KR101274667B1 - 원격 래디컬 발생기의 진단 장치 및 그 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 원격 래디컬 발생기의 챔버 내 분위기 조건이나 챔버 벽에 발생된 불순물에 의해 변화되는 임피던스 또는, 아크 발생 여부에 따라 가변되는 전압이나, 전류 또는 위상의 변화량 중 어느 하나를 감지하는 단계, 상기 감지한 변화량을 설정 변화량과 비교하는 단계 및, 상기 비교 결과, 상기 감지한 변화량이 설정 변화량 이상인 경우 원격 래디컬 발생기에 이상이 있는 것으로 판단하고, 상기 감지한 변화량이 설정 변화량 미만인 경우 원격 래디컬 발생기가 정상인 것으로 판단하여 원격 래디컬 발생기의 이상 유무를 확인하는 단계를 포함하여 이루어진 원격 래디컬 발생기의 진단 장치 및 그 방법에 관한 것으로, 원격 래디컬 발생기의 챔버 내 분위기 조건이나 챔버 벽에 발생된 불순물에 의해 변화되는 임피던스에 따라 가변되는 전압이나, 전류 또는 위상의 변화량을 사용해 원격 래디컬 발생기의 이상 유무를 확인하고, 원격 래디컬 발생기의 이상 유무에 따라 원격 래디컬 발생기의 챔버에 연결된 RF 발생기의 출력 전력 값을 조절하거나, 감지한 변화량과 설정 변화량 간의 차이 값만큼 기준이 되는 설정 값을 가변시켜 보상해줌으로써, 원격 플라즈마 발생기를 공정용으로 좀 더 세부적으로 관리할 수 있도록 한다.

Description

원격 래디컬 발생기의 진단 장치 및 그 방법{Apparatus for diagnosing Remote Radical Generator and method for the same}
본 발명은 원격 래디컬 발생기의 진단 장치 및 그 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 원격 래디컬 발생기의 챔버 내 분위기 조건이나 챔버 벽에 발생된 불순물에 의해 변화되는 임피던스 또는, 아크 발생 여부에 따라 가변되는 전압이나, 전류 또는 위상의 변화량을 사용해 원격 래디컬 발생기의 이상 유무를 확인하고, 원격 래디컬 발생기의 이상 유무에 따라 원격 래디컬 발생기의 챔버에 연결된 RF 발생기의 출력 전력 값을 조절하거나, 감지한 변화량과 설정 변화량 간의 차이 값만큼 기준이 되는 설정 값을 가변시켜 보상해줌으로써, 원격 플라즈마 발생기를 공정용으로 좀 더 세부적으로 관리할 수 있도록 하는 원격 래디컬 발생기의 진단 장치 및 그 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 기존에는 선행 특허(대한민국 특허출원 제10-2008-0120982호 발명의 명칭; 원격 플라즈마 시스템의 파워 모니터링 장치)와 같이 원격 플라즈마 발생기를 클리닝용 예를 들어, 챔버 세정용으로 사용해 왔던 게 현실이다.
하지만, 최근에는 원격 플라즈마 발생기를 공정용으로 사용하려는 추세여서 기존까지 없었던 좀 더 세부적인 관리가 필요한 실정이다.
본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위해 개발된 것으로, 원격 플라즈마 발생기를 공정용으로 사용하기 위해, 좀 더 세부적인 관리를 할 수 있도록 하는 원격 래디컬 발생기의 진단 장치 및 그 방법을 제공하는데 목적이 있다.
