KR101264470B1 - 적어도 두 개의 측정 신호들을 처리하는 측정 신호 처리 장치 및 방법 - Google Patents
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Abstract
큰 동적 범위를 가지면서 급속하게 변동하는 AC 전력 공급기로부터 유래되는 측정 신호들(m, m1, m2)의 진폭과, 측정 신호들(m, m1, m2)간의 위상 천이(ψ)를 보다 손쉽게 결정하기 위하여, 측정 신호들(m, m1, m2)이 측정 신호 취급 수단(15, 15.1, 15.2)내에서 처리되어 각각 일정한 AC 진폭을 갖는 보조 신호들(h, h', h'1, h'2)이 형성되고 특히 측정 신호들(m, m1, m2)에 적용되는 증폭 계수(V)로부터 제1 측정값들(v, a, rssi, rssi1, rssi2)이 획득된다. 두 개의 보조 신호들(h, h', h'1, h'2)간의 위상 천이(ψ)가 특히 보조 신호들(h, h', h'1, h'2)의 영점 이동들간의 시간차(Δt)에 의해서 제2 측정값으로서 더 결정된다.
AC, 전력, 공급, 측정, 플라즈마, 부하.
Description
본 발명은 플라즈마 코팅 또는 플라즈마 에칭과 같은 전기적 플라즈마 프로세스의 AC 공급기에서 특히 사용되는 AC 전력공급기로부터의 적어도 두 개의 측정 신호들을 처리하는 측정 신호 처리 장치 및 방법에 관한 것이다.
이와 같은 AC 전력공급기들은 주파수가 저주파 범위와 고주파 범위사이일 수 있는 전기 전력을 생성한다. 일반적으로 AC 전력 공급기들은 정의된 실수 내부 저항 또는 복소 내부 저항을 갖는 발전기와 최적의 전력 전송을 위하여 플라즈마 프로세스 또는 플라즈마 부하의 일반적 복소 임피던스를 발전기의 내부 저항에 정합시키는 임피던스 정합 회로(정합박스)를 포함한다. 전기적 플라즈마 프로세스는 자체적 임피던스가 비예측가능하게 동적으로 변동되는 특성을 갖기 때문에, 그리고 바람직하지 않는 국부적 방전(아크)이 플라즈마내에서 추가 발생될 수 있고 임피던스에서의 순간 변동을 초래할 수 있기 때문에, 임피던스 정합 회로와 (택일적으로) 발전기 전력은 또한 연속적으로 조정되어야만 하거나 또는 발전기로부터 플라즈마 부하로의 전력 흐름은 완전하게 차단되어야만 한다.
임피던스 정합 및 전력 변동을 제어하기 위하여, 측정 저항기들, 변환기들, 방향성 커플러 또는 실수 또는 복소 전압 분배기 등을 포함할 수 있는 측정 위치들로부터의 신호들이 측정 신호로서 제공된다. 측정 신호는 순간 AC 전압, 순간 교류 또는, 방향성 커플러의 경우에서는, 플라즈마 부하의 방향에 순방향으로 제공된 전력의 순간값 및/또는 플라즈마 부하에 의해 역반사된 전력의 순간값을 표시한다. 측정 신호의 진폭 및 적어도 두 개의 측정 신호들의 위상 천이가 측정값으로서 상기 값들로부터 확정된다. 이러한 방법 및 측정 신호 처리 장치들은 (예를 들어, US 제2007/0082627 A1호로부터) 본 발명분야의 당업자에게 알려져 있다. 측정 위치는 발전기와 임피던스 정합 회로사이에 위치될 수 있거나, 또는 임피던스 정합 회로와 플라즈마 부하사이에 위치될 수 있으며, 이들 회로 블럭들의 구성부에 의해, 즉 예를 들면 임피던스 정합 회로의 코일에 의해 직접 형성될 수 있다.
이러한 방식으로 획득된 측정 신호의 진폭 확정(이것은 일반적으로 정류 및 저역통과 필터링에 의해 수행됨)은 플라즈마 프로세스의 격렬하고 급속하게 변동되는 임피던스가 원인이 될 수 있는 큰 동적 범위의 경우에서 특히 어렵다. 각자의 진폭이 매우 크게 상이한 두 개의 측정 신호들사이의 위상 천이의 측정은 더 복잡하다.
