KR101271125B1 - Drying device for large area substrate - Google Patents

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Abstract

본 발명은 대면적 기판의 건조장치에 관한 것으로, 기판의 온도 분포를 검출하는 온도분포 검출부와, 상기 온도분포 검출부에서 검출된 기판의 온도 분포에 따른 온도 제어를 수행하는 온도제어부와, 상기 기판에 승온된 건조공기를 분사하는 에어나이프와, 상기 온도제어부에 의해 제어되어 상기 에어나이프에서 분사되는 건조공기를부분적으로 승온시키는 히터부를 포함한다. 이와 같은 구성의 본 발명은 대면적 기판의 온도 분포를 검출하고, 다른 영역에 비하여 온도가 상대적으로 낮은 것으로 검출된 영역에 분사되는 건조공기를 더 승온시켜 분사함으로써, 상기 대면적 기판의 온도 불균일에 의해 특정 영역에서 건조가 되지 않는 현상의 발생을 방지할 수 있게 된다.The present invention relates to a drying apparatus for a large-area substrate, comprising: a temperature distribution detector for detecting a temperature distribution of a substrate; a temperature controller for performing temperature control according to the temperature distribution of the substrate detected by the temperature distribution detector; An air knife for injecting the heated dry air, and a heater portion controlled by the temperature control unit to partially heat up the dry air injected from the air knife. The present invention having such a configuration detects the temperature distribution of the large area substrate, and further increases the temperature of the dry air injected into the area detected as having a relatively low temperature compared to other areas, thereby injecting the temperature into the nonuniformity of the large area substrate. As a result, it is possible to prevent the occurrence of the phenomenon of not drying in a specific region.

Description

대면적 기판의 건조장치{Drying device for large area substrate}Drying device for large area substrate

도 1은 종래 대면적 기판의 건조장치의 구성도이다.1 is a block diagram of a conventional drying apparatus for a large area substrate.

도 2는 본 발명 대면적 기판의 건조장치 바람직한 실시예의 구성도이다. Figure 2 is a block diagram of a preferred embodiment of the drying apparatus of the present invention a large area substrate.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*Description of the Related Art [0002]

10:대면적 기판 20:이송부10: large area substrate 20: transfer unit

30:온도분포 검출부 40:주히터30: temperature distribution detector 40: main heater

50:에어나이프 60:온도제어부50: air knife 60: temperature control unit

70:보조히터70: auxiliary heater

본 발명은 대면적 기판의 건조장치에 관한 것으로, 특히 대면적 기판의 온도분포를 감안하여 건조할 수 있는 대면적 기판의 건조장치에 관한 것이다.The present invention relates to a drying apparatus for a large area substrate, and more particularly to a drying apparatus for a large area substrate that can be dried in consideration of the temperature distribution of the large area substrate.

일반적으로 평판 디스플레이의 제조에 사용되는 대면적 기판을 건조하는 건조장치는 승온된 건조공기를 대면적 기판에 분사하여 기판을 건조하는 장치이다.Generally, a drying apparatus for drying a large area substrate used in the manufacture of a flat panel display is a device for drying a substrate by spraying heated air on a large area substrate.

종래 대면적 기판의 건조장치는 대면적 기판의 온도 분포 또는 건조실 내의 온도 분포와는 무관하게 균일한 온도로 승온된 건조공기를 분사하였으며, 이와 같은 종래 대면적 기판의 건조장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Conventional large area substrate drying apparatus sprays dry air heated to a uniform temperature irrespective of the temperature distribution of the large area substrate or the temperature distribution in the drying chamber, refer to the accompanying drawings of the conventional large area substrate drying apparatus. When described in detail as follows.

도 1은 종래 대면적 기판의 건조장치의 구성도이다.1 is a block diagram of a conventional drying apparatus for a large area substrate.

도 1을 참조하면, 종래 대면적 기판의 건조장치는 건조공기를 가열하는 히터(1)와, 상기 히터(1)에 의해 승온된 건조공기를 이송부(4)에 의해 이송되는 기판(3)에 분사하는 에어나이프(2)로 구성된다.Referring to FIG. 1, a conventional apparatus for drying a large-area substrate includes a heater 1 for heating dry air, and dry air heated by the heater 1 to a substrate 3 transferred by a transfer unit 4. It consists of the air knife 2 which injects.