이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 바람직한 제1 실시예에 따른 원격 래디컬 발생기의 진단 장치는,
원격 래디컬 발생기의 챔버 내 분위기 조건이나 챔버 벽에 발생된 불순물에 의해 변화되는 임피던스 또는, 아크 발생 여부에 따라 가변되는 전압의 변화량을 감지하는 제1 감지 센서, 상기 제1 감지 센서에서 감지한 전압 물리량을 공정 장비 및 제어 주체가 받을 수 있는 전압의 아날로그 신호로 가공, 출력하여 신호의 레벨에 따라 이상유무를 판단할 수 있도록 하는 제1 신호 처리부, 상기 제1 신호 처리부에서 가공하여 나온 전압 변화량을 설정 전압 변화량과 비교하고 상기 전압 변화량이 설정 전압 변화량 이상인 경우 원격 래디컬 발생기의 이상 발생 신호를 출력하고, 상기 전압 변화량이 설정 전압 변화량 미만인 경우 원격 래디컬 발생기의 정상 신호를 출력하는 제1 신호 비교/분석부 및, 상기 제1 신호 비교/분석부로부터 입력된 신호에 따라 상기 원격 래디컬 발생기의 챔버에 연결된 RF 발생기의 출력 전력 값을 조절하는 제1 시스템 제어부를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위한 또 다른 본 발명의 바람직한 제2 실시예에 따른 원격 래디컬 발생기의 진단 장치는,
원격 래디컬 발생기의 챔버 내 분위기 조건이나 챔버 벽에 발생된 불순물에 의해 변화되는 임피던스 또는, 아크 발생 여부에 따라 가변되는 전류의 변화량을 감지하는 제2 감지 센서, 상기 제2 감지 센서에서 감지한 전류 물리량을 공정 장비 및 제어 주체가 받을 수 있는 아날로그 신호로 가공, 출력하여 신호의 레벨에 따라 이상유무를 판단할 수 있도록 하는 제2 신호 처리부, 상기 제2 신호 처리부에서 가공하여 나온 전류 변화량을 설정 전류 변화량과 비교하고 상기 전류 변화량이 설정 전류 변화량 이상인 경우 원격 래디컬 발생기의 이상 발생 신호를 출력하고, 상기 전류 변화량이 설정 전류 변화량 미만인 경우 원격 래디컬 발생기의 정상 신호를 출력하는 제2 신호 비교/분석부 및, 상기 제2 신호 비교/분석부로부터 입력된 신호에 따라 상기 원격 래디컬 발생기의 챔버에 연결된 RF 발생기의 출력 전력 값을 조절하는 제2 시스템 제어부를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위한 또 다른 본 발명의 바람직한 제3 실시예에 따른 원격 래디컬 발생기의 진단 장치는,
원격 래디컬 발생기의 챔버 내 분위기 조건이나 챔버 벽에 발생된 불순물에 의해 변화되는 임피던스 또는, 아크 발생 여부에 따라 가변되는 위상의 변화량을 감지하는 제3 감지 센서, 상기 제3 감지 센서에서 감지한 위상 물리량을 공정 장비 및 제어 주체가 받을 수 있는 아날로그 신호로 가공, 출력하여 신호의 레벨에 따라 이상유무를 판단할 수 있도록 하는 제3 신호 처리부, 상기 제3 신호 처리부에서 가공하여 나온 위상 변화량을 설정 위상 변화량과 비교하고 상기 위상 변화량이 설정 위상 변화량 이상인 경우 원격 래디컬 발생기의 이상 발생 신호를 출력하고, 상기 위상 변화량이 설정 위상 변화량 미만인 경우 원격 래디컬 발생기의 정상 신호를 출력하는 제3 신호 비교/분석부 및, 상기 제3 신호 비교/분석부로부터 입력된 신호에 따라 상기 원격 래디컬 발생기의 챔버에 연결된 RF 발생기의 출력 전력 값을 조절하는 제3 시스템 제어부를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위한 또 다른 본 발명에 따른 원격 래디컬 발생기의 진단 방법은,
원격 래디컬 발생기의 챔버 내 분위기 조건이나 챔버 벽에 발생된 불순물에 의해 변화되는 임피던스 또는, 아크 발생 여부에 따라 가변되는 전압이나, 전류 또는 위상의 변화량 중 어느 하나를 감지하는 단계, 상기 감지한 변화량을 설정 변화량과 비교하는 단계 및, 상기 비교 결과, 상기 감지한 변화량이 설정 변화량 이상인 경우 원격 래디컬 발생기에 이상이 있는 것으로 판단하고, 상기 감지한 변화량이 설정 변화량 미만인 경우 원격 래디컬 발생기가 정상인 것으로 판단하여 원격 래디컬 발생기의 이상 유무를 확인하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.
