
Parr 반응기에 아크릴아미드-디알릴디메틸암모늄 클로라이드 공중합체 용액(69.5:30.5 몰 퍼센트, 20 퍼센트 고분자 활성, 225 g), 수용성 수산화 나트륨 용액의 혼합물(50 %, 2.3 g) 및 수용성 소듐 메타비설파이트 용액(15 %, 19.2 g) 및 탈이온수(200 g). 그러고 나서 곱게 빻은 헥사데실아민을 첨가하고 혼합물을 완전히 교반한다. 그러고 나서 반응기를 밀봉하고, 교반을 최대로 세팅하고 반응기를 질소로 압축시키고 배출시킨다(5회 반복). 그러고 나서 반응기를 밀봉하고, 140 ℃로 가열하고 140 ℃에서 5시간 유지한다. 그러고 나서 가열을 중단하고 반응기를 주변 온도로 냉각시켜 소수성으로 개질된 고분자의 수용성 용액을 제공한다. 대표적인 소수성으로 개질된 고분자들의 성질들을 표 1에서 보여준다. 표 1에서, AcAm은 아크릴아미드를, DADMAC는 디알릴디메틸암모늄 클로라이드를, MAPTAC는 메타크릴아미도프로필트리메틸암모늄 클로라이드를 의미한다.
[표 1]
고분자 개질되지 않은 고분자 모노머의 양(몰 %) 개질제(몰 %) 개질되지 않은 고분자 환산 비 점도(dL/g) 개질된 고분자 용액 농도 개질된 고분자 환산 비 점도(dL/g)
AcAm DADMAC MAPTAC
I 69.5 30.5 헥사데실 아민(3) 1.2 12 1.1
II 69.5 30.5 도데실 아민(0.5) 1.2 8 1.8
III 69.5 30.5 옥틸 아민(3) 1.2 8 1.7
IV 69.5 30.5 도데실 아민(1) 3.2 5 3.2
V 50 - 50 도데실 아민(0.6) 3.7 19 3.7
VI 80 - 20 도데실 아민(0.75) 5.3 8 4.9
VII 80 - 20 헥사데실 아민(1.0) 5.3 8 4.9
VIII 80 - 20 옥틸 아민(10) 5.3 8 3.5
IX 69.5 30.5 아미노-작용화 실리콘1(0.3) 1.4 8 1.6
X 69.5 30.5 아미노-작용화 실리콘2(0.3) 1.4 8 1.6
1아미노-작용화 실리콘의 공식은 H2N(CH2)3[Si(CH3)2O]pSi(CH3)2NH2이며, 여기서 p는 대략 50이다, Milwaukee, WI 소재 Aldrich.
2Urasil™ A-23, Cleveland, OH 소재 Noveon.
예 2
소수성으로 개질된 고분자 용액의 제조
예 1의 수용성 고분자 용액(445 g)을 플라스크에 옮겨 85 ℃로 교반하면서 가열한다. 메틸 파라벤(0.6 g), 프로필 파라벤(0.12 g) 및 탈이온수(30 g)의 혼합물을 가열하여 파라벤들을 용해시키고 뜨거운 고분자 용액에 첨가한다. 혼합물을 85 ℃에서 1 시간 동안 교반하고나서 주변 온도로 냉각시켜 소수성으로 개질된 고분자 용액을 제공한다.
이하의 예들에서, "C8 고분자"는 옥틸 아민으로 개질된 69.5 몰 퍼센트 아크릴아미드/30.5 몰 퍼센트 디알릴디메틸암모늄 클로라이드 공중합체를 의미한다. "12 고분자"는 도데실아민으로 개질된 69.5 몰 퍼센트 아크릴아민/30.5 몰 퍼센트 디알릴디메틸암모늄 클로라이드 공중합체를 의미한다. "C16 고분자"는 헥사데실아민으로 개질된 69.5 몰 퍼센트 아크릴아미드/30.5 몰 퍼센트 디알릴디메틸암모늄 클로라이드 공중합체를 의미한다.
예 3
대표적인 샴푸의 제조
표 2에서 보는 구성요소들을 각각 첨가 후에 완전히 혼합된 순서로 나열하여 부가하였다. 반응기 배치(batch)를 55 ℃ 내지 65 ℃로 가열하여 코카미드 MIPA를 녹였고 배치의 pH를 젖산을 사용하여 5.5 내지 6.5로 조절하였다. 대략 40 ℃ 미만의 온도로 보존제들을 첨가하였다. 고분자를 물로 희석시켜 총 배치가 대략 200 g이 되게 하고 혼합물을 대략 15 분 동안 교반시킨다.
점도를 측정하기 전에 샴푸에 가스를 빼내어 트랩된 어떠한 공기라도 제거한다.
[표 2]
기준 샴푸 제제
조성물 C-8 개질된 고분자 C-12 개질된 고분자
성분 중량비 % 중량비 %
탈이온수 50.166 48.166
암모늄 라우릴 설페이트, 28 % 20.00 20.00
소듐 라우릴 설페이트, 29 % 20.00 20.00
코카미도프로필 베타인, 30 % 3.00 3.00
코카미드 MIPA (s) 3.00 3.00
C8 고분자, 8 % 3.125 0.00
C12 고분자, 5 % 0.00 5.00
젖산 0.059 0.059
염화 나트륨 0.300 0.300
디소듐 EDTA 0.10 0.10
카톤 ( Kathon ) CG 0.05 0.05
DMDM 히단토인 0.10 0.10
방향제 0.10 0.10
예 4
소수성으로 개질된 고분자를 상이한 수준들로 함유하는 기준 샴푸의 평가
예 3의 방법에 따라 제조한 대표적인 샴푸 제제들을 거품 안정성 및 점도에 대한 시험을 실시한다. Brookfield DV-I+Viscometer(Middleboro, MA)를 이용하여 점도 측정을 구한다. 표 3에 결과들을 나타내었다. 대표적인 고분자는 샴푸 시스템과 함께 점도가 상승 효과를 보인다는 것이 명백히 드러난다. 소비자는 점도가 두터우면 고급스럽거나 풍부한 것으로 인식할 수 있기 때문에, 점도는 헤어 케어에서 상대적으로 중요한 역할을 한다. 고분자들을 지니고 있거나 지니지 않은 샴푸들은 거품 특성들이 또한 시험된다. 고분자, 특히 컨디셔닝 고분자는 샴푸에 거품 특성들에 대하여 역효과를 지닌다. 샴푸에 대표적인 고분자 첨가는 약 3배의 거품력을 향상시킨다.