그러므로, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 큰 동적범위를 가지며 급속하게 변동하는 측정 신호 진폭의 확정을 가능케해주고, 측정 신호들사이의 위상 천이의 확정을 보다 단순하게 구성가능하게 해주고, 그 결과로 발전기 및/또는 임피던스 정합 회로의 안정적인 제어를 가능하게 해주는 것이다.
상기 과제는 실질적으로 일정한 AC 진폭을 갖는 보조 신호를 생성하기 위하여 각각의 측정 신호와 연계되는 측정 신호 취급 수단과 함께, 측정 신호 처리 장치에 의해 해결된다. 이러한 방식으로, 이에 더하여 산정될 예정인 보조 신호가 단순화된 방식으로 제공된다.
본 발명의 일 구성에서, 측정 신호 취급 수단들은 보조 신호를 형성하기 위하여 측정 신호를 처리하기 위한, 특히 증폭하기 위한 신호 제어 유닛을 각각 포함할 수 있으며, 각각의 신호 제어 유닛은 측정 신호의 진폭을 표시하는 제1 측정값을 구성하는 변수 또는 이와 같은 제1 측정값을 확정해줄 수 있는 변수를 출력한다. 이러한 예시에서, 보조 신호가 생성될 때에 제1 측정값은 이미 생성되거나 출력되어 있다.
각각의 신호 제어 유닛은 전형적으로 측정 신호를 조정하기 위한 피드백 루프를 포함한다. 신호 제어 유닛은 실질적으로 일정한 AC 진폭을 갖는 보조 신호를 획득하기 위하여 측정 신호를 조정하고, 측정 신호의 진폭에 대한 제1 측정값으로 서, 필요로 하는 제어값(특히, 증폭에 필요한 제어값), 또는 이것의 역수값을 제공한다. 피드백 루프의 구성에 따라, 측정값은 측정 신호의 진폭에 대하여 정비례 또는 반비례로 나타날 수 있다. 로그함수형태의 측정값이 추가로 rssi 신호(무선 신호 세기 표시자)로서 출력될 수 있다. 측정 신호 취급 수단 각각은, 장치로서, 수신기에서 통상적으로 사용되는 아날로그 장치로부터의 집적 회로 AD607, 및/또는 이와 유사한 집적 회로를 포함할 수 있다.
측정 신호는 전압 측정 또는 전류 측정이 수행되고, AC 전력공급기의 주파수, 특히 플라즈마 전류 입력의 기본 주파수를 갖는 측정 위치에서 측정된다. 측정 신호는 또한 순방향 전력 및 방향성 커플러에서의 반사된 전력의 측정값에 대응할 수 있다.
만약 AC 전력공급기의 기본 주파수가 높은 경우(예컨대, 1 MHz 보다 높은 경우), 측정 신호는 우선적으로 중간 주파수 신호로 변환될 수 있다. 이를 위해, 측정 신호 취급 수단 각각은 측정 신호를 중간 주파수 신호로 변환시키기 위하여 헤테로다인 주파수 생성기에 연결된 중간 주파수 유닛, 특히 혼합기를 포함할 수 있다. 이것은 혼합기에서 측정 신호를 발전기의 기본 주파수로부터 중간 주파수값만큼 차이나는 헤테로다인 주파수를 갖는 로컬 오실레이터로부터의 헤테로다인 신호와 혼합시킴으로써 수행된다. 중간 신호 또는 보조 신호들사이의 위상 천이를 측정할 수 있도록 하기 위하여, 모든 측정 신호 취급 수단은 동일한 헤테로다인 주파수가 제공되어야만 한다.
측정 신호로부터 조화파 분열을 제거하고, 중간 주파수 신호로부터 분열을 소거하기 위하여, 측정 신호 취급 수단 각각은 측정 신호에 대한 필터, 특히 대역통과 필터 및/또는 중간 주파수 신호에 대한 필터, 특히 대역통과 필터를 포함할 수 있다.