바람직하게, 상기 원격 래디컬 발생기의 이상 유무를 확인하는 단계 후, 상기 확인 결과에 따라 상기 원격 래디컬 발생기의 챔버에 연결된 RF 발생기의 출력 전력 값을 조절하거나 또는, 상기 감지한 변화량과 설정 변화량 간의 차이 값만큼 기준이 되는 설정 값을 가변시켜 보상해주는 단계를 더 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.
본 발명은 원격 래디컬 발생기의 챔버 내 분위기 조건이나 챔버 벽에 발생된 불순물에 의해 임피던스가 변화되는 경우, 그 변화되는 임피던스 또는, 아크 발생 여부에 따라 가변되는 전압이나, 전류 또는 위상의 변화량 중 어느 하나를 감지하고 설정 변화량과 비교하여, 설정 변화량 이상인 경우 원격 래디컬 발생기에 이상이 있는 것으로 판단하고, 설정 변화량 미만인 경우 원격 래디컬 발생기가 정상인 것으로 판단하여 원격 래디컬 발생기의 이상 유무를 확인할 수 있다.
더불어, 원격 래디컬 발생기의 이상 유무에 따라 원격 래디컬 발생기의 챔버에 연결된 RF 발생기의 출력 전력 값을 조절하거나 또는, 감지한 변화량과 설정 변화량 간의 차이 값만큼 기준이 되는 설정 값을 가변시켜 보상해줌으로써, 원격 플라즈마 발생기를 공정용으로 좀 더 세부적으로 관리할 수 있다.
도 1a와 도 1b, 도 1c는 본 발명의 바람직한 제1 실시예에 따른 원격 래디컬 발생기의 진단 장치를 도시한 블록구성도
도 2는 본 발명의 바람직한 제2 실시예에 따른 원격 래디컬 발생기의 진단 장치를 도시한 블록구성도
도 3은 본 발명의 바람직한 제3 실시예에 따른 원격 래디컬 발생기의 진단 장치를 도시한 블록구성도
도 4는 본 발명에 따른 원격 래디컬 발생기의 진단 장치의 동작을 순서대로 도시한 플로우 챠트
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 설명한다.
다만, 이하에서 설명되는 실시예는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 발명을 쉽게 실시할 수 있을 정도로 상세하게 설명하기 위한 것에 불과하며, 이로 인해 본 발명의 보호범위가 한정되는 것을 의미하지는 않는다.
본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.
명세서 및 청구범위 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 포함한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 포함할 수 있는 것을 의미한다.
도 1a와 도 1b는 본 발명의 바람직한 제1 실시예에 따른 원격 래디컬 발생기의 진단 장치를 도시한 블록구성도로, 도 1a와 도 1b는 원격 플라즈마 반응기 내부에 감지 센서가 장착된 진단 장치(도 1a: 코어에 감기는 권선에 감지 센서가 장착됨,, 도 1b: 1개 이상의 페라이트 코어에 감지 센서가 장착됨)를 도시한 도면이고, 도 1c는 원격 플라즈마 반응기 외부에 감지 센서가 장착된 진단 장치를 도시한 도면이다.
도 1a와 도 1b 및 도 1c에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 원격 래디컬 발생기 진단 장치는 크게, 제1 감지 센서(101), 제1 신호 처리부(102), 제1 신호 비교/분석부(103) 및, 제1 시스템 제어부(104)를 포함하여 이루어진 구조로 된 것이다.