[표 3]
소수성으로 개질된 고분자를 상이한 수준들로 함유하는 기준 샴푸의 평가
표본 점도 5/20 (cps) 비누 거품(Lather)
고분자 수준 0.25 % 0.5 % 1.0 % 0.25 % 0.5 % 1.0 %
컨트롤 샴푸 11,220 12,880 9850 크림성 크림성 크림성
1 몰 C12 고분자 14,100 15,340 17,620 더 강한 크림성 더 강한 크림성 더 강한 크림성
0.40 몰 C12 고분자 15,240 17,360 23,800 더 강한 크림성 더 강한 크림성 더 강한 크림성
예 5
천연 샴푸 제제의 제조
표 4에서 보는 성분들을 사용하여 천연 샴푸 제제를 제조한다.
[표 4]
천연 샴푸 제제
조성물
성분 INCI 명 중량 %
탈이온수 QS
Geropon SBFA-30 디소듐 라우레트-3 설포숙시네이트 3.00
Standapol A 암모늄 라우릴 설페이트, 30 % 30.00
Plantacare 818UP 코코-배당체 3.00
Glucamate DOE-120 PEG-120 메틸 글루코스 디올레이트 2.10
Velvetex AB-45 코코-베타인 8.00
메틸 파라벤 메틸 파라벤 0.20
프로필 파라벤 프로필 파라벤 0.10
Tween 20 폴리소베이트 20 0.00
고분자 고분자 0.25
시트르산, 50 % 시트르산, 50 % QS
예 6
대표적인 소수성으로 개질된 고분자를 함유하는 천연 샴푸의 평가
예 5에서 설명한 바와 같이 제조한 천연 샴푸 제제를 점도, 비누 거품 헹굼완료 시간 및 미끄럼 정도를 평가하였다. 포도당/에톡시에이트(ethoxyate)로 인하여 샴푸가 조금 끈적하다. 표 5에 그 결과를 보였다. 컨트롤 베이스로부터 끈적이는 느낌을 줄인 소수성으로 개질된 고분자를 첨가하여 제제를 개선한다. 전체적으로, 샴푸에 첨가된 소수성으로 개질된 고분자는 거품이 고분자가 없는 통제군(control)보다는 좀 더 크림성이 강하게 느껴지게 한다.
[표 5]
소수성으로 개질된 고분자를 함유하는 천연 샴푸의 평가
표본 점도 5/20(cps) 육안 관찰 비누 거품 헹굼 완료 시간(초) 미끄럼 정도
천연 샴푸 통제군 9,360 맑음 크림성 1-2(끈적임) 4
0.5 몰 C16 고분자 11,080 맑음 크림성 2 4
예 7
대표적인 소수성으로 개질된 고분자를 함유하는 시판되는 샴푸의 평가
C8 및 C12 알킬기들(0.25 중량 퍼센트)로 개질된 본 발명의 대표적인 고분자들 Suave® Shampoo에 투입하여 표본들이 뚜렷하게 남아있음을 확인한다. Suave Natural Strawberry 샴푸를 또한 조사하여 소수성으로 개질된 고분자들이 기존의 제제들에 사후에 첨가될 수 있음을 증명한다. 통상적으로, 이러한 시스템들에 첨가된 컨디셔닝 고분자는 뿌옇게 흐릿함(haziness)을 일으킨다. 이러한 시스템들에 첨가된 C8 및 C12 고분자들은 좀 더 나은 청명도를 유지하고 제제에 미끄러움과 크림성을 더해준다. 3개월후에, Suave® Mountain Strawberry 샴푸 베이스는 C8 및 C12 고분자와의 맑은 상태를 유지한다. 통상적인 컨디셔닝 고분자의 예인 폴리쿼터니움-7은 이러한 제제에 사후 첨가되는 흐릿한 상태를 유지한다. 소수성으로 개질된 고분자를 도입하게 되면 Suave 샴푸 베이스의 ALS/ALES 계면활성제 시스템과의 잠재적인 계면활성제 상호 양립성을 높이는 역할을 한다.
예 8
대표적인 소수성으로 개질된 고분자를 함유하는 샴푸의 거품 발생 성질들의 평가
표 6에 보인 성분들을 포함하는 C12 알킬기로 개질된 고분자를 이용하여 제조한 대표적인 샴푸 조성물을 Hart de George Foam 시험에서 평가한다. 결과는 소수성으로 개질된 고분자는 좀 더 안정된 샴푸 거품들을 발생시키므로 좀더 긴 배수 시간(개질되지 않은 고분자로 제조한 샴푸 제제에 대해 8.3 초가 소요된 것에 비교하여 C12 소수성기로 개질된 고분자로 제조한 샴푸 제제에는 23초가 소요됨)
[표 6]
Hart de George Foam 시험에 이용한 샴푸 제제
성분 중량 %
탈이온수 48.266
소듐 라우릴 설페이트, 29 % 10.00
소듐 라우릴 에테르 설페이트, 28 % 30.00
코카미도프로필 베타인, 30 % 3.00
코카미드 MIPA (s) 1.00
C12 고분자 5.00
시트르산, 100 %(s)
염화 나트륨
디소듐 EDTA 0.10
메틸클로로이소티아졸리논
메틸이소티아졸리논
0.05
DMDM 히단토인 0.10
예 9
소수성으로 개질된 고분자의 기계를 이용한 젖은 상태 빗질(wet combing)평가
젖은 상태 빗질은 헤어 케어 제제들에 있는 물질들의 컨디셔닝 성질을 보여주기위해 이용되는 통상적인 시험 방법이다. 머릿단을 0.5 % 활성 용액으로 처리하고 헹궜다. 그러고 나서 처리한 머릿단을 코밍 포스(coming force)를 측정하기 위해 DiaStron Tensile Tester(영국 Hampshire 소재 MTT160 사)에서 시험한다. 본 시험에 필요한 코밍 포스의 낮은 양은 머릿단의 커디셔닝이 양호하게 되었다는 것을 의미한다. 이하의 표 7과 표 8은 대표적인 고분자들로 처리한 머릿단이 탁월한 빗질 성질들을 지닌다는 것을 나타낸다.