다른 구성에서, 측정 신호 처리 장치는 보조 신호를 산정하고 산정 결과값 및/또는 제1 측정값으로부터 적어도 하나의 제2 측정값을 생성하기 위하여 측정 신호 취급 수단의 다운스트림에 연결된 산정 유닛을 포함할 수 있다. 적어도 두 개의 보조 신호들간의 위상 천이가 바람직하게 제2 측정값으로서 확정된다. 이것은 일정한 신호 레벨, 특히 동일한 신호 레벨에서 수행된다. 이것은 보조 신호의 파형의 영점 이동의 시간 간격을 측정함으로써 손쉽게 수행될 수 있다. 만약 구형파 신호가 비교기 또는 슈미트 트리거에서 보조 신호의 정현파 유사 파형으로부터 먼저 형성이 되면, 이 간격 측정은 특히 간단해진다. 위상 천이는 2πΔt/T 또는 2πfΔt 이며, 여기서 f는 보조 신호의 신호 주파수이고 T는 주기이다.
일 구성에서, 산정 유닛은 디지털 회로로서 구축될 수 있는데, 바람직하게는 디지털 신호 프로세서로서 구축될 수 있다. 이러한 본 발명의 구성은 측정값의 디지털 산정을 포함한다. 이를 위해, 측정값 및 보조 신호는 우선 디지털화되어야 한다. 비교적 느린 A/D 변환기가 진폭을 나타내는 제1 측정값을 추적하는데에 충분한다. 이 변환기들은 분리되거나 또는 디지털 산정 유닛의 모듈내에 집적화될 수 있다. 보조 신호의 영점 이동의 간격을 측정하는데에 보다 높은 스캔율이 요구되지만, 구형파 신호의 경우에서는 상시 일정한 방식으로 스캔되는 디지털 회로의 디지털 입력 또는 1 비트 변환기가 충분하다. 제1 측정값 및/또는 보조 신호를 위해 제 공된 A/D 변환기는 산정 유닛의 일부일 수 있다. 보조 신호를 위한 비교기, 보다 바람직하게는 슈미트 트리거는 측정 신호 취급 수단의 일부일 수 있다.
산정 유닛내에 집적되거나 또는 산정 유닛에 연결된 디지털 메모리가 교정값을 위해 더 제공될 수 있다. 교정값은 플래쉬 메모리 형태인 테이블내에 저장될 수 있다. 측정 신호 처리 장치의 이러한 구성에서, 교정값은 제조 이후 또는 필드에서 교정처리를 받게 된다. 교정 또는 보정값은 바람직하게는 비휘발성인 디지털 메모리내에 저장될 수 있으며, 이 값은 측정값의 디지털 산정 동안에 고려될 수 있다.
다른 구성에서, 측정 신호의 극성이 검사되고 교정 동안에 보정된다. 이에 따라 부정확하게 솔더링된 구성부, 예컨대, 측정 전환기가 인지되어 그 동작은 부정확한 어셈블리에도 불구하고 보호될 수 있다.
측정 신호 처리 장치는, 제1 측정값 및/또는 적어도 하나의 제2 측정값으로부터 적어도 하나의 제어 신호를 생성하기 위하여, 적어도 부분적으로 디지털 회로내에서 구축가능하며, 측정 신호 취급 수단 및/또는 산정 유닛에 연결된 제어 유닛을 포함할 수 있다. 산정 유닛은 제1 측정값 및/또는 적어도 하나의 제2 측정값을 검사하기 위하여 바람직하게 적어도 하나의 비교기 및/또는 하나의 윈도우 판별기를 포함한다.
이러한 측정 신호 처리 장치의 추가적인 구성에서, 측정값은 적합한 방법으로 조사된다. 이것은 예를 들어, 비교기 또는 윈도우 판별기를 사용함으로써 수행될 수 있다. 획득된 정보는 특히 단락 회로, 부하 결손 및/또는 국부적 방전 발생과 같은 바람직하지 않는 상태를 인식하고 이에 반응할 수 있도록 하기 위하여 제 어 유닛에 제공된다.
본 발명은 생성된 출력 전력이 제공되고 적어도 플라즈마 플로우 공급 장치와의 비정합 상태의 경우에서 반사되는 전력을 발전기로 되돌려보내는 플라즈마 부하의 전력 공급을 위한 발전기를 가지며, 본 발명에 따른 측정 신호 처리 장치와 측정 신호를 탐지하기 위한 적어도 두 개의 측정 위치들를 갖는 플라즈마 플로우 공급 장치에 더 관련되어 있다.