즉, 원격 래디컬 발생기의 챔버 내 분위기 조건이나 챔버 벽에 발생된 불순물에 의해 변화되는 임피던스 또는, 아크 발생 여부에 따라 가변되는 전압의 변화량을 감지하는 제1 감지 센서(101), 상기 제1 감지 센서(101)에서 감지한 전압 변화량에 대응되는 신호를 외부에서 처리할 수 있도록 가공하는 제1 신호 처리부(102), 상기 제1 신호 처리부(102)에서 가공하여 나온 전압 변화량과 설정 전압 변화량과의 비교 결과에 따라 서로 다른 신호를 출력하는 제1 신호 비교/분석부(103) 및, 상기 제1 신호 비교/분석부(103)로부터 입력된 신호에 따라 상기 원격 래디컬 발생기의 챔버에 연결된 RF 발생기(105)의 출력 전력 값을 조절하는 제1 시스템 제어부(104)를 포함하여 이루어진 구조이다.
여기서, 제1 감지 센서(101)는 챔버에 연결되어 전압 변화량을 감지하는 것 즉, 원격 래디컬 발생기의 챔버 내 분위기 조건이나 챔버 벽에 발생된 불순물에 의해 임피던스가 변화되는 경우, 그 변화되는 임피던스 또는, 아크 발생 여부에 따라 가변되는 전압의 변화량을 감지하는 것이다.
제1 신호 처리부(102)는 상기 제1 감지 센서(101)에서 감지한 전압 변화량에 대응되는 신호를 외부에서 처리할 수 있도록 가공하는 것이다 즉, 상기 제1 감지 센서(101)에서 감지한 전압 물리량을 공정 장비 및 제어 주체가 받을 수 있는 전압의 아날로그 신호로 가공, 출력하여 신호의 레벨에 따라 이상유무를 판단할 수 있도록 하는 것이다. 예를 들어, 외부에서 처리할 수 있도록 입력 전압 0V를 10V로 증가시킨다.
제1 신호 비교/분석부(103)는 상기 제1 신호 처리부(102)에서 가공하여 나온 전압 변화량과 설정 전압 변화량과의 비교 결과에 따라 서로 다른 신호를 출력하는 것이다. 구체적으로는, 상기 제1 신호 처리부(102)에서 가공하여 나온 전압 변화량을 설정 전압 변화량과 비교하고 상기 전압 변화량이 설정 전압 변화량 이상인 경우 원격 래디컬 발생기의 이상 발생 신호를 출력하고, 상기 전압 변화량이 설정 전압 변화량 미만인 경우엔 원격 래디컬 발생기의 정상 신호를 출력한다.
제1 시스템 제어부(104)는 상기 제1 신호 비교/분석부(103)로부터 입력된 신호에 따라 상기 원격 래디컬 발생기의 챔버에 연결된 RF 발생기(105)의 출력 전력 값을 조절하는 것으로, 예를 들어 제1 신호 비교/분석부(103)로부터 입력된 신호가 원격 래디컬 발생기의 이상 발생 신호인 경우 출력 전력 값을 증가 또는 감소시키고, 제1 신호 비교/분석부로부터 입력된 신호가 원격 래디컬 발생기의 정상 신호인 경우 출력 전력 값을 그대로 유지시키는 것이다.