[표 7]
빗질 분석에 대한 통계 수치들
수준 횟수 평균 표준 편차 하위 95 % 상위 95 %
C-8 고분자 4 215.000 79.174 21.27 408.73
통제군 4 551.250 79.174 357.52 744.98
[표 8]
빗질 분석에 대한 통계 수치들
수준 횟수 평균 표준 편차 하위 95 % 상위 95 %
C-12 고분자 6 64.117 33.822 -11.2 139.48
통제군 6 512.333 33.822 437.0 587.69
예 10
컨디셔너 제제에 센서를 이용한 젖은 상태 빗질 및 매끄러운 성질의 평가
표 9에서 보인 성분들을 함유하는 컨디셔닝 제제를 이하와 같이 제조한다.
히드록시에틸셀룰로오스(HEC)를 물에 흩뿌리고 적당한 속도로 30분 동안 혼합한다. 용액을 40 ℃로 가열하여 용액이 맑고 균일하게 한다. 그러고 나서 스테아라미도프로필디메틸아민을 첨가하고, 시트르산을 이용하여 pH를 4.0으로 조절하고 디세틸디모늄 클로라이드를 첨가한다. 증점된 혼합물을 70 ℃로 가열하고 세틸, 스테아릴 및 Promulgen G(및 베헤닐)을 첨가한다. 혼합물을 80-85℃로 가열하고 30분 동안 유지한다. 그러고 나서 냉각을 개시하고 차가운 탈이온수를 천천히 첨가한다. 혼합물이 혼합되고 냉각되게 하고 실리콘 블렌드를 55 ℃ 이하에서 첨가한다. EDTA 0.05/30 희석을 40 ℃ 이하의 온도에서 천천히 첨가하고 최종적으로 35 ℃ 이하의 온도에서 보존제들을 첨가한다.
[표 9]
컨디셔닝 제제
조성물 PEG-2/DCQ PEG-2/DCQ
1 % C16 1 % C8
성분들
탈이온수 45.00 45.00
히드록시에틸셀룰로오스(HEC) 0.20 0.20
시트르산, 50 % 0.12 0.12
스테아라미도프로필 디메틸아민 0.50 0.50
디세틸디모늄 클로라이드, 67 % 2.00 1.50
PEG-2 올레아모늄 클로라이드, 69 % 0.50 0.50
베헨트리모늄 메토설페이트(50 %) 및 세틸 알코올 및 1,3 부탄디올 0.00 0.00
세틸 알코올(C95) 3.00 3.00
스테아릴 알코올(S95) 2.00 2.00
스테아릴 알코올(70 %) 및 세테레스-20 (30 %) 1.00 1.00
실리콘 0.50 0.00
50 내지 55 ℃로 냉각한 탈이온수 21.03 21.93
디소듐 EDTA 0.05 0.05
탈이온수 2.90 3.00
DBDCB (및) 디프로필렌 클리콜 0.10 0.10
DMDM 히다토인 0.10 0.10
탈이온수*(탈이온수로 희석한 고분자) 20.00 20.00
탈이온수 0.00 0.00
C16 고분자 1.00 0.00
C8 고분자 0.00 1.00
예 11
컨디셔너 제제에 센서를 이용한 젖은 상태 빗질 및 매끄러운 성질의 평가
젖은 상태 풀어헤침, 젖은 상태 빗질 및 매끄러움 패널 시험을 실시하여 이하와 같이 예 10에서 제조한 컨디셔너 제제들을 평가한다.
1. 손상된 머릿단과 처리한 머릿단 사이를 신뢰할 수 있을 만큼 구분할 수 있는 숙련된 평가자들이 시험들을 실시한다.
2. 전체적으로 패널당 3번씩 시험들을 실시한다.
3. 각 시험마다 처리 하지 않은 다크-블리치드 머릿단과 컨디셔너로 처리한 머리단이 기준으로 역할한다.
4. 각각의 머릿단을 제품 1 ㎖로 처리하고, 60 분 동안 머릿단을 맛사지하고 그 다음 38 ℃ 수돗물에서 30 초 동안 헹군다.
5. 머릿단을 풀어헤치고 패널을 셋업한다. 머릿단을 다시 땋기 위해서 각각의 머릿단을 500 ㎖ 탈이온수에 3번 담근다. 장갑낀 손을 사용하여 남은 물을 제거한다.
6. 패널리스트들은 흑색 플라스틱 Sally 빗의 넓은 끝을 사용하여 2회 풀어헤친다.
7. 다음으로, 패널리스트들은 작은 이빨 부위를 사용하여 머릿단들을 젖은 상태의 빗질을 2회 실시한다.
8. 섬유소간 마찰을 측정하기 위하여 위로 한번 아래로 한번의 주기로 4회 빗질하여 매끄러운 성질을 평가한다.
9. 각각의 시험 후에, 머릿단들을 다시 땋기 위해서 탈이온수에 3회 담그고 장갑낀 손을 사용하여 남은 물을 제거한다.