측정 신호 처리 장치는 적어도 두 개의 측정 위치들로부터 측정 신호를 취득하고, 일정한 AC 진폭을 갖는 보조 신호를 측정 신호 취급 수단내에 생성하고, 그리고 측정 신호의 진폭 크기를 제1 측정값으로서 제공한다. 두 개의 보조 신호들간의 시간적 차이가 위상 천이이고 이것은 제2 측정값으로서 확정된다. 제어 유닛은 진폭 크기 및 위상(들) 또는 측정값을 취득하고, 이에 따라 발전기 및 임피던스 정합 회로를 제어한다. 제어 유닛은 측정값을 기초로 임피던스 정합 회로 및/또는 발전기의 출력 전력을 위한 제어 출력을 생성한다.
만약 발전기가 펄스구동방식으로 사용되는 경우, 발전기를 위한 블랭킹 펄스(blanking pulse)를 측정 신호 처리 장치에 전송하기 위하여, 바람직하게는 산정 유닛에 전송하기 위하여 통신 장치가 제공될 수 있다. 측정 신호 처리 장치의 다른 구성에서는, 펄스 제어 구동으로 구동하는 발전기가 함께 사용된다. 블랭킹 펄스의 존재와 관련된 정보가 측정 신호 처리 장치에 제공되고 이로써 측정값은 오로지 발전기 신호가 존재하는 동안에서만 조사된다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 각각의 측정 신호로부터 생성되는 일정한 AC 진폭을 갖는 보조 신호와 함께, 적어도 두 개의 측정 신호를 처리하기 위한 방법에 의해서도 해결된다.
본 방법의 변형예에서, 측정 신호가 보조 신호를 형성하도록 처리되는 경우에 측정 신호의 진폭을 나타내는 제1 측정값이 생성될 수 있다. 제1 측정값은 바람직하게 측정 신호에 적용되는 증폭 계수로부터 생성된다.
본 방법의 다른 변형예에서, 보조 신호들이 산정될 수 있고, 특히 이들은 서로 비교될 수 있으며, 적어도 제2 측정값이 산정 결과값 및/또는 제1 측정값으로부터 생성될 수 있다. 바람직하게, 두 개의 보조 신호들간의 위상 천이가 제2 측정값으로서 확정되는데, 특히, 보조 신호들의 영점 이동들간의 시간차가 확정된다. 측정 신호는 모든 측정 신호에 대해서 동일한 일정한 헤테로다인 주파수로 헤테로다이닝됨에 의해 증폭 이전에 중간 주파수 신호로 더 변환될 수 있다.
큰 동적범위를 가지며 급속하게 변동하는 측정 신호 진폭의 확정을 가능케해주고, 측정 신호들사이의 위상 천이의 확정을 보다 단순하게 구성가능하게 해주고, 그 결과로 발전기 및/또는 임피던스 정합 회로의 안정적인 제어를 가능하며, 보조 신호가 단순화된 방식으로 제공된다.
도 1은 발전기(10)와 임피던스 정합 회로(11)를 갖는 플라즈마 전력 공급 장치의 블럭도이다. 발전기(10)에서 생성된 저주파수 출력 전력 또는 고주파수 출력 전력은, 플라즈마 부하(12)에 제공되고, 발전기(10)와 임피던스 정합 회로(11)사이 에 배치된 측정 위치들(13.1, 13.2)에서 기술적으로 측정되기 위해 탐지된다. 측정 위치들(13.1, 13.2)에서 탐지된 측정 신호들(m1, m2)은 측정 신호 처리 장치(14)에서 처리되고, 이 위치에서, 측정 신호 취급 수단들(15.1, 15.2)에 우선적으로 제공된다. 측정 신호 취급 수단들(15.1, 15.2) 각각은 신호 제어 유닛(16.1, 16.2)을 포함하며, 로컬 오실레이터의 형태인 헤테로다인 주파수 생성기(17)에 연결되어 있다. 측정 신호들(m1, m2)은 증폭되어 측정 신호 취급 수단들(15.1, 15.2)내에서 보조 신호들(h'1, h'2)을 형성하고, 측정 신호들(m1, m2)의 진폭을 나타내는 제1 측정값들(rssi1, rssi2)이 생성된다.