도 2는 또 다른 본 발명의 바람직한 제2 실시예에 따른 원격 래디컬 발생기의 진단 장치를 도시한 블록구성도이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 제2 실시예에 따른 진단 장치는 원격 래디컬 발생기의 챔버 내 분위기 조건이나 챔버 벽에 발생된 불순물에 의해 변화되는 임피던스 또는, 아크 발생 여부에 따라 가변되는 전류의 변화량을 감지하는 제2 감지 센서(201), 상기 제2 감지 센서(201)에서 감지한 전류 변화량에 대응되는 신호를 외부에서 처리할 수 있도록 가공하는 즉, 상기 제2 감지 센서(201)에서 감지한 전류 물리량을 공정 장비 및 제어 주체가 받을 수 있는 아날로그 신호로 가공, 출력하여 신호의 레벨에 따라 이상유무를 판단할 수 있도록 하는 제2 신호 처리부(202), 상기 제2 신호 처리부(202)에서 가공하여 나온 전류 변화량을 설정 전류 변화량과 비교하고 상기 전류 변화량이 설정 전류 변화량 이상인 경우 원격 래디컬 발생기의 이상 발생 신호를 출력하고, 상기 전류 변화량이 설정 전류 변화량 미만인 경우 원격 래디컬 발생기의 정상 신호를 출력하는 제2 신호 비교/분석부(203) 및, 상기 제2 신호 비교/분석부(203)로부터 입력된 신호에 따라 상기 원격 래디컬 발생기의 챔버에 연결된 RF 발생기(205)의 출력 전력 값을 조절하는 제2 시스템 제어부(204)로 된 구조이다.
도 3은 또 다른 본 발명의 바람직한 제3 실시예에 따른 원격 래디컬 발생기의 진단 장치를 도시한 블록구성도이다.
도 3에 도시된 바와 같이, 본 본 발명의 바람직한 제3 실시예에 따른 진단 장치는 원격 래디컬 발생기의 챔버 내 분위기 조건이나 챔버 벽에 발생된 불순물에 의해 변화되는 임피던스 또는, 아크 발생 여부에 따라 가변되는 위상의 변화량을 감지하는 제3 감지 센서(301), 상기 제3 감지 센서(301)에서 감지한 위상 변화량에 대응되는 신호를 외부에서 처리할 수 있도록 가공하는 즉, 상기 제3 감지 센서(301)에서 감지한 위상 물리량을 공정 장비 및 제어 주체가 받을 수 있는 아날로그 신호로 가공, 출력하여 신호의 레벨에 따라 이상유무를 판단할 수 있도록 하는 제3 신호 처리부(302), 상기 제3 신호 처리부(302)에서 가공하여 나온 위상 변화량을 설정 위상 변화량과 비교하고 상기 위상 변화량이 설정 위상 변화량 이상인 경우 원격 래디컬 발생기의 이상 발생 신호를 출력하고, 상기 위상 변화량이 설정 위상 변화량 미만인 경우 원격 래디컬 발생기의 정상 신호를 출력하는 제3 신호 비교/분석부(303) 및, 상기 제3 신호 비교/분석부(303)로부터 입력된 신호에 따라 상기 원격 래디컬 발생기의 챔버에 연결된 RF 발생기(305)의 출력 전력 값을 조절하는 제3 시스템 제어부(304)로 된 구조이다.
이하, 도 1 내지 도 3의 본 발명에 따른 원격 래디컬 발생기의 진단 장치의 동작을 첨부된 도 4를 참조하여 설명한다.
도 4는 본 발명에 따른 원격 래디컬 발생기의 진단 장치의 동작을 순서대로 도시한 플로우 챠트이다.
도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명은 먼저, 원격 래디컬 발생기의 챔버 내 분위기 조건이나 챔버 벽에 발생된 불순물에 의해 변화되는 임피던스 또는, 아크 발생 여부에 따라 가변되는 전압이나, 전류 또는 위상의 변화량 중 어느 하나를 감지한다(S401).
그런 다음, 상기 감지한 변화량을 설정 변화량과 비교한다(S402~S403).
다음, 상기 비교 결과, 상기 감지한 변화량이 설정 변화량 이상인 경우 원격 래디컬 발생기에 이상이 있는 것으로 판단하고, 상기 감지한 변화량이 설정 변화량 미만인 경우 원격 래디컬 발생기가 정상인 것으로 판단하여 원격 래디컬 발생기의 이상 유무를 확인한다(S404).
예를 들어, 감지된 전압 변화량이 설정 전압 변화량 이상인 경우 원격 래디컬 발생기에 이상이 있는 것으로 판단하고, 감지된 전압 변화량이 설정 전압 변화량 미만인 경우엔 원격 래디컬 발생기가 정상인 것으로 판단한다.