5명의 패널리스트들은 통상적으로 머릿단들에 등급을 매긴다(1 = 고 마찰, 5 = 저 마찰). 그 결과들은 표 10-12에 나타나 있다. 풀어헤침 젖은 상태 빗질과 매끄러움 성질의 높은 수치는 성능이 우수함을 나타낸다.
[표 10]
컨디셔너를 함유하는 C16 소수성으로 개질된 고분자의 젖은 상태 풀어헤침과 빗질
조성물 젖은 상태 풀어헤침 젖은 상태 빗질 매끄러움
비처리상태 1.94 1.56 1.49
C16 고분자 4.07 3.73 3.57
[표 11]
컨디셔너에서 C8 소수성제의 젖은 상태 풀어헤침 및 빗질
조성물 젖은 상태 풀어헤침 젖은 상태 빗질 매끄러움
비처리상태 2.13 1.71 1.50
C8 고분자 4.26 3.96 3.79
[표 12]
컨디셔너에서 C12 소수성제의 젖은 상태 풀어헤침 및 빗질
조성물 젖은 상태 풀어헤침 젖은 상태 빗질 매끄러움
비처리상태 2.29 2.04 1.63
C12 고분자 3.67 3.37 3.27
표 10-12에서 보는 바와 같이, 본 발명의 소수성으로 개질된 고분자들은 비처리상태의 다크 블리치드 모발보다 상당히 나은 우수한 젖은 상태 성질들을 제공한다.
예 12
보습성 스무디 젤(moisturizing smoothie gel)의 매끈함 평가 및 막 평가
이하와 같은 패널 시험을 이용하여 표 13에 따른 스무디 젤 제제의 매끈함과 막 평가를 실시한다.
[표 13]
보습성 스무디 젤
조성물 통제군 C8-고분자 C12-고분자 폴리쿼터니움-7
성분 중량 % 중량 % 중량 % 중량 %
Qs Qs qs qs
하이드록시에틸셀룰로오스 0.53 0.53 0.53 0.53
폴리쿼터니움-4 0.17 0.17 0.17 0.17
C8 고분자(8 %) 0.00 4.00 0.00 0.00
C12 고분자 (5 %) 0.00 0.00 4.00 0.00
폴리쿼터니움-7 0.00 0.00 0.00 4.00
매도우폼 시드 오일 0.025 0.025 0.025 0.025
DMDM 히단토인 0.20 0.20 0.20 0.20
방향제 0.10 0.10 0.10 0.10
올레스-20 0.20 0.20 0.20 0.20
매끄러운 느낌과 막의 패널 시험
1. 각자 길이가 6인치인 버진 헤어(미합중국, Bellerose, New York 소재 International Hair Importers) 1그램 표본을 준비한다.
2. 1 그램의 고분자를 머릿단들에 바른다. 머릿단들을 25회 두드려 도포되게 한다.
3. Sally 스타일링 빗의 넓은 끝으로 각각의 머릿단에 빗질하여 풀어헤친다.
4. 표본들을 공기중에 건조시킨다.
5. 무작위로 추출한 패널리스트은 머릿단의 맨 꼭대기에서 맨 아래까지 자신의 손가락으로 훑어 내려서 세기(1 = 매끄럽지 않음 5= 매우 매끄러움) 및 막의 경직도(1= 경직되지 않음 5 = 매우 경직됨)에 따라 머릿단들에 평가를 내린다.
미끌미끌한 느낌은 제품의 미감에 도움이 될 수 있고 모발 섬유질을 서로 서로 활주하듯이 스쳐지나가게 할 수 있다. 이는 어떠한 컨디셔닝 제품의 중요한 목표이다. 패널은 이하의 프로토콜을 이용하여 상기 제제로부터 제제들의 미끌미끌하고 매끄러운 느낌을 평가하였다. 그 결과를 표 14에 보인다.
[표 14]
보습성 스무디 젤의 패널 평가 표
제제 매끄러운 감촉(n=4) 막 견고성(n=4)
4.0 1.0
폴리쿼터니움-7 2.9 3.6
통제군 제제 2.8 4.3
C8 고분자 3.0 4.8
C16 고분자 3.1 4.8
표 14에서 보는 바와 같이 본 발명의 소수성으로 개질된 고분자들은 통제군 보다 개선된 경직도와 약간 개선된 매끄러움을 보여준다.
예 13-16
소수성으로 개질된 고분자들을 함유하는 대표적인 헤어 케어 제제들을 예 13-16에서 보는 바와 같이 공식화하였다.
[표 15]
보습성 샴푸
성분 중량 %
탈이온수 49.11
소듐 라우릴 설페이트, 29 % 20.00
소듐 라우릴 에테르 설페이트, 28 % 20.00
코코아미도프로필 베타인, 30 % 3.00
라우라미드 DEA 3.00
지방산/PG-2 0.50
C8 고분자 3.13
시트르산, 100 %(s) 0.60
염화 나트륨 1.36
디소듐 EDTA 0.10
DMDM 히단토인 0.10
황색 0.038
녹색 0.041
30 초 후에 스핀들/스피드 5/20에서 점도는 13480 cps이다. 샴푸는 크림성이 매우 강한 거품을 낸다.
예 14
컨디셔너에 부피가 더 적게 남는다.
[표 16]
컨디셔너에 부피가 더 적게 남는다
조성물
성분 중량 % 중량 %
하이드록시에틸 셀룰로오스 1.00 1.00
디세틸디모늄. Cl(Varisoft 432CG) 3.00 3.00
아모디메티콘 (및) 세트리모늄 클로라이드 (및) 논옥시놀-10(DC 949) 0.25 0.25
C8 고분자, 8 % 12.50 0.00
사과 약초 방향제(Apple Herbal Fragrance) 0.10 0.10
DMDM 히단토인 0.40 0.20
C8 소수성으로 개질된 고분자가 모발에 미치는 영향은 매끄러움, 광택을 제공하고 이러한 제제로 사용시에 모발을 펴게한다. 고분자가 없는 통제군 제제에 비교하여 1 % 활성 고분자를 사용시에 모발이 더 효과적으로 펴지게 되고 매끄러워 진다.