상기 히터(1)에 의해 승온된 건조공기의 온도는 50 내지 80℃이며, 그 히터(1)에 의해 승온된 건조공기는 에어나이프(2)에서 분사된다.The temperature of the drying air heated by the heater 1 is 50 to 80 ° C, and the dry air heated by the heater 1 is injected from the air knife 2.

상기 에어나이프(2)에서 분사되는 승온 건조공기는 그 저면부에서 이송부(4) 에 의해 이송되는 기판(3)을 건조한다.The elevated temperature drying air injected from the air knife 2 dries the substrate 3 transferred by the transfer unit 4 at its bottom portion.

상기 에어나이프(2)는 기판의 상면과 하면을 각각 건조시킬 수 있도록 상하 한 쌍으로 배치할 수 있다.The air knife 2 may be disposed in the upper and lower pairs so as to dry the upper and lower surfaces of the substrate, respectively.

상기 기판(3)은 건조실의 내부 온도 분포, 이전의 세정공정 등의 처리 과정에서 부분적으로 온도에 차이가 발생할 수 있다. 이와 같이 기판(3) 자체의 온도 분포에 차이가 있는 경우, 보다 온도가 낮은 부분에서는 상기 승온된 건조공기에 의해서도 건조가 잘 이루어지지 않는 경우가 발생한다.The substrate 3 may partially experience a difference in temperature during an internal temperature distribution of a drying chamber, a previous cleaning process, and the like. In this way, when there is a difference in the temperature distribution of the substrate 3 itself, there is a case where the drying is not performed well even by the heated air which is heated at a lower temperature.

즉, 종래 대면적 기판의 건조장치는 대면적 기판의 온도 분포를 고려하지 않고, 전체적으로 균일한 온도로 승온된 건조공기를 분사하기 때문에 대면적 기판의 온도가 낮은 부분에서는 그 승온된 건조공기의 온도가 낮아지며, 따라서 부분적으로 건조가 이루어지지 않는 경우가 발생할 수 있다.That is, the conventional apparatus for drying a large area substrate injects dry air heated to a uniform temperature without considering the temperature distribution of the large area substrate, so that the temperature of the heated air is increased in a portion where the temperature of the large area substrate is low. Can be lowered, and thus partially dry may occur.

이와 같이 부분적으로 건조가 이루어지지 않은 경우, 그 건조되지 않은 부분에서는 물얼룩이 기판에 남아 이후의 공정에서 공정불량이 발생할 수 있는 문제점이 있었다.When the drying is not performed in this way, water stains remain on the substrate in the undried portion, which may cause a process defect in a subsequent process.

상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명은, 기판의 온도 분포에 차이가있는 경우 에도 기판을 완전 건조시킬 수 있는 대면적 기판의 건조장치를 제공함에 그 목적이 있다.In view of the above problems, the present invention has an object to provide a large area substrate drying apparatus capable of completely drying a substrate even when there is a difference in temperature distribution of the substrate.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 기판의 온도 분포를 검출하는 온도분포 검출부와, 상기 온도분포 검출부에서 검출된 기판의 온도 분포에 따른 온도 제어를 수행하는 온도제어부와, 상기 기판에 승온된 건조공기를 분사하는 에어나이프와, 상기 온도제어부에 의해 제어되어 상기 에어나이프에서 분사되는 건조공기를부분적으로 승온시키는 히터부를 포함한다.The present invention for achieving the above object, the temperature distribution detection unit for detecting a temperature distribution of the substrate, a temperature control unit for performing a temperature control according to the temperature distribution of the substrate detected by the temperature distribution detection unit, and the temperature rising on the substrate An air knife for injecting the dried air, and a heater part controlled by the temperature control unit to partially increase the temperature of the dry air injected from the air knife.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다. 그러나 이하의 실시예는 이 기술분야에서 통상적인 지식을 가진 자에게 본 발명이 충분히 이해되도록 제공되는 것으로서 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 다음에 기술되는 실시예에 한정되는 것은 아니다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, it will be understood by those skilled in the art that the following embodiments are provided so that those skilled in the art will be able to fully understand the present invention, and that various changes and modifications may be made without departing from the scope of the present invention. It is not. Wherein like reference numerals refer to like elements throughout.

도 2는 본 발명 대면적 기판의 건조장치 바람직한 실시예에 따른 구성도이다.Figure 2 is a block diagram according to a preferred embodiment of the drying apparatus of the present invention a large area substrate.