마지막으로, 상기 확인 결과에 따라 상기 원격 래디컬 발생기의 챔버에 연결된 RF 발생기의 출력 전력 값을 조절하거나(예를 들어, 원격 래디컬 발생기가 이상 이 있는 것으로 판단된 경우 출력 전력 값을 증가 또는 감소시키고, 원격 래디컬 발생기가 정상인 것으로 판단된 경우 출력 전력 값을 그대로 유지시킨다) 또는, 상기 감지한 변화량과 설정 변화량 간의 차이 값을 구하고, 구해진 차이 값만큼 기준이 되는 설정 값을 가변시켜 보상해준다(S405).
이상과 같이, 본 발명은 원격 래디컬 발생기의 챔버 내 분위기 조건이나 챔버 벽에 발생된 불순물에 의해 임피던스가 변화되는 경우, 그 변화되는 임피던스 또는, 아크 발생 여부에 따라 가변되는 전압이나, 전류 또는 위상의 변화량 중 어느 하나를 감지하고 설정 변화량과 비교하여, 설정 변화량 이상인 경우 원격 래디컬 발생기에 이상이 있는 것으로 판단하고, 설정 변화량 미만인 경우 원격 래디컬 발생기가 정상인 것으로 판단하여 원격 래디컬 발생기의 이상 유무를 확인할 수 있다.
더불어, 원격 래디컬 발생기의 이상 유무에 따라 원격 래디컬 발생기의 챔버에 연결된 RF 발생기의 출력 전력 값을 조절하거나 또는, 감지한 변화량과 설정 변화량 간의 차이 값만큼 기준이 되는 설정 값을 가변시켜 보상해줌으로써, 원격 플라즈마 발생기를 공정용으로 좀 더 세부적으로 관리할 수 있다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
101 : 제1 감지 센서 102 : 제1 신호 처리부
103 : 제1 신호 비교/분석부 104 : 제1 시스템 제어부
105, 205, 305 : RF 발생기
201 : 제2 감지 센서 202 : 제2 신호 처리부
203 : 제2 신호 비교/분석부 204 : 제2 시스템 제어부
301 : 제3 감지 센서 302 : 제3 신호 처리부
303 : 제1 신호 비교/분석부 304 : 제3 시스템 제어부

Claims (5)

  1. 원격 래디컬 발생기의 챔버 내 분위기 조건이나 챔버 벽에 발생된 불순물에 의해 변화되는 임피던스 또는, 아크 발생 여부에 따라 가변되는 전압의 변화량을 감지하는 제1 감지 센서;
    상기 제1 감지 센서에서 감지한 전압 물리량을 공정 장비 및 제어 주체가 받을 수 있는 전압의 아날로그 신호로 가공, 출력하여 신호의 레벨에 따라 이상유무를 판단할 수 있도록 하는 제1 신호 처리부;
    상기 제1 신호 처리부에서 가공하여 나온 전압 변화량을 설정 전압 변화량과 비교하고 상기 전압 변화량이 설정 전압 변화량 이상인 경우 원격 래디컬 발생기의 이상 발생 신호를 출력하고, 상기 전압 변화량이 설정 전압 변화량 미만인 경우 원격 래디컬 발생기의 정상 신호를 출력하는 제1 신호 비교/분석부; 및
    상기 제1 신호 비교/분석부로부터 입력된 신호에 따라 상기 원격 래디컬 발생기의 챔버에 연결된 RF 발생기의 출력 전력 값을 조절하는 제1 시스템 제어부를 포함하여 이루어진 원격 래디컬 발생기의 진단 장치.