예 15
에스닉 컨디셔너(Ethnic conditioner)
[표 17]
에스닉 컨디셔너
조성물
성분 중량 % 중량 %
탈이온수 qs Qs
하이드록시에틸 셀룰로오스 0.30 0.30
스테아라미도프로필디메틸아민 0.50 0.50
디세틸디모늄.Cl(Varisoft 432CG) 3.00 3.00
세틸 알코올 5.00 5.00
스테아릴 알코올 및 세테아레스-20 2.00 2.00
시트르산, 50% qs Qs
C8 고분자 3.00 0.00
C16 고분자 0.00 3.00
시클로메티콘 1.00 1.00
디메티콘 10CS 0.20 0.20
DMDM 히단토인 0.20 0.20
이러한 에스닉 컨디셔너는 모발 축의 뛰어난 확산성과 도포성을 보여준다.
예 16
헤어 로션
모발을 매끄럽게 하기위해 헤어 로션을 제조한다.
[표 16]
헤어 로션
성분 중량 % 중량 %
탈이온수 qs qs
코카미도프로필베타인 2.00 2.00
하이드록시에틸 셀룰로오스 0.50 0.50
아크릴아미드/DADMAC/아크릴산 중합체 2.00 2.00
C8 고분자 5.00 0.00
C12 고분자 0.00 5.00
PEG-40 수소화된 피마자 유 0.20 0.20
방향제 0.10 0.10
DMDM 히단토인 0.20 0.20
예 17
소수성으로 개질된 고분자의 헤어 스타일링 응용에의 평가
소수성으로 개질된 고분자들을 함유하는 대표적인 제제들을 스타일링 응용을 위한 평가 도구인 컬 유지력(curl retention)에 대해 시험한다.
6인치 길이의 표백한 사전에 탭을 단(pretabbed) 머릿단들을 International Hair Importes and Products Inc로부터 구입할 수 있다.
6 인치 길이의 표백한 수제 머릿단들을 DeMeo Brothers Inc.로부터 구입할 수 있다.
사전에 텝을 단(pretabbed) 모발 머릿단(각 머릿단마다 0.4g)으로부터 1/8 너비로 모발을 잘라 시험용으로 머릿단을 준비한다. 머릿단을 물로 적시고 소듐 라우레트 설페이트 0.3 g으로 머릿단의 맨 꼭대기에서 맨 아래까지 1 분 동안 맛사지한다. 그러고 나서, 머릿단을 40 ± 2 ℃의 수돗물로 1 분 동안 헹궈낸다. 세척한 머릿단을 탈이온수에 하룻밤 동안 담군다.
청결한 머릿단들을 0.5 중량 퍼센트 수용성 고분자 용액에 2 분 동안 적신다. 장갑을 낀 손으로 머릿단에서 남은 용액을 짜낸다. 각각의 머릿단을 Sally Styling Comb의 넓은 끝으로 빗질하여 풀어 헤치고, 그러고 나서 머리카락을 롤러(지름 11/16 " 에 롤링시킨다. 모발 롤들(hair rolls)을 상대 습도 40 %의 방에 하룻밤 동안 둔다. 다음날 각각의 롤러로부터 모발을 풀어내고 컬링된 모발을 상대 습도 90 %의 챔버에 둔다. 컬(결과물(fall-out))의 길이를 2 시간 동안 매 15분 마다 측정하고 컬 리텐션을 이하의 방정식으로 계산한다:
Figure 112007061092885-pct00005
여기서, L = 완전히 펼친 머릿단의 길이
Lo = 실험 초기의 머릿단의 길이
Lt = 실험시의 머릿단의 길이
이하의 표는 벤치마크(메타크릴산/소듐 아크릴아미도메틸 프로판 설포네이트 공중합체)와 비교한 C-16 고분자의 컬 리텐션을 보여준다.
[표 19]
컬 리텐션
시간 통제군 C-16, 고분자 벤치마크
15 51.10 78.24 85.32
30 38.05 68.00 75.30
45 33.41 64.87 71.51
60 32.25 63.29 69.06
75 30.86 62.50 68.18
90 30.38 61.97 67.51
105 30.15 61.45 67.51
120 29.45 60.67 66.17
표 19에 있는 데이터들은 대표적인 소수성으로 개질된 고분자들이 컬 리텐션에 대해 벤치마크에 필적함을 보여준다.
예 18-21
대표적인 헤어 스타일링 제제들.
헤어 스타일링 제제들에 대표적인 고분자를 예 18-21에서 보여준다.
표 20에서 본 발명의 대표적인 고분자가 있을 때 또는 없을 때 제조한 스타일링 크림 제제들과 기준 고분자들을 보여준다.
[표 20]
대표적인 고분자들을 함유하는 스타일링 크림
조성물
성분 중량 % 중량 %
탈이온수 qs qs
폴리쿼터니움-37/프로필렌 글리콜/디카프릴레이트/디카프레이트 및 PPG-1 트리데세스-61, 50 % 4.00 4.00
C16 고분자 1.00 0.00
탈이온수 10.00 10.00
폴리비닐피롤리돈2 0.00 0.25
시클로펜타실록산3 1.00 1.00
1Salcare? SC96, 미합중국 Hightpoint, NC 소재, Ciba Specialty Chemicals.
2PVP-K30, 미합중국 Wayne, NJ 소재, International Specialties Products
3Dow Corning® 245 유체, 미합중국 Midland, MI 소재, Dow Corning.