보조 신호들(h'1, h'2)과 제1 측정값들(rssi1, rssi2)은 디지털 회로(21)로서 구축된 산정 유닛(20)내에서 산정된다. 산정 유닛(20)에서는 제2 측정값으로서 피상 전력(S), 피상 저항(Z) 및 보조 신호들(h'1, h'2)사이의 위상 천이(ψ) 또는 측정 신호들(m1, m2)사이의 위상 천이(ψ)가 생성된다. 제2 측정값들(S, Z, ψ)은 제어 유닛(22)에 제공될 수 있다. 제어 유닛(22)은 적어도 부분적으로 디지털 회로(21)내에 구축되며, 발전기(10) 또는 임피던스 정합 회로(11)를 제어하기 위한 제어 신호(rG, rI)를 생성한다. 발전기(10)가 펄스 제어 구동과 함께 사용되는 경우, 발전기(10)를 비가동시키기 위하여 블랭킹 펄스(p)가 산정 유닛(20)에 전송될 수 있고 이로써 측정값들(rssi1, rssi2)과 보조 신호들(h'1, h'2)은 오로지 발전기 신호가 존재하는 동안에만 조사된다.
도 2는 측정 신호 취급 수단(15)의 블럭도이며, 여기서는 측정 신호(m)가 우선적으로 대역통과 필터(25)를 통과하고 헤테로다인 주파수 생성기(17)로부터의 헤테로다인 주파수(Io)를 이용하여 혼합기(26)내에서 중간 주파수 신호(m')로 변환된다. 그 후, 중간 주파수 신호(m')는 중간 주파수 필터(27)를 통과하고 신호 제어 유닛(16)내에서 증폭되어 보조 신호(h)를 형성한다. 이를 위해, 신호 제어 유닛(16)은 다이오드(28), 저역통과 필터(29), 적분기의 형태인 제어기(30)를 갖는 피드백 루프와 증폭기(31)를 포함한다. 중간 주파수 신호(m')는 필터링되고, 증폭되고, 정류되고, 저역통과 필터처리된 후 희망값, 예컨대 1과 비교된다. 피드백 루프내의 제어기(30)는, 제어된 상태에서, 제어 편차(e)가 0이 되고, 이에 따라 생성된 보조 신호(h)가 희망값에 의해 결정된 크기를 갖는 것을 보장해준다. 생성된 보조 신호(h)는 슈미트 트리거(34)내에서 정현파 보조 신호(h')로 변환되어 출력된다. 제어기(30)에 의해 증폭기(31)로 전송된 증폭 계수(v)는 증폭 계수(v)의 역수값을 제1 측정값(a)으로서 출력하는 제1 측정값 생성기(32a)에 제공된다. 제2 측정값 생성기(32b)에서는, 로그함수형태의 제1 측정값(rssi) = log(a)이 제1 측정값(a)으로부터 생성되어 출력된다.
본 발명의 구성은 측정 신호 취급 수단(15)내의 모듈(33)로서 아날로그 장치로부터의 집적 회로 AD607을 이용한다. 회로는 중간 주파수 신호(m')를 생성하는 혼합기(26), 일정한 진폭을 갖는 보조 신호(h)를 생성하는 제어기(30)를 갖는 신호 제어 유닛(16), 외부 중간 주파수 필터(27)를 위한 연결부, 및 제1 측정값으로서 로그함수형태의 진폭 크기(rssi)를 생성하는 측정값 생성기들(32a, 32b)을 포함한다.