  2. 원격 래디컬 발생기의 챔버 내 분위기 조건이나 챔버 벽에 발생된 불순물에 의해 변화되는 임피던스 또는, 아크 발생 여부에 따라 가변되는 전류의 변화량을 감지하는 제2 감지 센서;
    상기 제2 감지 센서에서 감지한 전류 물리량을 공정 장비 및 제어 주체가 받을 수 있는 아날로그 신호로 가공, 출력하여 신호의 레벨에 따라 이상유무를 판단할 수 있도록 하는 제2 신호 처리부;
    상기 제2 신호 처리부에서 가공하여 나온 전류 변화량을 설정 전류 변화량과 비교하고 상기 전류 변화량이 설정 전류 변화량 이상인 경우 원격 래디컬 발생기의 이상 발생 신호를 출력하고, 상기 전류 변화량이 설정 전류 변화량 미만인 경우 원격 래디컬 발생기의 정상 신호를 출력하는 제2 신호 비교/분석부; 및
    상기 제2 신호 비교/분석부로부터 입력된 신호에 따라 상기 원격 래디컬 발생기의 챔버에 연결된 RF 발생기의 출력 전력 값을 조절하는 제2 시스템 제어부를 포함하여 이루어진 원격 래디컬 발생기의 진단 장치.
  3. 원격 래디컬 발생기의 챔버 내 분위기 조건이나 챔버 벽에 발생된 불순물에 의해 변화되는 임피던스 또는, 아크 발생 여부에 따라 가변되는 위상의 변화량을 감지하는 제3 감지 센서;
    상기 제3 감지 센서에서 감지한 위상 물리량을 공정 장비 및 제어 주체가 받을 수 있는 아날로그 신호로 가공, 출력하여 신호의 레벨에 따라 이상유무를 판단할 수 있도록 하는 제3 신호 처리부;
    상기 제3 신호 처리부에서 가공하여 나온 위상 변화량을 설정 위상 변화량과 비교하고 상기 위상 변화량이 설정 위상 변화량 이상인 경우 원격 래디컬 발생기의 이상 발생 신호를 출력하고, 상기 위상 변화량이 설정 위상 변화량 미만인 경우 원격 래디컬 발생기의 정상 신호를 출력하는 제3 신호 비교/분석부; 및
    상기 제3 신호 비교/분석부로부터 입력된 신호에 따라 상기 원격 래디컬 발생기의 챔버에 연결된 RF 발생기의 출력 전력 값을 조절하는 제3 시스템 제어부를 포함하여 이루어진 원격 래디컬 발생기의 진단 장치.
  4. 원격 래디컬 발생기의 챔버 내 분위기 조건이나 챔버 벽에 발생된 불순물에 의해 변화되는 임피던스에 따라 가변되는 전압이나, 전류 또는 위상의 변화량 중 어느 하나를 감지하는 단계;
    상기 감지한 변화량을 설정 변화량과 비교하는 단계; 및
    상기 비교 결과, 상기 감지한 변화량이 설정 변화량 이상인 경우 원격 래디컬 발생기에 이상이 있는 것으로 판단하고, 상기 감지한 변화량이 설정 변화량 미만인 경우 원격 래디컬 발생기가 정상인 것으로 판단하여 원격 래디컬 발생기의 이상 유무를 확인하는 단계를 포함하여 이루어지고,
    상기 원격 래디컬 발생기의 이상 유무를 확인하는 단계 후,
    상기 확인 결과에 따라 상기 원격 래디컬 발생기의 챔버에 연결된 RF 발생기의 출력 전력 값을 조절하거나 또는, 상기 감지한 변화량과 설정 변화량 간의 차이 값만큼 기준이 되는 설정 값을 가변시켜 보상해주는 단계를 더 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 원격 래디컬 발생기의 진단 방법.



  5. 삭제
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050010137A (ko) * 2003-07-18 2005-01-27 삼성전자주식회사 플라즈마 공정 장치 및 그 이상 제어 방법
KR101020564B1 (ko) * 2008-12-02 2011-03-09 주식회사 에피솔루션 원격 플라즈마 시스템의 파워 모니터링 장치

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