예 19
스타일링 무스
소수성으로 개질된 고분자들을 사용하여 제조한 스타일링 무스 제제들은 크림성을 더하고 모발을 매끄럽게 하였다. 표 21에서 대표적인 제제들을 보여준다.
[표 21]
스타일링 무스
조성물 C-12 고분자 C-8 고분자
성분 중량 % 중량 %
탈이온수 Qs Qs
SD 알코올 40 20.00 20.00
C12 고분자 4.00 4.00
C8 고분자 0.00 4.00
세트리모늄 클로라이드 1.00 1.00
보존제 Qs Qs
방향제 Qs Qs
예 20
광유 젤
소수성으로 개질된 고분자들을 사용하여 제조한 광유들은 이러한 젤에서 뛰어난 컨디셔닝을 제공하고 다루기가 쉽다. 표 22에서 대표적인 제제들을 보여준다.
[표 22]
광유 젤
조성물 C-12 고분자 C-8 고분자
성분 중량 % 중량 %
탈이온수 qs qs
C12 고분자 2.00 0.00
C8 고분자 0.00 2.00
광유 10.00 10.00
올레스-10 21.00 21.00
PEG-25 수소화한 피마자 유 10.00 10.00
글리세롤 8.00 8.00
보존제 qs qs
방향제 qs qs
예 21
모발 끈적임(hair taffy)의 잔존(leave-on) 또는 완전한 헹굼(rinse-off)
모발에 이러한 제제가 어느 정도 모발을 깊이 컨디셔닝하는지 알아보기 위해 시험하였다. 모발상에 있는 제제를 건조하고 그러고 나서 완전히 헹구면 부드럽게 수분을 머금은 느낌을 준다. C12 또는 C8 고분자를 첨가하면 실크 같은 헹굼 느낌과 컨디셔닝을 더하게 된다. 표 23에서 대표적인 제제들을 보여준다.
[표 23]
모발 끈적임의 잔존 또는 완전한 헹굼
성분 중량 % 중량 %
91.04 90.50
폴리아크릴아미드 (및) C13-14 이소파라핀 (및) 라우레트-7 4.00 4.00
시클로메티콘 1.00 1.00
PPG-10 메틸 글루코스 에테르 2.00 2.00
C12 고분자 (5 %) 1.96 0.00
C8 고분자(8 %) 0.00 2.50
보존제 qs qs
예 22
다양한 계면활성제들 및 고분자들의 스킨 케어용 파라필름(Parafilm)상에 퍼지는 정도의 평가
이하에서 설명한 젖은 상태의 행태를 측정하기 위하여 신속한 스크리닝 방법으로 본 연구를 수행하였다.
1. 평평한 10 cm x 10 cm Parafilm Wax의 쉬트에 0.2 %, 1.0 % 용액 또는 분산매 50 μl 를 피펫한다.
2. 5분 후에, 작은 방울의 가장 큰 지름을 측정한다. 표본을 3 번 측정한다. 주변 조건(상온은 23 ℃이다)하에서 실험을 실시한다.
3. 증류수 지름(0.6 cm 또는 세 방울의 시험 평균)에 대한 시험 용액의 지름의 비율로 확산 계수(spreading factor)를 계산한다.
표 24에서 그 결과들을 보여준다.
[표 24]
주변 조건하에서 다양한 계면활성제들의 Parafilm 표면에 확산하는 상대적 확산
시스템 지름(cm) 확산 계수 표면 장력 문헌 (dyne/cm)
탈이온수 0.58 1.00 72.8
시클로메티콘, 비희석 3.37 5.81 20-35
C8 고분자, 0.2 % 0.58 1.00 NA
C12 고분자, 0.2 % 0.58 1.00 NA
C16 고분자, 0.2 % 0.58 1.00 NA
C8 고분자, 1.0 % 0.60 1.03 NA
C12 고분자, 1.0 % 0.63 1.05 NA
C16 고분자, 1.0 % 0.70 1.17 NA
소듐 라우릴 설페이트, 0.1 % 0.70 1.20 44.3
소수성이 낮은 고분자로 대체하여도, 소수성으로 개질된 고분자를 함유하는 제제들은 계면 활성이 있는 것을 보인다. 알킬 사슬 길이에 따라 계면 활성이 증가함을 결과들은 보여준다. C16 고분자는 C12 보다 계면이 더 활성화되고 C12 고분자는 거품이 있는 점성으로 인하여 C8 고분자보다 더 용이하게 자체 회합(self-associate)한다.
예 23-26
소수성으로 개질된 고분자들을 함유하는 대표적인 스킨 케어 제제들
본 발명의 고분자들은 피부 처리용으로 또한 이용할 수 있다. 이론적인 구속없이, 본 발명의 고분자들은 피부 또는 손발톱들에 보호막을 형성할 수 있다. 스킨 케어 로션의 조성은 표 25에서 보여준다.
페이셜 스무딩 크림(facial smoothing cream)에 소수성으로 개질된 고분자를 첨가하면 염으로만 사용하여 이룰 수가 없는 우수한 점도를 달성한다. 표 25에 대표적인 제제를 보여준다.
[표 25]
페이셜 스무딩 크림
성분 중량 % 중량 %
탈이온수 80.00 80.00
마그네슘 알루미늄 실리케이트1 1.90 1.90
크산탄 검2 1.27 1.27
글리세롤 0.40 0.40
디메티콘 코폴리올3 0.10 0.10
DMDM 히단토인4 0.20 0.20
탈이온수 6.13 6.13
C8 고분자(5 %) 0.00 5.00
탈이온수 10.00 5.00
1Veegum HV, 미합중국 Norwalk, CT 소재 R. T. Vanderbilt 사
2Keltrol CF-F, 영국 Leatherhead, Surrey 소재 CP Kelco 사
3Dow 193 Fluid, 디메티콘 코폴리올, 미합중국 Midland, MI 소재 Dow Corning 사
4Glydant, 미합중국 Fairlawn, NJ 소재 Lonza 사
0.25 % C8 고분자를 첨가하면 페이셜 스무딩 크림 베이스(base)[1.27 % 크산탄/1.9 % 마그네슘 알루미늄 실리케이트(MAS)] 점도가 상당히 향상된다. 폴리머가 부재한 베이스의 초기 점도는 6600 cps(23.5 ℃에서 5/20 30 초). 0.25 % C8 고분자를 첨가하면 점도가 16000 cps(6/20)이다.