도 3은 제1 측정값들(rssi1, rssi2)을 위한 A/D 변환기들(36.1, 36.2)과 보조 신호들(h'1, h'2)의 영점 이동을 확정하기 위한 1 비트 변환기들(37.1, 37.2)을 포함하는 산정 유닛(20)을 도시한다. 측정 신호들(m1, m2)간의 위상 천이(ψ)는 보조 신호들(h'1, h'2)의 영점 이동간의 시간차(Δt) 측정으로부터 제2 측정값으로서 확정된다. 피상 전력(S)와 피상 저항(Z)은 추가적인 제2 측정값으로서 제1 측정 신호들(rssi1, rssi2)로부터 유도될 수 있다. 만약 측정값들(a1 및 a2)이 전류와 전압을 나타낸다면, 이들의 곱은 피상 전력(S)에 대한 측정치이다. 피상 전력(S)의 로그함수 측정치 log(S)를 획득하기 위해서는, 로그함수형태의 제1 측정값들[rssi1 = log(a1) 및 rssi2 = log(a2)]의 곱 대신에, 이들의 합이 구해져야 한다는 것을 쉽게 알 수 있다. 따라서, 두 개의 측정값들[(a1 와 a2), 또는 (rssi1 와 rssi2)]간의 나눗셈 몫(quotient) 또는, 로그함수형태에서는 이들간의 차이값은 피상 저항(Z) 또는 이것의 로그함수 log(Z)에 대한 측정치이다. 비교기(38)에서, 측정값들, ψ, log(a1), log(a2), log(S), log(Z)은 적합한 방법으로 검사될 수 있고, 택일적으로 추가적인 에러 신호가 에러 메세지로서 출력될 수 있다.
추가적인 장점들 및 특징들은 본 도면들 및 도면들의 이하 설명으로부터 파악될 것이다. 상술한 특징들 및 이하에 개술될 특징들이 본 발명에 따라 개별적으로 또는 서로간의 임의의 조합형태로 이용될 수 있다.
본 발명에 따른 측정 신호 처리 장치가 도면들내의 일 실시예에서 도시된다. 도면들에서 도시된 특징들은 순전히 개략적인 것으로서, 실제 비율로 작도된 것으로 이해해서는 안된다.
도 1은 본 발명에 따른 측정 신호 처리 장치를 갖는 플라즈마 전력 공급 장치의 블럭도이다.
도 2는 도 1로부터의 측정 신호 처리 장치의 측정 신호 취급 수단의 블럭도이다.
도 3은 도 1에서 도시된 측정 신호 처리 장치의 산정 유닛의 블럭도이다.
Claims (22)
- AC 전력 공급기로부터 적어도 두 개의 측정 신호들(m, m1, m2)을 처리하기 위한 측정 신호 처리 장치(14)에 있어서,일정한 AC 진폭을 갖는 보조 신호들(h, h', h'1, h'2)을 생성하기 위하여 측정 신호 취급 수단들(15, 15.1, 15.2)은 각각의 측정 신호들(m, m1, m2)과 연계되는 것을 특징으로 하는 측정 신호 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 측정 신호 취급 수단들(15, 15.1, 15.2) 각각은 상기 측정 신호들(m, m1, m2)을 처리하고, 보조 신호들(h, h', h'1, h'2)을 형성하기 위해 신호 제어 유닛(16)을 포함하며,상기 신호 제어 유닛(16) 각각은 상기 측정 신호들(m, m1, m2)의 진폭을 나타내는 제1 측정값들(v, a, rssi, rssi1, rssi2)을 구성하는 변수를 출력하거나 또는 상기 제1 측정값들(v, a, rssi, rssi1, rssi2)을 확정해줄 수 있는 변수를 출력하는 것을 특징으로 하는 측정 신호 처리 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 측정 신호 취급 수단들(15, 15.1, 15.2) 각각은 상기 측정 신호들(m, m1, m2)을 중간 주파수 신호(m')로 변환시키기 위하여 헤테로다인 주파수 생성기(17)에 연결된 중간 주파수 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 측정 신호 처리 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 측정 신호 취급 수단들(15, 15.1, 15.2) 각각은 상기 측정 신호들(m, m1, m2)에 대한 필터 또는 중간 주파수 신호(m')에 대한 중간 주파수 필터(27)를 포함하는 것을 특징으로 하는 측정 신호 처리 장치.
- 삭제
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 측정 신호 처리 장치(14)는 상기 보조 신호들(h, h', h'1, h'2)을 산정하고 산정 결과값 또는 제1 측정값들(v, a, rssi, rssi1, rssi2)로부터 적어도 하나의 제2 측정값들(ψ, S, Z)을 생성하기 위하여 상기 측정 신호 취급 수단들(15, 15.1, 15.2)의 다운스트림에 연결된 산정 유닛(20)을 포함하는 것을 특징으로 하는 측정 신호 처리 장치.