도 2를 참조하면, 본 발명 대면적 기판의 건조장치 바람직한 실시예는, 건조공기를 설정된 온도로 가열하는 주히터(40)와, 상기 주히터(40)에서 승온된 건조공 기를 이송부(20)에 의해 이송되는 기판(10)에 분사하는 에어나이프(50)와, 상기 기판(10)의 온도분포를 검출하는 온도분포 검출부(30)와, 상기 온도분포 검출부(30)의 검출결과를 확인하여 기판(10)의 온도 분포에 따른 온도 제어신호를 출력하는 온도제어부(60)와, 상기 온도제어부(60)의 온도 제어신호에 따라 상기 에어나이프(50)를 통해 분사되는 승온된 건조공기의 온도를 부분적으로 승온시키는 보조히터(70)를 포함한다.2, a preferred embodiment of the drying apparatus of the large-area substrate of the present invention, the main heater 40 for heating the dry air to a set temperature, and the dry air heated in the main heater 40 transfer unit 20 By checking the air knife 50 sprayed onto the substrate 10 transported by the substrate 10, the temperature distribution detector 30 that detects the temperature distribution of the substrate 10, and the temperature distribution detector 30 Temperature of the temperature control unit 60 for outputting a temperature control signal according to the temperature distribution of the substrate 10 and the temperature of the dried air that is heated through the air knife 50 according to the temperature control signal of the temperature control unit 60. It includes an auxiliary heater 70 for partially raising the temperature.

이하, 상기와 같이 구성된 본 발명 대면적 기판의 건조장치의 바람직한 실시예의 구성과 작용을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the configuration and operation of the preferred embodiment of the drying apparatus of the large-area substrate of the present invention configured as described above will be described in more detail.

먼저, 감지센서(도면 미도시)에 의해 이송부(20)에 의해 이송되는 기판(10)이 검출되면, 상기 주히터(40)가 동작하여 건조공기를 승온시킨다.First, when the substrate 10 to be transferred by the transfer unit 20 is detected by a sensor (not shown), the main heater 40 operates to heat up the dry air.

이때 주히터(40)에 의해 승온된 건조공기는 50 내지 80℃이며, 그 주히터(40)가 동작함과 아울러 상기 온도분포 검출부(30)에 의해 그 기판(10)의 온도 분포가 검출된다.At this time, the dry air heated by the main heater 40 is 50 to 80 ° C., the main heater 40 is operated, and the temperature distribution detector 30 detects the temperature distribution of the substrate 10. .

상기 온도분포 검출부(30)는 열화상 카메라, 적외선 센서 등일 수 있으며, 상기 기판(10)의 전체 온도분포를 이미지화하여 검출하게 된다.The temperature distribution detector 30 may be a thermal imaging camera, an infrared sensor, or the like, and image and detect the entire temperature distribution of the substrate 10.

상기 온도분포 검출부(30)에서 검출된 결과는 상기 온도제어부(60)에서 해석되어 기판(10)에서 온도가 다른 영역에 비해 상대적으로 더 낮은 영역을 검출하게 된다.The result detected by the temperature distribution detector 30 is interpreted by the temperature controller 60 to detect a region of the substrate 10 having a lower temperature than other regions.

이와 같이 기판(10)의 온도분포를 감안한 온도제어부(60)는 온도 제어신호를 출력하며, 그 온도 제어신호에 따라 보조히터(70)는 이송되는 기판(10)의 온도가 상대적으로 낮은 영역에 분사되는 건조공기를 더 승온시켜 분사한다.As such, the temperature controller 60 considering the temperature distribution of the substrate 10 outputs a temperature control signal, and the auxiliary heater 70 is located in a region where the temperature of the substrate 10 to be transferred is relatively low according to the temperature control signal. The sprayed drying air is further heated to increase the temperature.

상기 보조히터(70)는 에어나이프(50)를 통해 분사되는 건조공기를 부분적으로 가열할 수 있는 복수의 개별 구동 가능한 히터일 수 있으며, 상기 온도제어부(60)의 온도 제어신호를 그 개별 구동 가능한 히터에 각각 선택적으로 인가되는 전압일 수 있다.The auxiliary heater 70 may be a plurality of individual driveable heaters capable of partially heating the dry air injected through the air knife 50, and may individually drive the temperature control signal of the temperature control unit 60. The voltage may be selectively applied to each heater.