소수성으로 개질된 고분자들을 1차 또는 2차 컨디셔닝제들(conditioning agents)로 이용할 수 있다. 증점, 보습, 거품 향상(enhancing foam), 막 형성 및 에멀션 또는 분산매들의 안정화의 가능성 때문에 2차일 가능성이 있다.
예 24
버블 바스.
소수성으로 개질된 고분자들은 버블 바스 제제들에서 부드럽고 실크 같은 피부 느낌을 준다. 표 26에 대표적인 제제를 보여준다.
[표 26]
버블 바스
성분 중량 % 중량 %
탈이온수 qs qs
암모늄 라우릴 설페이트, 29 % 35.00 35.00
코카미도프로필 히드록시술테인(hydroxysultaine) 5.00 5.00
라우라미드 DEA 4.00 4.00
디소듐 라우레트 설포숙시네이트(sulfosuccinate) 8.00 8.00
헥실렌 글리콜 2.00 2.00
C12 고분자 3.00 0.00
C8 고분자 0.00 3.00
시트르산, 100 % (s) Qs pH 6.0 Qs pH 6.0
염화 나트륨 1.36 1.36
디소듐 EDTA 0.10 0.10
DMDM 히단토인 0.10 0.10
방향제 Qs Qs
예 25
보습 로션.
소수성으로 개질된 고분자들은 피부에 부드럽고 매끄러운 감촉을 주고 보습 로션 제제들의 에멀션 확산성에 기여한다. 표 27에 대표적인 제제를 보여준다.
[표 27]
보습 로션
성분 중량 % 중량 %
qs qs
하이드록시에틸 셀룰로오스 0.25 0.25
글리세롤 2.00 2.00
바셀린 2.00 2.00
광유 4.00 4.00
세틸 알코올 3.00 3.00
스테아릴 알코올 2.00 2.00
Polawax NF 1.00 1.00
디메티콘 100cs 0.50 0.50
아크릴레이트들/C10-30 알킬 아크릴레이트 교차중합체 0.30 0.30
트리에탄올아민 0.25 0.25
C12 고분자(5 %) 5.00 0.00
C8 고분자(8 %) 0.00 3.125
보존제 qs qs
예 26
소수성으로 개질된 고분자들을 함유하는 액체 손 비누 제제들의 점도 향상 평가
표 28에 대표적인 액체 손 비누 제제를 보여준다. 표 29에 점도 데이터를 보여준다.
[표 28]
액체 손 비누 제제
성분 중량 %
탈이온수 qs
소듐 라우릴 설페이트, 29 % 10.00
소듐 라우릴 에테르 설페이트, 1 몰 EO, 28 % 8.21
소듐 코코일 이세티오네이트 2.00
C8 고분자 0.00
C12 고분자 5.00
시트르산, 100 %(s) 0.006
염화 나트륨 Qs
디소듐 EDTA 0.10
카톤 CG 0.05
DMDM 히단토인 0.10
[표 29]
점도측정
표본 1.0 % 염화 나트륨에서 점도 4/20
통제군 손 비누 2540
C12 고분자 3410
벤치마크, 하이드록시프로필메틸 셀룰로오스 1880
표 29에서 보는 바와 같이, 1 % 염화 나트륨과 조합한 C12 소수성 고분자는 통제군 및 벤치마크인 히드록시프로필 메틸셀룰로오스 물질보다 더 큰 점도를 제공한다.
예 27
소수성으로 개질된 고분자들을 함유하는 실리콘의 패널 빗질 평가
2벌 씩 준비한 머릿단을 2 가지 유형의 실리콘 개질된 고분자로 처리한다. 그러고 나서 처리된 머릿단들을 탈이온수에 15 초 동안 헹군다. 또 2회에 걸쳐 처리를 반복한다. 모발 빗질에는 풀어헤침과 젖은 상태 빗질을 포함한다. 등급은 1부터 5까지로 한다. 숫자가 클수록 모발이 풀어헤쳐지고 빗질하기가 더 용이하다는 것을 의미한다. 이하의 표는 숙련된 패널리스트들로부터 얻은 시험 결과들을 정리한 것이다. 2 가지 유형의 실리콘 개질된 고분자가 통제군보다 더 빗질이 용이하다는 것을 보여준다.
[표 30]
실리콘 개질된 고분자에 대한 패널 빗질
명칭 풀어헤침 빗질 속도
통제군 2 2
고분자 IX 4.4 3.6
고분자 X 4.1 3.0
예 28
세탁용 세제 제제
소수성으로 개질된 고분자들은 음이온 계면활성제와의 양립성이 우수하고 점도 상승효과가 우수하다는 것을 보여준다. 이러한 장점들로 인하여 대표적인 고분자들을 가정용 클린너들 및 세탁용 세제들로 제제화할 수 있게 한다. 표 31에 대표적인 세탁용 세제 제제들을 보여준다. 수록된 순서로 성분들을 첨가하고 적당히 교반시켜 각 성분을 완전히 용해시켜 제제를 제조한다. 필요하면 색깔 및 방향 첨가제들을 포함할 수 있다.