- 제 6 항에 있어서, 상기 산정 유닛(20)은 적어도 두 개의 보조 신호들(h, h', h'1, h'2)사이의 위상 천이(ψ)를 확정하기 위한 회로 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 측정 신호 처리 장치.
- 제 6 항에 있어서, 상기 산정 유닛(20)은 디지털 회로(21)로서 구축되는 것을 특징으로 하는 측정 신호 처리 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 제1 측정값들(v, a, rssi, rssi1, rssi2) 또는 상기 보조 신호들(h, h', h'1, h'2)을 위한 A/D 변환기들(36.1, 36.2)이 제공되는 것을 특징으로 하는 측정 신호 처리 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 보조 신호들(h, h', h'1, h'2)을 위한 비교기들이 제공되는 것을 특징으로 하는 측정 신호 처리 장치.
- 제 6 항에 있어서, 상기 산정 유닛(20)은 상기 보조 신호들(h, h', h'1, h'2)의 영점 이동들을 확정하기 위한 디지털 입력들 또는 1 비트 변환기들을 포함하는 것을 특징으로 하는 측정 신호 처리 장치.
- 제 6 항에 있어서, 교정값들을 위해, 상기 산정 유닛(20)내에 통합되거나 또는 상기 산정 유닛(20)에 연결된 디지털 메모리가 제공되는 것을 특징으로 하는 측정 신호 처리 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 제1 측정값들(v, a, rssi, rssi1, rssi2) 또는 적어도 하나의 제2 측정값들(ψ, S, Z)로부터 적어도 하나의 제어 신호(rG, rI)를 생성하기 위하여, 상기 측정 신호 처리 장치(14)는 상기 측정 신호 취급 수단들(15, 15.1, 15.2) 또는 산정 유닛(20)에 연결된 제어 유닛(22)을 포함하는 것을 특징으로 하는 측정 신호 처리 장치.
- 제 6 항에 있어서, 상기 산정 유닛(20)은 상기 제1 측정값들(v, a, rssi, rssi1, rssi2) 또는 상기 적어도 하나의 제2 측정값들(ψ, S, Z)을 검사하기 위하여 적어도 하나의 비교기 또는 윈도우 판별기를 포함하는 것을 특징으로 하는 측정 신호 처리 장치.
- 플라즈마 부하(12)의 전력 공급을 위한 발전기(10)를 포함하며, 생성된 출력 전력이 상기 플라즈마 부하(12)에 제공되고, 적어도 비정합의 경우에 상기 플라즈마 부하(12)로부터 반사된 전력이 자신한테로 되돌아오는 플라즈마 전력 공급기 장치에 있어서,청구항 제 1 항 또는 제 2 항에 따른 측정 신호 처리 장치(14)를 포함하며, 각각의 특정 위치들에서 측정 신호들(m, m1, m2)을 탐지하기 위한 적어도 두 개의 측정 위치들(13.1, 13.2)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 전력 공급기 장치.
- 제 15 항에 있어서, 펄스구동식 발전기(10)를 위한 블랭킹(blanking) 펄스(p)들을 상기 측정 신호 처리 장치(14)에 전송하기 위한 전송 장치가 제공되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 전력 공급기 장치.
- AC 전력 공급기로부터의 적어도 두 개의 측정 신호들(m, m1, m2)을 처리하기 위한 방법에 있어서, 일정한 AC 진폭을 갖는 보조 신호(h, h', h'1, h'2)가 상기 측정 신호들(m, m1, m2) 각각으로부터 생성되는 것을 특징으로 하는 AC 전력 공급기로부터의 측정 신호 처리 방법.
- 제 17 항에 있어서, 상기 측정 신호들(m, m1, m2)이 처리되어 보조 신호들(h, h', h'1, h'2)이 형성되는 경우에, 상기 측정 신호들(m, m1, m2) 각각의 진폭을 나타내는 제1 측정값들(v, a, rssi, rssi1, rssi2)이 생성되는 것을 특징으로 하는 AC 전력 공급기로부터의 측정 신호 처리 방법.