즉, 본 발명은 기판(10)의 온도 분포를 검출하고, 상대적으로 온도가 낮은 영역에 분사되는 건조공기를 부분적으로 가열한 후 분사함으로써, 그 온도가 상대적으로 낮은 영역을 용이하게 건조할 수 있게 된다.That is, the present invention detects the temperature distribution of the substrate 10 and partially heats and sprays dry air injected into a region having a relatively low temperature, thereby easily drying the region having a relatively low temperature. do.

상기 보조히터(70)를 포함하는 에어나이프(50)는 기판(10)의 저면을 건조할 수 있도록 기판(10)의 하부측에 더 구비될 수 있다.The air knife 50 including the auxiliary heater 70 may be further provided at a lower side of the substrate 10 to dry the bottom surface of the substrate 10.

이때, 상기 온도분포 검출부(30)는 기판(10)의 상면 또는 저면의 온도분포를 검출하는 것만이 구비될 수 있으며, 그 온도분포 검출부(30)의 온도분포를 검출한 온도제어부(60)는 그 기판(10)의 저면측과 상면측에 위치하는 에어나이프(50)의 보조히터(70)를 제어하도록 구성할 수 있다.In this case, the temperature distribution detection unit 30 may be provided only to detect the temperature distribution of the upper or lower surface of the substrate 10, the temperature control unit 60 that detects the temperature distribution of the temperature distribution detection unit 30 is The auxiliary heater 70 of the air knife 50 located on the bottom face side and the top face side of the board | substrate 10 can be comprised.

이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시 예들을 들어 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시 예들에 한정되지 않으며 본 발명의 개념을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능하다.The present invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments, but the present invention is not limited to the above-described embodiments and has ordinary skill in the art to which the present invention pertains without departing from the concept of the present invention. Various changes and modifications are possible by the user.

상기한 바와 같이 본 발명은, 기판의 온도 분포를 검출하고, 다른 영역에 비하여 온도가 상대적으로 낮은 것으로 검출된 영역에 분사되는 건조공기를 더 승온시켜 분사함으로써, 상기 대면적 기판의 온도 불균일에 의해 특정 영역에서 건조가 되지 않는 현상의 발생을 방지하여, 대면적 기판을 완전 건조시키는 효과가 있다.As mentioned above, this invention detects the temperature distribution of a board | substrate, and heats and sprays the dry air which is injected to the area | region detected as having a relatively low temperature compared with another area | region, and by the temperature nonuniformity of the said large area board | substrate, There is an effect of preventing the occurrence of the phenomenon that does not dry in a specific region, completely drying the large area substrate.

Claims (3)

기판의 온도 분포를 검출하는 온도분포 검출부;A temperature distribution detector for detecting a temperature distribution of the substrate; 상기 온도분포 검출부에서 검출된 기판의 온도 분포에 따른 온도 제어를 수행하는 온도제어부;A temperature controller which performs temperature control according to the temperature distribution of the substrate detected by the temperature distribution detector; 상기 기판에 건조공기를 분사하는 에어나이프; 및An air knife for spraying dry air onto the substrate; And 상기 온도제어부에 의해 제어되어 상기 에어나이프에서 분사되는 건조공기를부분적으로 승온시키는 히터부를 포함하는 대면적 기판의 건조장치.And a heater unit controlled by the temperature control unit to partially heat up the drying air injected from the air knife. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 온도분포 검출부는,The temperature distribution detector, 열화상 카메라 또는 적외선 센서인 것을 특징으로 하는 대면적 기판의건조장치.Drying apparatus for a large area substrate, characterized in that the thermal imaging camera or infrared sensor. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 히터부는,The heater unit, 상기 에어나이프의 내측에 위치하며, 각각 개별 구동 가능한 다수의 히터를 포함하는 대면적 기판의 건조장치. Located in the interior of the air knife, the apparatus for drying a large area substrate comprising a plurality of heaters, each of which can be individually driven.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030046056A (en) * 2001-12-04 2003-06-12 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Air Knife Dryer
KR20070057474A (en) * 2005-12-02 2007-06-07 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Air knife for liquid crystal display and method for controlling thereof

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030046056A (en) * 2001-12-04 2003-06-12 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Air Knife Dryer
KR20070057474A (en) * 2005-12-02 2007-06-07 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Air knife for liquid crystal display and method for controlling thereof

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