[표 31]
세탁용 세제의 성능 평가치
성분 % 중량
qs
C12-고분자 2
테트라-소듐 EDTA(38 %) 0.2
C12 /14 알킬 글리코시드 4.0
알킬 에톡실레이트 3.5
선형 알킬벤젠 술폰산, 소듐 6.5
모노에탄올아민 1.0
비록 본 발명을 이해의 목적으로 상세하게 설명하였지만, 그러한 상세함은 오직 그 목적을 위함이고, 청구항들에의해 한정되는 것을 제외하고는 본 발명의 사상과 범위를 벗어나지 않고 당업자가 다양한 변경(modification), 교체(alternation) 및 수정(change)들을 가할 수 있다는 것을 이해해야 할 것이다. 청구항들의 동등물의 의미와 범위내에 있는 모든 변화들을 그 범위내에 포함시켜야 한다.

Claims (19)

  1. 하나 이상의 소수성으로 개질된 폴리아크릴아미드들을 포함하되, 상기 폴리아크릴아미드는
    1) 아크릴아미드, 및
    2) 디알릴디메틸암모늄 클로라이드 및 메타크릴아미도프로필트리메틸암모늄 클로라이드로부터 선택되는 하나 이상의 양이온 모노머로 구성되며,
    상기 소수성으로 개질된 폴리아크릴아미드의 골격을 따라 있는 아미노기의 일부는 C6-C22 알킬 아민류 및 아미노 작용화 실리콘으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 하나 이상의 소수성 아민류와의 트랜스아미데이션 반응에 의해 개질되는 것을 특징으로 하는 화장용으로 허용가능한 조성물.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 폴리아크릴아미드는 적어도 50 몰 퍼센트의 아크릴아미드로 이루어지는 화장용으로 허용가능한 조성물.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 폴리아크릴아미드는 하나 이상의 소수성 아민류의 0.1 내지 10 몰 퍼센트와의 트랜스아미데이션(trabsamidation)에 의해 개질되는 화장용으로 허용가능한 조성물.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 소수성으로 개질된 고분자는 0.1 내지 8 dL/g의 환원 비점도를 갖는 화장용으로 허용가능한 조성물.
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서,
    상기 소수성으로 개질된 고분자는 1 내지 5 dL/g의 환원 비점도를 가지는 화장용으로 허용가능한 조성물.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 폴리아크릴아미드는 아크릴아미드/디알릴디메틸암모늄 클로라이드 공중합체인 화장용으로 허용가능한 조성물.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 폴리아크릴아미드는 아크릴아미드/디알릴디메틸암모늄 클로라이드/아크릴산 삼원 공중합체(terpolymer)인 화장용으로 허용가능한 조성물.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 알킬 아민류는 옥틸아민, 도데실아민, 헥사데실아민으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 화장용으로 허용가능한 조성물.
  11. 제8항에 있어서,
    상기 아미노 작용화 실리콘은 R' 및 R''이 C1-C4 알킬인, -OSi(R')(R'')- 및 -Si(R')(R'')-을 함유하는 소수성 아민으로 구성되어 있는 그룹으로부터 선택된 화장용으로 허용가능한 조성물.
  12. 제1항에 있어서,
    하나 이상의 화장용으로 허용가능한 부형제들을 더 포함하는 화장용으로 허용가능한 조성물.
  13. 제12항에 있어서,
    고분자 고체들을 기준으로 하여 소수성으로 개질된 고분자의 0.01 내지 40 중량 퍼센트를 포함하는 화장용으로 허용가능한 조성물.
  14. 제12항에 있어서,
    상기 부형제들은 물, 당류, 계면활성제들, 보습제들, 바셀린, 광유, 지방족 알코올류, 지방족 에스테르 피부연화제들, 왁스 및 실리콘 함유 왁스들, 실리콘 오일, 실리콘 플루이드, 실리콘 계면활성제들, 휘발성 탄화수소 오일류, 4원계 질소 화합물들, 아민 작용화 실리콘들, 컨디셔닝 고분자들, 유동성 개질제들, 항산화제들, 일광차단 활성제들, C10 내지 C22로 된 이중 장쇄 아민류, C10 내지 C22로 된 장쇄 아민류, 지방족 알코올들, 에톡시화된 지방족 알코올들 및 디-테일 포스포리피드로 구성된 그룹으로부터 선택되는 화장용으로 허용가능한 조성물.
  15. 샴푸, 에프터쉐이브, 선스크린, 로션, 핸드 및 바디 크림, 액체 비누, 막대형 비누, 바스 오일 바, 면도 거품, 주방 세제, 컨디셔너, 헤어 릴렉서(hair relaxer), 모발 표백제, 헤어 디탱글링 로션(hair detangling lotion), 스타일링 젤, 스타일링 글레이즈(styling glaze), 스프레이 폼(spray foam), 스타일링 크림, 스타일링 왁스, 스타일링 로션, 무스, 스프레이 젤, 포마드, 샤워 젤, 버블 바스, 염모제, 일시적 및 영구적 염모제, 컬러 컨디셔너(color conditioner), 모발 라이트너, 염색 및 비염색 모발 린스, 헤어 틴트, 헤어 웨이브 셋, 헤어 스트레이트너, 모발 그루밍 보조제, 헤어 토닉(hair tonic), 헤어 드레싱 및 산화제품들, 스프리츠, 스타일링 왁스 및 향유(balm)로 구성된 그룹으로부터 선택된 제1항의 화장용으로 허용가능한 조성물.
  16. 제1항의 화장용으로 허용가능한 조성물을 기질에 바르는 방법을 포함하는 모발, 피부 및 손발톱들로부터 선택된 기질을 처리하는 방법.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 기질은 모발인 기질을 처리하는 방법.
  18. 가정용 클리너들 및 세탁용 세제들로 구성되어 있는 그룹으로부터 선택된 제1항의 화장용으로 허용가능한 조성물.
  19. 제1항에 있어서,
    상기 폴리아크릴아미드는 아크릴아미드, 하나 이상의 양이온 모노머들, 그리고 추가적으로 하나 이상의 음이온 모노머들로 이루어지는, 화장용으로 허용가능한 조성물.
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