- 제 18 항에 있어서, 상기 제1 측정값들(v, a, rssi, rssi1, rssi2)은 상기 측정 신호들(m, m1, m2) 각각에 적용되는 증폭 계수(V)로부터 생성되는 것을 특징으로 하는 AC 전력 공급기로부터의 측정 신호 처리 방법.
- 제 17 항 내지 제 19 항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 측정 신호들(m, m1, m2)은 상기 측정 신호들(m, m1, m2) 모두에 대하여 동일한 일정한 헤테로다인 주파수(Io)로 헤테로다이닝됨으로써 중간 주파수 신호들(m')로 변환되며, 상기 중간 주파수 신호들(m')은 상기 보조 신호들(h, h', h'1, h'2)을 형성하도록 추가 처리되는 것을 특징으로 하는 AC 전력 공급기로부터의 측정 신호 처리 방법.
- 제 17 항 내지 제 19 항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 보조 신호들(h, h', h'1, h'2)은 산정되고, 산정 결과값 또는 제1 측정값들(v, a, rssi, rssi1, rssi2)로부터 적어도 하나의 제2 측정값(ψ, S, Z)이 생성되는 것을 특징으로 하는 AC 전력 공급기로부터의 측정 신호 처리 방법.
- 제 21 항에 있어서, 두 개의 보조 신호들(h, h', h'1, h'2)간의 위상 천이(ψ)가 상기 제2 측정값으로서 확정되는 것을 특징으로 하는 AC 전력 공급기로부터의 측정 신호 처리 방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102007056468.8 | 2007-11-22 | ||
DE102007056468A DE102007056468A1 (de) | 2007-11-22 | 2007-11-22 | Messsignalverarbeitungseinrichtung und Verfahren zur Verarbeitung von zumindest zwei Messsignalen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090053729A KR20090053729A (ko) | 2009-05-27 |
KR101264470B1 true KR101264470B1 (ko) | 2013-05-14 |
Family
ID=40585719
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080116294A KR101264470B1 (ko) | 2007-11-22 | 2008-11-21 | 적어도 두 개의 측정 신호들을 처리하는 측정 신호 처리 장치 및 방법 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8018243B2 (ko) |
KR (1) | KR101264470B1 (ko) |
DE (1) | DE102007056468A1 (ko) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB0823565D0 (en) * | 2008-12-24 | 2009-01-28 | Oxford Instr Plasma Technology | Signal generating system |
DE102009031017B4 (de) * | 2009-06-29 | 2018-06-21 | Wobben Properties Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Beobachtung eines dreiphasigen Wechselspannungsnetzes sowie Windenergieanlage |
US9100113B2 (en) | 2011-04-26 | 2015-08-04 | Forschungsverbund Berlin E.V. | Auto-heterodyne receiver |
DE102011017545B4 (de) | 2011-04-26 | 2018-07-19 | Forschungsverbund Berlin E.V. | Auto-Heterodynempfänger |
DE102011077152B4 (de) | 2011-06-07 | 2015-08-13 | TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG | Verfahren zur Erzeugung eines Arcerkennungssignals und Arcerkennungsanordnung |
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US9913679B2 (en) | 2013-10-16 | 2018-03-13 | Covidien Lp | Electrosurgical systems and methods for monitoring power dosage |
DE102018204583A1 (de) | 2018-03-26 | 2019-09-26 | TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG | Hochfrequenzleistungsmessvorrichtung |
RU2700334C1 (ru) * | 2018-12-21 | 2019-09-16 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Сибирский государственный университет телекоммуникаций и информатики" (СибГУТИ) | Способ измерения разности фаз гармонических сигналов на выходах линейных трактов с малыми отношениями сигнал/шум |
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2007
- 2007-11-22 DE DE102007056468A patent/DE102007056468A1/de not_active Withdrawn
-
2008
- 2008-11-21 KR KR1020080116294A patent/KR101264470B1/ko active IP Right Grant
- 2008-11-24 US US12/276,616 patent/US8018243B2/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20090140722A1 (en) | 2009-06-04 |
US8018243B2 (en) | 2011-09-13 |
KR20090053729A (ko) | 2009-05-27 |
DE102007056468A1 (de) | 2009-06-04 |
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